タッチパネル
【課題】タッチパネル１０を構成する第１透明基板１と第２透明基板２間の光の干渉により生ずるニュートンリングが、タッチパネル１０の下部に設置した表示装置の表示品質を低下させた。
【解決手段】表面に第１透明導電膜４が形成された第１透明基板１と、表面に第２透明導電膜５が形成された第２透明基板２とが、第１及び第２透明導電膜を内側にしてシール材３を介して互いに離間して接着されており、第１透明導電膜４と第１透明基板１との間に第１反射防止膜６ａが形成される構造とした。
【解決手段】表面に第１透明導電膜４が形成された第１透明基板１と、表面に第２透明導電膜５が形成された第２透明基板２とが、第１及び第２透明導電膜を内側にしてシール材３を介して互いに離間して接着されており、第１透明導電膜４と第１透明基板１との間に第１反射防止膜６ａが形成される構造とした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外部から押圧された押圧部の位置を検出して、情報入力可能とするタッチパネルに関し、特に、光の干渉により生ずるニュートンリングを見え難くしたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネル等の表示装置の表面に取り付けて、表示画面を見ながら表示位置に対応する位置情報を入力可能とするタッチパネルが実用化されている。図７（ａ）は、この種のタッチパネル５０の模式的な縦断面図であり、図７（ｂ）は、このタッチパネル５０の模式的な上面図である。タッチパネル５０は、上透明電極５４が形成された上透明基板５１と、下透明電極５６が形成された下透明基板５２とが、上透明電極５４及び下透明電極５６を内側にしてシール材５３により互いに離間して貼り付けられている。
【０００３】
一般的に上透明基板５１と下透明基板５２の間隔は１０μｍ〜１００μｍの一定間隔とする。まず、上透明基板５１の表面に上透明電極５４を形成する。下透明基板５２に下透明電極５６を形成する。次に、例えば、直径１０μｍのギャップ材を混入したシール材５３を下透明基板５２の表面外周部に印刷する。その後、上透明電極５４及び下透明電極５６を内側にして、上透明基板５１と下透明基板５２を圧着してシール材５３を固化する。これにより、上透明基板５１と下透明基板５２との間隙はギャップ材の直径により規定される。
【０００４】
更に、上透明基板５１と下透明基板５２の間隙に空気を充填して外気に対して陽圧とし、タッチパネル５０中央部を膨らませる。これは、外気の温度が低下して内部に充填された空気の体積が収縮したときに、上透明電極５４と下透明電極５６とが接触する誤動作を防止するためである。タッチパネル５０の中央部が膨らむために、この中央部の領域には必ず上透明基板５１の表面と下透明基板５２の表面とが平行となる領域が形成される。
【０００５】
図７（ｂ）に示すように、タッチパネル５０のこの上下透明基板が認識可能な比較的広い面積で概ね平行となる場合に、ニュートンリング５９が現れる。タッチパネル５０は、表示装置、例えば液晶表示装置の上に設置される。操作者は、表示装置の表示面を見ながらタッチパネル５０を操作する。この場合に、タッチパネル５０にニュートンリングが現れると、表示装置により表示される表示画像の品質が低下する。
【０００６】
図８は、特許文献１の図１（ａ）に示されているタッチパネル５０の縦断面図である。このタッチパネル５０は、上透明電極５４が形成された上透明基板５１と、下透明電極５６が形成された下透明基板５２とがシール材５３を介して対向接着されている。下透明電極５６の膜内部には、球状シリカ５８が混入されている。下透明電極５６の上にはドットスペーサ５７が設置されている。下透明電極５６の端部には銀電極からなる下引き回し電極５５ｂが、上透明電極５４の端部近傍には銀電極からなる上引き回し電極５５ａが形成されている。タッチパネル５０に入射した光は、下透明電極５６の球状シリカ５８により乱反射される。この乱反射により、ニュートンリングの発生を防止することができる、というものである。
【０００７】
また、特許文献２には、透明電極に多数の微細凹部を形成してニュートンリングの発生を防止することが記載されている。この場合も、上記特許文献１と同様に、透明電極において入射光を散乱させて、ニュートンリングの生成を防止する、というものである。
【特許文献１】特開２００４−２４６４２０号公報
【特許文献２】特開２００４−２３４３８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１及び特許文献２に記載の方法では、入射した光を透明電極に形成した光散乱手段により散乱させることによりニュートンリングの生成を防止する。そのために、タッチパネルの背面側に設けた表示装置に表示される画像がぼやける。また、画像光のような直進する光が光散乱手段により散乱されるために、直進光の光強度が低下する。そのために、表示画像が暗くなる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために以下の手段を講じた。
【００１０】
請求項１に係る発明においては、表面に第１透明導電膜が形成された第１透明基板と、表面に第２透明導電膜が形成された第２透明基板とが、前記第１及び第２透明導電膜を内側にして、シール材を介して互いに離間して接着されており、前記第１透明導電膜と前記第１透明基板との間には、第１反射防止膜が形成されているタッチパネルとした。
【００１１】
請求項２に係る発明においては、前記第２透明導電膜と前記第２透明基板との間には、第２反射防止膜が形成されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネルとした。
【００１２】
請求項３に係る発明においては、前記シール材は、前記第１透明基板及び前記第２透明基板の外周部に形成されており、前記第１透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第１透明導電膜に電気的に接続する第１電極が形成されており、前記第２透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第２透明導電膜に電気的に接続する第２電極が形成されており、前記第１電極及び前記第２電極は、前記第１透明基板又は前記第２透明基板の表面からの高さが、前記シール材の前記表面からの高さよりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載のタッチパネルとした。
【００１３】
請求項４に係る発明においては、前記第１透明基板又は前記第２透明基板の中央部を外部から荷重して前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜とが電気的に導通する作動荷重は、５グラム〜４０グラムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネルとした。
【発明の効果】
【００１４】
表面に透明導電膜が形成された２枚の透明基板を、透明導電膜を内側にしてシール材を介して互いに離間して接着し、少なくとも一方の透明基板と透明導電膜との間に反射防止膜を形成した。これにより、透明基板の内表面での光反射強度が低下して、ニュートンリングをほとんど視認できなくすることができた。同時に、光透過率が向上し背面に設置した表示装置の表示画像を明るくすることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を用いて本発明について詳細に説明する。
【００１６】
＜第１の実施形態＞
図１は、本発明の第１の実施形態を表すタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２とがシール材３を介して離間して接着されている。第１透明基板１の第２透明基板２側の表面（以下、内表面という）には、第１反射防止膜６ａと、第１反射防止膜６ａの上に形成された第１透明導電膜４が形成されている。第２透明基板２の第１透明基板１側に表面（以下、内表面という）には第２透明導電膜５が形成されている。
【００１７】
この構成により、第２透明基板２の上部から押圧すると、その押圧した位置において第１透明導電膜４と第２透明導電膜５とが接触する。第１透明導電膜４の両端間に電圧を印加して第２透明導電膜５によりその電圧を検出し、また、第２透明導電膜５の両端間に電圧を印加して第１透明導電膜４によりその電圧を検出して、その接触点の位置を特定する。
【００１８】
第１透明基板１の表面と第１透明導電膜４の間に第１反射防止膜６ａを形成したことにより、第１透明基板１の内表面側の反射率が低下する。その結果、第１透明基板１の内表面と第２透明基板２の内表面との間の光の反射に基づくニュートンリングがほとんど視認できなくなった。また、タッチパネル１０の光の透過率が向上した。そのため、第１透明基板１の背面側に設けた表示装置に表示される表示画像の品質が向上した。
【００１９】
ここで、第１透明基板１及び第２透明基板２として、ソーダ石灰ガラスやホウケイ酸ガラス等の透明ガラスを使用することができる。第１透明基板１は厚さを０．１ｍｍ〜２ｍｍとし、第２透明基板２は厚さを０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍとする。第１及び第２透明基板１、２は、シール材３により接着後にその外面をエッチング又は研磨して、所定の板厚とすることができる。第１透明基板１と第２透明基板の間隔は、１０μｍ〜４００μｍとする。この間隔は、シール材３に所定の粒径を有するギャップ材を混入させることにより高精度に制御することができる。まず、シール材３に所定の粒径を有するギャップ材を混入させる。次に、シール材３を第１透明基板１の表面の周辺部に印刷する。次に、第２透明基板２を第１透明基板１の上に載置して押圧し、シール材を硬化させる。このように形成することにより、第１透明基板１と第２透明基板２のシール材３の部位における間隔をギャップ材の粒径とすることができる。
【００２０】
第１反射防止膜６ａは、例えば酸化チタン（ＴｉＯ２）と酸化シリコン（ＳｉＯ２）を交互に積層した多層構造、例えば４層構造とすることができる。酸化チタン膜や酸化シリコン膜は蒸着やスパッタリングにより形成することができる。第１透明導電膜４及び第２透明導電膜５はインジウムスズ酸化物（以下、ＩＴＯという）を使用する。ＩＴＯ膜はスパッタリング法や電子ビーム蒸着法等により８ｎｍ〜１６ｎｍ堆積させる。第１透明基板１と第２透明基板２とシール材３により囲まれる空間には、所定の圧力で空気又はＮ２を封入している。なお、第１及び第２透明導電膜４、５として、酸化スズや酸化亜鉛を使用することができる。
【００２１】
このように形成したタッチパネル１０の全光線透過率は８７％であった。第１反射防止膜６ａを形成しないで、他の構成要素を同一の材料を使用して同一の条件で作成した場合の全光線透過率は８５％であった。第１反射防止膜６ａを形成することにより第１透明基板１の内表面における反射率が低下してニュートンリングはほとんど視認できなくなった。更に、透過率が向上したことにより、背面に設置した表示装置の表示画像品質が向上した。
【００２２】
タッチパネル１０の中央部を押圧荷重して第１透明導電膜４と第２透明導電膜５とが導通を開始する最低の荷重を作動荷重とする。上記第１実施形態においては、作動荷重を５グラム〜４０グラムとしている。この作動荷重よりも高くすると、特に先端部の尖ったペン入力等による入力ができ難くなる。また、この作動荷重よりも低くすると、全体的に干渉縞が発生しやすくなる。加えて、例えば周囲温度が−２０℃低下すると、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隙が収縮し、第１透明導電膜４と第２透明導電膜５とが接触して誤動作を起こしやすくなる。作動荷重は、より好ましくは略１０グラム〜２０グラムに設定する。
【００２３】
なお、タッチパネル１０の大きさ及び作動荷重とニュートンリングの発生との間には相関関係がある。タッチパネル１０の外形の大きさ、即ちパネルの対角線の長さが小さくなるほど、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隙が狭くなり、中央部にニュートンリングが発生しやすくなる。
【００２４】
本第１の実施形態においては、大きさが２インチ〜４インチのタッチパネル１０を構成して作動荷重を５グラム〜４０グラムとした場合でも、ニュートンリングが見え難くなり、背面側に設置した表示装置の表示画像の品質低下を防止することができる。
【００２５】
＜第２の実施形態＞
図２は、本発明の第２の実施形態に係るタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。図２に示すように、タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２とがシール材３を介して離間して接着されている。第２透明基板２の内表面には第２反射防止膜６ｂと、第２反射防止膜６ｂの上に形成された第２透明導電膜５が形成されている。第１透明基板１の内表面には第２透明導電膜４が形成されている。なお、第２反射防止膜６ｂは、第１の実施形態と同様に、例えば酸化チタンと酸化シリコンを交互に積層した多層構造、例えば４層構造とすることができる。酸化チタン膜や酸化シリコン膜は蒸着やスパッタリングにより形成することができる。
【００２６】
このように形成したタッチパネル１０の全光線透過率は８７％であった。第２反射防止膜６ｂを形成しないで、他の構成要素を同一の材料を使用して同一の条件で作成した場合の全光線透過率は８５％であった。第１反射防止膜６ａを形成することにより第１透明基板１の内表面における反射率が低下してニュートンリングはほとんど視認できなくなった。更に、透過率が向上したことにより、背面に設置した表示装置の表示画像品質が向上した。その他の構成は第１の実施形態と同様である。
【００２７】
＜第３の実施形態＞
図３は、本発明の第３の実施形態に係るタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。図３に示すように、タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２とがシール材３を介して離間して接着されている。第１透明基板１の内表面には第１反射防止膜６ａと、第１反射防止膜６ａの上に形成された第１透明導電膜４が形成されている。第２透明基板２の内表面には第２反射防止膜６ｂと、第２反射防止膜６ｂの上に形成された第２透明導電膜５が形成されている。
【００２８】
このように形成したタッチパネル１０の全光線透過率は９１％であった。すでに説明したように、いずれか一方の透明基板の透明導電膜と透明基板の間に反射防止膜を設けた場合の透過率は８７％であった。第１反射防止膜６ａを形成することにより第１透明基板１の内表面における反射率が低下してニュートンリングはほとんど視認できなくなった。更に、透過率が向上したことにより、背面に設置した表示装置の表示画像品質が向上した。
【００２９】
＜第４の実施形態＞
図４は、本発明の第４の実施形態に係るタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。本実施形態においては、第３の実施形態に係るタッチパネル１０の上下の外面に、第３反射防止膜６ｃ及び第４反射防止膜６ｄを設けた。その他の構成は、図３に示した第３の実施形態と同様なので、説明を省略する。
【００３０】
第３反射防止膜６ｃ及び第４反射防止膜６ｄは、既に説明したと同様に、例えば酸化チタンと酸化シリコンを交互に積層した多層構造、例えば４層構造とすることができる。酸化チタン膜や酸化シリコン膜は蒸着やスパッタリングにより形成することができる。また、このような薄膜の反射防止膜に代えて、反射防止フィルムを貼り付けることができる。これにより、タッチパネル１０の全光線透過率は９７％〜９９％となった。従って、第１及び第２透明基板１、２の両内面に第１及び第２反射防止膜６ａ、６ｂを形成した場合よりも、略６％〜８％透過率が向上した。その結果、背面に設置した表示装置の表示画像品質が更に向上した。
【００３１】
＜第５の実施形態＞
図５は、本発明の第５の実施形態に係るタッチパネル１０の説明図である。図５（ａ）は、タッチパネル１０の模式的な縦断面図であり、図５（ｂ）は、タッチパネル１０の左端部Ｘの部分拡大図であり、図５（ｃ）は、タッチパネル１０の模式的な上面図である。同一の部分又は同一の機能を有する部分には同一の符号を付した。
【００３２】
図５（ａ）に示すように、タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２がシール材３を介して互いに離間して接着されている。第１透明基板１の内表面には、第１反射防止膜６ａと、その上に第１透明導電膜４が積層して形成されている。第２透明基板２の内表面には、第２透明導電膜５が形成されている。更に、第１透明基板１の内表面側には、シール材３よりも内側であってシール材３に近接して第１電極７ａが形成されている。第１電極７ａは第１透明導電膜４に電気的に接続している。同様に、第２透明基板２の内表面側には、シール材３よりも内側であってシール材３に近接して第２電極７ｂが形成されている。第２電極７ｂは第２透明導電膜５に電気的に接続している。
【００３３】
図５（ｂ）に示すように、第１電極７ａは、第１透明基板１の内表面からの高さがシール材３よりもδｈ高く形成されている。つまり、第１透明基板１と第２透明基板２の間隔は、シール材３が形成されている場所よりも第１電極７ａが形成されている場所のほうが広い。同様に、第２電極７ｂは、第２透明基板２の内表面からの高さがシール材３よりもδｈ高く形成されている。
【００３４】
図５（ｃ）に示すように、第１電極７ａは対向する両辺においてシール材３に沿って平行して形成されている。同様に第２電極７ｂは対向する両辺においてシール材３に沿って平行して形成されている。このように、第１電極７ａ、第２電極７ｂをシール材３よりも内側に、しかもシール材３の高さよりも高く形成することにより、内部空間を大気圧とした場合でも第１透明基板１と第２透明基板２の中央部における間隙が広くなる。
【００３５】
ここで、第１電極７ａ及び第２電極７ｂは、例えば所定の直径を有するファイバーを混入した銀電極により形成する。また、シール材３には上記ファイバーよりも径の小さなギャップ材を混入している。例えば、第１電極７ａ及び第２電極７ｂに混入するファイバーの直径を１２μｍとする。シール材３に混入するギャップ材の径を１０μｍにする。これにより、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隔を高精度に制御することができるとともに、中央部より周辺部のほうが間隙の広い膨らんだタッチパネル１０を構成することができる。
【００３６】
一般に、所定の径のギャップ材を混入したシール材３の内側に、このギャップ材よりも径の若干大きなギャップ材を混入した電極を近接して形成すると、間隙の均一性が向上してニュートンリングが発生しやすくなる。特にタッチパネル１０の外形（対角線）が４インチ以下においてニュートンリングの発生が顕著となる。また、作動荷重を５グラム〜４０グラムとするためには内部空間の空気圧を低下させる必要があり、そのためにニュートンリングが発生しやすくなる。
【００３７】
そこで、上記第５の実施形態に示すように、第１透明基板１の表面と第１透明導電膜４との間に第１反射防止膜６ａを形成することにより、このニュートンリングの発生を低減させることができる。特に、タッチパネル１０の外形を４インチ以下とし、作動荷重を５グラム〜４０グラムに低減した場合においても、ニュートンリングの発生を低減させ、同時に光の透過率を向上させることができる。これにより、下部に設置した表示装置に表示される表示画像の品質低下を防止することができる。
【００３８】
なお、第１反射防止膜６ａに代えて、第２透明基板２の内表面と第２透明導電膜５との間に第２反射防止膜６ｂを形成してもよいし、第１透明基板１の表面と第１透明導電膜４との間、及び第２透明基板２の表面と第２透明導電膜５との間の両方に第１及び第２反射防止膜６ａ、６ｂを形成してもよいし、更に、第１透明基板１と第２透明基板２の外面に第３及び第４反射防止膜６ｃ、６ｄ又は反射防止フィルムを形成してもよい。
【００３９】
また、第１及び第２反射防止膜６ａ、６ｂとして、酸化チタンと酸化シリコンの多層膜から構成することができる。また、第１透明導電膜４及び第２透明導電膜５として、例えば膜厚８ｎｍ〜１２ｎｍのＩＴＯ、酸化スズ、酸化亜鉛又はこれらの複合物を使用することができる。また、第１透明基板１及び第２透明基板２として、ソーダ石灰ガラスやホウケイ酸ガラス等のガラスを使用することができる。第１透明基板１の厚さを０．１ｍｍ〜２．０ｍｍ、第２透明基板２の厚さを０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍとすることができる。タッチパネル１０の外形は１０インチ以上であっても良いし、１０インチ以下であっても良い。ニュートンリングの発生が顕著となる対角が２インチ〜４インチの外形を有するタッチパネル１０に本発明を適用した場合、特に有効である。
【００４０】
図６は、タッチパネル１０に発生するニュートンリングについて、第２透明基板２の板厚及び中心部に対する荷重と、反射防止膜６との間の関係を表すグラフである。タッチパネル１０の外形（対角の長さ）は２．６インチである。横軸が第２透明基板２の板厚（ｍｍ）であり、縦軸がペン等により入力可能な中心部の作動荷重（ｇ）である。一般的に、第２透明基板２の板厚が厚くなるほど、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隔の均一性が良くなり、ニュートンリングが見えやすくなる。同様に、ペン等により入力可能な作動荷重が小さくなるほど、中心部のふくらみが減少して、ニュートンリングが見えやすくなる。
【００４１】
グラフＡは、第１透明基板１の内面と第２透明基板２の内面の夫々に反射防止膜６ａ、６ｂを形成した場合（図３の場合）の、ニュートンリングが見えやすい領域と見え難い領域の境界を表している。即ち、グラフＡより上部の領域ではニュートンリングが見え難くなり、グラフＡより下部の領域ではニュートンリングが見えやすくなる。具体的には、第２透明基板２の板厚を０．１ｍｍとした場合には、タッチパネル１０の中心部の作動荷重を約２グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．１５ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約１０グラム以上とすればニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．２ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約２７グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。
【００４２】
グラフＢは、第１透明基板１の内面又は第２透明基板２の内面のいずれか一方に反射防止膜６ａ又は６ｂを形成した場合（図１又は図２の場合）の、ニュートンリングが見えやすい領域と見え難い領域の境界を表している。即ち、グラフＢより上部の領域ではニュートンリングが見え難くなり、グラフＢより下部の領域ではニュートンリングが見えやすくなる。具体的には、第２透明基板２の板厚を０．１ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約２６グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．１５ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約３２グラム以上とすればニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．２ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約６０グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。
【００４３】
グラフＣは、第１透明基板１及び第２透明基板２の内面のいずれにも反射防止膜を形成しない従来例の場合の、ニュートンリングが見えやすい領域と見え難い領域の境界を表している。即ち、グラフＣより上部の領域ではニュートンリングが見え難くなり、グラフＣより下部の領域ではニュートンリングが見えやすくなる。具体的には、第２透明基板２の板厚を０．１ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約４０グラム以上としなければ、ニュートンリングが発生する。また、第２透明基板２の板厚を０．１５ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約６２グラム以上としなければニュートンリングが発生する。第２透明基板２の板厚を０．２ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約１００グラム以上としなければ、ニュートンリングが発生する。
【００４４】
以上の説明から明らかに、第１透明基板１の内面又は／及び第２透明基板２の内面に反射防止膜を形成することにより、ペン先等により書き込む際の中心部の作動荷重を低下させることができる。また、第２透明基板２の板厚も低減して、薄いタッチパネル１０を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。
【図２】本発明の他の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。
【図３】本発明の他の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。
【図４】本発明の他の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係るタッチパネルの説明図である。
【図６】本発明の実施形態に係るタッチパネル１０に発生するニュートンリングについて、第２透明基板２の板厚及び中心部に対する荷重と反射防止膜６との間の関係を表すグラフである。
【図７】従来公知のタッチパネルの説明図である。
【図８】従来公知のタッチパネルの模式的な縦断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１ 第１透明基板
２ 第２透明基板
３ シール材
４ 第１透明導電膜
５ 第２透明導電膜
６ 反射防止膜
７ａ 第１電極
７ｂ 第２電極
１０ タッチパネル
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外部から押圧された押圧部の位置を検出して、情報入力可能とするタッチパネルに関し、特に、光の干渉により生ずるニュートンリングを見え難くしたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネル等の表示装置の表面に取り付けて、表示画面を見ながら表示位置に対応する位置情報を入力可能とするタッチパネルが実用化されている。図７（ａ）は、この種のタッチパネル５０の模式的な縦断面図であり、図７（ｂ）は、このタッチパネル５０の模式的な上面図である。タッチパネル５０は、上透明電極５４が形成された上透明基板５１と、下透明電極５６が形成された下透明基板５２とが、上透明電極５４及び下透明電極５６を内側にしてシール材５３により互いに離間して貼り付けられている。
【０００３】
一般的に上透明基板５１と下透明基板５２の間隔は１０μｍ〜１００μｍの一定間隔とする。まず、上透明基板５１の表面に上透明電極５４を形成する。下透明基板５２に下透明電極５６を形成する。次に、例えば、直径１０μｍのギャップ材を混入したシール材５３を下透明基板５２の表面外周部に印刷する。その後、上透明電極５４及び下透明電極５６を内側にして、上透明基板５１と下透明基板５２を圧着してシール材５３を固化する。これにより、上透明基板５１と下透明基板５２との間隙はギャップ材の直径により規定される。
【０００４】
更に、上透明基板５１と下透明基板５２の間隙に空気を充填して外気に対して陽圧とし、タッチパネル５０中央部を膨らませる。これは、外気の温度が低下して内部に充填された空気の体積が収縮したときに、上透明電極５４と下透明電極５６とが接触する誤動作を防止するためである。タッチパネル５０の中央部が膨らむために、この中央部の領域には必ず上透明基板５１の表面と下透明基板５２の表面とが平行となる領域が形成される。
【０００５】
図７（ｂ）に示すように、タッチパネル５０のこの上下透明基板が認識可能な比較的広い面積で概ね平行となる場合に、ニュートンリング５９が現れる。タッチパネル５０は、表示装置、例えば液晶表示装置の上に設置される。操作者は、表示装置の表示面を見ながらタッチパネル５０を操作する。この場合に、タッチパネル５０にニュートンリングが現れると、表示装置により表示される表示画像の品質が低下する。
【０００６】
図８は、特許文献１の図１（ａ）に示されているタッチパネル５０の縦断面図である。このタッチパネル５０は、上透明電極５４が形成された上透明基板５１と、下透明電極５６が形成された下透明基板５２とがシール材５３を介して対向接着されている。下透明電極５６の膜内部には、球状シリカ５８が混入されている。下透明電極５６の上にはドットスペーサ５７が設置されている。下透明電極５６の端部には銀電極からなる下引き回し電極５５ｂが、上透明電極５４の端部近傍には銀電極からなる上引き回し電極５５ａが形成されている。タッチパネル５０に入射した光は、下透明電極５６の球状シリカ５８により乱反射される。この乱反射により、ニュートンリングの発生を防止することができる、というものである。
【０００７】
また、特許文献２には、透明電極に多数の微細凹部を形成してニュートンリングの発生を防止することが記載されている。この場合も、上記特許文献１と同様に、透明電極において入射光を散乱させて、ニュートンリングの生成を防止する、というものである。
【特許文献１】特開２００４−２４６４２０号公報
【特許文献２】特開２００４−２３４３８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１及び特許文献２に記載の方法では、入射した光を透明電極に形成した光散乱手段により散乱させることによりニュートンリングの生成を防止する。そのために、タッチパネルの背面側に設けた表示装置に表示される画像がぼやける。また、画像光のような直進する光が光散乱手段により散乱されるために、直進光の光強度が低下する。そのために、表示画像が暗くなる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために以下の手段を講じた。
【００１０】
請求項１に係る発明においては、表面に第１透明導電膜が形成された第１透明基板と、表面に第２透明導電膜が形成された第２透明基板とが、前記第１及び第２透明導電膜を内側にして、シール材を介して互いに離間して接着されており、前記第１透明導電膜と前記第１透明基板との間には、第１反射防止膜が形成されているタッチパネルとした。
【００１１】
請求項２に係る発明においては、前記第２透明導電膜と前記第２透明基板との間には、第２反射防止膜が形成されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネルとした。
【００１２】
請求項３に係る発明においては、前記シール材は、前記第１透明基板及び前記第２透明基板の外周部に形成されており、前記第１透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第１透明導電膜に電気的に接続する第１電極が形成されており、前記第２透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第２透明導電膜に電気的に接続する第２電極が形成されており、前記第１電極及び前記第２電極は、前記第１透明基板又は前記第２透明基板の表面からの高さが、前記シール材の前記表面からの高さよりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載のタッチパネルとした。
【００１３】
請求項４に係る発明においては、前記第１透明基板又は前記第２透明基板の中央部を外部から荷重して前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜とが電気的に導通する作動荷重は、５グラム〜４０グラムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネルとした。
【発明の効果】
【００１４】
表面に透明導電膜が形成された２枚の透明基板を、透明導電膜を内側にしてシール材を介して互いに離間して接着し、少なくとも一方の透明基板と透明導電膜との間に反射防止膜を形成した。これにより、透明基板の内表面での光反射強度が低下して、ニュートンリングをほとんど視認できなくすることができた。同時に、光透過率が向上し背面に設置した表示装置の表示画像を明るくすることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を用いて本発明について詳細に説明する。
【００１６】
＜第１の実施形態＞
図１は、本発明の第１の実施形態を表すタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２とがシール材３を介して離間して接着されている。第１透明基板１の第２透明基板２側の表面（以下、内表面という）には、第１反射防止膜６ａと、第１反射防止膜６ａの上に形成された第１透明導電膜４が形成されている。第２透明基板２の第１透明基板１側に表面（以下、内表面という）には第２透明導電膜５が形成されている。
【００１７】
この構成により、第２透明基板２の上部から押圧すると、その押圧した位置において第１透明導電膜４と第２透明導電膜５とが接触する。第１透明導電膜４の両端間に電圧を印加して第２透明導電膜５によりその電圧を検出し、また、第２透明導電膜５の両端間に電圧を印加して第１透明導電膜４によりその電圧を検出して、その接触点の位置を特定する。
【００１８】
第１透明基板１の表面と第１透明導電膜４の間に第１反射防止膜６ａを形成したことにより、第１透明基板１の内表面側の反射率が低下する。その結果、第１透明基板１の内表面と第２透明基板２の内表面との間の光の反射に基づくニュートンリングがほとんど視認できなくなった。また、タッチパネル１０の光の透過率が向上した。そのため、第１透明基板１の背面側に設けた表示装置に表示される表示画像の品質が向上した。
【００１９】
ここで、第１透明基板１及び第２透明基板２として、ソーダ石灰ガラスやホウケイ酸ガラス等の透明ガラスを使用することができる。第１透明基板１は厚さを０．１ｍｍ〜２ｍｍとし、第２透明基板２は厚さを０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍとする。第１及び第２透明基板１、２は、シール材３により接着後にその外面をエッチング又は研磨して、所定の板厚とすることができる。第１透明基板１と第２透明基板の間隔は、１０μｍ〜４００μｍとする。この間隔は、シール材３に所定の粒径を有するギャップ材を混入させることにより高精度に制御することができる。まず、シール材３に所定の粒径を有するギャップ材を混入させる。次に、シール材３を第１透明基板１の表面の周辺部に印刷する。次に、第２透明基板２を第１透明基板１の上に載置して押圧し、シール材を硬化させる。このように形成することにより、第１透明基板１と第２透明基板２のシール材３の部位における間隔をギャップ材の粒径とすることができる。
【００２０】
第１反射防止膜６ａは、例えば酸化チタン（ＴｉＯ２）と酸化シリコン（ＳｉＯ２）を交互に積層した多層構造、例えば４層構造とすることができる。酸化チタン膜や酸化シリコン膜は蒸着やスパッタリングにより形成することができる。第１透明導電膜４及び第２透明導電膜５はインジウムスズ酸化物（以下、ＩＴＯという）を使用する。ＩＴＯ膜はスパッタリング法や電子ビーム蒸着法等により８ｎｍ〜１６ｎｍ堆積させる。第１透明基板１と第２透明基板２とシール材３により囲まれる空間には、所定の圧力で空気又はＮ２を封入している。なお、第１及び第２透明導電膜４、５として、酸化スズや酸化亜鉛を使用することができる。
【００２１】
このように形成したタッチパネル１０の全光線透過率は８７％であった。第１反射防止膜６ａを形成しないで、他の構成要素を同一の材料を使用して同一の条件で作成した場合の全光線透過率は８５％であった。第１反射防止膜６ａを形成することにより第１透明基板１の内表面における反射率が低下してニュートンリングはほとんど視認できなくなった。更に、透過率が向上したことにより、背面に設置した表示装置の表示画像品質が向上した。
【００２２】
タッチパネル１０の中央部を押圧荷重して第１透明導電膜４と第２透明導電膜５とが導通を開始する最低の荷重を作動荷重とする。上記第１実施形態においては、作動荷重を５グラム〜４０グラムとしている。この作動荷重よりも高くすると、特に先端部の尖ったペン入力等による入力ができ難くなる。また、この作動荷重よりも低くすると、全体的に干渉縞が発生しやすくなる。加えて、例えば周囲温度が−２０℃低下すると、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隙が収縮し、第１透明導電膜４と第２透明導電膜５とが接触して誤動作を起こしやすくなる。作動荷重は、より好ましくは略１０グラム〜２０グラムに設定する。
【００２３】
なお、タッチパネル１０の大きさ及び作動荷重とニュートンリングの発生との間には相関関係がある。タッチパネル１０の外形の大きさ、即ちパネルの対角線の長さが小さくなるほど、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隙が狭くなり、中央部にニュートンリングが発生しやすくなる。
【００２４】
本第１の実施形態においては、大きさが２インチ〜４インチのタッチパネル１０を構成して作動荷重を５グラム〜４０グラムとした場合でも、ニュートンリングが見え難くなり、背面側に設置した表示装置の表示画像の品質低下を防止することができる。
【００２５】
＜第２の実施形態＞
図２は、本発明の第２の実施形態に係るタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。図２に示すように、タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２とがシール材３を介して離間して接着されている。第２透明基板２の内表面には第２反射防止膜６ｂと、第２反射防止膜６ｂの上に形成された第２透明導電膜５が形成されている。第１透明基板１の内表面には第２透明導電膜４が形成されている。なお、第２反射防止膜６ｂは、第１の実施形態と同様に、例えば酸化チタンと酸化シリコンを交互に積層した多層構造、例えば４層構造とすることができる。酸化チタン膜や酸化シリコン膜は蒸着やスパッタリングにより形成することができる。
【００２６】
このように形成したタッチパネル１０の全光線透過率は８７％であった。第２反射防止膜６ｂを形成しないで、他の構成要素を同一の材料を使用して同一の条件で作成した場合の全光線透過率は８５％であった。第１反射防止膜６ａを形成することにより第１透明基板１の内表面における反射率が低下してニュートンリングはほとんど視認できなくなった。更に、透過率が向上したことにより、背面に設置した表示装置の表示画像品質が向上した。その他の構成は第１の実施形態と同様である。
【００２７】
＜第３の実施形態＞
図３は、本発明の第３の実施形態に係るタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。図３に示すように、タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２とがシール材３を介して離間して接着されている。第１透明基板１の内表面には第１反射防止膜６ａと、第１反射防止膜６ａの上に形成された第１透明導電膜４が形成されている。第２透明基板２の内表面には第２反射防止膜６ｂと、第２反射防止膜６ｂの上に形成された第２透明導電膜５が形成されている。
【００２８】
このように形成したタッチパネル１０の全光線透過率は９１％であった。すでに説明したように、いずれか一方の透明基板の透明導電膜と透明基板の間に反射防止膜を設けた場合の透過率は８７％であった。第１反射防止膜６ａを形成することにより第１透明基板１の内表面における反射率が低下してニュートンリングはほとんど視認できなくなった。更に、透過率が向上したことにより、背面に設置した表示装置の表示画像品質が向上した。
【００２９】
＜第４の実施形態＞
図４は、本発明の第４の実施形態に係るタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。本実施形態においては、第３の実施形態に係るタッチパネル１０の上下の外面に、第３反射防止膜６ｃ及び第４反射防止膜６ｄを設けた。その他の構成は、図３に示した第３の実施形態と同様なので、説明を省略する。
【００３０】
第３反射防止膜６ｃ及び第４反射防止膜６ｄは、既に説明したと同様に、例えば酸化チタンと酸化シリコンを交互に積層した多層構造、例えば４層構造とすることができる。酸化チタン膜や酸化シリコン膜は蒸着やスパッタリングにより形成することができる。また、このような薄膜の反射防止膜に代えて、反射防止フィルムを貼り付けることができる。これにより、タッチパネル１０の全光線透過率は９７％〜９９％となった。従って、第１及び第２透明基板１、２の両内面に第１及び第２反射防止膜６ａ、６ｂを形成した場合よりも、略６％〜８％透過率が向上した。その結果、背面に設置した表示装置の表示画像品質が更に向上した。
【００３１】
＜第５の実施形態＞
図５は、本発明の第５の実施形態に係るタッチパネル１０の説明図である。図５（ａ）は、タッチパネル１０の模式的な縦断面図であり、図５（ｂ）は、タッチパネル１０の左端部Ｘの部分拡大図であり、図５（ｃ）は、タッチパネル１０の模式的な上面図である。同一の部分又は同一の機能を有する部分には同一の符号を付した。
【００３２】
図５（ａ）に示すように、タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２がシール材３を介して互いに離間して接着されている。第１透明基板１の内表面には、第１反射防止膜６ａと、その上に第１透明導電膜４が積層して形成されている。第２透明基板２の内表面には、第２透明導電膜５が形成されている。更に、第１透明基板１の内表面側には、シール材３よりも内側であってシール材３に近接して第１電極７ａが形成されている。第１電極７ａは第１透明導電膜４に電気的に接続している。同様に、第２透明基板２の内表面側には、シール材３よりも内側であってシール材３に近接して第２電極７ｂが形成されている。第２電極７ｂは第２透明導電膜５に電気的に接続している。
【００３３】
図５（ｂ）に示すように、第１電極７ａは、第１透明基板１の内表面からの高さがシール材３よりもδｈ高く形成されている。つまり、第１透明基板１と第２透明基板２の間隔は、シール材３が形成されている場所よりも第１電極７ａが形成されている場所のほうが広い。同様に、第２電極７ｂは、第２透明基板２の内表面からの高さがシール材３よりもδｈ高く形成されている。
【００３４】
図５（ｃ）に示すように、第１電極７ａは対向する両辺においてシール材３に沿って平行して形成されている。同様に第２電極７ｂは対向する両辺においてシール材３に沿って平行して形成されている。このように、第１電極７ａ、第２電極７ｂをシール材３よりも内側に、しかもシール材３の高さよりも高く形成することにより、内部空間を大気圧とした場合でも第１透明基板１と第２透明基板２の中央部における間隙が広くなる。
【００３５】
ここで、第１電極７ａ及び第２電極７ｂは、例えば所定の直径を有するファイバーを混入した銀電極により形成する。また、シール材３には上記ファイバーよりも径の小さなギャップ材を混入している。例えば、第１電極７ａ及び第２電極７ｂに混入するファイバーの直径を１２μｍとする。シール材３に混入するギャップ材の径を１０μｍにする。これにより、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隔を高精度に制御することができるとともに、中央部より周辺部のほうが間隙の広い膨らんだタッチパネル１０を構成することができる。
【００３６】
一般に、所定の径のギャップ材を混入したシール材３の内側に、このギャップ材よりも径の若干大きなギャップ材を混入した電極を近接して形成すると、間隙の均一性が向上してニュートンリングが発生しやすくなる。特にタッチパネル１０の外形（対角線）が４インチ以下においてニュートンリングの発生が顕著となる。また、作動荷重を５グラム〜４０グラムとするためには内部空間の空気圧を低下させる必要があり、そのためにニュートンリングが発生しやすくなる。
【００３７】
そこで、上記第５の実施形態に示すように、第１透明基板１の表面と第１透明導電膜４との間に第１反射防止膜６ａを形成することにより、このニュートンリングの発生を低減させることができる。特に、タッチパネル１０の外形を４インチ以下とし、作動荷重を５グラム〜４０グラムに低減した場合においても、ニュートンリングの発生を低減させ、同時に光の透過率を向上させることができる。これにより、下部に設置した表示装置に表示される表示画像の品質低下を防止することができる。
【００３８】
なお、第１反射防止膜６ａに代えて、第２透明基板２の内表面と第２透明導電膜５との間に第２反射防止膜６ｂを形成してもよいし、第１透明基板１の表面と第１透明導電膜４との間、及び第２透明基板２の表面と第２透明導電膜５との間の両方に第１及び第２反射防止膜６ａ、６ｂを形成してもよいし、更に、第１透明基板１と第２透明基板２の外面に第３及び第４反射防止膜６ｃ、６ｄ又は反射防止フィルムを形成してもよい。
【００３９】
また、第１及び第２反射防止膜６ａ、６ｂとして、酸化チタンと酸化シリコンの多層膜から構成することができる。また、第１透明導電膜４及び第２透明導電膜５として、例えば膜厚８ｎｍ〜１２ｎｍのＩＴＯ、酸化スズ、酸化亜鉛又はこれらの複合物を使用することができる。また、第１透明基板１及び第２透明基板２として、ソーダ石灰ガラスやホウケイ酸ガラス等のガラスを使用することができる。第１透明基板１の厚さを０．１ｍｍ〜２．０ｍｍ、第２透明基板２の厚さを０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍとすることができる。タッチパネル１０の外形は１０インチ以上であっても良いし、１０インチ以下であっても良い。ニュートンリングの発生が顕著となる対角が２インチ〜４インチの外形を有するタッチパネル１０に本発明を適用した場合、特に有効である。
【００４０】
図６は、タッチパネル１０に発生するニュートンリングについて、第２透明基板２の板厚及び中心部に対する荷重と、反射防止膜６との間の関係を表すグラフである。タッチパネル１０の外形（対角の長さ）は２．６インチである。横軸が第２透明基板２の板厚（ｍｍ）であり、縦軸がペン等により入力可能な中心部の作動荷重（ｇ）である。一般的に、第２透明基板２の板厚が厚くなるほど、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隔の均一性が良くなり、ニュートンリングが見えやすくなる。同様に、ペン等により入力可能な作動荷重が小さくなるほど、中心部のふくらみが減少して、ニュートンリングが見えやすくなる。
【００４１】
グラフＡは、第１透明基板１の内面と第２透明基板２の内面の夫々に反射防止膜６ａ、６ｂを形成した場合（図３の場合）の、ニュートンリングが見えやすい領域と見え難い領域の境界を表している。即ち、グラフＡより上部の領域ではニュートンリングが見え難くなり、グラフＡより下部の領域ではニュートンリングが見えやすくなる。具体的には、第２透明基板２の板厚を０．１ｍｍとした場合には、タッチパネル１０の中心部の作動荷重を約２グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．１５ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約１０グラム以上とすればニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．２ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約２７グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。
【００４２】
グラフＢは、第１透明基板１の内面又は第２透明基板２の内面のいずれか一方に反射防止膜６ａ又は６ｂを形成した場合（図１又は図２の場合）の、ニュートンリングが見えやすい領域と見え難い領域の境界を表している。即ち、グラフＢより上部の領域ではニュートンリングが見え難くなり、グラフＢより下部の領域ではニュートンリングが見えやすくなる。具体的には、第２透明基板２の板厚を０．１ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約２６グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．１５ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約３２グラム以上とすればニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．２ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約６０グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。
【００４３】
グラフＣは、第１透明基板１及び第２透明基板２の内面のいずれにも反射防止膜を形成しない従来例の場合の、ニュートンリングが見えやすい領域と見え難い領域の境界を表している。即ち、グラフＣより上部の領域ではニュートンリングが見え難くなり、グラフＣより下部の領域ではニュートンリングが見えやすくなる。具体的には、第２透明基板２の板厚を０．１ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約４０グラム以上としなければ、ニュートンリングが発生する。また、第２透明基板２の板厚を０．１５ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約６２グラム以上としなければニュートンリングが発生する。第２透明基板２の板厚を０．２ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約１００グラム以上としなければ、ニュートンリングが発生する。
【００４４】
以上の説明から明らかに、第１透明基板１の内面又は／及び第２透明基板２の内面に反射防止膜を形成することにより、ペン先等により書き込む際の中心部の作動荷重を低下させることができる。また、第２透明基板２の板厚も低減して、薄いタッチパネル１０を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。
【図２】本発明の他の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。
【図３】本発明の他の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。
【図４】本発明の他の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係るタッチパネルの説明図である。
【図６】本発明の実施形態に係るタッチパネル１０に発生するニュートンリングについて、第２透明基板２の板厚及び中心部に対する荷重と反射防止膜６との間の関係を表すグラフである。
【図７】従来公知のタッチパネルの説明図である。
【図８】従来公知のタッチパネルの模式的な縦断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１ 第１透明基板
２ 第２透明基板
３ シール材
４ 第１透明導電膜
５ 第２透明導電膜
６ 反射防止膜
７ａ 第１電極
７ｂ 第２電極
１０ タッチパネル
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に第１透明導電膜が形成された第１透明基板と、表面に第２透明導電膜が形成された第２透明基板とが、前記第１及び第２透明導電膜を内側にして、シール材を介して互いに離間して接着されており、
前記第１透明導電膜と前記第１透明基板との間には、第１反射防止膜が形成されているタッチパネル。
【請求項２】
前記第２透明導電膜と前記第２透明基板との間には、第２反射防止膜が形成されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記シール材は、前記第１透明基板及び前記第２透明基板の外周部に形成されており、
前記第１透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第１透明導電膜に電気的に接続する第１電極が形成されており、
前記第２透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第２透明導電膜に電気的に接続する第２電極が形成されており、
前記第１電極及び前記第２電極は、前記第１透明基板又は前記第２透明基板の表面からの高さが、前記シール材の前記表面からの高さよりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記第１透明基板又は前記第２透明基板の中央部を外部から荷重して前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜とが電気的に導通する作動荷重は、５グラム〜４０グラムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【請求項１】
表面に第１透明導電膜が形成された第１透明基板と、表面に第２透明導電膜が形成された第２透明基板とが、前記第１及び第２透明導電膜を内側にして、シール材を介して互いに離間して接着されており、
前記第１透明導電膜と前記第１透明基板との間には、第１反射防止膜が形成されているタッチパネル。
【請求項２】
前記第２透明導電膜と前記第２透明基板との間には、第２反射防止膜が形成されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記シール材は、前記第１透明基板及び前記第２透明基板の外周部に形成されており、
前記第１透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第１透明導電膜に電気的に接続する第１電極が形成されており、
前記第２透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第２透明導電膜に電気的に接続する第２電極が形成されており、
前記第１電極及び前記第２電極は、前記第１透明基板又は前記第２透明基板の表面からの高さが、前記シール材の前記表面からの高さよりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記第１透明基板又は前記第２透明基板の中央部を外部から荷重して前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜とが電気的に導通する作動荷重は、５グラム〜４０グラムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００９−２７１７０９（Ｐ２００９−２７１７０９Ａ）
【公開日】平成２１年１１月１９日（２００９．１１．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１２１２８８（Ｐ２００８−１２１２８８）
【出願日】平成２０年５月７日（２００８．５．７）
【出願人】（５９５１６２６８８）テクノプリント株式会社 (3)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１１月１９日（２００９．１１．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年５月７日（２００８．５．７）
【出願人】（５９５１６２６８８）テクノプリント株式会社 (3)
【Ｆターム（参考）】
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