【課題】装置を小型化し、かつ、改質剤化合物と燃料ガスとを均一に混合した状態で燃焼させた火炎を噴射可能な表面改質処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の表面改質処理装置１０は、金属原子、半金属原子または非金属原子と、有機基と、を有する改質化合物を燃料ガスと共にバーナー１８にて燃焼させ、その火炎Ｆを固体物質Ｓの表面に吹き付けて固体物質Ｓの表面の改質を行うものである。本発明は、燃料ガスを液化した液化燃料と液状の改質化合物とを混合状態でボンベ１１に収容し、そのボンベ１１中の一部の混合液体を気化器１４に通すことで改質化合物及び液化燃料を気化させてバーナー１８に供給するようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポリスルホン成形体の黄色味を低減し、透明性（透過率）を向上させることができるポリスルホン成形体の処理方法、および該ポリスルホン成形体の処理方法により得られる成形体の提供。
【解決手段】ポリスルホン成形体の処理方法は、ポリスルホン成形体に可視光を照射強度５０Ｗ／ｍ^２以上で照射することを特徴とする。本発明のポリスルホン成形体の処理方法において、ポリスルホン成形体に、波長３６０ｎｍ未満の紫外光を照射せずに、可視光を前記照射強度で照射することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】表面改質後にフッ素樹脂の特性を有し、大気圧雰囲気下で励起ガスを照射して表面改質処理が可能なフッ素樹脂成形体を提供することである。
【解決手段】本発明は、フッ素樹脂改質面を形成したフッ素樹脂成形体において、レーザーラマン分光スペクトルを測定して、ＧバンドとＣＦ_２バンドからバックグランドのスペクトル強度を差引いたとき、ピーク強度Ｉ_ｇとピーク強度ＩＣＦ_２の強度比Ｉ_ｇ／Ｉ_ＣＦ２が０〜０．０１の範囲にあり、１０００ｃｍ⁻¹のスペクトル強度をＩ_１０００、２０００ｃｍ^−１のスペクトル強度をＩ_２０００としたとき、ΔＩ_ｔｒ＝｜（Ｉ_２０００−Ｉ_１０００）｜／Ｉ_ＣＦ２が０〜０．１の範囲にあり、前記フッ素樹脂改質面上で所定区間平面の区間平面積をＳ_０とし、前記所定区間平面内にある前記フッ素樹脂改質面の表面積をＳとしたとき、前記フッ素樹脂改質面の改質表面積率Ｒ＝Ｓ／Ｓ_０が１．２以上であるフッ素樹脂成形体である。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、光学フィルムに現れる輝点を解決する為になされたものであって、この輝点は大きさが５０μｍ以下である目に見えない光学的異物によるものであることが解明され、その原因は、放電処理を連続的に長時間にわたって施した際に、シュウ酸などのカルボン酸誘導体が工程ロールに付着し、それがフィルム面に転写され発生するという知見を得て、樹脂フィルムに輝点を生ずることのない放電処理方法を提供する。
【解決手段】
樹脂フィルムに放電処理を行なうに際し、
表面に放電処理した後、直ちに処理面を保護フィルムで被覆し、
次いで、裏面に放電処理した後、該処理面が非接触状態で樹脂フィルムを移送し、後次工程に供することを特徴とする樹脂フィルムの放電処理方法。 （もっと読む）

【課題】架橋ポリマーの製造方法およびそのように製造されたポリマーを提供する。
【解決手段】架橋ポリマーの製造方法およびそのように製造されたポリマーが提供され、該方法は、式−ＳＯ₂Ｘ（式中、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＯＨ、または−Ｏ^-Ｍ⁺であり、ここでＭ⁺は一価のカチオンである）に従う基を含有するペンダント基を含む高フッ素化フルオロポリマー、典型的にはペルフッ素化フルオロポリマーを提供するステップと、前記フルオロポリマーを電子ビーム放射線に曝露して、架橋の形成をもたらすステップとを含む。典型的には、本発明に従う方法は、前記フルオロポリマーを、典型的に９０ミクロン以下の厚さを有し、より典型的には６０ミクロン以下、そして最も典型的には３０ミクロン以下の厚さを有する膜に形成するステップを更に含む。 （もっと読む）

【課題】有機材料の難燃性付与剤、難燃性物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】難燃性付与剤は、下記一般式で表されるホスホニウム塩、


（上記式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４はそれぞれ独立して炭素数１〜８の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｘはアニオンを表す。）
テトラアルコキシシラン、二酸化ケイ素及びアルカリを混合してなる。前記ホスホニウム塩はテトラアルキルホスホニウムをカチオンとしてなるイオン性液体であり、前記アルコキシシランはテトラエトキシシランであることが好ましい。難燃性物品は有機材料を含む基材を備え、その表面に上記一般式で表されるホスホニウム塩、アルコキシシラン及び二酸化ケイ素を含む組成物をアルカリを用いて縮合させることにより形成された皮膜を備える。 （もっと読む）

【課題】露光に対する感度の高い配向制御膜を提供する。
【解決手段】ポリイミドおよびポリイミドの前駆体からなり、ポリイミドおよびポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式（１）に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体および芳香族ジアミンを含み、光配向処理によって配向規制力が付与されていることを特徴とする配向制御膜。（但し、Ｚ^１からＺ^４のうち少なくとも一つは、−ＮＲ_２、−ＳＲ、−ＯＨ、−ＣＯＲ、−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯＯＲ、−ＣＮまたは−ＮＯ_２に示す置換基（Ｒはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数１から４のアルキル基、ｎは０から２の整数。）であり、その他は水素原子である。）
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【課題】フィルム表面の打痕やピラミッドなどの凹凸が少なく平滑なアクリル系樹脂フィルムの製造方法及び該方法で製造されたアクリル系樹脂フィルム並びに偏光板を提供する。
【解決手段】アクリル系樹脂にゴム弾性体粒子が配合されたアクリル系樹脂組成物からなるアクリル系樹脂フィルム２５の製造方法であって、表面が平滑でかつ所定の加熱温度に熱せられた熱ロール１４をフィルム表面に押圧する。加熱温度は、アクリル系樹脂組成物のガラス転移温度をＴｇとしたとき、Ｔｇ−５０℃以上、Ｔｇ＋５℃以下の範囲内であることが好ましい。熱ロール１４の代わりに熱アイロン１６を使用してもよい。 （もっと読む）

【課題】ウェブ状の基材上へのガスバリア層の高速インライン処理を実現し、生産能率が高く、かつ基材とガスバリア層との密着耐久性も向上し得るガスバリア性フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】高周波印加電極である金属ロール電極と接地電極を配置したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理装置構成において、電極間に、不活性ガスを圧力が０．５Ｐａ以上５０Ｐａ未満で導入して、特定間隔の電極間に特定値の高周波電圧を印加し、高密度なプラズマを発生させて、プラスチックフィルム１００表面に、プラズマ処理を施し、基材と酸化珪素（ＳｉＯｘ）からなるガスバリア層１０２間に十分な密着性能を与えることを特徴とするガスバリア性フィルムとその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 基板とシート部材とによって構成される試料操作素子に対し、その操作構造での所望の領域を選択的に親水化処理することが可能な試料操作素子の表面処理方法、及び処理装置を提供する。
【解決手段】 下部基板１２と、上部シート部材１４とを有する試料操作素子１０を載置するステージ２０と、素子１０にレーザ光Ｌを供給するレーザ光源３０と、素子１０に対し、シート部材１４側からまたは基板１２側から所定の照射光軸Ａｘに沿って、シート部材と基板との間に形成された操作構造内にビームウエストが位置する集光条件でレーザ光Ｌを照射する集光光学系３５とによって表面処理装置１Ａを構成する。そして、試料操作素子１０の操作構造内において、レーザ発生プラズマにより、シート部材１４で操作構造を構成している凹状構造部の内側表面を親水化処理する。 （もっと読む）