ガス式漏洩検査装置
【課題】ワークに漏洩箇所が存在するか否かを短時間で高精度に判断する。
【解決手段】ケース部材１８（ワーク）の中空室２４からガスが排気された後、該中空室２４に検査ガスが導入される。モニタスペース６９内のガスは、好ましくは第１ファン９４及び第２ファン１１０の作用下に撹拌され、循環用配管１１６に送られる。ガスがディテクタ１２２に到達すると、ディテクタ１２２の表示値は、漏洩ガスの濃度（量）に応じた値を示す。ケース部材１８に漏洩箇所が存在する場合、検査ガスがチャンバ１６に漏洩してモニタスペース６９内のガスと混ざり合う。この混合ガスの一部が、循環用配管１１６及びサンプリングライン１２１を介してディテクタ１２２に送られる。一方、混合ガスの残部は、循環用配管１１６を介してモニタスペース６９に戻される。
【解決手段】ケース部材１８（ワーク）の中空室２４からガスが排気された後、該中空室２４に検査ガスが導入される。モニタスペース６９内のガスは、好ましくは第１ファン９４及び第２ファン１１０の作用下に撹拌され、循環用配管１１６に送られる。ガスがディテクタ１２２に到達すると、ディテクタ１２２の表示値は、漏洩ガスの濃度（量）に応じた値を示す。ケース部材１８に漏洩箇所が存在する場合、検査ガスがチャンバ１６に漏洩してモニタスペース６９内のガスと混ざり合う。この混合ガスの一部が、循環用配管１１６及びサンプリングライン１２１を介してディテクタ１２２に送られる。一方、混合ガスの残部は、循環用配管１１６を介してモニタスペース６９に戻される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークの壁部に気密性を確保し得ない漏洩箇所が存在するか否かを検査するためのガス式漏洩検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、鋳造製品や鍛造成形品の中には、オイル等の液体を収容する収容容器や、大気圧以上の圧力の流体を貯留する圧力容器として使用されるものがある。このような用途の場合、内容物が漏洩しないこと、換言すれば、気密性に優れることが必要である。
【０００３】
しかしながら、鋳造製品や鍛造成形品には、漏洩箇所が存在することがある。例えば、鋳造製品では、鋳造欠陥に起因して漏洩箇所が形成される可能性があるからである。このため、鋳造製品や鍛造成形品に対し、漏洩箇所が存在するか否かを確認することが広汎に行われている。このような確認を行うための検査装置として、ガス式漏洩検査装置が周知となっている。
【０００４】
この場合、先ず、ワーク（鋳造製品ないし鍛造成形品）をチャンバに収容し、チャンバ内、及びワークの中空箇所を排気して真空状態とする。次に、検査ガスをワークの中空箇所に導入する。その後、一定時間が経過した際に所定量以上の検査ガスがチャンバ内に漏洩していなければ、十二分な気密性が確保されたものとして合格品とされ、所定量以上の検査ガスがチャンバ内に漏洩していれば、気密性が不十分な不合格品とされる。
【０００５】
なお、使用される検査ガスの種類は検査内容（用途）によって様々であるが、主にはヘリウムが用いられる。この場合、漏洩量が微量であるときにも漏洩があることを検出することが可能であるからである。すなわち、漏洩検査結果を高精度に得ることができるという利点がある。
【０００６】
この種のガス式漏洩検査装置では、チャンバ内を真空にするための排気手段と、ワークの中空箇所を真空にするための排気手段とが必要であり、排気設備が大型となる。また、漏洩量を測定する測定装置の密閉性も重要であり、装置構成が複雑となるとともに、初期設備投資が高額となる。加えて、メンテナンスが容易ではない、稼働率が低い、ランニングコストが高額である等の不具合が顕在化している。
【０００７】
このような観点から、特許文献１、２には、ワークの中空箇所を排気して真空状態とする一方、チャンバ内を大気圧状態として漏洩検査を行うことが提案されている。該特許文献１、２によれば、チャンバを真空にするための排気手段が不要となる分、装置構成を簡略化し得る、とのことである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平６−２２１９５０号公報
【特許文献２】特開平６−３４７３６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１記載のガス漏洩検査方法では、ワークに対して予備検査（差圧漏れ検査）が行われた後、ヘリウムガスを使用しての本検査が行われる。すなわち、２段階検査が実施される。また、特許文献１、２記載のガス漏洩検査方法を実施すると、いずれの検査方法においても、検査ガスを検知するセンサの検知精度範囲内でしか、漏洩しているか否かを判断することができない。
【００１０】
さらに、特許文献１、２記載のガス漏洩検査方法には、確実な検査結果を得るまでに長時間を要するという不具合が顕在している。
【００１１】
本発明は上記した問題を解決するためになされたもので、漏洩状態を精度よく、しかも、漏洩の規模を量的に判断することが可能であり、その上、汎用性に優れるガス式漏洩検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記の目的を達成するために、本発明は、ワークの壁部から漏洩があるか否かを検査するためのガス式漏洩検査装置であって、
基台と、
前記基台に設けられてワークを位置決め固定する載置台と、
前記載置台とともに前記ワークを挟持する挟持盤と、
前記基台に支持されて前記挟持盤を前記ワークに対して接近又は離間する方向に変位させるための挟持盤変位機構と、
前記載置台に対して接近又は離間し、且つ前記載置台に当接した際に前記ワークを囲繞するチャンバを形成する隔壁部材と、
前記基台に支持されて前記隔壁部材を前記載置台に対して接近又は離間する方向に変位させるための隔壁部材変位機構と、
前記ワークの壁部によって形成される中空室から排気を行う排気手段と、
前記中空室に検査ガスを供給するための検査ガス供給手段と、
前記チャンバ内で前記ワークに当接した前記挟持盤と、前記載置台に当接して前記チャンバを形成した前記隔壁部材との間に画成されるモニタスペースから排出されたサンプリングガスを前記モニタスペースに戻すための循環流通路と、
前記サンプリングガスが前記循環流通路を経由して送気される検査ガス検出手段と、
を備え、
前記サンプリングガスに前記検査ガスが含まれるとき、前記検査ガス検出手段で該検査ガスを検出することを特徴とする。
【００１３】
すなわち、本発明においては、漏洩検査を行う際、モニタスペースから排出されたガスを、循環流通路を介してモニタスペースに戻すようにしている。
【００１４】
従来技術のように、チャンバから排出されたサンプリングガスを検出手段に導いた後、該サンプリングガスをそのまま系外に排気する場合には、ワークの中空室からチャンバへの検査ガスの漏洩の程度が僅かであると、チャンバに存在する漏洩検査ガスの量も僅かである。従って、サンプリングガスの中に含まれる漏洩検査ガスの量が極めて僅かとなる。このようなサンプリングガスを用いて漏洩検査ガスの量を高精度に評価することは、困難である。
【００１５】
これに対し、本発明では、モニタスペースから排出されたガスを、循環流通路を介してモニタスペースに戻している。すなわち、ガスを循環させている。このため、漏洩検査ガスがモニタスペースに順次蓄積されるので、漏洩量に対応する濃度の漏洩検査ガスを含むサンプリングガスが検査ガス検出手段に送気される。従って、漏洩検査ガスの量を高精度に測定することが可能である。
【００１６】
しかも、漏洩量が微量であっても、測定結果を迅速に得ることができる。換言すれば、漏洩量をリアルタイムで測定することが可能である。
【００１７】
以上のように、本発明によれば、漏洩検査ガスの量を短時間で且つ高精度に評価することが可能となる。
【００１８】
ワークが、その側部に貫通孔が形成されているものであるときには、前記貫通孔を閉塞するための閉塞部材を設けるとよい。閉塞部材は、作業者の手作業によって貫通孔に対して着脱するようにしてもよいが、自動的に着脱可能とするようにしてもよい。後者の場合、前記挟持盤に、前記閉塞部材を前記貫通孔に対して密閉又は開放する方向に変位させるための閉塞部材変位手段とを設けるようにすればよい。
【００１９】
ここで、例えば、ワークに漏洩箇所が存在することが判明した場合、当該漏洩箇所が何処であるかを調査することがある。この調査の際には、隔壁部材を上昇させてチャンバを開放状態とし、ワークを露呈させる必要がある。
【００２０】
隔壁部材に閉塞部材変位手段を設けた場合、閉塞部材変位手段を付勢して側部の貫通孔から閉塞部材を離脱させた後でなければ、隔壁部材を上昇させることでワークを露呈することができない。この場合、露呈したワークは、側部の貫通孔が大気に開放されているので、該貫通孔を介して多量の検査ガスが大気に導出される。このような状況下では、漏洩箇所を特定することが困難である。
【００２１】
これに対し、挟持盤に閉塞部材変位手段を設けた場合、載置台と挟持盤で挟持され、且つ閉塞部材によって側部の貫通孔が閉塞されている状態で隔壁部材を上昇させることができる。すなわち、中空室に検査ガスが導入された状態のワークが露呈する。従って、このワークの何処から検査ガスが漏洩しているのかを調査することにより、漏洩箇所を特定することが可能となる。
【００２２】
なお、前記載置台又は前記挟持盤の少なくともいずれか一方の前記ワークに当接する部位に、シール部材を設けることが好ましい。シール部材によってワークと載置台又は挟持盤との間のシールがなされるので、ワークと載置台又は挟持盤との間から検査ガスがモニタスペースに漏洩することを回避することができる。従って、漏洩箇所以外から検査ガスがモニタスペースに漏洩することを防止することができるので、漏洩箇所を介してモニタスペースに漏洩した検査ガスが存在するか否か、存在する場合には如何なる程度かを一層高精度に評価することができる。
【００２３】
また、高さ方向寸法が前記ワークの高さ方向寸法と同一である複数個の支持部材をさらに設けることが好ましい。この場合、載置台と挟持盤とでワークが挟持されたとき、支持部材が挟持盤を支持する。このため、挟持盤に作用する反力が分散され、その結果、該挟持盤が反って該挟持盤とワークとの間に間隙が形成されることが回避されるので、挟持盤とワークとの間のシールが保たれる。
【００２４】
検査ガスとしてヘリウムのような軽量なガスを用いた場合、ワークに漏洩箇所が存在しているために検査ガスがモニタスペースに漏洩したときに、該漏洩検査ガスがモニタスペースの天井部近傍に滞留（局在化）し易い。このような事態が生じた場合、サンプリング箇所によって漏洩検査ガスの濃度が相違することになる。従って、漏洩検査ガスの濃度、ひいては量を正確に評価することが容易でなくなる。
【００２５】
そこで、モニタスペースのガスを撹拌するための撹拌手段を複数個設けることが好ましい。この撹拌に伴い、モニタスペースのガスに流れが生じる。その結果、漏洩検査ガスが局在化することが回避され、モニタスペース内に略均等に拡散する。従って、モニタスペース内の位置に関わらず、漏洩検査ガスの濃度が略同等となる。このため、サンプリング箇所を如何なる部位に設定しようとも、漏洩検査ガスの量を高精度に評価することが可能となる。
【００２６】
撹拌手段の少なくとも１個は、例えば、前記挟持盤に設けることができる。この場合、前記モニタスペース内のガスに鉛直方向に沿う流れが形成される。
【００２７】
又は、撹拌手段の少なくとも１個を前記チャンバの側壁に設け、モニタスペース内のガスに水平方向に沿う流れを形成するようにしてもよい。勿論、この流れに加え、上記した鉛直方向に沿う流れを形成するようにしてもよい。
【００２８】
また、中空室には、中子を配置することが好ましい。この中子により、中空室の空間容積が低減される。従って、中空室からのガスの排気量、及び中空室への検査ガスの導入量が低減するので、この分、漏洩検査のタクトタイムを短縮することができる。
【００２９】
さらに、前記隔壁部材の内方の隅部を湾曲させることが好ましい。上記したように、検査ガスとして軽量なガスを用いた場合、漏洩検査ガスがモニタスペースの天井部近傍に局在化し易くなるが、隅部が角張っていると、この傾向が顕著となる。しかしながら、隅部を湾曲部とすると、ガスが湾曲部に沿って容易に流動するようなる。このことも、漏洩検査ガスがモニタスペース内で局在化することを防止することに寄与する。
【００３０】
いずれにおいても、前記基台に、前記載置台を変位させるための載置台変位手段を設けることが好ましい。この場合、載置台を引き出した状態で該載置台にワークを載置することができる。換言すれば、隔壁部材や隔壁部材変位手段、挟持盤、挟持盤変位手段等から離間した位置で載置作業を行うことが可能である。従って、これらの部材や手段が邪魔となることがない。特に、載置作業をロボットによって行うときには、ロボットのアームがこれらの部材や手段に干渉することが回避されるので、ティーチングが容易となる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、漏洩検査を行う際、ワークに漏洩があるか否かを検査するためにモニタスペースからサンプリングしたガスの一部のみを検査に使用するとともに、残部を、循環流通路を介してモニタスペースに戻す循環状態となるようにしている。このため、漏洩検査ガスがモニタスペースに順次蓄積され、高濃度となって検査ガス検出手段に送気される。従って、漏洩検査ガスの量を短時間で高精度に評価することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施の形態に係るガス式漏洩検査装置を模式的に示した全体概略正面図である。
【図２】図１のガス式漏洩検査装置の要部概略側面図である。
【図３】図１のガス式漏洩検査装置を構成する載置台の平面図である。
【図４】図１の要部拡大図である。
【図５】図１のガス式漏洩検査装置が具備する挟持盤を構成するシール部材の下方からの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、本発明に係るガス式漏洩検査装置につき好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照して詳細に説明する。なお、本実施の形態では、ミッション部品として組み立てられる前のケース部材につき漏洩検査を行うものとする。
【００３４】
図１は、本実施の形態に係るガス式漏洩検査装置１０を模式的に示した全体概略正面図である。このガス式漏洩検査装置１０は、載置台１２と隔壁部材１４とで形成されるチャンバ１６を有し、該チャンバ１６内にワークとしてのケース部材１８を収容する。
【００３５】
ここで、ミッション部品は、周知の通り、複数個のケース部材同士が連結されることによって構成されるものであり、トランスミッション及び潤滑油を収容するための内部空間を有する。ケース部材１８の底壁には、例えば、別のケース部材を連結する開口２０が形成される。また、該底壁や側壁、天井壁には、特開２００５−１８１２０７号公報に記載されるように、潤滑油圧検出孔、ドリブンプーリ油圧検出孔、後進用ブレーキ油圧検出孔、前進用クラッチ油圧検出孔、ドライブプーリ油圧検出孔等が貫通形成される。以下、これらの孔を特に区別せず、底壁に形成された貫通孔、側壁に形成された貫通孔、天井壁に形成された貫通孔を、それぞれ、「底壁貫通孔」、「側壁貫通孔」、「天井壁貫通孔」と指称するとともに、側壁貫通孔、天井壁貫通孔の各参照符号を２１、２２とする。なお、底壁貫通孔は図示していない。
【００３６】
ケース部材１８には、ミッション部品として組み立てられた際に前記内部空間を形成するための中空室２４が存在する。ガス式漏洩検査装置１０は、ケース部材１８の中空室２４から底壁、側壁、又は天井壁を介して検査ガスが漏洩した場合、これを検知するものである。
【００３７】
ガス式漏洩検査装置１０は、図２に示すように、作業ステーションの床上に設置される基台２６を有する。この基台２６は、第１支持台２８、第２支持台３０及び第３支持台３２（図１参照）を有し、この中の第１支持台２８には、載置台変位手段としての第１シリンダ３４（図２参照）が支持される。この第１シリンダ３４を構成する第１ロッド３６は、第２支持台３０に変位自在に設けられた載置台１２の下端面に対し、連結ブラケット３８を介して連結される。
【００３８】
図２に概略を示すように、第２支持台３０の上端面には、２本の案内レール４０ａ、４０ｂが互いに平行に延在して設けられる。案内レール４０ａ、４０ｂの各々にはスライダ４２が摺動自在に係合されるとともに、このスライダ４２に前記載置台１２が橋架される。従って、載置台１２は、第１ロッド３６が前進又は後退することに伴って、スライダ４２とともに案内レール４０ａ、４０ｂの延在方向に沿って変位する。
【００３９】
載置台１２の上端面には、その概略平面図である図３に示すように、ケース部材１８の底壁に形成された開口２０の形状に対応する形状の第１環状溝４４が形成される。この第１環状溝４４には、中空室２４に導入された検査ガスが開口２０から漏洩することを防止するための第１シール部材４６が収容される。また、載置台１２の上端面には、底壁貫通孔を閉塞するためのプラグ４８が複数個設けられるとともに、ケース部材１８を堰止して位置決め固定するための複数個のストッパ５０が取り外し可能に設けられる。従って、ケース部材１８は、その側壁がストッパ５０に堰止されることで位置決め固定される。
【００４０】
図１の要部概略図である図４に示すように、載置台１２には、その厚み方向に沿って、排気用孔５２、検査ガス導入孔５４及び検査ガス回収孔５５が貫通形成される（図１参照）。載置台１２上にケース部材１８が位置決め固定された際、ケース部材１８の中空室２４は、これら排気用孔５２、検査ガス導入孔５４及び検査ガス回収孔５５に連通する位置となる。
【００４１】
中空室２４には、中子５６が収容される。この中子５６が存在することにより、中空室２４の空間容積が低減する。従って、中空室２４から排気すべきガス、及び中空室２４に導入する検査ガスの量を低減することができる。
【００４２】
中子５６は、中空室２４に収容することが可能な寸法であり、且つ検査ガスを吸着ないし吸収しない物体であればよく、特に限定されるものではないが、鉄塊等のバルク体が好適な例として挙げられる。
【００４３】
排気用孔５２には、第１クリーンポンプ５８が接続された第１排気用配管６０が挿入される。また、検査ガス導入孔５４及び検査ガス回収孔５５には、それぞれ、図示しない検査ガス供給手段に個別に接続された検査ガス導入用配管６２、検査ガス回収用配管６３が挿入される。
【００４４】
なお、検査ガスとしては、ガス式漏洩検査で一般的に用いられるヘリウムや水素、アルゴン等を採用すればよいが、極少量の漏洩を検出することが求められるような場合、換言すれば、高精度に検出を行うような場合には、ヘリウムが好適である。アルゴンは直径が大きく、微細な割れからは漏洩することが容易でない（すなわち、微細な割れが存在することを検出することが容易ではない）のに対し、ヘリウムは直径が小さいために微細な割れからも漏洩するので、該割れが存在することを検出することが可能であるからである。しかも、後述するように、検査に使用したヘリウムを回収して再利用することも可能である。なお、ヘリウムを供給し得る手段としては、ボンベが挙げられる。
【００４５】
載置台１２には、基準ガス導入孔６４も厚み方向に沿って貫通形成される。この基準ガス導入孔６４は、ケース部材１８の中空室２４に連通せず、チャンバ１６内に連通する位置に形成されている。また、基準ガス導入孔６４に挿入された基準ガス導入用配管６６の一端には図示しない基準ガス供給手段が接続され、中空室２４に臨む残余の一端にはリークマスタ６８が接続される。リークマスタ６８は、載置台１２の上方に配置され、ケース部材１８とともにチャンバ１６に収容される。
【００４６】
このリークマスタ６８は、基準ガスを、予め決定された所定のリーク量でチャンバ１６に排出するように調整されている。
【００４７】
基準ガス供給手段は、基準ガス導入用配管６６及びチャンバ１６を介して基準ガスをモニタスペース６９（後述）に供給するためのものであり、その具体例としてはボンベが挙げられる。なお、基準ガスには、検査ガスと同一のガスを用いる。すなわち、検査ガスとしてヘリウムを用いる場合、基準ガスもヘリウムである。
【００４８】
基準ガス導入用配管６６からは、第２排気用配管７０が分岐して設けられる。この第２排気用配管７０は、第１排気用配管６０と合流して前記第１クリーンポンプ５８に接続される。この接続ラインには、圧力センサ７１が設けられる。
【００４９】
以上の構成において、第１排気用配管６０、検査ガス導入用配管６２、基準ガス導入用配管６６及び第２排気用配管７０には、第１バルブ７２、第２バルブ７４、第３バルブ７６及び第４バルブ７８がそれぞれ介装される。同様に、検査ガス回収用配管６３には、第５バルブ７９が設けられる。
【００５０】
載置台１２の上端面には、さらに、ケース部材１８を囲繞するようにして４本の支柱８０ａ〜８０ｄ（支持部材）が立設される。
【００５１】
これら支柱８０ａ〜８０ｄとしては、高さ方向寸法が種々相違するものが予め用意されており、その中から、漏洩検査を行うケース部材１８の高さ方向寸法と同一寸法のものが載置台１２に取り付けられる。すなわち、任意のケース部材１８に対して漏洩検査を行った後、このケース部材１８と高さ方向寸法が相違する別のケース部材に対して漏洩検査を行うときには、支柱８０ａ〜８０ｄが載置台１２から取り外された後、該別のケース部材の高さ方向寸法と同一寸法の支柱８０ａ〜８０ｄが載置台１２に取り付けられる。
【００５２】
ケース部材１８は、チャンバ１６内において、上記したように構成される載置台１２と、挟持盤８２とで挟持される。この挟持盤８２は、ケース部材１８に当接するシール用部材８４と、下端面に該シール用部材８４が取り付けられ、且つ該シール用部材８４に比して幅広な支持盤８６とを有する。
【００５３】
この中、シール用部材８４におけるケース部材１８に臨む下端面には、図５に示すように、ケース部材１８の天井壁に形成された比較的大径の天井壁貫通孔２２の形状に対応する形状の第２環状溝８８が形成される。この第２環状溝８８には、検査ガスが前記天井壁貫通孔２２から漏洩することを防止するための第２シール部材９０が収容される。また、この端面には、小径な天井壁貫通孔２２を閉塞するためのプラグ９２が複数個設けられる。
【００５４】
一方の支持盤８６の幅方向隅部には、図１に示すように、第１ファン９４（撹拌手段）がそれぞれ設けられる。これらの第１ファン９４は、チャンバ１６内、特にモニタスペース６９内のガスを撹拌するためのものである。各第１ファン９４は鉛直方向に臨んでおり、従って、第１ファン９４は、モニタスペース６９内のガスに対し、鉛直方向に沿う対流を起こさせる。すなわち、モニタスペース６９内のガスは、第１ファン９４の作用下に、該モニタスペース６９内で上昇と下降を繰り返す。
【００５５】
支持盤８６には、第１ファン９４と別の位置に複数個のブラケット９６が設けられる。各ブラケット９６には、第２シリンダ９８（閉塞部材変位手段）がそれぞれ支持される。
【００５６】
第２シリンダ９８を構成する第２ロッド１００の先端には、ケース部材１８の側壁貫通孔２１の位置に対応する位置に閉塞部材１０２が設けられる。勿論、閉塞部材１０２は、第２ロッド１００が前進したときに側壁貫通孔２１に進入して該側壁貫通孔２１を閉塞し、後退したときに側壁貫通孔２１から離脱する。
【００５７】
支持盤８６の上端面には、第３シリンダ１０４（挟持盤変位機構）を構成する第３ロッド１０６が連結される。この第３ロッド１０６が前進（下降）又は後退（上昇）することに追従し、挟持盤８２がケース部材１８に対して接近又は離間する方向に変位する。
【００５８】
チャンバ１６を構成する隔壁部材１４の底面には、第３シール部材１０８が貼付される。この第３シール部材１０８は、載置台１２と隔壁部材１４との間をシールする。
【００５９】
支持盤８６と隔壁部材１４の天井壁との間に画成される空間に存在するガスは、サンプリングガスとしてチャンバ１６外に導出される。前記モニタスペース６９は、サンプリングガスが得られる当該空間を指称しており、以下においても同様である。
【００６０】
また、隔壁部材１４の左側面上方及び右側面下方には、撹拌手段である第２ファン１１０がそれぞれ設けられる。各第２ファン１１０は水平方向に臨んでおり、このため、第２ファン１１０は、モニタスペース６９内のガスに対し、水平方向に沿う対流を起こさせる。換言すれば、モニタスペース６９内には、第１ファン９４の作用下に上昇と下降を繰り返す流れが生じる一方、第２ファン１１０の作用下に左方から右方又はその逆方向に移動する流れが生じる。
【００６１】
隔壁部材１４の左側面上方には、第１循環用孔１１２及び第２循環用孔１１４が形成され、これら第１循環用孔１１２及び第２循環用孔１１４の各々には、図１に示すように、循環用配管１１６（循環流通路）を構成する往路配管１１８及び復路配管１２０が挿入される。なお、本実施の形態では、第１循環用孔１１２からサンプリングライン１２１に至るまでを往路配管１１８とするとともに、サンプリングライン１２１から第２循環用孔１１４に至るまでを復路配管１２０とする。ここで、サンプリングライン１２１は、循環用配管１１６から分岐するようにして設けられている。
【００６２】
サンプリングライン１２１は、漏洩検査ガス検出手段としてのディテクタ１２２の入口接続継手に接続される。なお、往路配管１１８には吸気ポンプ１２３及び第１電磁弁１２４が介装されており、この中の第１電磁弁１２４が切り替えられることに伴い、往路配管１１８又はプローブ用配管１２６のいずれかが選択的に開放ないし閉塞される。これにより、往路配管１１８内のガス、又はプローブ用配管１２６内のガスのいずれか一方が、選択的にディテクタ１２２に導かれる。
【００６３】
また、ディテクタ１２２の出口接続継手には、サンプリングガス排出管１２９が接続される。
【００６４】
一方、復路配管１２０には第２電磁弁１３０が介装されている。この第２電磁弁１３０が切り替えられることに伴い、復路配管１２０又はラインクリーニング用配管１３２のいずれかが選択的に開放ないし閉塞される。これにより、復路配管１２０内のガスがモニタスペース６９、又は前記ラインクリーニング用配管１３２に接続された第２クリーンポンプ１３４のいずれかに選択的に導かれる。
【００６５】
また、隔壁部材１４の右側面上方には、クリーニング用孔１３６が貫通形成される。このクリーニング用孔１３６には、二方バルブ１３８が介装されたチャンバクリーニング用配管１４０が接続される。このチャンバクリーニング用配管１４０と、前記第１クリーンポンプ５８に接続された出口配管１４２は、前記第２クリーンポンプ１３４に接続される。すなわち、第２クリーンポンプ１３４には、ラインクリーニング用配管１３２、チャンバクリーニング用配管１４０及び出口配管１４２が接続されている。
【００６６】
隔壁部材１４の側壁と天井壁の境界には、湾曲部１４４が形成される。換言すれば、隔壁部材１４の内方の隅部は湾曲されている。
【００６７】
さらに、隔壁部材１４の天井壁には、挿通孔１４６が貫通形成される。前記第３ロッド１０６は、この挿通孔１４６に通されて支持盤８６の上端面に連結されている。勿論、挿通孔１４６の内壁と第３ロッド１０６の側壁との間は、シール部材（図示せず）によってシールされる。
【００６８】
前記天井壁の外方上端面には、第４シリンダ１４８（隔壁部材変位機構）を構成する第４ロッド１５０が連結される。隔壁部材１４は、これら第４ロッド１５０が前進（下降）又は後退（上昇）することに追従し、載置台１２に対して接近又は離間する方向に変位する。勿論、第４ロッド１５０は、互いに同期して下降又は上昇する。
【００６９】
以上の構成において、第３シリンダ１０４及び第４シリンダ１４８は、基台２６の前記第３支持台３２に支持される（図２参照）。また、圧力センサ７１及びディテクタ１２２は、それぞれ、信号線１５２、１５４を介して制御回路１５６に電気的に接続される。
【００７０】
本実施の形態に係るガス式漏洩検査装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その作用効果につき、校正方法及び漏洩検査方法との関係で説明する。
【００７１】
はじめに、予め校正されたリークマスタ６８を取り付ける。すなわち、リークマスタ６８は、例えば、０．５ｃｃ／分で検査ガスを導出するように設定された場合、略正確に０．５ｃｃ／分で検査ガスを導出することが可能である。
【００７２】
また、ディテクタ１２２に対しても校正を行う。このために、例えば、基準ガス導入用配管６６から分岐してディテクタ１２２に接続される配管（図示せず）を設け、ディテクタ１２２に基準ガスを導入するようにしてもよい。
【００７３】
そして、第１シリンダ３４を付勢し、第１ロッド３６を前進させる。これに追従し、連結ブラケット３８を介して第１ロッド３６に連結された載置台１２が、案内レール４０ａ、４０ｂに案内されながら第２支持台３０から引き出されて突出する。勿論、この際には、案内レール４０ａ、４０ｂ上をスライダ４２が摺動する。
【００７４】
次に、載置台１２に対し、中子５６を載置する。中子５６は特に位置決め固定する必要はないが、位置決め固定するようにしてもよいことは勿論である。
【００７５】
その後、漏洩が起こらないことが予め確認されたケース部材１８を載置台１２に載置する。この載置に伴い、載置台１２上に予め載置された中子５６がケース部材１８の中空室２４に収容される。
【００７６】
載置台１２が第２支持台３０の前方に引き出されているため、ケース部材１８が隔壁部材１４や基台２６等に干渉することが回避されるので、ケース部材１８を載置台１２に容易に載置することができる。特に、ケース部材１８をロボットによって載置台１２に載置するときには、ロボットのアームも隔壁部材１４や基台２６等に干渉することが回避される。このため、ロボットに対するティーチングが容易となる。
【００７７】
ケース部材１８が載置台１２に載置される際、ケース部材１８に形成された開口２０近傍の底壁に第１シール部材４６（図３参照）が当接するとともに、ケース部材１８の底壁貫通孔にプラグ４８が進入する。底壁貫通孔は、最終的に、プラグ４８によって閉塞される。このことと、ケース部材１８の側壁がストッパ５０によって堰止されることとが相俟って、ケース部材１８が載置台１２に位置決め固定される。
【００７８】
次に、第１シリンダ３４（図２参照）を再付勢し、第１ロッド３６を後退させる。その結果、載置台１２が案内レール４０ａ、４０ｂに案内されながら第２支持台３０に戻り、基台２６に収納される。これにより、ケース部材１８が隔壁部材１４に対向する位置となる。
【００７９】
次に、第３シリンダ１０４を付勢し、第３ロッド１０６を下降させる。これに伴って下降した挟持盤８２のシール用部材８４は、ケース部材１８の天井壁、及び４本の支柱８０ａ〜８０ｄの上端面に着座する。支柱８０ａ〜８０ｄの高さ方向寸法がケース部材１８の高さ方向寸法と同一であるため、シール用部材８４は、ケース部材１８の天井壁と、４本の支柱８０ａ〜８０ｄの上端面とに対して同時に当接する。
【００８０】
この当接により、挟持盤８２を構成する支持部材が支柱８０ａ〜８０ｄから支持される。このため、挟持盤８２に作用する反力が分散されるので、該挟持盤８２が反ることが回避される。その結果、ケース部材１８の天井壁とシール用部材８４との間に間隙が形成されることが回避され、両部材間のシールが保たれる。
【００８１】
シール用部材８４がケース部材１８に着座すると、ケース部材１８に形成された大径な天井壁貫通孔２２近傍の天井壁に第２シール部材９０（図５参照）が当接するとともに、ケース部材１８の小径な天井壁貫通孔２２にプラグ９２が進入する。すなわち、小径な天井壁貫通孔２２がプラグ９２によって閉塞される。
【００８２】
次に、支持盤８６に支持された第２シリンダ９８を付勢し、第２ロッド１００をケース部材１８に指向して前進動作させる。これにより、第２ロッド１００の先端に設けられた閉塞部材１０２がケース部材１８の側壁貫通孔２１に進入して該側壁貫通孔２１を閉塞する。
【００８３】
以上によりケース部材１８の全ての開口２０・貫通孔がシールされ、中空室２４が大気に対して遮断されて気密状態となる。
【００８４】
次に、第４シリンダ１４８を同期して付勢し、第４ロッド１５０を同時に下降させる。これに追従して隔壁部材１４が下降し、最終的に、その底壁が載置台１２の上端面に着座する。これにより、チャンバ１６が形成される。隔壁部材１４の底壁と載置台１２の上端面の間は、第３シール部材１０８によってシールされる。
【００８５】
次に、ガス式漏洩検査装置１０の校正を行う。具体的には、第１ファン９４及び第２ファン１１０を付勢し、モニタスペース６９内のガスに、左方から右方又はその逆方向に移動する流れと、上方から下方又はその逆方向に移動する流れとを生じさせる。この状態で、第３バルブ７６を開状態とするとともに、前記基準ガス供給手段（ボンベ等）から基準ガスを供給する。基準ガスは、その後、基準ガス導入用配管６６を通過し、リークマスタ６８からチャンバ１６内に導出され、さらに、該チャンバ１６内を上昇してモニタスペース６９に到達する。
【００８６】
リークマスタ６８からチャンバ１６、ひいてはモニタスペース６９への基準ガスの導出流量は、予め設定された所定流量で一定である。なお、基準ガスのチャンバ１６内への導出量ないし導出流量は、好ましくは、後述する漏洩検査時における検査ガスの中空室２４内への導出量ないし導出流量と同一値に設定される。
【００８７】
そして、基準ガスは、モニタスペース６９内に存在していたガス、すなわち、大気と混ざる。
【００８８】
基準ガスがヘリウムである場合、ヘリウムが空気に比して軽量であるためにモニタスペース６９内の天井壁近傍に滞留し易い。特に、モニタスペース６９の隅部が角張っているときには、ヘリウム等の軽量なガスは、隅部に容易に滞留して局在化する。このため、基準ガスを、往路配管１１８及びサンプリングライン１２１を経由してディテクタ１２２に到達させることが容易ではない。従って、モニタスペース６９内の基準ガスの正確な量を評価することも容易ではない。
【００８９】
しかしながら、本実施の形態では、第１ファン９４及び第２ファン１１０の作用下にモニタスペース６９内のガスを撹拌するようにしている。しかも、隔壁部材１４の隅部には湾曲部１４４が形成されているので、ガスが湾曲部１４４に沿って容易に流動する。以上のような理由から、基準ガスとしてヘリウムのような軽量なガスを用いた場合であっても、該基準ガスがモニタスペース６９内で局在化することが防止される。
【００９０】
リークマスタ６８から基準ガスを導出している間、支持盤８６と隔壁部材１４の天井壁との間に画成されるモニタスペース６９中のガスが、吸気ポンプ１２３の作用下に吸気され、往路配管１１８及びサンプリングライン１２１を経てディテクタ１２２に送られる。すなわち、モニタスペース６９に存在するガスは、ディテクタ１２２によって検査を行うために抽出されるサンプリングガスである。
【００９１】
本実施の形態では、上記したような理由から、基準ガスがモニタスペース６９内で局在化することが防止されている。従って、サンプリングガスには、基準ガスが略一定量で含まれる。
【００９２】
往路配管１１８に導かれたサンプリングガスの一部は、該往路配管１１８及びサンプリングライン１２１を経てディテクタ１２２に送られる。しかも、サンプリングガスの残部を、復路配管１２０を介してモニタスペース６９に戻すようにしているので、校正を行う間、安定した量の基準ガスを含むサンプリングガスがディテクタ１２２に導入される。このため、ガス式漏洩検査装置１０を、モニタスペース６９内への基準ガスの導入量に対応して高精度に校正することが可能となる。
【００９３】
ディテクタ１２２は、リークマスタ６８から導出された基準ガスを検知する。ここで、基準ガスがヘリウムである場合には、ディテクタ１２２は、モニタスペース６９内のガス（すなわち、大気）に含まれるヘリウムの量と、基準ガスとしてのヘリウムの量との総和としての値を示すとともに、この値を、信号線１５２を介して制御回路１５６に情報として送信する。制御回路１５６は、このときの検出量を「基準値」として認識する。なお、大気中には、一般的に５ｐｐｍ程度のヘリウムが含まれている。
【００９４】
以上説明したように、ガス式漏洩検査装置１０の校正を行う際には、漏洩検査を行う際と同様に、載置台１２に対してケース部材１８及び中子５６をセットするとともに、挟持盤８２によってケース部材１８を押圧することが好ましい。これにより、校正時の条件と漏洩検査時の条件とが同一となるからである。
【００９５】
また、ケース部材１８として漏洩が起こらないものを使用することは勿論である。ケース部材１８から漏洩が起こる場合、ケース部材１８から漏洩したガスがモニタスペース６９内のガスに混入することになるので、正確な校正を行うことができなくなる。これを回避するためである。
【００９６】
このようにして校正を行った後、漏洩検査を実施するべく下準備を行う。
【００９７】
すなわち、モニタスペース６９をはじめとし、チャンバ１６内には基準ガスが導入されている。この状態のままで隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させると、載置台１２の近傍に基準ガスが残留する懸念がある。この場合、漏洩検査においてディテクタ１２２に示される値が基準値を超えたとき、中空室２４からチャンバ１６に漏洩してモニタスペース６９に到達した検査ガスに起因するのか、又は、残留した基準ガスに起因するのかを判断することが困難である。そこで、モニタスペース６９に存在するガスを排気する。なお、具体的な排気方法は、後述する漏洩検査時と同一であるため、ここでは割愛する。
【００９８】
排気が終了した後、隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させる。さらに、第１シリンダ３４を付勢して第１ロッド３６を前進させ、これにより載置台１２を第２支持台３０の前方に引き出した後、ケース部材１８を、漏洩検査を実施するものに交換する。
【００９９】
以降は上記と同様にして、第１シリンダ３４を再付勢することで第１ロッド３６を後退させた後、第３シリンダ１０４を付勢して第３ロッド１０６を下降させる。さらに、第２シリンダ９８を付勢して第２ロッド１００を前進させる。その結果、既に詳述した通り、ケース部材１８の全ての開口２０・貫通孔がシールされ、中空室２４が大気に対して遮断されて気密状態となる。これと同時に、第４シリンダ１４８の第４ロッド１５０を下降させ、隔壁部材１４の底壁を載置台１２の上端面に着座させてチャンバ１６を形成する。
【０１００】
以上の下準備を行った後、漏洩検査を実施する。
【０１０１】
はじめに、第１ファン９４及び第２ファン１１０を付勢し、モニタスペース６９内のガスに、左方から右方又はその逆方向に移動する流れと、上方から下方又はその逆方向に移動する流れとを生じさせる。
【０１０２】
次に、第１クリーンポンプ５８及び第２クリーンポンプ１３４を付勢し、第１バルブ７２を開状態とする。これにより、ケース部材１８の中空室２４からガスが排気される。中空室２４には中子５６が収容されているので、排気すべきガスの量が比較的少ない。このため、中空室２４を排気するまでに要する時間が短くなる。
【０１０３】
この際には、前記圧力センサ７１によって中空室２４の内圧が測定される。その測定結果は、信号線１５４を介して制御回路１５６に送られる。
【０１０４】
内圧の実降下速度は、合格品であるケース部材１８を用いての測定結果に基づいて制御回路１５６に予め設定された設定降下速度と対比される。なお、所定時間の経過によって略一定となった内圧（実最終内圧）と、合格品であるケース部材１８を用いての測定結果に基づいて制御回路１５６に予め設定された設定最終内圧とを対比するようにしてもよい。
【０１０５】
実降下速度が設定降下速度未満であるときには、ケース部材１８に漏洩箇所があるか、又は、ケース部材１８と載置台１２ないし挟持盤８２との間のシールが不十分であることが一因である可能性がある。そこで、この場合、隔壁部材１４を上昇させてケース部材１８を露呈させ、さらに、該ケース部材１８を載置台１２から一旦取り外す。
【０１０６】
次に、第１シール部材４６や第２シール部材９０、第３シール部材１０８、プラグ４８、９２、閉塞部材１０２等に、傷が存在するか否かや、位置ズレをおこしていないか否か、いわゆるめくれがあるか否か等を調査する。このようなシール機能を低下させる原因がある場合には、これらを交換したり、正規位置に正規姿勢で装着し直したりすればよい。
【０１０７】
シール機能を低下させる原因がないと判断された場合、ケース部材１８の漏洩箇所を特定し、補修が可能なものは補修ステーションで補修を行う。その後、上記した各工程が再度実施される。
【０１０８】
なお、ケース部材１８を載置台１２から取り外すことなく、後述するように検査ガスを中空室２４に導入するとともに、プローブ１２８によって漏洩箇所を特定するようにしてもよい。
【０１０９】
一方、実降下速度が設定降下速度以上であるとき、又は実最終内圧が設定最終内圧以下であるときには、ケース部材１８に漏洩箇所がある可能性が低く、ケース部材１８と載置台１２ないし挟持盤８２との間のシールが十分である、と判断することができる。この場合のケース部材１８は予備合格品であると判定され、次工程以降が実施される。
【０１１０】
すなわち、次に、第１バルブ７２を閉止した後に第２バルブ７４を開放し、検査ガス供給手段（ボンベ等）から検査ガス導入用配管６２を介して中空室２４に検査ガスを供給する。検査ガスは、予め設定された所定の圧力となるまで、一定流量で中空室２４に導入される。中空室２４には中子５６が収容されているので、導入すべき検査ガスの量が比較的少なくなる。このため、中空室２４が検査ガスで満たされるまでに要する時間が短くなる。
【０１１１】
このように、中空室２４に中子５６を収容することにより、該中空室２４内のガスを排気するまでに要する時間、及び該中空室２４内を検査ガスで満たすまでに要する時間を短くすることが可能となる。従って、漏洩検査開始から終了までのタクトタイムを短縮することができる。
【０１１２】
中空室２４が検査ガスで満たされた後も、モニタスペース６９内のガスは、上記と同様に第１ファン９４及び第２ファン１１０の作用下に撹拌され、隔壁部材１４の隅部の湾曲部１４４に沿って容易に流動する。最終的に、モニタスペース６９に存在するガスが、サンプリングガスとして往路配管１１８に導出され、その一部が、サンプリングライン１２１を経てディテクタ１２２に導かれる。ディテクタ１２２に導かれなかった残部は、上記と同様に、復路配管１２０を通過してモニタスペース６９に戻る。すなわち、本実施の形態では、モニタスペース６９のガス（大気）を排気することなく、ケース部材１８に漏洩箇所が存在するか否かの検査を行う。
【０１１３】
ディテクタ１２２は、サンプリングガス中に含まれる検査ガスの量を求めた後、信号線１５２を介して、その値を情報として制御回路１５６に送る。制御回路１５６は、この情報と、前記基準値とを対比する。
【０１１４】
ケース部材１８に漏洩箇所が存在しないときには、中空室２４の検査ガスがチャンバ１６に漏洩することはない。モニタスペース６９内のガス（すなわち、大気）に自然に含まれる基準ガス（例えば、ヘリウム）と同一種のガスがディテクタ１２２によって検出されはするものの、基準値は、モニタスペース６９内のガスに自然に存在する基準ガスと同一種のガスの量と、リークマスタ６８から意図的に供給された基準ガス（例えば、ヘリウム）の量との総和としての値であるので、中空室２４の検査ガスがチャンバ１６に漏洩しないときには、ディテクタ１２２によって測定された値が前記基準値を大きく超えることはない。
【０１１５】
この場合、制御回路１５６は、ケース部材１８を「合格品である」と判定する。合格品であると判定されたケース部材１８は、ガス式漏洩検査装置１０から取り出されて次工程を営むステーションに送られる。
【０１１６】
ここで、ケース部材１８の中空室２４には、上記の漏洩検査を行うための検査ガスが導入されている。この状態のままで隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させると、載置台１２の近傍に、漏洩検査時の検査ガスが残留する懸念がある。この場合、次回の漏洩検査においてディテクタ１２２に示される値が基準値を超えたとき、中空室２４からモニタスペース６９に漏洩した検査ガスに起因するのか、又は、残留した検査ガスに起因するのかを判断することが困難である。
【０１１７】
このような不都合が惹起されることを回避するべく、中空室２４内及びモニタスペース６９内に存在するガスを排気する。すなわち、第２バルブ７４及び／又は第３バルブ７６を閉止し、第１バルブ７２、第４バルブ７８及び／又は二方バルブ１３８を開放する。これにより、中空室２４内及び基準ガス導入用配管６６内の検査ガス、基準ガスが第１排気用配管６０、第２排気用配管７０を介して第１クリーンポンプ５８に吸引され、さらに、第２クリーンポンプ１３４の作用下に出口配管１４２を経て排気される。また、モニタスペース６９内のガスが、第２クリーンポンプ１３４の作用下に、チャンバクリーニング用配管１４０を経て排気される。
【０１１８】
この排気に先んじて、第２電磁弁１３０が切り替えられる。その結果、復路配管１２０が閉塞されるとともにラインクリーニング用配管１３２が開放される。これにより、循環用配管１１６のガスがラインクリーニング用配管１３２を介して第２クリーンポンプ１３４に吸引される。すなわち、循環用配管１１６のガスが排気され、クリーニングが行われる。
【０１１９】
中空室２４内に存在する検査ガスは、回収用ポンプ１５８の作用下に検査ガス回収用配管６３を介して回収し、さらに、クリーニング処理を施して純度を高めた後、検査ガス供給源に戻すようにしてもよい。この際には、第５バルブ７９を開放すればよい。
【０１２０】
その後、第２シリンダ９８を付勢して第２ロッド１００を後退させ、閉塞部材１０２をケース部材１８の側壁貫通孔２１から離脱させる。
【０１２１】
次に、第４シリンダ１４８及び第３シリンダ１０４を付勢して第４ロッド１５０、第３ロッド１０６を上昇させることで、隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させる。必要に応じ、この上昇に先んじてモニタスペース６９内、中空室２４内に空気を供給するようにしてもよい。このためには、空気を導入するための空気導入管をモニタスペース６９内、中空室２４内にそれぞれ配設するとともに、空気供給源から前記空気導入管に空気を供給するようにすればよい。
【０１２２】
隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させることにより、挟持から解放されたケース部材１８が露呈する。次に、第１シリンダ３４を付勢して第１ロッド３６を前進させ、これにより載置台１２を第２支持台３０の前方に引き出す。その後、ケース部材１８が作業者ないしロボットによって載置台１２から取り外され、別のステーションに搬送される。これにより一連の漏洩検査が終了する。
【０１２３】
その後、次にガス式漏洩検査装置１０に搬送されてきたケース部材１８に対し、上記と同様にして漏洩検査が実施される。このときには、前回の漏洩検査のときに用いられた検査ガスが除去されているので、前回の漏洩検査時の検査ガスに起因して検出精度が低下することが回避される。
【０１２４】
一方、ケース部材１８に漏洩箇所が存在するときには、中空室２４に導入された検査ガスが漏洩箇所を通過してチャンバ１６に漏洩する。検査ガスがヘリウム等の空気に比して軽量なガスである場合、漏洩した検査ガス（以下、単に漏洩ガスともいう）は、モニタスペース６９まで上昇して該モニタスペース６９内のガス（大気）と混ざり合う。
【０１２５】
本実施の形態では、第１ファン９４及び第２ファン１１０の作用下にモニタスペース６９内のガスを撹拌するようにしている。しかも、隔壁部材１４の隅部に湾曲部１４４が形成されているので、漏洩ガスが湾曲部１４４に沿って容易に流動する。以上のような理由から、検査ガスとしてヘリウムのような軽量なガスを用いた場合であっても、該検査ガスがモニタスペース６９内で局在化することが防止される。すなわち、この場合、大気に漏洩ガスが加わったものがサンプリングガスとして往路配管１１８に導かれる。
【０１２６】
以降も上記と同様に、サンプリングガスの一部が往路配管１１８及びサンプリングライン１２１を経由した後にディテクタ１２２に至るとともに、残部が復路配管１２０を通過してモニタスペース６９に戻る。
【０１２７】
この過程で、ディテクタ１２２が、校正によって求められた前記基準値を超える値を示す。ディテクタ１２２に導かれたサンプリングガスには漏洩ガスが含まれており、このため、ディテクタ１２２には、漏洩ガスの総和として検出量を示すからである。検査ガスと同一種のガス（例えば、ヘリウム）が大気に含まれている場合は、ディテクタ１２２が、この大気中の検査ガス成分も併せた検出量を示すことは勿論である。
【０１２８】
ディテクタ１２２は、前記の値を、信号線１５２を介して情報として制御回路１５６に送信する。この情報を受けた制御回路１５６は、ケース部材１８は「不合格品である」と判定する。
【０１２９】
ここで、漏洩ガスのモニタスペース６９内での拡散が一様でないときには、サンプリング箇所によって、ガス中の漏洩ガスの濃度（量）が相違することになる。従って、漏洩ガスの正確な量、ひいては漏洩箇所の規模を正確に評価し得なくなる懸念がある。
【０１３０】
また、モニタスペース６９内のガスを排気しながら中空室２４から漏洩が起こるか否かを検査する場合、中空室２４からチャンバ１６に漏洩してモニタスペース６９に到達したガスが比較的短時間で排気されてしまう。従って、漏洩ガスの量が僅かであるときには、漏洩ガスの全量が排気される懸念がある。一部が排気されるとともに残部がディテクタ１２２に到達し得たと仮定しても、漏洩ガスが如何なる程度排気されたのかが不明であるため、漏洩ガスの量を正確に評価することが困難である。
【０１３１】
従って、検査ガスの導入を開始してからある程度の時間を置き、漏洩ガスが十分な量となったときに漏洩検査を行う必要があるが、このために漏洩検査に長時間を要する。
【０１３２】
さらに、チャンバ１６内を大気圧とする場合であっても、例えば、排気ラインに流通するガスをサンプリングガスとすると、漏洩ガスの量が僅かであるときにはサンプリングガス中の漏洩ガスの濃度が小さいため、ディテクタ１２２に表示される漏洩ガス量が若干大きくなったとしても、漏洩ガスによって値が大きくなったのか、測定誤差の範囲内で大きくなったのかを判断することが困難である。
【０１３３】
加えて、チャンバ１６ないしモニタスペース６９からサンプリングガスを採取して測定を行った後、該サンプリングガスをそのまま排気してしまう場合には、ケース部材１８の中空室２４からの漏洩よりも、サンプリングガスの排気量が多いために漏洩を検知できない懸念もある。
【０１３４】
これに対し、本実施の形態では、モニタスペース６９内にガスの流れを生じさせ、漏洩ガスの滞留が起こることを回避するようにしている。このため、漏洩ガスが極めて僅かである場合であっても、漏洩ガスは、モニタスペース６９内に局在化することなく略均等に拡散する。従って、往路配管１１８を設ける箇所、換言すれば、サンプリング箇所を如何なる部位に設定しようとも、漏洩ガスの濃度が略同等であるため、漏洩量を高精度に評価することが可能となる。
【０１３５】
また、モニタスペース６９内のガスを取り出して一部をディテクタ１２２に送気する一方で、ディテクタ１２２に送気されなかった残部をモニタスペース６９に戻す（すなわち、ガスを循環させる）ようにしているので、モニタスペース６９内の漏洩ガスが順次蓄積され、高濃度となってディテクタ１２２に送気される。このため、漏洩量、ひいては漏洩の規模をリアルタイムに、しかも、高精度に評価することができる。
【０１３６】
すなわち、本実施の形態によれば、漏洩の程度に関わらず、計測を行う間は連続して漏洩の有無を確認することが可能であり、一定時間待機する必要がない。さらに、ケース部材１８の中空室２４の容量が大きいながら漏洩量が微小である場合であっても、その漏洩を容易に検知することができる。
【０１３７】
なお、検査ガスの中空室２４内への導出量ないし導出流量を、基準ガスのチャンバ１６内への導出量ないし導出流量に合致させておくと、中空室２４からの検査ガスの漏洩量を一層高精度に評価することができる。
【０１３８】
さらに、チャンバ１６内のガスを排気しながら漏洩検査を行う場合には、ポンプ等の排気手段が故障する頻度が大きい。故障した場合、排気手段の修繕が終了するまで漏洩検査を行うことができないので時間の損失となるが、本実施の形態では、そのような不都合が惹起されることもない。
【０１３９】
本実施の形態では、基準ガスを用いたときのディテクタ１２２の表示値を基準値として校正しているので、基準値は、大気中に自然に存在する基準ガスと同一種のガス（例えば、ヘリウム）を含んだものとして設定されている。従って、このガスと同一種のガスを基準ガス及び検査ガスとして用いる場合であっても、ディテクタ１２２は、漏洩ガスの量に基づいた値を表示する。すなわち、大気中に存在する基準ガスと同一種のガスによって漏洩ガスの検出精度が低下することが回避される。
【０１４０】
以上のようにして漏洩ガスがディテクタ１２２によって検出され、制御回路１５６によって漏洩箇所が存在すると判断されたケース部材１８に対しては、次に、漏洩箇所が何処に存在するのかの調査がなされる。この調査を行うべく、チャンバ１６内のガスを第２クリーンポンプ１３４の作用下に排気した後、第４ロッド１５０を上昇させて隔壁部材１４を上昇させる。これにより、載置台１２と挟持盤８２で挟持され、且つ検査ガスが中空室２４に導入された状態のケース部材１８が露呈する。なお、隔壁部材１４の上昇に先んじてチャンバ１６内に空気を供給するようにしてもよい。
【０１４１】
次に、第１電磁弁１２４が切り替えられる。これに伴い、往路配管１１８が閉塞される一方、プローブ用配管１２６が開放される。従って、ディテクタ１２２には、プローブ１２８に吸引されたガスが導かれる。
【０１４２】
作業者は、プローブ１２８を把持してその先端をケース部材１８に近接させ、さらに、ケース部材１８に沿ってプローブ１２８を走査する。漏洩箇所でない部位では漏洩ガスが漏洩していないため、プローブ１２８に漏洩ガスが吸引されることはない。従って、ディテクタ１２２の表示値が漏洩ガスに基づいて上昇することもない。
【０１４３】
一方、漏洩箇所では、プローブ１２８によって漏洩ガスが吸引される。漏洩箇所近傍では漏洩ガスの濃度が高いため、ディテクタ１２２の表示値が比較的短時間で上昇する。これにより、漏洩箇所が何処に存在するかをおおよそ判断することができる。
【０１４４】
隔壁部材１４に第２シリンダ９８を設けた場合、第２ロッド１００を後退させて閉塞部材１０２をケース部材１８の側壁貫通孔２１から離脱させた後でなければ、隔壁部材１４を上昇させることができない。従って、この場合、隔壁部材１４を上昇させると、ケース部材１８は、中空室２４が大気に連通した状態で露呈する。すなわち、中空室２４の検査ガスが側壁貫通孔２１から導出されるので、上記したようにして漏洩箇所が何処であるかを判断することができない。
【０１４５】
これに対し、本実施の形態では、第２シリンダ９８を挟持盤８２に設けるようにしているので、隔壁部材１４が第２シリンダ９８に干渉することがない。このため、第２ロッド１００を後退させることなく、換言すれば、ケース部材１８の側壁貫通孔２１に閉塞部材１０２を挿入したままの状態で、第４ロッド１５０及び隔壁部材１４を上昇させることができる。すなわち、中空室２４内に検査ガスが封入された状態のケース部材１８を露呈することができるので、プローブ１２８によって漏洩箇所のおおよその位置を判断することができる。
【０１４６】
おおよその漏洩箇所を特定した後は、第１クリーンポンプ５８の作用下に、中空室２４内に存在する検査ガスを排気する。検査ガスは、出口配管１４２を経た後、第２クリーンポンプ１３４の作用下に排気される。
【０１４７】
この際、漏洩箇所（鋳造欠陥等）の規模が小さいときには、排気速度が比較的大きく、真空到達度も比較的大きい。このように漏洩の規模が著しく小さく、実用上の差し支えがないときには、ケース部材１８は「合格品である」と判定される。
【０１４８】
その後、第２シリンダ９８を付勢して第２ロッド１００を後退させ、これにより、閉塞部材１０２をケース部材１８の側壁貫通孔２１から離脱させる。さらに、第３シリンダ１０４を付勢して第３ロッド１０６を上昇させ、挟持盤８２を上昇させる。その結果、ケース部材１８が挟持から解放される。必要に応じ、側壁貫通孔２１からの閉塞部材１０２の離脱、挟持盤８２の上昇に先んじて、中空室２４内に空気を供給するようにしてもよい。
【０１４９】
次に、第１シリンダ３４を付勢して第１ロッド３６を前進させ、これにより載置台１２を第２支持台３０の前方に引き出す。その後、ケース部材１８が作業者ないしロボットによって載置台１２から取り外され、次工程を実施すべきステーションに搬送される。
【０１５０】
一方、漏洩箇所の規模が大きいときには、排気速度が小さい。また、真空到達度も小さい。漏洩箇所から中空室２４に大気が吸引されるからである。
【０１５１】
この場合、漏洩箇所からは無視できない程度の漏洩が起こる。このようなケース部材１８は「不合格品である」と判定される。
【０１５２】
形状や高さ方向寸法が相違するケース部材１８に対して上記した漏洩試験を行う場合には、載置台１２、支柱８０ａ〜８０ｄ、ストッパ５０及びシール用部材８４を、該ケース部材１８に対応する形状ないし寸法のものに交換すればよい。このことから諒解されるように、本実施の形態に係るガス式漏洩検査装置１０は、多種多様なケース部材１８に対応し得る汎用性を有する。
【０１５３】
本発明は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【０１５４】
例えば、ケース部材１８以外の物体をワークとして漏洩検査を行うようにしてもよい。
【０１５５】
また、検査ガスはヘリウムに限定されるものではなく、水素等であってもよい。勿論、基準ガスと検査ガスは同一種のガスを用いる。水素を用いる場合、防爆構造を採用することが好ましい。
【符号の説明】
【０１５６】
１０…ガス式漏洩検査装置 １２…載置台
１４…隔壁部材 １６…チャンバ
１８…ケース部材 ２０…開口
２１…側壁貫通孔 ２２…天井壁貫通孔
２４…中空室 ２６…基台
３４…第１シリンダ ３６…第１ロッド
４４…第１環状溝 ４６…第１シール部材
４８、９２…プラグ ５０…ストッパ
５６…中子 ５８…第１クリーンポンプ
６０…第１排気用配管 ６２…検査ガス導入用配管
６３…検査ガス回収用配管 ６６…基準ガス導入用配管
６８…リークマスタ ６９…モニタスペース
７０…第２排気用配管 ７１…圧力センサ
８０ａ〜８０ｄ…支柱 ８２…挟持盤
８８…第２環状溝 ９０…第２シール部材
９４…第１ファン ９８…第２シリンダ
１００…第２ロッド １０２…閉塞部材
１０４…第３シリンダ １０６…第３ロッド
１０８…第３シール部材 １１０…第２ファン
１１６…循環用配管 １１８…往路配管
１２０…復路配管 １２１…サンプリングライン
１２２…ディテクタ １２４…第１電磁弁
１２６…プローブ用配管 １２８…プローブ
１３０…第２電磁弁 １３２…ラインクリーニング用配管
１３４…第２クリーンポンプ １３６…クリーニング用孔
１３８…二方バルブ １４０…チャンバクリーニング用配管
１４２…出口配管 １４４…湾曲部
１４８…第４シリンダ １５０…第４ロッド
１５２、１５４…信号線 １５６…制御回路
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークの壁部に気密性を確保し得ない漏洩箇所が存在するか否かを検査するためのガス式漏洩検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、鋳造製品や鍛造成形品の中には、オイル等の液体を収容する収容容器や、大気圧以上の圧力の流体を貯留する圧力容器として使用されるものがある。このような用途の場合、内容物が漏洩しないこと、換言すれば、気密性に優れることが必要である。
【０００３】
しかしながら、鋳造製品や鍛造成形品には、漏洩箇所が存在することがある。例えば、鋳造製品では、鋳造欠陥に起因して漏洩箇所が形成される可能性があるからである。このため、鋳造製品や鍛造成形品に対し、漏洩箇所が存在するか否かを確認することが広汎に行われている。このような確認を行うための検査装置として、ガス式漏洩検査装置が周知となっている。
【０００４】
この場合、先ず、ワーク（鋳造製品ないし鍛造成形品）をチャンバに収容し、チャンバ内、及びワークの中空箇所を排気して真空状態とする。次に、検査ガスをワークの中空箇所に導入する。その後、一定時間が経過した際に所定量以上の検査ガスがチャンバ内に漏洩していなければ、十二分な気密性が確保されたものとして合格品とされ、所定量以上の検査ガスがチャンバ内に漏洩していれば、気密性が不十分な不合格品とされる。
【０００５】
なお、使用される検査ガスの種類は検査内容（用途）によって様々であるが、主にはヘリウムが用いられる。この場合、漏洩量が微量であるときにも漏洩があることを検出することが可能であるからである。すなわち、漏洩検査結果を高精度に得ることができるという利点がある。
【０００６】
この種のガス式漏洩検査装置では、チャンバ内を真空にするための排気手段と、ワークの中空箇所を真空にするための排気手段とが必要であり、排気設備が大型となる。また、漏洩量を測定する測定装置の密閉性も重要であり、装置構成が複雑となるとともに、初期設備投資が高額となる。加えて、メンテナンスが容易ではない、稼働率が低い、ランニングコストが高額である等の不具合が顕在化している。
【０００７】
このような観点から、特許文献１、２には、ワークの中空箇所を排気して真空状態とする一方、チャンバ内を大気圧状態として漏洩検査を行うことが提案されている。該特許文献１、２によれば、チャンバを真空にするための排気手段が不要となる分、装置構成を簡略化し得る、とのことである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平６−２２１９５０号公報
【特許文献２】特開平６−３４７３６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１記載のガス漏洩検査方法では、ワークに対して予備検査（差圧漏れ検査）が行われた後、ヘリウムガスを使用しての本検査が行われる。すなわち、２段階検査が実施される。また、特許文献１、２記載のガス漏洩検査方法を実施すると、いずれの検査方法においても、検査ガスを検知するセンサの検知精度範囲内でしか、漏洩しているか否かを判断することができない。
【００１０】
さらに、特許文献１、２記載のガス漏洩検査方法には、確実な検査結果を得るまでに長時間を要するという不具合が顕在している。
【００１１】
本発明は上記した問題を解決するためになされたもので、漏洩状態を精度よく、しかも、漏洩の規模を量的に判断することが可能であり、その上、汎用性に優れるガス式漏洩検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記の目的を達成するために、本発明は、ワークの壁部から漏洩があるか否かを検査するためのガス式漏洩検査装置であって、
基台と、
前記基台に設けられてワークを位置決め固定する載置台と、
前記載置台とともに前記ワークを挟持する挟持盤と、
前記基台に支持されて前記挟持盤を前記ワークに対して接近又は離間する方向に変位させるための挟持盤変位機構と、
前記載置台に対して接近又は離間し、且つ前記載置台に当接した際に前記ワークを囲繞するチャンバを形成する隔壁部材と、
前記基台に支持されて前記隔壁部材を前記載置台に対して接近又は離間する方向に変位させるための隔壁部材変位機構と、
前記ワークの壁部によって形成される中空室から排気を行う排気手段と、
前記中空室に検査ガスを供給するための検査ガス供給手段と、
前記チャンバ内で前記ワークに当接した前記挟持盤と、前記載置台に当接して前記チャンバを形成した前記隔壁部材との間に画成されるモニタスペースから排出されたサンプリングガスを前記モニタスペースに戻すための循環流通路と、
前記サンプリングガスが前記循環流通路を経由して送気される検査ガス検出手段と、
を備え、
前記サンプリングガスに前記検査ガスが含まれるとき、前記検査ガス検出手段で該検査ガスを検出することを特徴とする。
【００１３】
すなわち、本発明においては、漏洩検査を行う際、モニタスペースから排出されたガスを、循環流通路を介してモニタスペースに戻すようにしている。
【００１４】
従来技術のように、チャンバから排出されたサンプリングガスを検出手段に導いた後、該サンプリングガスをそのまま系外に排気する場合には、ワークの中空室からチャンバへの検査ガスの漏洩の程度が僅かであると、チャンバに存在する漏洩検査ガスの量も僅かである。従って、サンプリングガスの中に含まれる漏洩検査ガスの量が極めて僅かとなる。このようなサンプリングガスを用いて漏洩検査ガスの量を高精度に評価することは、困難である。
【００１５】
これに対し、本発明では、モニタスペースから排出されたガスを、循環流通路を介してモニタスペースに戻している。すなわち、ガスを循環させている。このため、漏洩検査ガスがモニタスペースに順次蓄積されるので、漏洩量に対応する濃度の漏洩検査ガスを含むサンプリングガスが検査ガス検出手段に送気される。従って、漏洩検査ガスの量を高精度に測定することが可能である。
【００１６】
しかも、漏洩量が微量であっても、測定結果を迅速に得ることができる。換言すれば、漏洩量をリアルタイムで測定することが可能である。
【００１７】
以上のように、本発明によれば、漏洩検査ガスの量を短時間で且つ高精度に評価することが可能となる。
【００１８】
ワークが、その側部に貫通孔が形成されているものであるときには、前記貫通孔を閉塞するための閉塞部材を設けるとよい。閉塞部材は、作業者の手作業によって貫通孔に対して着脱するようにしてもよいが、自動的に着脱可能とするようにしてもよい。後者の場合、前記挟持盤に、前記閉塞部材を前記貫通孔に対して密閉又は開放する方向に変位させるための閉塞部材変位手段とを設けるようにすればよい。
【００１９】
ここで、例えば、ワークに漏洩箇所が存在することが判明した場合、当該漏洩箇所が何処であるかを調査することがある。この調査の際には、隔壁部材を上昇させてチャンバを開放状態とし、ワークを露呈させる必要がある。
【００２０】
隔壁部材に閉塞部材変位手段を設けた場合、閉塞部材変位手段を付勢して側部の貫通孔から閉塞部材を離脱させた後でなければ、隔壁部材を上昇させることでワークを露呈することができない。この場合、露呈したワークは、側部の貫通孔が大気に開放されているので、該貫通孔を介して多量の検査ガスが大気に導出される。このような状況下では、漏洩箇所を特定することが困難である。
【００２１】
これに対し、挟持盤に閉塞部材変位手段を設けた場合、載置台と挟持盤で挟持され、且つ閉塞部材によって側部の貫通孔が閉塞されている状態で隔壁部材を上昇させることができる。すなわち、中空室に検査ガスが導入された状態のワークが露呈する。従って、このワークの何処から検査ガスが漏洩しているのかを調査することにより、漏洩箇所を特定することが可能となる。
【００２２】
なお、前記載置台又は前記挟持盤の少なくともいずれか一方の前記ワークに当接する部位に、シール部材を設けることが好ましい。シール部材によってワークと載置台又は挟持盤との間のシールがなされるので、ワークと載置台又は挟持盤との間から検査ガスがモニタスペースに漏洩することを回避することができる。従って、漏洩箇所以外から検査ガスがモニタスペースに漏洩することを防止することができるので、漏洩箇所を介してモニタスペースに漏洩した検査ガスが存在するか否か、存在する場合には如何なる程度かを一層高精度に評価することができる。
【００２３】
また、高さ方向寸法が前記ワークの高さ方向寸法と同一である複数個の支持部材をさらに設けることが好ましい。この場合、載置台と挟持盤とでワークが挟持されたとき、支持部材が挟持盤を支持する。このため、挟持盤に作用する反力が分散され、その結果、該挟持盤が反って該挟持盤とワークとの間に間隙が形成されることが回避されるので、挟持盤とワークとの間のシールが保たれる。
【００２４】
検査ガスとしてヘリウムのような軽量なガスを用いた場合、ワークに漏洩箇所が存在しているために検査ガスがモニタスペースに漏洩したときに、該漏洩検査ガスがモニタスペースの天井部近傍に滞留（局在化）し易い。このような事態が生じた場合、サンプリング箇所によって漏洩検査ガスの濃度が相違することになる。従って、漏洩検査ガスの濃度、ひいては量を正確に評価することが容易でなくなる。
【００２５】
そこで、モニタスペースのガスを撹拌するための撹拌手段を複数個設けることが好ましい。この撹拌に伴い、モニタスペースのガスに流れが生じる。その結果、漏洩検査ガスが局在化することが回避され、モニタスペース内に略均等に拡散する。従って、モニタスペース内の位置に関わらず、漏洩検査ガスの濃度が略同等となる。このため、サンプリング箇所を如何なる部位に設定しようとも、漏洩検査ガスの量を高精度に評価することが可能となる。
【００２６】
撹拌手段の少なくとも１個は、例えば、前記挟持盤に設けることができる。この場合、前記モニタスペース内のガスに鉛直方向に沿う流れが形成される。
【００２７】
又は、撹拌手段の少なくとも１個を前記チャンバの側壁に設け、モニタスペース内のガスに水平方向に沿う流れを形成するようにしてもよい。勿論、この流れに加え、上記した鉛直方向に沿う流れを形成するようにしてもよい。
【００２８】
また、中空室には、中子を配置することが好ましい。この中子により、中空室の空間容積が低減される。従って、中空室からのガスの排気量、及び中空室への検査ガスの導入量が低減するので、この分、漏洩検査のタクトタイムを短縮することができる。
【００２９】
さらに、前記隔壁部材の内方の隅部を湾曲させることが好ましい。上記したように、検査ガスとして軽量なガスを用いた場合、漏洩検査ガスがモニタスペースの天井部近傍に局在化し易くなるが、隅部が角張っていると、この傾向が顕著となる。しかしながら、隅部を湾曲部とすると、ガスが湾曲部に沿って容易に流動するようなる。このことも、漏洩検査ガスがモニタスペース内で局在化することを防止することに寄与する。
【００３０】
いずれにおいても、前記基台に、前記載置台を変位させるための載置台変位手段を設けることが好ましい。この場合、載置台を引き出した状態で該載置台にワークを載置することができる。換言すれば、隔壁部材や隔壁部材変位手段、挟持盤、挟持盤変位手段等から離間した位置で載置作業を行うことが可能である。従って、これらの部材や手段が邪魔となることがない。特に、載置作業をロボットによって行うときには、ロボットのアームがこれらの部材や手段に干渉することが回避されるので、ティーチングが容易となる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、漏洩検査を行う際、ワークに漏洩があるか否かを検査するためにモニタスペースからサンプリングしたガスの一部のみを検査に使用するとともに、残部を、循環流通路を介してモニタスペースに戻す循環状態となるようにしている。このため、漏洩検査ガスがモニタスペースに順次蓄積され、高濃度となって検査ガス検出手段に送気される。従って、漏洩検査ガスの量を短時間で高精度に評価することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施の形態に係るガス式漏洩検査装置を模式的に示した全体概略正面図である。
【図２】図１のガス式漏洩検査装置の要部概略側面図である。
【図３】図１のガス式漏洩検査装置を構成する載置台の平面図である。
【図４】図１の要部拡大図である。
【図５】図１のガス式漏洩検査装置が具備する挟持盤を構成するシール部材の下方からの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、本発明に係るガス式漏洩検査装置につき好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照して詳細に説明する。なお、本実施の形態では、ミッション部品として組み立てられる前のケース部材につき漏洩検査を行うものとする。
【００３４】
図１は、本実施の形態に係るガス式漏洩検査装置１０を模式的に示した全体概略正面図である。このガス式漏洩検査装置１０は、載置台１２と隔壁部材１４とで形成されるチャンバ１６を有し、該チャンバ１６内にワークとしてのケース部材１８を収容する。
【００３５】
ここで、ミッション部品は、周知の通り、複数個のケース部材同士が連結されることによって構成されるものであり、トランスミッション及び潤滑油を収容するための内部空間を有する。ケース部材１８の底壁には、例えば、別のケース部材を連結する開口２０が形成される。また、該底壁や側壁、天井壁には、特開２００５−１８１２０７号公報に記載されるように、潤滑油圧検出孔、ドリブンプーリ油圧検出孔、後進用ブレーキ油圧検出孔、前進用クラッチ油圧検出孔、ドライブプーリ油圧検出孔等が貫通形成される。以下、これらの孔を特に区別せず、底壁に形成された貫通孔、側壁に形成された貫通孔、天井壁に形成された貫通孔を、それぞれ、「底壁貫通孔」、「側壁貫通孔」、「天井壁貫通孔」と指称するとともに、側壁貫通孔、天井壁貫通孔の各参照符号を２１、２２とする。なお、底壁貫通孔は図示していない。
【００３６】
ケース部材１８には、ミッション部品として組み立てられた際に前記内部空間を形成するための中空室２４が存在する。ガス式漏洩検査装置１０は、ケース部材１８の中空室２４から底壁、側壁、又は天井壁を介して検査ガスが漏洩した場合、これを検知するものである。
【００３７】
ガス式漏洩検査装置１０は、図２に示すように、作業ステーションの床上に設置される基台２６を有する。この基台２６は、第１支持台２８、第２支持台３０及び第３支持台３２（図１参照）を有し、この中の第１支持台２８には、載置台変位手段としての第１シリンダ３４（図２参照）が支持される。この第１シリンダ３４を構成する第１ロッド３６は、第２支持台３０に変位自在に設けられた載置台１２の下端面に対し、連結ブラケット３８を介して連結される。
【００３８】
図２に概略を示すように、第２支持台３０の上端面には、２本の案内レール４０ａ、４０ｂが互いに平行に延在して設けられる。案内レール４０ａ、４０ｂの各々にはスライダ４２が摺動自在に係合されるとともに、このスライダ４２に前記載置台１２が橋架される。従って、載置台１２は、第１ロッド３６が前進又は後退することに伴って、スライダ４２とともに案内レール４０ａ、４０ｂの延在方向に沿って変位する。
【００３９】
載置台１２の上端面には、その概略平面図である図３に示すように、ケース部材１８の底壁に形成された開口２０の形状に対応する形状の第１環状溝４４が形成される。この第１環状溝４４には、中空室２４に導入された検査ガスが開口２０から漏洩することを防止するための第１シール部材４６が収容される。また、載置台１２の上端面には、底壁貫通孔を閉塞するためのプラグ４８が複数個設けられるとともに、ケース部材１８を堰止して位置決め固定するための複数個のストッパ５０が取り外し可能に設けられる。従って、ケース部材１８は、その側壁がストッパ５０に堰止されることで位置決め固定される。
【００４０】
図１の要部概略図である図４に示すように、載置台１２には、その厚み方向に沿って、排気用孔５２、検査ガス導入孔５４及び検査ガス回収孔５５が貫通形成される（図１参照）。載置台１２上にケース部材１８が位置決め固定された際、ケース部材１８の中空室２４は、これら排気用孔５２、検査ガス導入孔５４及び検査ガス回収孔５５に連通する位置となる。
【００４１】
中空室２４には、中子５６が収容される。この中子５６が存在することにより、中空室２４の空間容積が低減する。従って、中空室２４から排気すべきガス、及び中空室２４に導入する検査ガスの量を低減することができる。
【００４２】
中子５６は、中空室２４に収容することが可能な寸法であり、且つ検査ガスを吸着ないし吸収しない物体であればよく、特に限定されるものではないが、鉄塊等のバルク体が好適な例として挙げられる。
【００４３】
排気用孔５２には、第１クリーンポンプ５８が接続された第１排気用配管６０が挿入される。また、検査ガス導入孔５４及び検査ガス回収孔５５には、それぞれ、図示しない検査ガス供給手段に個別に接続された検査ガス導入用配管６２、検査ガス回収用配管６３が挿入される。
【００４４】
なお、検査ガスとしては、ガス式漏洩検査で一般的に用いられるヘリウムや水素、アルゴン等を採用すればよいが、極少量の漏洩を検出することが求められるような場合、換言すれば、高精度に検出を行うような場合には、ヘリウムが好適である。アルゴンは直径が大きく、微細な割れからは漏洩することが容易でない（すなわち、微細な割れが存在することを検出することが容易ではない）のに対し、ヘリウムは直径が小さいために微細な割れからも漏洩するので、該割れが存在することを検出することが可能であるからである。しかも、後述するように、検査に使用したヘリウムを回収して再利用することも可能である。なお、ヘリウムを供給し得る手段としては、ボンベが挙げられる。
【００４５】
載置台１２には、基準ガス導入孔６４も厚み方向に沿って貫通形成される。この基準ガス導入孔６４は、ケース部材１８の中空室２４に連通せず、チャンバ１６内に連通する位置に形成されている。また、基準ガス導入孔６４に挿入された基準ガス導入用配管６６の一端には図示しない基準ガス供給手段が接続され、中空室２４に臨む残余の一端にはリークマスタ６８が接続される。リークマスタ６８は、載置台１２の上方に配置され、ケース部材１８とともにチャンバ１６に収容される。
【００４６】
このリークマスタ６８は、基準ガスを、予め決定された所定のリーク量でチャンバ１６に排出するように調整されている。
【００４７】
基準ガス供給手段は、基準ガス導入用配管６６及びチャンバ１６を介して基準ガスをモニタスペース６９（後述）に供給するためのものであり、その具体例としてはボンベが挙げられる。なお、基準ガスには、検査ガスと同一のガスを用いる。すなわち、検査ガスとしてヘリウムを用いる場合、基準ガスもヘリウムである。
【００４８】
基準ガス導入用配管６６からは、第２排気用配管７０が分岐して設けられる。この第２排気用配管７０は、第１排気用配管６０と合流して前記第１クリーンポンプ５８に接続される。この接続ラインには、圧力センサ７１が設けられる。
【００４９】
以上の構成において、第１排気用配管６０、検査ガス導入用配管６２、基準ガス導入用配管６６及び第２排気用配管７０には、第１バルブ７２、第２バルブ７４、第３バルブ７６及び第４バルブ７８がそれぞれ介装される。同様に、検査ガス回収用配管６３には、第５バルブ７９が設けられる。
【００５０】
載置台１２の上端面には、さらに、ケース部材１８を囲繞するようにして４本の支柱８０ａ〜８０ｄ（支持部材）が立設される。
【００５１】
これら支柱８０ａ〜８０ｄとしては、高さ方向寸法が種々相違するものが予め用意されており、その中から、漏洩検査を行うケース部材１８の高さ方向寸法と同一寸法のものが載置台１２に取り付けられる。すなわち、任意のケース部材１８に対して漏洩検査を行った後、このケース部材１８と高さ方向寸法が相違する別のケース部材に対して漏洩検査を行うときには、支柱８０ａ〜８０ｄが載置台１２から取り外された後、該別のケース部材の高さ方向寸法と同一寸法の支柱８０ａ〜８０ｄが載置台１２に取り付けられる。
【００５２】
ケース部材１８は、チャンバ１６内において、上記したように構成される載置台１２と、挟持盤８２とで挟持される。この挟持盤８２は、ケース部材１８に当接するシール用部材８４と、下端面に該シール用部材８４が取り付けられ、且つ該シール用部材８４に比して幅広な支持盤８６とを有する。
【００５３】
この中、シール用部材８４におけるケース部材１８に臨む下端面には、図５に示すように、ケース部材１８の天井壁に形成された比較的大径の天井壁貫通孔２２の形状に対応する形状の第２環状溝８８が形成される。この第２環状溝８８には、検査ガスが前記天井壁貫通孔２２から漏洩することを防止するための第２シール部材９０が収容される。また、この端面には、小径な天井壁貫通孔２２を閉塞するためのプラグ９２が複数個設けられる。
【００５４】
一方の支持盤８６の幅方向隅部には、図１に示すように、第１ファン９４（撹拌手段）がそれぞれ設けられる。これらの第１ファン９４は、チャンバ１６内、特にモニタスペース６９内のガスを撹拌するためのものである。各第１ファン９４は鉛直方向に臨んでおり、従って、第１ファン９４は、モニタスペース６９内のガスに対し、鉛直方向に沿う対流を起こさせる。すなわち、モニタスペース６９内のガスは、第１ファン９４の作用下に、該モニタスペース６９内で上昇と下降を繰り返す。
【００５５】
支持盤８６には、第１ファン９４と別の位置に複数個のブラケット９６が設けられる。各ブラケット９６には、第２シリンダ９８（閉塞部材変位手段）がそれぞれ支持される。
【００５６】
第２シリンダ９８を構成する第２ロッド１００の先端には、ケース部材１８の側壁貫通孔２１の位置に対応する位置に閉塞部材１０２が設けられる。勿論、閉塞部材１０２は、第２ロッド１００が前進したときに側壁貫通孔２１に進入して該側壁貫通孔２１を閉塞し、後退したときに側壁貫通孔２１から離脱する。
【００５７】
支持盤８６の上端面には、第３シリンダ１０４（挟持盤変位機構）を構成する第３ロッド１０６が連結される。この第３ロッド１０６が前進（下降）又は後退（上昇）することに追従し、挟持盤８２がケース部材１８に対して接近又は離間する方向に変位する。
【００５８】
チャンバ１６を構成する隔壁部材１４の底面には、第３シール部材１０８が貼付される。この第３シール部材１０８は、載置台１２と隔壁部材１４との間をシールする。
【００５９】
支持盤８６と隔壁部材１４の天井壁との間に画成される空間に存在するガスは、サンプリングガスとしてチャンバ１６外に導出される。前記モニタスペース６９は、サンプリングガスが得られる当該空間を指称しており、以下においても同様である。
【００６０】
また、隔壁部材１４の左側面上方及び右側面下方には、撹拌手段である第２ファン１１０がそれぞれ設けられる。各第２ファン１１０は水平方向に臨んでおり、このため、第２ファン１１０は、モニタスペース６９内のガスに対し、水平方向に沿う対流を起こさせる。換言すれば、モニタスペース６９内には、第１ファン９４の作用下に上昇と下降を繰り返す流れが生じる一方、第２ファン１１０の作用下に左方から右方又はその逆方向に移動する流れが生じる。
【００６１】
隔壁部材１４の左側面上方には、第１循環用孔１１２及び第２循環用孔１１４が形成され、これら第１循環用孔１１２及び第２循環用孔１１４の各々には、図１に示すように、循環用配管１１６（循環流通路）を構成する往路配管１１８及び復路配管１２０が挿入される。なお、本実施の形態では、第１循環用孔１１２からサンプリングライン１２１に至るまでを往路配管１１８とするとともに、サンプリングライン１２１から第２循環用孔１１４に至るまでを復路配管１２０とする。ここで、サンプリングライン１２１は、循環用配管１１６から分岐するようにして設けられている。
【００６２】
サンプリングライン１２１は、漏洩検査ガス検出手段としてのディテクタ１２２の入口接続継手に接続される。なお、往路配管１１８には吸気ポンプ１２３及び第１電磁弁１２４が介装されており、この中の第１電磁弁１２４が切り替えられることに伴い、往路配管１１８又はプローブ用配管１２６のいずれかが選択的に開放ないし閉塞される。これにより、往路配管１１８内のガス、又はプローブ用配管１２６内のガスのいずれか一方が、選択的にディテクタ１２２に導かれる。
【００６３】
また、ディテクタ１２２の出口接続継手には、サンプリングガス排出管１２９が接続される。
【００６４】
一方、復路配管１２０には第２電磁弁１３０が介装されている。この第２電磁弁１３０が切り替えられることに伴い、復路配管１２０又はラインクリーニング用配管１３２のいずれかが選択的に開放ないし閉塞される。これにより、復路配管１２０内のガスがモニタスペース６９、又は前記ラインクリーニング用配管１３２に接続された第２クリーンポンプ１３４のいずれかに選択的に導かれる。
【００６５】
また、隔壁部材１４の右側面上方には、クリーニング用孔１３６が貫通形成される。このクリーニング用孔１３６には、二方バルブ１３８が介装されたチャンバクリーニング用配管１４０が接続される。このチャンバクリーニング用配管１４０と、前記第１クリーンポンプ５８に接続された出口配管１４２は、前記第２クリーンポンプ１３４に接続される。すなわち、第２クリーンポンプ１３４には、ラインクリーニング用配管１３２、チャンバクリーニング用配管１４０及び出口配管１４２が接続されている。
【００６６】
隔壁部材１４の側壁と天井壁の境界には、湾曲部１４４が形成される。換言すれば、隔壁部材１４の内方の隅部は湾曲されている。
【００６７】
さらに、隔壁部材１４の天井壁には、挿通孔１４６が貫通形成される。前記第３ロッド１０６は、この挿通孔１４６に通されて支持盤８６の上端面に連結されている。勿論、挿通孔１４６の内壁と第３ロッド１０６の側壁との間は、シール部材（図示せず）によってシールされる。
【００６８】
前記天井壁の外方上端面には、第４シリンダ１４８（隔壁部材変位機構）を構成する第４ロッド１５０が連結される。隔壁部材１４は、これら第４ロッド１５０が前進（下降）又は後退（上昇）することに追従し、載置台１２に対して接近又は離間する方向に変位する。勿論、第４ロッド１５０は、互いに同期して下降又は上昇する。
【００６９】
以上の構成において、第３シリンダ１０４及び第４シリンダ１４８は、基台２６の前記第３支持台３２に支持される（図２参照）。また、圧力センサ７１及びディテクタ１２２は、それぞれ、信号線１５２、１５４を介して制御回路１５６に電気的に接続される。
【００７０】
本実施の形態に係るガス式漏洩検査装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その作用効果につき、校正方法及び漏洩検査方法との関係で説明する。
【００７１】
はじめに、予め校正されたリークマスタ６８を取り付ける。すなわち、リークマスタ６８は、例えば、０．５ｃｃ／分で検査ガスを導出するように設定された場合、略正確に０．５ｃｃ／分で検査ガスを導出することが可能である。
【００７２】
また、ディテクタ１２２に対しても校正を行う。このために、例えば、基準ガス導入用配管６６から分岐してディテクタ１２２に接続される配管（図示せず）を設け、ディテクタ１２２に基準ガスを導入するようにしてもよい。
【００７３】
そして、第１シリンダ３４を付勢し、第１ロッド３６を前進させる。これに追従し、連結ブラケット３８を介して第１ロッド３６に連結された載置台１２が、案内レール４０ａ、４０ｂに案内されながら第２支持台３０から引き出されて突出する。勿論、この際には、案内レール４０ａ、４０ｂ上をスライダ４２が摺動する。
【００７４】
次に、載置台１２に対し、中子５６を載置する。中子５６は特に位置決め固定する必要はないが、位置決め固定するようにしてもよいことは勿論である。
【００７５】
その後、漏洩が起こらないことが予め確認されたケース部材１８を載置台１２に載置する。この載置に伴い、載置台１２上に予め載置された中子５６がケース部材１８の中空室２４に収容される。
【００７６】
載置台１２が第２支持台３０の前方に引き出されているため、ケース部材１８が隔壁部材１４や基台２６等に干渉することが回避されるので、ケース部材１８を載置台１２に容易に載置することができる。特に、ケース部材１８をロボットによって載置台１２に載置するときには、ロボットのアームも隔壁部材１４や基台２６等に干渉することが回避される。このため、ロボットに対するティーチングが容易となる。
【００７７】
ケース部材１８が載置台１２に載置される際、ケース部材１８に形成された開口２０近傍の底壁に第１シール部材４６（図３参照）が当接するとともに、ケース部材１８の底壁貫通孔にプラグ４８が進入する。底壁貫通孔は、最終的に、プラグ４８によって閉塞される。このことと、ケース部材１８の側壁がストッパ５０によって堰止されることとが相俟って、ケース部材１８が載置台１２に位置決め固定される。
【００７８】
次に、第１シリンダ３４（図２参照）を再付勢し、第１ロッド３６を後退させる。その結果、載置台１２が案内レール４０ａ、４０ｂに案内されながら第２支持台３０に戻り、基台２６に収納される。これにより、ケース部材１８が隔壁部材１４に対向する位置となる。
【００７９】
次に、第３シリンダ１０４を付勢し、第３ロッド１０６を下降させる。これに伴って下降した挟持盤８２のシール用部材８４は、ケース部材１８の天井壁、及び４本の支柱８０ａ〜８０ｄの上端面に着座する。支柱８０ａ〜８０ｄの高さ方向寸法がケース部材１８の高さ方向寸法と同一であるため、シール用部材８４は、ケース部材１８の天井壁と、４本の支柱８０ａ〜８０ｄの上端面とに対して同時に当接する。
【００８０】
この当接により、挟持盤８２を構成する支持部材が支柱８０ａ〜８０ｄから支持される。このため、挟持盤８２に作用する反力が分散されるので、該挟持盤８２が反ることが回避される。その結果、ケース部材１８の天井壁とシール用部材８４との間に間隙が形成されることが回避され、両部材間のシールが保たれる。
【００８１】
シール用部材８４がケース部材１８に着座すると、ケース部材１８に形成された大径な天井壁貫通孔２２近傍の天井壁に第２シール部材９０（図５参照）が当接するとともに、ケース部材１８の小径な天井壁貫通孔２２にプラグ９２が進入する。すなわち、小径な天井壁貫通孔２２がプラグ９２によって閉塞される。
【００８２】
次に、支持盤８６に支持された第２シリンダ９８を付勢し、第２ロッド１００をケース部材１８に指向して前進動作させる。これにより、第２ロッド１００の先端に設けられた閉塞部材１０２がケース部材１８の側壁貫通孔２１に進入して該側壁貫通孔２１を閉塞する。
【００８３】
以上によりケース部材１８の全ての開口２０・貫通孔がシールされ、中空室２４が大気に対して遮断されて気密状態となる。
【００８４】
次に、第４シリンダ１４８を同期して付勢し、第４ロッド１５０を同時に下降させる。これに追従して隔壁部材１４が下降し、最終的に、その底壁が載置台１２の上端面に着座する。これにより、チャンバ１６が形成される。隔壁部材１４の底壁と載置台１２の上端面の間は、第３シール部材１０８によってシールされる。
【００８５】
次に、ガス式漏洩検査装置１０の校正を行う。具体的には、第１ファン９４及び第２ファン１１０を付勢し、モニタスペース６９内のガスに、左方から右方又はその逆方向に移動する流れと、上方から下方又はその逆方向に移動する流れとを生じさせる。この状態で、第３バルブ７６を開状態とするとともに、前記基準ガス供給手段（ボンベ等）から基準ガスを供給する。基準ガスは、その後、基準ガス導入用配管６６を通過し、リークマスタ６８からチャンバ１６内に導出され、さらに、該チャンバ１６内を上昇してモニタスペース６９に到達する。
【００８６】
リークマスタ６８からチャンバ１６、ひいてはモニタスペース６９への基準ガスの導出流量は、予め設定された所定流量で一定である。なお、基準ガスのチャンバ１６内への導出量ないし導出流量は、好ましくは、後述する漏洩検査時における検査ガスの中空室２４内への導出量ないし導出流量と同一値に設定される。
【００８７】
そして、基準ガスは、モニタスペース６９内に存在していたガス、すなわち、大気と混ざる。
【００８８】
基準ガスがヘリウムである場合、ヘリウムが空気に比して軽量であるためにモニタスペース６９内の天井壁近傍に滞留し易い。特に、モニタスペース６９の隅部が角張っているときには、ヘリウム等の軽量なガスは、隅部に容易に滞留して局在化する。このため、基準ガスを、往路配管１１８及びサンプリングライン１２１を経由してディテクタ１２２に到達させることが容易ではない。従って、モニタスペース６９内の基準ガスの正確な量を評価することも容易ではない。
【００８９】
しかしながら、本実施の形態では、第１ファン９４及び第２ファン１１０の作用下にモニタスペース６９内のガスを撹拌するようにしている。しかも、隔壁部材１４の隅部には湾曲部１４４が形成されているので、ガスが湾曲部１４４に沿って容易に流動する。以上のような理由から、基準ガスとしてヘリウムのような軽量なガスを用いた場合であっても、該基準ガスがモニタスペース６９内で局在化することが防止される。
【００９０】
リークマスタ６８から基準ガスを導出している間、支持盤８６と隔壁部材１４の天井壁との間に画成されるモニタスペース６９中のガスが、吸気ポンプ１２３の作用下に吸気され、往路配管１１８及びサンプリングライン１２１を経てディテクタ１２２に送られる。すなわち、モニタスペース６９に存在するガスは、ディテクタ１２２によって検査を行うために抽出されるサンプリングガスである。
【００９１】
本実施の形態では、上記したような理由から、基準ガスがモニタスペース６９内で局在化することが防止されている。従って、サンプリングガスには、基準ガスが略一定量で含まれる。
【００９２】
往路配管１１８に導かれたサンプリングガスの一部は、該往路配管１１８及びサンプリングライン１２１を経てディテクタ１２２に送られる。しかも、サンプリングガスの残部を、復路配管１２０を介してモニタスペース６９に戻すようにしているので、校正を行う間、安定した量の基準ガスを含むサンプリングガスがディテクタ１２２に導入される。このため、ガス式漏洩検査装置１０を、モニタスペース６９内への基準ガスの導入量に対応して高精度に校正することが可能となる。
【００９３】
ディテクタ１２２は、リークマスタ６８から導出された基準ガスを検知する。ここで、基準ガスがヘリウムである場合には、ディテクタ１２２は、モニタスペース６９内のガス（すなわち、大気）に含まれるヘリウムの量と、基準ガスとしてのヘリウムの量との総和としての値を示すとともに、この値を、信号線１５２を介して制御回路１５６に情報として送信する。制御回路１５６は、このときの検出量を「基準値」として認識する。なお、大気中には、一般的に５ｐｐｍ程度のヘリウムが含まれている。
【００９４】
以上説明したように、ガス式漏洩検査装置１０の校正を行う際には、漏洩検査を行う際と同様に、載置台１２に対してケース部材１８及び中子５６をセットするとともに、挟持盤８２によってケース部材１８を押圧することが好ましい。これにより、校正時の条件と漏洩検査時の条件とが同一となるからである。
【００９５】
また、ケース部材１８として漏洩が起こらないものを使用することは勿論である。ケース部材１８から漏洩が起こる場合、ケース部材１８から漏洩したガスがモニタスペース６９内のガスに混入することになるので、正確な校正を行うことができなくなる。これを回避するためである。
【００９６】
このようにして校正を行った後、漏洩検査を実施するべく下準備を行う。
【００９７】
すなわち、モニタスペース６９をはじめとし、チャンバ１６内には基準ガスが導入されている。この状態のままで隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させると、載置台１２の近傍に基準ガスが残留する懸念がある。この場合、漏洩検査においてディテクタ１２２に示される値が基準値を超えたとき、中空室２４からチャンバ１６に漏洩してモニタスペース６９に到達した検査ガスに起因するのか、又は、残留した基準ガスに起因するのかを判断することが困難である。そこで、モニタスペース６９に存在するガスを排気する。なお、具体的な排気方法は、後述する漏洩検査時と同一であるため、ここでは割愛する。
【００９８】
排気が終了した後、隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させる。さらに、第１シリンダ３４を付勢して第１ロッド３６を前進させ、これにより載置台１２を第２支持台３０の前方に引き出した後、ケース部材１８を、漏洩検査を実施するものに交換する。
【００９９】
以降は上記と同様にして、第１シリンダ３４を再付勢することで第１ロッド３６を後退させた後、第３シリンダ１０４を付勢して第３ロッド１０６を下降させる。さらに、第２シリンダ９８を付勢して第２ロッド１００を前進させる。その結果、既に詳述した通り、ケース部材１８の全ての開口２０・貫通孔がシールされ、中空室２４が大気に対して遮断されて気密状態となる。これと同時に、第４シリンダ１４８の第４ロッド１５０を下降させ、隔壁部材１４の底壁を載置台１２の上端面に着座させてチャンバ１６を形成する。
【０１００】
以上の下準備を行った後、漏洩検査を実施する。
【０１０１】
はじめに、第１ファン９４及び第２ファン１１０を付勢し、モニタスペース６９内のガスに、左方から右方又はその逆方向に移動する流れと、上方から下方又はその逆方向に移動する流れとを生じさせる。
【０１０２】
次に、第１クリーンポンプ５８及び第２クリーンポンプ１３４を付勢し、第１バルブ７２を開状態とする。これにより、ケース部材１８の中空室２４からガスが排気される。中空室２４には中子５６が収容されているので、排気すべきガスの量が比較的少ない。このため、中空室２４を排気するまでに要する時間が短くなる。
【０１０３】
この際には、前記圧力センサ７１によって中空室２４の内圧が測定される。その測定結果は、信号線１５４を介して制御回路１５６に送られる。
【０１０４】
内圧の実降下速度は、合格品であるケース部材１８を用いての測定結果に基づいて制御回路１５６に予め設定された設定降下速度と対比される。なお、所定時間の経過によって略一定となった内圧（実最終内圧）と、合格品であるケース部材１８を用いての測定結果に基づいて制御回路１５６に予め設定された設定最終内圧とを対比するようにしてもよい。
【０１０５】
実降下速度が設定降下速度未満であるときには、ケース部材１８に漏洩箇所があるか、又は、ケース部材１８と載置台１２ないし挟持盤８２との間のシールが不十分であることが一因である可能性がある。そこで、この場合、隔壁部材１４を上昇させてケース部材１８を露呈させ、さらに、該ケース部材１８を載置台１２から一旦取り外す。
【０１０６】
次に、第１シール部材４６や第２シール部材９０、第３シール部材１０８、プラグ４８、９２、閉塞部材１０２等に、傷が存在するか否かや、位置ズレをおこしていないか否か、いわゆるめくれがあるか否か等を調査する。このようなシール機能を低下させる原因がある場合には、これらを交換したり、正規位置に正規姿勢で装着し直したりすればよい。
【０１０７】
シール機能を低下させる原因がないと判断された場合、ケース部材１８の漏洩箇所を特定し、補修が可能なものは補修ステーションで補修を行う。その後、上記した各工程が再度実施される。
【０１０８】
なお、ケース部材１８を載置台１２から取り外すことなく、後述するように検査ガスを中空室２４に導入するとともに、プローブ１２８によって漏洩箇所を特定するようにしてもよい。
【０１０９】
一方、実降下速度が設定降下速度以上であるとき、又は実最終内圧が設定最終内圧以下であるときには、ケース部材１８に漏洩箇所がある可能性が低く、ケース部材１８と載置台１２ないし挟持盤８２との間のシールが十分である、と判断することができる。この場合のケース部材１８は予備合格品であると判定され、次工程以降が実施される。
【０１１０】
すなわち、次に、第１バルブ７２を閉止した後に第２バルブ７４を開放し、検査ガス供給手段（ボンベ等）から検査ガス導入用配管６２を介して中空室２４に検査ガスを供給する。検査ガスは、予め設定された所定の圧力となるまで、一定流量で中空室２４に導入される。中空室２４には中子５６が収容されているので、導入すべき検査ガスの量が比較的少なくなる。このため、中空室２４が検査ガスで満たされるまでに要する時間が短くなる。
【０１１１】
このように、中空室２４に中子５６を収容することにより、該中空室２４内のガスを排気するまでに要する時間、及び該中空室２４内を検査ガスで満たすまでに要する時間を短くすることが可能となる。従って、漏洩検査開始から終了までのタクトタイムを短縮することができる。
【０１１２】
中空室２４が検査ガスで満たされた後も、モニタスペース６９内のガスは、上記と同様に第１ファン９４及び第２ファン１１０の作用下に撹拌され、隔壁部材１４の隅部の湾曲部１４４に沿って容易に流動する。最終的に、モニタスペース６９に存在するガスが、サンプリングガスとして往路配管１１８に導出され、その一部が、サンプリングライン１２１を経てディテクタ１２２に導かれる。ディテクタ１２２に導かれなかった残部は、上記と同様に、復路配管１２０を通過してモニタスペース６９に戻る。すなわち、本実施の形態では、モニタスペース６９のガス（大気）を排気することなく、ケース部材１８に漏洩箇所が存在するか否かの検査を行う。
【０１１３】
ディテクタ１２２は、サンプリングガス中に含まれる検査ガスの量を求めた後、信号線１５２を介して、その値を情報として制御回路１５６に送る。制御回路１５６は、この情報と、前記基準値とを対比する。
【０１１４】
ケース部材１８に漏洩箇所が存在しないときには、中空室２４の検査ガスがチャンバ１６に漏洩することはない。モニタスペース６９内のガス（すなわち、大気）に自然に含まれる基準ガス（例えば、ヘリウム）と同一種のガスがディテクタ１２２によって検出されはするものの、基準値は、モニタスペース６９内のガスに自然に存在する基準ガスと同一種のガスの量と、リークマスタ６８から意図的に供給された基準ガス（例えば、ヘリウム）の量との総和としての値であるので、中空室２４の検査ガスがチャンバ１６に漏洩しないときには、ディテクタ１２２によって測定された値が前記基準値を大きく超えることはない。
【０１１５】
この場合、制御回路１５６は、ケース部材１８を「合格品である」と判定する。合格品であると判定されたケース部材１８は、ガス式漏洩検査装置１０から取り出されて次工程を営むステーションに送られる。
【０１１６】
ここで、ケース部材１８の中空室２４には、上記の漏洩検査を行うための検査ガスが導入されている。この状態のままで隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させると、載置台１２の近傍に、漏洩検査時の検査ガスが残留する懸念がある。この場合、次回の漏洩検査においてディテクタ１２２に示される値が基準値を超えたとき、中空室２４からモニタスペース６９に漏洩した検査ガスに起因するのか、又は、残留した検査ガスに起因するのかを判断することが困難である。
【０１１７】
このような不都合が惹起されることを回避するべく、中空室２４内及びモニタスペース６９内に存在するガスを排気する。すなわち、第２バルブ７４及び／又は第３バルブ７６を閉止し、第１バルブ７２、第４バルブ７８及び／又は二方バルブ１３８を開放する。これにより、中空室２４内及び基準ガス導入用配管６６内の検査ガス、基準ガスが第１排気用配管６０、第２排気用配管７０を介して第１クリーンポンプ５８に吸引され、さらに、第２クリーンポンプ１３４の作用下に出口配管１４２を経て排気される。また、モニタスペース６９内のガスが、第２クリーンポンプ１３４の作用下に、チャンバクリーニング用配管１４０を経て排気される。
【０１１８】
この排気に先んじて、第２電磁弁１３０が切り替えられる。その結果、復路配管１２０が閉塞されるとともにラインクリーニング用配管１３２が開放される。これにより、循環用配管１１６のガスがラインクリーニング用配管１３２を介して第２クリーンポンプ１３４に吸引される。すなわち、循環用配管１１６のガスが排気され、クリーニングが行われる。
【０１１９】
中空室２４内に存在する検査ガスは、回収用ポンプ１５８の作用下に検査ガス回収用配管６３を介して回収し、さらに、クリーニング処理を施して純度を高めた後、検査ガス供給源に戻すようにしてもよい。この際には、第５バルブ７９を開放すればよい。
【０１２０】
その後、第２シリンダ９８を付勢して第２ロッド１００を後退させ、閉塞部材１０２をケース部材１８の側壁貫通孔２１から離脱させる。
【０１２１】
次に、第４シリンダ１４８及び第３シリンダ１０４を付勢して第４ロッド１５０、第３ロッド１０６を上昇させることで、隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させる。必要に応じ、この上昇に先んじてモニタスペース６９内、中空室２４内に空気を供給するようにしてもよい。このためには、空気を導入するための空気導入管をモニタスペース６９内、中空室２４内にそれぞれ配設するとともに、空気供給源から前記空気導入管に空気を供給するようにすればよい。
【０１２２】
隔壁部材１４及び挟持盤８２を上昇させることにより、挟持から解放されたケース部材１８が露呈する。次に、第１シリンダ３４を付勢して第１ロッド３６を前進させ、これにより載置台１２を第２支持台３０の前方に引き出す。その後、ケース部材１８が作業者ないしロボットによって載置台１２から取り外され、別のステーションに搬送される。これにより一連の漏洩検査が終了する。
【０１２３】
その後、次にガス式漏洩検査装置１０に搬送されてきたケース部材１８に対し、上記と同様にして漏洩検査が実施される。このときには、前回の漏洩検査のときに用いられた検査ガスが除去されているので、前回の漏洩検査時の検査ガスに起因して検出精度が低下することが回避される。
【０１２４】
一方、ケース部材１８に漏洩箇所が存在するときには、中空室２４に導入された検査ガスが漏洩箇所を通過してチャンバ１６に漏洩する。検査ガスがヘリウム等の空気に比して軽量なガスである場合、漏洩した検査ガス（以下、単に漏洩ガスともいう）は、モニタスペース６９まで上昇して該モニタスペース６９内のガス（大気）と混ざり合う。
【０１２５】
本実施の形態では、第１ファン９４及び第２ファン１１０の作用下にモニタスペース６９内のガスを撹拌するようにしている。しかも、隔壁部材１４の隅部に湾曲部１４４が形成されているので、漏洩ガスが湾曲部１４４に沿って容易に流動する。以上のような理由から、検査ガスとしてヘリウムのような軽量なガスを用いた場合であっても、該検査ガスがモニタスペース６９内で局在化することが防止される。すなわち、この場合、大気に漏洩ガスが加わったものがサンプリングガスとして往路配管１１８に導かれる。
【０１２６】
以降も上記と同様に、サンプリングガスの一部が往路配管１１８及びサンプリングライン１２１を経由した後にディテクタ１２２に至るとともに、残部が復路配管１２０を通過してモニタスペース６９に戻る。
【０１２７】
この過程で、ディテクタ１２２が、校正によって求められた前記基準値を超える値を示す。ディテクタ１２２に導かれたサンプリングガスには漏洩ガスが含まれており、このため、ディテクタ１２２には、漏洩ガスの総和として検出量を示すからである。検査ガスと同一種のガス（例えば、ヘリウム）が大気に含まれている場合は、ディテクタ１２２が、この大気中の検査ガス成分も併せた検出量を示すことは勿論である。
【０１２８】
ディテクタ１２２は、前記の値を、信号線１５２を介して情報として制御回路１５６に送信する。この情報を受けた制御回路１５６は、ケース部材１８は「不合格品である」と判定する。
【０１２９】
ここで、漏洩ガスのモニタスペース６９内での拡散が一様でないときには、サンプリング箇所によって、ガス中の漏洩ガスの濃度（量）が相違することになる。従って、漏洩ガスの正確な量、ひいては漏洩箇所の規模を正確に評価し得なくなる懸念がある。
【０１３０】
また、モニタスペース６９内のガスを排気しながら中空室２４から漏洩が起こるか否かを検査する場合、中空室２４からチャンバ１６に漏洩してモニタスペース６９に到達したガスが比較的短時間で排気されてしまう。従って、漏洩ガスの量が僅かであるときには、漏洩ガスの全量が排気される懸念がある。一部が排気されるとともに残部がディテクタ１２２に到達し得たと仮定しても、漏洩ガスが如何なる程度排気されたのかが不明であるため、漏洩ガスの量を正確に評価することが困難である。
【０１３１】
従って、検査ガスの導入を開始してからある程度の時間を置き、漏洩ガスが十分な量となったときに漏洩検査を行う必要があるが、このために漏洩検査に長時間を要する。
【０１３２】
さらに、チャンバ１６内を大気圧とする場合であっても、例えば、排気ラインに流通するガスをサンプリングガスとすると、漏洩ガスの量が僅かであるときにはサンプリングガス中の漏洩ガスの濃度が小さいため、ディテクタ１２２に表示される漏洩ガス量が若干大きくなったとしても、漏洩ガスによって値が大きくなったのか、測定誤差の範囲内で大きくなったのかを判断することが困難である。
【０１３３】
加えて、チャンバ１６ないしモニタスペース６９からサンプリングガスを採取して測定を行った後、該サンプリングガスをそのまま排気してしまう場合には、ケース部材１８の中空室２４からの漏洩よりも、サンプリングガスの排気量が多いために漏洩を検知できない懸念もある。
【０１３４】
これに対し、本実施の形態では、モニタスペース６９内にガスの流れを生じさせ、漏洩ガスの滞留が起こることを回避するようにしている。このため、漏洩ガスが極めて僅かである場合であっても、漏洩ガスは、モニタスペース６９内に局在化することなく略均等に拡散する。従って、往路配管１１８を設ける箇所、換言すれば、サンプリング箇所を如何なる部位に設定しようとも、漏洩ガスの濃度が略同等であるため、漏洩量を高精度に評価することが可能となる。
【０１３５】
また、モニタスペース６９内のガスを取り出して一部をディテクタ１２２に送気する一方で、ディテクタ１２２に送気されなかった残部をモニタスペース６９に戻す（すなわち、ガスを循環させる）ようにしているので、モニタスペース６９内の漏洩ガスが順次蓄積され、高濃度となってディテクタ１２２に送気される。このため、漏洩量、ひいては漏洩の規模をリアルタイムに、しかも、高精度に評価することができる。
【０１３６】
すなわち、本実施の形態によれば、漏洩の程度に関わらず、計測を行う間は連続して漏洩の有無を確認することが可能であり、一定時間待機する必要がない。さらに、ケース部材１８の中空室２４の容量が大きいながら漏洩量が微小である場合であっても、その漏洩を容易に検知することができる。
【０１３７】
なお、検査ガスの中空室２４内への導出量ないし導出流量を、基準ガスのチャンバ１６内への導出量ないし導出流量に合致させておくと、中空室２４からの検査ガスの漏洩量を一層高精度に評価することができる。
【０１３８】
さらに、チャンバ１６内のガスを排気しながら漏洩検査を行う場合には、ポンプ等の排気手段が故障する頻度が大きい。故障した場合、排気手段の修繕が終了するまで漏洩検査を行うことができないので時間の損失となるが、本実施の形態では、そのような不都合が惹起されることもない。
【０１３９】
本実施の形態では、基準ガスを用いたときのディテクタ１２２の表示値を基準値として校正しているので、基準値は、大気中に自然に存在する基準ガスと同一種のガス（例えば、ヘリウム）を含んだものとして設定されている。従って、このガスと同一種のガスを基準ガス及び検査ガスとして用いる場合であっても、ディテクタ１２２は、漏洩ガスの量に基づいた値を表示する。すなわち、大気中に存在する基準ガスと同一種のガスによって漏洩ガスの検出精度が低下することが回避される。
【０１４０】
以上のようにして漏洩ガスがディテクタ１２２によって検出され、制御回路１５６によって漏洩箇所が存在すると判断されたケース部材１８に対しては、次に、漏洩箇所が何処に存在するのかの調査がなされる。この調査を行うべく、チャンバ１６内のガスを第２クリーンポンプ１３４の作用下に排気した後、第４ロッド１５０を上昇させて隔壁部材１４を上昇させる。これにより、載置台１２と挟持盤８２で挟持され、且つ検査ガスが中空室２４に導入された状態のケース部材１８が露呈する。なお、隔壁部材１４の上昇に先んじてチャンバ１６内に空気を供給するようにしてもよい。
【０１４１】
次に、第１電磁弁１２４が切り替えられる。これに伴い、往路配管１１８が閉塞される一方、プローブ用配管１２６が開放される。従って、ディテクタ１２２には、プローブ１２８に吸引されたガスが導かれる。
【０１４２】
作業者は、プローブ１２８を把持してその先端をケース部材１８に近接させ、さらに、ケース部材１８に沿ってプローブ１２８を走査する。漏洩箇所でない部位では漏洩ガスが漏洩していないため、プローブ１２８に漏洩ガスが吸引されることはない。従って、ディテクタ１２２の表示値が漏洩ガスに基づいて上昇することもない。
【０１４３】
一方、漏洩箇所では、プローブ１２８によって漏洩ガスが吸引される。漏洩箇所近傍では漏洩ガスの濃度が高いため、ディテクタ１２２の表示値が比較的短時間で上昇する。これにより、漏洩箇所が何処に存在するかをおおよそ判断することができる。
【０１４４】
隔壁部材１４に第２シリンダ９８を設けた場合、第２ロッド１００を後退させて閉塞部材１０２をケース部材１８の側壁貫通孔２１から離脱させた後でなければ、隔壁部材１４を上昇させることができない。従って、この場合、隔壁部材１４を上昇させると、ケース部材１８は、中空室２４が大気に連通した状態で露呈する。すなわち、中空室２４の検査ガスが側壁貫通孔２１から導出されるので、上記したようにして漏洩箇所が何処であるかを判断することができない。
【０１４５】
これに対し、本実施の形態では、第２シリンダ９８を挟持盤８２に設けるようにしているので、隔壁部材１４が第２シリンダ９８に干渉することがない。このため、第２ロッド１００を後退させることなく、換言すれば、ケース部材１８の側壁貫通孔２１に閉塞部材１０２を挿入したままの状態で、第４ロッド１５０及び隔壁部材１４を上昇させることができる。すなわち、中空室２４内に検査ガスが封入された状態のケース部材１８を露呈することができるので、プローブ１２８によって漏洩箇所のおおよその位置を判断することができる。
【０１４６】
おおよその漏洩箇所を特定した後は、第１クリーンポンプ５８の作用下に、中空室２４内に存在する検査ガスを排気する。検査ガスは、出口配管１４２を経た後、第２クリーンポンプ１３４の作用下に排気される。
【０１４７】
この際、漏洩箇所（鋳造欠陥等）の規模が小さいときには、排気速度が比較的大きく、真空到達度も比較的大きい。このように漏洩の規模が著しく小さく、実用上の差し支えがないときには、ケース部材１８は「合格品である」と判定される。
【０１４８】
その後、第２シリンダ９８を付勢して第２ロッド１００を後退させ、これにより、閉塞部材１０２をケース部材１８の側壁貫通孔２１から離脱させる。さらに、第３シリンダ１０４を付勢して第３ロッド１０６を上昇させ、挟持盤８２を上昇させる。その結果、ケース部材１８が挟持から解放される。必要に応じ、側壁貫通孔２１からの閉塞部材１０２の離脱、挟持盤８２の上昇に先んじて、中空室２４内に空気を供給するようにしてもよい。
【０１４９】
次に、第１シリンダ３４を付勢して第１ロッド３６を前進させ、これにより載置台１２を第２支持台３０の前方に引き出す。その後、ケース部材１８が作業者ないしロボットによって載置台１２から取り外され、次工程を実施すべきステーションに搬送される。
【０１５０】
一方、漏洩箇所の規模が大きいときには、排気速度が小さい。また、真空到達度も小さい。漏洩箇所から中空室２４に大気が吸引されるからである。
【０１５１】
この場合、漏洩箇所からは無視できない程度の漏洩が起こる。このようなケース部材１８は「不合格品である」と判定される。
【０１５２】
形状や高さ方向寸法が相違するケース部材１８に対して上記した漏洩試験を行う場合には、載置台１２、支柱８０ａ〜８０ｄ、ストッパ５０及びシール用部材８４を、該ケース部材１８に対応する形状ないし寸法のものに交換すればよい。このことから諒解されるように、本実施の形態に係るガス式漏洩検査装置１０は、多種多様なケース部材１８に対応し得る汎用性を有する。
【０１５３】
本発明は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【０１５４】
例えば、ケース部材１８以外の物体をワークとして漏洩検査を行うようにしてもよい。
【０１５５】
また、検査ガスはヘリウムに限定されるものではなく、水素等であってもよい。勿論、基準ガスと検査ガスは同一種のガスを用いる。水素を用いる場合、防爆構造を採用することが好ましい。
【符号の説明】
【０１５６】
１０…ガス式漏洩検査装置 １２…載置台
１４…隔壁部材 １６…チャンバ
１８…ケース部材 ２０…開口
２１…側壁貫通孔 ２２…天井壁貫通孔
２４…中空室 ２６…基台
３４…第１シリンダ ３６…第１ロッド
４４…第１環状溝 ４６…第１シール部材
４８、９２…プラグ ５０…ストッパ
５６…中子 ５８…第１クリーンポンプ
６０…第１排気用配管 ６２…検査ガス導入用配管
６３…検査ガス回収用配管 ６６…基準ガス導入用配管
６８…リークマスタ ６９…モニタスペース
７０…第２排気用配管 ７１…圧力センサ
８０ａ〜８０ｄ…支柱 ８２…挟持盤
８８…第２環状溝 ９０…第２シール部材
９４…第１ファン ９８…第２シリンダ
１００…第２ロッド １０２…閉塞部材
１０４…第３シリンダ １０６…第３ロッド
１０８…第３シール部材 １１０…第２ファン
１１６…循環用配管 １１８…往路配管
１２０…復路配管 １２１…サンプリングライン
１２２…ディテクタ １２４…第１電磁弁
１２６…プローブ用配管 １２８…プローブ
１３０…第２電磁弁 １３２…ラインクリーニング用配管
１３４…第２クリーンポンプ １３６…クリーニング用孔
１３８…二方バルブ １４０…チャンバクリーニング用配管
１４２…出口配管 １４４…湾曲部
１４８…第４シリンダ １５０…第４ロッド
１５２、１５４…信号線 １５６…制御回路
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークの壁部から漏洩があるか否かを検査するためのガス式漏洩検査装置であって、
基台と、
前記基台に設けられてワークを位置決め固定する載置台と、
前記載置台とともに前記ワークを挟持する挟持盤と、
前記基台に支持されて前記挟持盤を前記ワークに対して接近又は離間する方向に変位させるための挟持盤変位機構と、
前記載置台に対して接近又は離間し、且つ前記載置台に当接した際に前記ワークを囲繞するチャンバを形成する隔壁部材と、
前記基台に支持されて前記隔壁部材を前記載置台に対して接近又は離間する方向に変位させるための隔壁部材変位機構と、
前記ワークの壁部によって形成される中空室から排気を行う排気手段と、
前記中空室に検査ガスを供給するための検査ガス供給手段と、
前記チャンバ内で前記ワークに当接した前記挟持盤と、前記載置台に当接して前記チャンバを形成した前記隔壁部材との間に画成されるモニタスペースから排出されたサンプリングガスを前記モニタスペースに戻すための循環流通路と、
前記サンプリングガスが前記循環流通路を経由して送気される検査ガス検出手段と、
を備え、
前記サンプリングガスに前記検査ガスが含まれるとき、前記検査ガス検出手段で該検査ガスを検出することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、前記載置台又は前記挟持盤の少なくともいずれか一方の前記ワークに当接する部位に、シール部材が設けられたことを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の装置において、高さ方向寸法が前記ワークの高さ方向寸法と同一である複数個の支持部材をさらに有し、前記支持部材は、前記載置台と前記挟持盤とで前記ワークが挟持されたときに前記挟持盤を支持することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置において、前記モニタスペース内のガスを撹拌するための撹拌手段が複数個設けられたことを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置において、前記撹拌手段の少なくとも１個は前記挟持盤に設けられ、前記モニタスペース内のガスに鉛直方向に沿う流れを形成することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項６】
請求項５記載の装置において、前記撹拌手段の少なくとも１個は前記チャンバの側壁に設けられ、前記モニタスペース内のガスに水平方向に沿う流れを形成することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項７】
請求項５又は６記載の装置において、前記中空室に配置されて該中空室の空間容積を低減する中子を有することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置において、前記隔壁部材の内方の隅部が湾曲していることを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置において、前記基台に、前記載置台を変位させるための載置台変位手段が設けられたことを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項１】
ワークの壁部から漏洩があるか否かを検査するためのガス式漏洩検査装置であって、
基台と、
前記基台に設けられてワークを位置決め固定する載置台と、
前記載置台とともに前記ワークを挟持する挟持盤と、
前記基台に支持されて前記挟持盤を前記ワークに対して接近又は離間する方向に変位させるための挟持盤変位機構と、
前記載置台に対して接近又は離間し、且つ前記載置台に当接した際に前記ワークを囲繞するチャンバを形成する隔壁部材と、
前記基台に支持されて前記隔壁部材を前記載置台に対して接近又は離間する方向に変位させるための隔壁部材変位機構と、
前記ワークの壁部によって形成される中空室から排気を行う排気手段と、
前記中空室に検査ガスを供給するための検査ガス供給手段と、
前記チャンバ内で前記ワークに当接した前記挟持盤と、前記載置台に当接して前記チャンバを形成した前記隔壁部材との間に画成されるモニタスペースから排出されたサンプリングガスを前記モニタスペースに戻すための循環流通路と、
前記サンプリングガスが前記循環流通路を経由して送気される検査ガス検出手段と、
を備え、
前記サンプリングガスに前記検査ガスが含まれるとき、前記検査ガス検出手段で該検査ガスを検出することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、前記載置台又は前記挟持盤の少なくともいずれか一方の前記ワークに当接する部位に、シール部材が設けられたことを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の装置において、高さ方向寸法が前記ワークの高さ方向寸法と同一である複数個の支持部材をさらに有し、前記支持部材は、前記載置台と前記挟持盤とで前記ワークが挟持されたときに前記挟持盤を支持することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置において、前記モニタスペース内のガスを撹拌するための撹拌手段が複数個設けられたことを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置において、前記撹拌手段の少なくとも１個は前記挟持盤に設けられ、前記モニタスペース内のガスに鉛直方向に沿う流れを形成することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項６】
請求項５記載の装置において、前記撹拌手段の少なくとも１個は前記チャンバの側壁に設けられ、前記モニタスペース内のガスに水平方向に沿う流れを形成することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項７】
請求項５又は６記載の装置において、前記中空室に配置されて該中空室の空間容積を低減する中子を有することを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置において、前記隔壁部材の内方の隅部が湾曲していることを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置において、前記基台に、前記載置台を変位させるための載置台変位手段が設けられたことを特徴とするガス式漏洩検査装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１３−１９８６７（Ｐ２０１３−１９８６７Ａ）
【公開日】平成２５年１月３１日（２０１３．１．３１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１５５８４４（Ｐ２０１１−１５５８４４）
【出願日】平成２３年７月１４日（２０１１．７．１４）
【出願人】（０００００５３２６）本田技研工業株式会社 (23,863)
【出願人】（５１１１７２３４６）和乃工業株式会社 (3)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月３１日（２０１３．１．３１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月１４日（２０１１．７．１４）
【出願人】（０００００５３２６）本田技研工業株式会社 (23,863)
【出願人】（５１１１７２３４６）和乃工業株式会社 (3)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]