インプリント成形用組成物
【課題】金属酸化物に対する接着性に優れ、モールドから脱型し易く、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供する。
【解決手段】ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）が下記一般式(I)：
［式中、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であり、Ｒ2は水素又はメチル基である］で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）とヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）とを含むことを特徴とするインプリント成形用組成物である。
【解決手段】ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）が下記一般式(I)：
［式中、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であり、Ｒ2は水素又はメチル基である］で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）とヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）とを含むことを特徴とするインプリント成形用組成物である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリント成形用組成物、特には、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられ、硬化後にモールドから脱型し易いインプリント成形用組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
昨今、微細なパターンを低コストで形成する技術としてインプリント成形技術が精力的に研究されている。該インプリント成形技術は、基材上に配置した樹脂材料層に所望の凹凸を有するモールドを押し当てることで所望のパターンを基材上に形成する技術である。そして、該インプリント成形技術においては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用い、熱でパターンを形成する方法と、紫外線硬化型の樹脂を用い、紫外線照射でパターンを形成する方法が知られている。
【０００３】
熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用いた場合は、加熱及び加圧に大量のエネルギーを消費せざるを得ず、また、成形時間が長くなって、生産性が低下する問題がある。一方、紫外線硬化型樹脂を用いた場合は、インプリント成形用のモールド、特にはＮｉ電鋳モールドに接着し易く、脱型時に紫外線硬化樹脂自体が破損することがある。また、通常の紫外線硬化型樹脂を用いた場合は、硬化時の収縮が大きいため、形成されたパターンと基材との密着性が悪く、表面が金属酸化物、特にはＩＺＯやＩＴＯ等の透明金属酸化物からなる基材に対して接着性が悪いという問題もあった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２７２９４７号公報
【非特許文献１】「ナノインプリントの開発と応用」，松井真二，古室昌徳監修，シーエムシー出版，（２００５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題を解決し、エネルギー消費量が小さく、成形時間が短い上、金属酸化物に対する接着性に優れ、モールドから脱型し易く、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定の(メタ)アクリレートオリゴマーと、疎水性の長鎖アルキル基を有する特定の(メタ)アクリレートモノマーと、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートモノマーとを含む組成物が、金属酸化物に対する接着性に優れる上、Ｎｉ電鋳モールド等のモールドから脱型し易いことを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００７】
即ち、本発明のインプリント成形用組成物は、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる組成物であって、
・ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、
・(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、
・光重合開始剤（Ｃ）とを含み、
・前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）が、下記一般式(I)：
【化１】
［式中、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であり、Ｒ2は水素又はメチル基である］で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）とを含むことを特徴とする。
【０００８】
本発明のインプリント成形用組成物の好適例においては、前記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の含有量が組成物全体の5〜20質量％である。
【０００９】
本発明のインプリント成形用組成物の他の好適例においては、前記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）との総配合量中の前記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合が40〜60質量％である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、特定の(メタ)アクリレートオリゴマーと、疎水性の長鎖アルキル基を有する特定の(メタ)アクリレートモノマーと、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートモノマーとを含み、エネルギー消費量が小さく、成形時間が短い上、金属酸化物に対する接着性に優れ、モールドから脱型し易い、紫外線硬化性のインプリント成形用組成物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に、本発明を詳細に説明する。本発明のインプリント成形用組成物は、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる組成物であって、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）が、前記一般式(I)で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）とヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）とを含むことを特徴とする。
【００１２】
本発明のインプリント成形用組成物においては、前記一般式(I)で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）が疎水性の長鎖アルキル基を有するため、モールド、特には、Ｎｉ電鋳モールドに接着し難い。そのため、本発明のインプリント成形用組成物をモールド中で成形後、脱型する際に成形物が破壊され難い。また、本発明のインプリント成形用組成物においては、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーのヒドロキシル基がＩＺＯやＩＴＯ等の金属酸化物と水素結合するため、これら金属酸化物に対する接着性が大幅に向上しており、脱型時のパターン剥がれを防止することができる。更に、本発明のインプリント成形用組成物は、上記モノマー（Ｂ）に比べて分子量が大きいウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び／又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーを含むため、紫外線照射で形成される成形物が高い強度を有する。
【００１３】
本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び／又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーであり、ウレタンアクリレートオリゴマー及び／又はエポキシアクリレートオリゴマーであることが好ましい。なお、これら(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。インプリント成形用組成物がこれら(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）を含まない場合、紫外線照射で形成される成形物の強度が低下してしまう。
【００１４】
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、(メタ)アクリロイルオキシ基（ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−又はＣＨ2＝Ｃ(ＣＨ3)ＣＯＯ−）を１つ以上有し、ウレタン結合（−ＮＨＣＯＯ−）を複数有する化合物である。該ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとからウレタンプレポリマーを合成し、該ウレタンプレポリマーに水酸基を有する(メタ)アクリレートを付加させることによって製造することができる。
【００１５】
上記ウレタンプレポリマーの合成に用いるポリオールは、水酸基（ＯＨ基）を複数有する化合物であり、該ポリオールとして、具体的には、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリブタジエンポリオール、アルキレンオキサイド変性ポリブタジエンポリオール及びポリイソプレンポリオール等が挙げられる。なお、上記ポリエーテルポリオールは、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールに、エチレンオキシドやプロピレンオキシド等のアルキレンオキサイドを付加させて得られ、また、上記ポリエステルポリオールは、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１,４-ブタンジオール、１,６-ヘキサンジオール、プロピレングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の多価アルコールと、アジピン酸、グルタル酸、コハク酸、セバシン酸、ピメリン酸、スベリン酸等の多価カルボン酸とから得られる。
【００１６】
上記ポリイソシアネートは、イソシアネート基（ＮＣＯ基）を複数有する化合物であって、該ポリイソシアネートとして、具体的には、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、粗製ジフェニルメタンジイソシアネート（クルードＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）や、これらのイソシアヌレート変性物、カルボジイミド変性物、グリコール変性物等が挙げられる。
【００１７】
上記ウレタンプレポリマーの合成においては、ウレタン化反応用の触媒を用いることが好ましい。該ウレタン化反応用触媒としては、有機スズ化合物、無機スズ化合物、有機鉛化合物、モノアミン類、ジアミン類、トリアミン類、環状アミン類、アルコールアミン類、エーテルアミン類、有機スルホン酸、無機酸、チタン化合物、ビスマス化合物、四級アンモニウム塩等が挙げられ、これらの中でも、有機スズ化合物が好ましい。また、好適な有機スズ化合物としては、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズチオカルボキシレート、ジブチルスズジマレエート、ジオクチルスズチオカルボキシレート、オクテン酸スズ、モノブチルスズオキシド等が挙げられる。
【００１８】
また、上記ウレタンプレポリマーに付加させる水酸基を有する(メタ)アクリレートは、水酸基を１つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を１つ以上有する化合物である。該水酸基を有する(メタ)アクリレートは、上記ウレタンプレポリマーのイソシアネート基に付加することができる。該水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、２-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、２-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【００１９】
また、上記エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーは、グリシジル基を有する化合物、好ましくは、グリシジル基を有し且つベンゼン環、ナフタレン環、スピロ環、ジシクロペンタジエン、トリシクロデカン等の環状構造を有する化合物と(メタ)アクリル酸とを反応させることによって製造することができる。
【００２０】
上記グリシジル基を有する化合物としては、ビスフェノールＡ又はビスフェノールＦとエピクロロヒドリンとの反応によって得られるビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２１】
本発明のインプリント成形用組成物において、上記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）の含有量は、組成物全体の20〜60質量％の範囲が好ましい。(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）の含有量が20質量％以上であれば、十分な強度を有する成形物を得ることができ、また、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）の含有量が60質量％以下であれば、組成物の粘度が十分に低く、モールドへ流れ込み易くなる。
【００２２】
本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）は、少なくとも一部が前記一般式(I)で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）である。式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）は、Ｒ1として炭素数４〜１４の疎水性の長鎖アルキル基を有するため、成形物のモールドからの脱型を容易にする作用を有する。なお、Ｒ1が炭素数３以下の低級アルキル基である場合、(メタ)アクリレートモノマーの疎水性が不十分で、成形物のモールドからの脱型性が悪い。一方、Ｒ1が炭素数１５以上の長鎖アルキル基である場合、(メタ)アクリレートモノマーの取り扱い性が悪い上、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）との相溶性も悪い。
【００２３】
上記一般式(I)において、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であって、直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、Ｒ2は水素又はメチル基である。Ｒ1において、炭素数４〜１４のアルキル基として、具体的には、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基、各種ノニル基、各種デシル基、各種ウンデシル基、各種ドデシル基（例えば、ラウリル基等）、各種トリデシル基、各種テトラデシル基（例えば、ミリスチル基、イソミリスチル基等）が挙げられ、これらの中でも、ラウリル基及びイソミリスチル基が好ましい。
【００２４】
上記式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）として、具体的には、ラウリル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ｎ-ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート等が挙げられ、これらの中でも、イソミリスチル(メタ)アクリレート及びラウリル(メタ)アクリレートが好ましい。なお、これら式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２５】
本発明のインプリント成形用組成物において、上記一般式(I)で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の含有量は、組成物全体の5〜20質量％の範囲が好ましい。式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の割合が5質量％以上であれば、成形物のモールドからの脱型性を十分に向上させることができ、一方、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の割合が20質量％以下であれば、硬化成分の粘着性を抑えることができる。
【００２６】
また、本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）は、少なくとも一部がヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）であり、ヒドロキシル基含有アクリレートモノマーを含むことが好ましい。ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーのヒドロキシル基は、ＩＺＯやＩＴＯ等の金属酸化物と水素結合するため、金属酸化物に対する接着性を向上させ、脱型時に表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材から成形物が剥離するのを抑制できる。
【００２７】
上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーは、水酸基を１つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を１つ以上有する化合物である。かかるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーとして、具体的には、２-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、２-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート及び２-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが挙げられ、これらの中でも、２-ヒドロキシエチルアクリレートが好ましい。なお、これらヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２８】
本発明のインプリント成形用組成物において、上記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と上記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）との総配合量中の上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合は、40〜60質量％の範囲が好ましい。ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合が40質量％以上であれば、インプリント成形用組成物の金属酸化物に対する接着性を十分に向上させることができ、一方、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合が60質量％以下であれば、紫外線照射で形成される成形物の強度が十分に高い。
【００２９】
なお、上記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）は、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）以外の(メタ)アクリレートモノマーを更に含んでもよい。
【００３０】
本発明のインプリント成形用組成物に用いる光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線を照射されることによって、上述した(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）や(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）の重合を開始させる作用を有する。該光重合開始剤（Ｃ）としては、４-ジメチルアミノ安息香酸、４-ジメチルアミノ安息香酸エステル、２,２-ジメトキシ-２-フェニルアセトフェノン、アセトフェノンジエチルケタール、アルコキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン及び３,３-ジメチル-４-メトキシベンゾフェノン、４,４-ジメトキシベンゾフェノン、４,４-ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸アルキル、ビス(４-ジアルキルアミノフェニル)ケトン、ベンジル及びベンジルメチルケタール等のベンジル誘導体、ベンゾイン及びベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾインイソプロピルエーテル、２-ヒドロキシ-２-メチルプロピオフェノン、１-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、キサントン、チオキサントン及びチオキサントン誘導体、フルオレン、２,４,６-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(２,６-ジメトキシベンゾイル)-２,４,４-トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド、２-メチル-１-(４-メチルチオフェニル)-２-モルホリノプロパン-１-オン、２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-(モルホリノフェニル)-ブタノン-１等が挙げられる。これら光重合開始剤（Ｃ）は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３１】
本発明のインプリント成形用組成物における上記光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、組成物全体の0.1〜10質量％の範囲が好ましい。光重合開始剤（Ｃ）の含有量が0.1質量％以上であれば、インプリント成形用組成物の紫外線硬化を十分に開始させることができ、一方、10質量％を超えると、紫外線硬化を開始させる効果が飽和する一方、インプリント成形用組成物の原料コストが高くなり、また、重合にあたり、ラジカル濃度が過大となるため、アルキル基の成長ラジカルが瞬時に多く発生し、分子量が伸びず、脆弱なポリマーが出来る。
【００３２】
上述のように、本発明のインプリント成形用組成物は、紫外線照射により硬化後、モールドから脱型し易く、また、金属酸化物に対する接着性に優れる。従って、本発明のインプリント成形用組成物を紫外線照射により硬化させてなる成形物は、脱型時に成形物自体が破損することがなく、また、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材から剥離し難いため、ディスプレイ用リブ材等として好適である。なお、本発明のインプリント成形用組成物を硬化させる際の紫外線の照射条件は特に限定されず、適宜設定することができる。
【００３３】
本発明の組成物を用いてインプリント成形を行う場合、基材としては、上述した本発明の効果が十分に発揮される基材、即ち、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材を用いる。ここで、基材の表面を構成する金属酸化物としては、ＩＺＯやＩＴＯ等の透明金属酸化物が好ましい。また、基材は、全面が金属酸化物で構成されていても、いなくてもよいし、基材の内部は特に限定されず、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルムであってもよい。
【実施例】
【００３４】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。
【００３５】
表１及び表２に示す配合のインプリント成形用組成物を調製した。なお、組成物の調製において、各成分が相溶している場合を○とし、非相溶の場合を×とした。次に得られたインプリント成形用組成物に対して、下記の方法でＩＺＯフィルム及びＮｉ電鋳板に対する剥離力を測定し、また、Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性を評価した。結果を表１及び表２に示す。
【００３６】
（１）ＩＺＯフィルム及びＮｉ電鋳板に対する剥離力の測定方法
ＩＺＯスパッタフィルムに目的とするＵＶ硬化性のインプリント成形用組成物を塗布し、Ｎｉ電鋳板［丸長鍍金製］を貼り合せる。その後、ＩＺＯスパッタフィルム側からＵＶランプ［(株)フュージョンジャパン, 型式Ｌｉｇｈｔ Ｈａｍｍｅｒ １０］を用い、700 mW/cm2, 3000 mJ/cm2の紫外光を当て、ＵＶ硬化性組成物を硬化させる。更に、得られたサンプルを25 mm×125 mmの短冊状にカットし、Ｎｉ電鋳板とＩＺＯスパッタフィルムを剥離試験機［オリエンテック製, ＳＴＡ−１１５０］の専用チャックで締め、50 mm/minで引っ張り、得られた荷重値とフィルム幅から剥離力を算出した。
【００３７】
（２）Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性の評価方法
モールドからの剥離性の評価は、フィルムをモールドから剥がす際、パターン欠陥や剥がれが無いものを○とし、樹脂パターンの欠陥があったり、パターン剥がれがあったり、Ｎｉに対する接着力が強いことによるフィルム破れが生じた場合を×とした。
【００３８】
【表１】
【００３９】
【表２】
【００４０】
*1 共栄社化学製, 商品名「３００２Ａ」, エポキシアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量（Ｍw）＝600, ビスフェノールＡ骨格
*2 共栄社化学製, 商品名「ＨＯ−Ａ」, ２-ヒドロキシエチルアクリレート
*3 共栄社化学製, 商品名「ＬＡ」, ラウリルアクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１２のアルキル基でＲ2が水素であるモノマー
*4 共栄社化学製, 商品名「ＩＭ−Ａ」, イソミリスチルアクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１４のアルキル基でＲ2が水素であるモノマー
*5 新中村化学製, 商品名「Ｌ」, ラウリルメタクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１２のアルキル基でＲ2がメチル基であるモノマー
*6 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製, 商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」, １-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン
*7 共栄社化学製, 商品名「ＳＡ」, ステアリルアクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１８のアルキル基でＲ2が水素であるモノマー
*8 共栄社化学製, 商品名「ＦＡ−１０８」, パーフルオロエチルアクリレート
*9 大阪有機化学工業製, 商品名「ビスコート８Ｆ」, １Ｈ,１Ｈ,５Ｈ-オクタフルオロペンチルアクリレート
*10 信越シリコーン製, 商品名「Ｘ−２２−２４４５」, シリコーンアクリレート, 官能基等量＝1600
*11 信越シリコーン製, 商品名「Ｘ−２２−２４５９」, シリコーンアクリレート, 官能基等量＝930
【００４１】
表１から、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）を含む実施例のインプリント成形用組成物は、ＩＺＯフィルムに対する剥離力が十分高い一方、Ｎｉ電鋳板に対する剥離力が十分低く、また、Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性も良好であった。
【００４２】
一方、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）とヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）を含むものの、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）を含まない比較例１のインプリント成形用組成物は、Ｎｉ電鋳板に対する剥離力が高く、また、Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性も悪く、ＵＶ硬化樹脂自体が破壊してしまった。
【００４３】
また、比較例２のインプリント成形用組成物においては、ステアリルアクリレートとエポキシアクリレートオリゴマーとが非相溶であった。
【００４４】
更に、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）を含まず、フッ素又はケイ素含有(メタ)アクリレートモノマーを含む比較例３〜６のインプリント成形用組成物は、比較例１のインプリント成形用組成物よりもＮｉ電鋳板に対する剥離力が更に高く、また、Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性も悪く、ＵＶ硬化樹脂自体が破壊してしまった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリント成形用組成物、特には、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられ、硬化後にモールドから脱型し易いインプリント成形用組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
昨今、微細なパターンを低コストで形成する技術としてインプリント成形技術が精力的に研究されている。該インプリント成形技術は、基材上に配置した樹脂材料層に所望の凹凸を有するモールドを押し当てることで所望のパターンを基材上に形成する技術である。そして、該インプリント成形技術においては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用い、熱でパターンを形成する方法と、紫外線硬化型の樹脂を用い、紫外線照射でパターンを形成する方法が知られている。
【０００３】
熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用いた場合は、加熱及び加圧に大量のエネルギーを消費せざるを得ず、また、成形時間が長くなって、生産性が低下する問題がある。一方、紫外線硬化型樹脂を用いた場合は、インプリント成形用のモールド、特にはＮｉ電鋳モールドに接着し易く、脱型時に紫外線硬化樹脂自体が破損することがある。また、通常の紫外線硬化型樹脂を用いた場合は、硬化時の収縮が大きいため、形成されたパターンと基材との密着性が悪く、表面が金属酸化物、特にはＩＺＯやＩＴＯ等の透明金属酸化物からなる基材に対して接着性が悪いという問題もあった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２７２９４７号公報
【非特許文献１】「ナノインプリントの開発と応用」，松井真二，古室昌徳監修，シーエムシー出版，（２００５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題を解決し、エネルギー消費量が小さく、成形時間が短い上、金属酸化物に対する接着性に優れ、モールドから脱型し易く、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定の(メタ)アクリレートオリゴマーと、疎水性の長鎖アルキル基を有する特定の(メタ)アクリレートモノマーと、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートモノマーとを含む組成物が、金属酸化物に対する接着性に優れる上、Ｎｉ電鋳モールド等のモールドから脱型し易いことを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００７】
即ち、本発明のインプリント成形用組成物は、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる組成物であって、
・ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、
・(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、
・光重合開始剤（Ｃ）とを含み、
・前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）が、下記一般式(I)：
【化１】
［式中、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であり、Ｒ2は水素又はメチル基である］で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）とを含むことを特徴とする。
【０００８】
本発明のインプリント成形用組成物の好適例においては、前記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の含有量が組成物全体の5〜20質量％である。
【０００９】
本発明のインプリント成形用組成物の他の好適例においては、前記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）との総配合量中の前記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合が40〜60質量％である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、特定の(メタ)アクリレートオリゴマーと、疎水性の長鎖アルキル基を有する特定の(メタ)アクリレートモノマーと、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートモノマーとを含み、エネルギー消費量が小さく、成形時間が短い上、金属酸化物に対する接着性に優れ、モールドから脱型し易い、紫外線硬化性のインプリント成形用組成物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に、本発明を詳細に説明する。本発明のインプリント成形用組成物は、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる組成物であって、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）が、前記一般式(I)で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）とヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）とを含むことを特徴とする。
【００１２】
本発明のインプリント成形用組成物においては、前記一般式(I)で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）が疎水性の長鎖アルキル基を有するため、モールド、特には、Ｎｉ電鋳モールドに接着し難い。そのため、本発明のインプリント成形用組成物をモールド中で成形後、脱型する際に成形物が破壊され難い。また、本発明のインプリント成形用組成物においては、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーのヒドロキシル基がＩＺＯやＩＴＯ等の金属酸化物と水素結合するため、これら金属酸化物に対する接着性が大幅に向上しており、脱型時のパターン剥がれを防止することができる。更に、本発明のインプリント成形用組成物は、上記モノマー（Ｂ）に比べて分子量が大きいウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び／又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーを含むため、紫外線照射で形成される成形物が高い強度を有する。
【００１３】
本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び／又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーであり、ウレタンアクリレートオリゴマー及び／又はエポキシアクリレートオリゴマーであることが好ましい。なお、これら(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。インプリント成形用組成物がこれら(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）を含まない場合、紫外線照射で形成される成形物の強度が低下してしまう。
【００１４】
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、(メタ)アクリロイルオキシ基（ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−又はＣＨ2＝Ｃ(ＣＨ3)ＣＯＯ−）を１つ以上有し、ウレタン結合（−ＮＨＣＯＯ−）を複数有する化合物である。該ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとからウレタンプレポリマーを合成し、該ウレタンプレポリマーに水酸基を有する(メタ)アクリレートを付加させることによって製造することができる。
【００１５】
上記ウレタンプレポリマーの合成に用いるポリオールは、水酸基（ＯＨ基）を複数有する化合物であり、該ポリオールとして、具体的には、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリブタジエンポリオール、アルキレンオキサイド変性ポリブタジエンポリオール及びポリイソプレンポリオール等が挙げられる。なお、上記ポリエーテルポリオールは、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールに、エチレンオキシドやプロピレンオキシド等のアルキレンオキサイドを付加させて得られ、また、上記ポリエステルポリオールは、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１,４-ブタンジオール、１,６-ヘキサンジオール、プロピレングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の多価アルコールと、アジピン酸、グルタル酸、コハク酸、セバシン酸、ピメリン酸、スベリン酸等の多価カルボン酸とから得られる。
【００１６】
上記ポリイソシアネートは、イソシアネート基（ＮＣＯ基）を複数有する化合物であって、該ポリイソシアネートとして、具体的には、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、粗製ジフェニルメタンジイソシアネート（クルードＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）や、これらのイソシアヌレート変性物、カルボジイミド変性物、グリコール変性物等が挙げられる。
【００１７】
上記ウレタンプレポリマーの合成においては、ウレタン化反応用の触媒を用いることが好ましい。該ウレタン化反応用触媒としては、有機スズ化合物、無機スズ化合物、有機鉛化合物、モノアミン類、ジアミン類、トリアミン類、環状アミン類、アルコールアミン類、エーテルアミン類、有機スルホン酸、無機酸、チタン化合物、ビスマス化合物、四級アンモニウム塩等が挙げられ、これらの中でも、有機スズ化合物が好ましい。また、好適な有機スズ化合物としては、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズチオカルボキシレート、ジブチルスズジマレエート、ジオクチルスズチオカルボキシレート、オクテン酸スズ、モノブチルスズオキシド等が挙げられる。
【００１８】
また、上記ウレタンプレポリマーに付加させる水酸基を有する(メタ)アクリレートは、水酸基を１つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を１つ以上有する化合物である。該水酸基を有する(メタ)アクリレートは、上記ウレタンプレポリマーのイソシアネート基に付加することができる。該水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、２-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、２-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【００１９】
また、上記エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーは、グリシジル基を有する化合物、好ましくは、グリシジル基を有し且つベンゼン環、ナフタレン環、スピロ環、ジシクロペンタジエン、トリシクロデカン等の環状構造を有する化合物と(メタ)アクリル酸とを反応させることによって製造することができる。
【００２０】
上記グリシジル基を有する化合物としては、ビスフェノールＡ又はビスフェノールＦとエピクロロヒドリンとの反応によって得られるビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２１】
本発明のインプリント成形用組成物において、上記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）の含有量は、組成物全体の20〜60質量％の範囲が好ましい。(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）の含有量が20質量％以上であれば、十分な強度を有する成形物を得ることができ、また、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）の含有量が60質量％以下であれば、組成物の粘度が十分に低く、モールドへ流れ込み易くなる。
【００２２】
本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）は、少なくとも一部が前記一般式(I)で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）である。式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）は、Ｒ1として炭素数４〜１４の疎水性の長鎖アルキル基を有するため、成形物のモールドからの脱型を容易にする作用を有する。なお、Ｒ1が炭素数３以下の低級アルキル基である場合、(メタ)アクリレートモノマーの疎水性が不十分で、成形物のモールドからの脱型性が悪い。一方、Ｒ1が炭素数１５以上の長鎖アルキル基である場合、(メタ)アクリレートモノマーの取り扱い性が悪い上、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）との相溶性も悪い。
【００２３】
上記一般式(I)において、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であって、直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、Ｒ2は水素又はメチル基である。Ｒ1において、炭素数４〜１４のアルキル基として、具体的には、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基、各種ノニル基、各種デシル基、各種ウンデシル基、各種ドデシル基（例えば、ラウリル基等）、各種トリデシル基、各種テトラデシル基（例えば、ミリスチル基、イソミリスチル基等）が挙げられ、これらの中でも、ラウリル基及びイソミリスチル基が好ましい。
【００２４】
上記式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）として、具体的には、ラウリル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ｎ-ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート等が挙げられ、これらの中でも、イソミリスチル(メタ)アクリレート及びラウリル(メタ)アクリレートが好ましい。なお、これら式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２５】
本発明のインプリント成形用組成物において、上記一般式(I)で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の含有量は、組成物全体の5〜20質量％の範囲が好ましい。式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の割合が5質量％以上であれば、成形物のモールドからの脱型性を十分に向上させることができ、一方、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の割合が20質量％以下であれば、硬化成分の粘着性を抑えることができる。
【００２６】
また、本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）は、少なくとも一部がヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）であり、ヒドロキシル基含有アクリレートモノマーを含むことが好ましい。ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーのヒドロキシル基は、ＩＺＯやＩＴＯ等の金属酸化物と水素結合するため、金属酸化物に対する接着性を向上させ、脱型時に表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材から成形物が剥離するのを抑制できる。
【００２７】
上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーは、水酸基を１つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を１つ以上有する化合物である。かかるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーとして、具体的には、２-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、２-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート及び２-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが挙げられ、これらの中でも、２-ヒドロキシエチルアクリレートが好ましい。なお、これらヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２８】
本発明のインプリント成形用組成物において、上記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と上記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）との総配合量中の上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合は、40〜60質量％の範囲が好ましい。ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合が40質量％以上であれば、インプリント成形用組成物の金属酸化物に対する接着性を十分に向上させることができ、一方、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合が60質量％以下であれば、紫外線照射で形成される成形物の強度が十分に高い。
【００２９】
なお、上記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）は、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）以外の(メタ)アクリレートモノマーを更に含んでもよい。
【００３０】
本発明のインプリント成形用組成物に用いる光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線を照射されることによって、上述した(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）や(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）の重合を開始させる作用を有する。該光重合開始剤（Ｃ）としては、４-ジメチルアミノ安息香酸、４-ジメチルアミノ安息香酸エステル、２,２-ジメトキシ-２-フェニルアセトフェノン、アセトフェノンジエチルケタール、アルコキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン及び３,３-ジメチル-４-メトキシベンゾフェノン、４,４-ジメトキシベンゾフェノン、４,４-ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸アルキル、ビス(４-ジアルキルアミノフェニル)ケトン、ベンジル及びベンジルメチルケタール等のベンジル誘導体、ベンゾイン及びベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾインイソプロピルエーテル、２-ヒドロキシ-２-メチルプロピオフェノン、１-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、キサントン、チオキサントン及びチオキサントン誘導体、フルオレン、２,４,６-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(２,６-ジメトキシベンゾイル)-２,４,４-トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド、２-メチル-１-(４-メチルチオフェニル)-２-モルホリノプロパン-１-オン、２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-(モルホリノフェニル)-ブタノン-１等が挙げられる。これら光重合開始剤（Ｃ）は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３１】
本発明のインプリント成形用組成物における上記光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、組成物全体の0.1〜10質量％の範囲が好ましい。光重合開始剤（Ｃ）の含有量が0.1質量％以上であれば、インプリント成形用組成物の紫外線硬化を十分に開始させることができ、一方、10質量％を超えると、紫外線硬化を開始させる効果が飽和する一方、インプリント成形用組成物の原料コストが高くなり、また、重合にあたり、ラジカル濃度が過大となるため、アルキル基の成長ラジカルが瞬時に多く発生し、分子量が伸びず、脆弱なポリマーが出来る。
【００３２】
上述のように、本発明のインプリント成形用組成物は、紫外線照射により硬化後、モールドから脱型し易く、また、金属酸化物に対する接着性に優れる。従って、本発明のインプリント成形用組成物を紫外線照射により硬化させてなる成形物は、脱型時に成形物自体が破損することがなく、また、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材から剥離し難いため、ディスプレイ用リブ材等として好適である。なお、本発明のインプリント成形用組成物を硬化させる際の紫外線の照射条件は特に限定されず、適宜設定することができる。
【００３３】
本発明の組成物を用いてインプリント成形を行う場合、基材としては、上述した本発明の効果が十分に発揮される基材、即ち、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材を用いる。ここで、基材の表面を構成する金属酸化物としては、ＩＺＯやＩＴＯ等の透明金属酸化物が好ましい。また、基材は、全面が金属酸化物で構成されていても、いなくてもよいし、基材の内部は特に限定されず、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルムであってもよい。
【実施例】
【００３４】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。
【００３５】
表１及び表２に示す配合のインプリント成形用組成物を調製した。なお、組成物の調製において、各成分が相溶している場合を○とし、非相溶の場合を×とした。次に得られたインプリント成形用組成物に対して、下記の方法でＩＺＯフィルム及びＮｉ電鋳板に対する剥離力を測定し、また、Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性を評価した。結果を表１及び表２に示す。
【００３６】
（１）ＩＺＯフィルム及びＮｉ電鋳板に対する剥離力の測定方法
ＩＺＯスパッタフィルムに目的とするＵＶ硬化性のインプリント成形用組成物を塗布し、Ｎｉ電鋳板［丸長鍍金製］を貼り合せる。その後、ＩＺＯスパッタフィルム側からＵＶランプ［(株)フュージョンジャパン, 型式Ｌｉｇｈｔ Ｈａｍｍｅｒ １０］を用い、700 mW/cm2, 3000 mJ/cm2の紫外光を当て、ＵＶ硬化性組成物を硬化させる。更に、得られたサンプルを25 mm×125 mmの短冊状にカットし、Ｎｉ電鋳板とＩＺＯスパッタフィルムを剥離試験機［オリエンテック製, ＳＴＡ−１１５０］の専用チャックで締め、50 mm/minで引っ張り、得られた荷重値とフィルム幅から剥離力を算出した。
【００３７】
（２）Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性の評価方法
モールドからの剥離性の評価は、フィルムをモールドから剥がす際、パターン欠陥や剥がれが無いものを○とし、樹脂パターンの欠陥があったり、パターン剥がれがあったり、Ｎｉに対する接着力が強いことによるフィルム破れが生じた場合を×とした。
【００３８】
【表１】
【００３９】
【表２】
【００４０】
*1 共栄社化学製, 商品名「３００２Ａ」, エポキシアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量（Ｍw）＝600, ビスフェノールＡ骨格
*2 共栄社化学製, 商品名「ＨＯ−Ａ」, ２-ヒドロキシエチルアクリレート
*3 共栄社化学製, 商品名「ＬＡ」, ラウリルアクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１２のアルキル基でＲ2が水素であるモノマー
*4 共栄社化学製, 商品名「ＩＭ−Ａ」, イソミリスチルアクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１４のアルキル基でＲ2が水素であるモノマー
*5 新中村化学製, 商品名「Ｌ」, ラウリルメタクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１２のアルキル基でＲ2がメチル基であるモノマー
*6 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製, 商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」, １-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン
*7 共栄社化学製, 商品名「ＳＡ」, ステアリルアクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１８のアルキル基でＲ2が水素であるモノマー
*8 共栄社化学製, 商品名「ＦＡ−１０８」, パーフルオロエチルアクリレート
*9 大阪有機化学工業製, 商品名「ビスコート８Ｆ」, １Ｈ,１Ｈ,５Ｈ-オクタフルオロペンチルアクリレート
*10 信越シリコーン製, 商品名「Ｘ−２２−２４４５」, シリコーンアクリレート, 官能基等量＝1600
*11 信越シリコーン製, 商品名「Ｘ−２２−２４５９」, シリコーンアクリレート, 官能基等量＝930
【００４１】
表１から、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）を含む実施例のインプリント成形用組成物は、ＩＺＯフィルムに対する剥離力が十分高い一方、Ｎｉ電鋳板に対する剥離力が十分低く、また、Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性も良好であった。
【００４２】
一方、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）とヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）を含むものの、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）を含まない比較例１のインプリント成形用組成物は、Ｎｉ電鋳板に対する剥離力が高く、また、Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性も悪く、ＵＶ硬化樹脂自体が破壊してしまった。
【００４３】
また、比較例２のインプリント成形用組成物においては、ステアリルアクリレートとエポキシアクリレートオリゴマーとが非相溶であった。
【００４４】
更に、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）を含まず、フッ素又はケイ素含有(メタ)アクリレートモノマーを含む比較例３〜６のインプリント成形用組成物は、比較例１のインプリント成形用組成物よりもＮｉ電鋳板に対する剥離力が更に高く、また、Ｎｉ電鋳モールドからの剥離性も悪く、ＵＶ硬化樹脂自体が破壊してしまった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる組成物であって、
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、
前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）が、下記一般式(I)：
【化１】
［式中、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であり、Ｒ2は水素又はメチル基である］で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）とを含むことを特徴とするインプリント成形用組成物。
【請求項２】
前記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の含有量が組成物全体の5〜20質量％であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント成形用組成物。
【請求項３】
前記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）との総配合量中の前記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合が40〜60質量％であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント成形用組成物。
【請求項１】
表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる組成物であって、
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、
前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）が、下記一般式(I)：
【化１】
［式中、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であり、Ｒ2は水素又はメチル基である］で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）とを含むことを特徴とするインプリント成形用組成物。
【請求項２】
前記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の含有量が組成物全体の5〜20質量％であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント成形用組成物。
【請求項３】
前記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）との総配合量中の前記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）の割合が40〜60質量％であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント成形用組成物。
【公開番号】特開２００９−２０９２４５（Ｐ２００９−２０９２４５Ａ）
【公開日】平成２１年９月１７日（２００９．９．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５２５７０（Ｐ２００８−５２５７０）
【出願日】平成２０年３月３日（２００８．３．３）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年９月１７日（２００９．９．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年３月３日（２００８．３．３）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
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