グラビア版とこれを用いた発光層、正孔注入層の形成方法および有機発光デバイス
【課題】 均一な厚膜の発光層や正孔注入層を所望のパターンで形成するためのグラビア版と、これを用いた発光層や正孔注入層の形成方法と、高品質な表示が可能で信頼性が高い有機発光デバイスを提供する。
【解決手段】 有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版を、セルがストライプ形状の場合に、各セルにおける印刷方向の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、各セルのセル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８〜１００の範囲であり、前記セル部長Ｌが１０〜５００μｍの範囲、前記非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲とし、また、セルが複数に区画された形状の場合には、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％であり、前記非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲とする。
【解決手段】 有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版を、セルがストライプ形状の場合に、各セルにおける印刷方向の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、各セルのセル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８〜１００の範囲であり、前記セル部長Ｌが１０〜５００μｍの範囲、前記非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲とし、また、セルが複数に区画された形状の場合には、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％であり、前記非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光デバイスを構成する発光層や正孔注入層をグラビアオフセット印刷法で形成するためのグラビア版と、発光層や正孔注入層の形成方法と有機発光デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子（有機発光素子）は、自発光により視認性が高いこと、液晶ディスプレーと異なり全固体ディスプレーであること、温度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこと等の利点をもっており、近年、フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の有機発光デバイスとして実用化が進んでいる。
有機発光素子には、発光層を構成する有機発光材料が低分子タイプのものと高分子タイプのものとがあり、例えば、高分子タイプの発光層は、有機発光材料を含有する発光層用インキを使用して種々の印刷方式、あるいはインクジェット方式により製造することができる。
【０００３】
このような例として、粘度が１００〜６００００ｃＰでチキソトロピー性の有機発光材料含有インキを用いて、凹版からシリコンブランケットに受理させ、その後、枚葉の基板に転移させるオフセット印刷方式により発光層を形成する方法がある（特許文献１）。
また、水分溶解度が５重量％以下の溶媒に有機発光材料を含有させたインキを用い、凹版からブランケットに受理させ、その後、基板に転移させるオフセット印刷方式により発光層を形成する方法がある（特許文献２）。
また、有機発光材料を含有するインキをグラビアロールを介してシリコンブランケット表面に供給して塗布膜を形成し、この塗布膜に凸版を押圧し、押圧部位の塗布膜を除去し、その後、シリコンブランケット表面に残った塗布膜を被形成面に転写して発光層を形成する方法がある（特許文献３）。
【０００４】
さらに、有機発光材料を含有するインキと、このインキに用いる溶剤に浸漬したときの体積変化率が４０％以下であるシリコーンエラストマーからなるブランケットとを使用し、インキを凹版の凹部からブランケットに転移させ、さらに、基板上に転写させる凹版オフセット印刷方式により発光層を形成する方法がある（特許文献４）。
このような発光層の形成方法は、正孔注入層の形成にも使用される。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−２９１５８７号公報
【特許文献３】特開２００４−１７８９１５号公報
【特許文献４】特開２００３−３０８９７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上述のようなグラビア版、凹版を用いた従来の発光層、正孔注入層の形成方法では、比較的高粘度のインキを使用するので、ドクターブレードによる凹版の凹部へのインキ充填に際し、掻き残しや厚みムラが生じやすく、均一な厚みの発光層形成が困難であった。このような問題を解消するためにインキを低粘度化すると、インキの低濃度化をきたし、しかもインキの転移量が低く、７０ｎｍ以上の厚みの発光層や、５０ｎｍ以上の厚みの正孔注入層の形成が困難であった。また、シリコンブランケットにインキが浸透し易く、このため形成された発光層、正孔注入層の表面が粗くなるとともに、シリコンブランケットの耐刷力が低下するという問題があった。
一方、有機発光材料や正孔注入材料を含有するインキをスピンコート法で基板上に塗布、乾燥することにより、均一な厚みの発光層、正孔注入層を形成することができる。しかし、スピンコート法を用いて所望のパターン形状の発光層や正孔注入層を形成するには、フォトリソグラフィー法との組み合わせが必要であり工程が複雑となり、また、インキの使用効率が低いという問題があった。これに対して、インクジェット方式では、パターン形状での発光層や正孔注入層の形成が容易であるが、吐出されたインキの流動性や表面張力等の制御が不十分であると、均一な厚みの発光層、正孔注入層を形成することが困難であった。
【０００６】
さらに、従来のフルカラー、あるいはエリアカラーの表示装置としての有機発光デバイスは、上述のような発光層、正孔注入層の厚みムラ、厚み不足により、輝度、効率が不十分であり表示品質の向上に限界があり、信頼性も低いものであった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、均一な厚膜の発光層や正孔注入層を所望のパターンで形成するためのグラビア版と、これを用いた発光層や正孔注入層の形成方法と、高品質な表示が可能で信頼性が高い有機発光デバイスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的を達成するために、本発明は、有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版において、セルがストライプ形状であり、各セルにおける印刷方向の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、各セルのセル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８〜１００の範囲であり、前記セル部長Ｌが１０〜５００μｍの範囲、前記非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
【０００８】
本発明は、有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版において、セルが複数に区画された形状であり、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％であり、非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
【０００９】
また、本発明は、対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの発光層形成方法において、少なくとも有機発光材料を含有する発光層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに発光層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の発光層用インキを発光層被形成面に転移する工程を有し、前記グラビア版は上述の本発明のグラビア版であり、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記発光層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰの範囲であり、前記発光層用インキに用いる溶媒は表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下で、かつ、沸点が１５０〜２５０℃の範囲であるような構成とした。
【００１０】
本発明の他の態様として、前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、グラビア版から発光層用インキを受理する位置と発光層用インキを発光層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えるような構成とした。
【００１１】
本発明の他の態様として、前記発光層用インキにおける前記有機発光材料の含有量は、１．５〜４．０重量％の範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記グラビア版は、複数のセルによって１つのエリアカラー用の絵柄が構成されるものであり、１つの絵柄幅を２００μｍ以上とするような構成とした。
本発明の他の態様として、複数組のグラビア版とブランケットを用いて発光色が異なる複数の発光層を連続して形成するような構成とした。
本発明の他の態様として、グラビア版を軸方向に複数に区画し、各区画毎に任意の発光層用インキを供給して、発光色が異なる複数の発光層を同時に形成するような構成とした。
【００１２】
また、本発明は、対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも正孔注入層と発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの正孔注入層形成方法において、少なくとも正孔注入材料を含有する正孔注入層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに正孔注入層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の正孔注入層用インキを正孔注入層被形成面に転移する工程を有し、前記グラビア版は上述の本発明のグラビア版であり、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記正孔注入層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１〜１００ｃＰの範囲で、かつ、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、前記正孔注入層用インキに用いる溶媒は水とアルコール系溶媒との混合溶媒であり、前記アルコール系溶媒は沸点が２５０℃以下であり、混合溶媒中の前記アルコール系溶媒含有量は５〜７０重量％の範囲であるような構成とした。
【００１３】
本発明の他の態様として、前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、グラビア版から正孔注入層用インキを受理する位置と正孔注入層用インキを正孔注入層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記正孔注入層用インキにおける前記正孔注入材料の含有量は、０．３〜１０．０重量％の範囲であるような構成とした。
【００１４】
本発明の有機発光デバイスは、透明基材と、該透明基材上に所望のパターンで形成された透明電極層と、前記透明基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記透明電極層を被覆するように形成され少なくとも発光層と正孔注入層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上述の本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、前記発光素子層の正孔注入層は、上述の本発明の正孔注入層形成方法により形成されたものであるような構成とした。
【００１５】
また、本発明の有機発光デバイスは、基材と、該基材上に所望のパターンで形成された電極層と、前記基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記電極層を被覆するように形成され少なくとも発光層と正孔注入層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された透明電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上述の本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、前記発光素子層の正孔注入層は、上述の本発明の正孔注入層形成方法により形成されたものであるような構成とした。
【００１６】
本発明の他の態様として、前記発光素子層を構成する前記発光層の厚みが７０ｎｍ以上であり、前記正孔注入層の厚みが５０ｎｍ以上であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光素子層は、少なくとも正孔注入層／発光層／電子注入層がこの順に積層されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、パッシブマトリックス型であるような構成とした。
本発明の他の態様として、アクティブマトリックス型であるような構成とした。
本発明の他の態様として、最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであるような構成とした。
本発明の他の態様として、カラーフィルタ層を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記カラーフィルタ層と前記透明電極との間に色変換蛍光体層を備えるような構成とした。
【００１７】
本発明の他の態様として、前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えるような構成とした。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のグラビア版は、発光層や正孔注入層を均一な厚みで、かつ、所望の厚みで形成することができる。
また、本発明の発光層の形成方法は、発光層を均一な厚みで、かつ、７０ｎｍ以上の厚膜として形成することができ、また、各発光色毎の発光層を所望のパターンで形成することができる。また、本発明の正孔注入層の形成方法は、正孔注入層を均一な厚みで、かつ、５０ｎｍ以上の厚膜として所望のパターンで形成することができる。そして、樹脂フィルム基材のような可撓性を有する基材への発光層や正孔注入層の形成も可能であるとともに、ブランケットの耐刷力が極めて高く、有機発光デバイスの製造コスト低減も可能である。
また、本発明の有機発光デバイスは、発光素子層の発光層と正孔注入層が本発明の方法で製造されているので、発光層や正孔注入層が均一な厚膜であり、発光素子層の発光時の輝度、効率が高く、高品質の表示が可能であるとともに、信頼性の高いものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
［グラビア版］
本発明のグラビア版は、有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版である。
図１は、本発明のグラビア版の一実施形態を説明するための図である。本発明のグラビア版１は、セル２がストライプ形状であり、各セル２の間には非セル部３が存在する。そして、各セル２（斜線を付した部位）の幅（セル部長Ｌ）と、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ）との比Ｌ／Ｓが０．８〜１００、好ましくは１〜６０の範囲であり、セル２の幅（セル部長Ｌ）が１０〜５００μｍ、好ましくは３０〜３００μｍの範囲、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ）が２〜５００μｍ、好ましくは５〜２００μｍの範囲であり、セル２の深さ（版深）が２０〜２００μｍ、好ましくは３０〜１００μｍの範囲である。
【００２０】
また、本発明のグラビア版１は、図２（Ａ）〜図２（Ｃ）に示されるように、各セル２（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上、好ましくは０．８以上であり上限には特に制限はない。尚、本発明において印刷方向とは、グラビア版の回転方向と同義である。
上記のセル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８未満であると、厚膜形成が困難となり、１００を超えると、グラビア版のセル形成が困難となり、また膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、セル２の幅（セル部長Ｌ）が１０μｍ未満であると、厚膜形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ）が２μｍ未満であると、グラビア版のセル形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きく、また厚膜形成が困難となり好ましくない。
【００２１】
また、セル２の深さ（版深）が２０μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、２００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。さらに、比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、後述する発光層の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層の形成が困難となり、また、正孔注入層の形成において５０ｎｍ以上の厚みの正孔注入層の形成が困難となり好ましくない。
【００２２】
図３は、本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。図３に示されるグラビア版１１は、セル１２が複数に区画された形状（図示例では、各セル１２は正方形）であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。また、図４は、本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。図４に示されるグラビア版１１は、セル１２が複数に区画された形状であり、各セル１２は菱形であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。さらに、図５は、本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。図５に示されるグラビア版１１は、セル１２が複数に区画された形状であり、各セル１２は楕円形であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。
【００２３】
上記の図３〜図５に示されるグラビア版１１は、各セル１２（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上、好ましくは０．８以上であり上限には特に制限はない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％、好ましくは６０〜９０％であり、非セル部１３の幅（非セル部長Ｓ１，Ｓ２）が２〜５００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍの範囲であり、セル１２の深さ（版深）が２０〜２００μｍ、好ましくは３０〜１００μｍの範囲である。
【００２４】
上記の比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、後述する発光層の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層の形成が困難となり、また、正孔注入層の形成において５０ｎｍ以上の厚みの正孔注入層の形成が困難となり好ましくない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５％未満であると、厚膜形成が困難となり、９５％を超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部１３の幅（非セル部長Ｓ１，Ｓ２）が２μｍ未満であると、グラビア版のセル形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり、かつ厚膜形成が困難となり好ましくない。また、セル１２の深さ（版深）が２０μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、２００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。
尚、上述のグラビア版のセル形状は例示であり、これらの限定されるものではない。
【００２５】
［発光層、正孔注入層の形成方法］
図６は、本発明の発光層、正孔注入層の形成方法を説明するための図である。図６において、印刷ユニット２１を構成するインキパン２７内の発光層用インキ３０、あるいは正孔注入層用インキ３０′は、回転するグラビア版１（１１）の表面に供給され、ドクターブレード２８で不要なインキ３０，３０′が掻き取られ、セル２（１２）内にのみインキ３０，３０′が供給される。このセル２（１２）内のインキ３０，３０′は、ブランケット２２に受理され、その後、圧胴２６上を搬送されている基材４１の発光層あるいは正孔注入層の被形成面４１Ａに転移される。この基材４１は、乾燥ゾーン２９に送られ、インキ３０，３０′が乾燥されて発光層３１、あるいは正孔注入層３１′が形成される。
【００２６】
このような本発明では、グラビア版１（１１）として、上述の本発明のグラビア版を使用する。尚、ここでのグラビア版の説明は省略する。
また、本発明では、ブランケット２２として、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、好ましくは３５〜６５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲である樹脂フィルム２３を、ブランケット胴２４の表面に表面層として備えるものを使用する。
本発明で使用する発光層用インキ３０は、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰ、好ましくは２０〜１５０ｃＰの範囲であり、使用している溶媒の表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、好ましくは２０〜３７ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲であり、かつ、沸点が１５０〜２５０℃、好ましくは１７０〜２３０℃の範囲のものである。
【００２７】
さらに、本発明で使用する正孔注入層用インキ３０′は、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１〜１００ｃＰ、好ましくは３〜３０ｃＰの範囲で、かつ、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、好ましくは３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり下限には特に制限はない。また、正孔注入層用インキ３０′に用いる溶媒は水とアルコール系溶媒との混合溶媒であり、アルコール系溶媒は沸点が６０〜２５０℃の範囲であり、混合溶媒中のアルコール系溶媒含有量は５〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重量％の範囲のものである。
【００２８】
（樹脂フィルム）
上述のブランケット２２の表面層を構成する樹脂フィルム２３の表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であると、グラビア版１（１１）からのインキ受理性が低下し、厚みが均一な発光層３１、正孔注入層３１′の形成が困難となる。尚、樹脂フィルム２３の表面張力（固体の表面張力［γｓ］）の測定は、２種以上の表面張力が判っている液体（標準物質）を使用して、自動接触角計（協和界面科学（株）製 DropMaster 700型）にて接触角θを測定し、γｓ（固体の表面張力）＝γＬ（液体の表面張力）ｃｏｓθ＋γＳＬ（固体の液体の表面張力）の式に基づいて求める。
【００２９】
使用する樹脂フィルム２３としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンテレフタレートフィルム、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、コロナ処理を施したポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンナフタレートフィルム、ポリノルボルネンフィルム、メラミン焼付けポリエチレンテレフタレートフィルム等の樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルム２３の厚みは、例えば、５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲とすることができる。樹脂フィルム２３の厚みが５μｍ未満であると、フィルム加工性、ブランケット胴２４への装着性が低下して好ましくない。また、樹脂フィルム２３の厚みが２００μｍを超えると、硬度が高くなりすぎ、柔軟性が低下して好ましくない。
【００３０】
尚、図示例では、ブランケット胴２４は、表面層である樹脂フィルム２３の下層としてクッション層２４ａを備えている。このクッション層２４ａの硬度は、例えば、２０〜８０°の範囲とすることができ、厚みは、例えば、０．１〜３０ｍｍの範囲とすることができる。尚、上記の硬度は、ＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度である。
【００３１】
また、図６に示される例では、樹脂フィルム２３は、ブランケット胴２４に一体的に装着されたものであるが、図７に示されるように、ブランケット胴２４に巻き付くように樹脂フィルム２３がブランケット胴２４の回転とともに搬送されるようにしてもよい。この場合、グラビア版１（１１）からインキ３０、３０′を受理する位置（矢印ａで示される位置）と、インキ３０、３０′を被形成面４１Ａに転移する位置（矢印ｂで示される位置）と、を少なくとも含む範囲において、ブランケット胴２４に樹脂フィルム２３を巻き付かせる必要がある。このような樹脂フィルム２３は、図示しない供給ロールからブランケット胴２４上に搬送供給され、図示しない巻上げローラに巻き上げられるようにすることができる。また、樹脂フィルム２３をエンドレスフィルムの形状とし、図示していないローラとブランケット胴２４との間の無限軌道上を搬送するようにしてもよい。
【００３２】
また、本発明では、グラビア版を板状としてもよく、図８は、このような実施形態の例を示す図である。図８に示される例では、まず、板状のグラビア版１′（１１′）の表面にインキ３０、３０′を供給し、図示しないドクターブレードで不要なインキ３０、３０′を掻き取ることによりセル２′（１２′）内にのみインキ３０、３０′を供給する。次いで、このセル２′（１２′）内のインキ３０、３０′は、ブランケット２２に受理され、その後、板状の基材４１の被形成面４１Ａに転移され、乾燥されて発光層、あるいは正孔注入層が形成される。また、圧胴２６上を搬送されている基材４１の被形成面４１Ａにインキ３０、３０′を転移し乾燥して発光層、あるいは正孔注入層を形成してもよい。
【００３３】
（発光層用インキ）
本発明で使用する発光層用インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５ｃＰ未満であると、インキダレが生じたり、所望の厚みの発光層の形成が困難となる。一方、２００ｃＰを超えると、グラビア版１（１１）のセル目による凹凸大きくなり、均一な厚みの発光層の形成が困難となる。尚、上記の粘度測定は、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により、測定温度２３℃で定常流測定モードにより行うものとする。また、発光層用インキ３０は、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、せん断速度１０００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．５程度となり、ほぼニュートン流動を示すことが好ましい。
【００３４】
また、発光層用インキ３０に使用している溶媒の表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、グラビア版１（１１）からの発光層用インキ３０の受理性が低下して好ましくない。さらに、発光層用インキ３０の溶媒の沸点が１５０℃未満であると、ブランケット２２を構成する樹脂フィルム２３から基材４１の発光層被形成面４１Ａに転移された発光層用インキ３０が直ちに乾燥して、発光層３１にスジが発生し易くなる。また、２５０℃を超えると、乾燥が困難となり、乾燥ゾーン２９での乾燥による基材４１等への影響が生じたり、溶剤の残留を生じることがあり好ましくない。尚、溶媒の表面張力の測定は、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で行うものとする。
【００３５】
発光層用インキ３０に用いる有機発光材料としては、例えば、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。
【００３６】
（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。
【００３７】
（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
発光層用インキ３０における上述のような有機発光材料の含有量は、例えば、１．５〜４．０重量％の範囲で設定することができる。
【００３８】
また、発光層用インキ３０に用いる溶媒としては、表面張力が上記の範囲（４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、沸点が上記の範囲（１５０〜２５０℃）を満足するもの、例えば、クメン、アニソール、ｎ−プロピルベンゼン、メシチレン、１，２，４−トリメチルベンゼン、リモネン、ｐ−シメン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン、安息香酸メチル、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、アミルベンゼン、テトラリン、安息香酸エチル、フェニルヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、安息香酸ブチル等を単独で使用することができる。また、混合溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した表面張力と沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、表面張力がＡｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＢ℃の溶媒１と、表面張力がＣｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＤ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した表面張力［（Ａ×３／１０）＋（Ｃ×７／１０）］が上記の範囲（４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ｂ×３／１０）＋（Ｄ×７／１０）］が上記の範囲（１５０〜２５０℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々の溶媒は、表面張力と沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい。
【００３９】
（正孔注入層用インキ）
本発明で使用する正孔注入層用インキ３０′のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１ｃＰ未満であると、インキダレが生じたり、所望の厚みの正孔注入層の形成が困難となる。一方、１００ｃＰを超えると、グラビア版１（１１）のセル目による凹凸大きくなり、均一な厚みの正孔注入層の形成が困難となる。尚、上記の粘度測定は、上述の発光層用インキの粘度測定と同様である。また、正孔注入層用インキ３０′の２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が４０ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、グラビア版１（１１）のセル目による凹凸大きくなり、均一な厚みの正孔注入層の形成が困難となる。上記の動的表面張力の測定は、液中に気泡を発生させ、液体からその気泡にかかる圧力から表面張力を測定する方法（最大泡圧法）により行うものであり、ＳＩＴＡ ｔ６０／２（ＳＩＴＡ Ｍｅｓｓｔｅｃｈｎｉｋ ＧｍｂＨ社製）を用い、測定温度２３℃で気泡を２Ｈｚ周期にて発生させたときの動的表面張力値を読み取るものとする。
【００４０】
尚、正孔注入層用インキ３０′は、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、せん断速度１０００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．３程度となり、さらに、正孔注入層用インキ３０′は、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）を１０Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）で除した値が０．８〜１．１程度となり、ほぼニュートン流動を示すことが好ましい。
正孔注入層用インキ３０′に用いる水とアルコール系溶媒との混合溶媒において、使用するアルコール系溶媒は沸点が２５０℃以下、例えば、６０〜２５０℃のものである。沸点が２５０℃を超えると、乾燥が困難となり、乾燥ゾーン２９での乾燥による基材４１等への影響が生じたり、溶剤の残留を生じることがあり好ましくない。また、混合溶媒中のアルコール系溶媒の含有量が５重量％未満であると、セル目による凹凸やはじきが生じて均一な膜厚を得ることが困難であり、７０重量％を超えると、インキ中に凝集物が生じやすくなり好ましくない。
【００４１】
正孔注入層用インキ３０′に用いる正孔注入材料としては、例えば、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００４２】
さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。
正孔注入層用インキ３０′における上述のような正孔注入材料の含有量は、例えば、０．３〜１０．０重量％の範囲で設定することができる。
【００４３】
また、正孔注入層用インキ３０′の混合溶媒に用いるアルコール系溶媒としては、沸点が上記の範囲（２５０℃以下、例えば、６０〜２５０℃）を満足するものであり、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、tert−ブタノール、ｎ−プロパノール、sec−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−（メトキシメトキシ）エタノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、１，３−ブチレングリコール、１−ブトキシエトキシ−２−プロパノール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、１，５−ペンタジオール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテート等を例示することができ、これらを単独で使用することができる。また、２種以上のアルコール系溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、沸点がＡ℃の溶媒１と、沸点がＢ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ａ×３／１０）＋（Ｂ×７／１０）］が上記の範囲（２５０℃以下、例えば、６０〜２５０℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々のアルコール系溶媒は、沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい。
【００４４】
また、本発明の発光層の形成方法では、グラビア版１（１１）に形成するセル２（１２）を、複数のセルによって１つのエリアカラー用の絵柄が構成されるようにしてもよい。図９は、上述のグラビア版１１を例として示すものであり、複数（図示例では１５個）のセル１２により絵柄（鎖線で示す形状）が構成される。この場合、１つの絵柄幅Ｗは２００μｍ以上、好ましくは３００μｍ以上とすることができる。尚、絵柄幅Ｗは、グラビア版１１の回転方向（図９に矢印ａで示した方向）に直交する方向の最小幅である。絵柄幅Ｗが２００μｍ未満であると、絵柄のエッジ付近の厚み変動が１０％以上となり好ましくない。また、上述のグラビア版１を使用しても、同様に、エリアカラー用の絵柄で発光層を形成することができる。
【００４５】
また、本発明の発光層の形成方法では、複数組のグラビア版とブランケットを用いて発光色が異なる複数の発光層を連続して形成してもよい。図１０は、このような例を示すものであり、赤発光層形成用のグラビア版１Ｒ（１１Ｒ）と、ブランケット２２、圧胴２６を備えたユニット２１Ｒ、緑発光層形成用のグラビア版１Ｇ（１１Ｇ）と、ブランケット２２、圧胴２６を備えたユニット２１Ｇ、青発光層形成用のグラビア版１Ｂ（１１Ｂ）と、ブランケット２２、圧胴２６を備えたユニット２１Ｂとを備えている。各ユニット２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂは、上述の印刷ユニット２１と同様であり、各ユニット２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂのインキパン２７には、対応する赤色発光層用インキ３０Ｒ、緑色発光層用インキ３０Ｇ、青色発光層用インキ３０Ｂが供給されている。そして、基材４１の発光層被形成面４１Ａ側に対して、ユニット２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの順で連続して赤色発光層用インキ３０Ｒ、緑色発光層用インキ３０Ｇ、青色発光層用インキ３０Ｂを転移させ、その後、乾燥することにより、赤色発光層３１Ｒ、緑色発光層３１Ｇ、青色発光層３１Ｂを形成することができる。尚、各発光層の形成パターン等は任意に設定することができ、形成順序は上記の順に限定されるものではない。
【００４６】
また、本発明の発光層の形成方法では、グラビア版１（１１）を軸方向に複数に区画し、各区画毎に任意の発光層用インキを供給して、発光色が異なる複数の発光層を同時に形成してもよい。図１１は、このような例を、上述のグラビア版１１を例として説明するための図面であり、グラビア版１１を軸方向（矢印ｂ方向）に３つ（１１Ｇ，１１Ｒ，１１Ｂ）に区画し、各区画にはエリアカラー用の絵柄を形成するための複数のセル１２が形成されている。そして、緑色発光層用インキ、赤色発光層用インキ、青色発光層用インキを、それぞれ、区画１１Ｇ，１１Ｒ，１１Ｂに供給（例えば、ディスペンサー方式）し、上述のように、基材４１の発光層被形成面４１Ａ側に対して、赤色発光層用インキ、緑色発光層用インキ、青色発光層用インキを同時に転移させ、その後、乾燥することにより、エリアカラー絵柄である赤色発光層３１Ｒ、緑色発光層３１Ｇ、青色発光層３１Ｂを形成することができる。尚、絵柄のパターン、寸法、位置関係等は任意に設定することができる。また、上述のグラビア版１を使用しても、同様に、エリアカラー絵柄である赤色発光層３１Ｒ、緑色発光層３１Ｇ、青色発光層３１Ｂを形成することができる。
【００４７】
尚、上述の実施形態におけるブランケット２２は、グラビア版１（１１）と圧胴２６の回転方向に対し順方向回転であるが、形成する発光層、正孔注入層のパターンに応じて、逆方向回転としてもよい。また、基材４１は枚葉であってもよく、グラビア版１（１１）への発光層用インキ３０、正孔注入層用インキ３０′の供給は、インキパン２７を使用せずにディスペンサー等を用いてもよい。
【００４８】
［有機発光デバイス］
図１２は、本発明の有機発光デバイスの一実施形態を示す部分断面斜視図である。図１２において、有機発光デバイス５１は、透明基材５２と、この透明基材５２上に矢印ａ方向に延設さられた帯状パターンの複数の透明電極層５３と、ストライプ形状の開口部５５を有する絶縁層５４と、各透明電極層５３上に位置するストライプ形状の開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように矢印ｂ方向に延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
上記の絶縁層５４の開口部５５は、矢印ａ方向に沿ったストライプ形状の開口部であり、各透明電極層５３上に位置している。
【００４９】
また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７と発光層５８と電子注入層５９とからなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂが、この順で矢印ｂ方向に繰り返し配列されている。尚、正孔注入層５７と発光層５８、電子注入層５９が、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように形成されたものであってもよい。
このような有機発光デバイス５１は、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する部位が発光領域となるパッシブマトリックス型であり、発光素子層５６の正孔注入層５７と発光層５８は、本発明の正孔注入層、発光層の形成方法により形成されたものである。このため、正孔注入層５７の厚みが５０ｎｍ以上であり、また、発光層５８の厚みが７０ｎｍ以上であり、発光素子層５６の発光時の輝度、効率が高く、高品質の表示が可能である。また、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように発光素子層５６を形成した場合には、発光素子層５６を挟持する位置に存在する透明電極層５３と電極層６０との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものである。
【００５０】
次に、本発明の有機発光デバイス５１の各構成部材について説明する。
有機発光デバイス５１を構成する透明基材５２は、通常、観察者側の表面に設けられ、発光層５８からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有するものである。尚、後述するように、発光層５８からの光を取り出す方向を反対方向とする場合には、透明基板５２に替えて不透明な基板を使用してもよい。
透明基板５２（これに替わる不透明な基板も含む）としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。
【００５１】
上記の樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、有機発光デバイス用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
透明基板５２の厚さは、通常、５０μｍ〜１．１ｍｍ程度である。
【００５２】
このような透明基板５２においては、その用途にもよるが、水蒸気や酸素等のガスバリアー性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基板５２に、水蒸気や酸素等のガスバリアー層を形成してもよい。このようなガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものであってよい。
また、有機発光デバイス５１を構成する透明電極層５３は、図示例では陽極であり、発光層５８に正電荷（正孔）を注入するために、正孔注入層５７に隣接して配設されている。尚、透明電極層５３は陰極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
【００５３】
透明電極層５３は、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができ、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。中でも、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。
透明電極層５３は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層５３の厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
この透明電極層５３は、周辺の端子部から中央の画素領域まで所望のパターン形状で配設されている。このようなパターン形状の透明電極層５３は、スパッタリング法や真空蒸着法等によりメタルマスクを用いてパターン形状、または、全面に成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることにより形成される。
【００５４】
有機発光デバイス５１を構成する絶縁層５４は、各透明電極層５３上に位置するストライプ形状の開口部５５を有している。この絶縁層５４は、例えば、透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、パターン露光、現像を行って形成したり、熱硬化性樹脂材料を用いて形成することができ、この絶縁層５４が形成された部分は非発光部となる。絶縁層５４の厚みは、絶縁層５４を構成する樹脂固有の絶縁抵抗に応じて適宜設定できるが、例えば、０．０５〜５．０μｍ程度とすることができる。また、上述の樹脂材料にカーボンブラックや、チタン窒化物、チタン酸化物、チタン酸窒化物等のチタン系黒色顔料の１種、あるいは２種以上の遮光性微粒子を混合することにより、ブラックマトリックスを形成して絶縁層５４としてもよい。
尚、このような絶縁層５４の形状は、上述の形状に限定されるものではない。
【００５５】
有機発光デバイス５１を構成する発光素子層５６は、図示例では、透明電極層５３側から正孔注入層５７、発光層５８、および電子注入層５９が積層された構造であるが、正孔注入層５７と発光層５８とからなる構造、発光層５８と電子注入層５９からなる構造、さらに、正孔注入層５７と発光層５８との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層５８と電子注入層５９との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
また、発光波長を調整したり、発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
【００５６】
発光素子層５６の発光層５８は、図示例では、赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂからなっているが、有機発光デバイスの使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で、また、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせ等、いずれであってもよい。
発光素子層５６の正孔注入層５７に用いる正孔注入材料、および、発光層５８に用いる有機発光材料は、上述の本発明の正孔注入層、発光層の形成方法で挙げた正孔注入材料、有機発光材料を使用することができる。
発光素子層５６の各層に用いるドーピング材料、正孔輸送材料、電子注入材料等は、下記に例示するような無機材料、有機材料いずれでもよい。発光素子層５６の各層の厚みは特に制限はなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。
【００５７】
（ドーピング材料）
ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等が挙げられる。
【００５８】
（正孔輸送材料）
オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。
また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。
【００５９】
（電子注入材料）
カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。
【００６０】
発光素子層５６を構成する各層の形成は、正孔注入層５７、発光層５８については、上述の本発明の形成方法により形成する。また、正孔注入層５７と発光層５８の形成を、正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成することにより行うこともできる。
また、電子注入層５９は、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成することができる。また、スクリーン印刷法等の印刷方法により電子注入層５９を形成することもできる。
【００６１】
有機発光デバイス５１を構成する電極層６０は、図示例では陰極であり、発光層５８に負電荷（電子）を注入するために、電子注入層５９に隣接して配設されている。尚、電極層６０は陽極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
このような電極層６０の材料としては、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、上述の透明電極層５３と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。中でも、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような電極層６０はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、電極層６０の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。
上記の電極層６０は、上述の電極材料を用いてマスクを介したスパッタリング法や真空蒸着法等の方法によりパターン形状に成膜して形成することができる。
【００６２】
本発明の有機発光デバイスは、例えば、上述の有機発光デバイス５１において、電極層６０を透明な電極層とすることにより、光を取り出す方向を反対方向とした有機発光デバイスが可能である。この場合、基材５２は透明でなくてもよく、また、透明電極層５３は不透明な電極層であってもよい。
【００６３】
また、本発明の有機発光デバイスは、アクティブマトリックス型であってもよい。図１３および図１４は、アクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスの一例を説明するための図である。図１３は電極配線パターンを示す図であり、透明基材（図示せず）上に形成された電極配線パターン７３は、信号線７３Ａ、走査線７３Ｂ、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）７３Ｃ、透明電極（画素電極）層７３Ｄからなる。また、これらの電極配線パターン７３を被覆するように絶縁層７４（図１３で斜線を付した部位）が形成されており、この絶縁層７４は、各透明電極層７３Ｄ上に位置する開口部７５を備えている。また、絶縁層７４には、各開口部７５内の透明電極層７３Ｄを被覆するように発光素子層（図示せず）が形成され、この発光素子層上に電極（共通電極）層（図示せず）が配設される。
【００６４】
上記の発光素子層は、絶縁層７４と各開口部７５内の透明電極層７３Ｄとを被覆するように配設された正孔注入層と、開口部７５内の透明電極層７３Ｄ（正孔注入層）を被覆するように各開口部７５毎に配設された複数の発光層と、これらを被覆するように配設された電子注入層と、から構成することができる。図１４は、絶縁層７４の開口部７５と発光層との関係を示す図である。図１４では、発光層は、開口部７５よりも大きい所望のパターン形状の赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂからなっている。
【００６５】
このようなアクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスも、正孔注入層と発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）は、本発明の形成方法により形成されたものである。このため、正孔注入層の厚みが５０ｎｍ以上であり、また、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）の厚みが７０ｎｍ以上であり、発光素子層の発光時の輝度、効率が高く、高品質の表示が可能である。また、開口部７５の周縁の絶縁層７４に乗り上げるように発光素子層を形成した場合、発光素子層を挟持する位置に存在する透明電極層７３Ｄと電極層（図示せず）との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
尚、上記の発光素子層は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００６６】
図１５は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分斜視図であり、図１６は図１５に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線における断面図である。図１５および図１６において、有機発光デバイス８１は、透明基材８２と、この透明基材８２上に長方形状に形成された透明電極層８３と、ひし形開口部８５ａと長方形状開口部８５ｂとを有する絶縁層８４と、各開口部８５ａ、８５ｂ内の透明電極層８３を被覆するように配設された発光素子層８６と、この発光素子層８６を被覆するように形成された電極層９０とを備えている。
上記の発光素子層８６は、積層配設された正孔注入層８７、発光層８８、電子注入層８９からなっている。尚、発光素子層８６が各開口部８５ａ、８５ｂの周縁の絶縁層８４に乗り上げるように形成されたものであってもよい。
【００６７】
このような有機発光デバイス８１は、各開口部８５ａ、８５ｂが存在する部位が表示領域となるエリアカラー表示であり、例えば、各開口部８５ａ、８５ｂの最大開口幅を１０ｍｍ以上に設定して有機発光ポスターとしての使用が可能である。有機発光デバイス８１を構成する正孔注入層８７と発光層８８は、本発明の形成方法により形成されたものである。このため、正孔注入層８７の厚みが５０ｎｍ以上であり、また、発光層８８の厚みが７０ｎｍ以上であり、発光素子層８６の発光時の輝度、効率が高く、高品質の表示が可能である。また、開口部８５ａ、８５ｂの周縁の絶縁層８４に乗り上げるように発光素子層８６を形成した場合、発光素子層８６を挟持する位置に存在する透明電極層８３と電極層９０との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
【００６８】
尚、各開口部８５ａ、８５ｂに位置する各発光層の発光色が異なるものであってもよく、さらに、各開口部８５ａ、８５ｂ上に配設される電極層９０を電気的に独立したものとして、各発光層毎に発光できるようにしてもよい。
また、上記の発光素子層８６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層からなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００６９】
図１７は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１７に示される有機発光デバイス９１は、透明基材９２と、この透明基材９２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂからなるカラーフィルタ層９３と、このようなカラーフィルタ層９３を覆うように配設された透明平滑化層９５と、この透明平滑化層９５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス５１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層５３と、各透明電極層５３上にストライプ形状の開口部５５が位置するように配設された絶縁層５４と、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
【００７０】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層５３は、帯状パターンの赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７と、開口部５５内の透明電極層５３（正孔注入層５７）を被覆するように各開口部５５毎に配設された複数の発光層５８と、これらを被覆するように配設された電子注入層５９と、からなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの白色発光層である。尚、発光素子層５６を開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように形成したものであってもよい。
【００７１】
このような有機発光デバイス９１は、カラーフィルタ層９３と透明平滑化層９５とを備え、発光層５８が白色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス５１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層５６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００７２】
上記のカラーフィルタ層９３は、発光素子層５６からの光を色補正したり、色純度を高めるものである。カラーフィルタ層９３を構成する赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂは、発光素子層５６の発光特性に応じて適宜材料を選択することができ、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。このようなカラーフィルタ層９３の厚みは、各着色層の材料、有機ＥＬ素子層の発光特性等に応じて適宜設定することができ、例えば、１〜３μｍ程度の範囲で設定することができる。
【００７３】
また、透明平滑化層９５は、カラーフィルタ層９３以下の構成により段差（表面凹凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図り、発光素子層５６の厚みムラ発生を防止する平坦化作用をなす。このような透明平滑化層９５は、透明（可視光透過率５０％以上）樹脂により形成することができる。具体的には、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。
このような透明平滑化層９５の厚みは、使用する材料を考慮し、平坦化作用が発現できる範囲で設定することができ、例えば、１〜５μｍ程度の範囲で適宜設定することができる。
【００７４】
また、図１８は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１８に示される有機発光デバイス１０１は、透明基材１０２と、この透明基材１０２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層１０３Ｒ、緑色着色層１０３Ｒ、青色着色層１０３Ｂからなるカラーフィルタ層１０３と、このようなカラーフィルタ層１０３の赤色着色層１０３Ｒ、緑色着色層１０３Ｒ、青色着色層１０３Ｂを覆うように帯状パターンの赤色変換蛍光体層１０４Ｒ（青色光を赤色蛍光に変換する層）、緑色変換蛍光体層１０４Ｇ（青色光を緑色蛍光に変換する層）、青色変換ダミー層１０４Ｂ（青色光をそのまま透過する層）からなる色変換蛍光体層１０４が設けられ、さらに、これらを覆うように配設された透明平滑化層１０５と、この透明平滑化層１０５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス５１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層５３と、各透明電極層５３上にストライプ形状の開口部５５が位置するように配設された絶縁層５４と、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
【００７５】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層５３は、帯状パターンの赤色変換蛍光体層１０４Ｒ、緑色変換蛍光体層１０４Ｇ、青色変換ダミー層１０４Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７、発光層５８、電子注入層５９とからなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの青色発光層である。尚、発光素子層５６は、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるようなものであってもよい。
【００７６】
このような有機発光デバイス１０１は、カラーフィルタ層１０３と色変換蛍光体層１０４と透明平滑化層１０５とを備え、発光層５８が青色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス５１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。また、カラーフィルタ層１０３、透明平滑化層１０５は、上述のカラーフィルタ層９３、透明平滑化層９５と同様であり、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層５６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００７７】
上記の赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇは、蛍光色素単体からなる層、あるいは、樹脂中に蛍光色素を含有した層である。青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層１０４Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層１０４Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。
【００７８】
また、青色変換ダミー層１０４Ｂは、発光素子層５６で発光された青色光をそのまま透過してカラーフィルタ層１０３に送るものであり、赤色変換蛍光体層１０４Ｒ、緑色変換蛍光体層１０４Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層１０４のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層１０４Ｂに使用することができる。
【００７９】
色変換蛍光体層１０４を構成する赤色変換蛍光体層１０４Ｒと緑色変換蛍光体層１０４Ｇは、蛍光色素単体で形成する場合、例えば、所望のパターンマスクを介して真空蒸着法、スパッタリング法により帯状に形成することができる。また、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成する場合、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により赤色変換蛍光体層１０４Ｒや緑色変換蛍光体層１０４Ｇを形成することができる。また、青色変換ダミー層１０４Ｂは、所望の感光性樹脂塗料をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、所望の樹脂塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により形成することができる。
【００８０】
このような色変換蛍光体層１０４の厚みは、赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが発光素子層５６で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層１０４Ｒと緑色変換蛍光体層１０４Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。
青色発光である有機発光材料としては、例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。
【００８１】
具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。
【００８２】
また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。
【００８３】
また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
【００８４】
さらに、発光層の材料として、一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。
尚、上述の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、カラーフィルタ層９３，１０３の非形成部位にブラックマトリックスを備えるものであってもよい。
【実施例】
【００８５】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
セル部長Ｌを１０〜５００μｍ、非セル部長Ｓを２〜５００μｍの範囲で変更することにより、セル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが下記表１の範囲となるようにして、ストライプ状のセル（セルの深さ３５μｍ）が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に沿って形成された１０種の板状のグラビア版（Ｇ１−Ａ〜Ｇ１−Ｊ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
【００８６】
また、下記組成の赤色発光層用のインキＡ１を調製した。このインキＡ１のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により定常流測定モードで測定した結果、８０ｃＰであった。また、溶媒として使用するメシチレンとテトラリンの表面張力を、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で測定した。
（赤色発光層用のインキＡ１の組成）
・ポリフルオレン誘導体系の赤色発光材料 … ２．５重量％
（分子量：300,000）
・溶媒（メシチレン：テトラリン＝５０：５０の混合溶媒）… ９７．５重量％
（混合溶媒の表面張力＝３２ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１８６℃）
（メシチレンの表面張力＝２８ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１６５℃）
（テトラリンの表面張力＝３５．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝２０７℃）
【００８７】
また、下記組成の正孔注入層用のインキＢ１を調製した。このインキＢ１のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を上記のインキＡ１と同様に測定した結果、１５ｃＰであった。また、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）をＳＩＴＡ ｔ６０／２（ＳＩＴＡ Ｍｅｓｓｔｅｃｈｎｉｋ ＧｍｂＨ社製）を用いて測定した結果、３０ｄｙｎｅ／ｃｍであった。
（正孔注入層用のインキＢ１の組成）
・ＰＥＤＯＴ（ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェン）／ＰＳＳ
（ポリスチレンスルフォネート）（混合比＝１／２０） … ７０重量％
（バイエル社製 Ｂａｙｔｒｏｎ ＰＣＨ８０００）
・混合溶媒 … ３０重量％
（水：イソプロピルアルコール（沸点８２．４℃）＝７０：３０）
【００８８】
また、樹脂フィルムとして、易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を準備した。尚、このフィルムの表面張力は、２種以上の表面張力が判っている液体（標準物質）を使用して、自動接触角計（協和界面科学（株）製 DropMaster 700型）にて接触角θを測定し、γｓ（樹脂フィルムの表面張力）＝γＬ（液体の表面張力）ｃｏｓθ＋γＳＬ（樹脂フィルムと液体の表面張力）の式に基づいて求めた。
次いで、直径１２ｃｍ、胴幅３０ｃｍのブランケット胴（表面にクッション層（硬度７０°）を備える）の周面に、上記の樹脂フィルムを装着してブランケットを作製した。尚、クッション層の硬度はＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度である。
【００８９】
次に、上記の各グラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、グラビア版に上記の赤色発光層用のインキＡ１、正孔注入層用のインキＢ１をそれぞれ供給し、ブレードを用いて不要なインキを除去して、セル内にインキを充填した。次いで、基材として、洗浄処理と紫外線プラズマ洗浄を施したガラス基板を準備し、グラビア版からブランケットにインキを受理させ、その後、ブランケットからガラス基板上にインキを転移させることによって、赤色発光層の形成、および正孔注入層の形成を行った。尚、印刷速度は１０００ｍｍ／秒であり、乾燥は１２０℃に設定したホットプレート上で１時間とした。
【００９０】
上記のように、セル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを測定して、結果を下記の表１に示した。尚、赤色発光層や正孔注入層の厚みは、セイコーインスツルメンツ（株）製のＮａｎｏｐｉｃｓ １０００を使用し、この装置標準のコンタクトモード用カンチレバーを用いて、測定エリア１００μｍ、スキャンスピード９０sec／frameで測定した。
【００９１】
【表１】
表１に示されるように、セル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８〜１００の範囲であるグラビア版Ｇ１−Ｂ〜Ｇ１−Ｉを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【００９２】
［実施例２］
セル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが１〜１０の範囲となるように、セル部長Ｌと非セル部長Ｓを、下記表２に示される数値に設定して、ストライプ状のセル（セルの深さ３５μｍ）が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に沿って形成された９種の板状のグラビア版（Ｇ２−Ａ〜Ｇ２−Ｉ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、セル部長Ｌと非セル部長Ｓが異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表２に示した。
【００９３】
【表２】
表２に示されるように、セル部長Ｌが１０〜５００μｍの範囲で、かつ、非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であるグラビア版Ｇ２−Ａ〜Ｇ２−Ｃ、Ｇ２−Ｆ、Ｇ２−Ｇを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【００９４】
［実施例３］
セル部長Ｌが１２０μｍ、非セル部長Ｓが３０μｍで、比Ｌ／Ｓが４であるストライプ状のセルが印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に沿って形成され、版深が下記の表３に示されるものである７種の板状のグラビア版（Ｇ３−Ａ〜Ｇ３−Ｇ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、版深が異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表３に示した。
【００９５】
【表３】
表３に示されるように、版深が２０〜２００μｍの範囲であるグラビア版Ｇ３−Ｂ〜Ｇ３−Ｆを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【００９６】
［実施例４］
セル部長Ｌが１２０μｍ、非セル部長Ｓが３０μｍで、比Ｌ／Ｓが４であるストライプ状のセル（セルの深さ３５μｍ）を、各セルにおける印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが下記の表４に示される値となるように作製した６種の板状のグラビア版（Ｇ４−Ａ〜Ｇ４−Ｆ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、比ｂ／ａが異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表４に示した。
【００９７】
【表４】
表４に示されるように、比ｂ／ａが０．６以上であるグラビア版Ｇ４−Ｂ〜Ｇ４−Ｆを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【００９８】
［実施例５］
セル部長Ｌを１００μｍ、非セル部長Ｓを２５μｍとし、各セルの長辺が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に対する角度を適宜設定して、格子形状に配列された長方形の複数のセル（深さ３５μｍ）を備え、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが下記の表５に示される値となるように作製した６種の板状のグラビア版（Ｇ５−Ａ〜Ｇ５−Ｆ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであり、成膜部位に占める総セル面積は６８〜７２％であった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、比ｂ／ａが異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表５に示した。
【００９９】
【表５】
表５に示されるように、比ｂ／ａが０．６以上であるグラビア版Ｇ５−Ｂ〜Ｇ５−Ｆを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１００】
［実施例６］
格子形状に配列された長方形（２００μｍ×１００μｍ）のセル（深さ３５μｍ）を、非セル部長Ｓを１０〜５００μｍの範囲で変化させることにより、成膜部位に占める総セル面積率が下記の表６に示される値となるように作製した６種の板状のグラビア版（Ｇ６−Ａ〜Ｇ６−Ｆ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。また、各セルの長辺は印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に対して０°の方向であり、各セルの印刷方向の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａは２であった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、総セル面積率が異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表６に示した。
【０１０１】
【表６】
表６に示されるように、総セル面積率が５５〜９５％の範囲であるグラビア版Ｇ６−Ｂ〜Ｇ６−Ｅを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１０２】
［実施例７］
非セル部長Ｓが２５μｍとなるように格子形状に配列された長方形（２００μｍ×１００μｍ）のセルが、各セルの長辺が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）と平行（各セルの印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａは２）となるように形成され、版深が下記の表７に示されるものである６種の板状のグラビア版（Ｇ７−Ａ〜Ｇ７−Ｆ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであり、成膜部位に占める総セル面積は６４％であった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、版深が異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表７に示した。
【０１０３】
【表７】
表７に示されるように、版深が２０〜２００μｍの範囲であるグラビア版Ｇ７−Ｂ〜Ｇ７−Ｅを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１０４】
［実施例８］
セル部長Ｌが１２０μｍ、非セル部長Ｓが３０μｍで、比Ｌ／Ｓが４であるストライプ状のセル（深さ３５μｍ）が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に沿って形成された板状のグラビア版（Ｇ８）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
また、樹脂フィルムとして、表面張力が異なる下記の５種の樹脂フィルム（Ｆ１〜Ｆ５）を準備した。
（樹脂フィルム）
・Ｆ１ ：ポリプロピレンフィルム（東レ（株）製 トレファンBOタイプ2500）、
厚み５０μｍ、表面張力３０ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ２ ：メラミン焼付けポリエチレンテレフタレートフィルム（パナック（株）製
ＰＥＴ１００ＳＧ−１）、厚み１００μｍ、表面張力３５ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ３ ：ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製 Ｔ６０）、
厚み７５μｍ、表面張力３８ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ４ ：ポリエチレンナフタレートフィルム（帝人（株）製 Ｑ５１）、
厚み７５μｍ、表面張力４５ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ５ ：易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製 Ｕ１０）、
厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ
【０１０５】
次いで、実施例１と同様のブランケット胴の周面に、上記の各樹脂フィルム（Ｆ１〜Ｆ５）を装着して５種のブランケットを作製した。
次に、上記のグラビア版と各ブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、表面張力が異なる樹脂フィルムを装着したブランケットを使用した赤色発光層の形成時、および正孔注入層の形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表８に示した。
【０１０６】
【表８】
表８に示されるように、樹脂フィルムの表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であるブランケットＦ２〜Ｆ５を使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１０７】
［実施例９］
実施例１で使用した赤色発光層用のインキＡ１をもとに、下記の表９に示される沸点の混合溶媒を使用した８種の赤色発光層用のインキ（Ａ１−１〜Ａ１−８）を調製した。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。尚、混合溶媒の表面張力は４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、せん断速度１００／秒におけるインキ粘度（インキ温度２３℃）は５〜２００ｃＰの範囲内であった。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
【０１０８】
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各赤色発光層用のインキ（Ａ１−１〜Ａ１−８）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に赤色発光層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、沸点が異なる溶媒を用いた赤色発光層用のインキ（８種）を使用しての赤色発光層形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表９に示した。
【０１０９】
【表９】
表９に示されるように、沸点が１５０〜２５０℃の範囲の溶媒を用いたインキ（Ａ１−３〜Ａ１−７）を使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層を形成できることが確認された。
【０１１０】
［実施例１０］
実施例１で使用した赤色発光層用のインキＡ１をもとに、下記の表１０に示される表面張力の混合溶媒を使用した８種の赤色発光層用のインキ（Ａ２−１〜Ａ２−８）を調製した。尚、混合溶媒の沸点は１５０〜２５０℃の範囲内であり、せん断速度１００／秒におけるインキ粘度（インキ温度２３℃）は５〜２００ｃＰの範囲内であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
【０１１１】
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各赤色発光層用のインキ（Ａ２−１〜Ａ２−８）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に赤色発光層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、表面張力が異なる溶媒を用いた赤色発光層用のインキ（８種）を使用しての赤色発光層形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１０に示した。
【０１１２】
【表１０】
表１０に示されるように、表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の溶媒を用いたインキ（Ａ２−１〜Ａ２−７）を使用することにより、実用レベルの赤色発光層（厚み７０ｎｍ以上）を形成できることが確認された。
【０１１３】
［実施例１１］
実施例１で使用した赤色発光層用のインキＡ１をもとに、赤色発光材料の含有量を２〜３重量％の範囲で適宜変更し、また、混合溶媒のメシチレンとテトラリンの混合比を変えることにより表面張力を２５〜４０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲で、沸点を１５０〜２５０℃の範囲で適宜変更して、下記表１１に示されるように、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を３ｃＰ〜２５０ｃＰまで振った１２種の赤色発光層用のインキＡ３−１〜Ａ３−１２を調製した。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１１４】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各赤色発光層用のインキ（Ａ３−１〜Ａ３−１２）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に赤色発光層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、粘度が異なる赤色発光層用のインキ（１２種）を使用した赤色発光層の形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１１に示した。
【０１１５】
【表１１】
表１１に示されるように、インキ粘度が５〜２００ｃＰであるインキ（Ａ３−２〜Ａ３−１１）を使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層を形成できることが確認された。
【０１１６】
［実施例１２］
実施例１で使用した正孔注入層用のインキＢ１をもとに、沸点が下記の表１２に示すようなアルコール系溶媒を用いて、７種の正孔注入層用のインキＢ１−１〜Ｂ１−７を調製した。尚、これらのインキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は１〜１００ｃＰの範囲であり、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）は４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１１７】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各正孔注入層用のインキ（Ｂ１−１〜Ｂ１−７）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に正孔注入層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、アルコール系溶媒の沸点が異なる正孔注入層用のインキ（７種）を使用した正孔注入層の形成時の印刷適性を観察し、また、正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１２に示した。
【０１１８】
【表１２】
表１２に示されるように、使用するアルコール系溶媒の沸点が２５０℃以下であるインキ（Ｂ１−２〜Ｂ１−６）を使用することにより、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１１９】
［実施例１３］
実施例１で使用した正孔注入層用のインキＢ１をもとに、ＰＥＤＯＴとＰＳＳの配合比は変えずに、これらの含有量を０．３〜１０重量％の範囲で適宜変更し、また、混合溶媒の水とイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の混合比を９５：５〜３０：７０の範囲（ＩＰＡ含有量５〜７０重量％）で適宜変更して、下記表１３に示されるように、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）を２５〜７０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲で振った６種の正孔注入層用のインキＢ２−１〜Ｂ２−６を調製した。尚、これらのインキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は１〜１００ｃＰの範囲であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１２０】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各正孔注入層用のインキ（Ｂ２−１〜Ｂ２−６）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に正孔注入層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、２Ｈｚにおける動的表面張力が異なる正孔注入層用のインキ（６種）を使用した正孔注入層の形成時の印刷適性を観察し、また、正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１３に示した。
【０１２１】
【表１３】
表１３に示されるように、２Ｈｚにおける動的表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であるインキ（Ｂ２−１〜Ｂ２−４）を使用することにより、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１２２】
［実施例１４］
実施例１で使用した正孔注入層用のインキＢ１をもとに、ＰＥＤＯＴとポリスチレンスルフォネートの配合比は変えずに、これらの含有量を０．３〜１０重量％の範囲で適宜変更し、また、混合溶媒の水とイソプロピルアルコールの混合比を９５：５〜３０：７０の範囲で適宜変更して、下記表１４に示されるように、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を０．５ｃＰ〜１２０ｃＰまで振った９種の正孔注入層用のインキＢ３−１〜Ｂ３−９を調製した。尚、これらのインキの２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）は２０〜４０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１２３】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各正孔注入層用のインキ（Ｂ３−１〜Ｂ３−９）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に正孔注入層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、粘度が異なる正孔注入層用のインキ（９種）を使用した正孔注入層の形成時の印刷適性を観察し、また、正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１４に示した。
【０１２４】
【表１４】
表１４に示されるように、インキ粘度が１〜１００ｃＰであるインキ（Ｂ３−２〜Ｂ３−８）を使用することにより、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１２５】
［実施例１５］
実施例１で使用した正孔注入層用のインキＢ１をもとに、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の含有量が下記の表１５に示すような７種の水−ＩＰＡ混合溶媒を用いて、７種の正孔注入層用のインキＢ４−１〜Ｂ４−７を調製した。尚、これらのインキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は１〜１００ｃＰの範囲であり、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）は４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１２６】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各正孔注入層用のインキ（Ｂ４−１〜Ｂ４−７）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に正孔注入層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、ＩＰＡの含有量が異なる正孔注入層用のインキ（７種）を使用した正孔注入層の形成時の印刷適性を観察し、また、正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１５に示した。
【０１２７】
【表１５】
表１５に示されるように、混合溶媒のＩＰＡの含有量が５〜７０重量％の範囲であるインキ（Ｂ４−２〜Ｂ４−６）を使用することにより、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１２８】
［実施例１６］
（透明電極層の形成）
まず、ガラス基板（厚み０．７ｍｍ）に対して、イオンプレーティング法により膜厚２００ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、幅２．２ｍｍのストライプ形状の透明電極層を４ｍｍピッチで１０本形成した。
（絶縁層の形成）
次に、上記のガラス基板（厚み０．７ｍｍ）に、洗浄処理と紫外線プラズマ洗浄を施し、その後、ネガ型感光性樹脂をスピンコート法で塗布し、フォトリソグラフィープロセスでパターニングして、各透明電極層上に２ｍｍ×２ｍｍの発光エリア（開口部）が４ｍｍピッチで存在するような絶縁層（厚み１μｍ）を形成した。
【０１２９】
（正孔注入層の形成）
グラビア版として、実施例８と同じグラビア版を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、実施例８の樹脂フィルムＦ５（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、実施例１の正孔注入層用のインキＢ１（せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１５ｃＰ、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ、水−ＩＰＡ（沸点＝８２．４℃）混合溶媒中のＩＰＡ含有量が３０重量％）を用いて、実施例１と同様にして、正孔注入層（厚み約７０ｎｍ）を形成した。
【０１３０】
（赤色発光層の形成）
グラビア版として、実施例８と同じグラビア版を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、実施例８の樹脂フィルムＦ５（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、実施例１の赤色発光層用のインキＡ１（せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８０ｃＰ、混合溶媒の表面張力３２ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１８６℃）を用いて、実施例１と同様にして、正孔注入層上に赤色発光層（厚み約１００ｎｍ）の形成を行った。
【０１３１】
（電子注入層の形成）
赤色発光層を形成した面側に、２．２ｍｍ幅のストライプ状の開口部を４ｍｍピッチで備えたメタルマスクを、この開口部が上記のストライプ形状の透明電極層と直交し、かつ、上記の絶縁層の発光エリア（開口部）上に位置するように配置した。次に、このマスクを介して真空蒸着法によりカルシウムを蒸着（蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜して電子注入層（厚み１０ｎｍ）を４ｍｍピッチで１０本形成した。
（電極層の形成）
次に、電子注入層の形成に用いたメタルマスクをそのまま使用して、真空蒸着法によりアルミニウムを蒸着（蒸着速度＝０．４ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、電子注入層上に、アルミニウムからなる幅２．２ｍｍのストライプ形状の電極層（厚み３００ｎｍ）を形成した。
最後に、電極層を形成した面側に、紫外線硬化型接着剤を介して封止板を貼り合わせることにより、本発明の有機発光デバイスを得た。
【０１３２】
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ2の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が１．０ｃｄ／Ａ、素子寿命が１０万時間であった。尚、素子寿命は、初期の輝度が１００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定し、その電流で連続駆動させ、５０ｃｄに半減するまでの時間で評価した。
【０１３３】
［比較例］
グラビア版として、実施例４のグラビア版Ｇ４−Ａ（各セルにおける印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．５）を使用した他は、実施例１７と同様にして、有機発光デバイスを得た。この有機発光デバイスでは、正孔注入層の平均厚みが４０ｎｍ、赤色発光層の平均厚みが６０ｎｍであった。
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ2の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が０．６ｃｄ／Ａ、素子寿命が８０００時間であり、発光効率、寿命が実施例１７の有機発光デバイスに比べて劣るものであった。
【産業上に利用可能性】
【０１３４】
フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の種々の有機発光デバイスの製造において有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】本発明のグラビア版の一実施形態を説明するための図である。
【図２】本発明のグラビア版におけるセルの印刷方向の幅ｂとこれに直交する方向の幅ａの比ｂ／ａを説明するための図である。
【図３】本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。
【図４】本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。
【図５】本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。
【図６】本発明の発光層、正孔注入層の形成方法を説明するための図である。
【図７】本発明の発光層、正孔注入層の形成方法を説明するための図である。
【図８】本発明の発光層、正孔注入層の形成方法を説明するための図である。
【図９】グラビア版のセルを説明するための図である。
【図１０】本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。
【図１１】本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。
【図１２】本発明の有機発光デバイスの一実施形態を示す部分断面斜視図である。
【図１３】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す平面図である。
【図１４】発光層と絶縁層の開口部との関係を示す図である。
【図１５】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す斜視図である。
【図１６】図１５に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線での断面図である。
【図１７】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。
【図１８】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。
【符号の説明】
【０１３６】
１，１′，１１，１１′…グラビア版
２，２′，１２，１２′…セル
３，１３…非セル部
２３…樹脂フィルム
２４…ブランケット胴
４１Ａ…発光層被形成面
３０…発光層用インキ
３０′ 正孔注入層用インキ
３１…発光層
３１′ 正孔注入層
５１，８１，９１，１０１…有機発光デバイス
５２，８２，９２，１０２…透明基材
５３…透明電極層
５４，７４…絶縁層
５５，７５…開口部
５６…発光素子層
５７…正孔注入層
５８，５８Ｒ，５８Ｇ，５８Ｂ，７８Ｒ，７８Ｇ，７８Ｇ…発光層
５９…電子注入層
６０…電極層
７３…電極配線パターン
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光デバイスを構成する発光層や正孔注入層をグラビアオフセット印刷法で形成するためのグラビア版と、発光層や正孔注入層の形成方法と有機発光デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子（有機発光素子）は、自発光により視認性が高いこと、液晶ディスプレーと異なり全固体ディスプレーであること、温度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこと等の利点をもっており、近年、フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の有機発光デバイスとして実用化が進んでいる。
有機発光素子には、発光層を構成する有機発光材料が低分子タイプのものと高分子タイプのものとがあり、例えば、高分子タイプの発光層は、有機発光材料を含有する発光層用インキを使用して種々の印刷方式、あるいはインクジェット方式により製造することができる。
【０００３】
このような例として、粘度が１００〜６００００ｃＰでチキソトロピー性の有機発光材料含有インキを用いて、凹版からシリコンブランケットに受理させ、その後、枚葉の基板に転移させるオフセット印刷方式により発光層を形成する方法がある（特許文献１）。
また、水分溶解度が５重量％以下の溶媒に有機発光材料を含有させたインキを用い、凹版からブランケットに受理させ、その後、基板に転移させるオフセット印刷方式により発光層を形成する方法がある（特許文献２）。
また、有機発光材料を含有するインキをグラビアロールを介してシリコンブランケット表面に供給して塗布膜を形成し、この塗布膜に凸版を押圧し、押圧部位の塗布膜を除去し、その後、シリコンブランケット表面に残った塗布膜を被形成面に転写して発光層を形成する方法がある（特許文献３）。
【０００４】
さらに、有機発光材料を含有するインキと、このインキに用いる溶剤に浸漬したときの体積変化率が４０％以下であるシリコーンエラストマーからなるブランケットとを使用し、インキを凹版の凹部からブランケットに転移させ、さらに、基板上に転写させる凹版オフセット印刷方式により発光層を形成する方法がある（特許文献４）。
このような発光層の形成方法は、正孔注入層の形成にも使用される。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−２９１５８７号公報
【特許文献３】特開２００４−１７８９１５号公報
【特許文献４】特開２００３−３０８９７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上述のようなグラビア版、凹版を用いた従来の発光層、正孔注入層の形成方法では、比較的高粘度のインキを使用するので、ドクターブレードによる凹版の凹部へのインキ充填に際し、掻き残しや厚みムラが生じやすく、均一な厚みの発光層形成が困難であった。このような問題を解消するためにインキを低粘度化すると、インキの低濃度化をきたし、しかもインキの転移量が低く、７０ｎｍ以上の厚みの発光層や、５０ｎｍ以上の厚みの正孔注入層の形成が困難であった。また、シリコンブランケットにインキが浸透し易く、このため形成された発光層、正孔注入層の表面が粗くなるとともに、シリコンブランケットの耐刷力が低下するという問題があった。
一方、有機発光材料や正孔注入材料を含有するインキをスピンコート法で基板上に塗布、乾燥することにより、均一な厚みの発光層、正孔注入層を形成することができる。しかし、スピンコート法を用いて所望のパターン形状の発光層や正孔注入層を形成するには、フォトリソグラフィー法との組み合わせが必要であり工程が複雑となり、また、インキの使用効率が低いという問題があった。これに対して、インクジェット方式では、パターン形状での発光層や正孔注入層の形成が容易であるが、吐出されたインキの流動性や表面張力等の制御が不十分であると、均一な厚みの発光層、正孔注入層を形成することが困難であった。
【０００６】
さらに、従来のフルカラー、あるいはエリアカラーの表示装置としての有機発光デバイスは、上述のような発光層、正孔注入層の厚みムラ、厚み不足により、輝度、効率が不十分であり表示品質の向上に限界があり、信頼性も低いものであった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、均一な厚膜の発光層や正孔注入層を所望のパターンで形成するためのグラビア版と、これを用いた発光層や正孔注入層の形成方法と、高品質な表示が可能で信頼性が高い有機発光デバイスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的を達成するために、本発明は、有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版において、セルがストライプ形状であり、各セルにおける印刷方向の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、各セルのセル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８〜１００の範囲であり、前記セル部長Ｌが１０〜５００μｍの範囲、前記非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
【０００８】
本発明は、有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版において、セルが複数に区画された形状であり、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％であり、非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
【０００９】
また、本発明は、対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの発光層形成方法において、少なくとも有機発光材料を含有する発光層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに発光層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の発光層用インキを発光層被形成面に転移する工程を有し、前記グラビア版は上述の本発明のグラビア版であり、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記発光層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰの範囲であり、前記発光層用インキに用いる溶媒は表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下で、かつ、沸点が１５０〜２５０℃の範囲であるような構成とした。
【００１０】
本発明の他の態様として、前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、グラビア版から発光層用インキを受理する位置と発光層用インキを発光層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えるような構成とした。
【００１１】
本発明の他の態様として、前記発光層用インキにおける前記有機発光材料の含有量は、１．５〜４．０重量％の範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記グラビア版は、複数のセルによって１つのエリアカラー用の絵柄が構成されるものであり、１つの絵柄幅を２００μｍ以上とするような構成とした。
本発明の他の態様として、複数組のグラビア版とブランケットを用いて発光色が異なる複数の発光層を連続して形成するような構成とした。
本発明の他の態様として、グラビア版を軸方向に複数に区画し、各区画毎に任意の発光層用インキを供給して、発光色が異なる複数の発光層を同時に形成するような構成とした。
【００１２】
また、本発明は、対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも正孔注入層と発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの正孔注入層形成方法において、少なくとも正孔注入材料を含有する正孔注入層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに正孔注入層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の正孔注入層用インキを正孔注入層被形成面に転移する工程を有し、前記グラビア版は上述の本発明のグラビア版であり、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記正孔注入層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１〜１００ｃＰの範囲で、かつ、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、前記正孔注入層用インキに用いる溶媒は水とアルコール系溶媒との混合溶媒であり、前記アルコール系溶媒は沸点が２５０℃以下であり、混合溶媒中の前記アルコール系溶媒含有量は５〜７０重量％の範囲であるような構成とした。
【００１３】
本発明の他の態様として、前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケットは、グラビア版から正孔注入層用インキを受理する位置と正孔注入層用インキを正孔注入層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記正孔注入層用インキにおける前記正孔注入材料の含有量は、０．３〜１０．０重量％の範囲であるような構成とした。
【００１４】
本発明の有機発光デバイスは、透明基材と、該透明基材上に所望のパターンで形成された透明電極層と、前記透明基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記透明電極層を被覆するように形成され少なくとも発光層と正孔注入層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上述の本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、前記発光素子層の正孔注入層は、上述の本発明の正孔注入層形成方法により形成されたものであるような構成とした。
【００１５】
また、本発明の有機発光デバイスは、基材と、該基材上に所望のパターンで形成された電極層と、前記基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記電極層を被覆するように形成され少なくとも発光層と正孔注入層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された透明電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上述の本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、前記発光素子層の正孔注入層は、上述の本発明の正孔注入層形成方法により形成されたものであるような構成とした。
【００１６】
本発明の他の態様として、前記発光素子層を構成する前記発光層の厚みが７０ｎｍ以上であり、前記正孔注入層の厚みが５０ｎｍ以上であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光素子層は、少なくとも正孔注入層／発光層／電子注入層がこの順に積層されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、パッシブマトリックス型であるような構成とした。
本発明の他の態様として、アクティブマトリックス型であるような構成とした。
本発明の他の態様として、最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであるような構成とした。
本発明の他の態様として、カラーフィルタ層を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記カラーフィルタ層と前記透明電極との間に色変換蛍光体層を備えるような構成とした。
【００１７】
本発明の他の態様として、前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えるような構成とした。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のグラビア版は、発光層や正孔注入層を均一な厚みで、かつ、所望の厚みで形成することができる。
また、本発明の発光層の形成方法は、発光層を均一な厚みで、かつ、７０ｎｍ以上の厚膜として形成することができ、また、各発光色毎の発光層を所望のパターンで形成することができる。また、本発明の正孔注入層の形成方法は、正孔注入層を均一な厚みで、かつ、５０ｎｍ以上の厚膜として所望のパターンで形成することができる。そして、樹脂フィルム基材のような可撓性を有する基材への発光層や正孔注入層の形成も可能であるとともに、ブランケットの耐刷力が極めて高く、有機発光デバイスの製造コスト低減も可能である。
また、本発明の有機発光デバイスは、発光素子層の発光層と正孔注入層が本発明の方法で製造されているので、発光層や正孔注入層が均一な厚膜であり、発光素子層の発光時の輝度、効率が高く、高品質の表示が可能であるとともに、信頼性の高いものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
［グラビア版］
本発明のグラビア版は、有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版である。
図１は、本発明のグラビア版の一実施形態を説明するための図である。本発明のグラビア版１は、セル２がストライプ形状であり、各セル２の間には非セル部３が存在する。そして、各セル２（斜線を付した部位）の幅（セル部長Ｌ）と、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ）との比Ｌ／Ｓが０．８〜１００、好ましくは１〜６０の範囲であり、セル２の幅（セル部長Ｌ）が１０〜５００μｍ、好ましくは３０〜３００μｍの範囲、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ）が２〜５００μｍ、好ましくは５〜２００μｍの範囲であり、セル２の深さ（版深）が２０〜２００μｍ、好ましくは３０〜１００μｍの範囲である。
【００２０】
また、本発明のグラビア版１は、図２（Ａ）〜図２（Ｃ）に示されるように、各セル２（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上、好ましくは０．８以上であり上限には特に制限はない。尚、本発明において印刷方向とは、グラビア版の回転方向と同義である。
上記のセル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８未満であると、厚膜形成が困難となり、１００を超えると、グラビア版のセル形成が困難となり、また膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、セル２の幅（セル部長Ｌ）が１０μｍ未満であると、厚膜形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ）が２μｍ未満であると、グラビア版のセル形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きく、また厚膜形成が困難となり好ましくない。
【００２１】
また、セル２の深さ（版深）が２０μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、２００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。さらに、比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、後述する発光層の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層の形成が困難となり、また、正孔注入層の形成において５０ｎｍ以上の厚みの正孔注入層の形成が困難となり好ましくない。
【００２２】
図３は、本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。図３に示されるグラビア版１１は、セル１２が複数に区画された形状（図示例では、各セル１２は正方形）であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。また、図４は、本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。図４に示されるグラビア版１１は、セル１２が複数に区画された形状であり、各セル１２は菱形であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。さらに、図５は、本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。図５に示されるグラビア版１１は、セル１２が複数に区画された形状であり、各セル１２は楕円形であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。
【００２３】
上記の図３〜図５に示されるグラビア版１１は、各セル１２（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上、好ましくは０．８以上であり上限には特に制限はない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％、好ましくは６０〜９０％であり、非セル部１３の幅（非セル部長Ｓ１，Ｓ２）が２〜５００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍの範囲であり、セル１２の深さ（版深）が２０〜２００μｍ、好ましくは３０〜１００μｍの範囲である。
【００２４】
上記の比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、後述する発光層の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層の形成が困難となり、また、正孔注入層の形成において５０ｎｍ以上の厚みの正孔注入層の形成が困難となり好ましくない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５％未満であると、厚膜形成が困難となり、９５％を超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部１３の幅（非セル部長Ｓ１，Ｓ２）が２μｍ未満であると、グラビア版のセル形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり、かつ厚膜形成が困難となり好ましくない。また、セル１２の深さ（版深）が２０μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、２００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。
尚、上述のグラビア版のセル形状は例示であり、これらの限定されるものではない。
【００２５】
［発光層、正孔注入層の形成方法］
図６は、本発明の発光層、正孔注入層の形成方法を説明するための図である。図６において、印刷ユニット２１を構成するインキパン２７内の発光層用インキ３０、あるいは正孔注入層用インキ３０′は、回転するグラビア版１（１１）の表面に供給され、ドクターブレード２８で不要なインキ３０，３０′が掻き取られ、セル２（１２）内にのみインキ３０，３０′が供給される。このセル２（１２）内のインキ３０，３０′は、ブランケット２２に受理され、その後、圧胴２６上を搬送されている基材４１の発光層あるいは正孔注入層の被形成面４１Ａに転移される。この基材４１は、乾燥ゾーン２９に送られ、インキ３０，３０′が乾燥されて発光層３１、あるいは正孔注入層３１′が形成される。
【００２６】
このような本発明では、グラビア版１（１１）として、上述の本発明のグラビア版を使用する。尚、ここでのグラビア版の説明は省略する。
また、本発明では、ブランケット２２として、表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、好ましくは３５〜６５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲である樹脂フィルム２３を、ブランケット胴２４の表面に表面層として備えるものを使用する。
本発明で使用する発光層用インキ３０は、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰ、好ましくは２０〜１５０ｃＰの範囲であり、使用している溶媒の表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、好ましくは２０〜３７ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲であり、かつ、沸点が１５０〜２５０℃、好ましくは１７０〜２３０℃の範囲のものである。
【００２７】
さらに、本発明で使用する正孔注入層用インキ３０′は、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１〜１００ｃＰ、好ましくは３〜３０ｃＰの範囲で、かつ、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、好ましくは３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり下限には特に制限はない。また、正孔注入層用インキ３０′に用いる溶媒は水とアルコール系溶媒との混合溶媒であり、アルコール系溶媒は沸点が６０〜２５０℃の範囲であり、混合溶媒中のアルコール系溶媒含有量は５〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重量％の範囲のものである。
【００２８】
（樹脂フィルム）
上述のブランケット２２の表面層を構成する樹脂フィルム２３の表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であると、グラビア版１（１１）からのインキ受理性が低下し、厚みが均一な発光層３１、正孔注入層３１′の形成が困難となる。尚、樹脂フィルム２３の表面張力（固体の表面張力［γｓ］）の測定は、２種以上の表面張力が判っている液体（標準物質）を使用して、自動接触角計（協和界面科学（株）製 DropMaster 700型）にて接触角θを測定し、γｓ（固体の表面張力）＝γＬ（液体の表面張力）ｃｏｓθ＋γＳＬ（固体の液体の表面張力）の式に基づいて求める。
【００２９】
使用する樹脂フィルム２３としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンテレフタレートフィルム、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、コロナ処理を施したポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、易接着タイプのポリエチレンナフタレートフィルム、ポリノルボルネンフィルム、メラミン焼付けポリエチレンテレフタレートフィルム等の樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルム２３の厚みは、例えば、５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲とすることができる。樹脂フィルム２３の厚みが５μｍ未満であると、フィルム加工性、ブランケット胴２４への装着性が低下して好ましくない。また、樹脂フィルム２３の厚みが２００μｍを超えると、硬度が高くなりすぎ、柔軟性が低下して好ましくない。
【００３０】
尚、図示例では、ブランケット胴２４は、表面層である樹脂フィルム２３の下層としてクッション層２４ａを備えている。このクッション層２４ａの硬度は、例えば、２０〜８０°の範囲とすることができ、厚みは、例えば、０．１〜３０ｍｍの範囲とすることができる。尚、上記の硬度は、ＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度である。
【００３１】
また、図６に示される例では、樹脂フィルム２３は、ブランケット胴２４に一体的に装着されたものであるが、図７に示されるように、ブランケット胴２４に巻き付くように樹脂フィルム２３がブランケット胴２４の回転とともに搬送されるようにしてもよい。この場合、グラビア版１（１１）からインキ３０、３０′を受理する位置（矢印ａで示される位置）と、インキ３０、３０′を被形成面４１Ａに転移する位置（矢印ｂで示される位置）と、を少なくとも含む範囲において、ブランケット胴２４に樹脂フィルム２３を巻き付かせる必要がある。このような樹脂フィルム２３は、図示しない供給ロールからブランケット胴２４上に搬送供給され、図示しない巻上げローラに巻き上げられるようにすることができる。また、樹脂フィルム２３をエンドレスフィルムの形状とし、図示していないローラとブランケット胴２４との間の無限軌道上を搬送するようにしてもよい。
【００３２】
また、本発明では、グラビア版を板状としてもよく、図８は、このような実施形態の例を示す図である。図８に示される例では、まず、板状のグラビア版１′（１１′）の表面にインキ３０、３０′を供給し、図示しないドクターブレードで不要なインキ３０、３０′を掻き取ることによりセル２′（１２′）内にのみインキ３０、３０′を供給する。次いで、このセル２′（１２′）内のインキ３０、３０′は、ブランケット２２に受理され、その後、板状の基材４１の被形成面４１Ａに転移され、乾燥されて発光層、あるいは正孔注入層が形成される。また、圧胴２６上を搬送されている基材４１の被形成面４１Ａにインキ３０、３０′を転移し乾燥して発光層、あるいは正孔注入層を形成してもよい。
【００３３】
（発光層用インキ）
本発明で使用する発光層用インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５ｃＰ未満であると、インキダレが生じたり、所望の厚みの発光層の形成が困難となる。一方、２００ｃＰを超えると、グラビア版１（１１）のセル目による凹凸大きくなり、均一な厚みの発光層の形成が困難となる。尚、上記の粘度測定は、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により、測定温度２３℃で定常流測定モードにより行うものとする。また、発光層用インキ３０は、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、せん断速度１０００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．５程度となり、ほぼニュートン流動を示すことが好ましい。
【００３４】
また、発光層用インキ３０に使用している溶媒の表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、グラビア版１（１１）からの発光層用インキ３０の受理性が低下して好ましくない。さらに、発光層用インキ３０の溶媒の沸点が１５０℃未満であると、ブランケット２２を構成する樹脂フィルム２３から基材４１の発光層被形成面４１Ａに転移された発光層用インキ３０が直ちに乾燥して、発光層３１にスジが発生し易くなる。また、２５０℃を超えると、乾燥が困難となり、乾燥ゾーン２９での乾燥による基材４１等への影響が生じたり、溶剤の残留を生じることがあり好ましくない。尚、溶媒の表面張力の測定は、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で行うものとする。
【００３５】
発光層用インキ３０に用いる有機発光材料としては、例えば、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。
【００３６】
（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。
【００３７】
（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
発光層用インキ３０における上述のような有機発光材料の含有量は、例えば、１．５〜４．０重量％の範囲で設定することができる。
【００３８】
また、発光層用インキ３０に用いる溶媒としては、表面張力が上記の範囲（４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、沸点が上記の範囲（１５０〜２５０℃）を満足するもの、例えば、クメン、アニソール、ｎ−プロピルベンゼン、メシチレン、１，２，４−トリメチルベンゼン、リモネン、ｐ−シメン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン、安息香酸メチル、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、アミルベンゼン、テトラリン、安息香酸エチル、フェニルヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、安息香酸ブチル等を単独で使用することができる。また、混合溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した表面張力と沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、表面張力がＡｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＢ℃の溶媒１と、表面張力がＣｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＤ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した表面張力［（Ａ×３／１０）＋（Ｃ×７／１０）］が上記の範囲（４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ｂ×３／１０）＋（Ｄ×７／１０）］が上記の範囲（１５０〜２５０℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々の溶媒は、表面張力と沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい。
【００３９】
（正孔注入層用インキ）
本発明で使用する正孔注入層用インキ３０′のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１ｃＰ未満であると、インキダレが生じたり、所望の厚みの正孔注入層の形成が困難となる。一方、１００ｃＰを超えると、グラビア版１（１１）のセル目による凹凸大きくなり、均一な厚みの正孔注入層の形成が困難となる。尚、上記の粘度測定は、上述の発光層用インキの粘度測定と同様である。また、正孔注入層用インキ３０′の２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が４０ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、グラビア版１（１１）のセル目による凹凸大きくなり、均一な厚みの正孔注入層の形成が困難となる。上記の動的表面張力の測定は、液中に気泡を発生させ、液体からその気泡にかかる圧力から表面張力を測定する方法（最大泡圧法）により行うものであり、ＳＩＴＡ ｔ６０／２（ＳＩＴＡ Ｍｅｓｓｔｅｃｈｎｉｋ ＧｍｂＨ社製）を用い、測定温度２３℃で気泡を２Ｈｚ周期にて発生させたときの動的表面張力値を読み取るものとする。
【００４０】
尚、正孔注入層用インキ３０′は、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、せん断速度１０００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．３程度となり、さらに、正孔注入層用インキ３０′は、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）を１０Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）で除した値が０．８〜１．１程度となり、ほぼニュートン流動を示すことが好ましい。
正孔注入層用インキ３０′に用いる水とアルコール系溶媒との混合溶媒において、使用するアルコール系溶媒は沸点が２５０℃以下、例えば、６０〜２５０℃のものである。沸点が２５０℃を超えると、乾燥が困難となり、乾燥ゾーン２９での乾燥による基材４１等への影響が生じたり、溶剤の残留を生じることがあり好ましくない。また、混合溶媒中のアルコール系溶媒の含有量が５重量％未満であると、セル目による凹凸やはじきが生じて均一な膜厚を得ることが困難であり、７０重量％を超えると、インキ中に凝集物が生じやすくなり好ましくない。
【００４１】
正孔注入層用インキ３０′に用いる正孔注入材料としては、例えば、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００４２】
さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。
正孔注入層用インキ３０′における上述のような正孔注入材料の含有量は、例えば、０．３〜１０．０重量％の範囲で設定することができる。
【００４３】
また、正孔注入層用インキ３０′の混合溶媒に用いるアルコール系溶媒としては、沸点が上記の範囲（２５０℃以下、例えば、６０〜２５０℃）を満足するものであり、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、tert−ブタノール、ｎ−プロパノール、sec−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−（メトキシメトキシ）エタノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、１，３−ブチレングリコール、１−ブトキシエトキシ−２−プロパノール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、１，５−ペンタジオール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテート等を例示することができ、これらを単独で使用することができる。また、２種以上のアルコール系溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、沸点がＡ℃の溶媒１と、沸点がＢ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ａ×３／１０）＋（Ｂ×７／１０）］が上記の範囲（２５０℃以下、例えば、６０〜２５０℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々のアルコール系溶媒は、沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい。
【００４４】
また、本発明の発光層の形成方法では、グラビア版１（１１）に形成するセル２（１２）を、複数のセルによって１つのエリアカラー用の絵柄が構成されるようにしてもよい。図９は、上述のグラビア版１１を例として示すものであり、複数（図示例では１５個）のセル１２により絵柄（鎖線で示す形状）が構成される。この場合、１つの絵柄幅Ｗは２００μｍ以上、好ましくは３００μｍ以上とすることができる。尚、絵柄幅Ｗは、グラビア版１１の回転方向（図９に矢印ａで示した方向）に直交する方向の最小幅である。絵柄幅Ｗが２００μｍ未満であると、絵柄のエッジ付近の厚み変動が１０％以上となり好ましくない。また、上述のグラビア版１を使用しても、同様に、エリアカラー用の絵柄で発光層を形成することができる。
【００４５】
また、本発明の発光層の形成方法では、複数組のグラビア版とブランケットを用いて発光色が異なる複数の発光層を連続して形成してもよい。図１０は、このような例を示すものであり、赤発光層形成用のグラビア版１Ｒ（１１Ｒ）と、ブランケット２２、圧胴２６を備えたユニット２１Ｒ、緑発光層形成用のグラビア版１Ｇ（１１Ｇ）と、ブランケット２２、圧胴２６を備えたユニット２１Ｇ、青発光層形成用のグラビア版１Ｂ（１１Ｂ）と、ブランケット２２、圧胴２６を備えたユニット２１Ｂとを備えている。各ユニット２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂは、上述の印刷ユニット２１と同様であり、各ユニット２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂのインキパン２７には、対応する赤色発光層用インキ３０Ｒ、緑色発光層用インキ３０Ｇ、青色発光層用インキ３０Ｂが供給されている。そして、基材４１の発光層被形成面４１Ａ側に対して、ユニット２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの順で連続して赤色発光層用インキ３０Ｒ、緑色発光層用インキ３０Ｇ、青色発光層用インキ３０Ｂを転移させ、その後、乾燥することにより、赤色発光層３１Ｒ、緑色発光層３１Ｇ、青色発光層３１Ｂを形成することができる。尚、各発光層の形成パターン等は任意に設定することができ、形成順序は上記の順に限定されるものではない。
【００４６】
また、本発明の発光層の形成方法では、グラビア版１（１１）を軸方向に複数に区画し、各区画毎に任意の発光層用インキを供給して、発光色が異なる複数の発光層を同時に形成してもよい。図１１は、このような例を、上述のグラビア版１１を例として説明するための図面であり、グラビア版１１を軸方向（矢印ｂ方向）に３つ（１１Ｇ，１１Ｒ，１１Ｂ）に区画し、各区画にはエリアカラー用の絵柄を形成するための複数のセル１２が形成されている。そして、緑色発光層用インキ、赤色発光層用インキ、青色発光層用インキを、それぞれ、区画１１Ｇ，１１Ｒ，１１Ｂに供給（例えば、ディスペンサー方式）し、上述のように、基材４１の発光層被形成面４１Ａ側に対して、赤色発光層用インキ、緑色発光層用インキ、青色発光層用インキを同時に転移させ、その後、乾燥することにより、エリアカラー絵柄である赤色発光層３１Ｒ、緑色発光層３１Ｇ、青色発光層３１Ｂを形成することができる。尚、絵柄のパターン、寸法、位置関係等は任意に設定することができる。また、上述のグラビア版１を使用しても、同様に、エリアカラー絵柄である赤色発光層３１Ｒ、緑色発光層３１Ｇ、青色発光層３１Ｂを形成することができる。
【００４７】
尚、上述の実施形態におけるブランケット２２は、グラビア版１（１１）と圧胴２６の回転方向に対し順方向回転であるが、形成する発光層、正孔注入層のパターンに応じて、逆方向回転としてもよい。また、基材４１は枚葉であってもよく、グラビア版１（１１）への発光層用インキ３０、正孔注入層用インキ３０′の供給は、インキパン２７を使用せずにディスペンサー等を用いてもよい。
【００４８】
［有機発光デバイス］
図１２は、本発明の有機発光デバイスの一実施形態を示す部分断面斜視図である。図１２において、有機発光デバイス５１は、透明基材５２と、この透明基材５２上に矢印ａ方向に延設さられた帯状パターンの複数の透明電極層５３と、ストライプ形状の開口部５５を有する絶縁層５４と、各透明電極層５３上に位置するストライプ形状の開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように矢印ｂ方向に延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
上記の絶縁層５４の開口部５５は、矢印ａ方向に沿ったストライプ形状の開口部であり、各透明電極層５３上に位置している。
【００４９】
また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７と発光層５８と電子注入層５９とからなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂが、この順で矢印ｂ方向に繰り返し配列されている。尚、正孔注入層５７と発光層５８、電子注入層５９が、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように形成されたものであってもよい。
このような有機発光デバイス５１は、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する部位が発光領域となるパッシブマトリックス型であり、発光素子層５６の正孔注入層５７と発光層５８は、本発明の正孔注入層、発光層の形成方法により形成されたものである。このため、正孔注入層５７の厚みが５０ｎｍ以上であり、また、発光層５８の厚みが７０ｎｍ以上であり、発光素子層５６の発光時の輝度、効率が高く、高品質の表示が可能である。また、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように発光素子層５６を形成した場合には、発光素子層５６を挟持する位置に存在する透明電極層５３と電極層６０との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものである。
【００５０】
次に、本発明の有機発光デバイス５１の各構成部材について説明する。
有機発光デバイス５１を構成する透明基材５２は、通常、観察者側の表面に設けられ、発光層５８からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有するものである。尚、後述するように、発光層５８からの光を取り出す方向を反対方向とする場合には、透明基板５２に替えて不透明な基板を使用してもよい。
透明基板５２（これに替わる不透明な基板も含む）としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。
【００５１】
上記の樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、有機発光デバイス用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
透明基板５２の厚さは、通常、５０μｍ〜１．１ｍｍ程度である。
【００５２】
このような透明基板５２においては、その用途にもよるが、水蒸気や酸素等のガスバリアー性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基板５２に、水蒸気や酸素等のガスバリアー層を形成してもよい。このようなガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものであってよい。
また、有機発光デバイス５１を構成する透明電極層５３は、図示例では陽極であり、発光層５８に正電荷（正孔）を注入するために、正孔注入層５７に隣接して配設されている。尚、透明電極層５３は陰極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
【００５３】
透明電極層５３は、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができ、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。中でも、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。
透明電極層５３は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層５３の厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
この透明電極層５３は、周辺の端子部から中央の画素領域まで所望のパターン形状で配設されている。このようなパターン形状の透明電極層５３は、スパッタリング法や真空蒸着法等によりメタルマスクを用いてパターン形状、または、全面に成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることにより形成される。
【００５４】
有機発光デバイス５１を構成する絶縁層５４は、各透明電極層５３上に位置するストライプ形状の開口部５５を有している。この絶縁層５４は、例えば、透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、パターン露光、現像を行って形成したり、熱硬化性樹脂材料を用いて形成することができ、この絶縁層５４が形成された部分は非発光部となる。絶縁層５４の厚みは、絶縁層５４を構成する樹脂固有の絶縁抵抗に応じて適宜設定できるが、例えば、０．０５〜５．０μｍ程度とすることができる。また、上述の樹脂材料にカーボンブラックや、チタン窒化物、チタン酸化物、チタン酸窒化物等のチタン系黒色顔料の１種、あるいは２種以上の遮光性微粒子を混合することにより、ブラックマトリックスを形成して絶縁層５４としてもよい。
尚、このような絶縁層５４の形状は、上述の形状に限定されるものではない。
【００５５】
有機発光デバイス５１を構成する発光素子層５６は、図示例では、透明電極層５３側から正孔注入層５７、発光層５８、および電子注入層５９が積層された構造であるが、正孔注入層５７と発光層５８とからなる構造、発光層５８と電子注入層５９からなる構造、さらに、正孔注入層５７と発光層５８との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層５８と電子注入層５９との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
また、発光波長を調整したり、発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
【００５６】
発光素子層５６の発光層５８は、図示例では、赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂからなっているが、有機発光デバイスの使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で、また、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせ等、いずれであってもよい。
発光素子層５６の正孔注入層５７に用いる正孔注入材料、および、発光層５８に用いる有機発光材料は、上述の本発明の正孔注入層、発光層の形成方法で挙げた正孔注入材料、有機発光材料を使用することができる。
発光素子層５６の各層に用いるドーピング材料、正孔輸送材料、電子注入材料等は、下記に例示するような無機材料、有機材料いずれでもよい。発光素子層５６の各層の厚みは特に制限はなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。
【００５７】
（ドーピング材料）
ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等が挙げられる。
【００５８】
（正孔輸送材料）
オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。
また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。
【００５９】
（電子注入材料）
カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。
【００６０】
発光素子層５６を構成する各層の形成は、正孔注入層５７、発光層５８については、上述の本発明の形成方法により形成する。また、正孔注入層５７と発光層５８の形成を、正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成することにより行うこともできる。
また、電子注入層５９は、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成することができる。また、スクリーン印刷法等の印刷方法により電子注入層５９を形成することもできる。
【００６１】
有機発光デバイス５１を構成する電極層６０は、図示例では陰極であり、発光層５８に負電荷（電子）を注入するために、電子注入層５９に隣接して配設されている。尚、電極層６０は陽極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
このような電極層６０の材料としては、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、上述の透明電極層５３と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。中でも、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような電極層６０はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、電極層６０の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。
上記の電極層６０は、上述の電極材料を用いてマスクを介したスパッタリング法や真空蒸着法等の方法によりパターン形状に成膜して形成することができる。
【００６２】
本発明の有機発光デバイスは、例えば、上述の有機発光デバイス５１において、電極層６０を透明な電極層とすることにより、光を取り出す方向を反対方向とした有機発光デバイスが可能である。この場合、基材５２は透明でなくてもよく、また、透明電極層５３は不透明な電極層であってもよい。
【００６３】
また、本発明の有機発光デバイスは、アクティブマトリックス型であってもよい。図１３および図１４は、アクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスの一例を説明するための図である。図１３は電極配線パターンを示す図であり、透明基材（図示せず）上に形成された電極配線パターン７３は、信号線７３Ａ、走査線７３Ｂ、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）７３Ｃ、透明電極（画素電極）層７３Ｄからなる。また、これらの電極配線パターン７３を被覆するように絶縁層７４（図１３で斜線を付した部位）が形成されており、この絶縁層７４は、各透明電極層７３Ｄ上に位置する開口部７５を備えている。また、絶縁層７４には、各開口部７５内の透明電極層７３Ｄを被覆するように発光素子層（図示せず）が形成され、この発光素子層上に電極（共通電極）層（図示せず）が配設される。
【００６４】
上記の発光素子層は、絶縁層７４と各開口部７５内の透明電極層７３Ｄとを被覆するように配設された正孔注入層と、開口部７５内の透明電極層７３Ｄ（正孔注入層）を被覆するように各開口部７５毎に配設された複数の発光層と、これらを被覆するように配設された電子注入層と、から構成することができる。図１４は、絶縁層７４の開口部７５と発光層との関係を示す図である。図１４では、発光層は、開口部７５よりも大きい所望のパターン形状の赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂからなっている。
【００６５】
このようなアクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスも、正孔注入層と発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）は、本発明の形成方法により形成されたものである。このため、正孔注入層の厚みが５０ｎｍ以上であり、また、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）の厚みが７０ｎｍ以上であり、発光素子層の発光時の輝度、効率が高く、高品質の表示が可能である。また、開口部７５の周縁の絶縁層７４に乗り上げるように発光素子層を形成した場合、発光素子層を挟持する位置に存在する透明電極層７３Ｄと電極層（図示せず）との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
尚、上記の発光素子層は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００６６】
図１５は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分斜視図であり、図１６は図１５に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線における断面図である。図１５および図１６において、有機発光デバイス８１は、透明基材８２と、この透明基材８２上に長方形状に形成された透明電極層８３と、ひし形開口部８５ａと長方形状開口部８５ｂとを有する絶縁層８４と、各開口部８５ａ、８５ｂ内の透明電極層８３を被覆するように配設された発光素子層８６と、この発光素子層８６を被覆するように形成された電極層９０とを備えている。
上記の発光素子層８６は、積層配設された正孔注入層８７、発光層８８、電子注入層８９からなっている。尚、発光素子層８６が各開口部８５ａ、８５ｂの周縁の絶縁層８４に乗り上げるように形成されたものであってもよい。
【００６７】
このような有機発光デバイス８１は、各開口部８５ａ、８５ｂが存在する部位が表示領域となるエリアカラー表示であり、例えば、各開口部８５ａ、８５ｂの最大開口幅を１０ｍｍ以上に設定して有機発光ポスターとしての使用が可能である。有機発光デバイス８１を構成する正孔注入層８７と発光層８８は、本発明の形成方法により形成されたものである。このため、正孔注入層８７の厚みが５０ｎｍ以上であり、また、発光層８８の厚みが７０ｎｍ以上であり、発光素子層８６の発光時の輝度、効率が高く、高品質の表示が可能である。また、開口部８５ａ、８５ｂの周縁の絶縁層８４に乗り上げるように発光素子層８６を形成した場合、発光素子層８６を挟持する位置に存在する透明電極層８３と電極層９０との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
【００６８】
尚、各開口部８５ａ、８５ｂに位置する各発光層の発光色が異なるものであってもよく、さらに、各開口部８５ａ、８５ｂ上に配設される電極層９０を電気的に独立したものとして、各発光層毎に発光できるようにしてもよい。
また、上記の発光素子層８６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層からなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００６９】
図１７は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１７に示される有機発光デバイス９１は、透明基材９２と、この透明基材９２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂからなるカラーフィルタ層９３と、このようなカラーフィルタ層９３を覆うように配設された透明平滑化層９５と、この透明平滑化層９５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス５１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層５３と、各透明電極層５３上にストライプ形状の開口部５５が位置するように配設された絶縁層５４と、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
【００７０】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層５３は、帯状パターンの赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７と、開口部５５内の透明電極層５３（正孔注入層５７）を被覆するように各開口部５５毎に配設された複数の発光層５８と、これらを被覆するように配設された電子注入層５９と、からなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの白色発光層である。尚、発光素子層５６を開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように形成したものであってもよい。
【００７１】
このような有機発光デバイス９１は、カラーフィルタ層９３と透明平滑化層９５とを備え、発光層５８が白色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス５１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層５６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００７２】
上記のカラーフィルタ層９３は、発光素子層５６からの光を色補正したり、色純度を高めるものである。カラーフィルタ層９３を構成する赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂは、発光素子層５６の発光特性に応じて適宜材料を選択することができ、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。このようなカラーフィルタ層９３の厚みは、各着色層の材料、有機ＥＬ素子層の発光特性等に応じて適宜設定することができ、例えば、１〜３μｍ程度の範囲で設定することができる。
【００７３】
また、透明平滑化層９５は、カラーフィルタ層９３以下の構成により段差（表面凹凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図り、発光素子層５６の厚みムラ発生を防止する平坦化作用をなす。このような透明平滑化層９５は、透明（可視光透過率５０％以上）樹脂により形成することができる。具体的には、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。
このような透明平滑化層９５の厚みは、使用する材料を考慮し、平坦化作用が発現できる範囲で設定することができ、例えば、１〜５μｍ程度の範囲で適宜設定することができる。
【００７４】
また、図１８は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１８に示される有機発光デバイス１０１は、透明基材１０２と、この透明基材１０２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層１０３Ｒ、緑色着色層１０３Ｒ、青色着色層１０３Ｂからなるカラーフィルタ層１０３と、このようなカラーフィルタ層１０３の赤色着色層１０３Ｒ、緑色着色層１０３Ｒ、青色着色層１０３Ｂを覆うように帯状パターンの赤色変換蛍光体層１０４Ｒ（青色光を赤色蛍光に変換する層）、緑色変換蛍光体層１０４Ｇ（青色光を緑色蛍光に変換する層）、青色変換ダミー層１０４Ｂ（青色光をそのまま透過する層）からなる色変換蛍光体層１０４が設けられ、さらに、これらを覆うように配設された透明平滑化層１０５と、この透明平滑化層１０５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス５１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層５３と、各透明電極層５３上にストライプ形状の開口部５５が位置するように配設された絶縁層５４と、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
【００７５】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層５３は、帯状パターンの赤色変換蛍光体層１０４Ｒ、緑色変換蛍光体層１０４Ｇ、青色変換ダミー層１０４Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７、発光層５８、電子注入層５９とからなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの青色発光層である。尚、発光素子層５６は、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるようなものであってもよい。
【００７６】
このような有機発光デバイス１０１は、カラーフィルタ層１０３と色変換蛍光体層１０４と透明平滑化層１０５とを備え、発光層５８が青色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス５１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。また、カラーフィルタ層１０３、透明平滑化層１０５は、上述のカラーフィルタ層９３、透明平滑化層９５と同様であり、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層５６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００７７】
上記の赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇは、蛍光色素単体からなる層、あるいは、樹脂中に蛍光色素を含有した層である。青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層１０４Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層１０４Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。
【００７８】
また、青色変換ダミー層１０４Ｂは、発光素子層５６で発光された青色光をそのまま透過してカラーフィルタ層１０３に送るものであり、赤色変換蛍光体層１０４Ｒ、緑色変換蛍光体層１０４Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層１０４のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層１０４Ｂに使用することができる。
【００７９】
色変換蛍光体層１０４を構成する赤色変換蛍光体層１０４Ｒと緑色変換蛍光体層１０４Ｇは、蛍光色素単体で形成する場合、例えば、所望のパターンマスクを介して真空蒸着法、スパッタリング法により帯状に形成することができる。また、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成する場合、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により赤色変換蛍光体層１０４Ｒや緑色変換蛍光体層１０４Ｇを形成することができる。また、青色変換ダミー層１０４Ｂは、所望の感光性樹脂塗料をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、所望の樹脂塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により形成することができる。
【００８０】
このような色変換蛍光体層１０４の厚みは、赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが発光素子層５６で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層１０４Ｒと緑色変換蛍光体層１０４Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。
青色発光である有機発光材料としては、例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。
【００８１】
具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。
【００８２】
また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。
【００８３】
また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
【００８４】
さらに、発光層の材料として、一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。
尚、上述の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、カラーフィルタ層９３，１０３の非形成部位にブラックマトリックスを備えるものであってもよい。
【実施例】
【００８５】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
セル部長Ｌを１０〜５００μｍ、非セル部長Ｓを２〜５００μｍの範囲で変更することにより、セル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが下記表１の範囲となるようにして、ストライプ状のセル（セルの深さ３５μｍ）が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に沿って形成された１０種の板状のグラビア版（Ｇ１−Ａ〜Ｇ１−Ｊ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
【００８６】
また、下記組成の赤色発光層用のインキＡ１を調製した。このインキＡ１のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により定常流測定モードで測定した結果、８０ｃＰであった。また、溶媒として使用するメシチレンとテトラリンの表面張力を、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で測定した。
（赤色発光層用のインキＡ１の組成）
・ポリフルオレン誘導体系の赤色発光材料 … ２．５重量％
（分子量：300,000）
・溶媒（メシチレン：テトラリン＝５０：５０の混合溶媒）… ９７．５重量％
（混合溶媒の表面張力＝３２ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１８６℃）
（メシチレンの表面張力＝２８ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１６５℃）
（テトラリンの表面張力＝３５．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝２０７℃）
【００８７】
また、下記組成の正孔注入層用のインキＢ１を調製した。このインキＢ１のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を上記のインキＡ１と同様に測定した結果、１５ｃＰであった。また、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）をＳＩＴＡ ｔ６０／２（ＳＩＴＡ Ｍｅｓｓｔｅｃｈｎｉｋ ＧｍｂＨ社製）を用いて測定した結果、３０ｄｙｎｅ／ｃｍであった。
（正孔注入層用のインキＢ１の組成）
・ＰＥＤＯＴ（ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェン）／ＰＳＳ
（ポリスチレンスルフォネート）（混合比＝１／２０） … ７０重量％
（バイエル社製 Ｂａｙｔｒｏｎ ＰＣＨ８０００）
・混合溶媒 … ３０重量％
（水：イソプロピルアルコール（沸点８２．４℃）＝７０：３０）
【００８８】
また、樹脂フィルムとして、易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を準備した。尚、このフィルムの表面張力は、２種以上の表面張力が判っている液体（標準物質）を使用して、自動接触角計（協和界面科学（株）製 DropMaster 700型）にて接触角θを測定し、γｓ（樹脂フィルムの表面張力）＝γＬ（液体の表面張力）ｃｏｓθ＋γＳＬ（樹脂フィルムと液体の表面張力）の式に基づいて求めた。
次いで、直径１２ｃｍ、胴幅３０ｃｍのブランケット胴（表面にクッション層（硬度７０°）を備える）の周面に、上記の樹脂フィルムを装着してブランケットを作製した。尚、クッション層の硬度はＪＩＳ（Ｋ６２５３）デュロメータ硬さ試験によるＴｙｐｅＡ硬度である。
【００８９】
次に、上記の各グラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、グラビア版に上記の赤色発光層用のインキＡ１、正孔注入層用のインキＢ１をそれぞれ供給し、ブレードを用いて不要なインキを除去して、セル内にインキを充填した。次いで、基材として、洗浄処理と紫外線プラズマ洗浄を施したガラス基板を準備し、グラビア版からブランケットにインキを受理させ、その後、ブランケットからガラス基板上にインキを転移させることによって、赤色発光層の形成、および正孔注入層の形成を行った。尚、印刷速度は１０００ｍｍ／秒であり、乾燥は１２０℃に設定したホットプレート上で１時間とした。
【００９０】
上記のように、セル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを測定して、結果を下記の表１に示した。尚、赤色発光層や正孔注入層の厚みは、セイコーインスツルメンツ（株）製のＮａｎｏｐｉｃｓ １０００を使用し、この装置標準のコンタクトモード用カンチレバーを用いて、測定エリア１００μｍ、スキャンスピード９０sec／frameで測定した。
【００９１】
【表１】
表１に示されるように、セル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８〜１００の範囲であるグラビア版Ｇ１−Ｂ〜Ｇ１−Ｉを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【００９２】
［実施例２］
セル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが１〜１０の範囲となるように、セル部長Ｌと非セル部長Ｓを、下記表２に示される数値に設定して、ストライプ状のセル（セルの深さ３５μｍ）が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に沿って形成された９種の板状のグラビア版（Ｇ２−Ａ〜Ｇ２−Ｉ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、セル部長Ｌと非セル部長Ｓが異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表２に示した。
【００９３】
【表２】
表２に示されるように、セル部長Ｌが１０〜５００μｍの範囲で、かつ、非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であるグラビア版Ｇ２−Ａ〜Ｇ２−Ｃ、Ｇ２−Ｆ、Ｇ２−Ｇを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【００９４】
［実施例３］
セル部長Ｌが１２０μｍ、非セル部長Ｓが３０μｍで、比Ｌ／Ｓが４であるストライプ状のセルが印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に沿って形成され、版深が下記の表３に示されるものである７種の板状のグラビア版（Ｇ３−Ａ〜Ｇ３−Ｇ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、版深が異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表３に示した。
【００９５】
【表３】
表３に示されるように、版深が２０〜２００μｍの範囲であるグラビア版Ｇ３−Ｂ〜Ｇ３−Ｆを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【００９６】
［実施例４］
セル部長Ｌが１２０μｍ、非セル部長Ｓが３０μｍで、比Ｌ／Ｓが４であるストライプ状のセル（セルの深さ３５μｍ）を、各セルにおける印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが下記の表４に示される値となるように作製した６種の板状のグラビア版（Ｇ４−Ａ〜Ｇ４−Ｆ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、比ｂ／ａが異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表４に示した。
【００９７】
【表４】
表４に示されるように、比ｂ／ａが０．６以上であるグラビア版Ｇ４−Ｂ〜Ｇ４−Ｆを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【００９８】
［実施例５］
セル部長Ｌを１００μｍ、非セル部長Ｓを２５μｍとし、各セルの長辺が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に対する角度を適宜設定して、格子形状に配列された長方形の複数のセル（深さ３５μｍ）を備え、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが下記の表５に示される値となるように作製した６種の板状のグラビア版（Ｇ５−Ａ〜Ｇ５−Ｆ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであり、成膜部位に占める総セル面積は６８〜７２％であった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、比ｂ／ａが異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表５に示した。
【００９９】
【表５】
表５に示されるように、比ｂ／ａが０．６以上であるグラビア版Ｇ５−Ｂ〜Ｇ５−Ｆを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１００】
［実施例６］
格子形状に配列された長方形（２００μｍ×１００μｍ）のセル（深さ３５μｍ）を、非セル部長Ｓを１０〜５００μｍの範囲で変化させることにより、成膜部位に占める総セル面積率が下記の表６に示される値となるように作製した６種の板状のグラビア版（Ｇ６−Ａ〜Ｇ６−Ｆ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。また、各セルの長辺は印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に対して０°の方向であり、各セルの印刷方向の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａは２であった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、総セル面積率が異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表６に示した。
【０１０１】
【表６】
表６に示されるように、総セル面積率が５５〜９５％の範囲であるグラビア版Ｇ６−Ｂ〜Ｇ６−Ｅを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１０２】
［実施例７］
非セル部長Ｓが２５μｍとなるように格子形状に配列された長方形（２００μｍ×１００μｍ）のセルが、各セルの長辺が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）と平行（各セルの印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａは２）となるように形成され、版深が下記の表７に示されるものである６種の板状のグラビア版（Ｇ７−Ａ〜Ｇ７−Ｆ）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであり、成膜部位に占める総セル面積は６４％であった。
このグラビア版を使用した他は、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、版深が異なるグラビア版を使用した赤色発光層形成時、および正孔注入層形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表７に示した。
【０１０３】
【表７】
表７に示されるように、版深が２０〜２００μｍの範囲であるグラビア版Ｇ７−Ｂ〜Ｇ７−Ｅを使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１０４】
［実施例８］
セル部長Ｌが１２０μｍ、非セル部長Ｓが３０μｍで、比Ｌ／Ｓが４であるストライプ状のセル（深さ３５μｍ）が印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）に沿って形成された板状のグラビア版（Ｇ８）を準備した。尚、グラビア版の有効幅は５０ｍｍであった。
また、樹脂フィルムとして、表面張力が異なる下記の５種の樹脂フィルム（Ｆ１〜Ｆ５）を準備した。
（樹脂フィルム）
・Ｆ１ ：ポリプロピレンフィルム（東レ（株）製 トレファンBOタイプ2500）、
厚み５０μｍ、表面張力３０ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ２ ：メラミン焼付けポリエチレンテレフタレートフィルム（パナック（株）製
ＰＥＴ１００ＳＧ−１）、厚み１００μｍ、表面張力３５ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ３ ：ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製 Ｔ６０）、
厚み７５μｍ、表面張力３８ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ４ ：ポリエチレンナフタレートフィルム（帝人（株）製 Ｑ５１）、
厚み７５μｍ、表面張力４５ｄｙｎｅ／ｃｍ
・Ｆ５ ：易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製 Ｕ１０）、
厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ
【０１０５】
次いで、実施例１と同様のブランケット胴の周面に、上記の各樹脂フィルム（Ｆ１〜Ｆ５）を装着して５種のブランケットを作製した。
次に、上記のグラビア版と各ブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、実施例１と同様にして、赤色発光層と正孔注入層の形成を行った。
上記のように、表面張力が異なる樹脂フィルムを装着したブランケットを使用した赤色発光層の形成時、および正孔注入層の形成時の印刷適性を観察した。また、赤色発光層と正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表８に示した。
【０１０６】
【表８】
表８に示されるように、樹脂フィルムの表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であるブランケットＦ２〜Ｆ５を使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層、および、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１０７】
［実施例９］
実施例１で使用した赤色発光層用のインキＡ１をもとに、下記の表９に示される沸点の混合溶媒を使用した８種の赤色発光層用のインキ（Ａ１−１〜Ａ１−８）を調製した。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。尚、混合溶媒の表面張力は４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、せん断速度１００／秒におけるインキ粘度（インキ温度２３℃）は５〜２００ｃＰの範囲内であった。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
【０１０８】
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各赤色発光層用のインキ（Ａ１−１〜Ａ１−８）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に赤色発光層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、沸点が異なる溶媒を用いた赤色発光層用のインキ（８種）を使用しての赤色発光層形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表９に示した。
【０１０９】
【表９】
表９に示されるように、沸点が１５０〜２５０℃の範囲の溶媒を用いたインキ（Ａ１−３〜Ａ１−７）を使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層を形成できることが確認された。
【０１１０】
［実施例１０］
実施例１で使用した赤色発光層用のインキＡ１をもとに、下記の表１０に示される表面張力の混合溶媒を使用した８種の赤色発光層用のインキ（Ａ２−１〜Ａ２−８）を調製した。尚、混合溶媒の沸点は１５０〜２５０℃の範囲内であり、せん断速度１００／秒におけるインキ粘度（インキ温度２３℃）は５〜２００ｃＰの範囲内であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
【０１１１】
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各赤色発光層用のインキ（Ａ２−１〜Ａ２−８）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に赤色発光層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、表面張力が異なる溶媒を用いた赤色発光層用のインキ（８種）を使用しての赤色発光層形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１０に示した。
【０１１２】
【表１０】
表１０に示されるように、表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の溶媒を用いたインキ（Ａ２−１〜Ａ２−７）を使用することにより、実用レベルの赤色発光層（厚み７０ｎｍ以上）を形成できることが確認された。
【０１１３】
［実施例１１］
実施例１で使用した赤色発光層用のインキＡ１をもとに、赤色発光材料の含有量を２〜３重量％の範囲で適宜変更し、また、混合溶媒のメシチレンとテトラリンの混合比を変えることにより表面張力を２５〜４０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲で、沸点を１５０〜２５０℃の範囲で適宜変更して、下記表１１に示されるように、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を３ｃＰ〜２５０ｃＰまで振った１２種の赤色発光層用のインキＡ３−１〜Ａ３−１２を調製した。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１１４】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各赤色発光層用のインキ（Ａ３−１〜Ａ３−１２）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に赤色発光層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、粘度が異なる赤色発光層用のインキ（１２種）を使用した赤色発光層の形成時の印刷適性を観察し、また、赤色発光層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１１に示した。
【０１１５】
【表１１】
表１１に示されるように、インキ粘度が５〜２００ｃＰであるインキ（Ａ３−２〜Ａ３−１１）を使用することにより、実用レベル（厚み７０ｎｍ以上）の赤色発光層を形成できることが確認された。
【０１１６】
［実施例１２］
実施例１で使用した正孔注入層用のインキＢ１をもとに、沸点が下記の表１２に示すようなアルコール系溶媒を用いて、７種の正孔注入層用のインキＢ１−１〜Ｂ１−７を調製した。尚、これらのインキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は１〜１００ｃＰの範囲であり、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）は４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１１７】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各正孔注入層用のインキ（Ｂ１−１〜Ｂ１−７）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に正孔注入層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、アルコール系溶媒の沸点が異なる正孔注入層用のインキ（７種）を使用した正孔注入層の形成時の印刷適性を観察し、また、正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１２に示した。
【０１１８】
【表１２】
表１２に示されるように、使用するアルコール系溶媒の沸点が２５０℃以下であるインキ（Ｂ１−２〜Ｂ１−６）を使用することにより、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１１９】
［実施例１３］
実施例１で使用した正孔注入層用のインキＢ１をもとに、ＰＥＤＯＴとＰＳＳの配合比は変えずに、これらの含有量を０．３〜１０重量％の範囲で適宜変更し、また、混合溶媒の水とイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の混合比を９５：５〜３０：７０の範囲（ＩＰＡ含有量５〜７０重量％）で適宜変更して、下記表１３に示されるように、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）を２５〜７０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲で振った６種の正孔注入層用のインキＢ２−１〜Ｂ２−６を調製した。尚、これらのインキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は１〜１００ｃＰの範囲であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１２０】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各正孔注入層用のインキ（Ｂ２−１〜Ｂ２−６）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に正孔注入層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、２Ｈｚにおける動的表面張力が異なる正孔注入層用のインキ（６種）を使用した正孔注入層の形成時の印刷適性を観察し、また、正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１３に示した。
【０１２１】
【表１３】
表１３に示されるように、２Ｈｚにおける動的表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であるインキ（Ｂ２−１〜Ｂ２−４）を使用することにより、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１２２】
［実施例１４］
実施例１で使用した正孔注入層用のインキＢ１をもとに、ＰＥＤＯＴとポリスチレンスルフォネートの配合比は変えずに、これらの含有量を０．３〜１０重量％の範囲で適宜変更し、また、混合溶媒の水とイソプロピルアルコールの混合比を９５：５〜３０：７０の範囲で適宜変更して、下記表１４に示されるように、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）を０．５ｃＰ〜１２０ｃＰまで振った９種の正孔注入層用のインキＢ３−１〜Ｂ３−９を調製した。尚、これらのインキの２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）は２０〜４０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１２３】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各正孔注入層用のインキ（Ｂ３−１〜Ｂ３−９）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に正孔注入層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、粘度が異なる正孔注入層用のインキ（９種）を使用した正孔注入層の形成時の印刷適性を観察し、また、正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１４に示した。
【０１２４】
【表１４】
表１４に示されるように、インキ粘度が１〜１００ｃＰであるインキ（Ｂ３−２〜Ｂ３−８）を使用することにより、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１２５】
［実施例１５］
実施例１で使用した正孔注入層用のインキＢ１をもとに、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の含有量が下記の表１５に示すような７種の水−ＩＰＡ混合溶媒を用いて、７種の正孔注入層用のインキＢ４−１〜Ｂ４−７を調製した。尚、これらのインキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は１〜１００ｃＰの範囲であり、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）は４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であった。
一方、グラビア版として、実施例８と同じグラビア版Ｇ８を準備した。
【０１２６】
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、樹脂フィルムとして易接着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、各正孔注入層用のインキ（Ｂ４−１〜Ｂ４−７）を用いて、実施例１と同様にして、ガラス基板上に正孔注入層の形成を行った。また、乾燥条件も実施例１と同様とした。
上記のように、ＩＰＡの含有量が異なる正孔注入層用のインキ（７種）を使用した正孔注入層の形成時の印刷適性を観察し、また、正孔注入層の厚み変動率［（最大厚み−最小厚み）／平均厚み］×１００（％）と平均厚みを実施例１と同様に測定して、結果を下記の表１５に示した。
【０１２７】
【表１５】
表１５に示されるように、混合溶媒のＩＰＡの含有量が５〜７０重量％の範囲であるインキ（Ｂ４−２〜Ｂ４−６）を使用することにより、実用レベル（厚み５０ｎｍ以上）の正孔注入層を形成できることが確認された。
【０１２８】
［実施例１６］
（透明電極層の形成）
まず、ガラス基板（厚み０．７ｍｍ）に対して、イオンプレーティング法により膜厚２００ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、幅２．２ｍｍのストライプ形状の透明電極層を４ｍｍピッチで１０本形成した。
（絶縁層の形成）
次に、上記のガラス基板（厚み０．７ｍｍ）に、洗浄処理と紫外線プラズマ洗浄を施し、その後、ネガ型感光性樹脂をスピンコート法で塗布し、フォトリソグラフィープロセスでパターニングして、各透明電極層上に２ｍｍ×２ｍｍの発光エリア（開口部）が４ｍｍピッチで存在するような絶縁層（厚み１μｍ）を形成した。
【０１２９】
（正孔注入層の形成）
グラビア版として、実施例８と同じグラビア版を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、実施例８の樹脂フィルムＦ５（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、実施例１の正孔注入層用のインキＢ１（せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１５ｃＰ、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ、水−ＩＰＡ（沸点＝８２．４℃）混合溶媒中のＩＰＡ含有量が３０重量％）を用いて、実施例１と同様にして、正孔注入層（厚み約７０ｎｍ）を形成した。
【０１３０】
（赤色発光層の形成）
グラビア版として、実施例８と同じグラビア版を準備した。
また、実施例１と同じブランケット胴の周面に、実施例８の樹脂フィルムＦ５（東レ（株）製 Ｕ１０、厚み１００μｍ、表面張力６０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を装着してブランケットとした。
次に、上記のグラビア版とブランケットを平台オフセット印刷機に装着し、実施例１の赤色発光層用のインキＡ１（せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８０ｃＰ、混合溶媒の表面張力３２ｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点＝１８６℃）を用いて、実施例１と同様にして、正孔注入層上に赤色発光層（厚み約１００ｎｍ）の形成を行った。
【０１３１】
（電子注入層の形成）
赤色発光層を形成した面側に、２．２ｍｍ幅のストライプ状の開口部を４ｍｍピッチで備えたメタルマスクを、この開口部が上記のストライプ形状の透明電極層と直交し、かつ、上記の絶縁層の発光エリア（開口部）上に位置するように配置した。次に、このマスクを介して真空蒸着法によりカルシウムを蒸着（蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜して電子注入層（厚み１０ｎｍ）を４ｍｍピッチで１０本形成した。
（電極層の形成）
次に、電子注入層の形成に用いたメタルマスクをそのまま使用して、真空蒸着法によりアルミニウムを蒸着（蒸着速度＝０．４ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、電子注入層上に、アルミニウムからなる幅２．２ｍｍのストライプ形状の電極層（厚み３００ｎｍ）を形成した。
最後に、電極層を形成した面側に、紫外線硬化型接着剤を介して封止板を貼り合わせることにより、本発明の有機発光デバイスを得た。
【０１３２】
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ2の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が１．０ｃｄ／Ａ、素子寿命が１０万時間であった。尚、素子寿命は、初期の輝度が１００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定し、その電流で連続駆動させ、５０ｃｄに半減するまでの時間で評価した。
【０１３３】
［比較例］
グラビア版として、実施例４のグラビア版Ｇ４−Ａ（各セルにおける印刷方向（ブランケット胴の稼動方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．５）を使用した他は、実施例１７と同様にして、有機発光デバイスを得た。この有機発光デバイスでは、正孔注入層の平均厚みが４０ｎｍ、赤色発光層の平均厚みが６０ｎｍであった。
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ2の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が０．６ｃｄ／Ａ、素子寿命が８０００時間であり、発光効率、寿命が実施例１７の有機発光デバイスに比べて劣るものであった。
【産業上に利用可能性】
【０１３４】
フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の種々の有機発光デバイスの製造において有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】本発明のグラビア版の一実施形態を説明するための図である。
【図２】本発明のグラビア版におけるセルの印刷方向の幅ｂとこれに直交する方向の幅ａの比ｂ／ａを説明するための図である。
【図３】本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。
【図４】本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。
【図５】本発明のグラビア版の他の実施形態を説明するための図である。
【図６】本発明の発光層、正孔注入層の形成方法を説明するための図である。
【図７】本発明の発光層、正孔注入層の形成方法を説明するための図である。
【図８】本発明の発光層、正孔注入層の形成方法を説明するための図である。
【図９】グラビア版のセルを説明するための図である。
【図１０】本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。
【図１１】本発明の発光層の形成方法を説明するための図である。
【図１２】本発明の有機発光デバイスの一実施形態を示す部分断面斜視図である。
【図１３】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す平面図である。
【図１４】発光層と絶縁層の開口部との関係を示す図である。
【図１５】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す斜視図である。
【図１６】図１５に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線での断面図である。
【図１７】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。
【図１８】本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。
【符号の説明】
【０１３６】
１，１′，１１，１１′…グラビア版
２，２′，１２，１２′…セル
３，１３…非セル部
２３…樹脂フィルム
２４…ブランケット胴
４１Ａ…発光層被形成面
３０…発光層用インキ
３０′ 正孔注入層用インキ
３１…発光層
３１′ 正孔注入層
５１，８１，９１，１０１…有機発光デバイス
５２，８２，９２，１０２…透明基材
５３…透明電極層
５４，７４…絶縁層
５５，７５…開口部
５６…発光素子層
５７…正孔注入層
５８，５８Ｒ，５８Ｇ，５８Ｂ，７８Ｒ，７８Ｇ，７８Ｇ…発光層
５９…電子注入層
６０…電極層
７３…電極配線パターン
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版において、
セルがストライプ形状であり、各セルにおける印刷方向の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、各セルのセル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８〜１００の範囲であり、前記セル部長Ｌが１０〜５００μｍの範囲、前記非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲であることを特徴とするグラビア版。
【請求項２】
有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版において、
セルが複数に区画された形状であり、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％であり、非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲であることを特徴とするグラビア版。
【請求項３】
対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの発光層形成方法において、
少なくとも有機発光材料を含有する発光層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに発光層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の発光層用インキを発光層被形成面に転移する工程を有し、前記グラビア版は請求項１または請求項２に記載のグラビア版であり、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記発光層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰの範囲であり、前記発光層用インキに用いる溶媒は表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下で、かつ、沸点が１５０〜２５０℃の範囲であることを特徴とする発光層形成方法。
【請求項４】
前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項３に記載の発光層形成方法。
【請求項５】
前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の発光層形成方法。
【請求項６】
前記ブランケットは、グラビア版から発光層用インキを受理する位置と発光層用インキを発光層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の発光層形成方法。
【請求項７】
前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の発光層形成方法。
【請求項８】
前記発光層用インキにおける前記有機発光材料の含有量は、１．５〜４．０重量％の範囲であることを特徴とする請求項３乃至請求項７のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項９】
前記グラビア版は、複数のセルによって１つのエリアカラー用の絵柄が構成されるものであり、１つの絵柄幅を２００μｍ以上とすることを特徴とする請求項３乃至請求項８のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項１０】
複数組のグラビア版とブランケットを用いて発光色が異なる複数の発光層を連続して形成することを特徴とする請求項３乃至請求項９のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項１１】
グラビア版を軸方向に複数に区画し、各区画毎に任意の発光層用インキを供給して、発光色が異なる複数の発光層を同時に形成することを特徴とする請求項９に記載の発光層形成方法。
【請求項１２】
対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも正孔注入層と発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの正孔注入層形成方法において、
少なくとも正孔注入材料を含有する正孔注入層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに正孔注入層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の正孔注入層用インキを正孔注入層被形成面に転移する工程を有し、前記グラビア版は請求項１または請求項２に記載のグラビア版であり、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記正孔注入層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１〜１００ｃＰの範囲で、かつ、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、前記正孔注入層用インキに用いる溶媒は水とアルコール系溶媒との混合溶媒であり、前記アルコール系溶媒は沸点が２５０℃以下であり、混合溶媒中の前記アルコール系溶媒含有量は５〜７０重量％の範囲であることを特徴とする正孔注入層形成方法。
【請求項１３】
前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項１２に記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１４】
前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであることを特徴とする請求項１２または請求項１３に記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１５】
前記ブランケットは、グラビア版から正孔注入層用インキを受理する位置と正孔注入層用インキを正孔注入層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであることを特徴とする請求項１２または請求項１３に記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１６】
前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えることを特徴とする請求項１４または請求項１５に記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１７】
前記正孔注入層用インキにおける前記正孔注入材料の含有量は、０．３〜１０．０重量％の範囲であることを特徴とする請求項１２乃至請求項１６のいずれかに記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１８】
透明基材と、該透明基材上に所望のパターンで形成された透明電極層と、前記透明基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記透明電極層を被覆するように形成され少なくとも発光層と正孔注入層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、請求項３乃至請求項１１のいずれかの方法により形成されたものであり、前記発光素子層の正孔注入層は、請求項１２乃至請求項１７のいずれかの方法により形成されたものであることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項１９】
基材と、該基材上に所望のパターンで形成された電極層と、前記基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記電極層を被覆するように形成され少なくとも発光層と正孔注入層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された透明電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、請求項３乃至請求項１１のいずれかの方法により形成されたものであり、前記発光素子層の正孔注入層は、請求項１２乃至請求項１７のいずれかの方法により形成されたものであることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項２０】
前記発光素子層を構成する前記発光層の厚みが７０ｎｍ以上であり、前記正孔注入層の厚みが５０ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の有機発光デバイス。
【請求項２１】
前記発光素子層は、少なくとも正孔注入層／発光層／電子注入層がこの順に積層されたものであることを特徴とする請求項１８乃至請求項２０のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２２】
パッシブマトリックス型であることを特徴とする請求項１８乃至請求項２１のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２３】
アクティブマトリックス型であることを特徴とする請求項１８乃至請求項２１のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２４】
最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであることを特徴とする請求項１８乃至請求項２２のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２５】
カラーフィルタ層を備えることを特徴とする請求項１８乃至請求項２４のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２６】
前記カラーフィルタ層と前記透明電極との間に色変換蛍光体層を備えることを特徴とする請求項２５に記載の有機発光デバイス。
【請求項２７】
前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであることを特徴とする請求項１８乃至請求項２６のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２８】
前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えていることを特徴とする請求項２６に記載の有機発光デバイス。
【請求項２９】
前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えることを特徴とする請求項１８乃至請求項２８のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１】
有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版において、
セルがストライプ形状であり、各セルにおける印刷方向の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、各セルのセル部長Ｌと非セル部長Ｓとの比Ｌ／Ｓが０．８〜１００の範囲であり、前記セル部長Ｌが１０〜５００μｍの範囲、前記非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲であることを特徴とするグラビア版。
【請求項２】
有機発光デバイスの発光層および／または正孔注入層の形成に用いるグラビア版において、
セルが複数に区画された形状であり、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であり、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％であり、非セル部長Ｓが２〜５００μｍの範囲であり、版深が２０〜２００μｍの範囲であることを特徴とするグラビア版。
【請求項３】
対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの発光層形成方法において、
少なくとも有機発光材料を含有する発光層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに発光層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の発光層用インキを発光層被形成面に転移する工程を有し、前記グラビア版は請求項１または請求項２に記載のグラビア版であり、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記発光層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰの範囲であり、前記発光層用インキに用いる溶媒は表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下で、かつ、沸点が１５０〜２５０℃の範囲であることを特徴とする発光層形成方法。
【請求項４】
前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項３に記載の発光層形成方法。
【請求項５】
前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の発光層形成方法。
【請求項６】
前記ブランケットは、グラビア版から発光層用インキを受理する位置と発光層用インキを発光層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の発光層形成方法。
【請求項７】
前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の発光層形成方法。
【請求項８】
前記発光層用インキにおける前記有機発光材料の含有量は、１．５〜４．０重量％の範囲であることを特徴とする請求項３乃至請求項７のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項９】
前記グラビア版は、複数のセルによって１つのエリアカラー用の絵柄が構成されるものであり、１つの絵柄幅を２００μｍ以上とすることを特徴とする請求項３乃至請求項８のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項１０】
複数組のグラビア版とブランケットを用いて発光色が異なる複数の発光層を連続して形成することを特徴とする請求項３乃至請求項９のいずれかに記載の発光層形成方法。
【請求項１１】
グラビア版を軸方向に複数に区画し、各区画毎に任意の発光層用インキを供給して、発光色が異なる複数の発光層を同時に形成することを特徴とする請求項９に記載の発光層形成方法。
【請求項１２】
対向する電極と、該電極間に配設され少なくとも正孔注入層と発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの正孔注入層形成方法において、
少なくとも正孔注入材料を含有する正孔注入層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに正孔注入層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の正孔注入層用インキを正孔注入層被形成面に転移する工程を有し、前記グラビア版は請求項１または請求項２に記載のグラビア版であり、前記ブランケットは表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である樹脂フィルムを表面層として備えるものであり、前記正孔注入層用インキはせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が１〜１００ｃＰの範囲で、かつ、２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、前記正孔注入層用インキに用いる溶媒は水とアルコール系溶媒との混合溶媒であり、前記アルコール系溶媒は沸点が２５０℃以下であり、混合溶媒中の前記アルコール系溶媒含有量は５〜７０重量％の範囲であることを特徴とする正孔注入層形成方法。
【請求項１３】
前記樹脂フィルムの厚みは、５〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項１２に記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１４】
前記ブランケットは、ブランケット胴の周面に前記樹脂フィルムを一体的に備えるものであることを特徴とする請求項１２または請求項１３に記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１５】
前記ブランケットは、グラビア版から正孔注入層用インキを受理する位置と正孔注入層用インキを正孔注入層被形成面に転移する位置とを少なくとも含む範囲において、回転するブランケット胴に巻き付く状態で前記樹脂フィルムが搬送されるものであることを特徴とする請求項１２または請求項１３に記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１６】
前記ブランケット胴は、表面にクッション層を備えることを特徴とする請求項１４または請求項１５に記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１７】
前記正孔注入層用インキにおける前記正孔注入材料の含有量は、０．３〜１０．０重量％の範囲であることを特徴とする請求項１２乃至請求項１６のいずれかに記載の正孔注入層形成方法。
【請求項１８】
透明基材と、該透明基材上に所望のパターンで形成された透明電極層と、前記透明基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記透明電極層を被覆するように形成され少なくとも発光層と正孔注入層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、請求項３乃至請求項１１のいずれかの方法により形成されたものであり、前記発光素子層の正孔注入層は、請求項１２乃至請求項１７のいずれかの方法により形成されたものであることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項１９】
基材と、該基材上に所望のパターンで形成された電極層と、前記基材上に形成され前記電極層の所望の部位が露出する複数の開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記電極層を被覆するように形成され少なくとも発光層と正孔注入層を有する発光素子層と、所望の前記開口部内に位置する前記発光素子層と接続するように形成された透明電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、請求項３乃至請求項１１のいずれかの方法により形成されたものであり、前記発光素子層の正孔注入層は、請求項１２乃至請求項１７のいずれかの方法により形成されたものであることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項２０】
前記発光素子層を構成する前記発光層の厚みが７０ｎｍ以上であり、前記正孔注入層の厚みが５０ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の有機発光デバイス。
【請求項２１】
前記発光素子層は、少なくとも正孔注入層／発光層／電子注入層がこの順に積層されたものであることを特徴とする請求項１８乃至請求項２０のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２２】
パッシブマトリックス型であることを特徴とする請求項１８乃至請求項２１のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２３】
アクティブマトリックス型であることを特徴とする請求項１８乃至請求項２１のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２４】
最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであることを特徴とする請求項１８乃至請求項２２のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２５】
カラーフィルタ層を備えることを特徴とする請求項１８乃至請求項２４のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２６】
前記カラーフィルタ層と前記透明電極との間に色変換蛍光体層を備えることを特徴とする請求項２５に記載の有機発光デバイス。
【請求項２７】
前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであることを特徴とする請求項１８乃至請求項２６のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２８】
前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えていることを特徴とする請求項２６に記載の有機発光デバイス。
【請求項２９】
前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えることを特徴とする請求項１８乃至請求項２８のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【公開番号】特開２００７−１８９４８（Ｐ２００７−１８９４８Ａ）
【公開日】平成１９年１月２５日（２００７．１．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２０１１８９（Ｐ２００５−２０１１８９）
【出願日】平成１７年７月１１日（２００５．７．１１）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年１月２５日（２００７．１．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年７月１１日（２００５．７．１１）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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