エッジフィルタ
【課題】
偏光依存性を低減し、良好な分光特性を有するエッジフィルタを提供すること。
【解決手段】
本発明にかかるエッジフィルタは、光学基板１上に少なくとも２種類の屈折率が異なる光学薄膜を交互に積層してなるエッジフィルタ膜４を有し、エッジフィルタ膜４に入射する第１の波長帯域の波長を有する信号光を透過し、エッジフィルタ膜４に入射する第２の波長帯域の波長を有する信号光を反射し、第１の波長帯域と第２の波長帯域が予め定められた分離幅を有するエッジフィルタであり、さらに、Ｓ偏光の分光特性とＰ偏光の分光特性との乖離幅が、上述の分離幅以下になるように前記多層膜に対する前記信号光の入射角を定めたものである。
偏光依存性を低減し、良好な分光特性を有するエッジフィルタを提供すること。
【解決手段】
本発明にかかるエッジフィルタは、光学基板１上に少なくとも２種類の屈折率が異なる光学薄膜を交互に積層してなるエッジフィルタ膜４を有し、エッジフィルタ膜４に入射する第１の波長帯域の波長を有する信号光を透過し、エッジフィルタ膜４に入射する第２の波長帯域の波長を有する信号光を反射し、第１の波長帯域と第２の波長帯域が予め定められた分離幅を有するエッジフィルタであり、さらに、Ｓ偏光の分光特性とＰ偏光の分光特性との乖離幅が、上述の分離幅以下になるように前記多層膜に対する前記信号光の入射角を定めたものである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入射した信号光の一部を透過し、他の一部を反射することによって分岐を行うエッジフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｂ−ＰＯＮ（Broadband-PON）やＩＥＥＥ８０２．３ａｈといったＰＯＮ（Passive Optical Network）技術を利用した新たな通信方式の標準化・規格化が進められている。ＰＯＮは、加入者と収容局を繋ぐアクセス回線に光ファイバを利用したアクセス網において、アクセス回線の途中に光スプリッタを挿入して信号光を分岐することにより、少ない光ファイバで複数の加入者を効率よく収容する方式である。
【０００３】
従来のＢ−ＰＯＮでは、加入者から収容局の方向に１２６０ｎｍ〜１３６０ｎｍの波長帯域を使用し、収容局から加入者の方向に１４８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域を使用している。新たに標準化されるＢ−ＰＯＮやＩＥＥＥ８０２．３ａｈといった新規格は、上記の従来の波長帯域に加えて、１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域を新たな下り方向の通信帯域として使用し、放送配信等の通信サービスを行うことを想定している。
【０００４】
上述の新規格に準拠した通信装置では、従来から使用されている１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域と新たな放送配信用の１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域とを分離する特性を持ったエッジフィルタを用いて、従来の波長帯域を使用した通信と新たな波長帯域を使用した通信とを１芯の光ファイバ上に重畳する必要がある。このため、上述した帯域分離を行うエッジフィルタでは、１５００ｎｍから１５５０ｎｍの５０ｎｍの分離幅において、透過から反射、又は反射から透過に遷移する分光特性が必要となる。
【０００５】
エッジフィルタには、光学基板上に誘電体膜を積層した光学多層膜フィルタが使用され、従来は、信号光の入射角を４５度に設定して使用されることが一般的であった（例えば特許文献１参照）。しかしながら、信号光の入射角を４５度に設定した従来の光学多層膜フィルタでは、透過から反射に遷移する際において、分光特性が入射光の偏光状態に依存することに起因して、Ｓ偏光とＰ偏光との分光特性の乖離が大きくなってしまうため、上述した１５００ｎｍ〜１５５０ｎｍの分離幅５０ｎｍ以下で、透過帯域と反射帯域を分離することができないという問題がある。
【０００６】
一方、入射角を小さくすることによって、Ｓ偏光とＰ偏光の差を小さくすることができる。しかしながら、入射角を小さくすると、入射光と反射光の光路が近くなってしまうため、コリメータレンズ等の部材をエッジフィルタから遠ざけて配置しなければならず、実装時にモジュールサイズを小型化できないという問題が発生する。
【特許文献１】特開２０００−１６２４１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、本発明は、偏光依存性を低減し、良好な分光特性を有するエッジフィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
光学基板上に少なくとも２種類の屈折率異なる光学薄膜を交互に積層してなる多層膜を有し、前記多層膜に入射する第１の波長帯域の波長を有する信号光を透過し、前記多層膜に入射する第２の波長帯域の波長を有する信号光を反射し、
前記第１の波長帯域と前記第２の波長帯域が予め定められた分離帯域を隔てているエッジフィルタであって、Ｓ偏光の分光特性とＰ偏光の分光特性との乖離幅が、前記分離帯域の幅以下になるように前記多層膜に対する前記信号光の入射角を定めたものである。これにより、Ｓ偏光とＰ偏光の分光特性上の乖離幅を所定の分離幅以下に抑えて、エッジフィルタを所定の分光特性の下で使用することができる。
【０００９】
また、前記分離帯域は１５００ｎｍから１５５０ｎｍの範囲内である場合は、前記入射角は３度以上２０度以下とするとよい。
【００１０】
また、前記第１の波長帯域が少なくとも１２６０ｎｍから１３６０ｍの範囲及び１４８０ｎｍから１５００ｎｍの範囲を含む波長帯域、かつ、前記第２の波長帯域が少なくとも１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲を含む波長帯域であるか、あるいは、前記第２の波長帯域が少なくとも１２６０ｎｍから１３６０ｍの範囲及び１４８０ｎｍから１５００ｎｍの範囲を含む波長帯域、かつ、前記第１の波長帯域が少なくとも１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲を含む波長帯域とするとよい。このような構成により、Ｂ−ＰＯＮで使用される１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの従来通信用の波長帯域と１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの新たな放送配信用の波長帯域とを分離することができる。
【００１１】
なお、前記光学基板の裏面に、前記第一の波長帯域及び前記第二の波長帯域の光の反射を防止する反射防止膜を設けることとしてもよい。これにより、エッジフィルタを透過する光が前記光学基板の裏面で反射されることによって発生する挿入損失の増加を防ぐことができる。
【００１２】
また、前記多層膜は、高屈折率膜と低屈折率膜の２種類の膜を積層してなり、前記高屈折率膜の屈折率は１．８以上５．０以下であり、前記低屈折率膜の屈折率は１．３以上１．５以下であって、前記高屈折率膜と前記低屈折率膜を合わせた積層数が３０層以上１５０層以下であるとよい。
【００１３】
さらにまた、前記高屈折率膜は、ＴａｘＯｙ、ＴｉＯｘ、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＧｅｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＣｘ、ＺｒＯｘ、ＮｂＯｘ、ＹＯｘ、ＩｎｘＯｙ、ＳｎＯｘ、ＣｅＯｘ、ＨｆＯｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種からなり、前記低屈折率膜は、ＳｉＯｘ、ＭｇＯｘ、ＡｌＯｘ、ＳｉＯｘＣｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＭｇＦｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種からなるものとするとよい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、偏光依存性を低減し、良好な分光特性を有するエッジフィルタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
発明の実施の形態１．
図１は本実施の形態にかかるエッジフィルタ１０の断面を示した模式図である。エッジフィルタ膜４は、平行平面状の光学基板１上に高屈折率膜２と低屈折率膜３が交互に積層して形成され、所望の光学特性条件を満足するように各層の積層数及び膜厚が調整されたものである。ここで、エッジフィルタ膜４に対する所望の光学特性条件とは、光の透過及び反射によって、上述したＢ−ＰＯＮで使用される３つの波長帯域を、従来の通信に使用される２つの波長帯域と、放送配信用に追加された新たな波長帯域とに分離する特性である。具体的にはＢ−ＰＯＮの従来の送受信波長である１２６０ｎｍ〜１３６０ｎｍ及び１４８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域の信号光を透過し、放送配信用である１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域の信号光を反射する特性、又は逆に、１２６０ｎｍ〜１３６０ｎｍ及び１４８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域の信号光を反射し、１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域の信号光を透過する分光特性である。
【００１６】
なお、図１に示すように、光学基板１の直上に高屈折率膜２を配置し、光学基板１の屈折率とその直上に配置される膜の屈折率差が大きくなるように構成するのが好ましいが、平面状の光学基板１の直上は低屈折率膜３でも良く、最終層は高屈折率膜２とした構造でも良い。
【００１７】
また、エッジフィルタ１０には、光学基板１の反対面に高屈折率膜２と低屈折率膜３を単層又は交互に複数層積層して構成した反射防止膜５が形成されている。反射防止膜５を設けることにより、エッジフィルタ１０を透過する信号光が光学基板１の裏面で反射することによって発生する挿入損失の増加を防ぐことができる。この裏面反射が原因で起こる挿入損失が問題にならない場合は、反射防止膜５は設けなくても良い。
【００１８】
次に、エッジフィルタ１０の光学特性について説明する。上述したように、Ｂ−ＰＯＮやＩＥＥＥ８０２．３ａｈといった規格に準拠した通信機器に使用されるエッジフィルタ１０は、１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域の光と１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域の光のうち、一方帯域の光を透過し、他方の帯域の光を反射する分光特性を有するフィルタである。このようなエッジフィルタには、短波長側に透過帯域を有するＳＷＰＦ（Short Wave Pass Filter）と、長波長側に透過帯域を有するＬＷＰＦ（Long Wave Pass Filter）の２種類が考えられる。
【００１９】
このようなエッジフィルタ１０の特性としては、透過帯域と反射帯域との間の変化が急峻であり、かつ、透過帯域での透過率の平坦性（フラットネス）が確保されていることが望ましい。一般に、エッジフィルタ膜４を構成する積層数を多くするほど急峻な帯域分離特性を得られることが分かっている。しかし、積層数を多くすると、透過帯域に生じるリップルが大きくなり、フラットネス特性が損なわれる傾向がある。したがって、エッジフィルタに要求される帯域分離特性及びフラットネス特性に応じて、積層数を調整すればよく、エッジフィルタ膜４の具体的な積層数は、一般的に３０層以上１５０層以下に選択されることが多い。
【００２０】
さらに、エッジフィルタ１０を使用して入射した信号光を分離して反射光を検出するためには、実装上の都合から、信号光の入射角を一定以上の大きさとする必要がある。入射角が小さすぎると、反射光を平行光に変換するコリメータレンズ等の配置が困難となるためである。一方、光学多層膜フィルタでは、分光特性が偏光依存性を有しており、入射光の偏光状態によって分光特性が異なることが知られている。この偏光依存性によるＳ偏光とＰ偏光との乖離は、入射角が大きくなるほど大きくなる。このため、透過帯域から反射帯域に移行する間の分離幅が狭いエッジフィルタにおいては、信号光の入射角大きくなることに起因する帯域分離特性の低下が大きな問題となる。
【００２１】
そこで、発明者らは、要求される透過帯域と反射帯域との分離幅（本発明では５０ｎｍ）に応じて入射角を適切に設定することにより、１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域と１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域とを分離する良好な特性を有し、かつ、反射光の検出に支障を生じないエッジフィルタが得られることを見出した。
【００２２】
さらに、検討の結果、エッジフィルタ膜４のフィルタ面の法線と入射する信号光のなす角度を入射角とするとき、その入射角を３度から２０度の範囲としたときに良好な分光特性が得られることを見出した。入射角が３度より小さくなるとコリメータレンズ等の部材をエッジフィルタから遠ざけて配置しなければならなくなり、実装上モジュールを小型化できないため、入射角は３度以上とすることが望ましい。
【００２３】
一方、入射角が２０度より大きくなると、Ｓ偏光の分光特性とＰ偏光の分光特性との乖離幅が大きくなって、Ｓ偏光とＰ偏光の双方を１５００ｎｍ〜１５５０ｎｍの５０ｎｍの分離幅で透過帯域と反射帯域に分けることが困難になる。このため、入射角は２０度以下とすることが望ましい。
【００２４】
より具体的に説明すると、例えばエッジフィルタがＳＷＰＦであって、Ｓ偏光の方がＰ偏光より短波長側で透過率が減少し始めるとした場合、Ｓ偏光の透過率が減少を始める波長をλ１とし、Ｐ偏光の透過率が所定の値まで減少する波長をλ２とすると、少なくともλ２−λ１の値が５０ｎｍより小さくなければ、Ｓ偏光とＰ偏光の双方を１５００ｎｍ〜１５５０ｎｍの５０ｎｍの分離幅で透過帯域と反射帯域に分けることができないことになる。しかしながら、入射角が２０度より大きくなると、λ２−λ１の値が５０ｎｍ以上となってしまうということである。
【００２５】
以上のことから、１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域と１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域とを分離するエッジフィルタ１０に対する信号光の入射角は、３度以上２０以下とすることが望ましい。さらに良好な分光特性を得るためには、入射角は５度以上１５度以下とするとよい。
【００２６】
次に、エッジフィルタ１０の各部の材料及び製造法について説明する。光学基板１は、Ｂ−ＰＯＮの信号光に使用する近赤外の波長帯域において透明であることが好ましく、例えば、９９．８％以上の透過率を有することが望ましい。光学基板１として具体的には、非晶質ガラス、結晶化ガラスもしくは他の光学基板を用いることができる。具体的にはＬｉＮｂＯ３、ＬｉＴａＯ３、ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯなどの酸化物単結晶、多結晶基板、ＣａＦ２、ＭｇＦ２ＢａＦ２、ＬｉＦなどのフッ化物単結晶基板、多結晶基板、ＮａＣｌ、ＫＢｒ、ＫＣｌなどの塩化物、臭化物単結晶、多結晶基板又はフッ化ポリイミド等の樹脂基板が適用できる。
【００２７】
高屈折率膜２の材料としては、ＴａｘＯｙ、ＴｉＯｘ、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＧｅｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＣｘ、ＺｒＯｘ、ＮｂＯｘ、ＹＯｘ、ＩｎｘＯｙ、ＳｎＯｘ、ＣｅＯｘ、ＨｆＯｘ又はこれらの混合材から少なくとも一種が選ばれる。また、低屈折率膜３の材料としては、ＳｉＯｘ、ＭｇＯｘ、ＡｌＯｘ、ＳｉＯｘＣｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＭｇＦｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種が選ばれる。また、上記の化学量論組成から多少ずれても構わない。なお、各屈折率膜は同種のものを用いることが好ましいが、屈折率が近似した材料であれば、一部を他の材料からなる屈折率膜に置換することも可能である。
【００２８】
エッジフィルタ１０の製造は、真空成膜法で行うことができる。真空成膜法には、真空蒸着法、スパッタ法、化学気相成長法、レーザブレイション法など各種成膜法などを用いることができる。真空蒸着法を用いる場合、膜質を改善するため蒸着気流の一部をイオン化するとともに基板側にバイアスを印加するイオンプレーティング法、クラスタイオンビーム法、あるいは、イオン銃を用いて基板にイオンを照射するイオンアシスト蒸着法を用いると有効である。スパッタ法としては、ＤＣ反応性スパッタ法、ＲＦスパッタ法、イオンビームスパッタ法などを用いることができる。また、化学的気相法としては、プラズマ重合法、光アシスト気相法、熱分解法、有機金属化学気相法などを用いることができる。なお、個々の薄膜の膜厚は、膜形成時の蒸着時間などを変えることで、所望の膜厚とすることができる。
【００２９】
続いて、エッジフィルタ１０の実施例について説明する。なお、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。実施例１、実施例２及び比較例１で説明するエッジフィルタの材料には、高屈折率膜にＮｂ２Ｏ５（屈折率２．３０）、低屈折率膜にＳｉＯ２（屈折率１．４６７）、光学基板に光学ガラスＢＫ７（独SCHOTT GLASS社製、屈折率１．５１）を使用した。また、以下の説明で使用する設計波長とは。入射角０度で分光特性を測定した場合における反射帯域の中心波長を意味する。
【００３０】
（実施例１）
光学基板に光屈折率膜と低屈折率膜を交互に積層し、１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−３０ｄＢ以下であり、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの波長帯域において透過率−０．１ｄＢ以上であるエッジフィルタの設計を行った。また、エッジフィルタ膜の法線と信号光とのなす入射角は５度として設計を行った。その結果、積層数が６０層で、設計波長が１３２７ｎｍのエッジフィルタを得た。その分光特性を図２に示す。また、図２の波長１４８０ｎｍから１５６０ｎｍの帯域を拡大したグラフを図３に示す。図２及び図３では、Ｓ偏光の透過率Ｔｓを細実線及び細網掛け線で示し、Ｐ偏光の透過率Ｔｐを太実線及び太網掛け線で示している。
【００３１】
図２及び図３に示すように、入射角５度で設計したエッジフィルタでは、Ｓ偏光、Ｐ偏光とも１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−３０ｄＢ以下になっており、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲内においては透過率−０．１ｄＢ以上となっている。このことから、１５００ｎｍ以下の波長帯域と１５５０ｎｍ以上の波長帯域を分離する良好な分光特性が得られていることが分かる。
【００３２】
（実施例２）
光学基板に光屈折率膜と低屈折率膜を交互に積層し、１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−０．１ｄＢ以上であり、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの波長帯域において透過率−３０ｄＢ以下であるエッジフィルタの設計を行った。また、エッジフィルタ膜の法線と信号光とのなす入射角は１５度として設計を行った。その結果、積層数が６０層で、設計波長が１７４６ｎｍのエッジフィルタを得た。その分光特性を図４に示す。また、図２の波長１４８０ｎｍから１５６０ｎｍの帯域を拡大したグラフを図５に示す。図４及び図５では、Ｓ偏光の透過率Ｔｓを細実線及び細網掛け線で示し、Ｐ偏光の透過率Ｔｐを太実線及び太網掛け線で示している。
【００３３】
図４及び図５に示すように、入射角１５度で設計したエッジフィルタでは、Ｓ偏光、Ｐ偏光とも１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−０．１ｄＢ以になっており、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲内においては透過率上−３０ｄＢ以下となっている。このことから、１５００ｎｍ以下の波長帯域と１５５０ｎｍ以上の波長帯域を分離する良好な分光特性が得られていることが分かる。
【００３４】
（比較例１）
エッジフィルタ膜の法線と信号光とのなす入射角は３０度とした上で、１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−０．１ｄＢ以上であり、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの波長帯域において透過率−３０ｄＢ以下となるようエッジフィルタの設計を行った。その結果、積層数が６０層で、設計波長が１８０４ｎｍのエッジフィルタを得た。その分光特性を図６に示す。また、図６の波長１４８０ｎｍから１５６０ｎｍの帯域を拡大したグラフを図７に示す。図６及び図７では、Ｓ偏光の透過率Ｔｓを細実線及び細網掛け線で示し、Ｐ偏光の透過率Ｔｐを太実線及び太網掛け線で示している。
【００３５】
図６及び図７からわかるように、１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において、Ｓ偏光及びＰ偏光の透過率が−０．１ｄＢ以下となる部分が生じ、さらに、１５５０ｎｍにおいては、Ｓ偏光の透過率が−３０ｄＢ以上となっていることから、入射角が３０度の場合では、本実施例のエッジフィルタは所望の光学特性を満足できない。これは、入射角を３０度としたことにより、透過から反射に転じるエッジ部での透過率の変化が緩やかになったこと、及び、Ｓ偏光とＰ偏光との分光特性の差が大きくなったことに起因するものである。具体的には、図７に示されるように、Ｓ偏光、Ｐ偏光共に、透過率が−０．１ｄＢから−３０ｄＢまで変化する波長幅が２０ｎｍ以上であり、かつ、Ｓ偏光とＰ偏光との差が約３０ｎｍとなっている。このため、透過帯域と反射帯域の分離幅が５０ｎｍ以上になってしまい、所望の分光特性を満足できないことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明にかかるエッジフィルタの構成図である。
【図２】実施例１のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図３】実施例１のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図４】実施例２のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図５】実施例２のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図６】比較例１のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図７】比較例１のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３７】
１ 光学基板
２ 高屈折率膜
３ 低屈折率膜
４ エッジフィルタ膜
５ 反射防止膜
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入射した信号光の一部を透過し、他の一部を反射することによって分岐を行うエッジフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｂ−ＰＯＮ（Broadband-PON）やＩＥＥＥ８０２．３ａｈといったＰＯＮ（Passive Optical Network）技術を利用した新たな通信方式の標準化・規格化が進められている。ＰＯＮは、加入者と収容局を繋ぐアクセス回線に光ファイバを利用したアクセス網において、アクセス回線の途中に光スプリッタを挿入して信号光を分岐することにより、少ない光ファイバで複数の加入者を効率よく収容する方式である。
【０００３】
従来のＢ−ＰＯＮでは、加入者から収容局の方向に１２６０ｎｍ〜１３６０ｎｍの波長帯域を使用し、収容局から加入者の方向に１４８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域を使用している。新たに標準化されるＢ−ＰＯＮやＩＥＥＥ８０２．３ａｈといった新規格は、上記の従来の波長帯域に加えて、１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域を新たな下り方向の通信帯域として使用し、放送配信等の通信サービスを行うことを想定している。
【０００４】
上述の新規格に準拠した通信装置では、従来から使用されている１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域と新たな放送配信用の１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域とを分離する特性を持ったエッジフィルタを用いて、従来の波長帯域を使用した通信と新たな波長帯域を使用した通信とを１芯の光ファイバ上に重畳する必要がある。このため、上述した帯域分離を行うエッジフィルタでは、１５００ｎｍから１５５０ｎｍの５０ｎｍの分離幅において、透過から反射、又は反射から透過に遷移する分光特性が必要となる。
【０００５】
エッジフィルタには、光学基板上に誘電体膜を積層した光学多層膜フィルタが使用され、従来は、信号光の入射角を４５度に設定して使用されることが一般的であった（例えば特許文献１参照）。しかしながら、信号光の入射角を４５度に設定した従来の光学多層膜フィルタでは、透過から反射に遷移する際において、分光特性が入射光の偏光状態に依存することに起因して、Ｓ偏光とＰ偏光との分光特性の乖離が大きくなってしまうため、上述した１５００ｎｍ〜１５５０ｎｍの分離幅５０ｎｍ以下で、透過帯域と反射帯域を分離することができないという問題がある。
【０００６】
一方、入射角を小さくすることによって、Ｓ偏光とＰ偏光の差を小さくすることができる。しかしながら、入射角を小さくすると、入射光と反射光の光路が近くなってしまうため、コリメータレンズ等の部材をエッジフィルタから遠ざけて配置しなければならず、実装時にモジュールサイズを小型化できないという問題が発生する。
【特許文献１】特開２０００−１６２４１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、本発明は、偏光依存性を低減し、良好な分光特性を有するエッジフィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
光学基板上に少なくとも２種類の屈折率異なる光学薄膜を交互に積層してなる多層膜を有し、前記多層膜に入射する第１の波長帯域の波長を有する信号光を透過し、前記多層膜に入射する第２の波長帯域の波長を有する信号光を反射し、
前記第１の波長帯域と前記第２の波長帯域が予め定められた分離帯域を隔てているエッジフィルタであって、Ｓ偏光の分光特性とＰ偏光の分光特性との乖離幅が、前記分離帯域の幅以下になるように前記多層膜に対する前記信号光の入射角を定めたものである。これにより、Ｓ偏光とＰ偏光の分光特性上の乖離幅を所定の分離幅以下に抑えて、エッジフィルタを所定の分光特性の下で使用することができる。
【０００９】
また、前記分離帯域は１５００ｎｍから１５５０ｎｍの範囲内である場合は、前記入射角は３度以上２０度以下とするとよい。
【００１０】
また、前記第１の波長帯域が少なくとも１２６０ｎｍから１３６０ｍの範囲及び１４８０ｎｍから１５００ｎｍの範囲を含む波長帯域、かつ、前記第２の波長帯域が少なくとも１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲を含む波長帯域であるか、あるいは、前記第２の波長帯域が少なくとも１２６０ｎｍから１３６０ｍの範囲及び１４８０ｎｍから１５００ｎｍの範囲を含む波長帯域、かつ、前記第１の波長帯域が少なくとも１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲を含む波長帯域とするとよい。このような構成により、Ｂ−ＰＯＮで使用される１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの従来通信用の波長帯域と１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの新たな放送配信用の波長帯域とを分離することができる。
【００１１】
なお、前記光学基板の裏面に、前記第一の波長帯域及び前記第二の波長帯域の光の反射を防止する反射防止膜を設けることとしてもよい。これにより、エッジフィルタを透過する光が前記光学基板の裏面で反射されることによって発生する挿入損失の増加を防ぐことができる。
【００１２】
また、前記多層膜は、高屈折率膜と低屈折率膜の２種類の膜を積層してなり、前記高屈折率膜の屈折率は１．８以上５．０以下であり、前記低屈折率膜の屈折率は１．３以上１．５以下であって、前記高屈折率膜と前記低屈折率膜を合わせた積層数が３０層以上１５０層以下であるとよい。
【００１３】
さらにまた、前記高屈折率膜は、ＴａｘＯｙ、ＴｉＯｘ、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＧｅｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＣｘ、ＺｒＯｘ、ＮｂＯｘ、ＹＯｘ、ＩｎｘＯｙ、ＳｎＯｘ、ＣｅＯｘ、ＨｆＯｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種からなり、前記低屈折率膜は、ＳｉＯｘ、ＭｇＯｘ、ＡｌＯｘ、ＳｉＯｘＣｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＭｇＦｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種からなるものとするとよい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、偏光依存性を低減し、良好な分光特性を有するエッジフィルタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
発明の実施の形態１．
図１は本実施の形態にかかるエッジフィルタ１０の断面を示した模式図である。エッジフィルタ膜４は、平行平面状の光学基板１上に高屈折率膜２と低屈折率膜３が交互に積層して形成され、所望の光学特性条件を満足するように各層の積層数及び膜厚が調整されたものである。ここで、エッジフィルタ膜４に対する所望の光学特性条件とは、光の透過及び反射によって、上述したＢ−ＰＯＮで使用される３つの波長帯域を、従来の通信に使用される２つの波長帯域と、放送配信用に追加された新たな波長帯域とに分離する特性である。具体的にはＢ−ＰＯＮの従来の送受信波長である１２６０ｎｍ〜１３６０ｎｍ及び１４８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域の信号光を透過し、放送配信用である１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域の信号光を反射する特性、又は逆に、１２６０ｎｍ〜１３６０ｎｍ及び１４８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域の信号光を反射し、１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域の信号光を透過する分光特性である。
【００１６】
なお、図１に示すように、光学基板１の直上に高屈折率膜２を配置し、光学基板１の屈折率とその直上に配置される膜の屈折率差が大きくなるように構成するのが好ましいが、平面状の光学基板１の直上は低屈折率膜３でも良く、最終層は高屈折率膜２とした構造でも良い。
【００１７】
また、エッジフィルタ１０には、光学基板１の反対面に高屈折率膜２と低屈折率膜３を単層又は交互に複数層積層して構成した反射防止膜５が形成されている。反射防止膜５を設けることにより、エッジフィルタ１０を透過する信号光が光学基板１の裏面で反射することによって発生する挿入損失の増加を防ぐことができる。この裏面反射が原因で起こる挿入損失が問題にならない場合は、反射防止膜５は設けなくても良い。
【００１８】
次に、エッジフィルタ１０の光学特性について説明する。上述したように、Ｂ−ＰＯＮやＩＥＥＥ８０２．３ａｈといった規格に準拠した通信機器に使用されるエッジフィルタ１０は、１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域の光と１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域の光のうち、一方帯域の光を透過し、他方の帯域の光を反射する分光特性を有するフィルタである。このようなエッジフィルタには、短波長側に透過帯域を有するＳＷＰＦ（Short Wave Pass Filter）と、長波長側に透過帯域を有するＬＷＰＦ（Long Wave Pass Filter）の２種類が考えられる。
【００１９】
このようなエッジフィルタ１０の特性としては、透過帯域と反射帯域との間の変化が急峻であり、かつ、透過帯域での透過率の平坦性（フラットネス）が確保されていることが望ましい。一般に、エッジフィルタ膜４を構成する積層数を多くするほど急峻な帯域分離特性を得られることが分かっている。しかし、積層数を多くすると、透過帯域に生じるリップルが大きくなり、フラットネス特性が損なわれる傾向がある。したがって、エッジフィルタに要求される帯域分離特性及びフラットネス特性に応じて、積層数を調整すればよく、エッジフィルタ膜４の具体的な積層数は、一般的に３０層以上１５０層以下に選択されることが多い。
【００２０】
さらに、エッジフィルタ１０を使用して入射した信号光を分離して反射光を検出するためには、実装上の都合から、信号光の入射角を一定以上の大きさとする必要がある。入射角が小さすぎると、反射光を平行光に変換するコリメータレンズ等の配置が困難となるためである。一方、光学多層膜フィルタでは、分光特性が偏光依存性を有しており、入射光の偏光状態によって分光特性が異なることが知られている。この偏光依存性によるＳ偏光とＰ偏光との乖離は、入射角が大きくなるほど大きくなる。このため、透過帯域から反射帯域に移行する間の分離幅が狭いエッジフィルタにおいては、信号光の入射角大きくなることに起因する帯域分離特性の低下が大きな問題となる。
【００２１】
そこで、発明者らは、要求される透過帯域と反射帯域との分離幅（本発明では５０ｎｍ）に応じて入射角を適切に設定することにより、１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域と１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域とを分離する良好な特性を有し、かつ、反射光の検出に支障を生じないエッジフィルタが得られることを見出した。
【００２２】
さらに、検討の結果、エッジフィルタ膜４のフィルタ面の法線と入射する信号光のなす角度を入射角とするとき、その入射角を３度から２０度の範囲としたときに良好な分光特性が得られることを見出した。入射角が３度より小さくなるとコリメータレンズ等の部材をエッジフィルタから遠ざけて配置しなければならなくなり、実装上モジュールを小型化できないため、入射角は３度以上とすることが望ましい。
【００２３】
一方、入射角が２０度より大きくなると、Ｓ偏光の分光特性とＰ偏光の分光特性との乖離幅が大きくなって、Ｓ偏光とＰ偏光の双方を１５００ｎｍ〜１５５０ｎｍの５０ｎｍの分離幅で透過帯域と反射帯域に分けることが困難になる。このため、入射角は２０度以下とすることが望ましい。
【００２４】
より具体的に説明すると、例えばエッジフィルタがＳＷＰＦであって、Ｓ偏光の方がＰ偏光より短波長側で透過率が減少し始めるとした場合、Ｓ偏光の透過率が減少を始める波長をλ１とし、Ｐ偏光の透過率が所定の値まで減少する波長をλ２とすると、少なくともλ２−λ１の値が５０ｎｍより小さくなければ、Ｓ偏光とＰ偏光の双方を１５００ｎｍ〜１５５０ｎｍの５０ｎｍの分離幅で透過帯域と反射帯域に分けることができないことになる。しかしながら、入射角が２０度より大きくなると、λ２−λ１の値が５０ｎｍ以上となってしまうということである。
【００２５】
以上のことから、１２６０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長帯域と１５５０ｎｍ〜１５６０ｎｍの波長帯域とを分離するエッジフィルタ１０に対する信号光の入射角は、３度以上２０以下とすることが望ましい。さらに良好な分光特性を得るためには、入射角は５度以上１５度以下とするとよい。
【００２６】
次に、エッジフィルタ１０の各部の材料及び製造法について説明する。光学基板１は、Ｂ−ＰＯＮの信号光に使用する近赤外の波長帯域において透明であることが好ましく、例えば、９９．８％以上の透過率を有することが望ましい。光学基板１として具体的には、非晶質ガラス、結晶化ガラスもしくは他の光学基板を用いることができる。具体的にはＬｉＮｂＯ３、ＬｉＴａＯ３、ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯなどの酸化物単結晶、多結晶基板、ＣａＦ２、ＭｇＦ２ＢａＦ２、ＬｉＦなどのフッ化物単結晶基板、多結晶基板、ＮａＣｌ、ＫＢｒ、ＫＣｌなどの塩化物、臭化物単結晶、多結晶基板又はフッ化ポリイミド等の樹脂基板が適用できる。
【００２７】
高屈折率膜２の材料としては、ＴａｘＯｙ、ＴｉＯｘ、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＧｅｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＣｘ、ＺｒＯｘ、ＮｂＯｘ、ＹＯｘ、ＩｎｘＯｙ、ＳｎＯｘ、ＣｅＯｘ、ＨｆＯｘ又はこれらの混合材から少なくとも一種が選ばれる。また、低屈折率膜３の材料としては、ＳｉＯｘ、ＭｇＯｘ、ＡｌＯｘ、ＳｉＯｘＣｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＭｇＦｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種が選ばれる。また、上記の化学量論組成から多少ずれても構わない。なお、各屈折率膜は同種のものを用いることが好ましいが、屈折率が近似した材料であれば、一部を他の材料からなる屈折率膜に置換することも可能である。
【００２８】
エッジフィルタ１０の製造は、真空成膜法で行うことができる。真空成膜法には、真空蒸着法、スパッタ法、化学気相成長法、レーザブレイション法など各種成膜法などを用いることができる。真空蒸着法を用いる場合、膜質を改善するため蒸着気流の一部をイオン化するとともに基板側にバイアスを印加するイオンプレーティング法、クラスタイオンビーム法、あるいは、イオン銃を用いて基板にイオンを照射するイオンアシスト蒸着法を用いると有効である。スパッタ法としては、ＤＣ反応性スパッタ法、ＲＦスパッタ法、イオンビームスパッタ法などを用いることができる。また、化学的気相法としては、プラズマ重合法、光アシスト気相法、熱分解法、有機金属化学気相法などを用いることができる。なお、個々の薄膜の膜厚は、膜形成時の蒸着時間などを変えることで、所望の膜厚とすることができる。
【００２９】
続いて、エッジフィルタ１０の実施例について説明する。なお、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。実施例１、実施例２及び比較例１で説明するエッジフィルタの材料には、高屈折率膜にＮｂ２Ｏ５（屈折率２．３０）、低屈折率膜にＳｉＯ２（屈折率１．４６７）、光学基板に光学ガラスＢＫ７（独SCHOTT GLASS社製、屈折率１．５１）を使用した。また、以下の説明で使用する設計波長とは。入射角０度で分光特性を測定した場合における反射帯域の中心波長を意味する。
【００３０】
（実施例１）
光学基板に光屈折率膜と低屈折率膜を交互に積層し、１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−３０ｄＢ以下であり、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの波長帯域において透過率−０．１ｄＢ以上であるエッジフィルタの設計を行った。また、エッジフィルタ膜の法線と信号光とのなす入射角は５度として設計を行った。その結果、積層数が６０層で、設計波長が１３２７ｎｍのエッジフィルタを得た。その分光特性を図２に示す。また、図２の波長１４８０ｎｍから１５６０ｎｍの帯域を拡大したグラフを図３に示す。図２及び図３では、Ｓ偏光の透過率Ｔｓを細実線及び細網掛け線で示し、Ｐ偏光の透過率Ｔｐを太実線及び太網掛け線で示している。
【００３１】
図２及び図３に示すように、入射角５度で設計したエッジフィルタでは、Ｓ偏光、Ｐ偏光とも１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−３０ｄＢ以下になっており、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲内においては透過率−０．１ｄＢ以上となっている。このことから、１５００ｎｍ以下の波長帯域と１５５０ｎｍ以上の波長帯域を分離する良好な分光特性が得られていることが分かる。
【００３２】
（実施例２）
光学基板に光屈折率膜と低屈折率膜を交互に積層し、１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−０．１ｄＢ以上であり、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの波長帯域において透過率−３０ｄＢ以下であるエッジフィルタの設計を行った。また、エッジフィルタ膜の法線と信号光とのなす入射角は１５度として設計を行った。その結果、積層数が６０層で、設計波長が１７４６ｎｍのエッジフィルタを得た。その分光特性を図４に示す。また、図２の波長１４８０ｎｍから１５６０ｎｍの帯域を拡大したグラフを図５に示す。図４及び図５では、Ｓ偏光の透過率Ｔｓを細実線及び細網掛け線で示し、Ｐ偏光の透過率Ｔｐを太実線及び太網掛け線で示している。
【００３３】
図４及び図５に示すように、入射角１５度で設計したエッジフィルタでは、Ｓ偏光、Ｐ偏光とも１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−０．１ｄＢ以になっており、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲内においては透過率上−３０ｄＢ以下となっている。このことから、１５００ｎｍ以下の波長帯域と１５５０ｎｍ以上の波長帯域を分離する良好な分光特性が得られていることが分かる。
【００３４】
（比較例１）
エッジフィルタ膜の法線と信号光とのなす入射角は３０度とした上で、１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において透過率−０．１ｄＢ以上であり、１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの波長帯域において透過率−３０ｄＢ以下となるようエッジフィルタの設計を行った。その結果、積層数が６０層で、設計波長が１８０４ｎｍのエッジフィルタを得た。その分光特性を図６に示す。また、図６の波長１４８０ｎｍから１５６０ｎｍの帯域を拡大したグラフを図７に示す。図６及び図７では、Ｓ偏光の透過率Ｔｓを細実線及び細網掛け線で示し、Ｐ偏光の透過率Ｔｐを太実線及び太網掛け線で示している。
【００３５】
図６及び図７からわかるように、１２６０ｎｍから１５００ｎｍの波長帯域において、Ｓ偏光及びＰ偏光の透過率が−０．１ｄＢ以下となる部分が生じ、さらに、１５５０ｎｍにおいては、Ｓ偏光の透過率が−３０ｄＢ以上となっていることから、入射角が３０度の場合では、本実施例のエッジフィルタは所望の光学特性を満足できない。これは、入射角を３０度としたことにより、透過から反射に転じるエッジ部での透過率の変化が緩やかになったこと、及び、Ｓ偏光とＰ偏光との分光特性の差が大きくなったことに起因するものである。具体的には、図７に示されるように、Ｓ偏光、Ｐ偏光共に、透過率が−０．１ｄＢから−３０ｄＢまで変化する波長幅が２０ｎｍ以上であり、かつ、Ｓ偏光とＰ偏光との差が約３０ｎｍとなっている。このため、透過帯域と反射帯域の分離幅が５０ｎｍ以上になってしまい、所望の分光特性を満足できないことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明にかかるエッジフィルタの構成図である。
【図２】実施例１のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図３】実施例１のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図４】実施例２のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図５】実施例２のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図６】比較例１のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【図７】比較例１のエッジフィルタの分光特性を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３７】
１ 光学基板
２ 高屈折率膜
３ 低屈折率膜
４ エッジフィルタ膜
５ 反射防止膜
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基板上に少なくとも２種類の屈折率が異なる光学薄膜を交互に積層してなる多層膜を有し、
前記多層膜に入射する第１の波長帯域の波長を有する信号光を透過し、前記多層膜に入射する第２の波長帯域の波長を有する信号光を反射し、
前記第１の波長帯域と前記第２の波長帯域が予め定められた分離帯域を隔てているエッジフィルタであって、
Ｓ偏光の分光特性とＰ偏光の分光特性との乖離幅が、前記分離帯域の幅以下になるように前記多層膜に対する前記信号光の入射角を定めたエッジフィルタ。
【請求項２】
前記分離帯域は１５００ｎｍから１５５０ｎｍの範囲内であり、
前記入射角は３度以上２０度以下である、請求項１に記載のエッジフィルタ。
【請求項３】
前記第１の波長帯域が少なくとも１２６０ｎｍから１３６０ｍの範囲及び１４８０ｎｍから１５００ｎｍの範囲を含む波長帯域、かつ、前記第２の波長帯域が少なくとも１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲を含む波長帯域であるか、あるいは、前記第２の波長帯域が少なくとも１２６０ｎｍから１３６０ｍの範囲及び１４８０ｎｍから１５００ｎｍの範囲を含む波長帯域、かつ、前記第１の波長帯域が少なくとも１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲を含む波長帯域である、請求項１又は２に記載のエッジフィルタ。
【請求項４】
前記光学基板の裏面に、前記第１の波長帯域及び前記第２の波長帯域の光の反射を防止する反射防止膜を有する請求項１乃至３のいずれかに記載のエッジフィルタ。
【請求項５】
前記多層膜は、高屈折率膜と低屈折率膜の２種類の膜を積層してなり、
前記高屈折率膜の屈折率は１．８以上５．０以下であり、前記低屈折率膜の屈折率は１．３以上１．５以下であって、前記高屈折率膜と前記低屈折率膜を合わせた積層数が３０層以上１５０層以下の範囲内である、請求項１乃至４のいずれかに記載のエッジフィルタ。
【請求項６】
前記高屈折率膜は、ＴａｘＯｙ、ＴｉＯｘ、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＧｅｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＣｘ、ＺｒＯｘ、ＮｂＯｘ、ＹＯｘ、ＩｎｘＯｙ、ＳｎＯｘ、ＣｅＯｘ、ＨｆＯｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種からなり、
前記低屈折率膜は、ＳｉＯｘ、ＭｇＯｘ、ＡｌＯｘ、ＳｉＯｘＣｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＭｇＦｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種からなる、請求項５に記載のエッジフィルタ。
【請求項１】
光学基板上に少なくとも２種類の屈折率が異なる光学薄膜を交互に積層してなる多層膜を有し、
前記多層膜に入射する第１の波長帯域の波長を有する信号光を透過し、前記多層膜に入射する第２の波長帯域の波長を有する信号光を反射し、
前記第１の波長帯域と前記第２の波長帯域が予め定められた分離帯域を隔てているエッジフィルタであって、
Ｓ偏光の分光特性とＰ偏光の分光特性との乖離幅が、前記分離帯域の幅以下になるように前記多層膜に対する前記信号光の入射角を定めたエッジフィルタ。
【請求項２】
前記分離帯域は１５００ｎｍから１５５０ｎｍの範囲内であり、
前記入射角は３度以上２０度以下である、請求項１に記載のエッジフィルタ。
【請求項３】
前記第１の波長帯域が少なくとも１２６０ｎｍから１３６０ｍの範囲及び１４８０ｎｍから１５００ｎｍの範囲を含む波長帯域、かつ、前記第２の波長帯域が少なくとも１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲を含む波長帯域であるか、あるいは、前記第２の波長帯域が少なくとも１２６０ｎｍから１３６０ｍの範囲及び１４８０ｎｍから１５００ｎｍの範囲を含む波長帯域、かつ、前記第１の波長帯域が少なくとも１５５０ｎｍから１５６０ｎｍの範囲を含む波長帯域である、請求項１又は２に記載のエッジフィルタ。
【請求項４】
前記光学基板の裏面に、前記第１の波長帯域及び前記第２の波長帯域の光の反射を防止する反射防止膜を有する請求項１乃至３のいずれかに記載のエッジフィルタ。
【請求項５】
前記多層膜は、高屈折率膜と低屈折率膜の２種類の膜を積層してなり、
前記高屈折率膜の屈折率は１．８以上５．０以下であり、前記低屈折率膜の屈折率は１．３以上１．５以下であって、前記高屈折率膜と前記低屈折率膜を合わせた積層数が３０層以上１５０層以下の範囲内である、請求項１乃至４のいずれかに記載のエッジフィルタ。
【請求項６】
前記高屈折率膜は、ＴａｘＯｙ、ＴｉＯｘ、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＧｅｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＣｘ、ＺｒＯｘ、ＮｂＯｘ、ＹＯｘ、ＩｎｘＯｙ、ＳｎＯｘ、ＣｅＯｘ、ＨｆＯｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種からなり、
前記低屈折率膜は、ＳｉＯｘ、ＭｇＯｘ、ＡｌＯｘ、ＳｉＯｘＣｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＭｇＦｘ又はこれらの混合材の少なくとも一種からなる、請求項５に記載のエッジフィルタ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００６−５３２００（Ｐ２００６−５３２００Ａ）
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２３２９８２（Ｐ２００４−２３２９８２）
【出願日】平成１６年８月１０日（２００４．８．１０）
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年８月１０日（２００４．８．１０）
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
【Ｆターム（参考）】
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