シクロヘキサンカルボキサミド誘導体および農園芸用殺菌剤
【課題】各種植物病害に対して防除効果を示し、特に、イネいもち病に対して高い土壌処理効果および水面施用効果を有する新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体およびそれを含有する農園芸用殺菌剤を提供する。
【解決手段】１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド、１−（ピリジン−２−イル）メチル−Ｎ−（フロ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド、１−（６−メチルピリミジン−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド等に例示される新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体の提供。
【解決手段】１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド、１−（ピリジン−２−イル）メチル−Ｎ−（フロ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド、１−（６−メチルピリミジン−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド等に例示される新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体の提供。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体および農園芸用殺菌剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまでに本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体の類似化合物としては、下記に記載の一般式（II）〜（VI）で表わされる化合物などが知られている（特許文献１〜６参照）。
これらの化合物は、各種植物病害に対して殺菌活性を有することが知られており、特にイネいもち病ならびにトマト、キュウリ、およびインゲンの灰色かび病に対して有用である。
各種植物病害の中でもイネいもち病は重要病害の一つであり、これまでにも多くの殺菌剤が開発されている。しかしながら、茎葉散布による防除効果は有するものの、土壌処理（箱処理）および水面施用場面でも十分な防除効果を示す薬剤は少ないのが現状である。また薬剤によっては耐性菌の出現により防除効果の低下しているものもあり、従って、新規な化学構造を有する薬剤が強く望まれている。さらに、農家従事者の減少・高齢化が進む今日の情勢においては、予防・治療活性、浸透移行性、長期残効性などの特性を有した防除作業の軽減・省力化を促進する薬剤が望まれている。また農薬の本田での茎葉散布によるイネいもち病の防除は、薬剤の飛散による周辺環境への影響や使用者の安全が懸念されるため、安心できる防除方法ではない。そのため、消費者はもちろん、施用場面における使用者および周辺環境の安全性を確保するためにも、土壌処理（箱処理）および水面施用場面でも十分な防除効果を発揮できる薬剤が強く求められている。
しかし、下記に記載した特許文献１〜６に記載の化合物は、イネいもち病に対して茎葉散布による防除効果は有するものの、土壌処理（箱処理）効果および水面施用効果が弱いという欠点があった。
【０００３】
【化２】
（式中、一般式（II）におけるＲ、ＸｍおよびＺｎは特許文献１、２に従って定義され、一般式（III）におけるＡ、Ｗ、Ｘｍ、Ｙｎ、Ｚｐは特許文献３に従って定義され、一般式（IV）におけるＡ、Ｂ、Ｘｍ、Ｙｐ、Ｚは特許文献４に従って定義され、一般式（Ｖ）におけるＡ、Ｒ、Ｘ、Ｙｎは特許文献５に従って定義され、一般式（ＶＩ）におけるＡ、Ｗｐ、Ｘｍ、Ｙｎ、Ｚは特許文献６に従って定義される。）
【特許文献１】国際公開第０２/８８０８６号パンフレット
【特許文献２】特開２００４−１４３０４５号公報
【特許文献３】国際公開第０４/５２６１号パンフレット
【特許文献４】特開２００４−１１５４３５号公報
【特許文献５】国際公開第０４/３９７８３号パンフレット
【特許文献６】特開２００５−２０６５１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記のような従来の欠点に鑑み、イネいもち病に対して求められる高い土壌処理効果および水面施用効果を有する、新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体を提供すること、およびそれらの化合物を有効成分として使用する殺菌剤、特にイネいもち病防除剤を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記の新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩が種々の植物病害に対して殺菌活性を有し、特にイネいもち病に対して優れた土壌処理効果および水面施用効果を有することを見出し、本発明を完成させた。
したがって、本願の第１の発明は、下記一般式（I）で表される新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩に関するものである。
【化３】
一般式（Ｉ）において、Ａは、酸素原子、硫黄原子および窒素原子からなる群から選ばれる１個または２個以上の原子を含有する複素５員環または複素６員環を示し、これらの複素５員環または複素６員環は、無置換であるか、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロアルキル基または置換されてもよいフェニル基（当該置換基は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基である。）で置換されていてもよく、Ｂは、−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ−（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）で表せる基を示し、Ｘは硫黄原子または酸素原子を示す。
【０００６】
本願の第２の発明は、上記の一般式（Ｉ）で表されるシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩を含有することを特徴とする、農園芸用殺菌剤に関するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩を農園芸用殺菌剤として用いると次のような効果が奏される。
第１に、本発明化合物は、キュウリ灰色かび病、オオムギうどんこ病、コムギ赤さび病、イネいもち病などの植物病害に対し防除活性を示し、農園芸用殺菌剤として有用である。
第２に、本発明化合物は、土壌処理及び水面施用した場合でも稲体内への浸透移行性を示し、イネいもち病を土壌処理及び水面施用によっても防除できる。
第３に、本発明化合物は、特にいもち病に対して予防効果と治療効果を兼ね備えており、またその効果は長期残効性を示す。
第４に、本発明の農園芸用殺菌剤は、有用作物には薬害を与えることがなく、安心して使用できる。
したがって、本発明に係る化合物を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤は、農園芸用作物の種々の病害に対して茎葉散布、土壌処理及び水面施用などにより使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明に係る新規シクロヘキサンカルボキサミド誘導体、その製造方法並びにこれを有効成分として含有する農園芸用殺菌剤について、具体的に説明する。
【０００９】
［シクロヘキサンカルボキサミド誘導体］
本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物である。本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体は各種の塩になることができる。例えば、塩酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機酸塩、または酢酸塩、メタンスルホン酸塩などの有機酸塩になり得る。
【００１０】
以下において、前記一般式（Ｉ）におけるＡ、ＢおよびＸで示される各置換基について説明する。ただし、前記一般式（Ｉ）におけるＡ、ＢおよびＸがここに示す例に限定されることはない。
【００１１】
一般式（Ｉ）におけるＡで示される酸素原子、硫黄原子および窒素原子からなる群から選ばれる１個または２個以上の原子を含有する複素５員環または複素６員環としては、具体的には、複素５員環としては、フラン、チオフェン、ピロール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、トリアゾールなどを挙げることができる。これらのうち、好ましくは、フラン、チオフェン、チアゾールである。また、複素６員環としては、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジンなどを挙げることができる。これらのうち、好ましくは、ピリジン、ピリミジンである。
【００１２】
Ａは、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、具体的にフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。
【００１３】
Ａは、炭素数１〜６のアルキル基で置換されていてもよく、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基または２−メチル−２−エチルプロピル基などを挙げることができる。これらのなかで、好ましくは、メチル基、エチル基である。
【００１４】
Ａは、炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されていてもよく、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基を挙げることができる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、３−メチルブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基または３−エチルブトキシ基などを挙げることができる。好ましくは、メトキシ基である。
【００１５】
Ａは、炭素数１〜６のハロアルキル基で置換されていてもよく、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のハロアルキル基を挙げることができる。具体的には、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロプロピル基、ペンタフルオロブチル基、ペンタフルオロペンチル基またはペンタフルオロヘキシル基などを挙げることができる。好ましくは、トリフルオロメチル基である。
【００１６】
Ａは、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されてもよいフェニル基で置換されていてもよい。
【００１７】
当該置換基のハロゲン原子としては、具体的にフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。
【００１８】
当該置換基の炭素数１〜６のアルキル基としては、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基または２−メチル−２−エチルプロピル基などを挙げることができる。好ましくは、メチル基である。
【００１９】
当該置換基の炭素数１〜６のハロアルキル基としては、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のハロアルキル基を挙げることができる。具体的には、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロプロピル基、ペンタフルオロブチル基、ペンタフルオロペンチル基またはペンタフルオロヘキシル基などを挙げることができる。好ましくは、トリフルオロメチル基である。
【００２０】
当該置換基の炭素数１〜６のアルコキシ基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、３−メチルブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基または３−エチルブトキシ基などを挙げることができる。好ましくは、メトキシ基を挙げることができる。
【００２１】
一般式（Ｉ）におけるＢで示される−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ−について説明する。
上記におけるＲ１およびＲ２で示される炭素数１〜６のアルキル基としては、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基または２−メチル−２−エチルプロピル基などを挙げることができる。好ましくは、メチル基、エチル基である。
【００２２】
Ｒ１およびＲ２で示される炭素数１〜６のアルコキシ基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、３−メチルブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基または３−エチルブトキシ基などを挙げることができる。好ましくは、メトキシ基である。
【００２３】
上記におけるｎは０〜２の整数を示す。
【００２４】
一般式（Ｉ）におけるＸは、硫黄原子または酸素原子である。
【００２５】
次に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を表１−１から表１−７に示すが、本発明の化合物がここに例示された化合物に限定されることはない。
表１−１から表１−７において、それぞれ「Ｍｅ」はメチル基、「Ｅｔ」はエチル基、「Ｐｒ」はプロピル基を表す。「−」はｎ＝０を表す。
なお、表１−１から表１−７中の化合物番号は、以下の表２−１から表２−２、実施例および試験例でも参照される。
【化４】
【００２６】
【表１−１】
【００２７】
【表１−２】
【００２８】
【表１−３】
【００２９】
【表１−４】
【００３０】
【表１−５】
【００３１】
【表１−６】
【００３２】
【表１−７】
【００３３】
次に、本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体の一部について、そのプロトンＮＭＲデータを表２−１から表２−２に示す。
なお、各化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータは、標準物質としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）、溶媒として重クロロホルム（ＣＤＣｌ３）を用い、日本電子データム（株）製ＪＮＭ−ＬＡ３００型核磁気共鳴装置により測定した。
【００３４】
【表２−１】
【００３５】
【表２−２】
注）化合物番号１１８については、溶媒として重ジメチルスルホキシドを用いて測定した。
【００３６】
［本発明化合物の製造方法］
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は、任意の方法により製造することができるが、特に好ましい一般的製造方法を下記する製造スキーム１、製造スキーム２および製造スキーム３に示す。
下記の一般式（IX）で表される化合物において、Ａが硫黄原子である化合物は、文献既知化合物であって、例えばJ. Org. Chem.，３４巻２号３４７項（１９６９年）に記載の方法で、チエノ[２，３‐ｂ]ピリジンを得、次いでJournal of Heterocyclic Chemistry
７巻１号８１項（１９７０年）に記載の方法に従って（IX）を合成し、利用することができるが、これらの方法に限定されない。
また、一般式（ＩＸ）において、Ａが酸素原子である化合物は、文献既知化合物であって、例えばJournal of Heterocyclic Chemistry ３巻２０２項（１９６６年）に記載の方法で、５−ニトロ-フロ[２，３‐ｂ]ピリジン‐２‐カルボン酸を得、次いでJournal of Heterocyclic Chemistry ８巻５号７３５項（１９７１年）に記載の方法に従って（IX）を合成し、利用することができるが、これらの方法に限定されない。
【００３７】
［製造スキーム１］
【化５】
（式中、Ａ、ＢおよびＸは、それぞれ前記と同様であり、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
【００３８】
製造スキーム１は、一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体をハロゲン化した一般式（ＶＩＩＩ）で示される酸ハロゲン化物と、一般式（IX）で示されるアミンとを縮合させて、本発明化合物（Ｉ）を製造する方法である。
【００３９】
（工程１−１）
一般式（VIII）で示される酸ハロゲン化物は、一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を、ハロゲン化剤によってハロゲン化することにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類などが挙げられる。ハロゲン化剤としてはオキサリルクロリド、塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リンなどが挙げられる。好適にはオキサリルクロリドが挙げられる。
この反応では、シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）１モルに対して、ハロゲン化剤は通常１〜２モル、好ましくは１〜１．５モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
【００４０】
（工程１−２）
一般式（I−１）で示される本発明化合物は、塩基存在下、一般式（VIII）で示される酸ハロゲン化物と一般式（IX）で示されるアミンとを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類が挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。
用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基類が挙げられる。
酸ハロゲン化物（VIII）の使用量は、アミン（IX）１モルに対して、通常１〜２モル、好ましくは１．０５モルである。また、塩基は通常１〜５モル、好ましくは１〜２モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜８０℃、好ましくは０〜４０℃の温度範囲で行われる。本反応の反応時間は、反応が終了する任意の時間としてもよい。反応が終了するとは、例えば溶媒中の原料の一方または両方が消費されることをいい、例えば薄層クロマトグラフィ−などによって確認できる。一般的には１時間〜２４時間の範囲内である。
反応終了後、本発明化合物（Ｉ）は、たとえば本発明化合物（Ｉ）が含まれた反応溶液に、水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。
得られた目的物は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００４１】
［製造スキーム２］
【化６】
（式中、Ａ、ＢおよびＸは、それぞれ前記と同様である。）
【００４２】
製造スキーム２は、塩基存在下、一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体と一般式（IX）で示されるアミンとを縮合剤により脱水縮合させて、本発明化合物（Ｉ）を製造する方法である。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、アセトニトリルなどのニトリル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類が挙げられる。
縮合剤としては、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物などが挙げられる。
用いられる塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。
シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）の使用量は、アミン（IX）１モルに対して、１〜２モル、好ましくは、１．０５モルである。
縮合剤の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）１モルに対して、通常１〜２モル、好ましくは１〜１．１モルであり、塩基は通常１〜４モル、好ましくは１〜２モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜８０℃、好ましくは０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、本発明化合物（Ｉ）は、本発明化合物（Ｉ）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｉ）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００４３】
［製造スキーム３］
【化７】
（式中、ＡおよびＢは、前記と同様である。Ｐは、炭素数１〜６のアルキル基を表し、具体的にはメチル基、エチル基などが挙げられる。）
【００４４】
製造スキーム３は、塩基存在下、一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体と一般式（IX）で示されるアミンとを反応させて、本発明化合物（Ｉ）を製造する方法である。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
シクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ）の使用量は、アミン（IX）１モルに対して、１〜２モルである。
塩基の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ）１モルに対して、通常０．１〜５モル、好ましくは１〜２モルの量で用いられる。
この反応は、通常０〜１３０℃、好ましくは０〜８０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、本発明化合物（Ｉ）は、本発明化合物（Ｉ）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｉ）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００４５】
次に本発明化合物の製造中間体である一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体および一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の代表的な製造方法を下記する製造スキーム４、製造スキーム５、製造スキーム６および製造スキーム７に示す。
【００４６】
［製造スキーム４］
【化８】
（式中、Ａ、ＢおよびＰは、前記と同様である。Ｌは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、スルホネート基、あるいはトリフレート基などの脱離能のある原子または基を示す。）
【００４７】
（工程４−１）
一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（XI）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XII）で示される化合物とを塩基存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
化合物（XII）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（XI）１モルに対して、１〜１．５モルで、好ましくは１〜１．２モルである。塩基の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１．１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常−７０〜８０℃、好ましくは−７０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１０分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ）は、化合物（Ｘ）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
【００４８】
本工程で使用される化合物（XI）は公知化合物である。
本工程で使用される化合物（XII）は公知化合物であるか、または公知の方法、例えば、J. Am. Chem.
Soc., １１０巻８１５３頁（１９８８年）、J. Org. Chem., ５８巻９６４頁（１９９３年）に記載の方法で合成することができる。
【００４９】
（ 工程４−２）
シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）は、一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体を、塩基存在下で加水分解することにより容易に得られる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、水や、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、もしくはカリウムｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
塩基の使用量はシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ）１モルに対して、１〜３モル、好ましくは１〜２モルの量で用いられる。反応は、通常１０〜１００℃、好ましくは２０〜６０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
反応終了後、シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）は、化合物（VII）を含む反応溶液に水を加えたのち、塩酸、硫酸などを加えて酸性とし、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチルなどの抽出用溶媒により抽出後、水および飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去すること等により得られる。
一般式（VII）で表される化合物は、必要に応じて、融点、赤外線吸収スペクトル、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ−ＮＭＲスペクトル、質量分析、Ｘ線構造解析などによって分析し、確認、同定することができる。
【００５０】
［製造スキーム５］
【化９】
（式中、Ａ、Ｒ１およびＰは、前記と同様である。Ｑは、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を表し、具体的にはメチル基、エチル基、イソプロピル基などが挙げられる。ＴＭＳはトリメチルシリル基を示す。）
【００５１】
一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体のうち、Ｒ１およびＲ２のうち少なくともどちらかがアルコキシ基である一般式（Ｘ−１）で示される化合物は、一般式（XI）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルをシリルエノール化した一般式（XIII）で示される化合物と、一般式（XIV）で示されるアセタールとをルイス酸存在下反応させることにより製造することができる。下記に、工程５−１と工程５−２をそれぞれ具体的に示す。
【００５２】
（工程５−１）
一般式（XIII）で示される化合物は、一般式（XI）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルとトリメチルシリルクロリドとを、塩基存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
トリメチルシリルクロリド（ＴＭＳＣｌ）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（ＸＩ）１モルに対して、１〜１．５モルで、好ましくは１．２モルである。塩基の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１．１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常−７０〜８０℃、好ましくは−７０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１０分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（XIII）は、化合物（XIII）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（XIII）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもできる。
【００５３】
（工程５−２）
一般式（Ｘ−１）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（XIII）で示されるシリルエノールエーテルと一般式（XIV）で示されるアセタールとをルイス酸存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフランなどのエーテル類が挙げられ、好ましくはジクロロメタンが挙げられる。
用いられるルイス酸としては、塩化亜鉛、塩化チタン、塩化アルミニウム、テトラフルオロホウ酸などが挙げられ、好ましくは塩化亜鉛が挙げられる。
アセタール（XIV）の使用量は、シリルエノールエーテル（XIII）１モルに対して、１．０〜２．０モルで、好ましくは１．０〜１．５モルの量で用いられる。ルイス酸の使用量は０．０１〜０．２モルで、好ましくは、０．０１〜０．１モルの量で用いられる。
この反応は、通常−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１０分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−１）は、化合物（Ｘ−１）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−１）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００５４】
本工程で使用される化合物（XIV）は公知化合物であるか、または公知の方法、例えば、Synth. Commun., ７巻４０９頁（１９７７年）、J. Org. Chem., ６０巻７３３４頁（１９９５年）に記載の方法で合成することができる。
工程５−２で製造される一般式（Ｘ−１）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００５５】
［製造スキーム６］
【化１０】
（式中、Ｐは、前記と同様である。Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素原子、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、置換されてもよいフェニル基を表す。）
【００５６】
一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体のうち、Ｂが単結合である一般式（Ｘ−３）、（Ｘ−４）および（Ｘ−５）で示される化合物は、一般式（XI）と一般式（XV）で示されるカルボン酸エステルとを塩基存在下反応させることにより製造することができるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ−２）を一般式（XVI）で示されるヒドラジン、一般式（XVII）で示されるアミジンおよびヒドロキシアミンと反応することにより製造できる。下記に、工程６−１、工程６−２、工程６−３および工程６−４をそれぞれ具体的に示す。
【００５７】
（工程６−１）
一般式（Ｘ−２）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（ＸＩ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XV）で示される化合物とを塩基存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
化合物（XV）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（XI）１モルに対して、１〜１．５モルで、好ましくは１〜１．２モルである。塩基の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１．１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常−７０〜８０℃、好ましくは−７０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１０分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−２）は、化合物（Ｘ−２）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−２）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
本工程で使用される化合物（XV）は公知化合物である。
【００５８】
（工程６−２）
一般式（Ｘ−３）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−２）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XVI）で示されるヒドラジン化合物とを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノールなどのアルコール類が挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。
用いられるヒドラジン化合物（XVI）は、塩を形成していてもよく、例えば塩酸塩、酢酸塩などが挙げられる。
本反応は、塩基の存在下で行ってもよく、用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基類、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
ヒドラジン化合物（XVI）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（Ｘ−２）１モルに対して、１〜５モルで、好ましくは１〜２モルである。塩基の使用する場合の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜使用される有機溶媒の沸点に近い温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−３）は、化合物（Ｘ−３）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−３）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
本工程で使用される化合物（XVI）は公知化合物である。
工程６−２で製造される一般式（Ｘ−３）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００５９】
（工程６−３）
一般式（Ｘ−４）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−２）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XVII）で示されるアミジン化合物とを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノールなどのアルコール類が挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。
用いられるアミジン化合物（XVII）は、塩を形成していてもよく、例えば塩酸塩、酢酸塩などが挙げられる。
本反応は、塩基の存在下で行ってもよく、用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基類、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
アミジン化合物（XVII）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（Ｘ−２）１モルに対して、１〜１０モルで、好ましくは１〜３モルである。塩基を使用する場合の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜使用される有機溶媒の沸点に近い温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−４）は、化合物（Ｘ−４）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−４）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
本工程で使用される化合物（XVII）は公知化合物である。
工程５−４で製造される一般式（Ｘ−４）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００６０】
（工程６−４）
一般式（Ｘ−５）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−２）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルとヒドロキシアミンとを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノールなどのアルコール類が挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。
用いられるヒドロキシアミンは、塩を形成していてもよく、例えば塩酸塩、酢酸塩などが挙げられる。
本反応は、塩基の存在下で行ってもよく、用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基類、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
ヒドロキシアミンの使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（XII−２）１モルに対して、１〜１０モルで、好ましくは１〜３モルである。塩基を使用する場合の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜使用される有機溶媒の沸点に近い温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−５）は、化合物（Ｘ−５）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−５）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
工程６−４で製造される一般式（Ｘ−５）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（ＶＩＩ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００６１】
［製造スキーム７］
【化１１】
（式中、Ｒ３、Ｒ４およびＨａｌは、前記と同様である。Ｚはハロゲン原子および炭素数１〜６のアルコキシ基を表し、Ｙは硫黄原子、酸素原子および窒素原子を表す。）
【００６２】
一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体のうち、Ｂが単結合である一般式（Ｘ−８）で示される化合物は、一般式（XI）と一般式（XVIII）で示されるカルボン酸誘導体とを塩基存在下反応させることにより製造することができるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ−６）をハロゲン化剤でハロゲン化した後、一般式（XIX）で示されるアミドと反応することにより製造できる。下記に、工程７−１、工程７−２および工程７−３をそれぞれ具体的に示す。
【００６３】
（工程７−１）
一般式（Ｘ−６）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（ＸＩ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XVIII）で示されるカルボン酸誘導体化合物とを塩基存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
化合物（XVIII）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（XI）１モルに対して、１〜１．５モルで、好ましくは１〜１．２モルである。塩基の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１．１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常−７０〜８０℃、好ましくは−７０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１0分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−６）は、化合物（Ｘ−６）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−６）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
本工程で使用される化合物（XVIII）は公知化合物である。
【００６４】
（工程７−２）
一般式（Ｘ−７）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−６）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルをハロゲン化剤でハロゲン化することにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼンなどの炭化水素類、エーテル、ジオキサンなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類、メタノール、エタノールなどのアルコール類、酢酸、ギ酸などのカルボン酸類などが挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。ハロゲン化剤としては塩素、塩化スルフリル、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミドなどが挙げられる。
この反応では、シクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ−６）１モルに対して、ハロゲン化剤は通常１〜２モル、好ましくは１〜１．５モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
（Ｘ−７）は、化合物（Ｘ−７）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−７）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
【００６５】
（工程７−３）
一般式（Ｘ−８）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−７）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XIX）で示されるアミド化合物とを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、クロロホルム、四塩化炭素などの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類、エーテル、ジオキサンなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類、メタノール、エタノールなどのアルコール類、酢酸、ギ酸などのカルボン酸類などが挙げられる。
アミド化合物（XIX）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（Ｘ−７）１モルに対して、１〜１０モルで、好ましくは１〜３モルである。
この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
（Ｘ−８）は、化合物（Ｘ−８）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−８）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
工程７−３で製造される一般式（Ｘ−８）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００６６】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の、より具体的な製造例を後述の実施例１〜４に示す。
本発明化合物の製造中間体である一般式（VII）で表されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体のより具体的な製造例を後述の参考実施例１〜３に示す。
【００６７】
［本発明の農園芸用殺菌剤］
本発明に係る一般式（I）で表される化合物は、広範囲の種類の糸状菌、例えば、ネコブカビ類（Plasmodiophoromycetes）、藻菌類（Oomycetes）、子のう（嚢）菌類（Ascomycetes）、不完全菌類（Deuteromycetes）、担子菌類（Basidiomycetes）に属する菌に対し、低薬量で防除することができ、例えば農園芸用の殺菌性組成物として有用である。
【００６８】
本発明により防除することのできる植物病害として具体的に挙げれば、例えば、イネのいもち病（Pyricularia grisea）、ごま葉枯病（Cochliobolus
miyabeanus）、紋枯病（Thanatephorus cucumeris、ばか苗病（Gibberella fujikuroi）、苗立枯病（Fusarium 菌、Rhizopus菌、Pythium菌、Trichoderma
viride）、稲こうじ病（Claviceps virens）、ムギ類の赤かび病（Gibberella zeae、Fusarium avenaceum、Fusarium culmorum、Monographella nＩＶale）、雪腐病（Pythium菌、Typhula菌、Monographella nＩＶalis、Myriosclerotinia borealis）、裸黒穂病（Ustilago
nuda）、なまぐさ黒穂病（Tilletia controversa）、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、葉枯病（Septoria
tritici）、ふ枯病（Phaeosphaeria nodorum）、カンキツ類の黒点病（Diaporthe citri）、小黒点病（Diaporthe medusa,
Alternaria citri）、そうか病（Elsinoe fawcettii）、褐色腐敗病（Phytophthora citrophthra）、緑かび病（Penicillium
digitatum）、青かび病（Penicillium italicum）、リンゴのモニリア病（Monilinia mali）、黒星病（Venturia inaequalis）、斑点落葉病（Alternaria mali）、黒点病（Mycosphaerella pomi）、すす斑病（Gloeodes pomigena）、すす点病（Zygophiala
jamaicensis）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、褐斑病（Diplocarpon mali）、赤星病（Gymnosporangium
yamadae）、腐らん病（Valsa ceratosperma）、ナシの黒星病（Venturia nashicola）、赤星病（Gymnosporangium
asiaticum）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、胴枯病（Phomopsis fukushii）、モモの縮葉病（Taphrina
deformans）、灰星病（Monilinia fructicola、 Monilinia fructigena）、黒星病（Cladosporium
carpophilum）、ホモプシス腐敗病（Phomopsis）、オウトウの灰星病（Monilinia fructicola 、Monilinia fructigena）、幼果菌核病（Monilinia kusanoi）、ウメの黒星病（Cladosporium
carpophilum）、ブドウの黒とう病（Elsinoe ampelina）、晩腐病（Colletotrichum acutatum、Glomerella cingulata）、褐斑病（Pseudocercospora vitis）、つる割病（Phomopsis
viticola）カキの角斑落葉病（Cercospora kaki）、円星落葉病（Mycosphaerella nawae）、チヤの輪斑病（Pestalotiopsis
longiseta、Pestalotiopsis theae）、褐色円星病（Pseudocercospora ocellata、Cercospora chaae）、もち病（Exobasidium vexans）、網もち病（Exobasidium
reticulatum）、ウリ類のつる枯病（Mycosphaerella melonis）、つる割病（Fusarium oxysporum）、黒星病（Cladosporium
cucumerinum）、褐斑病（Corynespora cassiicola）、トマトの葉かび病（Fulvia fulva）、輪紋病（Alternaria solani）、ナスの褐紋病（Phomopsis vexans）、すすかび病（Mycovellosiella
nattrassii）、アブラナ科野菜の白さび病（Albugo macrospora）、白斑病（Cercosporella brassicae、Pseudocercosporella
capsellae）、タマネギの灰色腐敗病（Botrytis allii）、イチゴのじゃのめ病（Mycosphaerella fragariae）、ジャガイモの夏疫病（Alternaria
solani）、ダイズの茎疫病（Phytophthora sojae）、紫斑病（ Cercospora kikuchii）、アズキの茎疫病（Phytophthora
vignae）、ラッカセイの褐斑病（Mycosphaerella arachidis）、テンサイの褐斑病（Cercospora beticola）、葉腐病（Thanatephorus
cucumeris）、シバのカーブラリア葉枯病（Curvularia菌）、ダラースポット病（Sclerotinia homoeocarpa）、ヘルミントスポリウム葉枯病（Cochliobolus菌）、バラの黒星病（Diplocarpon rosae）、キクの白さび病（Puccinia horiana）、および各種作物のべと病（Peronospora菌、Pseudoperonospora菌、Plasmopara菌、Bremia菌）、疫病（Phytophthora菌）、うどんこ病（Erysiphe菌、Blumeria菌、Sphaerotheca菌、Podosphaerea菌、Phyllactinia菌、Uncinula菌、Oidiopsis菌）、さび病（Puccinia菌、Uromyces菌、Physopella菌）、炭疽病（Glomerella菌、 Colletotrichum菌、Gloeosporium菌）、黒斑病（Alternaria菌）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、菌核病（Sclerotinia
sclerotiorum）、白紋羽病（Rosellinia necatrix）、紫紋羽病（Helicobasidium mompa）、白絹病（Sclerotium rolfsii）、その他各種土壌病害（Fusarium菌、Rhizoctonia菌、Pythium菌、Aphanomyces菌、Phoma菌、Verticillium菌、Plasmodiophora brassicaeなど）
などの病害を挙げることができる。
【００６９】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表されるシクロヘキサンカルボキサミド誘導体は、殺菌活性を示す。したがって、一般式（Ｉ）で表される化合物を含む組成物を殺菌剤として使用することができる。特に、一般式（Ｉ）で表される化合物を活性成分として含む組成物を、農園芸用殺菌剤として用いることができる。
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を活性成分として含む農園芸用殺菌剤の組成は、活性成分として一般式（Ｉ）で表される化合物を含む以外は、通常の農園芸用殺菌剤の組成としてもよい。通常の組成とは、たとえば、農薬製剤ガイド（１９９７編集：日本農薬学会施用法研究会、発行：社団法人日本植物防疫協会）に記載される。すなわち、一般式（Ｉ）で表される化合物、適当な担体、補助剤、界面活性剤、結合剤、および安定剤などを配合してもよい。
【００７０】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を含む農園芸用殺菌剤の組成物は、農薬の剤型として一般に使用されている任意の剤型に製剤化することができる。たとえば、粉剤、粗粉剤、ＤＬ（ドリフトレス型）粉剤、フローダスト剤、微粒剤、細粒剤、粒剤、水和剤、顆粒水和剤、液剤、ゾル剤（フロアブル剤）、乳剤、および油剤などに製剤化することができるが、これらに限定されない。
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、製剤の剤型、および使用方法により、適宜選択することができる。一般に好ましい含有量は、製剤全体量に対して０．１〜９０重量％の範囲である。
本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、農薬として使用する場合には必要に応じて製剤時または散布時に、殺菌剤（殺かび剤、殺細菌剤、抗ウィルス剤、植物抵抗性誘導剤）、殺虫剤、殺ダニ剤、殺センチュウ剤、除草剤、鳥類忌避剤、生長調整剤、肥料及び／又は土壌改良剤等と混合、混用施用してもよい。
【００７１】
本発明の式（Ｉ）の化合物等と混合、混用して使用できる代表例を以下に示すが、必ずしもこれらのみに限定されるものではない。
殺菌剤：
プロベナゾール（probenazole）、アシベンゾラール（acibenzolar）、チアジニル（tiadinil）、カルプロパミド（carpropamid）、ジクロシメット（diclocymet）、フェノキサニル（fenoxanil）、フサライド（phthalide）、ピロキロン（pyroquilon）、トリシクラゾール（tricyclazole）、アゾキシストロビン（azoxystrobin）、メトミノストロビン（metominostrobin）、オリザストロビン（oryzastrobin）、ブラストサイジン−S（blasticidin-S）、カスガマイシン（kasugamycin）、フェリムゾン（ferimzone）、イソプロチオラン（isoprothiolane）、イプロベンホス（iprobenfos）、ベノミル（benomyl）、チオファネート−メチル（thiophanate-methyl）、ペフラゾエート（pefurzoate）、イプコナゾール（ipconazole）、プロクロラズ（prochloraz）、トリフルミゾール（triflumizole）、フルジオキソニル（fludioxonil）、チラム（thiram）、フルトラニル（flutolanil）、メプロニル（Mepronil）、チフルザミド（thifluzamide）、フラメトピル（furametpyr）、ペンシクロン（pencycuron）、ジクロメジン（diclomedine）、バリダマイシン（validamycin）、メタラキシル（metalaxyl）、ヒメキサゾール（hymexazol）、クロロタロニル（chlorothalonil）
【００７２】
殺虫剤：
フィプロニル（fipronil）、ジノテフラン（dinotefuran）、イミダクロプリド（imidacloprid）、クロチアニジン（clothianidin）、チアクロプリド（thiaclopid）、チアメトキサム（thiamethoxam）、ニテンピラム（nitenpyram）、アセタミピリド（acetamipirid）、カルボスルファン（carbosulfan）、ベンフラカルブ（benfuracarb）、シラフルオフェン（silafluofen）、スピノサド（spinosad）、カルタップ（cartap）フェンチオン（fenthion）、フェニトロチオン（fenitrothion）、ブプロフェジン（buprofezin）、エトフェンプロックス（etofenprox）、フェノブカルブ（fenobucarb）、テブフェノジド（tebfenozide）、ベンスルタップ（bensultap）、アセフェート（acephate）、エチプロール（ethiprole）、ピメトロジン（pymetrozine）等。
【００７３】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を活性成分として含む農園芸用殺菌剤は、一般の農園芸用殺菌剤が使用される方法と同様の方法で使用することができる。具体的には、水和剤、液剤、乳剤、ゾル剤（フロアブル剤）、顆粒水和剤、または油剤の場合は、水で５０〜１０，０００倍に希釈して、一般に活性成分が１〜１０，０００ｐｐｍの濃度の液になるように調製し、この希釈液を、水稲や果樹など作物形態により異なるが、農耕地１０アール当たり５０〜１，０００リットル、通常は、１００〜６００リットルの範囲で植物の病害発生部位の茎葉に散布しうる。
また、液剤、乳剤、またはゾル剤（フロアブル剤）の場合は、水で希釈することなく、または５０倍以内に希釈して、微量散布剤として１０アール当たり、５〜５，０００ｍＬの量を、主に空中散布することもできる。空中散布は、ヘリコプターなどを用いて実施される。
また、粉剤、粗粒剤、ＤＬ粉剤、フローダスト剤、微粒剤、細粒剤、または粒剤の場合は、１０アール当たり０．３〜５ｋｇの剤（活性成分含有量は約５〜５００ｇ）を、植物の病害発生部位の茎葉、土壌表面、土壌中、または水面に施用してもよい。
また、水稲などの育苗箱栽培においては、粒剤などを育苗箱（標準サイズ：３０ｃｍｘ６０ｃｍｘ５ｃｍ）当り１０〜１００ｇを、フロアブルなどは希釈せずにそのままあるいは希釈して、３０〜１，０００ｍｌを、播種時前あるいは後、育苗期中の土壌表面に施用することができる。
【００７４】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を農園芸用殺菌剤として製剤化する方法の具体例を、後述の実施例５〜９に示す。
また本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を含む農園芸用殺菌剤の有用性、すなわち殺菌活性を後述の試験例１〜４により具体的に示す。
【００７５】
以下、本発明を実施例、および試験例により具体的に説明するが、これらにより本発明の範囲が限定されるものではない。
【実施例１】
【００７６】
１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル）]−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号８）の製造
【化１２】
【００７７】
［製造スキーム５］
（工程５−１）
[メトキシ（トリメチルシリルオキシ）メチレン]シクロヘキサンの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解したジイソプロピルアミン０．３９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）を入れ、−７０℃に冷却後、１．６０ｍｏｌ/ｌのｎ−ブチルリチウム/ヘキサン溶液２．４ｍｌ（３．９ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。この溶液に、シクロヘキサンカルボン酸メチル０．５０ｇ（３．５ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌後、塩化トリメチルシリル０．７６ｇ（７．０ｍｍｏｌ）を加え、−６０℃で１時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、ヘキサン４０ｍｌで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物０．７５ｇ（油状物、粗収率１００％）を得た。これは精製することなく次のステップで使用した。
【００７８】
（工程５−２）
１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジクロロメタン２０ｍｌに溶解した[メトキシ（トリメチルシリルオキシ）メチレン]シクロヘキサン０．７５ｇ（３．５ｍｍｏｌ）、２−（ジメトキシメチル）チオフェン０．６２ｇ（３．９ｍｍｏｌ）および塩化亜鉛２４ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ）を入れ、室温で１時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、クロロホルム２０ｍｌで抽出処理した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１（容量比））により精製して、標記化合物０．７５ｇ（油状物、収率８０％）を得た。
【００７９】
（工程４−２）
１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解した１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]シクロヘキサンカルボン酸メチル０．７５ｇ（２．８ｍｍｏｌ）、水２ｍｌおよび水酸化カリウム０．３１ｇ（５．６ｍｍｏｌ）を入れ、８０℃で５時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加えジエチルエーテル２０ｍｌで洗浄後、水層を１Ｎ塩酸水溶液で酸性とし、酢酸エチル４０ｍｌで抽出処理した。酢酸エチル層を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物０．５８ｇ（茶色結晶、粗収率８２％）を得た。粗結晶をヘキサンで洗浄し、０．４６ｇ（白色結晶、収率６５％）を得た。
【００８０】
［製造スキーム１］
１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミドの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジクロロメタン１０ｍｌに溶解した１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]シクロヘキサンカルボン酸０．２２ｇ（０．８７ｍｍｏｌ）を入れ、０℃に冷却後、オキサリルクロリド０．１３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）および触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加え、室温で攪拌した。１時間後、反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をジクロロメタン５ｍｌに溶解した。次いで、この溶解液を別途用意したチエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−アミン０．１０ｇ（０．６７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．２０ｇ（２．０ｍｍｏｌ）およびジクロロメタン１０ｍｌの溶液中に加え、２４時間、室温で攪拌した。
反応終了後、反応混合液を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（容量比））により精製して、標記化合物０．２１ｇ（油状物、収率８１％）を得た。
【実施例２】
【００８１】
１−（ピリジン−２−イル）メチル−Ｎ−（フロ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号２１７）の製造
【化１３】
【００８２】
［製造スキーム４］
（工程４−１）
１−（ピリジン−２−イル）メチルシクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解したジイソプロピルアミン０．７９ｇ（７．８ｍｍｏｌ）を入れ、−７０℃に冷却後、１．６０ｍｏｌ/ｌのｎ−ブチルリチウム/ヘキサン溶液４．８ｍｌ（７．８ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。これに、シクロヘキサンカルボン酸メチル１．０ｇ（７．０ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌後、２−（クロロメチル）ピリジン０．９０ｇ（７．１ｍｍｏｌ）を加え、−６０℃で１．５時間攪拌した。
反応終了後、水３０ｍｌおよび酢酸エチル４０ｍｌを加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（容量比））により精製して、標記化合物１．５ｇ（油状物、収率９２％）を得た。
【００８３】
（工程４−２）
１−（ピリジン−２−イル）メチルシクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解した１−（ピリジン−２−イル）メチルシクロヘキサンカルボン酸メチル１．０ｇ（０．４３ｍｍｏｌ）およびカリウムｔ−ブトキシド０．５８ｇ（５．２ｍｍｏｌ）を入れ、８０℃で９時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加えジエチルエーテル２０ｍｌで洗浄後、水層を１Ｎ塩酸水溶液で酸性とし、酢酸エチル４０ｍｌで２回抽出処理した。得られた酢酸エチル層を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物０．６０ｇ（油状物、粗収率６４％）を得た。これは精製することなく次のステップで使用した。
【００８４】
［製造スキーム２］
１−（ピリジン−２−イル）メチル−Ｎ−（フロ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミドの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジクロロメタン１０ｍｌに溶解した１−（ピリジン−２−イル）メチルシクロヘキサンカルボン酸０．２４ｇ（１．１ｍｍｏｌ）を入れ、フロ[２，３−ｂ]ピリジン−５−アミン０．１０ｇ（０．７５ｍｍｏｌ）およびピリジン０．１４ｇ（１．９ｍｍｏｌ）を入れ、０℃に冷却後、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩０．２３ｇ（１．２ｍｍｏｌ）および触媒量の４−（ジメチルアミノ）ピリジンを加え、室温で３０時間攪拌した。
反応終了後、有機層を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１（容量比））により精製して、標記化合物０．１５ｇ（油状物、収率６０％）を得た。
【実施例３】
【００８５】
１−（６−メチルピリミジン−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号１６１）の製造
【化１４】
【００８６】
［製造スキーム６］
（工程６−１）
１−アセトアセチルシクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解したジイソプロピルアミン４．３０ｇ（４２．５ｍｍｏｌ）を入れ、−７０℃に冷却後、１．６０ｍｏｌ/ｌのｎ−ブチルリチウム/ヘキサン溶液２６．５ｍｌ（４２．４ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。これに、シクロヘキサンカルボン酸メチル５．０ｇ（３５．２ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌後、（２−メチル−１，３−ジオキソラン−２−イル）酢酸メチル５．６ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間、５０℃で４時間攪拌した。
反応終了後、水４０ｍｌおよびトルエン５０ｍｌを加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液４０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１（容量比））により精製して、標記化合物３．２ｇ（油状物、収率４０％）を得た。
【００８７】
（工程６−２）
１−（６−メチルピリミジン−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、メタノール１０ｍｌに溶解したホルムアミジン酢酸塩０．６０ｇ（５．８ｍｍｏｌ）、１−アセトアセチルシクロヘキサンカルボン酸メチル１．２ｇ（５．３ｍｍｏｌ）を入れ、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２．０ｇ（１０．６ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで抽出処理した。得られた酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（容量比））により精製して、標記化合物０．９７ｇ（油状物、収率７８％）を得た。
【００８８】
［製造スキーム３］
１−（６−メチルピリミジン−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミドの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解したチエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−アミン０．２ｇ（１．３ｍｍｏｌ）に６０％油状水素化ナトリウム０．１０ｇ（２．６ｍｍｏｌ）を添加し、室温で２時間攪拌した。これに、１−（６−メチルピリミジン−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチル０．４７ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、５時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで抽出処理した。得られた酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（容量比））により精製して、標記化合物０．１１ｇ（油状物、収率２４％）を得た。
【実施例４】
【００８９】
１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号７５）の製造
【化１５】
【００９０】
［製造スキーム７］
（工程７−１）
１−アセチルシクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した２００ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン６０ｍｌに溶解したジイソプロピルアミン３．１ｇ（３０．７ｍｍｏｌ）を入れ、−７０℃に冷却後、１．６０ｍｏｌ/ｌのｎ−ブチルリチウム/ヘキサン溶液１９ｍｌ（３０．４ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。これに、シクロヘキサンカルボン酸メチル４．０ｇ（２８．２ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌後、アセチルクロライド２．３ｇ（２９．３ｍｍｏｌ）を加え、−６０℃で１時間攪拌した。
反応終了後、水５０ｍｌおよびトルエン１００ｍｌを加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液５０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１（容量比））により精製して、標記化合物３．５ｇ（油状物、収率６８％）を得た。
【００９１】
（工程７−２）
１−（ブロモアセチル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した１００ｍｌ容四つ口フラスコに、メタノール２０ｍｌに溶解した１−アセチルシクロヘキサンカルボン酸メチル３．５ｇ（１９．０ｍｍｏｌ）を入れ、０℃に冷却後、臭素３．０ｇ（１９．０ｍｍｏｌ）を１０分間で滴下した。その後、室温で２時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌおよびジエチルエーテル５０ｍｌを加えて抽出処理した。得られた有機層を１０％炭酸カリウム水溶液３０ｍｌ、飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物４．８ｇ（油状物、粗収率９６％）を得た。これは精製することなく次のステップで使用した。
【００９２】
（工程７−３）
１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、エタノール１５ｍｌに溶解した１−（ブロモアセチル）シクロヘキサンカルボン酸メチル３．０ｇ（１１．４ｍｍｏｌ）およびチオアセトアミド０．８６ｇ（１１．４ｍｍｏｌ）を入れ、加熱還流下、３時間攪拌した。
反応終了後、反応混合液を減圧下で溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル５０ｍｌに溶解後、水３０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍｌで洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１５：１（容量比））により精製して、標記化合物１．３ｇ（油状物、収率４８％）を得た。
【００９３】
（工程４−２）
１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解した１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチル１．０ｇ（４．２ｍｍｏｌ）、水２ｍｌおよび水酸化カリウム０．７０ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）を入れ、８０℃で５時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加えジエチルエーテル２０ｍｌで洗浄後、水層を１Ｎ塩酸水溶液で酸性とし、酢酸エチル４０ｍｌで抽出処理した。酢酸エチル層を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物０．７４ｇ（茶色結晶、粗収率７８％）を得た。
【００９４】
［製造スキーム１］
１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミドの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジクロロメタン１０ｍｌに溶解した１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸０．２０ｇ（０．８９ｍｍｏｌ）を入れ、０℃に冷却後、オキサリルクロリド０．１２ｇ（０．９５ｍｍｏｌ）および触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加え、室温で攪拌した。１時間後、反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をジクロロメタン５ｍｌに溶解した。次いで、この溶解液を別途用意したチエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−アミン０．１２ｇ（０．８０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．１５ｇ（１．５ｍｍｏｌ）およびクロロホルム１０ｍｌの溶液中に加え、２４時間、室温で攪拌した。
反応終了後、反応混合液を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（容量比））により精製して、標記化合物０．２５ｇ（白色結晶、収率８８％、融点１５３−１５６℃）を得た。
【００９５】
［参考実施例１］
１−（１，３−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
（工程６−２）
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、メタノール１０ｍｌに溶解した１−アセトアセチルシクロヘキサンカルボン酸メチル１．０ｇ（４．４ｍｍｏｌ）にメチルヒドラジン０．２３ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで抽出処理した。得られた酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（容量比））により精製して、標記化合物０．８９ｇ（油状物、収率８６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１.２３−１.８６（８Ｈ，ｍ），２．３３−２．３８（２Ｈ，ｍ），２．５８（３Ｈ，ｓ），３．６８（３Ｈ，ｓ），３．７１（３Ｈ，ｓ），５．９０（１Ｈ，ｓ）
【００９６】
［参考実施例２］
１−（イソオキサゾール−５−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
（工程６−２）
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、メタノール１０ｍｌに溶解した１−アセトアセチルシクロヘキサンカルボン酸メチル０．８０ｇ（３．５ｍｍｏｌ）にヒドロキシアミン塩酸塩０．３７ｇ（５．３ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、４時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、酢酸エチル８０ｍｌで抽出処理した。得られた酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１５：１（容量比））により精製して、標記化合物０．５８ｇ（油状物、収率７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３０−１．５７（６Ｈ，ｍ），１．９−２．０４（２Ｈ，ｍ），２．２０−２．２８（５Ｈ，ｍ），３．６９（３Ｈ，ｓ），５．９４（１Ｈ，ｓ）
【００９７】
［参考実施例３］
１−（１，３−オキサゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
（工程７−３）
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ホルムアミド６．０ｍｌ、ギ酸２．０ｍｌおよび１−（ブロモアセチル）シクロヘキサンカルボン酸メチル１．２ｇ（４．６ｍｍｏｌ）を入れ、加熱還流下、２時間攪拌した。
反応終了後、反応混合液に水２０ｍｌを加え、炭酸ナトリウムで中和した。酢酸エチル５０ｍｌで抽出後、水３０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍｌで洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１（容量比））により精製して、標記化合物０．８０ｇ（油状物、収率８３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１.２０−１.６７（６Ｈ，ｍ），１．９４−１．９９（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．３２（２Ｈ，ｍ），３．６０（３Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｓ），７．５０（１Ｈ，ｓ）
【実施例５】
【００９８】
（粉剤）
化合物番号８の化合物（２重量部）、ＰＡＰ（イソプロピルリン酸エステル、物理性改良剤）（１重量部）およびクレ−（９７重量部）の混合物を、均一に粉砕混合して、活性成分を２重量％含有する粉剤を得ることができる。さらに、化合物番号８に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれの粉剤を得ることができる。
【実施例６】
【００９９】
（水和剤）
化合物番号８の化合物（２０重量部）、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（３重量部）、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（５重量部）および白土（７２重量部）の混合物を均一に混合し、粉砕することにより、活性成分を２０重量％含有する水和剤を得ることができる。さらに、化合物番号８の化合物に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれ水和剤を得ることができる。
【実施例７】
【０１００】
（乳剤）
化合物番号３５の化合物（３０重量部）、メチルエチルケトン（４０重量部）およびポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（３０重量部）を混合して溶解することにより、活性成分を３０重量％含有する乳剤を得ることができる。さらに、化合物番号３５の化合物に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれ乳剤を得ることができる。
【実施例８】
【０１０１】
ゾル剤（フロアブル剤）
化合物番号７５の化合物（２５重量部）、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル（１重量部）、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム（１重量部）、カルボキシメチルセルロース（１重量部）および水（７２重量部）の混合物を均一に混合することにより、活性成分を２５重量％含有するゾル剤を得ることができる。さらに、化合物番号７５の化合物に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれのゾルを得ることができる。
【実施例９】
【０１０２】
（粒剤）
化合物番号１６９の化合物（５重量部）、ラウリル硫酸ナトリウム（１重量部）、リグニンスルホン酸カルシウム（５重量部）、ベントナイト（３０重量部）、およびクレー（５９重量部）の混合物に、さらに水（１５重量部）を加えて混練機で混練したのち、造粒機で造粒し、流動乾燥機で乾燥して、活性成分を５重量％含有する粒剤を得ることができる。さらに、化合物番号１６９の化合物に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれの粒剤を得ることができる。
【０１０３】
以下に、本発明化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用殺菌剤の有用性について、以下の試験例１〜６に示すが、本発明の有用性は、これらの試験例に限定されるものではない。
なお、供試化合物番号は、表１−１から表１−７で表す化合物と同一の番号を表す。
【０１０４】
試験例１
イネいもち病に対する箱処理による防除効果試験（フロアブル剤）
温室内で育苗箱（標準育苗箱の１／１０面積サイズ：１２ｃｍ×１５ｃｍ×高さ４ｃｍ）を用いて育苗した水稲（品種：朝日）の２．５葉期苗に、実施例８に準じて調製したフロアブル剤の希釈液（５，０００ｐｐｍ）を５０ｍｌ潅注した。この薬剤処理した水稲苗を直ちに水田土（湛水）を詰めたポット（１／１０，０００アールサイズ）に５苗／ポットで移植した。温室内で４週間栽培後、あらかじめ、別の水稲葉上で形成させたイネいもち病菌（Pyricularia grisea）の分生胞子を薬剤処理した水稲に接種し、２４℃の接種箱内に２４時間静置した後、２４℃の人工気象室内において、発病を促した。接種の７日後に、水稲の１株当りのイネいもち病の病斑数を調査し、平均病斑数を求め、下記の式１により防除価（％）を算出した。そして、下記の表３に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬剤区当り、１区１ポットの５連制で行った。
【０１０５】
【数１】
【０１０６】
【表３】
【０１０７】
また、下記の基準により、水稲に対する薬害程度を調査した。
薬害程度の調査指数（６段階で評価）
５：激甚 ４：甚 ３：多 ２：若干 １：わずか ０：なし
この薬害程度の調査指数は、試験例２〜６においても適用した。
これらの結果を下記の表４に示す。
【０１０８】
【表４】
注）無散布区の（ ）内の数値は、１葉当りの病斑数を示す。
【０１０９】
表４における比較薬剤Ａとは、下記の化合物を示す。比較薬剤Ａは、国際公開第０４／５５２６１号パンフレットに記載されている。
【化１６】
また、この比較薬剤Ａは、試験例２、３においても、比較薬剤として用いる。
【０１１０】
試験例２
イネいもち病に対する箱処理による防除効果試験（粒剤）
温室内で育苗箱（標準育苗箱の１／１０面積サイズ：１２ｃｍ×１５ｃｍ×高さ４ｃｍ）を用いて育苗した水稲（品種：朝日）の２．５葉期苗に、実施例９に準じて調製した粒剤５ｇを育苗箱上部より散布した。この薬剤処理した水稲苗を直ちに水田土（湛水）を詰めたポット（１／１０，０００アールサイズ）に５苗／ポットで移植した。温室内で６週間栽培後、あらかじめ、別の水稲葉上で形成させたイネいもち病菌（Pyricularia grisea）の分生胞子を薬剤処理した水稲に接種し、２４℃の接種箱内に２４時間静置した後、２４℃の人工気象室内において、発病を促した。接種の７日後に、水稲の１株当りのイネいもち病の病斑数を調査し、平均病斑数を求め、上記の式１により防除価（％）を算出した。そして、上記の表３に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬剤区当り、１区１ポットの５連制で行った。
また、上記の基準により、水稲に対する薬害程度を調査した。
これらの結果を以下の表５に示す。
【０１１１】
【表５】
注）無散布区の（ ）内の数値は、１葉当りの病斑数を示す。
【０１１２】
試験例３
イネいもち病に対する水面施用による防除効果試験（フロアブル剤）
温室内で水田土（湛水）を詰めたポット（１／１０，０００アールサイズ）で栽培した水稲（品種：朝日）の５葉期苗（５苗/株、１株／ポット）に、実施例８に準じて調製したフロアブル剤の希釈液（１，０００ｐｐｍ）１ｍｌを田面水へ点滴処理した。温室内で１週間栽培後、あらかじめ、別の水稲葉上で形成させたイネいもち病菌（Pyricularia grisea）の分生胞子を薬剤処理した水稲に接種し、２４℃の接種箱内に２４時間静置した後、２４℃の人工気象室内において、発病を促した。接種の７日後に、水稲の１株当りのイネいもち病の病斑数を調査し、平均病斑数を求め、上記の式１により防除価（％）を算出した。そして、上記の表３に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬剤区当り、１区１ポットの５連制で行った。
また、上記の基準により、水稲に対する薬害程度を調査した。
これらの結果を以下の表６に示す。
【０１１３】
【表６】
注）無散布区の（ ）内の数値は、１葉当りの病斑数を示す。
【０１１４】
試験例４
キュウリ灰色かび病防除効果試験
温室内で直径６ｃｍの大きさのプラスチックポットで栽培したキュウリ（品種：相模半白）の１．５葉期苗に、実施例６に準じて調製した水和剤の希釈液（１００ｐｐｍ）を１ポットあたり１０ｍｌ散布した（茎葉散布）。薬剤処理をした翌日、あらかじめジャガイモ煎汁培地上で培養したキュウリ灰色かび病菌（Botrytis cinerea）の含菌寒天片（直径5mm）を薬剤処理したキュウリの第１葉上に接種し、２０℃の温室内に入れた。接種の４日後に、病斑直径（ｃｍ）を測定し、下記の式２により防除価（％）を算出した。そして、上記の表３に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬液濃度当り、１区１ポットの３連制で行った。その平均の防除効果の評価値を求めた。
【０１１５】
【数２】
また、上記の基準により薬害程度を調査した。
これらの結果を以下の表７に示す。
【０１１６】
【表７】
注） 無散布区の （ ） 内の数値は、１葉当りの病斑直径を示す。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体および農園芸用殺菌剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまでに本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体の類似化合物としては、下記に記載の一般式（II）〜（VI）で表わされる化合物などが知られている（特許文献１〜６参照）。
これらの化合物は、各種植物病害に対して殺菌活性を有することが知られており、特にイネいもち病ならびにトマト、キュウリ、およびインゲンの灰色かび病に対して有用である。
各種植物病害の中でもイネいもち病は重要病害の一つであり、これまでにも多くの殺菌剤が開発されている。しかしながら、茎葉散布による防除効果は有するものの、土壌処理（箱処理）および水面施用場面でも十分な防除効果を示す薬剤は少ないのが現状である。また薬剤によっては耐性菌の出現により防除効果の低下しているものもあり、従って、新規な化学構造を有する薬剤が強く望まれている。さらに、農家従事者の減少・高齢化が進む今日の情勢においては、予防・治療活性、浸透移行性、長期残効性などの特性を有した防除作業の軽減・省力化を促進する薬剤が望まれている。また農薬の本田での茎葉散布によるイネいもち病の防除は、薬剤の飛散による周辺環境への影響や使用者の安全が懸念されるため、安心できる防除方法ではない。そのため、消費者はもちろん、施用場面における使用者および周辺環境の安全性を確保するためにも、土壌処理（箱処理）および水面施用場面でも十分な防除効果を発揮できる薬剤が強く求められている。
しかし、下記に記載した特許文献１〜６に記載の化合物は、イネいもち病に対して茎葉散布による防除効果は有するものの、土壌処理（箱処理）効果および水面施用効果が弱いという欠点があった。
【０００３】
【化２】
（式中、一般式（II）におけるＲ、ＸｍおよびＺｎは特許文献１、２に従って定義され、一般式（III）におけるＡ、Ｗ、Ｘｍ、Ｙｎ、Ｚｐは特許文献３に従って定義され、一般式（IV）におけるＡ、Ｂ、Ｘｍ、Ｙｐ、Ｚは特許文献４に従って定義され、一般式（Ｖ）におけるＡ、Ｒ、Ｘ、Ｙｎは特許文献５に従って定義され、一般式（ＶＩ）におけるＡ、Ｗｐ、Ｘｍ、Ｙｎ、Ｚは特許文献６に従って定義される。）
【特許文献１】国際公開第０２/８８０８６号パンフレット
【特許文献２】特開２００４−１４３０４５号公報
【特許文献３】国際公開第０４/５２６１号パンフレット
【特許文献４】特開２００４−１１５４３５号公報
【特許文献５】国際公開第０４/３９７８３号パンフレット
【特許文献６】特開２００５−２０６５１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記のような従来の欠点に鑑み、イネいもち病に対して求められる高い土壌処理効果および水面施用効果を有する、新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体を提供すること、およびそれらの化合物を有効成分として使用する殺菌剤、特にイネいもち病防除剤を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記の新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩が種々の植物病害に対して殺菌活性を有し、特にイネいもち病に対して優れた土壌処理効果および水面施用効果を有することを見出し、本発明を完成させた。
したがって、本願の第１の発明は、下記一般式（I）で表される新規なシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩に関するものである。
【化３】
一般式（Ｉ）において、Ａは、酸素原子、硫黄原子および窒素原子からなる群から選ばれる１個または２個以上の原子を含有する複素５員環または複素６員環を示し、これらの複素５員環または複素６員環は、無置換であるか、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロアルキル基または置換されてもよいフェニル基（当該置換基は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基である。）で置換されていてもよく、Ｂは、−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ−（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）で表せる基を示し、Ｘは硫黄原子または酸素原子を示す。
【０００６】
本願の第２の発明は、上記の一般式（Ｉ）で表されるシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩を含有することを特徴とする、農園芸用殺菌剤に関するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩を農園芸用殺菌剤として用いると次のような効果が奏される。
第１に、本発明化合物は、キュウリ灰色かび病、オオムギうどんこ病、コムギ赤さび病、イネいもち病などの植物病害に対し防除活性を示し、農園芸用殺菌剤として有用である。
第２に、本発明化合物は、土壌処理及び水面施用した場合でも稲体内への浸透移行性を示し、イネいもち病を土壌処理及び水面施用によっても防除できる。
第３に、本発明化合物は、特にいもち病に対して予防効果と治療効果を兼ね備えており、またその効果は長期残効性を示す。
第４に、本発明の農園芸用殺菌剤は、有用作物には薬害を与えることがなく、安心して使用できる。
したがって、本発明に係る化合物を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤は、農園芸用作物の種々の病害に対して茎葉散布、土壌処理及び水面施用などにより使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明に係る新規シクロヘキサンカルボキサミド誘導体、その製造方法並びにこれを有効成分として含有する農園芸用殺菌剤について、具体的に説明する。
【０００９】
［シクロヘキサンカルボキサミド誘導体］
本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物である。本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体は各種の塩になることができる。例えば、塩酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機酸塩、または酢酸塩、メタンスルホン酸塩などの有機酸塩になり得る。
【００１０】
以下において、前記一般式（Ｉ）におけるＡ、ＢおよびＸで示される各置換基について説明する。ただし、前記一般式（Ｉ）におけるＡ、ＢおよびＸがここに示す例に限定されることはない。
【００１１】
一般式（Ｉ）におけるＡで示される酸素原子、硫黄原子および窒素原子からなる群から選ばれる１個または２個以上の原子を含有する複素５員環または複素６員環としては、具体的には、複素５員環としては、フラン、チオフェン、ピロール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、トリアゾールなどを挙げることができる。これらのうち、好ましくは、フラン、チオフェン、チアゾールである。また、複素６員環としては、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジンなどを挙げることができる。これらのうち、好ましくは、ピリジン、ピリミジンである。
【００１２】
Ａは、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、具体的にフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。
【００１３】
Ａは、炭素数１〜６のアルキル基で置換されていてもよく、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基または２−メチル−２−エチルプロピル基などを挙げることができる。これらのなかで、好ましくは、メチル基、エチル基である。
【００１４】
Ａは、炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されていてもよく、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基を挙げることができる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、３−メチルブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基または３−エチルブトキシ基などを挙げることができる。好ましくは、メトキシ基である。
【００１５】
Ａは、炭素数１〜６のハロアルキル基で置換されていてもよく、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のハロアルキル基を挙げることができる。具体的には、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロプロピル基、ペンタフルオロブチル基、ペンタフルオロペンチル基またはペンタフルオロヘキシル基などを挙げることができる。好ましくは、トリフルオロメチル基である。
【００１６】
Ａは、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されてもよいフェニル基で置換されていてもよい。
【００１７】
当該置換基のハロゲン原子としては、具体的にフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。
【００１８】
当該置換基の炭素数１〜６のアルキル基としては、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基または２−メチル−２−エチルプロピル基などを挙げることができる。好ましくは、メチル基である。
【００１９】
当該置換基の炭素数１〜６のハロアルキル基としては、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のハロアルキル基を挙げることができる。具体的には、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロプロピル基、ペンタフルオロブチル基、ペンタフルオロペンチル基またはペンタフルオロヘキシル基などを挙げることができる。好ましくは、トリフルオロメチル基である。
【００２０】
当該置換基の炭素数１〜６のアルコキシ基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、３−メチルブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基または３−エチルブトキシ基などを挙げることができる。好ましくは、メトキシ基を挙げることができる。
【００２１】
一般式（Ｉ）におけるＢで示される−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ−について説明する。
上記におけるＲ１およびＲ２で示される炭素数１〜６のアルキル基としては、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基または２−メチル−２−エチルプロピル基などを挙げることができる。好ましくは、メチル基、エチル基である。
【００２２】
Ｒ１およびＲ２で示される炭素数１〜６のアルコキシ基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、３−メチルブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基または３−エチルブトキシ基などを挙げることができる。好ましくは、メトキシ基である。
【００２３】
上記におけるｎは０〜２の整数を示す。
【００２４】
一般式（Ｉ）におけるＸは、硫黄原子または酸素原子である。
【００２５】
次に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を表１−１から表１−７に示すが、本発明の化合物がここに例示された化合物に限定されることはない。
表１−１から表１−７において、それぞれ「Ｍｅ」はメチル基、「Ｅｔ」はエチル基、「Ｐｒ」はプロピル基を表す。「−」はｎ＝０を表す。
なお、表１−１から表１−７中の化合物番号は、以下の表２−１から表２−２、実施例および試験例でも参照される。
【化４】
【００２６】
【表１−１】
【００２７】
【表１−２】
【００２８】
【表１−３】
【００２９】
【表１−４】
【００３０】
【表１−５】
【００３１】
【表１−６】
【００３２】
【表１−７】
【００３３】
次に、本発明のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体の一部について、そのプロトンＮＭＲデータを表２−１から表２−２に示す。
なお、各化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータは、標準物質としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）、溶媒として重クロロホルム（ＣＤＣｌ３）を用い、日本電子データム（株）製ＪＮＭ−ＬＡ３００型核磁気共鳴装置により測定した。
【００３４】
【表２−１】
【００３５】
【表２−２】
注）化合物番号１１８については、溶媒として重ジメチルスルホキシドを用いて測定した。
【００３６】
［本発明化合物の製造方法］
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は、任意の方法により製造することができるが、特に好ましい一般的製造方法を下記する製造スキーム１、製造スキーム２および製造スキーム３に示す。
下記の一般式（IX）で表される化合物において、Ａが硫黄原子である化合物は、文献既知化合物であって、例えばJ. Org. Chem.，３４巻２号３４７項（１９６９年）に記載の方法で、チエノ[２，３‐ｂ]ピリジンを得、次いでJournal of Heterocyclic Chemistry
７巻１号８１項（１９７０年）に記載の方法に従って（IX）を合成し、利用することができるが、これらの方法に限定されない。
また、一般式（ＩＸ）において、Ａが酸素原子である化合物は、文献既知化合物であって、例えばJournal of Heterocyclic Chemistry ３巻２０２項（１９６６年）に記載の方法で、５−ニトロ-フロ[２，３‐ｂ]ピリジン‐２‐カルボン酸を得、次いでJournal of Heterocyclic Chemistry ８巻５号７３５項（１９７１年）に記載の方法に従って（IX）を合成し、利用することができるが、これらの方法に限定されない。
【００３７】
［製造スキーム１］
【化５】
（式中、Ａ、ＢおよびＸは、それぞれ前記と同様であり、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
【００３８】
製造スキーム１は、一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体をハロゲン化した一般式（ＶＩＩＩ）で示される酸ハロゲン化物と、一般式（IX）で示されるアミンとを縮合させて、本発明化合物（Ｉ）を製造する方法である。
【００３９】
（工程１−１）
一般式（VIII）で示される酸ハロゲン化物は、一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を、ハロゲン化剤によってハロゲン化することにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類などが挙げられる。ハロゲン化剤としてはオキサリルクロリド、塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リンなどが挙げられる。好適にはオキサリルクロリドが挙げられる。
この反応では、シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）１モルに対して、ハロゲン化剤は通常１〜２モル、好ましくは１〜１．５モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
【００４０】
（工程１−２）
一般式（I−１）で示される本発明化合物は、塩基存在下、一般式（VIII）で示される酸ハロゲン化物と一般式（IX）で示されるアミンとを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類が挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。
用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基類が挙げられる。
酸ハロゲン化物（VIII）の使用量は、アミン（IX）１モルに対して、通常１〜２モル、好ましくは１．０５モルである。また、塩基は通常１〜５モル、好ましくは１〜２モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜８０℃、好ましくは０〜４０℃の温度範囲で行われる。本反応の反応時間は、反応が終了する任意の時間としてもよい。反応が終了するとは、例えば溶媒中の原料の一方または両方が消費されることをいい、例えば薄層クロマトグラフィ−などによって確認できる。一般的には１時間〜２４時間の範囲内である。
反応終了後、本発明化合物（Ｉ）は、たとえば本発明化合物（Ｉ）が含まれた反応溶液に、水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。
得られた目的物は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００４１】
［製造スキーム２］
【化６】
（式中、Ａ、ＢおよびＸは、それぞれ前記と同様である。）
【００４２】
製造スキーム２は、塩基存在下、一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体と一般式（IX）で示されるアミンとを縮合剤により脱水縮合させて、本発明化合物（Ｉ）を製造する方法である。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、アセトニトリルなどのニトリル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類が挙げられる。
縮合剤としては、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物などが挙げられる。
用いられる塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。
シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）の使用量は、アミン（IX）１モルに対して、１〜２モル、好ましくは、１．０５モルである。
縮合剤の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）１モルに対して、通常１〜２モル、好ましくは１〜１．１モルであり、塩基は通常１〜４モル、好ましくは１〜２モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜８０℃、好ましくは０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、本発明化合物（Ｉ）は、本発明化合物（Ｉ）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｉ）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００４３】
［製造スキーム３］
【化７】
（式中、ＡおよびＢは、前記と同様である。Ｐは、炭素数１〜６のアルキル基を表し、具体的にはメチル基、エチル基などが挙げられる。）
【００４４】
製造スキーム３は、塩基存在下、一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体と一般式（IX）で示されるアミンとを反応させて、本発明化合物（Ｉ）を製造する方法である。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
シクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ）の使用量は、アミン（IX）１モルに対して、１〜２モルである。
塩基の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ）１モルに対して、通常０．１〜５モル、好ましくは１〜２モルの量で用いられる。
この反応は、通常０〜１３０℃、好ましくは０〜８０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、本発明化合物（Ｉ）は、本発明化合物（Ｉ）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｉ）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００４５】
次に本発明化合物の製造中間体である一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体および一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の代表的な製造方法を下記する製造スキーム４、製造スキーム５、製造スキーム６および製造スキーム７に示す。
【００４６】
［製造スキーム４］
【化８】
（式中、Ａ、ＢおよびＰは、前記と同様である。Ｌは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、スルホネート基、あるいはトリフレート基などの脱離能のある原子または基を示す。）
【００４７】
（工程４−１）
一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（XI）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XII）で示される化合物とを塩基存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
化合物（XII）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（XI）１モルに対して、１〜１．５モルで、好ましくは１〜１．２モルである。塩基の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１．１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常−７０〜８０℃、好ましくは−７０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１０分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ）は、化合物（Ｘ）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
【００４８】
本工程で使用される化合物（XI）は公知化合物である。
本工程で使用される化合物（XII）は公知化合物であるか、または公知の方法、例えば、J. Am. Chem.
Soc., １１０巻８１５３頁（１９８８年）、J. Org. Chem., ５８巻９６４頁（１９９３年）に記載の方法で合成することができる。
【００４９】
（ 工程４−２）
シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）は、一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体を、塩基存在下で加水分解することにより容易に得られる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、水や、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、もしくはカリウムｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
塩基の使用量はシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ）１モルに対して、１〜３モル、好ましくは１〜２モルの量で用いられる。反応は、通常１０〜１００℃、好ましくは２０〜６０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
反応終了後、シクロヘキサンカルボン酸誘導体（VII）は、化合物（VII）を含む反応溶液に水を加えたのち、塩酸、硫酸などを加えて酸性とし、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチルなどの抽出用溶媒により抽出後、水および飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去すること等により得られる。
一般式（VII）で表される化合物は、必要に応じて、融点、赤外線吸収スペクトル、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ−ＮＭＲスペクトル、質量分析、Ｘ線構造解析などによって分析し、確認、同定することができる。
【００５０】
［製造スキーム５］
【化９】
（式中、Ａ、Ｒ１およびＰは、前記と同様である。Ｑは、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を表し、具体的にはメチル基、エチル基、イソプロピル基などが挙げられる。ＴＭＳはトリメチルシリル基を示す。）
【００５１】
一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体のうち、Ｒ１およびＲ２のうち少なくともどちらかがアルコキシ基である一般式（Ｘ−１）で示される化合物は、一般式（XI）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルをシリルエノール化した一般式（XIII）で示される化合物と、一般式（XIV）で示されるアセタールとをルイス酸存在下反応させることにより製造することができる。下記に、工程５−１と工程５−２をそれぞれ具体的に示す。
【００５２】
（工程５−１）
一般式（XIII）で示される化合物は、一般式（XI）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルとトリメチルシリルクロリドとを、塩基存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
トリメチルシリルクロリド（ＴＭＳＣｌ）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（ＸＩ）１モルに対して、１〜１．５モルで、好ましくは１．２モルである。塩基の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１．１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常−７０〜８０℃、好ましくは−７０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１０分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（XIII）は、化合物（XIII）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（XIII）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもできる。
【００５３】
（工程５−２）
一般式（Ｘ−１）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（XIII）で示されるシリルエノールエーテルと一般式（XIV）で示されるアセタールとをルイス酸存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフランなどのエーテル類が挙げられ、好ましくはジクロロメタンが挙げられる。
用いられるルイス酸としては、塩化亜鉛、塩化チタン、塩化アルミニウム、テトラフルオロホウ酸などが挙げられ、好ましくは塩化亜鉛が挙げられる。
アセタール（XIV）の使用量は、シリルエノールエーテル（XIII）１モルに対して、１．０〜２．０モルで、好ましくは１．０〜１．５モルの量で用いられる。ルイス酸の使用量は０．０１〜０．２モルで、好ましくは、０．０１〜０．１モルの量で用いられる。
この反応は、通常−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１０分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−１）は、化合物（Ｘ−１）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−１）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００５４】
本工程で使用される化合物（XIV）は公知化合物であるか、または公知の方法、例えば、Synth. Commun., ７巻４０９頁（１９７７年）、J. Org. Chem., ６０巻７３３４頁（１９９５年）に記載の方法で合成することができる。
工程５−２で製造される一般式（Ｘ−１）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００５５】
［製造スキーム６］
【化１０】
（式中、Ｐは、前記と同様である。Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素原子、炭素数が１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、置換されてもよいフェニル基を表す。）
【００５６】
一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体のうち、Ｂが単結合である一般式（Ｘ−３）、（Ｘ−４）および（Ｘ−５）で示される化合物は、一般式（XI）と一般式（XV）で示されるカルボン酸エステルとを塩基存在下反応させることにより製造することができるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ−２）を一般式（XVI）で示されるヒドラジン、一般式（XVII）で示されるアミジンおよびヒドロキシアミンと反応することにより製造できる。下記に、工程６−１、工程６−２、工程６−３および工程６−４をそれぞれ具体的に示す。
【００５７】
（工程６−１）
一般式（Ｘ−２）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（ＸＩ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XV）で示される化合物とを塩基存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
化合物（XV）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（XI）１モルに対して、１〜１．５モルで、好ましくは１〜１．２モルである。塩基の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１．１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常−７０〜８０℃、好ましくは−７０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１０分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−２）は、化合物（Ｘ−２）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−２）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
本工程で使用される化合物（XV）は公知化合物である。
【００５８】
（工程６−２）
一般式（Ｘ−３）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−２）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XVI）で示されるヒドラジン化合物とを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノールなどのアルコール類が挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。
用いられるヒドラジン化合物（XVI）は、塩を形成していてもよく、例えば塩酸塩、酢酸塩などが挙げられる。
本反応は、塩基の存在下で行ってもよく、用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基類、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
ヒドラジン化合物（XVI）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（Ｘ−２）１モルに対して、１〜５モルで、好ましくは１〜２モルである。塩基の使用する場合の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜使用される有機溶媒の沸点に近い温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−３）は、化合物（Ｘ−３）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−３）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
本工程で使用される化合物（XVI）は公知化合物である。
工程６−２で製造される一般式（Ｘ−３）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００５９】
（工程６−３）
一般式（Ｘ−４）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−２）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XVII）で示されるアミジン化合物とを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノールなどのアルコール類が挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。
用いられるアミジン化合物（XVII）は、塩を形成していてもよく、例えば塩酸塩、酢酸塩などが挙げられる。
本反応は、塩基の存在下で行ってもよく、用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基類、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
アミジン化合物（XVII）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（Ｘ−２）１モルに対して、１〜１０モルで、好ましくは１〜３モルである。塩基を使用する場合の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜使用される有機溶媒の沸点に近い温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−４）は、化合物（Ｘ−４）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−４）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
本工程で使用される化合物（XVII）は公知化合物である。
工程５−４で製造される一般式（Ｘ−４）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００６０】
（工程６−４）
一般式（Ｘ−５）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−２）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルとヒドロキシアミンとを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノールなどのアルコール類が挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。
用いられるヒドロキシアミンは、塩を形成していてもよく、例えば塩酸塩、酢酸塩などが挙げられる。
本反応は、塩基の存在下で行ってもよく、用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基類、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
ヒドロキシアミンの使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（XII−２）１モルに対して、１〜１０モルで、好ましくは１〜３モルである。塩基を使用する場合の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜使用される有機溶媒の沸点に近い温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−５）は、化合物（Ｘ−５）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−５）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
工程６−４で製造される一般式（Ｘ−５）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（ＶＩＩ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００６１】
［製造スキーム７］
【化１１】
（式中、Ｒ３、Ｒ４およびＨａｌは、前記と同様である。Ｚはハロゲン原子および炭素数１〜６のアルコキシ基を表し、Ｙは硫黄原子、酸素原子および窒素原子を表す。）
【００６２】
一般式（Ｘ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体のうち、Ｂが単結合である一般式（Ｘ−８）で示される化合物は、一般式（XI）と一般式（XVIII）で示されるカルボン酸誘導体とを塩基存在下反応させることにより製造することができるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ−６）をハロゲン化剤でハロゲン化した後、一般式（XIX）で示されるアミドと反応することにより製造できる。下記に、工程７−１、工程７−２および工程７−３をそれぞれ具体的に示す。
【００６３】
（工程７−１）
一般式（Ｘ−６）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（ＸＩ）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XVIII）で示されるカルボン酸誘導体化合物とを塩基存在下反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類が挙げられる。
用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザンなどの有機金属類が挙げられる。
化合物（XVIII）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（XI）１モルに対して、１〜１．５モルで、好ましくは１〜１．２モルである。塩基の使用量は１〜１０モルで、好ましくは１．１〜５モルの量で用いられる。
この反応は、通常−７０〜８０℃、好ましくは−７０〜４０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１0分から２４時間で完結することが多い。反応終了後、化合物（Ｘ−６）は、化合物（Ｘ−６）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−６）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
本工程で使用される化合物（XVIII）は公知化合物である。
【００６４】
（工程７−２）
一般式（Ｘ−７）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−６）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルをハロゲン化剤でハロゲン化することにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼンなどの炭化水素類、エーテル、ジオキサンなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類、メタノール、エタノールなどのアルコール類、酢酸、ギ酸などのカルボン酸類などが挙げられ、場合によってはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒として用いることもできる。ハロゲン化剤としては塩素、塩化スルフリル、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミドなどが挙げられる。
この反応では、シクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体（Ｘ−６）１モルに対して、ハロゲン化剤は通常１〜２モル、好ましくは１〜１．５モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
（Ｘ−７）は、化合物（Ｘ−７）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−７）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
【００６５】
（工程７−３）
一般式（Ｘ−８）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体は、一般式（Ｘ−７）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステルと一般式（XIX）で示されるアミド化合物とを反応させることにより製造することができる。
本反応は、溶媒中で行うのが好ましく、用いられる溶媒としては、クロロホルム、四塩化炭素などの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類、エーテル、ジオキサンなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類、メタノール、エタノールなどのアルコール類、酢酸、ギ酸などのカルボン酸類などが挙げられる。
アミド化合物（XIX）の使用量は、シクロヘキサンカルボン酸エステル（Ｘ−７）１モルに対して、１〜１０モルで、好ましくは１〜３モルである。
この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度範囲で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
（Ｘ−８）は、化合物（Ｘ−８）が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ−８）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することもがきる。
工程７−３で製造される一般式（Ｘ−８）で示されるシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体から、前記工程４−２により一般式（VII）で示されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体を製造することができる。
【００６６】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の、より具体的な製造例を後述の実施例１〜４に示す。
本発明化合物の製造中間体である一般式（VII）で表されるシクロヘキサンカルボン酸誘導体のより具体的な製造例を後述の参考実施例１〜３に示す。
【００６７】
［本発明の農園芸用殺菌剤］
本発明に係る一般式（I）で表される化合物は、広範囲の種類の糸状菌、例えば、ネコブカビ類（Plasmodiophoromycetes）、藻菌類（Oomycetes）、子のう（嚢）菌類（Ascomycetes）、不完全菌類（Deuteromycetes）、担子菌類（Basidiomycetes）に属する菌に対し、低薬量で防除することができ、例えば農園芸用の殺菌性組成物として有用である。
【００６８】
本発明により防除することのできる植物病害として具体的に挙げれば、例えば、イネのいもち病（Pyricularia grisea）、ごま葉枯病（Cochliobolus
miyabeanus）、紋枯病（Thanatephorus cucumeris、ばか苗病（Gibberella fujikuroi）、苗立枯病（Fusarium 菌、Rhizopus菌、Pythium菌、Trichoderma
viride）、稲こうじ病（Claviceps virens）、ムギ類の赤かび病（Gibberella zeae、Fusarium avenaceum、Fusarium culmorum、Monographella nＩＶale）、雪腐病（Pythium菌、Typhula菌、Monographella nＩＶalis、Myriosclerotinia borealis）、裸黒穂病（Ustilago
nuda）、なまぐさ黒穂病（Tilletia controversa）、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、葉枯病（Septoria
tritici）、ふ枯病（Phaeosphaeria nodorum）、カンキツ類の黒点病（Diaporthe citri）、小黒点病（Diaporthe medusa,
Alternaria citri）、そうか病（Elsinoe fawcettii）、褐色腐敗病（Phytophthora citrophthra）、緑かび病（Penicillium
digitatum）、青かび病（Penicillium italicum）、リンゴのモニリア病（Monilinia mali）、黒星病（Venturia inaequalis）、斑点落葉病（Alternaria mali）、黒点病（Mycosphaerella pomi）、すす斑病（Gloeodes pomigena）、すす点病（Zygophiala
jamaicensis）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、褐斑病（Diplocarpon mali）、赤星病（Gymnosporangium
yamadae）、腐らん病（Valsa ceratosperma）、ナシの黒星病（Venturia nashicola）、赤星病（Gymnosporangium
asiaticum）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、胴枯病（Phomopsis fukushii）、モモの縮葉病（Taphrina
deformans）、灰星病（Monilinia fructicola、 Monilinia fructigena）、黒星病（Cladosporium
carpophilum）、ホモプシス腐敗病（Phomopsis）、オウトウの灰星病（Monilinia fructicola 、Monilinia fructigena）、幼果菌核病（Monilinia kusanoi）、ウメの黒星病（Cladosporium
carpophilum）、ブドウの黒とう病（Elsinoe ampelina）、晩腐病（Colletotrichum acutatum、Glomerella cingulata）、褐斑病（Pseudocercospora vitis）、つる割病（Phomopsis
viticola）カキの角斑落葉病（Cercospora kaki）、円星落葉病（Mycosphaerella nawae）、チヤの輪斑病（Pestalotiopsis
longiseta、Pestalotiopsis theae）、褐色円星病（Pseudocercospora ocellata、Cercospora chaae）、もち病（Exobasidium vexans）、網もち病（Exobasidium
reticulatum）、ウリ類のつる枯病（Mycosphaerella melonis）、つる割病（Fusarium oxysporum）、黒星病（Cladosporium
cucumerinum）、褐斑病（Corynespora cassiicola）、トマトの葉かび病（Fulvia fulva）、輪紋病（Alternaria solani）、ナスの褐紋病（Phomopsis vexans）、すすかび病（Mycovellosiella
nattrassii）、アブラナ科野菜の白さび病（Albugo macrospora）、白斑病（Cercosporella brassicae、Pseudocercosporella
capsellae）、タマネギの灰色腐敗病（Botrytis allii）、イチゴのじゃのめ病（Mycosphaerella fragariae）、ジャガイモの夏疫病（Alternaria
solani）、ダイズの茎疫病（Phytophthora sojae）、紫斑病（ Cercospora kikuchii）、アズキの茎疫病（Phytophthora
vignae）、ラッカセイの褐斑病（Mycosphaerella arachidis）、テンサイの褐斑病（Cercospora beticola）、葉腐病（Thanatephorus
cucumeris）、シバのカーブラリア葉枯病（Curvularia菌）、ダラースポット病（Sclerotinia homoeocarpa）、ヘルミントスポリウム葉枯病（Cochliobolus菌）、バラの黒星病（Diplocarpon rosae）、キクの白さび病（Puccinia horiana）、および各種作物のべと病（Peronospora菌、Pseudoperonospora菌、Plasmopara菌、Bremia菌）、疫病（Phytophthora菌）、うどんこ病（Erysiphe菌、Blumeria菌、Sphaerotheca菌、Podosphaerea菌、Phyllactinia菌、Uncinula菌、Oidiopsis菌）、さび病（Puccinia菌、Uromyces菌、Physopella菌）、炭疽病（Glomerella菌、 Colletotrichum菌、Gloeosporium菌）、黒斑病（Alternaria菌）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、菌核病（Sclerotinia
sclerotiorum）、白紋羽病（Rosellinia necatrix）、紫紋羽病（Helicobasidium mompa）、白絹病（Sclerotium rolfsii）、その他各種土壌病害（Fusarium菌、Rhizoctonia菌、Pythium菌、Aphanomyces菌、Phoma菌、Verticillium菌、Plasmodiophora brassicaeなど）
などの病害を挙げることができる。
【００６９】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表されるシクロヘキサンカルボキサミド誘導体は、殺菌活性を示す。したがって、一般式（Ｉ）で表される化合物を含む組成物を殺菌剤として使用することができる。特に、一般式（Ｉ）で表される化合物を活性成分として含む組成物を、農園芸用殺菌剤として用いることができる。
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を活性成分として含む農園芸用殺菌剤の組成は、活性成分として一般式（Ｉ）で表される化合物を含む以外は、通常の農園芸用殺菌剤の組成としてもよい。通常の組成とは、たとえば、農薬製剤ガイド（１９９７編集：日本農薬学会施用法研究会、発行：社団法人日本植物防疫協会）に記載される。すなわち、一般式（Ｉ）で表される化合物、適当な担体、補助剤、界面活性剤、結合剤、および安定剤などを配合してもよい。
【００７０】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を含む農園芸用殺菌剤の組成物は、農薬の剤型として一般に使用されている任意の剤型に製剤化することができる。たとえば、粉剤、粗粉剤、ＤＬ（ドリフトレス型）粉剤、フローダスト剤、微粒剤、細粒剤、粒剤、水和剤、顆粒水和剤、液剤、ゾル剤（フロアブル剤）、乳剤、および油剤などに製剤化することができるが、これらに限定されない。
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、製剤の剤型、および使用方法により、適宜選択することができる。一般に好ましい含有量は、製剤全体量に対して０．１〜９０重量％の範囲である。
本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、農薬として使用する場合には必要に応じて製剤時または散布時に、殺菌剤（殺かび剤、殺細菌剤、抗ウィルス剤、植物抵抗性誘導剤）、殺虫剤、殺ダニ剤、殺センチュウ剤、除草剤、鳥類忌避剤、生長調整剤、肥料及び／又は土壌改良剤等と混合、混用施用してもよい。
【００７１】
本発明の式（Ｉ）の化合物等と混合、混用して使用できる代表例を以下に示すが、必ずしもこれらのみに限定されるものではない。
殺菌剤：
プロベナゾール（probenazole）、アシベンゾラール（acibenzolar）、チアジニル（tiadinil）、カルプロパミド（carpropamid）、ジクロシメット（diclocymet）、フェノキサニル（fenoxanil）、フサライド（phthalide）、ピロキロン（pyroquilon）、トリシクラゾール（tricyclazole）、アゾキシストロビン（azoxystrobin）、メトミノストロビン（metominostrobin）、オリザストロビン（oryzastrobin）、ブラストサイジン−S（blasticidin-S）、カスガマイシン（kasugamycin）、フェリムゾン（ferimzone）、イソプロチオラン（isoprothiolane）、イプロベンホス（iprobenfos）、ベノミル（benomyl）、チオファネート−メチル（thiophanate-methyl）、ペフラゾエート（pefurzoate）、イプコナゾール（ipconazole）、プロクロラズ（prochloraz）、トリフルミゾール（triflumizole）、フルジオキソニル（fludioxonil）、チラム（thiram）、フルトラニル（flutolanil）、メプロニル（Mepronil）、チフルザミド（thifluzamide）、フラメトピル（furametpyr）、ペンシクロン（pencycuron）、ジクロメジン（diclomedine）、バリダマイシン（validamycin）、メタラキシル（metalaxyl）、ヒメキサゾール（hymexazol）、クロロタロニル（chlorothalonil）
【００７２】
殺虫剤：
フィプロニル（fipronil）、ジノテフラン（dinotefuran）、イミダクロプリド（imidacloprid）、クロチアニジン（clothianidin）、チアクロプリド（thiaclopid）、チアメトキサム（thiamethoxam）、ニテンピラム（nitenpyram）、アセタミピリド（acetamipirid）、カルボスルファン（carbosulfan）、ベンフラカルブ（benfuracarb）、シラフルオフェン（silafluofen）、スピノサド（spinosad）、カルタップ（cartap）フェンチオン（fenthion）、フェニトロチオン（fenitrothion）、ブプロフェジン（buprofezin）、エトフェンプロックス（etofenprox）、フェノブカルブ（fenobucarb）、テブフェノジド（tebfenozide）、ベンスルタップ（bensultap）、アセフェート（acephate）、エチプロール（ethiprole）、ピメトロジン（pymetrozine）等。
【００７３】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を活性成分として含む農園芸用殺菌剤は、一般の農園芸用殺菌剤が使用される方法と同様の方法で使用することができる。具体的には、水和剤、液剤、乳剤、ゾル剤（フロアブル剤）、顆粒水和剤、または油剤の場合は、水で５０〜１０，０００倍に希釈して、一般に活性成分が１〜１０，０００ｐｐｍの濃度の液になるように調製し、この希釈液を、水稲や果樹など作物形態により異なるが、農耕地１０アール当たり５０〜１，０００リットル、通常は、１００〜６００リットルの範囲で植物の病害発生部位の茎葉に散布しうる。
また、液剤、乳剤、またはゾル剤（フロアブル剤）の場合は、水で希釈することなく、または５０倍以内に希釈して、微量散布剤として１０アール当たり、５〜５，０００ｍＬの量を、主に空中散布することもできる。空中散布は、ヘリコプターなどを用いて実施される。
また、粉剤、粗粒剤、ＤＬ粉剤、フローダスト剤、微粒剤、細粒剤、または粒剤の場合は、１０アール当たり０．３〜５ｋｇの剤（活性成分含有量は約５〜５００ｇ）を、植物の病害発生部位の茎葉、土壌表面、土壌中、または水面に施用してもよい。
また、水稲などの育苗箱栽培においては、粒剤などを育苗箱（標準サイズ：３０ｃｍｘ６０ｃｍｘ５ｃｍ）当り１０〜１００ｇを、フロアブルなどは希釈せずにそのままあるいは希釈して、３０〜１，０００ｍｌを、播種時前あるいは後、育苗期中の土壌表面に施用することができる。
【００７４】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を農園芸用殺菌剤として製剤化する方法の具体例を、後述の実施例５〜９に示す。
また本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を含む農園芸用殺菌剤の有用性、すなわち殺菌活性を後述の試験例１〜４により具体的に示す。
【００７５】
以下、本発明を実施例、および試験例により具体的に説明するが、これらにより本発明の範囲が限定されるものではない。
【実施例１】
【００７６】
１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル）]−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号８）の製造
【化１２】
【００７７】
［製造スキーム５］
（工程５−１）
[メトキシ（トリメチルシリルオキシ）メチレン]シクロヘキサンの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解したジイソプロピルアミン０．３９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）を入れ、−７０℃に冷却後、１．６０ｍｏｌ/ｌのｎ−ブチルリチウム/ヘキサン溶液２．４ｍｌ（３．９ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。この溶液に、シクロヘキサンカルボン酸メチル０．５０ｇ（３．５ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌後、塩化トリメチルシリル０．７６ｇ（７．０ｍｍｏｌ）を加え、−６０℃で１時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、ヘキサン４０ｍｌで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物０．７５ｇ（油状物、粗収率１００％）を得た。これは精製することなく次のステップで使用した。
【００７８】
（工程５−２）
１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジクロロメタン２０ｍｌに溶解した[メトキシ（トリメチルシリルオキシ）メチレン]シクロヘキサン０．７５ｇ（３．５ｍｍｏｌ）、２−（ジメトキシメチル）チオフェン０．６２ｇ（３．９ｍｍｏｌ）および塩化亜鉛２４ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ）を入れ、室温で１時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、クロロホルム２０ｍｌで抽出処理した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１（容量比））により精製して、標記化合物０．７５ｇ（油状物、収率８０％）を得た。
【００７９】
（工程４−２）
１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解した１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]シクロヘキサンカルボン酸メチル０．７５ｇ（２．８ｍｍｏｌ）、水２ｍｌおよび水酸化カリウム０．３１ｇ（５．６ｍｍｏｌ）を入れ、８０℃で５時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加えジエチルエーテル２０ｍｌで洗浄後、水層を１Ｎ塩酸水溶液で酸性とし、酢酸エチル４０ｍｌで抽出処理した。酢酸エチル層を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物０．５８ｇ（茶色結晶、粗収率８２％）を得た。粗結晶をヘキサンで洗浄し、０．４６ｇ（白色結晶、収率６５％）を得た。
【００８０】
［製造スキーム１］
１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミドの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジクロロメタン１０ｍｌに溶解した１−[メトキシ（チオフェン−２−イル）メチル]シクロヘキサンカルボン酸０．２２ｇ（０．８７ｍｍｏｌ）を入れ、０℃に冷却後、オキサリルクロリド０．１３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）および触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加え、室温で攪拌した。１時間後、反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をジクロロメタン５ｍｌに溶解した。次いで、この溶解液を別途用意したチエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−アミン０．１０ｇ（０．６７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．２０ｇ（２．０ｍｍｏｌ）およびジクロロメタン１０ｍｌの溶液中に加え、２４時間、室温で攪拌した。
反応終了後、反応混合液を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（容量比））により精製して、標記化合物０．２１ｇ（油状物、収率８１％）を得た。
【実施例２】
【００８１】
１−（ピリジン−２−イル）メチル−Ｎ−（フロ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号２１７）の製造
【化１３】
【００８２】
［製造スキーム４］
（工程４−１）
１−（ピリジン−２−イル）メチルシクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解したジイソプロピルアミン０．７９ｇ（７．８ｍｍｏｌ）を入れ、−７０℃に冷却後、１．６０ｍｏｌ/ｌのｎ−ブチルリチウム/ヘキサン溶液４．８ｍｌ（７．８ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。これに、シクロヘキサンカルボン酸メチル１．０ｇ（７．０ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌後、２−（クロロメチル）ピリジン０．９０ｇ（７．１ｍｍｏｌ）を加え、−６０℃で１．５時間攪拌した。
反応終了後、水３０ｍｌおよび酢酸エチル４０ｍｌを加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（容量比））により精製して、標記化合物１．５ｇ（油状物、収率９２％）を得た。
【００８３】
（工程４−２）
１−（ピリジン−２−イル）メチルシクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解した１−（ピリジン−２−イル）メチルシクロヘキサンカルボン酸メチル１．０ｇ（０．４３ｍｍｏｌ）およびカリウムｔ−ブトキシド０．５８ｇ（５．２ｍｍｏｌ）を入れ、８０℃で９時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加えジエチルエーテル２０ｍｌで洗浄後、水層を１Ｎ塩酸水溶液で酸性とし、酢酸エチル４０ｍｌで２回抽出処理した。得られた酢酸エチル層を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物０．６０ｇ（油状物、粗収率６４％）を得た。これは精製することなく次のステップで使用した。
【００８４】
［製造スキーム２］
１−（ピリジン−２−イル）メチル−Ｎ−（フロ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミドの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジクロロメタン１０ｍｌに溶解した１−（ピリジン−２−イル）メチルシクロヘキサンカルボン酸０．２４ｇ（１．１ｍｍｏｌ）を入れ、フロ[２，３−ｂ]ピリジン−５−アミン０．１０ｇ（０．７５ｍｍｏｌ）およびピリジン０．１４ｇ（１．９ｍｍｏｌ）を入れ、０℃に冷却後、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩０．２３ｇ（１．２ｍｍｏｌ）および触媒量の４−（ジメチルアミノ）ピリジンを加え、室温で３０時間攪拌した。
反応終了後、有機層を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１（容量比））により精製して、標記化合物０．１５ｇ（油状物、収率６０％）を得た。
【実施例３】
【００８５】
１−（６−メチルピリミジン−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号１６１）の製造
【化１４】
【００８６】
［製造スキーム６］
（工程６−１）
１−アセトアセチルシクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解したジイソプロピルアミン４．３０ｇ（４２．５ｍｍｏｌ）を入れ、−７０℃に冷却後、１．６０ｍｏｌ/ｌのｎ−ブチルリチウム/ヘキサン溶液２６．５ｍｌ（４２．４ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。これに、シクロヘキサンカルボン酸メチル５．０ｇ（３５．２ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌後、（２−メチル−１，３−ジオキソラン−２−イル）酢酸メチル５．６ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間、５０℃で４時間攪拌した。
反応終了後、水４０ｍｌおよびトルエン５０ｍｌを加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液４０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１（容量比））により精製して、標記化合物３．２ｇ（油状物、収率４０％）を得た。
【００８７】
（工程６−２）
１−（６−メチルピリミジン−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、メタノール１０ｍｌに溶解したホルムアミジン酢酸塩０．６０ｇ（５．８ｍｍｏｌ）、１−アセトアセチルシクロヘキサンカルボン酸メチル１．２ｇ（５．３ｍｍｏｌ）を入れ、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２．０ｇ（１０．６ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで抽出処理した。得られた酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（容量比））により精製して、標記化合物０．９７ｇ（油状物、収率７８％）を得た。
【００８８】
［製造スキーム３］
１−（６−メチルピリミジン−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミドの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解したチエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−アミン０．２ｇ（１．３ｍｍｏｌ）に６０％油状水素化ナトリウム０．１０ｇ（２．６ｍｍｏｌ）を添加し、室温で２時間攪拌した。これに、１−（６−メチルピリミジン−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチル０．４７ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、５時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで抽出処理した。得られた酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（容量比））により精製して、標記化合物０．１１ｇ（油状物、収率２４％）を得た。
【実施例４】
【００８９】
１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号７５）の製造
【化１５】
【００９０】
［製造スキーム７］
（工程７−１）
１−アセチルシクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した２００ｍｌ容四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン６０ｍｌに溶解したジイソプロピルアミン３．１ｇ（３０．７ｍｍｏｌ）を入れ、−７０℃に冷却後、１．６０ｍｏｌ/ｌのｎ−ブチルリチウム/ヘキサン溶液１９ｍｌ（３０．４ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。これに、シクロヘキサンカルボン酸メチル４．０ｇ（２８．２ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌後、アセチルクロライド２．３ｇ（２９．３ｍｍｏｌ）を加え、−６０℃で１時間攪拌した。
反応終了後、水５０ｍｌおよびトルエン１００ｍｌを加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液５０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１（容量比））により精製して、標記化合物３．５ｇ（油状物、収率６８％）を得た。
【００９１】
（工程７−２）
１−（ブロモアセチル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した１００ｍｌ容四つ口フラスコに、メタノール２０ｍｌに溶解した１−アセチルシクロヘキサンカルボン酸メチル３．５ｇ（１９．０ｍｍｏｌ）を入れ、０℃に冷却後、臭素３．０ｇ（１９．０ｍｍｏｌ）を１０分間で滴下した。その後、室温で２時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌおよびジエチルエーテル５０ｍｌを加えて抽出処理した。得られた有機層を１０％炭酸カリウム水溶液３０ｍｌ、飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物４．８ｇ（油状物、粗収率９６％）を得た。これは精製することなく次のステップで使用した。
【００９２】
（工程７−３）
１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、エタノール１５ｍｌに溶解した１−（ブロモアセチル）シクロヘキサンカルボン酸メチル３．０ｇ（１１．４ｍｍｏｌ）およびチオアセトアミド０．８６ｇ（１１．４ｍｍｏｌ）を入れ、加熱還流下、３時間攪拌した。
反応終了後、反応混合液を減圧下で溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル５０ｍｌに溶解後、水３０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍｌで洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１５：１（容量比））により精製して、標記化合物１．３ｇ（油状物、収率４８％）を得た。
【００９３】
（工程４−２）
１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解した１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチル１．０ｇ（４．２ｍｍｏｌ）、水２ｍｌおよび水酸化カリウム０．７０ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）を入れ、８０℃で５時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加えジエチルエーテル２０ｍｌで洗浄後、水層を１Ｎ塩酸水溶液で酸性とし、酢酸エチル４０ｍｌで抽出処理した。酢酸エチル層を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去して、粗標記化合物０．７４ｇ（茶色結晶、粗収率７８％）を得た。
【００９４】
［製造スキーム１］
１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）−Ｎ−（チエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−イル）シクロヘキサンカルボキサミドの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ジクロロメタン１０ｍｌに溶解した１−（２−メチル−１，３−チアゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸０．２０ｇ（０．８９ｍｍｏｌ）を入れ、０℃に冷却後、オキサリルクロリド０．１２ｇ（０．９５ｍｍｏｌ）および触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加え、室温で攪拌した。１時間後、反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をジクロロメタン５ｍｌに溶解した。次いで、この溶解液を別途用意したチエノ[２，３−ｂ]ピリジン−５−アミン０．１２ｇ（０．８０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．１５ｇ（１．５ｍｍｏｌ）およびクロロホルム１０ｍｌの溶液中に加え、２４時間、室温で攪拌した。
反応終了後、反応混合液を水２０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（容量比））により精製して、標記化合物０．２５ｇ（白色結晶、収率８８％、融点１５３−１５６℃）を得た。
【００９５】
［参考実施例１］
１−（１，３−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
（工程６−２）
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、メタノール１０ｍｌに溶解した１−アセトアセチルシクロヘキサンカルボン酸メチル１．０ｇ（４．４ｍｍｏｌ）にメチルヒドラジン０．２３ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで抽出処理した。得られた酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（容量比））により精製して、標記化合物０．８９ｇ（油状物、収率８６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１.２３−１.８６（８Ｈ，ｍ），２．３３−２．３８（２Ｈ，ｍ），２．５８（３Ｈ，ｓ），３．６８（３Ｈ，ｓ），３．７１（３Ｈ，ｓ），５．９０（１Ｈ，ｓ）
【００９６】
［参考実施例２］
１−（イソオキサゾール−５−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
（工程６−２）
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、メタノール１０ｍｌに溶解した１−アセトアセチルシクロヘキサンカルボン酸メチル０．８０ｇ（３．５ｍｍｏｌ）にヒドロキシアミン塩酸塩０．３７ｇ（５．３ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、４時間攪拌した。
反応終了後、水２０ｍｌを加え、酢酸エチル８０ｍｌで抽出処理した。得られた酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル；Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１５：１（容量比））により精製して、標記化合物０．５８ｇ（油状物、収率７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３０−１．５７（６Ｈ，ｍ），１．９−２．０４（２Ｈ，ｍ），２．２０−２．２８（５Ｈ，ｍ），３．６９（３Ｈ，ｓ），５．９４（１Ｈ，ｓ）
【００９７】
［参考実施例３］
１−（１，３−オキサゾール−４−イル）シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
（工程７−３）
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍｌ容四つ口フラスコに、ホルムアミド６．０ｍｌ、ギ酸２．０ｍｌおよび１−（ブロモアセチル）シクロヘキサンカルボン酸メチル１．２ｇ（４．６ｍｍｏｌ）を入れ、加熱還流下、２時間攪拌した。
反応終了後、反応混合液に水２０ｍｌを加え、炭酸ナトリウムで中和した。酢酸エチル５０ｍｌで抽出後、水３０ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍｌで洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｈ（メルク社製商品名）展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１（容量比））により精製して、標記化合物０．８０ｇ（油状物、収率８３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１.２０−１.６７（６Ｈ，ｍ），１．９４−１．９９（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．３２（２Ｈ，ｍ），３．６０（３Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｓ），７．５０（１Ｈ，ｓ）
【実施例５】
【００９８】
（粉剤）
化合物番号８の化合物（２重量部）、ＰＡＰ（イソプロピルリン酸エステル、物理性改良剤）（１重量部）およびクレ−（９７重量部）の混合物を、均一に粉砕混合して、活性成分を２重量％含有する粉剤を得ることができる。さらに、化合物番号８に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれの粉剤を得ることができる。
【実施例６】
【００９９】
（水和剤）
化合物番号８の化合物（２０重量部）、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（３重量部）、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（５重量部）および白土（７２重量部）の混合物を均一に混合し、粉砕することにより、活性成分を２０重量％含有する水和剤を得ることができる。さらに、化合物番号８の化合物に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれ水和剤を得ることができる。
【実施例７】
【０１００】
（乳剤）
化合物番号３５の化合物（３０重量部）、メチルエチルケトン（４０重量部）およびポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（３０重量部）を混合して溶解することにより、活性成分を３０重量％含有する乳剤を得ることができる。さらに、化合物番号３５の化合物に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれ乳剤を得ることができる。
【実施例８】
【０１０１】
ゾル剤（フロアブル剤）
化合物番号７５の化合物（２５重量部）、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル（１重量部）、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム（１重量部）、カルボキシメチルセルロース（１重量部）および水（７２重量部）の混合物を均一に混合することにより、活性成分を２５重量％含有するゾル剤を得ることができる。さらに、化合物番号７５の化合物に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれのゾルを得ることができる。
【実施例９】
【０１０２】
（粒剤）
化合物番号１６９の化合物（５重量部）、ラウリル硫酸ナトリウム（１重量部）、リグニンスルホン酸カルシウム（５重量部）、ベントナイト（３０重量部）、およびクレー（５９重量部）の混合物に、さらに水（１５重量部）を加えて混練機で混練したのち、造粒機で造粒し、流動乾燥機で乾燥して、活性成分を５重量％含有する粒剤を得ることができる。さらに、化合物番号１６９の化合物に替えて、表１−１から表１−７に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれの粒剤を得ることができる。
【０１０３】
以下に、本発明化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用殺菌剤の有用性について、以下の試験例１〜６に示すが、本発明の有用性は、これらの試験例に限定されるものではない。
なお、供試化合物番号は、表１−１から表１−７で表す化合物と同一の番号を表す。
【０１０４】
試験例１
イネいもち病に対する箱処理による防除効果試験（フロアブル剤）
温室内で育苗箱（標準育苗箱の１／１０面積サイズ：１２ｃｍ×１５ｃｍ×高さ４ｃｍ）を用いて育苗した水稲（品種：朝日）の２．５葉期苗に、実施例８に準じて調製したフロアブル剤の希釈液（５，０００ｐｐｍ）を５０ｍｌ潅注した。この薬剤処理した水稲苗を直ちに水田土（湛水）を詰めたポット（１／１０，０００アールサイズ）に５苗／ポットで移植した。温室内で４週間栽培後、あらかじめ、別の水稲葉上で形成させたイネいもち病菌（Pyricularia grisea）の分生胞子を薬剤処理した水稲に接種し、２４℃の接種箱内に２４時間静置した後、２４℃の人工気象室内において、発病を促した。接種の７日後に、水稲の１株当りのイネいもち病の病斑数を調査し、平均病斑数を求め、下記の式１により防除価（％）を算出した。そして、下記の表３に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬剤区当り、１区１ポットの５連制で行った。
【０１０５】
【数１】
【０１０６】
【表３】
【０１０７】
また、下記の基準により、水稲に対する薬害程度を調査した。
薬害程度の調査指数（６段階で評価）
５：激甚 ４：甚 ３：多 ２：若干 １：わずか ０：なし
この薬害程度の調査指数は、試験例２〜６においても適用した。
これらの結果を下記の表４に示す。
【０１０８】
【表４】
注）無散布区の（ ）内の数値は、１葉当りの病斑数を示す。
【０１０９】
表４における比較薬剤Ａとは、下記の化合物を示す。比較薬剤Ａは、国際公開第０４／５５２６１号パンフレットに記載されている。
【化１６】
また、この比較薬剤Ａは、試験例２、３においても、比較薬剤として用いる。
【０１１０】
試験例２
イネいもち病に対する箱処理による防除効果試験（粒剤）
温室内で育苗箱（標準育苗箱の１／１０面積サイズ：１２ｃｍ×１５ｃｍ×高さ４ｃｍ）を用いて育苗した水稲（品種：朝日）の２．５葉期苗に、実施例９に準じて調製した粒剤５ｇを育苗箱上部より散布した。この薬剤処理した水稲苗を直ちに水田土（湛水）を詰めたポット（１／１０，０００アールサイズ）に５苗／ポットで移植した。温室内で６週間栽培後、あらかじめ、別の水稲葉上で形成させたイネいもち病菌（Pyricularia grisea）の分生胞子を薬剤処理した水稲に接種し、２４℃の接種箱内に２４時間静置した後、２４℃の人工気象室内において、発病を促した。接種の７日後に、水稲の１株当りのイネいもち病の病斑数を調査し、平均病斑数を求め、上記の式１により防除価（％）を算出した。そして、上記の表３に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬剤区当り、１区１ポットの５連制で行った。
また、上記の基準により、水稲に対する薬害程度を調査した。
これらの結果を以下の表５に示す。
【０１１１】
【表５】
注）無散布区の（ ）内の数値は、１葉当りの病斑数を示す。
【０１１２】
試験例３
イネいもち病に対する水面施用による防除効果試験（フロアブル剤）
温室内で水田土（湛水）を詰めたポット（１／１０，０００アールサイズ）で栽培した水稲（品種：朝日）の５葉期苗（５苗/株、１株／ポット）に、実施例８に準じて調製したフロアブル剤の希釈液（１，０００ｐｐｍ）１ｍｌを田面水へ点滴処理した。温室内で１週間栽培後、あらかじめ、別の水稲葉上で形成させたイネいもち病菌（Pyricularia grisea）の分生胞子を薬剤処理した水稲に接種し、２４℃の接種箱内に２４時間静置した後、２４℃の人工気象室内において、発病を促した。接種の７日後に、水稲の１株当りのイネいもち病の病斑数を調査し、平均病斑数を求め、上記の式１により防除価（％）を算出した。そして、上記の表３に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬剤区当り、１区１ポットの５連制で行った。
また、上記の基準により、水稲に対する薬害程度を調査した。
これらの結果を以下の表６に示す。
【０１１３】
【表６】
注）無散布区の（ ）内の数値は、１葉当りの病斑数を示す。
【０１１４】
試験例４
キュウリ灰色かび病防除効果試験
温室内で直径６ｃｍの大きさのプラスチックポットで栽培したキュウリ（品種：相模半白）の１．５葉期苗に、実施例６に準じて調製した水和剤の希釈液（１００ｐｐｍ）を１ポットあたり１０ｍｌ散布した（茎葉散布）。薬剤処理をした翌日、あらかじめジャガイモ煎汁培地上で培養したキュウリ灰色かび病菌（Botrytis cinerea）の含菌寒天片（直径5mm）を薬剤処理したキュウリの第１葉上に接種し、２０℃の温室内に入れた。接種の４日後に、病斑直径（ｃｍ）を測定し、下記の式２により防除価（％）を算出した。そして、上記の表３に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬液濃度当り、１区１ポットの３連制で行った。その平均の防除効果の評価値を求めた。
【０１１５】
【数２】
また、上記の基準により薬害程度を調査した。
これらの結果を以下の表７に示す。
【０１１６】
【表７】
注） 無散布区の （ ） 内の数値は、１葉当りの病斑直径を示す。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
（一般式（Ｉ）において、Ａは、酸素原子、硫黄原子および窒素原子からなる群から選ばれる１個または２個以上の原子を含有する複素５員環または複素６員環を示し、これらの複素５員環または複素６員環は、無置換であるか、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロアルキル基または置換されてもよいフェニル基（当該置換基は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基である。）で置換されていてもよく、Ｂは、−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ−（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）で表せる基を示し、Ｘは、硫黄原子または酸素原子を示す。）で表されるシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩。
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）におけるＡがチエニル基またはフリル基を示し、Ｂが−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ−（式中、Ｒ１は水素原子であり、Ｒ２は炭素数１〜６のアルコキシ基であり、ｎは１の整数である。）を示し、Ｘが硫黄原子または酸素原子を示すことを特徴とする請求項１に記載のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩。
【請求項３】
請求項１〜２記載の一般式（Ｉ）で表されるシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩を含有することを特徴とする、農園芸用殺菌剤。
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
（一般式（Ｉ）において、Ａは、酸素原子、硫黄原子および窒素原子からなる群から選ばれる１個または２個以上の原子を含有する複素５員環または複素６員環を示し、これらの複素５員環または複素６員環は、無置換であるか、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロアルキル基または置換されてもよいフェニル基（当該置換基は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基である。）で置換されていてもよく、Ｂは、−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ−（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）で表せる基を示し、Ｘは、硫黄原子または酸素原子を示す。）で表されるシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩。
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）におけるＡがチエニル基またはフリル基を示し、Ｂが−（ＣＲ１Ｒ２）ｎ−（式中、Ｒ１は水素原子であり、Ｒ２は炭素数１〜６のアルコキシ基であり、ｎは１の整数である。）を示し、Ｘが硫黄原子または酸素原子を示すことを特徴とする請求項１に記載のシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩。
【請求項３】
請求項１〜２記載の一般式（Ｉ）で表されるシクロヘキサンカルボキサミド誘導体またはその塩を含有することを特徴とする、農園芸用殺菌剤。
【公開番号】特開２００９−１３７９０６（Ｐ２００９−１３７９０６Ａ）
【公開日】平成２１年６月２５日（２００９．６．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３１７８６５（Ｐ２００７−３１７８６５）
【出願日】平成１９年１２月１０日（２００７．１２．１０）
【出願人】（０００２４２００２）北興化学工業株式会社 (182)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年６月２５日（２００９．６．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月１０日（２００７．１２．１０）
【出願人】（０００２４２００２）北興化学工業株式会社 (182)
【Ｆターム（参考）】
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