ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置
【課題】十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、カールが抑制された光学フィルムを提供すること。
【解決手段】下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物によりハードコート層を透明基材上に形成し、光学フィルムを得る。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤
【解決手段】下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物によりハードコート層を透明基材上に形成し、光学フィルムを得る。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏
光板、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付きを防止するために、透明基材上にハードコート層を有するハードコートフィルムを設けることが好適である。
また、近年のＬＣＤのように高精細、高品位化された画像表示装置の場合には、上記表示面への傷付き防止の他に、表示面での外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みによる視認性低下を防止するためにハードコート層上に反射防止層を有する光学フィルムを設けることも行われている。
ハードコート層には傷付き防止のための高い硬度が求められるが、同時に、耐クラック性も要求される。即ち、画像表示装置表面等への適用をする際にはその製造過程において屈曲に対して適度な耐性を有し屈曲によるクラックが生じないことが求められる。更に、耐久性の観点から、透明基材とハードコート層が十分な密着性を有していることも求められている。
【０００３】
特許文献１及び３には、透明基材との耐光性試験後の密着性改善を目的として、トリアセチルセルロース透明基材上に、少なくとも３つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有するウレタン化合物及び炭酸エステル系の溶剤よりなる電離放射線硬化型組成物から形成されたハードコート層を有するハードコートフィルム、若しくは更に有機微粒子を含有した防眩層を有する防眩フィルムが記載されている。
また、特許文献２には、１分子中の不飽和二重結合が４つのペンタエリスリトールテトラアクリレートと、１分子中の不飽和二重結合が１つのヒドロキシエチルメタクリレートとを含み、溶剤として酢酸エチルやアセトンを含むハードコート層形成用組成物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２６８４２０号公報
【特許文献２】特開２００９−１８６７６０号公報
【特許文献３】特開２００７−２６８４１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１及び３には、炭酸エステル系の溶剤がトリアセチルセルロース透明基材を膨潤させることによりハードコート層との耐光性試験後の密着性が向上することが記載されている。本発明者らが検討した結果、炭酸エステルなどの溶剤により透明基材が膨潤することでハードコート層形成用組成物中のモノマー成分が透明基材に浸透することで密着性が向上することが分かった。しかしながら、ハードコート層形成用組成物のモノマー成分が透明基材に浸透し過ぎると、ハードコート層形成時に硬化に伴う収縮を透明基材のハードコート層側が強く受けることなりカールが生じてしまったり、ハードコート層自体の硬度が不十分となったりすることがあることが分かった。
また、特許文献２に記載のペンタエリスリトールテトラアクリレートとヒドロキシエチルメタクリレートとを含むハードコート層形成用組成物は、ある程度の耐クラック性は得られるが、透明基材とハードコート層との密着性については更なる改善が求められる。
【０００６】
本発明の目的は、十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、更にフィルムのカールを抑制できるハードコート層を透明基材上に形成し得るハードコート層形成用組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、カールが抑制された光学フィルムを提供することである。
本発明の更なる別の目的は、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、ハードコート層形成用組成物に用いる硬化性化合物（モノマー）と溶剤について以下の知見を得た。
（１）炭酸ジメチルは短時間で基材を膨潤させ易い溶媒であり、かつ沸点がある程度の大きさのため、ハードコート層と基材との密着性を得るのに加えて塗布品の面状が向上する。
（２）基材へのモノマーの浸透性は、一定の溶剤種、溶剤量、及び一定の初期乾燥条件下ではモノマー分子量に依存し、高分子量の多官能モノマーの方が基材への浸透性が低いので、高分子量の多官能モノマーを使用することで、基材への染込みがほとんどなく、硬度の高いハードコート層が得られる。
高い硬度とは逆に、浸透性の少なさからハードコート層の密着性が、ハードコート層厚みが相対的に厚くなることにも起因して耐クラック性、カールが悪化してしまう。
（３）この時に官能基数の小さい低分子量モノマーを使用することで、浸透性を高くしながらハードコート層と基材の密着性を向上させるだけでなく、多官能モノマーを単独使用して作成したハードコート層よりも耐クラック性及びカールが改良する。
以上の知見をもとに、ハードコート層基材への浸透性の高いモノマーと浸透し難いモノマーとを併用することにより、ハードコート層の硬度、耐クラック性及び密着性を向上させ、フィルムのカールも抑制できることを見出した。
即ち、上記本発明の目的は、下記手段により達成することができる。
【０００８】
［１］
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤
［２］
前記（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、［１］に記載のハードコート層形成用組成物。
［３］
前記（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物が質量平均分子量が５００以上１０００未満の化合物である、［１］又は［２］に記載のハードコート層形成用組成物。
［４］
更に、（ｅ）導電性化合物を含有する、［１］〜［３］のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
［５］
前記（ａ）炭酸ジメチルの含有量が全溶剤に対して１０質量％以上である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
［６］
透明基材上に、［１］〜［５］のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成された膜厚０．５〜２０μｍのハードコート層を有する光学フィルム。
［７］
前記透明基材が膜厚２５〜２００μｍのセルロースアシレートフィルムである、［６］に記載の光学フィルム。
［８］
前記ハードコート層上に反射防止層を有する、［６］又は［７］に記載の光学フィルム。
［９］
［６］〜［８］のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして含む偏光板。
［１０］
［６］〜［８］のいずれか１項に記載の光学フィルム又は［９］に記載の偏光板を有する画像表示装置。
［１１］
セルロースアシレートフィルム上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に［１］〜［５］のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、フィルムのカールを抑制できるハードコート層を透明基材上に形成し得るハードコート層形成用組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、カールが抑制された光学フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
なお、本発明においては、「モノマーに相当する繰り返し単位」、及び「モノマーに由来する繰り返し単位」とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。
【００１１】
［ハードコート層形成用組成物］
本発明のハードコート形成用組成物は、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有する。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤
【００１２】
［（ａ）炭酸ジメチル（溶剤）］
本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ａ）炭酸ジメチル及び含有されていてもよいその他の溶剤について説明する。
【００１３】
本発明のハードコート層形成用組成物は炭酸ジメチルを含有する。
ハードコート層と透明基材との密着性の観点から、炭酸ジメチルは、ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量中、１０質量％以上含有することが好ましく、２０質量％以上含有することがより好ましく、３０質量％以上含有することが更に好ましい。また、構成素材の溶解性を確保する観点から、９０質量％以下含有することが好ましい。
【００１４】
炭酸ジメチルは、透明基材、特にセルロースアシレートフィルムを短時間で膨潤する溶剤であり、ハードコート層とセルロースアシレートフィルムとの密着性を良好にするとともに、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムに塗工する場合、例えばワイヤーバーコート法、ダイコート法等で塗工する時に、レベリング性が良好となる。特に単層流延法によって作成されたＴＡＣフィルムは、複数層共流延法と比較し、フィルム表面の平滑性が劣る傾向があり、ハードコート層をウエット塗工した際に生じるＴＡＣフィルムの平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が発生し易いが、沸点が８０℃以上、好ましくは８５℃以上の溶剤を使用すると、平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が改善できる傾向があり、塗工適性上優位である。炭酸ジメチルの沸点は９０℃である。
【００１５】
本発明のハードコート層形成用組成物には、塗工時の乾燥性、更なるレベリング性向上、素材の溶解性等を考慮し、炭酸ジメチル以外の有機溶剤を、密着性、塗工時のレベリング性が低下しない範囲で使用できる。
炭酸ジメチル以外の有機溶剤としては、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤などが挙げられる。例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらのなかでも好ましくは、炭酸ジメチルと沸点が異なり、乾燥速度の制御ができるという観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、透明基材の膨潤性を損なわないという観点から特にメチルエチルケトン、シクロヘキサノン又はＮ−メチル−２−ピロリドンが挙げられる。
【００１６】
本発明のハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は１〜７０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％であり、最も好ましくは３０〜６５質量％である。
【００１７】
［（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物について説明する。
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物はバインダー及び硬化剤として機能することができ、塗膜の強度を向上させることが可能となる。
１分子中の不飽和二重結合の数は、３〜２０であることが好ましく、３〜１０であることがより好ましく、３〜６であることが更に好ましい。
【００１８】
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基（重合性の不飽和二重結合）を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２を有する化合物好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【００１９】
重合性の不飽和二重結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【００２０】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００２１】
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物は、より高硬度な膜が得られるという理由から、水素結合性の置換基を有することが好ましい。不飽和二重結合１つあたりの平均分子量をアクリル当量と呼ぶが、同じアクリル当量の化合物を比較すると、水素結合性の置換基を有する化合物を用いたハードコート層の方が、水素結合性の置換基を持たない化合物を用いたハードコート層よりも、硬度が高くなる。
水素結合性の置換基としては、少なくとも１つの−ＯＨ基又は−ＮＨ基を含有する基であるのが好ましく、例えば、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、カルバモイル基（−ＣＯＮＨＲ）、スルファモイル基（−ＳＯＮＨＲ）、ウレイド基（−ＮＨＣＯＮＨＲ）、アミノ基（−ＮＨＲ）、ウレタン基（−ＮＨＣＯＯＲ）、アミド基（−ＮＨＣＯＲ）がより好ましい。ただし、Ｒは水素原子、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基又はヘテロ環基を表すが、好ましくは、水素原子を表す。Ｒはより好ましくは、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルファモイル基又はウレイド基であり、更に好ましくはアミノ基、ヒドロキシル基である。そしてヒドロキシル基のうち、少なくとも１つはフェノール性水酸基であることが更にまた好ましい。
【００２２】
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物は、ハードコート層の硬度等の性能確保という理由から、質量平均分子量が５００以上５０００未満の化合物であることが好ましく、質量平均分子量が５００以上２５００未満の化合物であることがより好ましく、質量平均分子量が５００以上１０００未満の化合物であることが更に好ましい。質量平均分子量が５００未満であると、透明基材への浸透性が高く、ハードコート層の厚みが減ってしまい、硬度などのハードコート性が失われてしまう。質量平均分子量が５０００以上であると、化合物同士の相溶性が劣り、相分離構造を形成し易くなり、場合によってはヘイズが生じてしまう。
ここで質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。
【００２３】
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物としての（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０、新中村化学工業（株）製ＮＫオリゴＵ−１５ＨＡ、同Ｕ−４ＨＡ、Ａ−ＤＰＨ、日本合成化学（株）製ＵＶ７０６５Ｂ等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【００２４】
本発明のハードコート層形成用組成物中の１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、４０〜９９質量％が好ましく、４５〜９７質量％がより好ましく、５０〜９５質量％が更に好ましい。
【００２５】
［（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物について説明する。
１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物は、透明基材へ浸透し易くハードコート層と透明基材との密着性を向上させることができる。また、ハードコート層耐クラック性の向上及びフィルムのカールを抑制することもできる。
１分子中の不飽和二重結合の数は１又は２が好ましく、１がより好ましい。
【００２６】
１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物の具体例としては、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、などのエチレンユニット繰り返し数８以下のポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、などのプロピレンユニット繰り返し数６以下のポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（メタクリロキシ・エトキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
イソボルニル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、β−カルボキエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等の単官能の（メタ）アクリル酸エステル類；
等が挙げられる。
【００２７】
１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物の質量平均分子量は、好ましくは５０以上４５０以下であり、より好ましくは１００以上４００以下である。ここで、平均分子量を用いているのは、付加基の導入率が均一な化合物は得にくく、導入率の異なる化合物の混合物として使用するのが現実的であるためである。
なお、質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。
【００２８】
１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物としては市販されているものを用いることもでき、日油（株）製のブレンマーＧＬＭ、ブレンマーＧＭＲ−Ｈ等を挙げることができる。
【００２９】
本発明のハードコート層形成用組成物中の１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物の含有量は、硬度を保ちながら、耐クラック性、密着性、カール抑制するという観点から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、１〜１０質量％が好ましく、２〜５質量％がより好ましい。
【００３０】
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物の含有量をＢと、（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物の含有量をＣとした場合に、Ｂ／Ｃ＝４０／１０〜９９／１の範囲であることが好ましく、Ｂ／Ｃ＝５０／５〜９８／２の範囲であることがより好ましい。Ｂ／Ｃを上記の範囲とすることにより、硬度と密着性を両立することができる。更に耐クラック性及びカール抑制の観点からも好ましい。
【００３１】
［（ｄ）光重合開始剤］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｄ）光重合開始剤について説明する。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【００３２】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【００３３】
本発明のハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【００３４】
［（ｅ）導電性化合物］
本発明のハードコート層形成用組成物には、ハードコート層に帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。特に、ハードコート層形成用組成物にレベリング剤を用いる場合、親水性を有する導電性化合物を用いることにより、該レベリング剤の表面偏在性を向上させることができ、面状ムラ防止、耐擦傷性を更に向上させることができる。導電性化合物に親水性を持たせるためには、親水性基を導電性化合物に導入してもよく、親水性基としては、高い導電性を発現させ、かつ比較的安価である観点から、カチオン性基を有することが好ましく、中でも４級アンモニウム塩基を有することがより好ましい。
【００３５】
本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物（カチオン系化合物）が好適である。
【００３６】
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、基材側領域に偏在させる観点から、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。
【００３７】
【化１】
【００３８】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ2ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｍ＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【００３９】
【化２】
【００４０】
式中、Ｒ2、Ｒ2'及びＲ2"は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｘ-はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。
【００４１】
【化３】
【００４２】
【化４】
【００４３】
一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ3とＲ4及びＲ5とＲ6はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ7ＣＯＲ8−、−Ｒ9ＣＯＯＲ10ＯＣＯＲ11−、−Ｒ12ＯＣＲ13ＣＯＯＲ14−、−Ｒ15−（ＯＲ16）m−、−Ｒ17ＣＯＮＨＲ18ＮＨＣＯＲ19−、−Ｒ20ＯＣＯＮＨＲ21ＮＨＣＯＲ22−又は―Ｒ23ＮＨＣＯＮＨＲ24ＮＨＣＯＮＨＲ25−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ7ＣＯＲ8−、−Ｒ9ＣＯＯＲ10ＯＣＯＲ11−、−Ｒ12ＯＣＲ13ＣＯＯＲ14−、−Ｒ15−（ＯＲ16）m−、−Ｒ17ＣＯＮＨＲ18ＮＨＣＯＲ19−、−Ｒ20ＯＣＯＮＨＲ21ＮＨＣＯＲ22−又は―Ｒ23ＮＨＣＯＮＨＲ24ＮＨＣＯＮＨＲ25−又は−ＮＨＣＯＲ26ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ25及びＲ26はアルキレン基を表す。Ｒ10、Ｒ13、Ｒ18、Ｒ21及びＲ24は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオンを表す。Ｚ1、Ｚ2は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ+[Ｘ-]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。ｎは５〜３００の整数を表す。
【００４４】
一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【００４５】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1は水素原子が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ2、Ｒ2'及びＲ2"は各々メチル基である。
Ｘ-は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。ｐ及びｑは、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。
【００４６】
【化５】
【００４７】
一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ-は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。Ｚ1、Ｚ2が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
【００４８】
以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｒ、ｚ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｒ、ｚは各々のユニットのモル比を表す。
【００４９】
【化６】
【００５０】
【化７】
【００５１】
【化８】
【００５２】
【化９】
【００５３】
【化１０】
【００５４】
上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、ハードコート層の膜強度も高めることができるので、より好ましい。
【００５５】
電子伝導性化合物としては、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。
【００５６】
また、非共役高分子又は共役高分子における前記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。
【００５７】
電子伝導性化合物としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５８】
また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、導電性ポリマーを構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。
【００５９】
電子伝導性化合物としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。
【００６０】
以下に、電子伝導性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらの他にも、国際公開第９８／０１９０９号記載の化合物等が挙げられる。以下の具体例における添え字ｘ、ｙは各ユニットの繰り返し単位数を表す。
【００６１】
【化１１】
【００６２】
【化１２】
【００６３】
本発明で用いる電子伝導性化合物の質量平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは１０，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。ここで質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。
【００６４】
本発明で用いる電子伝導性化合物は、塗布性及び他の成分との親和性付与の観点から、有機溶剤に可溶であることが好ましい。ここで、「可溶」とは溶剤中に単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。
一般に、電子伝導性化合物は水を主成分とする溶媒に溶解することから、化合物としては親水性を有するが、このような電子伝導性化合物を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性化合物を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば可溶化補助剤等）や有機溶剤中での分散剤等を添加する、あるいは疎水化処理したポリアニオンドーパントを用いることにより、有機溶剤に可溶化することができる。これらの方法により本発明で示される有機溶剤へも溶解可能となるが、化合物としての親水性は残っており、本発明の方法を適用すれば導電性化合物の偏在が可能である。
【００６５】
導電性化合物として４級アンモニウム塩基を有する化合物が用いられる場合、元素分析（ＥＳＣＡ）によるハードコート層表面側の窒素又は硫黄の窒素原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることが好ましい。この範囲であれば良好な帯電防止性が得易い。より好ましくは０．５〜３．５ｍｏｌ％であり、更に好ましくは０．５〜２．５ｍｏｌ％である。
【００６６】
本発明のハードコート層形成用組成物中の導電性化合物の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、１〜５０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、１０〜３０質量％が更に好ましい。
【００６７】
本発明のハードコート層形成用組成物には、上記した以外の成分を添加することもできる。特に、（ｆ）レベリング剤と（ｇ）シリカ微粒子を含有することは、シリカ微粒子が親水的であることによりレベリング剤の表面偏在性が向上し、面状ムラ防止、耐擦傷性を更に向上させることができるという理由から好ましい。また、これ以外にも屈折率を制御する効果や架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。
【００６８】
［（ｆ）レベリング剤］
本発明のハードコート層形成用組成物に含んでもよい（ｆ）レベリング剤について説明する。
レベリング剤としては、フッ素含有のポリマーが好ましく用いられる。例えば、特許４４７４１１４号に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーは、レベリング剤として、本発明のハードコート層形成用組成物に好ましく用いることができる。また特許４４７４１１４号の組成比違いとして、フルオロ脂肪族基含有の重合単位の比率が５０〜７０％の範囲のフルオロ脂肪族基含有ポリマーをレベリング剤として用いることもできる。
【００６９】
［（ｇ）シリカ微粒子］
本発明のハードコート層形成用組成物に用いることのできるシリカ微粒子のサイズ（１次粒径）は１５ｎｍ以上１００ｎｍ未満、更に好ましくは２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、最も好ましくは２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子の粒径が小さすぎると、レベリング剤の表面偏在性を高める効果が少なくなり、大きすぎるとハードコート層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。また、シリカ微粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いてもよい。
【００７０】
本発明に使用することができるシリカ微粒子は塗布液中での分散性向上、膜強度向上のために表面処理を施していてもよく、表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の［０１１９］〜［０１４７］に記載のものと同様である。
【００７１】
シリカ微粒子の具体的な例としては、ＭｉＢＫ−ＳＴ、ＭｉＢＫ−ＳＤ（以上、平均粒子径１５ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（平均粒子径５０ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）などを好ましく用いることができる。
【００７２】
前述の導電性高分子とシリカ微粒子をハードコート層形成用組成物に併用するときは、イオン導電性高分子とシリカ微粒子を組み合わせるよりも、電子伝導性高分子とシリカ微粒子を組み合わせる方が、導電性を維持し易くてより好ましい。
【００７３】
本発明のハードコート層形成用組成物には、これらの他に更に添加剤を含有することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、ポリマーの分解を抑える目的で、紫外線吸収剤、亜リン酸エステル、ヒドロキサム酸、ヒドロキシアミン、イミダゾール、ハイドロキノン、フタル酸、などを挙げることができる。また、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物（特に、フッ素系界面活性剤）、内部散乱性付与の目的でマット粒子などを挙げることができる。
【００７４】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、透明基材上に前記ハードコート層形成用組成物を用いて形成されたハードコート層を有する。
本発明の光学フィルムは、透明基材上にハードコート層を有し、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。例えば、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、防眩層などを設けることができる。
【００７５】
本発明の光学フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。
透明基材／ハードコート層
透明基材／ハードコート層／低屈折率層
透明基材／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
透明基材／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
透明基材／ハードコート層／防眩層
【００７６】
［透明基材］
本発明の光学フィルムにおいては、透明基材（支持体）として種々用いることができるが、アクリル系樹脂又はセルロース系樹脂を含む基材が好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることがより好ましい。
セルロースアシレートフィルムとしては、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常、２５μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる４０μｍ〜２００μｍが好ましい。
【００７７】
本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。
【００７８】
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることが更に好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【００７９】
一般に、セルロースアシレートの２，３，６位の水酸基は全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
【００８０】
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４、実施例、合成例１、段落番号００４８〜００４９、合成例２、段落番号００５１〜００５２、合成例３に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【００８１】
［ハードコート層の物性］
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性能を得るための光学設計から、１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。
【００８２】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、０．５μｍ〜２０μｍとし、好ましくは１μｍ〜１０μｍ、更に好ましくは１μｍ〜５μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
また、透明基材に対するハードコート層の厚みの関係にも制限がある。透明基材の厚みをＴbμｍ、ハードコート層の厚みをthcμｍとすると、thc/Tb＝０．０１２５〜０．５の範囲であることが好ましく、０．０５〜０．２５の範囲であることが更に好ましい。ｔｈｃ／Ｔｂ＝０．０１２５以上であれば、鉛筆硬度試験でＨ以上を確保し易く、ｔｈｃ／Ｔｂ＝０．２５以下であれば、カール及び脆性が良化し易く、モノマー選択の幅が広がるため好ましい。
【００８３】
［反射防止層］
（低屈折率層）
本発明の光学フィルムは、前記ハードコート層上に直接又は他の層を介して反射防止層（低屈折率層など）を有することが好ましい。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
低屈折率層をハードコート層上に直接設ける場合には、層厚２００ｎｍ以下の薄膜層とすることが好ましい。更に、光学層厚で設計波長の約１／４の層厚で形成すればよい。但し、最も単純な構成である低屈折率層１層で反射防止を行う１層薄膜干渉型の場合は、反射率０．５％以下を満足し、かつ、ニュートラルな色味、高い耐擦傷性、耐薬品性、耐候性を有する実用的な低屈折率材料がないため、更に低反射化が必要な場合には、ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層を形成する２層薄膜干渉型、又は、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層を順次形成する３層薄膜干渉型など、多層の光学干渉によって反射を防止する多層薄膜干渉型反射防止フィルムとすればよい。
この場合、低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましい。１．３０〜１．４６であることが好ましく、１．３２〜１．３８が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが生産性とコストの両面から好ましい。
【００８４】
低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開２００７−２９８９７４号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開２００２−３１７１５２号公報、特開２００３−２０２４０６号公報、及び特開２００３−２９２８３１号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。
【００８５】
（高屈折率層及び中屈折率層）
高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．２０であることが好ましく、１．７０〜１．８０であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．６５であることが好ましく、１．５８〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
【００８６】
中屈折率層、高屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分として公知のものを用いる事ができ、具体的には特開２００８−２６２１８７の段落番号［００７４］〜［００９４］に示される。
【００８７】
（防眩層）
本発明では前記ハードコート層とは別に表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で防眩層を形成してもよい。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
【００８８】
本発明の光学フィルムとして、特に好ましい態様は、セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムであって、該セルロースアシレートフィルム基材のハードコート層の界面には、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在し、かつ該反射防止層が前記含フッ素ポリマー（１）であるレベリング剤を含有し、該レベリング剤がハードコート層と反射防止層との界面に存在しない光学フィルムである。
ここで、ハードコート層とは、ハードコート層成分が含まれている部分全体を指し、基材とは、ハードコート層成分を含まない部分を示すこととする。
本発明の光学フィルムでは、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在している。このように各成分が混じり合うことにより、基材とハードコート層密着性が向上する。基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さは、ハードコート層全体の厚さに対して５％以上９９％以下であることが好ましく、１５％以上９８％以下であることが更に好ましく、３０％以上９５％以下であることがもっとも好ましい。混在した領域が５％未満であると基材とハードコート層との密着性が不十分になり、また１００％であるとハードコート層の最表面に基材成分が露出するため、反射防止層との密着性を阻害する。
また、混在した領域は、フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。
【００８９】
ハードコート層と反射防止層との界面に残存するレベリング剤の存在量は、ハードコート層中の表面から５ｎｍに残存するレベリング剤の量として調べることができ、ハードコート層のみを形成した光学フィルムを反射防止層形成用塗布液に用いる溶媒に浸漬して溶出物を取り除いた後、その表面をＸ線光電子分析装置（ＥＳＣＡ）で分析したフッ素原子量を測定することで推測することができる。ハードコート層におけるレベリング剤の偏在性が高ければ、レベリング剤は溶媒に速やかに抽出されるためフッ素原子が検出されなくなり、逆に偏在性が低いものの場合は抽出されにくく、また、浸漬後も内部からのブリードアウトにより表面にフッ素原子が検出される。
レベリング剤がハードコート層と反射防止層との界面に存在しないとは、上記の方法で検出したフッ素原子の量を炭素原子の量で除した値（Ｆ／Ｃ）が、０．０２以下であることを指し、これによりハードコート層と反射防止層との結合が強化され、耐擦傷性を向上させることができる。
【００９０】
（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まずハードコート層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【００９１】
塗布した後、乾燥、光照射してハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これによりハードコート層が形成される。必要に応じて、透明基材上にあらかじめその他の層を塗設しておき、その上にハードコート層を形成することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。また必要に応じて前記したようなその他の層を設けることもできる。本発明の光学フィルムの製造方法において、複数の層を同時に塗布してもよいし、逐次塗布してもよい。
【００９２】
本発明の光学フィルムの製造方法の特に好ましい態様としては、セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムの製造方法であって、該基材上に前記ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成し、更に、該ハードコート層上に下記（ｈ）、（ｉ）、及び（ｊ）を含む硬化性組成物を塗布、硬化して反射防止層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法である。
（ｈ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｉ）中空シリカ微粒子
（ｊ）光重合開始剤
【００９３】
（ｈ）不飽和二重結合を有する化合物
本発明では、不飽和二重結合を有する化合物を反射防止層のバインダーとして機能させることができる。不飽和二重結合を有する化合物としては、特に制限はないが、低屈折率化の観点から、含フッ素化合物を用いることが好ましい。含フッ素化合物は重合体であっても低分子であってもよい。
【００９４】
（重合性不飽和基を有する含フッ素重合体）
重合性不飽和基を有する含フッ素重合体は、少なくとも一種の含フッ素ビニルモノマーを重合して得ることが好ましい。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＲ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。
【００９５】
上記含フッ素ビニルモノマーと架橋反応性付与のために下記（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ１）で示される単位との共重合体が好ましく利用できる。
【００９６】
（Ａ１）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
（Ｂ１）：カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、 （Ｃ１）：分子内に上記（Ａ１）、（Ｂ１）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記（Ａ１）、（Ｂ１）の構成単位と反応させて得られる構成単位、（例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位）が挙げられる。
【００９７】
上記（Ｃ１）の構成単位は該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基及びシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
【００９８】
光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、例えば下記４つの方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
・水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法
・水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する（メタ）アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法・エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化する方法
・カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法
【００９９】
上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。
【０１００】
本発明に有用な重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。
【０１０１】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。
【０１０２】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。好ましいポリマーについては、特開２００２−２４３９０７号、特開２００２−３７２６０１号、特開２００３−２６７３２号、特開２００３−２２２７０２号、特開２００３−２９４９１１号、特開２００３−３２９８０４号、特開２００４−４４４４号、特開２００４−４５４６２号の各公報に記載のものを挙げることができる。
【０１０３】
本発明の含フッ素ポリマーには防汚性、及び耐擦傷性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていても良い。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平６−９３１００号、特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平１１−１８９６２１号の実施例１、２、及び３のポリマー、又は特開平２−２５１５５５号の共重合体Ａ−２及びＡ−３を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。
【０１０４】
重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体の好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上５０００００未満であり、より好ましくは１００００以上５０００００未満であり、更に好ましくは１５０００以上２０００００未満であり、最も好ましくは１５０００以上１０００００未満である。質量平均分子量が５０００以上であれば塗布性に優れ、ハジキやムラ（塗膜の膜厚の面内バラツキ）が生じにくいため好ましい。また、質量平均分子量が５０００００未満であれば溶剤への溶解性が良好なため好ましい。
また、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体として、平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。
【０１０５】
（重合性不飽和基を有する多官能モノマー）
本発明では、反射防止層用組成物に含まれる重合性二重結合を有する化合物としては、特に規定は無いが、重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーを含むことが好ましい。重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができる。重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体と重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーとを併用することで、耐擦傷性あるいは薬品処理後の耐擦傷性を向上させることができる。
重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーは、フッ素を含んでいないものでも、フッ素を含んでいるものでもよい。
【０１０６】
本発明に用いられる非含フッ素多官能モノマーについて説明する。該モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性二重結合を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【０１０７】
重合性二重結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１０８】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１０９】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１１０】
（ｉ）無機微粒子
本発明では、低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から、低屈折率層に無機微粒子を用いる。該無機微粒子は、平均粒子サイズが５〜１２０ｎｍであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
低屈折率化を図るには、多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましい。特に中空構造のシリカ粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
【０１１１】
多孔質又は中空粒子がシリカの場合には、微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最も好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。
【０１１２】
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１１３】
本発明において中空シリカの比表面積は、２０〜３００ｍ２／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ２／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ２／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることができる。
【０１１４】
本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。
【０１１５】
［中空微粒子の調製方法］
中空微粒子の好ましい製造方法を以下に記載する。第１段階として、後処理で除去可能なコア粒子形成、第２段階としてシェル層形成、第３段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第４段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。
【０１１６】
（被覆粒子）
シェル厚を厚くすることで粒子表面の吸着サイトを減少させ、吸着水量を低減することが可能であり、好ましい。更に導電性の成分でシェルを形成すると導電性も付与することができて好ましい。特に好ましくは、コア粒子としてシリカ系の多孔質又は中空の粒子を用い、シェルとして、ＺｎＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＡＴＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２を用いる組み合わせである。被覆粒子については特開２００８−２４２３１４の段落番号［００３３］〜［００４０］に記載されており、本発明においても好適に用いることができる。
【０１１７】
［無機微粒子の表面処理方法］
また、本発明においては無機微粒子は常法によりシランカップリング剤等により表面処理して用いることができる。
特に、低屈折率層形成用バインダーへの分散性を改良するために、無機微粒子の表面はオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物により処理がされているのが好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。
無機微粒子の表面の処理方法については、特開２００８−２４２３１４号公報の段落番号［００４６］〜［００７６］に記載されており、該文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶媒、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。
【０１１８】
（ｊ）光重合開始剤
本発明における低屈折率層用組成物には、光重合開始剤が含まれることが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤については、特開２００８−１３４５８５号公報の段落［０１４１］〜［０１５９］にも記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【０１１９】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１２０】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、ＢＡＳＦ・ジャパン（株）製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【０１２１】
光重合開始剤は、不飽和二重結合を有する有機成分１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【０１２２】
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントンなどを挙げることができる。更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
【０１２３】
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）」などが挙げられる。
【０１２４】
［偏光板用保護フィルム］
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１２５】
上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の光学フィルムの帯電防止層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。
【０１２６】
本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルローストリアセテートフィルムであることが好ましい。
【０１２７】
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。
【０１２８】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【０１２９】
光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０１３０】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。
【０１３１】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０１３２】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０１３３】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【実施例】
【０１３４】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０１３５】
〔光学フィルムの作製〕
下記に示す通りに、各層形成用の塗布液を調製し、各層を形成して、光学フィルム試料１〜２４を作製した。
【０１３６】
（ハードコート層用塗布液Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液Ａ−１（固形分濃度５０質量％）とした。
炭酸ジメチル ５０質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ５０質量部
モノマー（１）：ＤＰＣＡ３０ ８７．５質量部
モノマー（２）：ブレンマーＧＬＭ １０質量部
光重合開始剤イルガキュア１２７ ２．４５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマーＳＰ−１３ ０．０５質量部
【０１３７】
ハードコート層用塗布液Ａ−１と類似の方法で、各成分を下記表１のように混合して溶剤に溶解して表１記載の比率になるように調整し、固形分濃度５０質量％のハードコート層用塗布液Ａ−２〜Ａ−１５を作製した。
【０１３８】
【表１】
【０１３９】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
ＤＰＣＡ３０：日本化薬（株）製、下記構造の化合物。質量平均分子量は９２０で、１分子中の不飽和二重結合の数は６。
【０１４０】
【化１３】
【０１４１】
ＵＶ７０６５Ｂ：日本合成化学社製、ウレタンアクリレートモノマー。質量平均分子量は１１００で、１分子中の不飽和二重結合の数は６。
ＮＫオリゴ Ｕ１５ＨＡ：新中村化学工業（株）製、ウレタンアクリレートモノマー。質量平均分子量は２３００で、１分子中の不飽和二重結合の数は１５。
ＮＫオリゴ Ｕ４ＨＡ：新中村化学工業（株）製、ウレタンアクリレートモノマー。質量平均分子量は５９６で、１分子中の不飽和二重結合の数は４。
【０１４２】
Ａ−ＤＰＨ：新中村化学工業（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は５７８で、１分子中の不飽和二重結合の数は６。
【０１４３】
【化１４】
【０１４４】
ブレンマーＧＬＭ：日油（株）製、グリセリンモノメタクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は１６０で、１分子中の不飽和二重結合の数は１。
【０１４５】
【化１５】
【０１４６】
ブレンマーＧＭＲ−Ｈ：日油（株）製、グリセリンジメタクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は２２８で、１分子中の不飽和二重結合の数は２。
【０１４７】
【化１６】
【０１４８】
ファンクリルＦＡ−Ｐ２４０Ａ：日立化成工業（株）製、ポリプロピレングリコール＃４００アクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は５３３で、１分子中の不飽和二重結合の数は２。
【０１４９】
【化１７】
【０１５０】
Ｖ＃２９５：大阪有機化学工業（株）製、トリメチロールプロパントリアクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は２９６で、１分子中の不飽和二重結合の数は３。
【０１５１】
【化１８】
【０１５２】
光重合開始剤：イルガキュア１２７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
ＩＰ−９：前記導電性化合物ＩＰ−９の分散液（固形分３０．７質量％、溶媒はプロピレングリコールモノメチルエーテルとイソプロピルアルコールの質量比３０：７０）
ＳＰ−１３：下記構造のフルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＭＥＫ溶媒に固形分濃度４０質量％で溶解しているものを用いた。）下記構造式中、「６０」と「４０」は質量比を表す。
【０１５３】
【化１９】
【０１５４】
（低屈折率層用塗布液の調製）
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０１５５】
【化２０】
【０１５６】
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
【０１５７】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ２）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ２）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。
【０１５８】
（中空シリカ粒子分散液Ａの調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、日揮触媒化成（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。
【０１５９】
（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の２１．０質量部、反応性シリコーン（Ｘ２２−１６４Ｃ、信越化学（株）製）２．５質量部、イルガキュア１２７（ＢＡＳＦ・ジャパン（株）製）１．５質量部、中空シリカ粒子分散液Ａ１３７．４質量部をメチルエチルケトンに添加して１０００質量部とし、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【０１６０】
（ハードコート層Ａ−１の作製）
厚さ８０μｍの透明基材としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液Ａ−１をダイコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１０μｍのハードコート層Ａ−１を形成し、光学フィルム試料Ｎｏ．１を作製した。
【０１６１】
同様の方法でハードコート層用塗布液Ａ−２〜１７を用いてハードコート層Ａ−２〜１７をそれぞれ作製し、フィルム試料Ｎｏ．２〜２６を作製した。
ただし、フィルム試料Ｎｏ．１０については、透明基材として前記トリアセチルセルロースフィルムに替えて、厚さ５０μｍのアクリル樹脂フィルム（アクリプレンＨＢＳ００６（商品名）、三菱レイヨン（株）製、屈折率１．５０）を用いた。フィルム試料Ｎｏ．１３及び１４については、透明基材として前記厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムに替えて、厚さ６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ６０Ｕ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４９）を使用した。フィルム試料Ｎｏ．１５及び１６については、ハードコート層の厚みを５．０μｍに、フィルム試料Ｎｏ．１７及び１８については、同様にハードコート層の厚みを１２．５μｍにして試料を作製した。
また、フィルム試料Ｎｏ．１１〜１８については、下記のようにハードコート層上に低屈折率層Ｂを厚さ９４ｎｍになるように形成した。
【０１６２】
（低屈折率層Ｂの作製）
ハードコート層Ａ−９の上に、低屈折率層用塗布液Ｂをダイコーターを用いて塗布し、厚さ９４ｎｍの低屈折率層を形成した。低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。
【０１６３】
ハードコート層及び低屈折率層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約４μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定した。「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ 部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。ハードコート層の屈折率は塗布液Ａ−１〜Ａ−１７で１．５２であり、低屈折率層の屈折率は塗布液Ｂで１．３６であった。
【０１６４】
また、低屈折率層の膜厚は、反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用して調整した。
【０１６５】
（光学フィルムの評価）
以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。
【０１６６】
（１）鉛筆硬度
膜硬度の指標としてＪＩＳ−Ｋ−５６００−５−４に記載の塗料一般試験方法―引っ掻き硬度（鉛筆法）を行った。即ち、温度２５℃、湿度５５％ＲＨの条件下で１６時間保存後に、各試料を、６Ｂ、５Ｂ、４Ｂ、３Ｂ、２Ｂ、Ｂ、ＨＢ、Ｆ、Ｈ、２Ｈ、３Ｈ、４Ｈ、５Ｈ、６Ｈの鉛筆を用いて７５０ｇの荷重を掛けて引っ掻き、傷跡及び欠陥の発生状況を観察し、傷跡及び欠陥の付かなかった最大の鉛筆の硬度を鉛筆硬度とした。
【０１６７】
（２）耐クラック性
各試料を、ＪＩＳ−Ｋ−５６００−５−１に記載の塗料一般試験方法―耐屈曲性（円筒形マンドレル法）にて評価を行った。即ち、温度２５℃、湿度５５％ＲＨの条件下で１６時間保存後に、各試料を、直径（Φ）２、３、４、５、６、８、１０、１２ｍｍのマンドレルにそれぞれ巻き付けて、クラックの発生状況を観察し、クラックが発生しなかった最小のマンドレルの直径で耐クラック性評価した。マンドレルの直径が大きい条件でクラックが発生している程、クラックの耐性が弱いことを示す。
【０１６８】
（３）密着性
ＪＩＳ−Ｋ−５６００−５−６−１に記載のクロスカット法にて評価を行った。即ち、試料表面に１ｍｍ間隔で１００個の碁盤目を入れ、セロハンテープ（ニチバン（株）製）で密着試験を行った。新しいセロハンテープを貼ったあとに剥離し、以下の基準で判定した。
◎・・碁盤目中のマスの剥離が起こらない
○・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが９５％以上で、僅かに剥離するが問題がない
○△・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが８５％以上９５％未満であり、僅かに剥離するがほとんど問題がない
△・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが６５％以上８５％未満で、やや剥離があり問題となる
△×・・碁盤目中のマスの剥離が無い物が５０％以上６５％未満で、剥離があり問題である。
×・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが５０％未満であり、非常に問題である
【０１６９】
（４）カール
各試料を作製後、直ぐに縦１ｍ、横１．３ｍに切り出した試料を水平な台上に置き、２５℃６０％ＲＨの環境下にて３ｈｒ静置させて、４箇所の角の各頂点が、台より浮き上がっている高さを計測して、その平均値をカール値とし、以下の基準で判定した。
◎・・カール値が２０ｍｍ未満
○・・カール値が２０ｍｍ以上３５ｍｍ未満
△・・カール値が３５ｍｍ以上５０ｍｍ未満
×・・カール値が５０ｍｍ以上
【０１７０】
（５）表面抵抗値測定
各試料について、２５℃、６０％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に同条件下で表面抵抗値（ＳＲ）を円電極法で測定した。表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）で示す。
【０１７１】
（６）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
【０１７２】
【表２】
【０１７３】
表２に示すように、官能基数及び分子量の高いモノマーでハードコート層を形成すると、鉛筆硬度が非常に高いが、耐クラック性、密着性及びカールが悪化してしまい（試料Ｎｏ．１９）、官能基数及び分子量の低いモノマーでハードコート層を形成すると（試料Ｎｏ．２２）鉛筆硬度も低く、密着性も得られなくなってしまう。同様に官能基数が高く、分子量が低いモノマーを使用しても(試料Ｎｏ．２５)、官能基数が低く、分子量が高いモノマーを使用しても(試料Ｎｏ．２３)、鉛筆硬度、耐クラック性、密着性、カール制御全てを両立することは難しい。それに対し本発明のハードコート形成用組成物を使用すると、鉛筆硬度が高く、耐クラック性及び密着性に優れ、更にカールも抑制された光学フィルムを得ることができた。
また、導電性化合物を用いた試料Ｎｏ.９〜１１、１３、１５及び１７ではｌｏｇＳＲが１０に低下して、良好な帯電防止性が付与することができた。更に、反射防止層として低屈折率層を設けた試料Ｎｏ.１１〜１８では反射率が低く反射防止性能にも優れている。
また透明基材としてＴＤ８０Ｕの代わりに、ＴＤ６０Ｕを用いた試料Ｎｏ．１３及び１４でも、同様に良好な硬度、耐クラック性、密着性、及びカール抑制された光学フィルムを得られ、更にハードコート層の厚みを５．０μｍにした試料Ｎｏ．１５及び１６でも、ハードコート層の厚みを１２．５μｍにした試料Ｎｏ．１７及び１８でも、同様に良好な硬度、耐クラック性、密着性、及びカール抑制された光学フィルムを得られた。
【０１７４】
（光学フィルムの鹸化処理）
前記試料Ｎｏ．２に以下の処理を行った。１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの光学フィルムを作製した。
【０１７５】
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、鹸化処理済みの光学フィルムを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板を作製した。
（円偏光板の作製）
偏光板試料の低屈折率層と反対側の面にλ／４板を粘着剤で貼り合せ円偏光板を作製し、有機ＥＬディスプレイの表面に低屈折率層が外側になるように該円偏光板を粘着剤で貼り付けた。傷つきや面状ムラがなく、良好な表示性能が得られた。
【０１７６】
反射型液晶ディスプレイ及び半透過型液晶ディスプレイの表面の偏光板として、低屈折率層が外側になるように上記円偏光板を用いたところ、傷つきや面状ムラがなく、良好な表示性能が得られた。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏
光板、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付きを防止するために、透明基材上にハードコート層を有するハードコートフィルムを設けることが好適である。
また、近年のＬＣＤのように高精細、高品位化された画像表示装置の場合には、上記表示面への傷付き防止の他に、表示面での外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みによる視認性低下を防止するためにハードコート層上に反射防止層を有する光学フィルムを設けることも行われている。
ハードコート層には傷付き防止のための高い硬度が求められるが、同時に、耐クラック性も要求される。即ち、画像表示装置表面等への適用をする際にはその製造過程において屈曲に対して適度な耐性を有し屈曲によるクラックが生じないことが求められる。更に、耐久性の観点から、透明基材とハードコート層が十分な密着性を有していることも求められている。
【０００３】
特許文献１及び３には、透明基材との耐光性試験後の密着性改善を目的として、トリアセチルセルロース透明基材上に、少なくとも３つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有するウレタン化合物及び炭酸エステル系の溶剤よりなる電離放射線硬化型組成物から形成されたハードコート層を有するハードコートフィルム、若しくは更に有機微粒子を含有した防眩層を有する防眩フィルムが記載されている。
また、特許文献２には、１分子中の不飽和二重結合が４つのペンタエリスリトールテトラアクリレートと、１分子中の不飽和二重結合が１つのヒドロキシエチルメタクリレートとを含み、溶剤として酢酸エチルやアセトンを含むハードコート層形成用組成物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２６８４２０号公報
【特許文献２】特開２００９−１８６７６０号公報
【特許文献３】特開２００７−２６８４１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１及び３には、炭酸エステル系の溶剤がトリアセチルセルロース透明基材を膨潤させることによりハードコート層との耐光性試験後の密着性が向上することが記載されている。本発明者らが検討した結果、炭酸エステルなどの溶剤により透明基材が膨潤することでハードコート層形成用組成物中のモノマー成分が透明基材に浸透することで密着性が向上することが分かった。しかしながら、ハードコート層形成用組成物のモノマー成分が透明基材に浸透し過ぎると、ハードコート層形成時に硬化に伴う収縮を透明基材のハードコート層側が強く受けることなりカールが生じてしまったり、ハードコート層自体の硬度が不十分となったりすることがあることが分かった。
また、特許文献２に記載のペンタエリスリトールテトラアクリレートとヒドロキシエチルメタクリレートとを含むハードコート層形成用組成物は、ある程度の耐クラック性は得られるが、透明基材とハードコート層との密着性については更なる改善が求められる。
【０００６】
本発明の目的は、十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、更にフィルムのカールを抑制できるハードコート層を透明基材上に形成し得るハードコート層形成用組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、カールが抑制された光学フィルムを提供することである。
本発明の更なる別の目的は、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、ハードコート層形成用組成物に用いる硬化性化合物（モノマー）と溶剤について以下の知見を得た。
（１）炭酸ジメチルは短時間で基材を膨潤させ易い溶媒であり、かつ沸点がある程度の大きさのため、ハードコート層と基材との密着性を得るのに加えて塗布品の面状が向上する。
（２）基材へのモノマーの浸透性は、一定の溶剤種、溶剤量、及び一定の初期乾燥条件下ではモノマー分子量に依存し、高分子量の多官能モノマーの方が基材への浸透性が低いので、高分子量の多官能モノマーを使用することで、基材への染込みがほとんどなく、硬度の高いハードコート層が得られる。
高い硬度とは逆に、浸透性の少なさからハードコート層の密着性が、ハードコート層厚みが相対的に厚くなることにも起因して耐クラック性、カールが悪化してしまう。
（３）この時に官能基数の小さい低分子量モノマーを使用することで、浸透性を高くしながらハードコート層と基材の密着性を向上させるだけでなく、多官能モノマーを単独使用して作成したハードコート層よりも耐クラック性及びカールが改良する。
以上の知見をもとに、ハードコート層基材への浸透性の高いモノマーと浸透し難いモノマーとを併用することにより、ハードコート層の硬度、耐クラック性及び密着性を向上させ、フィルムのカールも抑制できることを見出した。
即ち、上記本発明の目的は、下記手段により達成することができる。
【０００８】
［１］
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤
［２］
前記（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、［１］に記載のハードコート層形成用組成物。
［３］
前記（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物が質量平均分子量が５００以上１０００未満の化合物である、［１］又は［２］に記載のハードコート層形成用組成物。
［４］
更に、（ｅ）導電性化合物を含有する、［１］〜［３］のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
［５］
前記（ａ）炭酸ジメチルの含有量が全溶剤に対して１０質量％以上である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
［６］
透明基材上に、［１］〜［５］のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成された膜厚０．５〜２０μｍのハードコート層を有する光学フィルム。
［７］
前記透明基材が膜厚２５〜２００μｍのセルロースアシレートフィルムである、［６］に記載の光学フィルム。
［８］
前記ハードコート層上に反射防止層を有する、［６］又は［７］に記載の光学フィルム。
［９］
［６］〜［８］のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして含む偏光板。
［１０］
［６］〜［８］のいずれか１項に記載の光学フィルム又は［９］に記載の偏光板を有する画像表示装置。
［１１］
セルロースアシレートフィルム上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に［１］〜［５］のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、フィルムのカールを抑制できるハードコート層を透明基材上に形成し得るハードコート層形成用組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、カールが抑制された光学フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
なお、本発明においては、「モノマーに相当する繰り返し単位」、及び「モノマーに由来する繰り返し単位」とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。
【００１１】
［ハードコート層形成用組成物］
本発明のハードコート形成用組成物は、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有する。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤
【００１２】
［（ａ）炭酸ジメチル（溶剤）］
本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ａ）炭酸ジメチル及び含有されていてもよいその他の溶剤について説明する。
【００１３】
本発明のハードコート層形成用組成物は炭酸ジメチルを含有する。
ハードコート層と透明基材との密着性の観点から、炭酸ジメチルは、ハードコート層形成用組成物中の全溶媒量中、１０質量％以上含有することが好ましく、２０質量％以上含有することがより好ましく、３０質量％以上含有することが更に好ましい。また、構成素材の溶解性を確保する観点から、９０質量％以下含有することが好ましい。
【００１４】
炭酸ジメチルは、透明基材、特にセルロースアシレートフィルムを短時間で膨潤する溶剤であり、ハードコート層とセルロースアシレートフィルムとの密着性を良好にするとともに、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムに塗工する場合、例えばワイヤーバーコート法、ダイコート法等で塗工する時に、レベリング性が良好となる。特に単層流延法によって作成されたＴＡＣフィルムは、複数層共流延法と比較し、フィルム表面の平滑性が劣る傾向があり、ハードコート層をウエット塗工した際に生じるＴＡＣフィルムの平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が発生し易いが、沸点が８０℃以上、好ましくは８５℃以上の溶剤を使用すると、平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が改善できる傾向があり、塗工適性上優位である。炭酸ジメチルの沸点は９０℃である。
【００１５】
本発明のハードコート層形成用組成物には、塗工時の乾燥性、更なるレベリング性向上、素材の溶解性等を考慮し、炭酸ジメチル以外の有機溶剤を、密着性、塗工時のレベリング性が低下しない範囲で使用できる。
炭酸ジメチル以外の有機溶剤としては、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤などが挙げられる。例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらのなかでも好ましくは、炭酸ジメチルと沸点が異なり、乾燥速度の制御ができるという観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、透明基材の膨潤性を損なわないという観点から特にメチルエチルケトン、シクロヘキサノン又はＮ−メチル−２−ピロリドンが挙げられる。
【００１６】
本発明のハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は１〜７０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％であり、最も好ましくは３０〜６５質量％である。
【００１７】
［（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物について説明する。
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物はバインダー及び硬化剤として機能することができ、塗膜の強度を向上させることが可能となる。
１分子中の不飽和二重結合の数は、３〜２０であることが好ましく、３〜１０であることがより好ましく、３〜６であることが更に好ましい。
【００１８】
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基（重合性の不飽和二重結合）を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２を有する化合物好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【００１９】
重合性の不飽和二重結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【００２０】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００２１】
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物は、より高硬度な膜が得られるという理由から、水素結合性の置換基を有することが好ましい。不飽和二重結合１つあたりの平均分子量をアクリル当量と呼ぶが、同じアクリル当量の化合物を比較すると、水素結合性の置換基を有する化合物を用いたハードコート層の方が、水素結合性の置換基を持たない化合物を用いたハードコート層よりも、硬度が高くなる。
水素結合性の置換基としては、少なくとも１つの−ＯＨ基又は−ＮＨ基を含有する基であるのが好ましく、例えば、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、カルバモイル基（−ＣＯＮＨＲ）、スルファモイル基（−ＳＯＮＨＲ）、ウレイド基（−ＮＨＣＯＮＨＲ）、アミノ基（−ＮＨＲ）、ウレタン基（−ＮＨＣＯＯＲ）、アミド基（−ＮＨＣＯＲ）がより好ましい。ただし、Ｒは水素原子、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基又はヘテロ環基を表すが、好ましくは、水素原子を表す。Ｒはより好ましくは、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルファモイル基又はウレイド基であり、更に好ましくはアミノ基、ヒドロキシル基である。そしてヒドロキシル基のうち、少なくとも１つはフェノール性水酸基であることが更にまた好ましい。
【００２２】
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物は、ハードコート層の硬度等の性能確保という理由から、質量平均分子量が５００以上５０００未満の化合物であることが好ましく、質量平均分子量が５００以上２５００未満の化合物であることがより好ましく、質量平均分子量が５００以上１０００未満の化合物であることが更に好ましい。質量平均分子量が５００未満であると、透明基材への浸透性が高く、ハードコート層の厚みが減ってしまい、硬度などのハードコート性が失われてしまう。質量平均分子量が５０００以上であると、化合物同士の相溶性が劣り、相分離構造を形成し易くなり、場合によってはヘイズが生じてしまう。
ここで質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。
【００２３】
１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物としての（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０、新中村化学工業（株）製ＮＫオリゴＵ−１５ＨＡ、同Ｕ−４ＨＡ、Ａ−ＤＰＨ、日本合成化学（株）製ＵＶ７０６５Ｂ等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【００２４】
本発明のハードコート層形成用組成物中の１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００以上の化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、４０〜９９質量％が好ましく、４５〜９７質量％がより好ましく、５０〜９５質量％が更に好ましい。
【００２５】
［（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物について説明する。
１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物は、透明基材へ浸透し易くハードコート層と透明基材との密着性を向上させることができる。また、ハードコート層耐クラック性の向上及びフィルムのカールを抑制することもできる。
１分子中の不飽和二重結合の数は１又は２が好ましく、１がより好ましい。
【００２６】
１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物の具体例としては、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、などのエチレンユニット繰り返し数８以下のポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、などのプロピレンユニット繰り返し数６以下のポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（メタクリロキシ・エトキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
イソボルニル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、β−カルボキエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等の単官能の（メタ）アクリル酸エステル類；
等が挙げられる。
【００２７】
１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物の質量平均分子量は、好ましくは５０以上４５０以下であり、より好ましくは１００以上４００以下である。ここで、平均分子量を用いているのは、付加基の導入率が均一な化合物は得にくく、導入率の異なる化合物の混合物として使用するのが現実的であるためである。
なお、質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。
【００２８】
１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物としては市販されているものを用いることもでき、日油（株）製のブレンマーＧＬＭ、ブレンマーＧＭＲ−Ｈ等を挙げることができる。
【００２９】
本発明のハードコート層形成用組成物中の１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し質量平均分子量が５００未満の化合物の含有量は、硬度を保ちながら、耐クラック性、密着性、カール抑制するという観点から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、１〜１０質量％が好ましく、２〜５質量％がより好ましい。
【００３０】
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物の含有量をＢと、（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物の含有量をＣとした場合に、Ｂ／Ｃ＝４０／１０〜９９／１の範囲であることが好ましく、Ｂ／Ｃ＝５０／５〜９８／２の範囲であることがより好ましい。Ｂ／Ｃを上記の範囲とすることにより、硬度と密着性を両立することができる。更に耐クラック性及びカール抑制の観点からも好ましい。
【００３１】
［（ｄ）光重合開始剤］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｄ）光重合開始剤について説明する。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【００３２】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【００３３】
本発明のハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【００３４】
［（ｅ）導電性化合物］
本発明のハードコート層形成用組成物には、ハードコート層に帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。特に、ハードコート層形成用組成物にレベリング剤を用いる場合、親水性を有する導電性化合物を用いることにより、該レベリング剤の表面偏在性を向上させることができ、面状ムラ防止、耐擦傷性を更に向上させることができる。導電性化合物に親水性を持たせるためには、親水性基を導電性化合物に導入してもよく、親水性基としては、高い導電性を発現させ、かつ比較的安価である観点から、カチオン性基を有することが好ましく、中でも４級アンモニウム塩基を有することがより好ましい。
【００３５】
本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物（カチオン系化合物）が好適である。
【００３６】
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、基材側領域に偏在させる観点から、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。
【００３７】
【化１】
【００３８】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ2ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｍ＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【００３９】
【化２】
【００４０】
式中、Ｒ2、Ｒ2'及びＲ2"は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｘ-はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。
【００４１】
【化３】
【００４２】
【化４】
【００４３】
一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ3とＲ4及びＲ5とＲ6はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ7ＣＯＲ8−、−Ｒ9ＣＯＯＲ10ＯＣＯＲ11−、−Ｒ12ＯＣＲ13ＣＯＯＲ14−、−Ｒ15−（ＯＲ16）m−、−Ｒ17ＣＯＮＨＲ18ＮＨＣＯＲ19−、−Ｒ20ＯＣＯＮＨＲ21ＮＨＣＯＲ22−又は―Ｒ23ＮＨＣＯＮＨＲ24ＮＨＣＯＮＨＲ25−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ7ＣＯＲ8−、−Ｒ9ＣＯＯＲ10ＯＣＯＲ11−、−Ｒ12ＯＣＲ13ＣＯＯＲ14−、−Ｒ15−（ＯＲ16）m−、−Ｒ17ＣＯＮＨＲ18ＮＨＣＯＲ19−、−Ｒ20ＯＣＯＮＨＲ21ＮＨＣＯＲ22−又は―Ｒ23ＮＨＣＯＮＨＲ24ＮＨＣＯＮＨＲ25−又は−ＮＨＣＯＲ26ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ25及びＲ26はアルキレン基を表す。Ｒ10、Ｒ13、Ｒ18、Ｒ21及びＲ24は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオンを表す。Ｚ1、Ｚ2は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ+[Ｘ-]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。ｎは５〜３００の整数を表す。
【００４４】
一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【００４５】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1は水素原子が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ2、Ｒ2'及びＲ2"は各々メチル基である。
Ｘ-は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。ｐ及びｑは、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。
【００４６】
【化５】
【００４７】
一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ-は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。Ｚ1、Ｚ2が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
【００４８】
以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｒ、ｚ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｒ、ｚは各々のユニットのモル比を表す。
【００４９】
【化６】
【００５０】
【化７】
【００５１】
【化８】
【００５２】
【化９】
【００５３】
【化１０】
【００５４】
上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、ハードコート層の膜強度も高めることができるので、より好ましい。
【００５５】
電子伝導性化合物としては、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。
【００５６】
また、非共役高分子又は共役高分子における前記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。
【００５７】
電子伝導性化合物としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５８】
また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、導電性ポリマーを構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。
【００５９】
電子伝導性化合物としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。
【００６０】
以下に、電子伝導性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらの他にも、国際公開第９８／０１９０９号記載の化合物等が挙げられる。以下の具体例における添え字ｘ、ｙは各ユニットの繰り返し単位数を表す。
【００６１】
【化１１】
【００６２】
【化１２】
【００６３】
本発明で用いる電子伝導性化合物の質量平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは１０，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。ここで質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。
【００６４】
本発明で用いる電子伝導性化合物は、塗布性及び他の成分との親和性付与の観点から、有機溶剤に可溶であることが好ましい。ここで、「可溶」とは溶剤中に単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。
一般に、電子伝導性化合物は水を主成分とする溶媒に溶解することから、化合物としては親水性を有するが、このような電子伝導性化合物を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性化合物を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば可溶化補助剤等）や有機溶剤中での分散剤等を添加する、あるいは疎水化処理したポリアニオンドーパントを用いることにより、有機溶剤に可溶化することができる。これらの方法により本発明で示される有機溶剤へも溶解可能となるが、化合物としての親水性は残っており、本発明の方法を適用すれば導電性化合物の偏在が可能である。
【００６５】
導電性化合物として４級アンモニウム塩基を有する化合物が用いられる場合、元素分析（ＥＳＣＡ）によるハードコート層表面側の窒素又は硫黄の窒素原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることが好ましい。この範囲であれば良好な帯電防止性が得易い。より好ましくは０．５〜３．５ｍｏｌ％であり、更に好ましくは０．５〜２．５ｍｏｌ％である。
【００６６】
本発明のハードコート層形成用組成物中の導電性化合物の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、１〜５０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、１０〜３０質量％が更に好ましい。
【００６７】
本発明のハードコート層形成用組成物には、上記した以外の成分を添加することもできる。特に、（ｆ）レベリング剤と（ｇ）シリカ微粒子を含有することは、シリカ微粒子が親水的であることによりレベリング剤の表面偏在性が向上し、面状ムラ防止、耐擦傷性を更に向上させることができるという理由から好ましい。また、これ以外にも屈折率を制御する効果や架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。
【００６８】
［（ｆ）レベリング剤］
本発明のハードコート層形成用組成物に含んでもよい（ｆ）レベリング剤について説明する。
レベリング剤としては、フッ素含有のポリマーが好ましく用いられる。例えば、特許４４７４１１４号に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーは、レベリング剤として、本発明のハードコート層形成用組成物に好ましく用いることができる。また特許４４７４１１４号の組成比違いとして、フルオロ脂肪族基含有の重合単位の比率が５０〜７０％の範囲のフルオロ脂肪族基含有ポリマーをレベリング剤として用いることもできる。
【００６９】
［（ｇ）シリカ微粒子］
本発明のハードコート層形成用組成物に用いることのできるシリカ微粒子のサイズ（１次粒径）は１５ｎｍ以上１００ｎｍ未満、更に好ましくは２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、最も好ましくは２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子の粒径が小さすぎると、レベリング剤の表面偏在性を高める効果が少なくなり、大きすぎるとハードコート層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。また、シリカ微粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いてもよい。
【００７０】
本発明に使用することができるシリカ微粒子は塗布液中での分散性向上、膜強度向上のために表面処理を施していてもよく、表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の［０１１９］〜［０１４７］に記載のものと同様である。
【００７１】
シリカ微粒子の具体的な例としては、ＭｉＢＫ−ＳＴ、ＭｉＢＫ−ＳＤ（以上、平均粒子径１５ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（平均粒子径５０ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）などを好ましく用いることができる。
【００７２】
前述の導電性高分子とシリカ微粒子をハードコート層形成用組成物に併用するときは、イオン導電性高分子とシリカ微粒子を組み合わせるよりも、電子伝導性高分子とシリカ微粒子を組み合わせる方が、導電性を維持し易くてより好ましい。
【００７３】
本発明のハードコート層形成用組成物には、これらの他に更に添加剤を含有することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、ポリマーの分解を抑える目的で、紫外線吸収剤、亜リン酸エステル、ヒドロキサム酸、ヒドロキシアミン、イミダゾール、ハイドロキノン、フタル酸、などを挙げることができる。また、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物（特に、フッ素系界面活性剤）、内部散乱性付与の目的でマット粒子などを挙げることができる。
【００７４】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、透明基材上に前記ハードコート層形成用組成物を用いて形成されたハードコート層を有する。
本発明の光学フィルムは、透明基材上にハードコート層を有し、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。例えば、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、防眩層などを設けることができる。
【００７５】
本発明の光学フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。
透明基材／ハードコート層
透明基材／ハードコート層／低屈折率層
透明基材／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
透明基材／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
透明基材／ハードコート層／防眩層
【００７６】
［透明基材］
本発明の光学フィルムにおいては、透明基材（支持体）として種々用いることができるが、アクリル系樹脂又はセルロース系樹脂を含む基材が好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることがより好ましい。
セルロースアシレートフィルムとしては、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常、２５μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる４０μｍ〜２００μｍが好ましい。
【００７７】
本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。
【００７８】
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることが更に好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【００７９】
一般に、セルロースアシレートの２，３，６位の水酸基は全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
【００８０】
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４、実施例、合成例１、段落番号００４８〜００４９、合成例２、段落番号００５１〜００５２、合成例３に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【００８１】
［ハードコート層の物性］
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性能を得るための光学設計から、１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。
【００８２】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、０．５μｍ〜２０μｍとし、好ましくは１μｍ〜１０μｍ、更に好ましくは１μｍ〜５μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
また、透明基材に対するハードコート層の厚みの関係にも制限がある。透明基材の厚みをＴbμｍ、ハードコート層の厚みをthcμｍとすると、thc/Tb＝０．０１２５〜０．５の範囲であることが好ましく、０．０５〜０．２５の範囲であることが更に好ましい。ｔｈｃ／Ｔｂ＝０．０１２５以上であれば、鉛筆硬度試験でＨ以上を確保し易く、ｔｈｃ／Ｔｂ＝０．２５以下であれば、カール及び脆性が良化し易く、モノマー選択の幅が広がるため好ましい。
【００８３】
［反射防止層］
（低屈折率層）
本発明の光学フィルムは、前記ハードコート層上に直接又は他の層を介して反射防止層（低屈折率層など）を有することが好ましい。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
低屈折率層をハードコート層上に直接設ける場合には、層厚２００ｎｍ以下の薄膜層とすることが好ましい。更に、光学層厚で設計波長の約１／４の層厚で形成すればよい。但し、最も単純な構成である低屈折率層１層で反射防止を行う１層薄膜干渉型の場合は、反射率０．５％以下を満足し、かつ、ニュートラルな色味、高い耐擦傷性、耐薬品性、耐候性を有する実用的な低屈折率材料がないため、更に低反射化が必要な場合には、ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層を形成する２層薄膜干渉型、又は、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層を順次形成する３層薄膜干渉型など、多層の光学干渉によって反射を防止する多層薄膜干渉型反射防止フィルムとすればよい。
この場合、低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましい。１．３０〜１．４６であることが好ましく、１．３２〜１．３８が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが生産性とコストの両面から好ましい。
【００８４】
低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開２００７−２９８９７４号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開２００２−３１７１５２号公報、特開２００３−２０２４０６号公報、及び特開２００３−２９２８３１号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。
【００８５】
（高屈折率層及び中屈折率層）
高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．２０であることが好ましく、１．７０〜１．８０であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．６５であることが好ましく、１．５８〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
【００８６】
中屈折率層、高屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分として公知のものを用いる事ができ、具体的には特開２００８−２６２１８７の段落番号［００７４］〜［００９４］に示される。
【００８７】
（防眩層）
本発明では前記ハードコート層とは別に表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で防眩層を形成してもよい。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
【００８８】
本発明の光学フィルムとして、特に好ましい態様は、セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムであって、該セルロースアシレートフィルム基材のハードコート層の界面には、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在し、かつ該反射防止層が前記含フッ素ポリマー（１）であるレベリング剤を含有し、該レベリング剤がハードコート層と反射防止層との界面に存在しない光学フィルムである。
ここで、ハードコート層とは、ハードコート層成分が含まれている部分全体を指し、基材とは、ハードコート層成分を含まない部分を示すこととする。
本発明の光学フィルムでは、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在している。このように各成分が混じり合うことにより、基材とハードコート層密着性が向上する。基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さは、ハードコート層全体の厚さに対して５％以上９９％以下であることが好ましく、１５％以上９８％以下であることが更に好ましく、３０％以上９５％以下であることがもっとも好ましい。混在した領域が５％未満であると基材とハードコート層との密着性が不十分になり、また１００％であるとハードコート層の最表面に基材成分が露出するため、反射防止層との密着性を阻害する。
また、混在した領域は、フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。
【００８９】
ハードコート層と反射防止層との界面に残存するレベリング剤の存在量は、ハードコート層中の表面から５ｎｍに残存するレベリング剤の量として調べることができ、ハードコート層のみを形成した光学フィルムを反射防止層形成用塗布液に用いる溶媒に浸漬して溶出物を取り除いた後、その表面をＸ線光電子分析装置（ＥＳＣＡ）で分析したフッ素原子量を測定することで推測することができる。ハードコート層におけるレベリング剤の偏在性が高ければ、レベリング剤は溶媒に速やかに抽出されるためフッ素原子が検出されなくなり、逆に偏在性が低いものの場合は抽出されにくく、また、浸漬後も内部からのブリードアウトにより表面にフッ素原子が検出される。
レベリング剤がハードコート層と反射防止層との界面に存在しないとは、上記の方法で検出したフッ素原子の量を炭素原子の量で除した値（Ｆ／Ｃ）が、０．０２以下であることを指し、これによりハードコート層と反射防止層との結合が強化され、耐擦傷性を向上させることができる。
【００９０】
（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まずハードコート層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【００９１】
塗布した後、乾燥、光照射してハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これによりハードコート層が形成される。必要に応じて、透明基材上にあらかじめその他の層を塗設しておき、その上にハードコート層を形成することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。また必要に応じて前記したようなその他の層を設けることもできる。本発明の光学フィルムの製造方法において、複数の層を同時に塗布してもよいし、逐次塗布してもよい。
【００９２】
本発明の光学フィルムの製造方法の特に好ましい態様としては、セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムの製造方法であって、該基材上に前記ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成し、更に、該ハードコート層上に下記（ｈ）、（ｉ）、及び（ｊ）を含む硬化性組成物を塗布、硬化して反射防止層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法である。
（ｈ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｉ）中空シリカ微粒子
（ｊ）光重合開始剤
【００９３】
（ｈ）不飽和二重結合を有する化合物
本発明では、不飽和二重結合を有する化合物を反射防止層のバインダーとして機能させることができる。不飽和二重結合を有する化合物としては、特に制限はないが、低屈折率化の観点から、含フッ素化合物を用いることが好ましい。含フッ素化合物は重合体であっても低分子であってもよい。
【００９４】
（重合性不飽和基を有する含フッ素重合体）
重合性不飽和基を有する含フッ素重合体は、少なくとも一種の含フッ素ビニルモノマーを重合して得ることが好ましい。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＲ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。
【００９５】
上記含フッ素ビニルモノマーと架橋反応性付与のために下記（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ１）で示される単位との共重合体が好ましく利用できる。
【００９６】
（Ａ１）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
（Ｂ１）：カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、 （Ｃ１）：分子内に上記（Ａ１）、（Ｂ１）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記（Ａ１）、（Ｂ１）の構成単位と反応させて得られる構成単位、（例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位）が挙げられる。
【００９７】
上記（Ｃ１）の構成単位は該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基及びシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
【００９８】
光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、例えば下記４つの方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
・水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法
・水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する（メタ）アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法・エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化する方法
・カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法
【００９９】
上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。
【０１００】
本発明に有用な重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。
【０１０１】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。
【０１０２】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。好ましいポリマーについては、特開２００２−２４３９０７号、特開２００２−３７２６０１号、特開２００３−２６７３２号、特開２００３−２２２７０２号、特開２００３−２９４９１１号、特開２００３−３２９８０４号、特開２００４−４４４４号、特開２００４−４５４６２号の各公報に記載のものを挙げることができる。
【０１０３】
本発明の含フッ素ポリマーには防汚性、及び耐擦傷性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていても良い。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平６−９３１００号、特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平１１−１８９６２１号の実施例１、２、及び３のポリマー、又は特開平２−２５１５５５号の共重合体Ａ−２及びＡ−３を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。
【０１０４】
重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体の好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上５０００００未満であり、より好ましくは１００００以上５０００００未満であり、更に好ましくは１５０００以上２０００００未満であり、最も好ましくは１５０００以上１０００００未満である。質量平均分子量が５０００以上であれば塗布性に優れ、ハジキやムラ（塗膜の膜厚の面内バラツキ）が生じにくいため好ましい。また、質量平均分子量が５０００００未満であれば溶剤への溶解性が良好なため好ましい。
また、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体として、平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。
【０１０５】
（重合性不飽和基を有する多官能モノマー）
本発明では、反射防止層用組成物に含まれる重合性二重結合を有する化合物としては、特に規定は無いが、重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーを含むことが好ましい。重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができる。重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体と重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーとを併用することで、耐擦傷性あるいは薬品処理後の耐擦傷性を向上させることができる。
重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーは、フッ素を含んでいないものでも、フッ素を含んでいるものでもよい。
【０１０６】
本発明に用いられる非含フッ素多官能モノマーについて説明する。該モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性二重結合を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【０１０７】
重合性二重結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１０８】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１０９】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１１０】
（ｉ）無機微粒子
本発明では、低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から、低屈折率層に無機微粒子を用いる。該無機微粒子は、平均粒子サイズが５〜１２０ｎｍであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
低屈折率化を図るには、多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましい。特に中空構造のシリカ粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
【０１１１】
多孔質又は中空粒子がシリカの場合には、微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最も好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。
【０１１２】
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１１３】
本発明において中空シリカの比表面積は、２０〜３００ｍ２／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ２／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ２／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることができる。
【０１１４】
本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。
【０１１５】
［中空微粒子の調製方法］
中空微粒子の好ましい製造方法を以下に記載する。第１段階として、後処理で除去可能なコア粒子形成、第２段階としてシェル層形成、第３段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第４段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。
【０１１６】
（被覆粒子）
シェル厚を厚くすることで粒子表面の吸着サイトを減少させ、吸着水量を低減することが可能であり、好ましい。更に導電性の成分でシェルを形成すると導電性も付与することができて好ましい。特に好ましくは、コア粒子としてシリカ系の多孔質又は中空の粒子を用い、シェルとして、ＺｎＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＡＴＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２を用いる組み合わせである。被覆粒子については特開２００８−２４２３１４の段落番号［００３３］〜［００４０］に記載されており、本発明においても好適に用いることができる。
【０１１７】
［無機微粒子の表面処理方法］
また、本発明においては無機微粒子は常法によりシランカップリング剤等により表面処理して用いることができる。
特に、低屈折率層形成用バインダーへの分散性を改良するために、無機微粒子の表面はオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物により処理がされているのが好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。
無機微粒子の表面の処理方法については、特開２００８−２４２３１４号公報の段落番号［００４６］〜［００７６］に記載されており、該文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶媒、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。
【０１１８】
（ｊ）光重合開始剤
本発明における低屈折率層用組成物には、光重合開始剤が含まれることが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤については、特開２００８−１３４５８５号公報の段落［０１４１］〜［０１５９］にも記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【０１１９】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１２０】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、ＢＡＳＦ・ジャパン（株）製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【０１２１】
光重合開始剤は、不飽和二重結合を有する有機成分１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【０１２２】
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントンなどを挙げることができる。更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
【０１２３】
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）」などが挙げられる。
【０１２４】
［偏光板用保護フィルム］
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１２５】
上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の光学フィルムの帯電防止層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。
【０１２６】
本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルローストリアセテートフィルムであることが好ましい。
【０１２７】
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。
【０１２８】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【０１２９】
光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０１３０】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。
【０１３１】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０１３２】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０１３３】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【実施例】
【０１３４】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０１３５】
〔光学フィルムの作製〕
下記に示す通りに、各層形成用の塗布液を調製し、各層を形成して、光学フィルム試料１〜２４を作製した。
【０１３６】
（ハードコート層用塗布液Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液Ａ−１（固形分濃度５０質量％）とした。
炭酸ジメチル ５０質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ５０質量部
モノマー（１）：ＤＰＣＡ３０ ８７．５質量部
モノマー（２）：ブレンマーＧＬＭ １０質量部
光重合開始剤イルガキュア１２７ ２．４５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマーＳＰ−１３ ０．０５質量部
【０１３７】
ハードコート層用塗布液Ａ−１と類似の方法で、各成分を下記表１のように混合して溶剤に溶解して表１記載の比率になるように調整し、固形分濃度５０質量％のハードコート層用塗布液Ａ−２〜Ａ−１５を作製した。
【０１３８】
【表１】
【０１３９】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
ＤＰＣＡ３０：日本化薬（株）製、下記構造の化合物。質量平均分子量は９２０で、１分子中の不飽和二重結合の数は６。
【０１４０】
【化１３】
【０１４１】
ＵＶ７０６５Ｂ：日本合成化学社製、ウレタンアクリレートモノマー。質量平均分子量は１１００で、１分子中の不飽和二重結合の数は６。
ＮＫオリゴ Ｕ１５ＨＡ：新中村化学工業（株）製、ウレタンアクリレートモノマー。質量平均分子量は２３００で、１分子中の不飽和二重結合の数は１５。
ＮＫオリゴ Ｕ４ＨＡ：新中村化学工業（株）製、ウレタンアクリレートモノマー。質量平均分子量は５９６で、１分子中の不飽和二重結合の数は４。
【０１４２】
Ａ−ＤＰＨ：新中村化学工業（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は５７８で、１分子中の不飽和二重結合の数は６。
【０１４３】
【化１４】
【０１４４】
ブレンマーＧＬＭ：日油（株）製、グリセリンモノメタクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は１６０で、１分子中の不飽和二重結合の数は１。
【０１４５】
【化１５】
【０１４６】
ブレンマーＧＭＲ−Ｈ：日油（株）製、グリセリンジメタクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は２２８で、１分子中の不飽和二重結合の数は２。
【０１４７】
【化１６】
【０１４８】
ファンクリルＦＡ−Ｐ２４０Ａ：日立化成工業（株）製、ポリプロピレングリコール＃４００アクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は５３３で、１分子中の不飽和二重結合の数は２。
【０１４９】
【化１７】
【０１５０】
Ｖ＃２９５：大阪有機化学工業（株）製、トリメチロールプロパントリアクリレート、下記構造の化合物。質量平均分子量は２９６で、１分子中の不飽和二重結合の数は３。
【０１５１】
【化１８】
【０１５２】
光重合開始剤：イルガキュア１２７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
ＩＰ−９：前記導電性化合物ＩＰ−９の分散液（固形分３０．７質量％、溶媒はプロピレングリコールモノメチルエーテルとイソプロピルアルコールの質量比３０：７０）
ＳＰ−１３：下記構造のフルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＭＥＫ溶媒に固形分濃度４０質量％で溶解しているものを用いた。）下記構造式中、「６０」と「４０」は質量比を表す。
【０１５３】
【化１９】
【０１５４】
（低屈折率層用塗布液の調製）
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０１５５】
【化２０】
【０１５６】
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
【０１５７】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ２）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ２）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。
【０１５８】
（中空シリカ粒子分散液Ａの調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、日揮触媒化成（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。
【０１５９】
（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の２１．０質量部、反応性シリコーン（Ｘ２２−１６４Ｃ、信越化学（株）製）２．５質量部、イルガキュア１２７（ＢＡＳＦ・ジャパン（株）製）１．５質量部、中空シリカ粒子分散液Ａ１３７．４質量部をメチルエチルケトンに添加して１０００質量部とし、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【０１６０】
（ハードコート層Ａ−１の作製）
厚さ８０μｍの透明基材としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液Ａ−１をダイコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１０μｍのハードコート層Ａ−１を形成し、光学フィルム試料Ｎｏ．１を作製した。
【０１６１】
同様の方法でハードコート層用塗布液Ａ−２〜１７を用いてハードコート層Ａ−２〜１７をそれぞれ作製し、フィルム試料Ｎｏ．２〜２６を作製した。
ただし、フィルム試料Ｎｏ．１０については、透明基材として前記トリアセチルセルロースフィルムに替えて、厚さ５０μｍのアクリル樹脂フィルム（アクリプレンＨＢＳ００６（商品名）、三菱レイヨン（株）製、屈折率１．５０）を用いた。フィルム試料Ｎｏ．１３及び１４については、透明基材として前記厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムに替えて、厚さ６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ６０Ｕ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４９）を使用した。フィルム試料Ｎｏ．１５及び１６については、ハードコート層の厚みを５．０μｍに、フィルム試料Ｎｏ．１７及び１８については、同様にハードコート層の厚みを１２．５μｍにして試料を作製した。
また、フィルム試料Ｎｏ．１１〜１８については、下記のようにハードコート層上に低屈折率層Ｂを厚さ９４ｎｍになるように形成した。
【０１６２】
（低屈折率層Ｂの作製）
ハードコート層Ａ−９の上に、低屈折率層用塗布液Ｂをダイコーターを用いて塗布し、厚さ９４ｎｍの低屈折率層を形成した。低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。
【０１６３】
ハードコート層及び低屈折率層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約４μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定した。「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ 部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。ハードコート層の屈折率は塗布液Ａ−１〜Ａ−１７で１．５２であり、低屈折率層の屈折率は塗布液Ｂで１．３６であった。
【０１６４】
また、低屈折率層の膜厚は、反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用して調整した。
【０１６５】
（光学フィルムの評価）
以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。
【０１６６】
（１）鉛筆硬度
膜硬度の指標としてＪＩＳ−Ｋ−５６００−５−４に記載の塗料一般試験方法―引っ掻き硬度（鉛筆法）を行った。即ち、温度２５℃、湿度５５％ＲＨの条件下で１６時間保存後に、各試料を、６Ｂ、５Ｂ、４Ｂ、３Ｂ、２Ｂ、Ｂ、ＨＢ、Ｆ、Ｈ、２Ｈ、３Ｈ、４Ｈ、５Ｈ、６Ｈの鉛筆を用いて７５０ｇの荷重を掛けて引っ掻き、傷跡及び欠陥の発生状況を観察し、傷跡及び欠陥の付かなかった最大の鉛筆の硬度を鉛筆硬度とした。
【０１６７】
（２）耐クラック性
各試料を、ＪＩＳ−Ｋ−５６００−５−１に記載の塗料一般試験方法―耐屈曲性（円筒形マンドレル法）にて評価を行った。即ち、温度２５℃、湿度５５％ＲＨの条件下で１６時間保存後に、各試料を、直径（Φ）２、３、４、５、６、８、１０、１２ｍｍのマンドレルにそれぞれ巻き付けて、クラックの発生状況を観察し、クラックが発生しなかった最小のマンドレルの直径で耐クラック性評価した。マンドレルの直径が大きい条件でクラックが発生している程、クラックの耐性が弱いことを示す。
【０１６８】
（３）密着性
ＪＩＳ−Ｋ−５６００−５−６−１に記載のクロスカット法にて評価を行った。即ち、試料表面に１ｍｍ間隔で１００個の碁盤目を入れ、セロハンテープ（ニチバン（株）製）で密着試験を行った。新しいセロハンテープを貼ったあとに剥離し、以下の基準で判定した。
◎・・碁盤目中のマスの剥離が起こらない
○・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが９５％以上で、僅かに剥離するが問題がない
○△・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが８５％以上９５％未満であり、僅かに剥離するがほとんど問題がない
△・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが６５％以上８５％未満で、やや剥離があり問題となる
△×・・碁盤目中のマスの剥離が無い物が５０％以上６５％未満で、剥離があり問題である。
×・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが５０％未満であり、非常に問題である
【０１６９】
（４）カール
各試料を作製後、直ぐに縦１ｍ、横１．３ｍに切り出した試料を水平な台上に置き、２５℃６０％ＲＨの環境下にて３ｈｒ静置させて、４箇所の角の各頂点が、台より浮き上がっている高さを計測して、その平均値をカール値とし、以下の基準で判定した。
◎・・カール値が２０ｍｍ未満
○・・カール値が２０ｍｍ以上３５ｍｍ未満
△・・カール値が３５ｍｍ以上５０ｍｍ未満
×・・カール値が５０ｍｍ以上
【０１７０】
（５）表面抵抗値測定
各試料について、２５℃、６０％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に同条件下で表面抵抗値（ＳＲ）を円電極法で測定した。表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）で示す。
【０１７１】
（６）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
【０１７２】
【表２】
【０１７３】
表２に示すように、官能基数及び分子量の高いモノマーでハードコート層を形成すると、鉛筆硬度が非常に高いが、耐クラック性、密着性及びカールが悪化してしまい（試料Ｎｏ．１９）、官能基数及び分子量の低いモノマーでハードコート層を形成すると（試料Ｎｏ．２２）鉛筆硬度も低く、密着性も得られなくなってしまう。同様に官能基数が高く、分子量が低いモノマーを使用しても(試料Ｎｏ．２５)、官能基数が低く、分子量が高いモノマーを使用しても(試料Ｎｏ．２３)、鉛筆硬度、耐クラック性、密着性、カール制御全てを両立することは難しい。それに対し本発明のハードコート形成用組成物を使用すると、鉛筆硬度が高く、耐クラック性及び密着性に優れ、更にカールも抑制された光学フィルムを得ることができた。
また、導電性化合物を用いた試料Ｎｏ.９〜１１、１３、１５及び１７ではｌｏｇＳＲが１０に低下して、良好な帯電防止性が付与することができた。更に、反射防止層として低屈折率層を設けた試料Ｎｏ.１１〜１８では反射率が低く反射防止性能にも優れている。
また透明基材としてＴＤ８０Ｕの代わりに、ＴＤ６０Ｕを用いた試料Ｎｏ．１３及び１４でも、同様に良好な硬度、耐クラック性、密着性、及びカール抑制された光学フィルムを得られ、更にハードコート層の厚みを５．０μｍにした試料Ｎｏ．１５及び１６でも、ハードコート層の厚みを１２．５μｍにした試料Ｎｏ．１７及び１８でも、同様に良好な硬度、耐クラック性、密着性、及びカール抑制された光学フィルムを得られた。
【０１７４】
（光学フィルムの鹸化処理）
前記試料Ｎｏ．２に以下の処理を行った。１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの光学フィルムを作製した。
【０１７５】
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、鹸化処理済みの光学フィルムを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板を作製した。
（円偏光板の作製）
偏光板試料の低屈折率層と反対側の面にλ／４板を粘着剤で貼り合せ円偏光板を作製し、有機ＥＬディスプレイの表面に低屈折率層が外側になるように該円偏光板を粘着剤で貼り付けた。傷つきや面状ムラがなく、良好な表示性能が得られた。
【０１７６】
反射型液晶ディスプレイ及び半透過型液晶ディスプレイの表面の偏光板として、低屈折率層が外側になるように上記円偏光板を用いたところ、傷つきや面状ムラがなく、良好な表示性能が得られた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤
【請求項２】
前記（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、請求項１に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項３】
前記（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物が質量平均分子量が５００以上１０００未満の化合物である、請求項１又は２に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項４】
更に、（ｅ）導電性化合物を含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項５】
前記（ａ）炭酸ジメチルの含有量が全溶剤に対して１０質量％以上である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項６】
透明基材上に、請求項１〜５のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルム。
【請求項７】
前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである、請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記ハードコート層上に反射防止層を有する、請求項６又は７に記載の光学フィルム。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして含む偏光板。
【請求項１０】
請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム又は請求項９に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【請求項１１】
セルロースアシレートフィルム上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に請求項１〜５のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
【請求項１】
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤
【請求項２】
前記（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、請求項１に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項３】
前記（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物が質量平均分子量が５００以上１０００未満の化合物である、請求項１又は２に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項４】
更に、（ｅ）導電性化合物を含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項５】
前記（ａ）炭酸ジメチルの含有量が全溶剤に対して１０質量％以上である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項６】
透明基材上に、請求項１〜５のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルム。
【請求項７】
前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである、請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記ハードコート層上に反射防止層を有する、請求項６又は７に記載の光学フィルム。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして含む偏光板。
【請求項１０】
請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム又は請求項９に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【請求項１１】
セルロースアシレートフィルム上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に請求項１〜５のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
【公開番号】特開２０１２−１４１４５９（Ｐ２０１２−１４１４５９Ａ）
【公開日】平成２４年７月２６日（２０１２．７．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２９４３３１（Ｐ２０１０−２９４３３１）
【出願日】平成２２年１２月２８日（２０１０．１２．２８）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年７月２６日（２０１２．７．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月２８日（２０１０．１２．２８）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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