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【課題】ポリエチレン系の架橋済の封止材シートを提供する。
【解決手段】密度が0.900以下の低密度ポリエチレンと、架橋剤と、多官能ビニル系モノマー及び/又は多官能エポキシ系モノマーからなる架橋助剤とを含有する組成物を、ゲル分率を0%に維持したまま未架橋の封止材シートとして成形し、その後に電離放射線の照射による架橋処理を行なうことで、ゲル分率が2%以上70%以下の架橋済みの封止材シートとする。ポリエチレン系の封止材シートでありながら既に架橋しているので、太陽電池モジュール化の際に別途の架橋工程が不要であるとともに、モジュール化の際の流動も抑制できる。 (もっと読む)


【課題】耐久性と電極との接合性とを両立することのできる高性能な高分子電解質膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】紫外線照射処理が施された炭化水素系固体高分子電解質膜であって、紫外線を照射する前後で、ATR法によるIR分析をした結果、吸収強度比I1685cm−1/I3500cm−1が紫外線照射前に対して10%以上変化した事を特徴とする炭化水素系固体高分子電解質膜。 (もっと読む)


【課題】ポリエチレン系の架橋済の封止材シートを提供する。
【解決手段】密度が0.900以下の低密度ポリエチレンと、架橋剤と、多官能ビニル系モノマー及び/又は多官能エポキシ系モノマーからなる架橋助剤とを含有する組成物を成形し、その後に電離放射線の照射による架橋処理を行なうことで、ゲル分率が2%以上70%以下、80℃以上100℃以下における複素粘度が、3.0E+4Pa・S以上1.0E+6Pa・S以下であり、所定条件によって架橋した後の150℃以上200℃以下における複素粘度が、1.0E+5Pa・S以上4.0E+5Pa・S以下である太陽電池モジュール用封止材シートとする。ポリエチレン系の封止材シートでありながら既に架橋しているので、太陽電池モジュール化の際に別途の架橋工程が不要であるとともに、モジュール化の際の流動も抑制できる。 (もっと読む)


【課題】 光配向膜を有する液晶表示パネルにおける光透過率の向上と残像の発生の抑制とを両立させる。
【解決手段】 アクティブ素子、画素電極、共通電極、および液晶層を有する画素がドットマトリクス状に配置された液晶表示パネルを有し、当該液晶表示パネルは、第1の基板、第2の基板、および前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置された液晶層とを有し、前記第1の基板は、前記アクティブ素子、前記画素電極、前記共通電極、および第1の配向膜を有し、前記第2の基板は、第2の配向膜を有し、前記第1の配向膜および前記第2の配向膜は、それぞれ、光分解型の絶縁膜に光を照射して形成された光配向膜である液晶表示装置であって、前記第2の配向膜は、前記第1の配向膜よりも薄く、かつ、その厚さが10nm以上50nm以下である液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】表面が内部より高い硬度を有するポリシロキサン系の有機無機複合体からなる膜の表面を更に無機質化することを課題とする。
【解決手段】本発明の有機無機複合系薄膜は、
a)式(I)
SiX4−n (I)
(式中、RはSiに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき各Rは同一でも異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき各Xは同一でも異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物、及び、
b)有機高分子化合物
を含有する層を有する有機無機複合系薄膜であって、
該膜の表面に式(I)で表される有機ケイ素化合物の縮合物が濃縮した層が形成されており、表面から10nmの深さの炭素原子の濃度が、表面から100nmの深さの炭素原子の濃度より20%以上少なく、さらに、膜の表面から2nmの深さのO/Si元素比が1.8〜2.5である。 (もっと読む)


【課題】高い防曇特性を維持しつつ、貼合後のしわ、剥がれが抑制され、作業性にも優れるセルロースエステルフィルムを提供する。
【解決手段】セルロースエステルを含むエステル層と、
前記エステル層の少なくとも片面上に位置する防曇層と、
を有し、
下記式(1)および式(2)を満たす、防曇性セルロースエステルフィルム。


式中、d(T)は防曇性セルロースエステルフィルムの全膜厚(μm)であり、d(C)は防曇層の厚さ(μm)である。 (もっと読む)


【課題】高い防曇特性を維持しつつ、貼合後のしわ、剥がれが抑制され、作業性にも優れるセルロースエステルフィルムを提供する。
【解決手段】セルロースエステルフィルムの製膜後に、製膜されたフィルムの少なくとも片面をアルカリケン化処理されてなり、下記式(1)を満たす、防曇性セルロースエステルフィルムである。


式中、S(t)は23℃相対湿度20%から23℃相対湿度80%に変化させた場合のフィルムの厚さ方向の寸法変化率(%)であり、S(r)は23℃相対湿度20%から23℃相対湿度80%に変化させた場合のフィルムの面方向の寸法変化率(%)である。 (もっと読む)


【課題】ヤング率の低いポリビニルアルコールフィルムの製造方法、および当該製造方法により製造することのできるヤング率の低いポリビニルアルコールフィルムを提供すること。
【解決手段】含水率が15〜55質量%のポリビニルアルコールフィルムに75℃以下の温度に保たれた状態でマイクロ波またはラジオ波を照射する工程を含む、電磁波処理されたポリビニルアルコールフィルムの製造方法、および当該製造方法により製造される電磁波照射されたポリビニルアルコールフィルム、並びに多価アルコール系可塑剤の含有量がポリビニルアルコール100質量部に対して15質量部以下であり、含水率を8〜10質量%に調湿した際のヤング率が20.0MPa以下であるポリビニルアルコールフィルム。 (もっと読む)


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