プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法、ブラスト加工装置、プラズマディスプレイパネル用背面板、並びに、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられる積層体
【課題】段差マトリクスリブを有するＰＤＰ用背面板を容易に製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】背面板の製造方法は、リブ形成用基板２０上にリブ層４０を形成する工程と、リブ層上にブラストマスク５０を形成する工程と、ブラストマスク側からリブ層へブラスト材７５を噴射し、第１リブ３４と第２リブ３８とを有するマトリクスリブ３１を形成する第１ブラスト工程と、第２リブの先端部分３９を削って、段差マトリクスリブ３０を形成する第２ブラスト工程と、を備える。第２ブラスト工程中、リブ形成用基板の法線に対して傾斜した方向であって平面視において第１リブに沿う方向に沿って、ブラスト材を噴射する。第２ブラスト工程において、リブ上にブラストマスクが配置されたままになっている。
【解決手段】背面板の製造方法は、リブ形成用基板２０上にリブ層４０を形成する工程と、リブ層上にブラストマスク５０を形成する工程と、ブラストマスク側からリブ層へブラスト材７５を噴射し、第１リブ３４と第２リブ３８とを有するマトリクスリブ３１を形成する第１ブラスト工程と、第２リブの先端部分３９を削って、段差マトリクスリブ３０を形成する第２ブラスト工程と、を備える。第２ブラスト工程中、リブ形成用基板の法線に対して傾斜した方向であって平面視において第１リブに沿う方向に沿って、ブラスト材を噴射する。第２ブラスト工程において、リブ上にブラストマスクが配置されたままになっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の第１リブおよび第１リブ間を延びる複数の第２リブを含むマトリクスリブを有するプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する方法およびブラスト加工装置に係り、とりわけ、第２リブが第１リブよりも低くなっている段差マトリクスリブを有するプラズマディスプレイパネル用背面板を容易に製造することができる製造方法およびブラスト加工装置に関する。
【０００２】
また、本発明は、プラズマディスプレイパネル用背面板、および、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられる積層体に関する。
【背景技術】
【０００３】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも呼ぶ）に用いられる背面板は、リブ形成用基板と、リブ形成用基板上に所定のパターンで配列されたリブと、リブ形成用基板およびリブの側面上に形成された蛍光体層と、を有している。一般的に、リブ形成用基板は、ガラス基板と、ガラス基板上に配列された電極（アドレス電極とも呼ばれる）と、電極を覆うようにしてガラス基板上に積層された誘電体層と、を含んでいる。
【０００４】
この背面板は、電極を有する前面板と重ね合わされて、ＰＤＰを構成するようになる。背面板と前面板との間の空間は、一旦排気された後にキセノン等の希ガスを充填され、放電空間として機能する。この放電空間でプラズマ放電を起こすと、紫外線が発生し、この紫外線が蛍光体に到達すると可視光が発生する。そして、放電空間での放電を制御することにより、ＰＤＰが表示装置として機能するようになる。
【０００５】
従来のＰＤＰ用背面板として、ストライプ状のリブを有した背面板や、複数の第１リブおよび第１リブと交差する複数の第２リブからなるマトリクス状のリブを有した背面板が、用いられてきた。このうち、マトリクスリブによれば、ストライプリブと比較して蛍光体を支持する面積を広げることが可能となる。このため、マトリクスリブを有する背面板は、輝度向上の観点において優れている。
【０００６】
一方、近年においては、第２リブが第１リブよりも低くなっている段差マトリクスリブを有した背面板が注目を集めている（例えば、特許文献１）。この段差マトリクスリブを有した背面板は、蛍光体の支持面積を増やせるだけでなく、前面板と重ね合わせた後の排気工程を容易に行うことができる、といった利点も有している。
【特許文献１】特許第３４４０９０７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、背面板の製造、前面板の製造および背面板と前面板との組み合わせ等を含むプラズマディスプレイパネルの全製造工程内において、所定の寸法精度内のリブを形成することは、最も困難な工程のうちの一つとなっている。しかも、段差マトリクスリブの作製は、ストライプリブや通常のマトリクスリブの作製と比較して、極めて複雑かつ困難となる。このため、ＰＤＰの製造において、段差マトリクスリブを如何に容易に形成するかが、極めて重要な技術的課題となっている。
【０００８】
特許文献１では、ドライフィルムレジスト（以下において、ＤＦＲとも呼ぶ）の積層、ＤＦＲの製版、製版されたＤＦＲをブラストマスクとして用いたブラスト加工、ブラストマスク（ＤＦＲ）の除去といった一連の作業を、二回繰り返すことにより、リブ形成用基板上に段差マトリクスリブを形成している。さらに詳細には、一回目のブラスト加工までの工程により、マトリクスリブを形成し、二回目のブラスト加工により、第２リブのみを削っている。すなわち、マトリクスリブを形成する場合と比較して略倍の手間が必要となり、この結果、ＰＤＰ用背面板の製造コストが高価となってしまう。フラットパネルディスプレイ全分野において低価格化が強く要望されている今日において、このことは極めて深刻な問題となる。
【０００９】
また、特許文献１によれば、一回目のブラスト加工によって形成されたマトリクスリブ上にＤＦＲを積層および製版することになるが、この際に、種々の不具合が生じ得る。例えば、ラミネート圧力によって、マトリクスリブが潰れてしまう。また、ラミネート圧力によって、ＤＦＲの厚みが、リブ上と、リブとリブとの間の空間上と、で相違してしまう。あるいは、ラミネート圧力が低すぎて、ＤＦＲが剥がれてしまう。このようにＤＦＲの二回目の積層を安定して行えないことから、ＤＦＲを精度よく製版して段差マトリクスリブを安定して精度良く形成することが困難となる。結果として、ＰＤＰ用背面板の歩留まりが低下して、さらにＰＤＰ用背面板の製造コストを上昇させてしまう。
【００１０】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、段差マトリクスリブを有するプラズマディスプレイパネル用背面板を容易に製造することができる製造方法およびブラスト加工装置を提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明は、容易に製造され得るプラズマディスプレイパネル用背面板を提供することを目的とする。
【００１２】
さらに、本発明は、ディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造を容易にすることを可能とする積層体に関する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明による第１のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法は、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工工程と、前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工工程と、前記第２ブラスト加工工程後に、前記段差マトリクスリブ上から前記ブラストマスクを除去する工程と、を備えることを特徴とする。
【００１４】
本発明による第１のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られてもよい。
【００１５】
本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法は、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工工程と、前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工工程と、を備え、前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られることを特徴とする。
【００１６】
本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法が、前記第１ブラスト加工工程後であって前記第２ブラスト加工工程前に、前記マトリクスリブ上から前記ブラストマスクを除去する工程を、さらに備えるようにしてもよい。
【００１７】
本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第２ブラスト加工工程において、前記ブラストマスクのうちの、前記第２リブの直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取るようにしてもよい。
【００１８】
また、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されるよう、前記リブ層が削られてもよい。
【００１９】
また、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記ブラストマスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１パターン部間を前記第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部の最小幅は、前記第１パターン部の最小幅よりも小さくなっていてもよい。
【００２０】
このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第２パターン部の幅は一定であり、前記第１パターン部の幅よりも小さくなっていてもよい。あるいは、このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分よりも前記両端部分の間の中間部分において、小さくなっていてもよい。あるいは、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分において前記両端部分の間の中間部分よりも、小さくなっていてもよい。
【００２１】
さらに、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第１ブラスト加工工程において、前記リブ層または前記リブ形成用基板上で跳ね返ったブラスト材による側方への削り込みによって、リブ層のうちの、前記第２リブの前記少なくとも一部分の直上方に位置する部分が削られるようにしてもよい。
【００２２】
さらに、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記ブラストマスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１パターン部間を前記第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有し、前記ブラストマスクの前記第２パターン部は、前記第１パターン部間で分断されているようにしてもよい。このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第１ブラスト加工工程において、前記第２パターン部の分断された領域に進むブラスト材による削り込みと、前記リブ層または前記リブ形成用基板上で跳ね返ったブラスト材による側方への削り込みと、によって、リブ層のうちの、前記第２リブの前記少なくとも一部分の直上方に位置する部分が削られるようにしてもよい。
【００２３】
さらに、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有し、前記第１ブラスト加工工程において、第１リブおよび第２リブは、それぞれ、前記第１リブ層からなる部分と、前記第２リブ層からなる部分と、前記第３リブ層からなる部分と、を含むように形成され、前記第２ブラスト加工工程において、前記第２リブの前記第３リブ層からなる部分が削られるようにしてもよい。
【００２４】
このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第３リブ層のブラスト加工性よりも高くなっていてもよい。また、このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下であるようにしてもよい。さらに、このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下であるようにしてもよい。
【００２５】
さらに、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第２ブラスト加工工程において、前記リブ形成用基板の板面の法線に対するブラスト材の噴射方向の傾斜角度は、４５°以上であるようにしてもよい。
【００２６】
本発明による第１のブラスト加工装置は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられるブラスト加工装置であって、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工と、前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記ブラストマスク下の前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工と、を実行するように構成されていることを特徴とする。
【００２７】
本発明による第１のブラスト加工装置において、前記第１ブラスト加工において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られてもよい。
【００２８】
本発明による第２のブラスト加工装置は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられるブラスト加工装置であって、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工と、前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工と、を実行するように構成されており、前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層を削ることを特徴とする。
【００２９】
本発明による第２のブラスト加工装置において、前記第２ブラスト加工工程は、前記マトリクスリブ上から前記ブラストマスクが除去された後に実行されるようにしてもよい。
【００３０】
本発明による第１または第２のブラスト加工装置において、前記第２ブラスト加工工程において、前記ブラストマスクのうちの、前記第２リブの直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取るようにしてもよい。
【００３１】
また、本発明による第１または第２のブラスト加工装置において、前記第１ブラスト加工において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されるよう、前記リブ層が削られてもよい。
【００３２】
また、本発明による第１または第２のブラスト加工装置において、前記第２ブラスト加工工程において、前記リブ形成用基板の板面の法線に対するブラスト材の噴射方向の傾斜角度は、４５°以上であるようにしてもよい。
【００３３】
本発明による第１のプラズマディスプレイパネル用背面板は、上述したいずれかの製造方法によって製造されることを特徴とする。
【００３４】
本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板は、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、を備え、前記リブ層は、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクス状にパターニングされており、前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層および第１リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有し、前記第１リブは、前記第１リブ層からなる部分と、前記第２リブ層からなる部分と、前記第３リブ層からなる部分と、を含み、前記第２リブは、少なくとも前記第１リブ層からなる部分と前記第２リブ層からなる部分とを含み、前記第２リブの前記背面板基板からの高さは前記第１リブの前記背面板基板からの高さよりも低いことを特徴とする。
【００３５】
本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下であるようにしてもよい。
【００３６】
また、本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板において、前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下であるようにしてもよい。
【００３７】
本発明による第１の積層体は、ブラスト加工を用いてプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を備え、前記ブラストマスクは、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１パターン部間を延びる複数の第２パターン部と、を有し、前記ブラストマスクの前記第２パターン部の最小幅は、前記第１パターン部の最小幅よりも小さくなっていてもよい。
【００３８】
本発明による第１の積層体において、前記第２パターン部の幅は一定であり、前記第１パターン部の幅よりも小さくなっていてもよい。あるいは、本発明による第１の積層体において、前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分よりも前記両端部分の間の中間部分において、小さくなっていてもよい。あるいは、本発明による第１の積層体において、前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分において前記両端部分の間の中間部分よりも、小さくなっていてもよい。
【００３９】
本発明による第２の積層体は、ブラスト加工を用いてプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を備え、前記ブラストマスクは、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１パターン部間を延びる複数の第２パターン部と、を有し、前記ブラストマスクの前記第２パターン部は、前記第１パターン部間で分断されていることを特徴とする。
【００４０】
本発明による第１または第２の積層体において、前記リブ層は、前記第１パターン部の直下に位置する複数の第１リブと、前記第２パターン部の直下に位置し、前記第１リブ間を延びる第２リブと、を含むマトリクス状にパターニングされており、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが、前記第１リブの厚みよりも低くなっているようにしてもよい。このような本発明による第１または第２の積層体において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されているようにしてもよい。
【００４１】
また、本発明による第１または第２の積層体において、前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有するようにしてもよい。
【００４２】
このような本発明による第１または第２の積層体において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第３リブ層のブラスト加工性よりも高くてもよい。また、このような本発明による第１または第２の積層体において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下であるようにしてもよい。さらに、本発明による第１または第２の積層体において、前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下であるようにしてもよい。
【発明の効果】
【００４３】
本発明によれば、ブラスト材の噴射方向を調節するといった極めて簡単な操作によって、第１リブと第２リブとからなるマトリクスリブのうちの第２リブを選択的に削っていくことができる。このため、段差マトリクスリブを有したプラズマディスプレイパネル用背面板を容易に製造することができる。これにともなって、段差マトリクスリブを有したプラズマディスプレイパネル用背面板の製造コストを大幅に低下させることができる。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比を、実物のそれと変更し誇張してある。
【００４５】
図１乃至図１５は本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法および製造装置の一実施の形態を説明するための図である。
【００４６】
＜ＰＤＰ用背面板＞
このうち図１および図２は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法および製造装置により製造され得るプラズマディスプレイパネル用背面板の一例を示す斜視図および断面図である。また、図３は、図１および図２に示されたプラズマディスプレイパネル用背面板のリブ形成用基板を説明するための図である。なお、図１は、プラズマディスプレイパネル用背面板の中央部における一部分を示す部分斜視図である。また、図２に示された断面は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面に対応している。まず、図１乃至図３を参照して、本実施の形態による製造方法および製造装置を用いて製造され得るプラズマディスプレイパネル用背面板（以下において、ＰＤＰ用背面板とも呼ぶ）について説明する。
【００４７】
図１および図２に示すように、ＰＤＰ用背面板１０は、リブを支持するようになる部材である板状のリブ形成用基板（背面板用基板）２０と、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上に形成された段差マトリクスリブ３０と、を有している。また、図２に示すように、ＰＤＰ用背面板１０は、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上および段差マトリクスリブ３０の側面上に形成された蛍光体層１８を、さらに有している。
【００４８】
まず、リブ形成用基板２０について説明する。リブ形成用基板２０は、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知なリブ形成用基板を用いることができる。
【００４９】
一例として、図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、リブ形成用基板２０は、板状の支持基板２２と、支持基板２２の一方の面上の所定の領域に形成された電極２４と、支持基板２２の一方の面上に積層された誘電体層２６と、を含んでいる。支持基板２２は、焼成工程における加熱を考慮して、耐熱性を有する材料、例えばガラスから構成される。図３（ａ）に示すように、電極２４は、いわゆるアドレス電極として機能するよう、支持基板２２の一方の面上にストライプ状の形態で配置され得る。このような電極２４は、種々の導電性材料、例えば銀から構成され得る。また、誘電体２６は、アドレス電極２４を覆うようにして、所定の誘電率を有する材料を支持基板２２の一方の面上に成膜することによって、形成され得る。
【００５０】
なお、図３に示されたリブ形成用基板２０は、以下のようにして製造され得る。まず、ガラス等からなる支持基板２２を準備し、この支持基板２２の一方の面上に感光性材料を含んだ導電性ペーストからなる層を形成する。このときの塗布装置としては、スクリーン印刷機や種々のコーター等の既知の装置を採用することができる。その後、フォトリソグラフィー技術を用いた露光および現像を行い、導電性ペースト層を所望のパターンにパターニングする。次に、焼成により銀ペーストを焼結することにより、支持基板２２上に電極２４が形成される（図３（ａ）参照）。
【００５１】
その後、所望の誘電率を有する材料を、電極２４を覆うようにして支持基板２２の一方の面上に塗工する。このとき、スクリーン印刷機や種々のコーター等の種々の既知な機器を用いて、支持基板２２上に成膜することができる。その後、焼成を行うことによって、所望の誘電率を有する材料から誘電体層２６が形成されるようになる。以上のようにして、図３（ｂ）に示されたリブ形成用基板２０が得られる。
【００５２】
次に、段差マトリクスリブ３０について説明する。段差マトリクスリブ３０は、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な構成を取り得る。段差マトリクスリブ３０は、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上、図示する例においては、誘電体層２６上に形成されている。図１に示すように、段差マトリクスリブ３０は、リブ形成用基板２０の板面上の第１方向に沿って延びる第１リブ３４と、第１方向と交差するリブ形成用基板２０の板面上の第２方向に沿って延びる第２リブ３８と、を有している。第１リブ３４は、第１方向に直交する方向に沿って略一定の間隔を空け、複数形成されている。第２リブ３８は、隣り合う二つの第１リブ３４間を第２方向に沿って延びている。第２リブ３８は、第２方向に直交する方向に沿って略一定の間隔を空けて複数形成されている。
【００５３】
本発明において必須ではないが、図示する例において、第１方向および第２方向は互いに直交している。なお、本願において、「交差」とは、直角に交わること（直交すること）、および、９０°以外の角度で互いに傾斜して交わること、の両方を含むものとする。
【００５４】
そして、図１および図２に示すように、第２リブ３８のリブ形成用基板２０からの高さ（より厳密には、リブ形成用基板２０の板面の法線に沿った第２リブ３８の基端部から頂部までの長さ）は、第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さよりも低くなっている。第１リブ３４の高さと第２リブ３８の高さの差は、上述したように、完成したＰＤＰ用背面板１０をＰＤＰ用前面板と組み合わせた後に、隣り合う二つの第１リブ３４間の全域を、第１方向における一方側または両側から排気することができる程度に設定され得る。また、第２リブ３８の高さは、蛍光体の支持面積を十分に増大させることを可能とし得るように、設定され得る。一例として、第２リブ３８の高さを、第１リブ３４の高さの１／５〜９５／１００程度に設定することができる。
【００５５】
また、第１リブ３４および第２リブ３８の具体的な形状や寸法については、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な構成を取り得る。例えば、第１リブ３４および第２リブ３８は、その長手方向に直交する断面において、略四角形形状または略台形形状とすることができる。また、第１リブ３４および第２リブ３８の焼成後における頂部（リブ形成用基板２０から離れる側の部分）の幅は、５μｍ〜１２０μｍとすることができる。さらに、第１リブ３４および第２リブ３８の配置ピッチは、５０μｍ〜２０００μｍとすることができる。さらに、第１リブ３４および第２リブ３８の焼成後における高さは、２０μｍ〜３００μｍとすることができる。
【００５６】
このような段差マトリクスリブ３０は、後述する製造方法に対応し、例えば、ガラスフリットと無機粉体とを含む混合物から構成される。
【００５７】
蛍光体層１８は、隣り合う二つの第１リブ３４および隣り合う二つの第２リブ３８によって囲まれたリブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上、第１リブ３４の側面上、および、第２リブ３８の側面上に支持されている。蛍光体層１８の構成は、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な構成を採用することができる。
【００５８】
＜ＰＤＰ用背面板の製造方法および製造装置＞
次に、主に図４乃至図１６を参照して、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法および製造装置（製造ライン）について説明する。
【００５９】
本実施の形態において、ＰＤＰ用背面板の製造方法は、リブ形成用基板２０上にリブ層（リブ形成材料層）４０を形成するリブ層形成工程（図４（ａ）参照）と、リブ層４０上にブラストマスク５０を形成するマスク形成工程（図４（ｂ）および（ｃ）参照）と、ブラストマスク５０側からリブ層４０へブラスト材７５を噴射してリブ層４０を削るブラスト加工工程（図４（ｄ）および（ｅ）参照）と、ブラスト加工工程後にブラストマスク５０を除去する工程と、を備えている。とりわけ本実施の形態においては、ブラスト加工工程が、互いに異なるブラスト加工条件で実施される第１ブラスト加工工程および第２ブラスト加工工程を含んでいる。また、ＰＤＰ用背面板の製造装置（製造ライン）７０は、製造方法に対応して、リブ形成用基板２０上にリブ層４０を形成するリブ層形成装置７１と、リブ層４０上にブラストマスク５０を形成するマスク形成装置と、リブ形成用基板２０上のリブ層４０へブラストマスク５０側からブラスト材７５を噴射するブラスト加工装置８０と、ブラストマスク５０を除去する除去装置と、を備えている。以下、各工程について、各工程で用いられる装置（手段）とともに説明していく。なお、図４においては、図１に示された部分に対応する部分が示されている。
【００６０】
（リブ層形成工程）
まず、リブ層形成工程について説明する。リブ層形成工程においては、まず、リブ形成用基板２０を準備し、次に、リブ形成用基板２０の誘電体層２６上に、第１リブ３４および第２リブ３８をなすようになるリブ層（リブ形成材料層）４０を形成する。
【００６１】
本実施の形態においては、リブ層形成工程は、リブ形成用基板２０上に第１リブ層４１を形成する工程と、第１リブ層４１上に、第１リブ層４１よりもブラスト加工性の低い第２リブ層４２を形成する工程と、第２リブ層４２上に、第２リブ層４２よりもブラスト加工性の高い第３リブ層４３を形成する工程と、を含んでいる。すなわち、図５に示すように、形成されたリブ層４０は、第１リブ層４１と、第２リブ層４２と、第３リブ層４３と、を含む三層構造となっている。
【００６２】
ここで、ブラスト加工性とは、同一のブラスト加工条件により比較対象となる層へブラスト材７５を噴射した場合における、切削量によって評価する。なお、評価に当たり、切削量の測定は、比較対象層間において同一の方法（例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面像の確認等）で行うこととする。そして、同一条件での切削量が多い場合に、ブラスト加工性が高い（良い）と評価し、同一条件での切削量が少ない場合に、ブラスト加工性が低い（悪い）と評価する。また、二つ以上の層間でブラスト加工性を対比する場合、同一条件での切削量（切削深さ）を用いて対比する。例えば、一方の層の切削深さが３０μｍで、同一ブラスト加工条件における他方の層の切削深さが１０μｍである場合、一方の層のブラスト加工性は他方の層のブラスト加工性の３倍である、と評価する。
【００６３】
本件発明者らは、鋭意研究を重ねることによって、第１リブ層４１のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下、さらに好ましくは、２倍以上２５倍以下であることが、好ましいことを知見した。すなわち、第２リブ層４２を１０μｍ削る間に、同一のブラスト加工条件により、第１リブ層４１が１５μｍ〜１０００μｍ、さらに好ましくは２０μｍ〜２５０μｍ削られるようになっていることが好ましい。また、第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下であることが好ましく、１．５倍以上１０倍以下であることがさらに好ましいことも、知見された。これらの点については、その理由を後に詳述する。
【００６４】
第１乃至第３のリブ層４１，４２，４３は、例えば、溶剤を含んだリブ層形成組成物４５を塗工し、リブ層形成組成物４５を乾燥させて溶剤を除去することにより、形成され得る。リブ層形成組成物４５の塗工方法および塗工装置としては、従来既知の種々の方法および装置を用いることができる。例えば、リブ層形成装置７１が、ダイコーター（図５参照）やスクリーン印刷機等を塗工装置７１ａとして含み、この塗工装置７１ａによって、第１乃至第３のリブ層４１，４２，４３をなすようになるリブ層形成組成物４５がリブ形成用基板２０上に塗工されていくようにしてもよい。このような方法によれば、リブ形成用基板２０上に、それぞれ均一な膜厚を有した第１乃至第３のリブ層４１，４２，４３を形成し、これにより、リブ形成用基板２０の板面上において均一な膜厚を有したリブ層４０を得ることができる。
【００６５】
リブ層形成組成物４５としては、ＰＤＰ用背面板１０のリブに用いられている種々の既知な組成物を、リブ層４０の形成方法（リブ層形成組成物４５の塗工方法）に応じて適宜選択することができる。一例として、リブ層形成組成物４５が、上述したガラスフリットおよび無機粉体と、樹脂成分と、溶剤と、を含むようにしてもよい。ガラスフリットは後述する焼成工程において、骨材として機能する無機粉体に融着して、第１リブ３４および第２リブ３８を形成するようになる。樹脂成分は、リブ層形成組成物４５中においてバインダーとして機能する。溶剤は、リブ層形成組成物４５の塗工方法に応じて省くことが可能である。また、リブ層形成組成物４５が、無機顔料等のさらに他の成分を含むようにしてもよい。
【００６６】
なお、例えば、樹脂成分の含有割合を調節することによって、リブ層形成組成物４５から形成される第１乃至第３リブ層４１，４２，４３のブラスト加工性を調整することができる。具体的には、樹脂成分の含有量を増加させることにより、当該リブ層形成組成物４５から形成されるリブ層のブラスト加工性を低くすることができ、樹脂成分の含有量を減少させることにより、当該リブ層形成組成物４５から形成されるリブ層のブラスト加工性を高くすることができる。ただし、これに限られず、別の方法を用いて、各リブ層４１，４２，４３のブラスト加工性を操作するようにしてもよい。
【００６７】
ところで、第１乃至第３リブ層４１，４２，４３の各厚みは種々設定することができる。ただし、後述するように第２リブ３８の高さを高精度に制御する観点から、第２リブ３８が、第３リブ層４３からなる部分を削り取られ、第１リブ層４１からなる部分と第２リブ層４２からなる部分とから構成されるようにすることが好ましい。この場合、第１リブ３４と第２リブ３８との高低差は、第３リブ層４３の厚さによって決定されるようになる。また、比較的にブラスト加工により切削しにくい第２リブ層４２の厚みが厚いと、ブラスト加工工程に要する時間が長くなってしまう。これらの点を考慮して、第１リブ層４１の乾燥後における厚さを１０μｍ〜２５０μｍ程度とし、第２リブ層４２の乾燥後における厚さを１μｍ〜３０μｍ程度とし、第３リブ層４３の乾燥後における厚さを５μｍ〜１５０μｍ程度としてもよい。
【００６８】
（マスク形成工程）
次に、ブラストマスク形成工程について説明する。ブラストマスク形成工程は、リブ形成用基板２０上に形成されたリブ層４０上に、所定のパターンを有したブラストマスク５０を形成する工程である。
【００６９】
具体的には、図４（ｂ）に示すように、まず、リブ形成用基板２０上に形成されたリブ層４０上に、耐ブラスト加工性を有したレジスト層５４を積層する。本実施の形態においては、ドライフィルム（ＤＦＲ）を、リブ形成用基板２０上に形成されたリブ層４０上に積層している。このような方法によれば、溶剤を含むレジスト形成組成物をリブ層４０上に塗工し、その後に、このレジスト形成組成物を乾燥させてレジスト層５４を形成することと比較して、極めて簡便かつ短時間でレジスト層５４を形成することができる。ただし、本発明は、レジスト形成組成物を塗工および乾燥してレジスト層５４を形成する方法を排除するものではない。また、レジスト層は、耐ブラスト加工性を有した種々の既知の材料から構成され得る。
【００７０】
次に、レジスト層５４を製版し、所定のパターンを有するブラストマスク５０を形成する。具体的には、フォトリソグラフィー技術を用いた露光および現像を行い、レジスト層５４を所望のパターンにパターニングする。
【００７１】
以上のようにして、リブ層４０上にブラストマスク５０を形成することができる（図４（ｃ）参照）。したがって、図示しないマスク形成装置は、ドライフィルムのラミネートに用いられるラミネータや、レジスト層５４のパターニングに用いられる露光装置および現像装置等を含むようになる。これらの装置類としては、従来既知の種々の装置を用いることができる。
【００７２】
ここで、本実施の形態において形成されるブラストマスク５０の形状について、主に図６を参照して、説明する。図６は、ブラストマスク形成後におけるブラストマスク５０、リブ層４０およびリブ形成用基板２０の積層体を示す部分平面図である。図６に示すように、得られたブラストマスク５０は、形成対象となる段差マトリクスリブ３０（マトリクスリブ３１）の平面視における形状に対応して、平面視においてマトリクス状に形成されている。すなわち、ブラストマスク５０は、第１リブ３４に対応するように配置された複数の第１パターン部５１と、第２リブ３８に対応するように配置され、隣り合う二つの第１パターン部５１間を延びる複数の第２パターン部５２と、を有するようになる。第１パターン部５１はリブ形成用基板２０上の第１方向と平行に延び、第２パターン部５２はリブ形成用基板２０上の第２方向と平行に延びている。
【００７３】
とりわけ、本実施の形態においては、図６に示すように、形成された第２パターン部５２の第１方向に沿った幅の最小値が、第１パターン部５１の第２方向に沿った幅の最大値よりも狭くなっている。なお、第１パターン部５１の幅ｗ１は、第１方向に沿った各位置において変化することなく、一定の値を取るようになっている。一方、第２パターン部５２の幅ｗ２は、第１パターン部５１に接続する両端部分５２ａよりも両端部分５２ａの間の中間部分５２ｂにおいて、狭くなっている。より厳密に説明すると、第２パターン部５２の第１方向に沿った幅ｗ２は、端部分５２ａのうちの第１パターン部５１への接続部から、それぞれ、一対の端部分５２ａの中間に位置する中間部分５２ｂの中間点へ近付くに連れて、漸次狭くなっていっている。
【００７４】
（第１ブラスト加工工程）
上述したように、第１ブラスト加工工程および第２ブラスト加工工程の二つのブラスト加工工程が、ブラスト加工条件を変化させて行われる。このうち、まず、先に実施される第１ブラスト加工工程について説明する。第１ブラスト加工工程は、ブラストマスク５０側からリブ層４０へブラスト材７５を噴射し、リブ層４０の一部を削り取ってリブ層４０をパターニングする工程である。この結果、図４（ｄ）に示すように、リブ層４０から、第１リブ３４と第２リブ３８とを有したマトリクスリブ３１が形成されるようになる。
【００７５】
まず、主に図７乃至図１０を参照して、第１ブラスト加工工程に用いられるブラスト加工装置８０について説明する。なお、ここで説明するブラスト加工装置８０は、後述する第２ブラスト加工工程においても用いられ得る。
【００７６】
図７および図８に示すように、ブラスト加工装置８０は、ブラスト材７５を噴射するノズル８５と、ノズル８５に連結された配管８１と、配管８１に連結された圧縮ガス源８２およびブラスト材供給源８３と、被加工体Ｗを保持する保持装置８８と、を有している。このブラスト加工装置８０においては、圧縮ガス源８２からガスを供給するとともにブラスト材供給源８３からブラスト材７５を供給するようになっている。供給されたブラスト材７５は圧縮ガスとともに、ノズル８５から噴射され、保持装置８８に保持された被加工体Ｗに衝突する。この結果、被加工体Ｗがブラスト材７５によって切削されていくようになっている。ここで被加工体Ｗは、リブ形成用基板２０とリブ層４０とブラストマスク５０との積層体であって、実際に切削されるのはリブ層４０である。
【００７７】
本実施の形態において、ブラスト加工装置８０は、第１乃至第３のノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃを有している。このうち、第１ノズル８５ａは第１ブラスト加工工程において用いられ、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃは、第２ブラスト加工工程において用いられる。これらの第１乃至第３のノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃは、それぞれ図示しない保持手段を介して別個に保持されている。保持手段は、各ノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃの被加工体Ｗに対する相対位置を独立して調節することができる。これにより、各ノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃの被加工体Ｗに対する高さ位置（リブ形成用基板２０の板面の法線に沿った位置）、被加工体Ｗに対する平面方向位置（リブ形成用基板２０の板面上における位置）、および、被加工体Ｗに対するブラスト材７５の噴射角度（リブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬと噴射方向とがなす角度θ）を別個に制御することができる。
【００７８】
なお、ブラストノズル８５の吐出口８６の形態は、特に限定されず、例えばスリット状、円状、楕円状および多角形状等の種々の既知な形態を採用することができる。このうち、被加工体Ｗを広範囲に渡って一度に加工することができ、これにより、均一かつ効率的な加工を実現することができることから、図９に示すように、ノズル８５がスリット状の開口８６を有していることが好ましい。この場合の吐出口８６の幅（吐出口８６の長手方向に直交する方向の開口幅）は、例えば５０μｍ〜１００００μｍの範囲内、好ましくは１００μｍ〜５０００μｍの範囲内とすることができる。また、図１０に示すように、略円形の吐出口８６を有する複数の吐出機構を並列配置してノズル８５を構成するようにしてもよい。このようなノズル８５によっても、被加工体Ｗを広範囲に渡って一度に加工することができ、これにより、均一かつ効率的な加工を実現することができる。
【００７９】
次に、このようなブラスト加工装置８０を用いて実行される第１ブラスト加工工程について説明する。
【００８０】
第１ブラスト加工工程では、第１ノズル８５ａからブラスト材７５を噴射して、リブ層４０を切削する。このとき、第１ノズル８５ａを保持する保持手段は、リブ形成用基板２０の板面の略法線ＮＬに沿ってブラスト材７５が噴射されるように、第１ノズル８５ａを保持装置８８に保持されたリブ形成用基板２０とリブ層４０とブラストマスク５０との積層体Ｗに対して位置決めする。なお、ブラスト材７５はノズル８５ａからある程度の幅を持って噴射されるようになるが、ここでは、ある程度の幅のうちの中心方向が、リブ形成用基板２０の板面の法線に概ね平行となるように、ノズル８５ａの位置を調整することを意味している。
【００８１】
第１ブラスト加工において用いられるブラスト材７５としては、特に限定されないが、例えばダイアモンド、アルミナ、炭化シリコン、炭酸カルシウム、ガラスビーズ、ステンレス等が挙げられる。また、ブラスト材７５の粒径は、特に限定されないが、例えば３μｍ〜２００μｍの範囲内、好ましくは７μｍ〜１００μｍの範囲内とすることができる。
【００８２】
また、第１ブラスト加工工程において、第１ノズル８５ａからブラスト材７５が噴射される際の噴射圧力や、ブラスト材７５の噴射量等のブラスト加工条件は、マトリクスリブをブラスト加工で作製する際における通常の設定値を採用することができる。さらに、第１ブラスト加工工程において、第１ノズル８５ａの吐出口８６と切削対象となるリブ層４０との離間距離も、マトリクスリブをブラスト加工で作製する際における通常の設定値を採用することができる。
【００８３】
そして、第１ブラスト加工工程においては、第１ノズル８５ａと、保持装置８８に保持された被加工体（積層体）Ｗと、の相対位置を、リブ形成用基板２０の板面上において変化させ、ブラスト材７５が被加工体Ｗの全域に噴射されるようになる。例えば、リブ形成用基板２０の板面の法線方向から観察した場合に、第１ノズル８５ａが図８の点線で示す経路に沿って、切削対象となるリブ層４０の直上方を移動するよう、第１ノズル８５ａおよびリブ形成用基板２０上のリブ層４０が相対移動する。以上のようにして、リブ形成用基板２０の板面の法線方向からブラスト材７５がリブ層４０の全領域に対して噴射されていく。
【００８４】
なお、本件で用いる「直上（直上方）」とは、リブ形成用基板２０の板面の法線に沿った上方（リブ形成用基板２０よりもブラストマスク５０（レジスト層５４）側）を意味し、「直下（直下方）」とは、リブ形成用基板２０の板面の法線に沿った下方（ブラストマスク５０（レジスト層５４）よりもリブ形成用基板２０側）を意味するものとする。
【００８５】
このようにしてリブ形成用基板２０の法線ＮＬの方向に沿って噴射されたブラスト材７５は、ブラストマスク５０、あるいは、リブ層４０のうちのブラストマスク５０によって覆われていない部分に衝突する。この結果、リブ層４０のうちのブラストマスク５０によって覆われていない部分は、ブラスト材７５によって削られていく。最終的には、ブラストマスク５０によって覆われていない領域においては、リブ層４０が除去され、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａが露出するようになる。これにより、リブ層４０は、ブラストマスク５０のパターンと略同一なマトリクス状へパターニングされる。
【００８６】
ところで、図１１に示すように、リブ形成用基板２０の法線方向に沿って移動（飛行）してきたブラスト材７５は、リブ層４０または露出したリブ形成用基板２０に衝突して、不規則な方向に跳ね返るようになる。ここで、図１１は、図６のＸＩ−ＸＩに沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面の第１ブラスト加工工程中の一状態を示している。跳ね返ったブラスト材７５ａ，７５ｂの一部は、リブ層４０のうちのブラストマスク５０の直下に位置する部分に衝突する。このとき、ブラスト材７５ａ，７５ｂが十分な移動速度を有していれば、リブ層４０のうちの、本来削られることのないブラストマスク５０に覆われた部分が削られていくことになる。すなわち、リブ層４０のうちのブラストマスク５０に覆われている部分も、リブ層４０または露出したリブ形成用基板２０に衝突して跳ね返ったブラスト材７５によって、側方から削り込まれることになる（以下において、この側方への削り込みをサイドエッチとも呼ぶ）。
【００８７】
とりわけ、本実施の形態においては、上述したように、リブ層４０の表面層をなす第３リブ層４３の下方には、ブラスト加工性の低い、すなわち、ブラスト加工によって削られにくい第２リブ層４２が配置されている。このようなリブ層４０をブラスト加工した場合、図１１に示すように、まず、ブラストマスク５０に覆われていない第３リブ層４３が削られ、第２リブ層４２が露出することになる。しかしながら、第２リブ層４２はブラスト加工によって切削しにくい層であることから、第２リブ層４２の切削にしばらく時間がかかる。この間、第２リブ層４２に入射して反射したブラスト材７５ａ，７５ｂは、図１１に示すように、第２リブ層４２よりも上方に配置され、第２リブ層４２よりも削り取られやすい第３リブ層４３を側方から削り込むようになる。すなわち、第３リブ層４３の下方に第３リブ層４３よりもブラスト加工性の低い第２リブ層４２を設けておくことにより、第３リブ層４３のうちのブラストマスク５０の直下に位置する部分における側方削り込み（サイドエッチ）が促進されるようになる。
【００８８】
そして、本実施の形態においては、この側方削り込みを利用して、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚みよりも低くなるまで、リブ形成用基板２０の板面の法線に沿ったブラスト材７５の噴射を継続して、リブ層４０のうちの形成される第２リブ３８の直上方に位置する部分を削る。この結果、本実施の形態においては、図１２に示すように、第１ブラスト加工工程後、第２リブ３８の少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置するブラストマスク５０と、の間に隙間５５が形成されるようになる。
【００８９】
上述したように、リブ層４０上に形成されたブラストマスク５０の第２パターン部５２の最小幅は第１パターン部５１の最小幅よりも小さくなっている。したがって、このブラストマスク５０のパターンに起因して、その他の特別な操作を要することなく、第２パターン部５２の幅ｗ２が最小となる部分の直下におけるリブ層４０を削り、ブラストマスク５０の当該部分と第２リブ３８との間に隙間５５を形成することができる。とりわけ、本実施の形態においては、図６に示すように、第２パターン部５２の幅ｗ２は、両端部分５２ａのうちの第１パターン部５１に接続する接続部から、両端部分５２ａの中間に位置する中間部分５２ｂの中間点に向けて漸次小さくなっていっている。これにより、第２パターン部５２の中間部分５２ｂの直下におけるリブ層４０（第３リブ層４３）を削り、第２リブ３８のうちの第２パターン部５２の中間部分５２ｂに対面する部分における高さをリブ層４０の厚みよりも小さくすることができる。
【００９０】
なお、ブラストマスク５０のその他の部分に覆われているリブ層４０もサイドエッチによって削られる。しかしながら、第２パターン部５２の中間部分５２ｂの幅が、第２パターン部５２のその他の部分の幅および第１パターン部５１の幅よりも小さくなっている。したがって、ブラストマスク５０の直下に位置するリブ層４０を貫通する隙間５５は、まず、第２パターン部５２の中間部分５２ｂの直下方において形成される。そして、本実施の形態においては、この状態で、第１ブラスト加工工程は終了する。すなわち、第１リブ３４の厚さがリブ層４０の厚さのままであり、その一方で、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚さよりも低くなっている状態で、第１ブラスト加工工程が終了する。
【００９１】
（第２ブラスト加工工程）
次に、第１ブラスト加工工程後に実行される第２ブラスト加工工程について説明する。なお、第２ブラスト加工工程は、第１ブラスト加工工程で形成されたマトリクスリブ３１上からブラストマスク５０を除去する前に実行される。
【００９２】
第２ブラスト加工工程は、上述したブラスト加工装置８０を用い、マトリクスリブ３１にブラスト材７５を噴射し、第２リブ３８のうちのリブ形成用基板２０から離間する側に位置する先端部分３９を削る工程である。この結果、図４（ｅ）に示すように、第２リブ３８のリブ形成用基板２０からの高さが第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブ３０が形成されるようになる。
【００９３】
第２ブラスト加工工程では、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃからブラスト材７５を噴射して、リブ形成用基板２０上のマトリクスリブ３１を切削する。このとき、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃをそれぞれ保持する保持手段は、所定の方向に沿ってブラスト材７５が噴射されるように、保持装置８８に保持されたリブ形成用基板２０とマトリクスリブ３１とブラストマスク５０との積層体Ｗに対し、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃを位置決めする。ここでいう所定の方向とは、図７に示すように、リブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬに対して傾斜した方向であり、かつ、図８に示すように、リブ形成用基板２０の平面視において（リブ形成用基板２０の板面の法線方向から観察した場合において）第１方向に沿った方向である。なお、ブラスト材７５はノズル８５ｂ，８５ｃからある程度の幅を持って噴射されるようになるが、ここでは、ある程度の幅のうちの中心方向が所定の方向に概ね平行となるように、ノズル８５ｂ，８５ｃの位置を調整することを意味している。
【００９４】
第２ブラスト加工において用いられるブラスト材７５は、特に限定されず、例えば第１ブラスト加工において用いられ得るブラスト材をそのまま用いることができる。
【００９５】
また、第２ブラスト加工工程において、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃからブラスト材７５が噴射される際の噴射圧力や、ブラスト材７５の噴射量等のブラスト加工条件は、ＰＤＰ用背面板の製造時に用いられ得る一般的な条件に設定され得る。具体例として、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃからブラスト材７５が噴射される際の噴射圧力を、例えば０．０１ｋｇｆ／ｃｍ2〜３．０ｋｇｆ／ｃｍ2の範囲内、好ましくは０．１ｋｇｆ／ｃｍ2〜１．０ｋｇｆ／ｃｍ2の範囲内に設定することができる。また、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃからブラスト材７５が噴射される際のブラスト材７５の噴射量を、例えば１００ｇ／ｍｉｎ〜１００００ｇ／ｍｉｎの範囲内、好ましくは２５０ｇ／ｍｉｎ〜５０００ｇ／ｍｉｎの範囲内に設定することができる。
【００９６】
さらに、第２ブラスト加工工程において、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃの吐出口８６と切削対象となるリブ層４０との離間距離も、ＰＤＰ用背面板２０の製造時に用いられ得る一般的な条件に設定され得る。第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃの吐出口８６と切削対象となるリブ層４０との離間距離を、例えば１ｍｍ〜３００ｍｍの範囲内、好ましくは３ｍｍ〜１００ｍｍに設定することができる。
【００９７】
また、図７および図８に示すように、リブ形成用基板２０の平面視において、第２ノズル８５ｂの噴射方向と、第３ノズル８５ｃの噴射方向と、は第１方向に沿って互いに逆向きとなっている。これにより、被加工体（積層体）Ｗは、互いに逆向きからブラスト材７５を噴射されるようになる。この結果、被加工体（積層体）Ｗを均一に処理することができる。また、本実施の形態においては、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃは、時間をずらしてブラスト材７５を噴射するようになっている。一方のノズルから噴射されたブラスト材７５の進路方向が、他方のノズルからのブラスト材７５の噴射によって、影響を受けないようにするためである。
【００９８】
そして、第２ブラスト加工工程においては、第２ノズル８５ｂと、第３ノズル８５ｃと保持装置８８に保持された被加工体（積層体）Ｗとの相対位置を、リブ形成用基板２０の板面上において変更させながら、マトリクスリブ３１の全領域へ均一にブラスト加工を施していくようになっている。第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃと保持装置８８に保持された被加工体Ｗとの相対移動は、種々の既知な方法によって実施され得る。すなわち、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃと被加工体Ｗとの少なくとも一方を、第１方向および第２方向の少なくとも一方に沿って移動させることによって、実現され得る。
【００９９】
具体例としては、図１３に示すように、図示しない保持手段によってノズル８５ｂ，８５ｃを高速で第１方向に往復移動させながら、保持装置８８によって被加工体Ｗを低速で第２方向に移動させるようにして、被加工体Ｗの全領域にブラスト加工を施すことができる。この方法において、ノズル８５ｂ，８５ｃが１往復する間に被加工体Ｗが送られる量を、被加工体Ｗの移動方向に沿ったノズル８５ｂ，８５ｃの噴射幅より十分小さくしておけば、被加工体Ｗの同一箇所にブラスト材７５が複数回噴射され、加工量のばらつきが生じてしまうことを効果的に防止することができる。
【０１００】
以上のようにして第２および第３のノズル８５ｂ，８５ｃからブラスト材７５が噴射され、マトリクスリブ３１がブラスト加工されていく。この第２ブラスト工程中、ブラストマスク５０は、マトリクスリブ３１上から除去されておらず、マトリクスリブ３１上に残ったままとなっている。したがって、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃから噴射されたブラスト材７５は、第１リブ３４の上面へ衝突することはない。これにより、リブ形成用基板２０からの高さが低くなるように第１リブ３４が上面側から効果的に削られていくことはない。
【０１０１】
また、ブラスト材７５は、リブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬに対して傾斜した方向であってリブ形成用基板２０の板面の法線方向から観察した場合に第１方向に沿う方向に沿って噴射される。したがって、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃから噴射されたブラスト材７５が第１リブ３４の側面に衝突したとしても、その衝突角度（ブラスト材７５の進行方向と第１リブ３４の側面が延びる方向（概ね第１方向）とによってなされる角度）は非常に小さくなる。同一密度のブラスト材７５が飛行している気流中に第１リブ３４が配置されている場合、第１リブ３４の側面が延びる方向とブラスト材７５とがなす角度によって、第１リブ３４の側面に衝突するブラスト材の数が大きく変化する。本件発明者が鋭意研究を重ねたところ、その板面が気流に対して５°だけ傾斜するようにして気流中に立てられた板に衝突するブラスト材の数は、その板面が気流に直交するようにして立てられた板に衝突するブラスト材の数の１／１０以下となることが知見された。したがって、第２ブラスト加工工程において、リブ形成用基板２０からの高さが低くなる程度で、第１リブ３４が側面側から効果的に削られていくことはない。
【０１０２】
さらに、噴射されたブラスト材７５が第１リブ３４の側面に衝突したとしても、ブラスト材７５の速度成分のうちの、第１リブ３４の側面の法線に沿った方向の成分は非常に小さくなる。これにともなって、ブラスト材７５が第１リブ３４に対して与える衝突エネルギーも非常に小さくなる。しかも、第１ブラスト加工工程後における第１リブ３４の側面は概ね平坦となっている。したがって、この第１リブ３４の側面に向かって浅い角度で向かってくるブラスト材７５にはいわゆる水面効果が働く。この結果、ブラスト材７５の速度成分のうちの、第１リブ３４の側面の法線に沿った方向の成分はさらに小さくなる。ここで水面効果とは、飛行する物体が水面（地面）の近傍を通過する際に、この物体に対して大きな揚力が生じる現象をいう。水面効果の具体例としては、例えば、海面の極近傍を飛行する飛行機に大きな揚力が生じる現象等を挙げることができる。
【０１０３】
以上のように、リブ形成用基板２０の平面視においてブラスト材７５が第１方向に沿う方向に沿って噴射されることから、ブラスト材７５が第１リブ３４の側面に対してブラスト加工を有効に行える角度で衝突せず、これにより、第１リブ３４の側面も大きく削られていくことはない。すなわち、第２ブラスト加工工程において、リブ形成用基板２０からの高さが低くなるように第１リブ３４が側面側から効果的に削られていくことはない。
【０１０４】
一方、第２リブ３８についても、ブラストマスク５０が残っているため、上面から有効に削られていくことはない。しかしながら、図１４に示すように、第２リブ３８の少なくとも先端部分３９における側面は、法線方向から傾斜した方向に噴射されるブラスト材７５の直線進路上に位置するようになる。ここで、図１４は、図１１と同様の断面（図６のＸＩ−ＸＩ線に沿った断面）、すなわち、第１方向に沿った断面の、第２ブラスト加工工程中の一状態を示している。したがって、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃから噴射されたブラスト材７５は第２リブ３８の先端部分３９における側面へ直撃し、第２リブ３８の先端部分３９における側面は、側方から削り込まれていく。この結果、ブラストマスク５０が上方に残っているにもかかわらず、第２リブ３８の先端部分３９がブラスト材７５によって削られていく。
【０１０５】
このようにして所定の方向に沿って噴射されたブラスト材７５は、マトリクスリブ３１のうちの第２リブ３８の先端部分３９を選択的に削っていくようになる。これにより、図１５に示すように、第２リブ３８のリブ形成用基板２０からの高さを第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さよりも低くすることができる。このようにして、複数の第１リブ３４と、隣り合う二つの第１リブ３４間を延び、第１リブ３４よりも高さが低い第２リブ３８と、からなる段差マトリクスリブ３０がリブ形成用基板２０上に得られる（図４（ｅ）および図１５参照）。
【０１０６】
なお、ブラスト材７５の噴射方向のリブ形成用基板２０の法線ＮＬに対する傾斜角度θ（図７参照）、より厳密には、リブ形成用基板２０の板面の法線方向および第１方向の両方に沿った断面において、ブラスト材７５の噴射方向とリブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬとがなす角度θは、特に限定されるものではない。ただし、第２リブ３８の先端部分３９を側方から効果的に切削していくことを考慮すると、この傾斜角度θは４５°以上であることが好ましい。傾斜角度θがこの範囲内に設定されている場合、ブラスト材７５の速度成分のうちの、第２リブ３８の先端部分３９の切削に寄与し得る成分、すなわち、第２リブ３８の側面の法線に沿った方向の成分が、第２リブ３８の先端部分の切削に直接的に寄与しない成分よりも多く含まれるようになる。さらに、本件発明者は、鋭意研究を重ねたところ、傾斜角度θが８０°以上９０°以下であることがより好ましく、傾斜角度θが８２°以上８９．５°以下であることがさらにより好ましいことを知見した。この場合、極めて効率率的に第２リブ３８の先端部分３９を切削することができ、これにより、第２ブラスト加工工程に要する時間を大幅に短縮することができる。
【０１０７】
なお、ブラスト材７５の噴射方向のリブ形成用基板２０の法線ＮＬに対する傾斜角度θは９０°であってもよい。傾斜角度θが９０°の場合、すなわち、ブラスト材７５の噴射方向が実質的にリブ形成用基板２０の板面と平行になっている場合であっても、気流や重力等の影響により、第２リブ３８を切削することができる。
【０１０８】
ところで、本実施の形態においては、第１ブラスト加工工程において、マトリクスリブ３１のうちの第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚みよりも小さくなるよう、リブ層４０のうちの第２リブ３８の直上方に位置する部分が削られている。したがって、第２ブラスト加工工程において必要となる切削量を低減することができ、第２ブラスト加工工程を短時間で行うことができる。
【０１０９】
とりわけ、第１ブラスト加工工程において、第２リブ３８の少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置するブラストマスク５０と、の間に隙間５５が形成されるよう、リブ層４０が削られている。つまり、第２リブ３８の少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置するブラストマスク５０と、の間に位置していたリブ層４０の部分が削られている。この場合、第２ブラスト加工工程における切削に要する時間を、さらに大幅に短縮することができるようになる。このような現象が生じるメカニズムは正確には不明であるが、以下のことが一要因となっているものと推測される。まず第１に、第２リブ３８を側方および上方の両方から削ることができ、これにより、第２ブラスト加工工程における第２リブ３８の切削を短時間で行うことが可能となる。つまり、第２リブ３８の隙間に対面する部分（面）が起点となって、第２リブ３８の切削を促進させることが可能となる。また、第２に、噴射されたブラスト材７５および圧縮ガスが、第２リブ３８およびブラストマスク５０の近傍に停滞することなく、第２リブ３８とブラストマスク５０との間の隙間５５を抜けていくことができる。これにより、ブラスト材７５を第２リブ３８に安定して衝突させ、第２ブラスト加工工程における第２リブ３８の切削を短時間で行うことが可能となる。なお、本件発明は以上の推定メカニズムに限定されるものではない。
【０１１０】
また、本実施の形態によれば、上述したように、リブ層４０の表面層をなす第３リブ層４３の下方には、ブラスト加工性の低い、すなわち、ブラスト加工によって削られにくい第２リブ層４２が配置されている。そして、ブラスト加工性の相違に起因して、第２ブラスト加工工程においては、図１４に示すように、第２リブ３８の先端部分３９のうちの第３リブ層４３からなる部分が優先的に削られていく。この結果、第３リブ層４３からなる部分を削り取り第２リブ３８の上面を第２リブ層４２からなる部分によって形成することが可能となる。すなわち、所望の形状を有する第２リブ３８を極めて容易に形成することができる。とりわけ、第２リブ３８の高さを一定にすることが可能になるとともに、第２リブ３８の上面を略平坦な面とすることが可能となる。
【０１１１】
なお、本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、上述したように、第３リブ層４３のブラスト加工性は、第２リブ層４２のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下に設定されていることが好ましく、１．５倍以上１０倍以下に設定されていることがさらに好ましい。第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に比較して高過ぎると、つまり、第２リブ層４２と比較して第３リブ層４３が削られやす過ぎると、ブラスト加工工程中における側方削り込み（サイドエッチ）が促進され過ぎ、得られた第１リブ３４の第３リブ層４３からなる部分が第２リブ層４２からなる部分と比較して大きく削り込まれる。これにより、図１６に示すように、第１リブ３４の外輪郭に凹凸が形成され、可視光を発する蛍光体層１８を支持する面として不都合が生じる。
【０１１２】
一方、第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に対して低過ぎると、つまり、第３リブ層４３が削られにく過ぎると、第２ブラスト加工工程において、第３リブ層４３からなる部分を優先的に切削することが困難となり、第２リブ層４２の一部または全部が削れてしまうことになる。この結果、第２ブラスト加工工程後における第２リブ３８の形状、とりわけ、第２リブ３８の高さおよび第２リブ３８の上面の平坦性を安定させることができない。
【０１１３】
また、第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に対して低過ぎると、つまり、第３リブ層４３が削られにく過ぎると、第１ブラスト加工工程において、リブ層４０のうちのマトリクスリブ３１以外の部分を切削する際に、第３リブ層４３を削り取るのに長時間を要するようになる。同様に、第２ブラスト加工工程において、第２リブ３８のうちの第３リブ層４３からなる部分を削り取るのに長時間を要するようになる。すなわち、生産性を悪化させてしまう。
【０１１４】
さらに、本件発明者らがブラスト加工性について鋭意研究を重ねたところ、上述したように、第１リブ層４１のブラスト加工性は第２リブ層４２のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下に設定されていることが好ましく、２倍以上２５倍以下に設定されていることがさらに好ましい。結果として、第１リブ層４１のブラスト加工性は、第３リブ層４３のブラスト加工性よりも高いことが好ましいことになる。
【０１１５】
第１リブ層４１のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に比較して高過ぎると、つまり、第２リブ層４２と比較して第１リブ層４１が削られやす過ぎると、ブラスト加工工程中における側方削り込み（サイドエッチ）が促進され過ぎ、得られた第１リブ３４および第２リブ３８の第１リブ層４１からなる部分が第２リブ層４２からなる部分と比較して大きく削り込まれる。これにより、第１リブ３４の外輪郭（図１６参照）および第２リブ３８の外輪郭に凹凸が形成され、可視光を発する蛍光体層１８を支持する面として不都合が生じる。
【０１１６】
一方、第１リブ層４１のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に対して低過ぎると、つまり、第１リブ層４１が削られにく過ぎると、第１ブラスト加工工程において、リブ層４０のうちのマトリクスリブ３１以外の部分を切削する際に、第１リブ層４１を削り取るのに長時間を要するようになる。すなわち、生産性を悪化させてしまう。
【０１１７】
（その他の工程）
以上のようにしてリブ形成用基板２０上に段差マトリクスリブ３０が形成された後、段差マトリクス３０上からブラストマスク５０が除去される。ブラストマスク５０の除去方法としては、ＰＤＰ用背面板の製造において用いられ得る種々の既知の方法を採用することができる。例えば、苛性ソーダを用いてブラストマスク５０を除去することができる。この場合のブラストマスク除去装置は、苛性ソーダを噴射する噴射機構あるいは苛性ソーダを貯留する苛性ソーダ貯留槽を含むようになる。このようにして、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上に段差マトリクスリブ３０が露出するようになる（図１参照）。
【０１１８】
次に、リブ形成用基板２０上の段差マトリクスリブ３０を焼成する。上述したように、本実施の形態によれば、段差マトリクスリブ３０を精度良く安定して作製することができる。したがって、焼成によって段差マトリクスリブ３０が変形し、結果として、前面板との組み合わせ時に不具合を来してしまうことを効果的に防止することができる。
【０１１９】
最後に、段差マトリクスリブ３０の側面およびリブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上に蛍光体層１８を形成する。蛍光体層１８の形成方法は、ＰＤＰ用背面板の製造において用いられ得る種々の既知の方法、例えばスクリーン印刷による成膜方法を採用することができる。
【０１２０】
以上のようにして、図２に示されたプラズマディスプレイパネル用背面板１０が得られる。
【０１２１】
＜本実施の形態の作用効果の概要＞
以上のような本実施の形態によれば、第1ブラスト加工として、ブラストマスク５０越しにリブ層４０へ向けてブラスト材７５を噴射することにより、リブ層４０をパターニングしてマトリクスリブ３１を形成している。その後、第２ブラスト加工として、リブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬに対して傾斜した方向であって、リブ形成用基板２０の板面の法線方向から観察した場合に第１方向と平行な方向に沿って、マトリクスリブ３１にブラスト材７５を噴射する。この第２ブラスト加工中、ブラストマスク５０は、マトリクスリ３１上から除去されておらず、マトリクスリブ３１上に残ったままとなっている。したがって、ブラスト材７５が第１リブ３４の上面へ衝突することはなく、これにより、リブ形成用基板２０からの高さが低くなるように第１リブ３４が効果的に削られていくことはない。また、ブラスト材７５の噴射方向は、平面視において、第１リブ３４の延在方向（第１方向）と一致している。したがって、ブラスト材７５が第１リブ３４の側面に対して、ブラスト加工を有効に行える角度で衝突することはなく、これにより、第１リブ３４の側面が大きく削られていくことはない。すなわち、第２ブラスト加工中、第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さをそのままに維持することが可能である。
【０１２２】
一方、第２リブ３８についても、第２ブラスト加工中、ブラストマスク５０が残っているため、上面から有効に削られていくことはない。しかしながら、第２リブ３８の少なくとも先端部分３９における側面は、法線方向から傾斜した方向に噴射されるブラスト材７５の噴射軌道上に位置するようになる。このため、噴射されたブラスト材７５は第２リブ３８の先端部分３９における側面へ直撃し、第２リブ３８の先端部分３９における側面は、側方から削り込まれていく。この結果、ブラストマスク５０が上方に残っているにもかかわらず、第２リブ３８の先端部分３９がブラスト材７５によって削られていく。
【０１２３】
このように、第１ブラスト加工によって形成されたマトリクスリブ３１上に新たなブラストマスクを再度形成し直すことなく、ブラスト材７５の噴射方向を変更するといった極めて簡単な操作のみによって、第１リブ３４と第２リブ３８とからなるマトリクスリブ３１のうち、第２リブ３８を選択的に削っていくことができる。これにより、第２リブ３８のリブ形成用基板２０からの高さを第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さよりも低くすることができる。このようにして、複数の第１リブ３４と、隣り合う二つの第１リブ３４間を延び、第１リブ３４よりも高さが低い第２リブ３８と、からなる段差マトリクスリブ３０を有したプラズマディスプレイパネル用背面板１０を容易に製造することができる。とりわけ、ブラストマスク５０を一回のみ形成すればよいので、プラズマディスプレイパネル用背面板１０を安価かつ短時間で製造することができる。
【０１２４】
また、本実施の形態においては、第１ブラスト加工中、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚みよりも小さくなるよう、リブ層が削られる。したがって、第２ブラスト加工中において必要となる第２リブ３８の切削量を低減することができ、第２ブラスト加工を短時間で行うことができる。すなわち、第１ブラスト加工と比較して、噴射方向やブラスト材７５の噴射量等のブラスト条件について微調整が必要となる傾向のある第２ブラスト加工を、短時間で行うことができる。これにより、プラズマディスプレイパネル用背面板１０をより安価かつより短時間で安定して製造することができる。
【０１２５】
また、本実施の形態によれば、第１ブラスト加工により、第１リブ３４および第２リブ３８は、それぞれ、第１リブ層４１からなる部分と、第２リブ層４２からなる部分と、第３リブ層４２からなる部分と、を含むように形成される。ここで、第３リブ層４３は第２リブ層４２よりもブラスト加工によって削られやすくなっている。このブラスト加工性の相違を利用して、第２ブラスト加工において、第２リブ３８のうちの、第２リブ層４２からなる部分を残しながら、第３リブ層４３からなる部分を主に削り取っていくことができる。この結果、第３リブ層４３からなる部分を削り取り第２リブ３８の上面を第２リブ層４２からなる部分によって形成することが可能となる。すなわち、一定の形状を有する第２リブ３８を極めて容易に形成することができる。とりわけ、第２リブ３８の高さを一定にすることが可能になるとともに、第２リブ３８の上面を略平坦な面とすることも可能となる。
【０１２６】
＜変形例＞
上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。以下、変形例の一例について説明する。
【０１２７】
上述した実施の形態において、リブ層４０が第１乃至第３リブ層４１，４２，４３の三層を含んでいる例を示したが、これに限られず、リブ層４０の層構成を適宜変更することができる。例えば、リブ層４０が単一層から形成されているようにしてもよい。このような場合であっても、第１ブラスト加工中に、リブ層４０またはリブ形成用基板２０上で跳ね返ったブラスト材７５によって、リブ層４０を側方から削り込むことを期待することができる。また、第２ブラスト加工における、ブラスト材７５の噴射方向を調節することにより、第２リブ３８の所望の範囲にのみへブラスト材７５が直撃するようにして、所定の寸法を有した第２リブ３８を形成することも可能となる。
【０１２８】
また、上述した実施の形態において、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅ｗ２が、両端部分５２ａのうちの第１パターン部５１に接続する接続部から、一対の両端部分５２ａの中間に位置する中間部分５２ｂの中間点に向け、漸次狭くなっていく例を示したが、これに限られない。例えば、図１７に示すようにして、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅ｗ２が、第１パターン部５１に接続する両端部分５２ａよりも一対の両端部分５２ａ間に位置する中間部分５２ｂにおいて小さくなっているようにしてもよい。図１７に示すようなブラストマスク５０においても、第２パターン部５２の最小幅が第１パターン部５１の最小幅よりも小さくなっていれば、その他の特別な操作を要することなく、第２パターン部５２の幅が最小となる部分の直下におけるリブ層４０を側方から削り込むことを促進することができる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１の第２リブ３８の少なくとも一部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くし、かつ、マトリクスリブ３１のその他の部分の高さよりも低くすることが可能となる。
【０１２９】
また、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅ｗ２が、第１パターン部５１に接続する両端部分５２ａにおいて、一対の両端部分５２ａ間に位置する中間部分５２ｂよりも小さくなっているようにしてもよい。例えば、図１８に示す例において、第２パターン部５２の両端部分５２ａにおける幅は、第１パターン部５１に接続する接続部を除いて一定であり、第２パターン部５２の最小幅をなしている。
【０１３０】
一般的に、リブ層４０のうちの、第１リブ３４および第２リブ３８の交点に隣接する領域およびその近傍の領域は比較的に削り取られにくくなる傾向がある。そして、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しが多く存在すると、焼成工程後の焼成収縮にともなって段差マトリクスリブ３０が大きく変形しやすくなる。より具体的には、当該領域における削り残り部分が、上方へ（リブ形成用基板２０から離間する方向へ）突出してしまうことがある。そしてこの場合、作製されたＰＤＰ用背面板１０を前面板と組み合わせた際に、背面板１０と前面板との間にがたつきが生じ、ＰＤＰとしての使用中、とりわけ放電時に異音が発生してしまうという不具合を来すことすらある。したがって、焼成収縮にともなう段差マトリクスリブ３０の変形を抑制する上で、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制することが極めて重要となる。
【０１３１】
図１８に示す例においては、リブ層４０のうちの第１リブ３４の近隣部分における側方削り込みを促進させ、図１９に示すように、第１ブラスト加工工程によって、ブラストマスク５０直下の隙間５５を、リブ層４０の第１リブ３４へ隣接する部分および／または第１リブ３４近傍の部分に形成することが可能となる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１において、第２リブ３８のうちの、第１リブ３４に隣接する部分および／または第１リブ３４近傍の部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くすることができる。この場合、第２ブラスト加工工程を短時間化させることが可能になるだけでなく、第１リブ３４の第２リブ３８近傍における頂部幅が広くなり過ぎてしまうことを防止し、第１リブ３４のその長手方向（つまり、第１方向）に沿った頂部幅のバラツキを大幅に抑制することが可能となる。同時に、第２リブ３８のその長手方向（つまり、第２方向）に沿った頂部幅のバラツキおよび高さのバラツキを大幅に抑制することも可能となる。このようにして、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制し、ＰＤＰ用背面１０を精度良く安定して製造することが可能となる。
【０１３２】
なお、図１９は、図１２に対応する図であって、第２方向に沿った断面において第１ブラスト加工後の状態を示す図である。
【０１３３】
ところで、図１８に示す例において、第２パターン部５２の各端部分５２ａにおける幅は、第１パターン部５１に接続する接続位置において、当該部分５２ａ内のその他の位置の幅よりも太くなっている。これは、ブラスト加工中に、ブラストマスク５０の第２パターン部５２が第１パターン部５１から引きちぎられてしまうことの防止を主目的としている。ただし、この構成は必須ではなく、それどことろか、以下において説明するように、第２パターン部５２が第１パターン部５１から引きちぎられることを促進した方が好ましいこともある。したがって、第２パターン部５２の両端部分５２ａにおける幅は、全域において一定となっていてもよい。
【０１３４】
なお、図１９に実線で示す状態よりもさらに切削が進んだ状態で第１ブラスト加工を終了させるようにしてもよい。この場合、図１９に実線で示す状態から、第２リブ３８の隙間５５に対面する部分（面）が起点となって、第２リブ３８の切削が促進される。このとき、より側方削り込みされやすい部分側へ向けて、切削が進行する。図示する例においては、第２リブ３８のうちの中間部分５２ｂ下方の部分側へ向けて、切削を進行させることが可能となる。この結果、図１９に二点鎖線で示すように、略全域において第２リブ３８の高さを低くすることができるようになる。図１９に二点鎖線で示すような場合には、第２リブ３８のその長手方向に沿った頂部幅のバラツキおよび高さのバラツキを極めて効果的に抑制することができる。
【０１３５】
さらに、図２０に示すように、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅が、第２方向に沿った少なくとも一部分において、第２パターン部５２の第２方向に沿った中心位置５２ｅから第１パターン部５１への接続位置５２ｄに向けて小さくなっていくようにしてもよい。ここでいう「細くなっていく」とは、当該一部分内において太くなる箇所がないことを意味し、当該少なくとも一部分内に、幅の太さが一定となっている部分が部分的に含まれていてもよい。つまり、「細くなっていく」には、幅が連続的に小さく（狭く、細く）なっていくことだけでなく、段階的に小さくなっていくことも含まれる。とりわけ、図２０に示す例においては、第２パターン部５２の第２方向に沿った中心位置５２ｅから第１パターン部５１への接続位置５２ｄに向け、第２パターン部５２の第２方向に沿った全長にわたって、第２パターン部５２の幅が漸次小さくなっていく。この結果、第２パターン部５２の幅は、中心位置５２ｅにおいて最も太く、接続位置５２ｄにおいて最も細くなっている。このようなブラストマスク５０を用いた場合、図１８および図１９を参照しながら説明したブラストマスクと略同一の作用効果を得ることができる。すなわち、図２０に示すブラストマスクを用いた場合、第２リブ３８のうちの第１リブ３４の近隣部分における側方削り込みを促進させ、第１ブラスト加工工程によって、ブラストマスク５０直下の隙間５５を、第２リブ３８の第１リブ３４へ隣接する部分および／または第１リブ３４近傍の部分に形成することが可能となる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１において、第２リブ３８のうちの、第１リブ３４に隣接する部分および／または第１リブ３４近傍の部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くすることができる。この場合、第２ブラスト加工工程を短時間化させることが可能になるだけでなく、第１リブ３４の第２リブ３８近傍における頂部幅が広くなり過ぎてしまうことを防止し、第１リブ３４のその長手方向（つまり、第１方向）に沿った頂部幅のバラツキを大幅に抑制することが可能となる。同時に、第２リブ３８のその長手方向（つまり、第２方向）に沿った頂部幅のバラツキおよび高さのバラツキを大幅に抑制することも可能となる。結果として、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制し、ＰＤＰ用背面１０を精度良く安定して製造することが可能となる。
【０１３６】
なお、上述してきたように、リブ層４０のうちの、第１リブ３４と第２リブ３８とが交差する位置に隣接する領域およびその近傍の領域は比較的に削り取られにくくなる傾向がある。したがって、図１８や図２０に示すブラストマスク５０のように、第２パターン部５２の幅が、端部分５２ａにおいて中間部分５２ｂよりも狭くなっていたとしても、端部分５２ａの直下における第２リブ３８の幅が、中間部分５２ｂの直下における第２リブ３８の幅と比較して格段に小さくなってしまうことはない。それどころか、両端部分５２ａにおける第２パターン部５２の幅および中間部分５２ｂにおける第２パターン部５２の幅を適宜調節することによって、第２リブ３８の幅を、第２方向に沿った第２リブ３８の全長にわたって、略一定に仕上げることも可能である。
【０１３７】
さらに、図２１に示すように、ブラストマスク５０の第１パターン部５１の幅が変化するようにしてもよい。図２１に示されたブラストマスク５０の第１パターン部５１の幅は、第２パターン部５２との接続箇所近傍において、第２パターン部５２との接続箇所へ向けて漸次細くなっていく。このようなブラストマスク５０によれば、特別な操作を要することなく、第１リブ３４のうちの第２リブ３８に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制することができる。また、図２１に示されたブラストマスク５０において、第２パターン部５２の幅は、図２０に示されたブラストマスク５０と同様に、第２パターン部５２の第２方向に沿った中心位置５２ｅから第１パターン部５１への接続位置５２ｄに向けて小さくなっていく。したがって、図２１に示されたブラストマスク５０によれば、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制することも可能となる。
【０１３８】
さらに、図２２に示すように、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅ｗ２が一定であり、第１パターン部５１の幅ｗ１よりも小さくなっているようにしてもよい。図２２に示すようなブラストマスク５０においても、その他の特別な操作を要することなく、第２パターン部５２の直下におけるリブ層４０を側方から削り込むことを促進することができる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１の第２リブ３８の少なくとも一部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くし、かつ、マトリクスリブ３１のその他の部分の高さよりも低くすることが可能となる。
【０１３９】
さらに、図２３に示すように、ブラストマスク５０の第２パターン部５２が、隣り合う二つの第１パターン部５１間で分断されているようにしてもよい。図２３に示すようなブラストマスク５０によれば、第１ブラスト加工において、第２パターン部５２の分断された領域５２ｃを通過するブラスト材７５による削り込みと、リブ層４０またはリブ形成用基板２０上で跳ね返ったブラスト材７５による側方への削り込みと、によって、第２パターン部５２の分断箇所５２ｃの直下およびその周囲におけるリブ層４０を削ることができる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１の第２リブ３８の少なくとも一部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くし、かつ、マトリクスリブ３１のその他の部分の高さよりも低くすることが可能となる。
【０１４０】
ここで、図２４は、図１２に対応する図であって、第２方向に沿った断面の第１ブラスト加工後の状態を示す図である。図２４に示す例においては、第２リブ３８のうちの第２パターン部５２の分断箇所５２ｃの直下に位置する部分の周囲と、当該部分の直上方に位置するブラストマスク５０と、の間に隙間５５が形成されている。この場合、上述した実施の形態と同様に、第２ブラスト加工工程における切削を、極めて短時間で行うことができるようになる。
【０１４１】
なお、以上において複数のブラストマスク５０を説明してきたが、これらは本発明において用いられ得るブラストマスクの一例である。すなわち、本発明においては、上述してきた複数のブラストマスクに限定されることなく、例えば、上述してきたブラストマスクのいずれかと一部分のみにおいて同一の形状を有するブラストマスクや、上述してきたブラストマスクのいずれとも異なる形状を有したブラストマスク等を、用いることも可能である。
【０１４２】
さらに、上述した実施の形態における第２ブラスト加工工程において、ブラストマスク５０のうちの、第２リブ３８の直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取るようにしてもよい。すなわち、図２０に点線で示すように、第２ブラスト加工工程において、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の少なくとも一部を削り取るようにしてもよい。上述したように、第２ブラスト加工工程において、ブラスト材７５は平面視において第１方向に沿った方向に噴射される（例えば、図２０参照）。したがって、ブラストマスク５０のうちの第２パターン部５２は、その他の部分（つまり、第１パターン部５１）から引きちぎられやすくなっている。とりわけ、図２０や図２１に示されたブラストマスク５０においては、第２パターン部５２の第２方向に沿った中心位置５２ｅから第１パターン部５１への接続位置５２ｄに向け、第２パターン部５２の幅は漸次小さくなり、切り欠きのような最小幅が、第１パターン部５１と第２パターン部５２とが交差する位置（第２パターン部５２の接続位置５２ｄ）に形成されているため、第２パターン部５２の両方の端部分５２ａにおいて、第１パターン部５１から引きちぎられやすくなる。この結果、各第２パターン部５２の略全体が第１パターン部５１から引きちぎられやすくなる。
【０１４３】
このようにして第２パターン部５２が除去されると、その後ブラスト加工工程中、第２リブ３８の直上方にはブラストマスク５０が存在しない。この場合、第２ブラスト加工工程を短時間化させることが可能になるだけでなく、第２リブ３８の頂部をより平坦に形成することが可能になる。言い換えると、第２リブ３８の頂部が曲面状になってしまうことを大幅に抑制することができる。また、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域の切削を促進することができる。結果として、焼成収縮時の不都合な変形が大幅に抑制され得る段差マトリクスリブ３０を精度良く安定して作製することが可能となる。
【０１４４】
さらに、上述した実施の形態において、第１ブラスト加工において、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚みよりも小さくなるよう、リブ層を削る例を示したが、これに限られない。第１ブラスト加工において、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さをリブ層４０の厚みよりも小さくする必要はない。すなわち、第２ブラスト加工のみによって、第２リブ３８の高さを変化させるようにしてもよい。
【０１４５】
さらに、上述した実施の形態において、第２ブラスト加工工程後にブラストマスク５０を除去する例を示したが、これに限られず、例えば、第２ブラスト加工工程前にブラストマスク５０を除去するようにしてもよい。第２ブラスト加工工程前にブラストマスク５０を除去した場合、第２ブラスト加工工程中に第２リブ３８上にブラストマスク５０が存在しないため、第２リブ３８を所望の形状に精度良く短時間で切削することができる。なお、ブラスト材７５の噴射角度を調節することによって、第２工程中に第１リブ３４を大きく削り込んでしまうことを回避することができる。
【０１４６】
さらに、上述した実施の形態において説明したブラスト加工装置８０の構成は、例示に過ぎない。例えば、図２５に示すように、被加工体Ｗが一方向に移動するとともに、その移動経路に沿って複数のブラストノズル８５が配置されているようにしてもよい。図２５に示す例においては、被加工体（リブ形成用基板２０、リブ層４０およびブラストマスク５０の積層体）Ｗが、当該被加工体Ｗのリブ形成用基板２０の第２方向と進行方向とが一致するようにして、搬送される。被加工体Ｗの搬送経路の上流側に第１ブラスト加工用の第１ノズル８５ａが複数配置され、被加工体Ｗの搬送経路の下流側に第１ブラスト加工用の第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃがそれぞれ複数配置されている。また、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃは、被加工体Ｗの搬送方向に沿って交互に配置されている。各ノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃは、細長い吐出口８６が被加工体Ｗの搬送方向に沿うようにして、つまり、搬送される被加工体Ｗのリブ形成用基板２０の第１方向に沿うようにして配置されている。また、各ノズル８５は、被加工体Ｗの搬送方向に直交する方向、つまり、搬送される被加工体Ｗのリブ形成用基板２０の第２方向に沿って、往復移動するようになっている。このようなブラスト加工装置８０によれば、被加工体Ｗの全面をムラなく加工していくことが可能となる。
【０１４７】
また、上述した実施の形態において、第２ブラスト加工中、第２ノズル８５ｂからブラスト材７５を噴射する時間帯と、第３ノズル８５ｃからブラスト材７５を噴射する時間帯と、を別々にする例を示したがこれに限られない。図２６に示すように、第２ノズル８５ｂと第３ノズル８５ｃとの配置間隔を十分大きく取ることにより、ブラスト材８５を対向する方向から同時に噴射したとしても、異なるノズル８５ｂ，８５ｃから噴射されたブラスト材７５の移動（飛行）が互いに阻害し合ってしまうことを防止することが可能となる。さらに、図２７に示すように、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃから、互いから離間する向きにブラスト材７５が噴射されるようにしてもよい。このような例によっても、異なるノズル８５ｂ，８５ｃから噴射されたブラスト材７５の移動（飛行）が互いに阻害し合ってしまうことを防止することが可能となる。
【０１４８】
さらに、上述した実施の形態において、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃの二つのノズルによって、第１方向に沿った両側から第２リブ３８にブラスト材７５を噴射する例を示したが、これに限られない。一つのノズルを用い、当該一つのノズルをマトリクスリブ３１（被加工体Ｗ）に対して相対移動させることによって、第１方向に沿った両側から第２リブ３８にブラスト材７５を噴射するようにしてもよい。また、第１方向に沿った両側から第２リブ３８にブラスト材７５を噴射することは必須ではなく、第１方向に沿ったいずれか一方の側のみから第２リブ３８にブラスト材７５を噴射するようにしてもよい。この場合、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃのうちのいずれか一方を省略することが可能となる。
【０１４９】
以上のように上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１５０】
【図１】図１は、プラズマディスプレイパネル用背面板の一例を示す斜視図である。
【図２】図２は、プラズマディスプレイパネル用背面板の一例を示す断面図である。
【図３】図３（ａ）および（ｂ）は、図１に示されたプラズマディスプレイパネル用背面板に組み込まれたリブ形成用基板を説明するための図であって、図３（ｂ）はリブ形成用基板を示す斜視図であり、図３（ａ）は誘電体層を省いた状態におけるリブ形成用基板を示す斜視図である。
【図４】図４、本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法および製造装置の一実施の形態を説明するための図である。
【図５】図５は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法のリブ層形成工程を説明するための図である。
【図６】図６は、ブラストマスク形成工程において形成されたブラストマスクを示す平面図である。
【図７】図７は、ブラスト加工装置の概略構成を示す側面図である。
【図８】図８は、図７に示されたブラスト加工装置の概略構成を示す平面図である。
【図９】図９は、図７および図８に示されたブラスト加工装置に組み込まれ得るノズルの一例を示す斜視図である。
【図１０】図１０は、図７および図８に示されたブラスト加工装置に組み込まれ得るノズルの他の例を示す斜視図である。
【図１１】図１１は、図６のＸＩ−ＸＩに沿った断面を示す図であって、第１ブラスト加工中における被加工体の一状態を第１方向に沿った断面において示す図である。
【図１２】図１２は、図６のＸＩＩ−ＸＩＩに沿った断面を示す図であって、第１ブラスト加工後における被加工体の状態を第２方向に沿った断面において示す図である
【図１３】図１３は、第２ブラスト加工時におけるノズルおよび被加工体の相対移動方法の一例を説明するための図である。
【図１４】図１４は、図１１に対応する断面図であって、第２ブラスト加工中における被加工体の一状態を第１方向に沿った断面において示す図である。
【図１５】図１５は、図１２に対応する断面図であって、第２ブラスト加工後における被加工体の状態を第２方向に沿った断面において示す図である。
【図１６】図１６は、第１リブの好ましくない例を説明するための断面図である。
【図１７】図１７は、図６に対応する図であって、ブラストマスクの変形例を示す平面図である。
【図１８】図１８は、図６に対応する図であって、ブラストマスクの他の変形例を示す平面図である。
【図１９】図１９は、図１２に対応する図であって、図１８に示されたブラストマスクを用いて第１ブラスト加工を行った後における被加工体の状態を第２方向に沿った断面において示す図である。
【図２０】図２０は、図６に対応する図であって、ブラストマスクのさらに他の変形例を示す平面図である。
【図２１】図２１は、図６に対応する図であって、ブラストマスクのさらに他の変形例を示す平面図である。
【図２２】図２２は、図６に対応する図であって、ブラストマスクのさらに他の変形例を示す平面図である。
【図２３】図２３は、図６に対応する図であって、ブラストマスクのさらに他の変形例を示す平面図である。
【図２４】図２４は、図１２に対応する図であって、図２３に示されたブラストマスクを用いて第１ブラスト加工を行った後における被加工体の状態を第２方向に沿った断面において示す図である。
【図２５】図２５は、ブラスト加工装置の変形例を示す平面図である。
【図２６】図２６は、ブラスト加工装置の他の変形例を示す平面図である。
【図２７】図２７は、図７に対応する図であって、ブラスト加工装置のさらに他の変形例を示す側面図である。
【符号の説明】
【０１５１】
１０ プラズマディスプレイパネル用背面板（ＰＤＰ用背面板）
２０ リブ形成用基板
３０ 段差マトリクスリブ
３１ マトリクスリブ
３４ 第１リブ
３８ 第２リブ
３９ 先端部分
４０ リブ層
４１ 第１リブ層
４２ 第２リブ層
４３ 第３リブ層
５０ ブラストマスク
５１ 第１パターン部
５２ 第２パターン部
５２ａ 端部分
５２ｂ 中間部分
５２ｄ 接続位置
５２ｅ 中心位置
７０ プラズマディスプレイパネル用背面板の製造装置
７１ リブ形成装置
７５ ブラスト材
８０ ブラスト加工装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の第１リブおよび第１リブ間を延びる複数の第２リブを含むマトリクスリブを有するプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する方法およびブラスト加工装置に係り、とりわけ、第２リブが第１リブよりも低くなっている段差マトリクスリブを有するプラズマディスプレイパネル用背面板を容易に製造することができる製造方法およびブラスト加工装置に関する。
【０００２】
また、本発明は、プラズマディスプレイパネル用背面板、および、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられる積層体に関する。
【背景技術】
【０００３】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも呼ぶ）に用いられる背面板は、リブ形成用基板と、リブ形成用基板上に所定のパターンで配列されたリブと、リブ形成用基板およびリブの側面上に形成された蛍光体層と、を有している。一般的に、リブ形成用基板は、ガラス基板と、ガラス基板上に配列された電極（アドレス電極とも呼ばれる）と、電極を覆うようにしてガラス基板上に積層された誘電体層と、を含んでいる。
【０００４】
この背面板は、電極を有する前面板と重ね合わされて、ＰＤＰを構成するようになる。背面板と前面板との間の空間は、一旦排気された後にキセノン等の希ガスを充填され、放電空間として機能する。この放電空間でプラズマ放電を起こすと、紫外線が発生し、この紫外線が蛍光体に到達すると可視光が発生する。そして、放電空間での放電を制御することにより、ＰＤＰが表示装置として機能するようになる。
【０００５】
従来のＰＤＰ用背面板として、ストライプ状のリブを有した背面板や、複数の第１リブおよび第１リブと交差する複数の第２リブからなるマトリクス状のリブを有した背面板が、用いられてきた。このうち、マトリクスリブによれば、ストライプリブと比較して蛍光体を支持する面積を広げることが可能となる。このため、マトリクスリブを有する背面板は、輝度向上の観点において優れている。
【０００６】
一方、近年においては、第２リブが第１リブよりも低くなっている段差マトリクスリブを有した背面板が注目を集めている（例えば、特許文献１）。この段差マトリクスリブを有した背面板は、蛍光体の支持面積を増やせるだけでなく、前面板と重ね合わせた後の排気工程を容易に行うことができる、といった利点も有している。
【特許文献１】特許第３４４０９０７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、背面板の製造、前面板の製造および背面板と前面板との組み合わせ等を含むプラズマディスプレイパネルの全製造工程内において、所定の寸法精度内のリブを形成することは、最も困難な工程のうちの一つとなっている。しかも、段差マトリクスリブの作製は、ストライプリブや通常のマトリクスリブの作製と比較して、極めて複雑かつ困難となる。このため、ＰＤＰの製造において、段差マトリクスリブを如何に容易に形成するかが、極めて重要な技術的課題となっている。
【０００８】
特許文献１では、ドライフィルムレジスト（以下において、ＤＦＲとも呼ぶ）の積層、ＤＦＲの製版、製版されたＤＦＲをブラストマスクとして用いたブラスト加工、ブラストマスク（ＤＦＲ）の除去といった一連の作業を、二回繰り返すことにより、リブ形成用基板上に段差マトリクスリブを形成している。さらに詳細には、一回目のブラスト加工までの工程により、マトリクスリブを形成し、二回目のブラスト加工により、第２リブのみを削っている。すなわち、マトリクスリブを形成する場合と比較して略倍の手間が必要となり、この結果、ＰＤＰ用背面板の製造コストが高価となってしまう。フラットパネルディスプレイ全分野において低価格化が強く要望されている今日において、このことは極めて深刻な問題となる。
【０００９】
また、特許文献１によれば、一回目のブラスト加工によって形成されたマトリクスリブ上にＤＦＲを積層および製版することになるが、この際に、種々の不具合が生じ得る。例えば、ラミネート圧力によって、マトリクスリブが潰れてしまう。また、ラミネート圧力によって、ＤＦＲの厚みが、リブ上と、リブとリブとの間の空間上と、で相違してしまう。あるいは、ラミネート圧力が低すぎて、ＤＦＲが剥がれてしまう。このようにＤＦＲの二回目の積層を安定して行えないことから、ＤＦＲを精度よく製版して段差マトリクスリブを安定して精度良く形成することが困難となる。結果として、ＰＤＰ用背面板の歩留まりが低下して、さらにＰＤＰ用背面板の製造コストを上昇させてしまう。
【００１０】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、段差マトリクスリブを有するプラズマディスプレイパネル用背面板を容易に製造することができる製造方法およびブラスト加工装置を提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明は、容易に製造され得るプラズマディスプレイパネル用背面板を提供することを目的とする。
【００１２】
さらに、本発明は、ディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造を容易にすることを可能とする積層体に関する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明による第１のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法は、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工工程と、前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工工程と、前記第２ブラスト加工工程後に、前記段差マトリクスリブ上から前記ブラストマスクを除去する工程と、を備えることを特徴とする。
【００１４】
本発明による第１のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られてもよい。
【００１５】
本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法は、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工工程と、前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工工程と、を備え、前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られることを特徴とする。
【００１６】
本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法が、前記第１ブラスト加工工程後であって前記第２ブラスト加工工程前に、前記マトリクスリブ上から前記ブラストマスクを除去する工程を、さらに備えるようにしてもよい。
【００１７】
本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第２ブラスト加工工程において、前記ブラストマスクのうちの、前記第２リブの直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取るようにしてもよい。
【００１８】
また、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されるよう、前記リブ層が削られてもよい。
【００１９】
また、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記ブラストマスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１パターン部間を前記第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部の最小幅は、前記第１パターン部の最小幅よりも小さくなっていてもよい。
【００２０】
このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第２パターン部の幅は一定であり、前記第１パターン部の幅よりも小さくなっていてもよい。あるいは、このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分よりも前記両端部分の間の中間部分において、小さくなっていてもよい。あるいは、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分において前記両端部分の間の中間部分よりも、小さくなっていてもよい。
【００２１】
さらに、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第１ブラスト加工工程において、前記リブ層または前記リブ形成用基板上で跳ね返ったブラスト材による側方への削り込みによって、リブ層のうちの、前記第２リブの前記少なくとも一部分の直上方に位置する部分が削られるようにしてもよい。
【００２２】
さらに、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記ブラストマスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１パターン部間を前記第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有し、前記ブラストマスクの前記第２パターン部は、前記第１パターン部間で分断されているようにしてもよい。このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第１ブラスト加工工程において、前記第２パターン部の分断された領域に進むブラスト材による削り込みと、前記リブ層または前記リブ形成用基板上で跳ね返ったブラスト材による側方への削り込みと、によって、リブ層のうちの、前記第２リブの前記少なくとも一部分の直上方に位置する部分が削られるようにしてもよい。
【００２３】
さらに、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有し、前記第１ブラスト加工工程において、第１リブおよび第２リブは、それぞれ、前記第１リブ層からなる部分と、前記第２リブ層からなる部分と、前記第３リブ層からなる部分と、を含むように形成され、前記第２ブラスト加工工程において、前記第２リブの前記第３リブ層からなる部分が削られるようにしてもよい。
【００２４】
このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第３リブ層のブラスト加工性よりも高くなっていてもよい。また、このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下であるようにしてもよい。さらに、このような本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下であるようにしてもよい。
【００２５】
さらに、本発明による第１または第２のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の前記第２ブラスト加工工程において、前記リブ形成用基板の板面の法線に対するブラスト材の噴射方向の傾斜角度は、４５°以上であるようにしてもよい。
【００２６】
本発明による第１のブラスト加工装置は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられるブラスト加工装置であって、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工と、前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記ブラストマスク下の前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工と、を実行するように構成されていることを特徴とする。
【００２７】
本発明による第１のブラスト加工装置において、前記第１ブラスト加工において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られてもよい。
【００２８】
本発明による第２のブラスト加工装置は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられるブラスト加工装置であって、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工と、前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工と、を実行するように構成されており、前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層を削ることを特徴とする。
【００２９】
本発明による第２のブラスト加工装置において、前記第２ブラスト加工工程は、前記マトリクスリブ上から前記ブラストマスクが除去された後に実行されるようにしてもよい。
【００３０】
本発明による第１または第２のブラスト加工装置において、前記第２ブラスト加工工程において、前記ブラストマスクのうちの、前記第２リブの直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取るようにしてもよい。
【００３１】
また、本発明による第１または第２のブラスト加工装置において、前記第１ブラスト加工において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されるよう、前記リブ層が削られてもよい。
【００３２】
また、本発明による第１または第２のブラスト加工装置において、前記第２ブラスト加工工程において、前記リブ形成用基板の板面の法線に対するブラスト材の噴射方向の傾斜角度は、４５°以上であるようにしてもよい。
【００３３】
本発明による第１のプラズマディスプレイパネル用背面板は、上述したいずれかの製造方法によって製造されることを特徴とする。
【００３４】
本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板は、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、を備え、前記リブ層は、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクス状にパターニングされており、前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層および第１リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有し、前記第１リブは、前記第１リブ層からなる部分と、前記第２リブ層からなる部分と、前記第３リブ層からなる部分と、を含み、前記第２リブは、少なくとも前記第１リブ層からなる部分と前記第２リブ層からなる部分とを含み、前記第２リブの前記背面板基板からの高さは前記第１リブの前記背面板基板からの高さよりも低いことを特徴とする。
【００３５】
本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下であるようにしてもよい。
【００３６】
また、本発明による第２のプラズマディスプレイパネル用背面板において、前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下であるようにしてもよい。
【００３７】
本発明による第１の積層体は、ブラスト加工を用いてプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を備え、前記ブラストマスクは、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１パターン部間を延びる複数の第２パターン部と、を有し、前記ブラストマスクの前記第２パターン部の最小幅は、前記第１パターン部の最小幅よりも小さくなっていてもよい。
【００３８】
本発明による第１の積層体において、前記第２パターン部の幅は一定であり、前記第１パターン部の幅よりも小さくなっていてもよい。あるいは、本発明による第１の積層体において、前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分よりも前記両端部分の間の中間部分において、小さくなっていてもよい。あるいは、本発明による第１の積層体において、前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分において前記両端部分の間の中間部分よりも、小さくなっていてもよい。
【００３９】
本発明による第２の積層体は、ブラスト加工を用いてプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を備え、前記ブラストマスクは、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１パターン部間を延びる複数の第２パターン部と、を有し、前記ブラストマスクの前記第２パターン部は、前記第１パターン部間で分断されていることを特徴とする。
【００４０】
本発明による第１または第２の積層体において、前記リブ層は、前記第１パターン部の直下に位置する複数の第１リブと、前記第２パターン部の直下に位置し、前記第１リブ間を延びる第２リブと、を含むマトリクス状にパターニングされており、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが、前記第１リブの厚みよりも低くなっているようにしてもよい。このような本発明による第１または第２の積層体において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されているようにしてもよい。
【００４１】
また、本発明による第１または第２の積層体において、前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有するようにしてもよい。
【００４２】
このような本発明による第１または第２の積層体において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第３リブ層のブラスト加工性よりも高くてもよい。また、このような本発明による第１または第２の積層体において、前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下であるようにしてもよい。さらに、本発明による第１または第２の積層体において、前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下であるようにしてもよい。
【発明の効果】
【００４３】
本発明によれば、ブラスト材の噴射方向を調節するといった極めて簡単な操作によって、第１リブと第２リブとからなるマトリクスリブのうちの第２リブを選択的に削っていくことができる。このため、段差マトリクスリブを有したプラズマディスプレイパネル用背面板を容易に製造することができる。これにともなって、段差マトリクスリブを有したプラズマディスプレイパネル用背面板の製造コストを大幅に低下させることができる。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比を、実物のそれと変更し誇張してある。
【００４５】
図１乃至図１５は本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法および製造装置の一実施の形態を説明するための図である。
【００４６】
＜ＰＤＰ用背面板＞
このうち図１および図２は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法および製造装置により製造され得るプラズマディスプレイパネル用背面板の一例を示す斜視図および断面図である。また、図３は、図１および図２に示されたプラズマディスプレイパネル用背面板のリブ形成用基板を説明するための図である。なお、図１は、プラズマディスプレイパネル用背面板の中央部における一部分を示す部分斜視図である。また、図２に示された断面は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面に対応している。まず、図１乃至図３を参照して、本実施の形態による製造方法および製造装置を用いて製造され得るプラズマディスプレイパネル用背面板（以下において、ＰＤＰ用背面板とも呼ぶ）について説明する。
【００４７】
図１および図２に示すように、ＰＤＰ用背面板１０は、リブを支持するようになる部材である板状のリブ形成用基板（背面板用基板）２０と、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上に形成された段差マトリクスリブ３０と、を有している。また、図２に示すように、ＰＤＰ用背面板１０は、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上および段差マトリクスリブ３０の側面上に形成された蛍光体層１８を、さらに有している。
【００４８】
まず、リブ形成用基板２０について説明する。リブ形成用基板２０は、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知なリブ形成用基板を用いることができる。
【００４９】
一例として、図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、リブ形成用基板２０は、板状の支持基板２２と、支持基板２２の一方の面上の所定の領域に形成された電極２４と、支持基板２２の一方の面上に積層された誘電体層２６と、を含んでいる。支持基板２２は、焼成工程における加熱を考慮して、耐熱性を有する材料、例えばガラスから構成される。図３（ａ）に示すように、電極２４は、いわゆるアドレス電極として機能するよう、支持基板２２の一方の面上にストライプ状の形態で配置され得る。このような電極２４は、種々の導電性材料、例えば銀から構成され得る。また、誘電体２６は、アドレス電極２４を覆うようにして、所定の誘電率を有する材料を支持基板２２の一方の面上に成膜することによって、形成され得る。
【００５０】
なお、図３に示されたリブ形成用基板２０は、以下のようにして製造され得る。まず、ガラス等からなる支持基板２２を準備し、この支持基板２２の一方の面上に感光性材料を含んだ導電性ペーストからなる層を形成する。このときの塗布装置としては、スクリーン印刷機や種々のコーター等の既知の装置を採用することができる。その後、フォトリソグラフィー技術を用いた露光および現像を行い、導電性ペースト層を所望のパターンにパターニングする。次に、焼成により銀ペーストを焼結することにより、支持基板２２上に電極２４が形成される（図３（ａ）参照）。
【００５１】
その後、所望の誘電率を有する材料を、電極２４を覆うようにして支持基板２２の一方の面上に塗工する。このとき、スクリーン印刷機や種々のコーター等の種々の既知な機器を用いて、支持基板２２上に成膜することができる。その後、焼成を行うことによって、所望の誘電率を有する材料から誘電体層２６が形成されるようになる。以上のようにして、図３（ｂ）に示されたリブ形成用基板２０が得られる。
【００５２】
次に、段差マトリクスリブ３０について説明する。段差マトリクスリブ３０は、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な構成を取り得る。段差マトリクスリブ３０は、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上、図示する例においては、誘電体層２６上に形成されている。図１に示すように、段差マトリクスリブ３０は、リブ形成用基板２０の板面上の第１方向に沿って延びる第１リブ３４と、第１方向と交差するリブ形成用基板２０の板面上の第２方向に沿って延びる第２リブ３８と、を有している。第１リブ３４は、第１方向に直交する方向に沿って略一定の間隔を空け、複数形成されている。第２リブ３８は、隣り合う二つの第１リブ３４間を第２方向に沿って延びている。第２リブ３８は、第２方向に直交する方向に沿って略一定の間隔を空けて複数形成されている。
【００５３】
本発明において必須ではないが、図示する例において、第１方向および第２方向は互いに直交している。なお、本願において、「交差」とは、直角に交わること（直交すること）、および、９０°以外の角度で互いに傾斜して交わること、の両方を含むものとする。
【００５４】
そして、図１および図２に示すように、第２リブ３８のリブ形成用基板２０からの高さ（より厳密には、リブ形成用基板２０の板面の法線に沿った第２リブ３８の基端部から頂部までの長さ）は、第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さよりも低くなっている。第１リブ３４の高さと第２リブ３８の高さの差は、上述したように、完成したＰＤＰ用背面板１０をＰＤＰ用前面板と組み合わせた後に、隣り合う二つの第１リブ３４間の全域を、第１方向における一方側または両側から排気することができる程度に設定され得る。また、第２リブ３８の高さは、蛍光体の支持面積を十分に増大させることを可能とし得るように、設定され得る。一例として、第２リブ３８の高さを、第１リブ３４の高さの１／５〜９５／１００程度に設定することができる。
【００５５】
また、第１リブ３４および第２リブ３８の具体的な形状や寸法については、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な構成を取り得る。例えば、第１リブ３４および第２リブ３８は、その長手方向に直交する断面において、略四角形形状または略台形形状とすることができる。また、第１リブ３４および第２リブ３８の焼成後における頂部（リブ形成用基板２０から離れる側の部分）の幅は、５μｍ〜１２０μｍとすることができる。さらに、第１リブ３４および第２リブ３８の配置ピッチは、５０μｍ〜２０００μｍとすることができる。さらに、第１リブ３４および第２リブ３８の焼成後における高さは、２０μｍ〜３００μｍとすることができる。
【００５６】
このような段差マトリクスリブ３０は、後述する製造方法に対応し、例えば、ガラスフリットと無機粉体とを含む混合物から構成される。
【００５７】
蛍光体層１８は、隣り合う二つの第１リブ３４および隣り合う二つの第２リブ３８によって囲まれたリブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上、第１リブ３４の側面上、および、第２リブ３８の側面上に支持されている。蛍光体層１８の構成は、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な構成を採用することができる。
【００５８】
＜ＰＤＰ用背面板の製造方法および製造装置＞
次に、主に図４乃至図１６を参照して、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法および製造装置（製造ライン）について説明する。
【００５９】
本実施の形態において、ＰＤＰ用背面板の製造方法は、リブ形成用基板２０上にリブ層（リブ形成材料層）４０を形成するリブ層形成工程（図４（ａ）参照）と、リブ層４０上にブラストマスク５０を形成するマスク形成工程（図４（ｂ）および（ｃ）参照）と、ブラストマスク５０側からリブ層４０へブラスト材７５を噴射してリブ層４０を削るブラスト加工工程（図４（ｄ）および（ｅ）参照）と、ブラスト加工工程後にブラストマスク５０を除去する工程と、を備えている。とりわけ本実施の形態においては、ブラスト加工工程が、互いに異なるブラスト加工条件で実施される第１ブラスト加工工程および第２ブラスト加工工程を含んでいる。また、ＰＤＰ用背面板の製造装置（製造ライン）７０は、製造方法に対応して、リブ形成用基板２０上にリブ層４０を形成するリブ層形成装置７１と、リブ層４０上にブラストマスク５０を形成するマスク形成装置と、リブ形成用基板２０上のリブ層４０へブラストマスク５０側からブラスト材７５を噴射するブラスト加工装置８０と、ブラストマスク５０を除去する除去装置と、を備えている。以下、各工程について、各工程で用いられる装置（手段）とともに説明していく。なお、図４においては、図１に示された部分に対応する部分が示されている。
【００６０】
（リブ層形成工程）
まず、リブ層形成工程について説明する。リブ層形成工程においては、まず、リブ形成用基板２０を準備し、次に、リブ形成用基板２０の誘電体層２６上に、第１リブ３４および第２リブ３８をなすようになるリブ層（リブ形成材料層）４０を形成する。
【００６１】
本実施の形態においては、リブ層形成工程は、リブ形成用基板２０上に第１リブ層４１を形成する工程と、第１リブ層４１上に、第１リブ層４１よりもブラスト加工性の低い第２リブ層４２を形成する工程と、第２リブ層４２上に、第２リブ層４２よりもブラスト加工性の高い第３リブ層４３を形成する工程と、を含んでいる。すなわち、図５に示すように、形成されたリブ層４０は、第１リブ層４１と、第２リブ層４２と、第３リブ層４３と、を含む三層構造となっている。
【００６２】
ここで、ブラスト加工性とは、同一のブラスト加工条件により比較対象となる層へブラスト材７５を噴射した場合における、切削量によって評価する。なお、評価に当たり、切削量の測定は、比較対象層間において同一の方法（例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面像の確認等）で行うこととする。そして、同一条件での切削量が多い場合に、ブラスト加工性が高い（良い）と評価し、同一条件での切削量が少ない場合に、ブラスト加工性が低い（悪い）と評価する。また、二つ以上の層間でブラスト加工性を対比する場合、同一条件での切削量（切削深さ）を用いて対比する。例えば、一方の層の切削深さが３０μｍで、同一ブラスト加工条件における他方の層の切削深さが１０μｍである場合、一方の層のブラスト加工性は他方の層のブラスト加工性の３倍である、と評価する。
【００６３】
本件発明者らは、鋭意研究を重ねることによって、第１リブ層４１のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下、さらに好ましくは、２倍以上２５倍以下であることが、好ましいことを知見した。すなわち、第２リブ層４２を１０μｍ削る間に、同一のブラスト加工条件により、第１リブ層４１が１５μｍ〜１０００μｍ、さらに好ましくは２０μｍ〜２５０μｍ削られるようになっていることが好ましい。また、第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下であることが好ましく、１．５倍以上１０倍以下であることがさらに好ましいことも、知見された。これらの点については、その理由を後に詳述する。
【００６４】
第１乃至第３のリブ層４１，４２，４３は、例えば、溶剤を含んだリブ層形成組成物４５を塗工し、リブ層形成組成物４５を乾燥させて溶剤を除去することにより、形成され得る。リブ層形成組成物４５の塗工方法および塗工装置としては、従来既知の種々の方法および装置を用いることができる。例えば、リブ層形成装置７１が、ダイコーター（図５参照）やスクリーン印刷機等を塗工装置７１ａとして含み、この塗工装置７１ａによって、第１乃至第３のリブ層４１，４２，４３をなすようになるリブ層形成組成物４５がリブ形成用基板２０上に塗工されていくようにしてもよい。このような方法によれば、リブ形成用基板２０上に、それぞれ均一な膜厚を有した第１乃至第３のリブ層４１，４２，４３を形成し、これにより、リブ形成用基板２０の板面上において均一な膜厚を有したリブ層４０を得ることができる。
【００６５】
リブ層形成組成物４５としては、ＰＤＰ用背面板１０のリブに用いられている種々の既知な組成物を、リブ層４０の形成方法（リブ層形成組成物４５の塗工方法）に応じて適宜選択することができる。一例として、リブ層形成組成物４５が、上述したガラスフリットおよび無機粉体と、樹脂成分と、溶剤と、を含むようにしてもよい。ガラスフリットは後述する焼成工程において、骨材として機能する無機粉体に融着して、第１リブ３４および第２リブ３８を形成するようになる。樹脂成分は、リブ層形成組成物４５中においてバインダーとして機能する。溶剤は、リブ層形成組成物４５の塗工方法に応じて省くことが可能である。また、リブ層形成組成物４５が、無機顔料等のさらに他の成分を含むようにしてもよい。
【００６６】
なお、例えば、樹脂成分の含有割合を調節することによって、リブ層形成組成物４５から形成される第１乃至第３リブ層４１，４２，４３のブラスト加工性を調整することができる。具体的には、樹脂成分の含有量を増加させることにより、当該リブ層形成組成物４５から形成されるリブ層のブラスト加工性を低くすることができ、樹脂成分の含有量を減少させることにより、当該リブ層形成組成物４５から形成されるリブ層のブラスト加工性を高くすることができる。ただし、これに限られず、別の方法を用いて、各リブ層４１，４２，４３のブラスト加工性を操作するようにしてもよい。
【００６７】
ところで、第１乃至第３リブ層４１，４２，４３の各厚みは種々設定することができる。ただし、後述するように第２リブ３８の高さを高精度に制御する観点から、第２リブ３８が、第３リブ層４３からなる部分を削り取られ、第１リブ層４１からなる部分と第２リブ層４２からなる部分とから構成されるようにすることが好ましい。この場合、第１リブ３４と第２リブ３８との高低差は、第３リブ層４３の厚さによって決定されるようになる。また、比較的にブラスト加工により切削しにくい第２リブ層４２の厚みが厚いと、ブラスト加工工程に要する時間が長くなってしまう。これらの点を考慮して、第１リブ層４１の乾燥後における厚さを１０μｍ〜２５０μｍ程度とし、第２リブ層４２の乾燥後における厚さを１μｍ〜３０μｍ程度とし、第３リブ層４３の乾燥後における厚さを５μｍ〜１５０μｍ程度としてもよい。
【００６８】
（マスク形成工程）
次に、ブラストマスク形成工程について説明する。ブラストマスク形成工程は、リブ形成用基板２０上に形成されたリブ層４０上に、所定のパターンを有したブラストマスク５０を形成する工程である。
【００６９】
具体的には、図４（ｂ）に示すように、まず、リブ形成用基板２０上に形成されたリブ層４０上に、耐ブラスト加工性を有したレジスト層５４を積層する。本実施の形態においては、ドライフィルム（ＤＦＲ）を、リブ形成用基板２０上に形成されたリブ層４０上に積層している。このような方法によれば、溶剤を含むレジスト形成組成物をリブ層４０上に塗工し、その後に、このレジスト形成組成物を乾燥させてレジスト層５４を形成することと比較して、極めて簡便かつ短時間でレジスト層５４を形成することができる。ただし、本発明は、レジスト形成組成物を塗工および乾燥してレジスト層５４を形成する方法を排除するものではない。また、レジスト層は、耐ブラスト加工性を有した種々の既知の材料から構成され得る。
【００７０】
次に、レジスト層５４を製版し、所定のパターンを有するブラストマスク５０を形成する。具体的には、フォトリソグラフィー技術を用いた露光および現像を行い、レジスト層５４を所望のパターンにパターニングする。
【００７１】
以上のようにして、リブ層４０上にブラストマスク５０を形成することができる（図４（ｃ）参照）。したがって、図示しないマスク形成装置は、ドライフィルムのラミネートに用いられるラミネータや、レジスト層５４のパターニングに用いられる露光装置および現像装置等を含むようになる。これらの装置類としては、従来既知の種々の装置を用いることができる。
【００７２】
ここで、本実施の形態において形成されるブラストマスク５０の形状について、主に図６を参照して、説明する。図６は、ブラストマスク形成後におけるブラストマスク５０、リブ層４０およびリブ形成用基板２０の積層体を示す部分平面図である。図６に示すように、得られたブラストマスク５０は、形成対象となる段差マトリクスリブ３０（マトリクスリブ３１）の平面視における形状に対応して、平面視においてマトリクス状に形成されている。すなわち、ブラストマスク５０は、第１リブ３４に対応するように配置された複数の第１パターン部５１と、第２リブ３８に対応するように配置され、隣り合う二つの第１パターン部５１間を延びる複数の第２パターン部５２と、を有するようになる。第１パターン部５１はリブ形成用基板２０上の第１方向と平行に延び、第２パターン部５２はリブ形成用基板２０上の第２方向と平行に延びている。
【００７３】
とりわけ、本実施の形態においては、図６に示すように、形成された第２パターン部５２の第１方向に沿った幅の最小値が、第１パターン部５１の第２方向に沿った幅の最大値よりも狭くなっている。なお、第１パターン部５１の幅ｗ１は、第１方向に沿った各位置において変化することなく、一定の値を取るようになっている。一方、第２パターン部５２の幅ｗ２は、第１パターン部５１に接続する両端部分５２ａよりも両端部分５２ａの間の中間部分５２ｂにおいて、狭くなっている。より厳密に説明すると、第２パターン部５２の第１方向に沿った幅ｗ２は、端部分５２ａのうちの第１パターン部５１への接続部から、それぞれ、一対の端部分５２ａの中間に位置する中間部分５２ｂの中間点へ近付くに連れて、漸次狭くなっていっている。
【００７４】
（第１ブラスト加工工程）
上述したように、第１ブラスト加工工程および第２ブラスト加工工程の二つのブラスト加工工程が、ブラスト加工条件を変化させて行われる。このうち、まず、先に実施される第１ブラスト加工工程について説明する。第１ブラスト加工工程は、ブラストマスク５０側からリブ層４０へブラスト材７５を噴射し、リブ層４０の一部を削り取ってリブ層４０をパターニングする工程である。この結果、図４（ｄ）に示すように、リブ層４０から、第１リブ３４と第２リブ３８とを有したマトリクスリブ３１が形成されるようになる。
【００７５】
まず、主に図７乃至図１０を参照して、第１ブラスト加工工程に用いられるブラスト加工装置８０について説明する。なお、ここで説明するブラスト加工装置８０は、後述する第２ブラスト加工工程においても用いられ得る。
【００７６】
図７および図８に示すように、ブラスト加工装置８０は、ブラスト材７５を噴射するノズル８５と、ノズル８５に連結された配管８１と、配管８１に連結された圧縮ガス源８２およびブラスト材供給源８３と、被加工体Ｗを保持する保持装置８８と、を有している。このブラスト加工装置８０においては、圧縮ガス源８２からガスを供給するとともにブラスト材供給源８３からブラスト材７５を供給するようになっている。供給されたブラスト材７５は圧縮ガスとともに、ノズル８５から噴射され、保持装置８８に保持された被加工体Ｗに衝突する。この結果、被加工体Ｗがブラスト材７５によって切削されていくようになっている。ここで被加工体Ｗは、リブ形成用基板２０とリブ層４０とブラストマスク５０との積層体であって、実際に切削されるのはリブ層４０である。
【００７７】
本実施の形態において、ブラスト加工装置８０は、第１乃至第３のノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃを有している。このうち、第１ノズル８５ａは第１ブラスト加工工程において用いられ、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃは、第２ブラスト加工工程において用いられる。これらの第１乃至第３のノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃは、それぞれ図示しない保持手段を介して別個に保持されている。保持手段は、各ノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃの被加工体Ｗに対する相対位置を独立して調節することができる。これにより、各ノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃの被加工体Ｗに対する高さ位置（リブ形成用基板２０の板面の法線に沿った位置）、被加工体Ｗに対する平面方向位置（リブ形成用基板２０の板面上における位置）、および、被加工体Ｗに対するブラスト材７５の噴射角度（リブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬと噴射方向とがなす角度θ）を別個に制御することができる。
【００７８】
なお、ブラストノズル８５の吐出口８６の形態は、特に限定されず、例えばスリット状、円状、楕円状および多角形状等の種々の既知な形態を採用することができる。このうち、被加工体Ｗを広範囲に渡って一度に加工することができ、これにより、均一かつ効率的な加工を実現することができることから、図９に示すように、ノズル８５がスリット状の開口８６を有していることが好ましい。この場合の吐出口８６の幅（吐出口８６の長手方向に直交する方向の開口幅）は、例えば５０μｍ〜１００００μｍの範囲内、好ましくは１００μｍ〜５０００μｍの範囲内とすることができる。また、図１０に示すように、略円形の吐出口８６を有する複数の吐出機構を並列配置してノズル８５を構成するようにしてもよい。このようなノズル８５によっても、被加工体Ｗを広範囲に渡って一度に加工することができ、これにより、均一かつ効率的な加工を実現することができる。
【００７９】
次に、このようなブラスト加工装置８０を用いて実行される第１ブラスト加工工程について説明する。
【００８０】
第１ブラスト加工工程では、第１ノズル８５ａからブラスト材７５を噴射して、リブ層４０を切削する。このとき、第１ノズル８５ａを保持する保持手段は、リブ形成用基板２０の板面の略法線ＮＬに沿ってブラスト材７５が噴射されるように、第１ノズル８５ａを保持装置８８に保持されたリブ形成用基板２０とリブ層４０とブラストマスク５０との積層体Ｗに対して位置決めする。なお、ブラスト材７５はノズル８５ａからある程度の幅を持って噴射されるようになるが、ここでは、ある程度の幅のうちの中心方向が、リブ形成用基板２０の板面の法線に概ね平行となるように、ノズル８５ａの位置を調整することを意味している。
【００８１】
第１ブラスト加工において用いられるブラスト材７５としては、特に限定されないが、例えばダイアモンド、アルミナ、炭化シリコン、炭酸カルシウム、ガラスビーズ、ステンレス等が挙げられる。また、ブラスト材７５の粒径は、特に限定されないが、例えば３μｍ〜２００μｍの範囲内、好ましくは７μｍ〜１００μｍの範囲内とすることができる。
【００８２】
また、第１ブラスト加工工程において、第１ノズル８５ａからブラスト材７５が噴射される際の噴射圧力や、ブラスト材７５の噴射量等のブラスト加工条件は、マトリクスリブをブラスト加工で作製する際における通常の設定値を採用することができる。さらに、第１ブラスト加工工程において、第１ノズル８５ａの吐出口８６と切削対象となるリブ層４０との離間距離も、マトリクスリブをブラスト加工で作製する際における通常の設定値を採用することができる。
【００８３】
そして、第１ブラスト加工工程においては、第１ノズル８５ａと、保持装置８８に保持された被加工体（積層体）Ｗと、の相対位置を、リブ形成用基板２０の板面上において変化させ、ブラスト材７５が被加工体Ｗの全域に噴射されるようになる。例えば、リブ形成用基板２０の板面の法線方向から観察した場合に、第１ノズル８５ａが図８の点線で示す経路に沿って、切削対象となるリブ層４０の直上方を移動するよう、第１ノズル８５ａおよびリブ形成用基板２０上のリブ層４０が相対移動する。以上のようにして、リブ形成用基板２０の板面の法線方向からブラスト材７５がリブ層４０の全領域に対して噴射されていく。
【００８４】
なお、本件で用いる「直上（直上方）」とは、リブ形成用基板２０の板面の法線に沿った上方（リブ形成用基板２０よりもブラストマスク５０（レジスト層５４）側）を意味し、「直下（直下方）」とは、リブ形成用基板２０の板面の法線に沿った下方（ブラストマスク５０（レジスト層５４）よりもリブ形成用基板２０側）を意味するものとする。
【００８５】
このようにしてリブ形成用基板２０の法線ＮＬの方向に沿って噴射されたブラスト材７５は、ブラストマスク５０、あるいは、リブ層４０のうちのブラストマスク５０によって覆われていない部分に衝突する。この結果、リブ層４０のうちのブラストマスク５０によって覆われていない部分は、ブラスト材７５によって削られていく。最終的には、ブラストマスク５０によって覆われていない領域においては、リブ層４０が除去され、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａが露出するようになる。これにより、リブ層４０は、ブラストマスク５０のパターンと略同一なマトリクス状へパターニングされる。
【００８６】
ところで、図１１に示すように、リブ形成用基板２０の法線方向に沿って移動（飛行）してきたブラスト材７５は、リブ層４０または露出したリブ形成用基板２０に衝突して、不規則な方向に跳ね返るようになる。ここで、図１１は、図６のＸＩ−ＸＩに沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面の第１ブラスト加工工程中の一状態を示している。跳ね返ったブラスト材７５ａ，７５ｂの一部は、リブ層４０のうちのブラストマスク５０の直下に位置する部分に衝突する。このとき、ブラスト材７５ａ，７５ｂが十分な移動速度を有していれば、リブ層４０のうちの、本来削られることのないブラストマスク５０に覆われた部分が削られていくことになる。すなわち、リブ層４０のうちのブラストマスク５０に覆われている部分も、リブ層４０または露出したリブ形成用基板２０に衝突して跳ね返ったブラスト材７５によって、側方から削り込まれることになる（以下において、この側方への削り込みをサイドエッチとも呼ぶ）。
【００８７】
とりわけ、本実施の形態においては、上述したように、リブ層４０の表面層をなす第３リブ層４３の下方には、ブラスト加工性の低い、すなわち、ブラスト加工によって削られにくい第２リブ層４２が配置されている。このようなリブ層４０をブラスト加工した場合、図１１に示すように、まず、ブラストマスク５０に覆われていない第３リブ層４３が削られ、第２リブ層４２が露出することになる。しかしながら、第２リブ層４２はブラスト加工によって切削しにくい層であることから、第２リブ層４２の切削にしばらく時間がかかる。この間、第２リブ層４２に入射して反射したブラスト材７５ａ，７５ｂは、図１１に示すように、第２リブ層４２よりも上方に配置され、第２リブ層４２よりも削り取られやすい第３リブ層４３を側方から削り込むようになる。すなわち、第３リブ層４３の下方に第３リブ層４３よりもブラスト加工性の低い第２リブ層４２を設けておくことにより、第３リブ層４３のうちのブラストマスク５０の直下に位置する部分における側方削り込み（サイドエッチ）が促進されるようになる。
【００８８】
そして、本実施の形態においては、この側方削り込みを利用して、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚みよりも低くなるまで、リブ形成用基板２０の板面の法線に沿ったブラスト材７５の噴射を継続して、リブ層４０のうちの形成される第２リブ３８の直上方に位置する部分を削る。この結果、本実施の形態においては、図１２に示すように、第１ブラスト加工工程後、第２リブ３８の少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置するブラストマスク５０と、の間に隙間５５が形成されるようになる。
【００８９】
上述したように、リブ層４０上に形成されたブラストマスク５０の第２パターン部５２の最小幅は第１パターン部５１の最小幅よりも小さくなっている。したがって、このブラストマスク５０のパターンに起因して、その他の特別な操作を要することなく、第２パターン部５２の幅ｗ２が最小となる部分の直下におけるリブ層４０を削り、ブラストマスク５０の当該部分と第２リブ３８との間に隙間５５を形成することができる。とりわけ、本実施の形態においては、図６に示すように、第２パターン部５２の幅ｗ２は、両端部分５２ａのうちの第１パターン部５１に接続する接続部から、両端部分５２ａの中間に位置する中間部分５２ｂの中間点に向けて漸次小さくなっていっている。これにより、第２パターン部５２の中間部分５２ｂの直下におけるリブ層４０（第３リブ層４３）を削り、第２リブ３８のうちの第２パターン部５２の中間部分５２ｂに対面する部分における高さをリブ層４０の厚みよりも小さくすることができる。
【００９０】
なお、ブラストマスク５０のその他の部分に覆われているリブ層４０もサイドエッチによって削られる。しかしながら、第２パターン部５２の中間部分５２ｂの幅が、第２パターン部５２のその他の部分の幅および第１パターン部５１の幅よりも小さくなっている。したがって、ブラストマスク５０の直下に位置するリブ層４０を貫通する隙間５５は、まず、第２パターン部５２の中間部分５２ｂの直下方において形成される。そして、本実施の形態においては、この状態で、第１ブラスト加工工程は終了する。すなわち、第１リブ３４の厚さがリブ層４０の厚さのままであり、その一方で、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚さよりも低くなっている状態で、第１ブラスト加工工程が終了する。
【００９１】
（第２ブラスト加工工程）
次に、第１ブラスト加工工程後に実行される第２ブラスト加工工程について説明する。なお、第２ブラスト加工工程は、第１ブラスト加工工程で形成されたマトリクスリブ３１上からブラストマスク５０を除去する前に実行される。
【００９２】
第２ブラスト加工工程は、上述したブラスト加工装置８０を用い、マトリクスリブ３１にブラスト材７５を噴射し、第２リブ３８のうちのリブ形成用基板２０から離間する側に位置する先端部分３９を削る工程である。この結果、図４（ｅ）に示すように、第２リブ３８のリブ形成用基板２０からの高さが第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブ３０が形成されるようになる。
【００９３】
第２ブラスト加工工程では、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃからブラスト材７５を噴射して、リブ形成用基板２０上のマトリクスリブ３１を切削する。このとき、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃをそれぞれ保持する保持手段は、所定の方向に沿ってブラスト材７５が噴射されるように、保持装置８８に保持されたリブ形成用基板２０とマトリクスリブ３１とブラストマスク５０との積層体Ｗに対し、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃを位置決めする。ここでいう所定の方向とは、図７に示すように、リブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬに対して傾斜した方向であり、かつ、図８に示すように、リブ形成用基板２０の平面視において（リブ形成用基板２０の板面の法線方向から観察した場合において）第１方向に沿った方向である。なお、ブラスト材７５はノズル８５ｂ，８５ｃからある程度の幅を持って噴射されるようになるが、ここでは、ある程度の幅のうちの中心方向が所定の方向に概ね平行となるように、ノズル８５ｂ，８５ｃの位置を調整することを意味している。
【００９４】
第２ブラスト加工において用いられるブラスト材７５は、特に限定されず、例えば第１ブラスト加工において用いられ得るブラスト材をそのまま用いることができる。
【００９５】
また、第２ブラスト加工工程において、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃからブラスト材７５が噴射される際の噴射圧力や、ブラスト材７５の噴射量等のブラスト加工条件は、ＰＤＰ用背面板の製造時に用いられ得る一般的な条件に設定され得る。具体例として、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃからブラスト材７５が噴射される際の噴射圧力を、例えば０．０１ｋｇｆ／ｃｍ2〜３．０ｋｇｆ／ｃｍ2の範囲内、好ましくは０．１ｋｇｆ／ｃｍ2〜１．０ｋｇｆ／ｃｍ2の範囲内に設定することができる。また、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃからブラスト材７５が噴射される際のブラスト材７５の噴射量を、例えば１００ｇ／ｍｉｎ〜１００００ｇ／ｍｉｎの範囲内、好ましくは２５０ｇ／ｍｉｎ〜５０００ｇ／ｍｉｎの範囲内に設定することができる。
【００９６】
さらに、第２ブラスト加工工程において、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃの吐出口８６と切削対象となるリブ層４０との離間距離も、ＰＤＰ用背面板２０の製造時に用いられ得る一般的な条件に設定され得る。第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃの吐出口８６と切削対象となるリブ層４０との離間距離を、例えば１ｍｍ〜３００ｍｍの範囲内、好ましくは３ｍｍ〜１００ｍｍに設定することができる。
【００９７】
また、図７および図８に示すように、リブ形成用基板２０の平面視において、第２ノズル８５ｂの噴射方向と、第３ノズル８５ｃの噴射方向と、は第１方向に沿って互いに逆向きとなっている。これにより、被加工体（積層体）Ｗは、互いに逆向きからブラスト材７５を噴射されるようになる。この結果、被加工体（積層体）Ｗを均一に処理することができる。また、本実施の形態においては、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃは、時間をずらしてブラスト材７５を噴射するようになっている。一方のノズルから噴射されたブラスト材７５の進路方向が、他方のノズルからのブラスト材７５の噴射によって、影響を受けないようにするためである。
【００９８】
そして、第２ブラスト加工工程においては、第２ノズル８５ｂと、第３ノズル８５ｃと保持装置８８に保持された被加工体（積層体）Ｗとの相対位置を、リブ形成用基板２０の板面上において変更させながら、マトリクスリブ３１の全領域へ均一にブラスト加工を施していくようになっている。第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃと保持装置８８に保持された被加工体Ｗとの相対移動は、種々の既知な方法によって実施され得る。すなわち、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃと被加工体Ｗとの少なくとも一方を、第１方向および第２方向の少なくとも一方に沿って移動させることによって、実現され得る。
【００９９】
具体例としては、図１３に示すように、図示しない保持手段によってノズル８５ｂ，８５ｃを高速で第１方向に往復移動させながら、保持装置８８によって被加工体Ｗを低速で第２方向に移動させるようにして、被加工体Ｗの全領域にブラスト加工を施すことができる。この方法において、ノズル８５ｂ，８５ｃが１往復する間に被加工体Ｗが送られる量を、被加工体Ｗの移動方向に沿ったノズル８５ｂ，８５ｃの噴射幅より十分小さくしておけば、被加工体Ｗの同一箇所にブラスト材７５が複数回噴射され、加工量のばらつきが生じてしまうことを効果的に防止することができる。
【０１００】
以上のようにして第２および第３のノズル８５ｂ，８５ｃからブラスト材７５が噴射され、マトリクスリブ３１がブラスト加工されていく。この第２ブラスト工程中、ブラストマスク５０は、マトリクスリブ３１上から除去されておらず、マトリクスリブ３１上に残ったままとなっている。したがって、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃから噴射されたブラスト材７５は、第１リブ３４の上面へ衝突することはない。これにより、リブ形成用基板２０からの高さが低くなるように第１リブ３４が上面側から効果的に削られていくことはない。
【０１０１】
また、ブラスト材７５は、リブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬに対して傾斜した方向であってリブ形成用基板２０の板面の法線方向から観察した場合に第１方向に沿う方向に沿って噴射される。したがって、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃから噴射されたブラスト材７５が第１リブ３４の側面に衝突したとしても、その衝突角度（ブラスト材７５の進行方向と第１リブ３４の側面が延びる方向（概ね第１方向）とによってなされる角度）は非常に小さくなる。同一密度のブラスト材７５が飛行している気流中に第１リブ３４が配置されている場合、第１リブ３４の側面が延びる方向とブラスト材７５とがなす角度によって、第１リブ３４の側面に衝突するブラスト材の数が大きく変化する。本件発明者が鋭意研究を重ねたところ、その板面が気流に対して５°だけ傾斜するようにして気流中に立てられた板に衝突するブラスト材の数は、その板面が気流に直交するようにして立てられた板に衝突するブラスト材の数の１／１０以下となることが知見された。したがって、第２ブラスト加工工程において、リブ形成用基板２０からの高さが低くなる程度で、第１リブ３４が側面側から効果的に削られていくことはない。
【０１０２】
さらに、噴射されたブラスト材７５が第１リブ３４の側面に衝突したとしても、ブラスト材７５の速度成分のうちの、第１リブ３４の側面の法線に沿った方向の成分は非常に小さくなる。これにともなって、ブラスト材７５が第１リブ３４に対して与える衝突エネルギーも非常に小さくなる。しかも、第１ブラスト加工工程後における第１リブ３４の側面は概ね平坦となっている。したがって、この第１リブ３４の側面に向かって浅い角度で向かってくるブラスト材７５にはいわゆる水面効果が働く。この結果、ブラスト材７５の速度成分のうちの、第１リブ３４の側面の法線に沿った方向の成分はさらに小さくなる。ここで水面効果とは、飛行する物体が水面（地面）の近傍を通過する際に、この物体に対して大きな揚力が生じる現象をいう。水面効果の具体例としては、例えば、海面の極近傍を飛行する飛行機に大きな揚力が生じる現象等を挙げることができる。
【０１０３】
以上のように、リブ形成用基板２０の平面視においてブラスト材７５が第１方向に沿う方向に沿って噴射されることから、ブラスト材７５が第１リブ３４の側面に対してブラスト加工を有効に行える角度で衝突せず、これにより、第１リブ３４の側面も大きく削られていくことはない。すなわち、第２ブラスト加工工程において、リブ形成用基板２０からの高さが低くなるように第１リブ３４が側面側から効果的に削られていくことはない。
【０１０４】
一方、第２リブ３８についても、ブラストマスク５０が残っているため、上面から有効に削られていくことはない。しかしながら、図１４に示すように、第２リブ３８の少なくとも先端部分３９における側面は、法線方向から傾斜した方向に噴射されるブラスト材７５の直線進路上に位置するようになる。ここで、図１４は、図１１と同様の断面（図６のＸＩ−ＸＩ線に沿った断面）、すなわち、第１方向に沿った断面の、第２ブラスト加工工程中の一状態を示している。したがって、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃから噴射されたブラスト材７５は第２リブ３８の先端部分３９における側面へ直撃し、第２リブ３８の先端部分３９における側面は、側方から削り込まれていく。この結果、ブラストマスク５０が上方に残っているにもかかわらず、第２リブ３８の先端部分３９がブラスト材７５によって削られていく。
【０１０５】
このようにして所定の方向に沿って噴射されたブラスト材７５は、マトリクスリブ３１のうちの第２リブ３８の先端部分３９を選択的に削っていくようになる。これにより、図１５に示すように、第２リブ３８のリブ形成用基板２０からの高さを第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さよりも低くすることができる。このようにして、複数の第１リブ３４と、隣り合う二つの第１リブ３４間を延び、第１リブ３４よりも高さが低い第２リブ３８と、からなる段差マトリクスリブ３０がリブ形成用基板２０上に得られる（図４（ｅ）および図１５参照）。
【０１０６】
なお、ブラスト材７５の噴射方向のリブ形成用基板２０の法線ＮＬに対する傾斜角度θ（図７参照）、より厳密には、リブ形成用基板２０の板面の法線方向および第１方向の両方に沿った断面において、ブラスト材７５の噴射方向とリブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬとがなす角度θは、特に限定されるものではない。ただし、第２リブ３８の先端部分３９を側方から効果的に切削していくことを考慮すると、この傾斜角度θは４５°以上であることが好ましい。傾斜角度θがこの範囲内に設定されている場合、ブラスト材７５の速度成分のうちの、第２リブ３８の先端部分３９の切削に寄与し得る成分、すなわち、第２リブ３８の側面の法線に沿った方向の成分が、第２リブ３８の先端部分の切削に直接的に寄与しない成分よりも多く含まれるようになる。さらに、本件発明者は、鋭意研究を重ねたところ、傾斜角度θが８０°以上９０°以下であることがより好ましく、傾斜角度θが８２°以上８９．５°以下であることがさらにより好ましいことを知見した。この場合、極めて効率率的に第２リブ３８の先端部分３９を切削することができ、これにより、第２ブラスト加工工程に要する時間を大幅に短縮することができる。
【０１０７】
なお、ブラスト材７５の噴射方向のリブ形成用基板２０の法線ＮＬに対する傾斜角度θは９０°であってもよい。傾斜角度θが９０°の場合、すなわち、ブラスト材７５の噴射方向が実質的にリブ形成用基板２０の板面と平行になっている場合であっても、気流や重力等の影響により、第２リブ３８を切削することができる。
【０１０８】
ところで、本実施の形態においては、第１ブラスト加工工程において、マトリクスリブ３１のうちの第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚みよりも小さくなるよう、リブ層４０のうちの第２リブ３８の直上方に位置する部分が削られている。したがって、第２ブラスト加工工程において必要となる切削量を低減することができ、第２ブラスト加工工程を短時間で行うことができる。
【０１０９】
とりわけ、第１ブラスト加工工程において、第２リブ３８の少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置するブラストマスク５０と、の間に隙間５５が形成されるよう、リブ層４０が削られている。つまり、第２リブ３８の少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置するブラストマスク５０と、の間に位置していたリブ層４０の部分が削られている。この場合、第２ブラスト加工工程における切削に要する時間を、さらに大幅に短縮することができるようになる。このような現象が生じるメカニズムは正確には不明であるが、以下のことが一要因となっているものと推測される。まず第１に、第２リブ３８を側方および上方の両方から削ることができ、これにより、第２ブラスト加工工程における第２リブ３８の切削を短時間で行うことが可能となる。つまり、第２リブ３８の隙間に対面する部分（面）が起点となって、第２リブ３８の切削を促進させることが可能となる。また、第２に、噴射されたブラスト材７５および圧縮ガスが、第２リブ３８およびブラストマスク５０の近傍に停滞することなく、第２リブ３８とブラストマスク５０との間の隙間５５を抜けていくことができる。これにより、ブラスト材７５を第２リブ３８に安定して衝突させ、第２ブラスト加工工程における第２リブ３８の切削を短時間で行うことが可能となる。なお、本件発明は以上の推定メカニズムに限定されるものではない。
【０１１０】
また、本実施の形態によれば、上述したように、リブ層４０の表面層をなす第３リブ層４３の下方には、ブラスト加工性の低い、すなわち、ブラスト加工によって削られにくい第２リブ層４２が配置されている。そして、ブラスト加工性の相違に起因して、第２ブラスト加工工程においては、図１４に示すように、第２リブ３８の先端部分３９のうちの第３リブ層４３からなる部分が優先的に削られていく。この結果、第３リブ層４３からなる部分を削り取り第２リブ３８の上面を第２リブ層４２からなる部分によって形成することが可能となる。すなわち、所望の形状を有する第２リブ３８を極めて容易に形成することができる。とりわけ、第２リブ３８の高さを一定にすることが可能になるとともに、第２リブ３８の上面を略平坦な面とすることが可能となる。
【０１１１】
なお、本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、上述したように、第３リブ層４３のブラスト加工性は、第２リブ層４２のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下に設定されていることが好ましく、１．５倍以上１０倍以下に設定されていることがさらに好ましい。第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に比較して高過ぎると、つまり、第２リブ層４２と比較して第３リブ層４３が削られやす過ぎると、ブラスト加工工程中における側方削り込み（サイドエッチ）が促進され過ぎ、得られた第１リブ３４の第３リブ層４３からなる部分が第２リブ層４２からなる部分と比較して大きく削り込まれる。これにより、図１６に示すように、第１リブ３４の外輪郭に凹凸が形成され、可視光を発する蛍光体層１８を支持する面として不都合が生じる。
【０１１２】
一方、第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に対して低過ぎると、つまり、第３リブ層４３が削られにく過ぎると、第２ブラスト加工工程において、第３リブ層４３からなる部分を優先的に切削することが困難となり、第２リブ層４２の一部または全部が削れてしまうことになる。この結果、第２ブラスト加工工程後における第２リブ３８の形状、とりわけ、第２リブ３８の高さおよび第２リブ３８の上面の平坦性を安定させることができない。
【０１１３】
また、第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に対して低過ぎると、つまり、第３リブ層４３が削られにく過ぎると、第１ブラスト加工工程において、リブ層４０のうちのマトリクスリブ３１以外の部分を切削する際に、第３リブ層４３を削り取るのに長時間を要するようになる。同様に、第２ブラスト加工工程において、第２リブ３８のうちの第３リブ層４３からなる部分を削り取るのに長時間を要するようになる。すなわち、生産性を悪化させてしまう。
【０１１４】
さらに、本件発明者らがブラスト加工性について鋭意研究を重ねたところ、上述したように、第１リブ層４１のブラスト加工性は第２リブ層４２のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下に設定されていることが好ましく、２倍以上２５倍以下に設定されていることがさらに好ましい。結果として、第１リブ層４１のブラスト加工性は、第３リブ層４３のブラスト加工性よりも高いことが好ましいことになる。
【０１１５】
第１リブ層４１のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に比較して高過ぎると、つまり、第２リブ層４２と比較して第１リブ層４１が削られやす過ぎると、ブラスト加工工程中における側方削り込み（サイドエッチ）が促進され過ぎ、得られた第１リブ３４および第２リブ３８の第１リブ層４１からなる部分が第２リブ層４２からなる部分と比較して大きく削り込まれる。これにより、第１リブ３４の外輪郭（図１６参照）および第２リブ３８の外輪郭に凹凸が形成され、可視光を発する蛍光体層１８を支持する面として不都合が生じる。
【０１１６】
一方、第１リブ層４１のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に対して低過ぎると、つまり、第１リブ層４１が削られにく過ぎると、第１ブラスト加工工程において、リブ層４０のうちのマトリクスリブ３１以外の部分を切削する際に、第１リブ層４１を削り取るのに長時間を要するようになる。すなわち、生産性を悪化させてしまう。
【０１１７】
（その他の工程）
以上のようにしてリブ形成用基板２０上に段差マトリクスリブ３０が形成された後、段差マトリクス３０上からブラストマスク５０が除去される。ブラストマスク５０の除去方法としては、ＰＤＰ用背面板の製造において用いられ得る種々の既知の方法を採用することができる。例えば、苛性ソーダを用いてブラストマスク５０を除去することができる。この場合のブラストマスク除去装置は、苛性ソーダを噴射する噴射機構あるいは苛性ソーダを貯留する苛性ソーダ貯留槽を含むようになる。このようにして、リブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上に段差マトリクスリブ３０が露出するようになる（図１参照）。
【０１１８】
次に、リブ形成用基板２０上の段差マトリクスリブ３０を焼成する。上述したように、本実施の形態によれば、段差マトリクスリブ３０を精度良く安定して作製することができる。したがって、焼成によって段差マトリクスリブ３０が変形し、結果として、前面板との組み合わせ時に不具合を来してしまうことを効果的に防止することができる。
【０１１９】
最後に、段差マトリクスリブ３０の側面およびリブ形成用基板２０の一方の面２０ａ上に蛍光体層１８を形成する。蛍光体層１８の形成方法は、ＰＤＰ用背面板の製造において用いられ得る種々の既知の方法、例えばスクリーン印刷による成膜方法を採用することができる。
【０１２０】
以上のようにして、図２に示されたプラズマディスプレイパネル用背面板１０が得られる。
【０１２１】
＜本実施の形態の作用効果の概要＞
以上のような本実施の形態によれば、第1ブラスト加工として、ブラストマスク５０越しにリブ層４０へ向けてブラスト材７５を噴射することにより、リブ層４０をパターニングしてマトリクスリブ３１を形成している。その後、第２ブラスト加工として、リブ形成用基板２０の板面の法線ＮＬに対して傾斜した方向であって、リブ形成用基板２０の板面の法線方向から観察した場合に第１方向と平行な方向に沿って、マトリクスリブ３１にブラスト材７５を噴射する。この第２ブラスト加工中、ブラストマスク５０は、マトリクスリ３１上から除去されておらず、マトリクスリブ３１上に残ったままとなっている。したがって、ブラスト材７５が第１リブ３４の上面へ衝突することはなく、これにより、リブ形成用基板２０からの高さが低くなるように第１リブ３４が効果的に削られていくことはない。また、ブラスト材７５の噴射方向は、平面視において、第１リブ３４の延在方向（第１方向）と一致している。したがって、ブラスト材７５が第１リブ３４の側面に対して、ブラスト加工を有効に行える角度で衝突することはなく、これにより、第１リブ３４の側面が大きく削られていくことはない。すなわち、第２ブラスト加工中、第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さをそのままに維持することが可能である。
【０１２２】
一方、第２リブ３８についても、第２ブラスト加工中、ブラストマスク５０が残っているため、上面から有効に削られていくことはない。しかしながら、第２リブ３８の少なくとも先端部分３９における側面は、法線方向から傾斜した方向に噴射されるブラスト材７５の噴射軌道上に位置するようになる。このため、噴射されたブラスト材７５は第２リブ３８の先端部分３９における側面へ直撃し、第２リブ３８の先端部分３９における側面は、側方から削り込まれていく。この結果、ブラストマスク５０が上方に残っているにもかかわらず、第２リブ３８の先端部分３９がブラスト材７５によって削られていく。
【０１２３】
このように、第１ブラスト加工によって形成されたマトリクスリブ３１上に新たなブラストマスクを再度形成し直すことなく、ブラスト材７５の噴射方向を変更するといった極めて簡単な操作のみによって、第１リブ３４と第２リブ３８とからなるマトリクスリブ３１のうち、第２リブ３８を選択的に削っていくことができる。これにより、第２リブ３８のリブ形成用基板２０からの高さを第１リブ３４のリブ形成用基板２０からの高さよりも低くすることができる。このようにして、複数の第１リブ３４と、隣り合う二つの第１リブ３４間を延び、第１リブ３４よりも高さが低い第２リブ３８と、からなる段差マトリクスリブ３０を有したプラズマディスプレイパネル用背面板１０を容易に製造することができる。とりわけ、ブラストマスク５０を一回のみ形成すればよいので、プラズマディスプレイパネル用背面板１０を安価かつ短時間で製造することができる。
【０１２４】
また、本実施の形態においては、第１ブラスト加工中、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚みよりも小さくなるよう、リブ層が削られる。したがって、第２ブラスト加工中において必要となる第２リブ３８の切削量を低減することができ、第２ブラスト加工を短時間で行うことができる。すなわち、第１ブラスト加工と比較して、噴射方向やブラスト材７５の噴射量等のブラスト条件について微調整が必要となる傾向のある第２ブラスト加工を、短時間で行うことができる。これにより、プラズマディスプレイパネル用背面板１０をより安価かつより短時間で安定して製造することができる。
【０１２５】
また、本実施の形態によれば、第１ブラスト加工により、第１リブ３４および第２リブ３８は、それぞれ、第１リブ層４１からなる部分と、第２リブ層４２からなる部分と、第３リブ層４２からなる部分と、を含むように形成される。ここで、第３リブ層４３は第２リブ層４２よりもブラスト加工によって削られやすくなっている。このブラスト加工性の相違を利用して、第２ブラスト加工において、第２リブ３８のうちの、第２リブ層４２からなる部分を残しながら、第３リブ層４３からなる部分を主に削り取っていくことができる。この結果、第３リブ層４３からなる部分を削り取り第２リブ３８の上面を第２リブ層４２からなる部分によって形成することが可能となる。すなわち、一定の形状を有する第２リブ３８を極めて容易に形成することができる。とりわけ、第２リブ３８の高さを一定にすることが可能になるとともに、第２リブ３８の上面を略平坦な面とすることも可能となる。
【０１２６】
＜変形例＞
上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。以下、変形例の一例について説明する。
【０１２７】
上述した実施の形態において、リブ層４０が第１乃至第３リブ層４１，４２，４３の三層を含んでいる例を示したが、これに限られず、リブ層４０の層構成を適宜変更することができる。例えば、リブ層４０が単一層から形成されているようにしてもよい。このような場合であっても、第１ブラスト加工中に、リブ層４０またはリブ形成用基板２０上で跳ね返ったブラスト材７５によって、リブ層４０を側方から削り込むことを期待することができる。また、第２ブラスト加工における、ブラスト材７５の噴射方向を調節することにより、第２リブ３８の所望の範囲にのみへブラスト材７５が直撃するようにして、所定の寸法を有した第２リブ３８を形成することも可能となる。
【０１２８】
また、上述した実施の形態において、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅ｗ２が、両端部分５２ａのうちの第１パターン部５１に接続する接続部から、一対の両端部分５２ａの中間に位置する中間部分５２ｂの中間点に向け、漸次狭くなっていく例を示したが、これに限られない。例えば、図１７に示すようにして、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅ｗ２が、第１パターン部５１に接続する両端部分５２ａよりも一対の両端部分５２ａ間に位置する中間部分５２ｂにおいて小さくなっているようにしてもよい。図１７に示すようなブラストマスク５０においても、第２パターン部５２の最小幅が第１パターン部５１の最小幅よりも小さくなっていれば、その他の特別な操作を要することなく、第２パターン部５２の幅が最小となる部分の直下におけるリブ層４０を側方から削り込むことを促進することができる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１の第２リブ３８の少なくとも一部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くし、かつ、マトリクスリブ３１のその他の部分の高さよりも低くすることが可能となる。
【０１２９】
また、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅ｗ２が、第１パターン部５１に接続する両端部分５２ａにおいて、一対の両端部分５２ａ間に位置する中間部分５２ｂよりも小さくなっているようにしてもよい。例えば、図１８に示す例において、第２パターン部５２の両端部分５２ａにおける幅は、第１パターン部５１に接続する接続部を除いて一定であり、第２パターン部５２の最小幅をなしている。
【０１３０】
一般的に、リブ層４０のうちの、第１リブ３４および第２リブ３８の交点に隣接する領域およびその近傍の領域は比較的に削り取られにくくなる傾向がある。そして、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しが多く存在すると、焼成工程後の焼成収縮にともなって段差マトリクスリブ３０が大きく変形しやすくなる。より具体的には、当該領域における削り残り部分が、上方へ（リブ形成用基板２０から離間する方向へ）突出してしまうことがある。そしてこの場合、作製されたＰＤＰ用背面板１０を前面板と組み合わせた際に、背面板１０と前面板との間にがたつきが生じ、ＰＤＰとしての使用中、とりわけ放電時に異音が発生してしまうという不具合を来すことすらある。したがって、焼成収縮にともなう段差マトリクスリブ３０の変形を抑制する上で、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制することが極めて重要となる。
【０１３１】
図１８に示す例においては、リブ層４０のうちの第１リブ３４の近隣部分における側方削り込みを促進させ、図１９に示すように、第１ブラスト加工工程によって、ブラストマスク５０直下の隙間５５を、リブ層４０の第１リブ３４へ隣接する部分および／または第１リブ３４近傍の部分に形成することが可能となる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１において、第２リブ３８のうちの、第１リブ３４に隣接する部分および／または第１リブ３４近傍の部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くすることができる。この場合、第２ブラスト加工工程を短時間化させることが可能になるだけでなく、第１リブ３４の第２リブ３８近傍における頂部幅が広くなり過ぎてしまうことを防止し、第１リブ３４のその長手方向（つまり、第１方向）に沿った頂部幅のバラツキを大幅に抑制することが可能となる。同時に、第２リブ３８のその長手方向（つまり、第２方向）に沿った頂部幅のバラツキおよび高さのバラツキを大幅に抑制することも可能となる。このようにして、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制し、ＰＤＰ用背面１０を精度良く安定して製造することが可能となる。
【０１３２】
なお、図１９は、図１２に対応する図であって、第２方向に沿った断面において第１ブラスト加工後の状態を示す図である。
【０１３３】
ところで、図１８に示す例において、第２パターン部５２の各端部分５２ａにおける幅は、第１パターン部５１に接続する接続位置において、当該部分５２ａ内のその他の位置の幅よりも太くなっている。これは、ブラスト加工中に、ブラストマスク５０の第２パターン部５２が第１パターン部５１から引きちぎられてしまうことの防止を主目的としている。ただし、この構成は必須ではなく、それどことろか、以下において説明するように、第２パターン部５２が第１パターン部５１から引きちぎられることを促進した方が好ましいこともある。したがって、第２パターン部５２の両端部分５２ａにおける幅は、全域において一定となっていてもよい。
【０１３４】
なお、図１９に実線で示す状態よりもさらに切削が進んだ状態で第１ブラスト加工を終了させるようにしてもよい。この場合、図１９に実線で示す状態から、第２リブ３８の隙間５５に対面する部分（面）が起点となって、第２リブ３８の切削が促進される。このとき、より側方削り込みされやすい部分側へ向けて、切削が進行する。図示する例においては、第２リブ３８のうちの中間部分５２ｂ下方の部分側へ向けて、切削を進行させることが可能となる。この結果、図１９に二点鎖線で示すように、略全域において第２リブ３８の高さを低くすることができるようになる。図１９に二点鎖線で示すような場合には、第２リブ３８のその長手方向に沿った頂部幅のバラツキおよび高さのバラツキを極めて効果的に抑制することができる。
【０１３５】
さらに、図２０に示すように、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅が、第２方向に沿った少なくとも一部分において、第２パターン部５２の第２方向に沿った中心位置５２ｅから第１パターン部５１への接続位置５２ｄに向けて小さくなっていくようにしてもよい。ここでいう「細くなっていく」とは、当該一部分内において太くなる箇所がないことを意味し、当該少なくとも一部分内に、幅の太さが一定となっている部分が部分的に含まれていてもよい。つまり、「細くなっていく」には、幅が連続的に小さく（狭く、細く）なっていくことだけでなく、段階的に小さくなっていくことも含まれる。とりわけ、図２０に示す例においては、第２パターン部５２の第２方向に沿った中心位置５２ｅから第１パターン部５１への接続位置５２ｄに向け、第２パターン部５２の第２方向に沿った全長にわたって、第２パターン部５２の幅が漸次小さくなっていく。この結果、第２パターン部５２の幅は、中心位置５２ｅにおいて最も太く、接続位置５２ｄにおいて最も細くなっている。このようなブラストマスク５０を用いた場合、図１８および図１９を参照しながら説明したブラストマスクと略同一の作用効果を得ることができる。すなわち、図２０に示すブラストマスクを用いた場合、第２リブ３８のうちの第１リブ３４の近隣部分における側方削り込みを促進させ、第１ブラスト加工工程によって、ブラストマスク５０直下の隙間５５を、第２リブ３８の第１リブ３４へ隣接する部分および／または第１リブ３４近傍の部分に形成することが可能となる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１において、第２リブ３８のうちの、第１リブ３４に隣接する部分および／または第１リブ３４近傍の部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くすることができる。この場合、第２ブラスト加工工程を短時間化させることが可能になるだけでなく、第１リブ３４の第２リブ３８近傍における頂部幅が広くなり過ぎてしまうことを防止し、第１リブ３４のその長手方向（つまり、第１方向）に沿った頂部幅のバラツキを大幅に抑制することが可能となる。同時に、第２リブ３８のその長手方向（つまり、第２方向）に沿った頂部幅のバラツキおよび高さのバラツキを大幅に抑制することも可能となる。結果として、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制し、ＰＤＰ用背面１０を精度良く安定して製造することが可能となる。
【０１３６】
なお、上述してきたように、リブ層４０のうちの、第１リブ３４と第２リブ３８とが交差する位置に隣接する領域およびその近傍の領域は比較的に削り取られにくくなる傾向がある。したがって、図１８や図２０に示すブラストマスク５０のように、第２パターン部５２の幅が、端部分５２ａにおいて中間部分５２ｂよりも狭くなっていたとしても、端部分５２ａの直下における第２リブ３８の幅が、中間部分５２ｂの直下における第２リブ３８の幅と比較して格段に小さくなってしまうことはない。それどころか、両端部分５２ａにおける第２パターン部５２の幅および中間部分５２ｂにおける第２パターン部５２の幅を適宜調節することによって、第２リブ３８の幅を、第２方向に沿った第２リブ３８の全長にわたって、略一定に仕上げることも可能である。
【０１３７】
さらに、図２１に示すように、ブラストマスク５０の第１パターン部５１の幅が変化するようにしてもよい。図２１に示されたブラストマスク５０の第１パターン部５１の幅は、第２パターン部５２との接続箇所近傍において、第２パターン部５２との接続箇所へ向けて漸次細くなっていく。このようなブラストマスク５０によれば、特別な操作を要することなく、第１リブ３４のうちの第２リブ３８に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制することができる。また、図２１に示されたブラストマスク５０において、第２パターン部５２の幅は、図２０に示されたブラストマスク５０と同様に、第２パターン部５２の第２方向に沿った中心位置５２ｅから第１パターン部５１への接続位置５２ｄに向けて小さくなっていく。したがって、図２１に示されたブラストマスク５０によれば、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域における削り残しを抑制することも可能となる。
【０１３８】
さらに、図２２に示すように、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の幅ｗ２が一定であり、第１パターン部５１の幅ｗ１よりも小さくなっているようにしてもよい。図２２に示すようなブラストマスク５０においても、その他の特別な操作を要することなく、第２パターン部５２の直下におけるリブ層４０を側方から削り込むことを促進することができる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１の第２リブ３８の少なくとも一部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くし、かつ、マトリクスリブ３１のその他の部分の高さよりも低くすることが可能となる。
【０１３９】
さらに、図２３に示すように、ブラストマスク５０の第２パターン部５２が、隣り合う二つの第１パターン部５１間で分断されているようにしてもよい。図２３に示すようなブラストマスク５０によれば、第１ブラスト加工において、第２パターン部５２の分断された領域５２ｃを通過するブラスト材７５による削り込みと、リブ層４０またはリブ形成用基板２０上で跳ね返ったブラスト材７５による側方への削り込みと、によって、第２パターン部５２の分断箇所５２ｃの直下およびその周囲におけるリブ層４０を削ることができる。結果として、第１ブラスト加工によって得られたマトリクスリブ３１の第２リブ３８の少なくとも一部分の高さを、リブ層４０の厚みよりも低くし、かつ、マトリクスリブ３１のその他の部分の高さよりも低くすることが可能となる。
【０１４０】
ここで、図２４は、図１２に対応する図であって、第２方向に沿った断面の第１ブラスト加工後の状態を示す図である。図２４に示す例においては、第２リブ３８のうちの第２パターン部５２の分断箇所５２ｃの直下に位置する部分の周囲と、当該部分の直上方に位置するブラストマスク５０と、の間に隙間５５が形成されている。この場合、上述した実施の形態と同様に、第２ブラスト加工工程における切削を、極めて短時間で行うことができるようになる。
【０１４１】
なお、以上において複数のブラストマスク５０を説明してきたが、これらは本発明において用いられ得るブラストマスクの一例である。すなわち、本発明においては、上述してきた複数のブラストマスクに限定されることなく、例えば、上述してきたブラストマスクのいずれかと一部分のみにおいて同一の形状を有するブラストマスクや、上述してきたブラストマスクのいずれとも異なる形状を有したブラストマスク等を、用いることも可能である。
【０１４２】
さらに、上述した実施の形態における第２ブラスト加工工程において、ブラストマスク５０のうちの、第２リブ３８の直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取るようにしてもよい。すなわち、図２０に点線で示すように、第２ブラスト加工工程において、ブラストマスク５０の第２パターン部５２の少なくとも一部を削り取るようにしてもよい。上述したように、第２ブラスト加工工程において、ブラスト材７５は平面視において第１方向に沿った方向に噴射される（例えば、図２０参照）。したがって、ブラストマスク５０のうちの第２パターン部５２は、その他の部分（つまり、第１パターン部５１）から引きちぎられやすくなっている。とりわけ、図２０や図２１に示されたブラストマスク５０においては、第２パターン部５２の第２方向に沿った中心位置５２ｅから第１パターン部５１への接続位置５２ｄに向け、第２パターン部５２の幅は漸次小さくなり、切り欠きのような最小幅が、第１パターン部５１と第２パターン部５２とが交差する位置（第２パターン部５２の接続位置５２ｄ）に形成されているため、第２パターン部５２の両方の端部分５２ａにおいて、第１パターン部５１から引きちぎられやすくなる。この結果、各第２パターン部５２の略全体が第１パターン部５１から引きちぎられやすくなる。
【０１４３】
このようにして第２パターン部５２が除去されると、その後ブラスト加工工程中、第２リブ３８の直上方にはブラストマスク５０が存在しない。この場合、第２ブラスト加工工程を短時間化させることが可能になるだけでなく、第２リブ３８の頂部をより平坦に形成することが可能になる。言い換えると、第２リブ３８の頂部が曲面状になってしまうことを大幅に抑制することができる。また、第２リブ３８のうちの第１リブ３４に隣接する領域およびその近傍の領域の切削を促進することができる。結果として、焼成収縮時の不都合な変形が大幅に抑制され得る段差マトリクスリブ３０を精度良く安定して作製することが可能となる。
【０１４４】
さらに、上述した実施の形態において、第１ブラスト加工において、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さがリブ層４０の厚みよりも小さくなるよう、リブ層を削る例を示したが、これに限られない。第１ブラスト加工において、第２リブ３８の少なくとも一部分における高さをリブ層４０の厚みよりも小さくする必要はない。すなわち、第２ブラスト加工のみによって、第２リブ３８の高さを変化させるようにしてもよい。
【０１４５】
さらに、上述した実施の形態において、第２ブラスト加工工程後にブラストマスク５０を除去する例を示したが、これに限られず、例えば、第２ブラスト加工工程前にブラストマスク５０を除去するようにしてもよい。第２ブラスト加工工程前にブラストマスク５０を除去した場合、第２ブラスト加工工程中に第２リブ３８上にブラストマスク５０が存在しないため、第２リブ３８を所望の形状に精度良く短時間で切削することができる。なお、ブラスト材７５の噴射角度を調節することによって、第２工程中に第１リブ３４を大きく削り込んでしまうことを回避することができる。
【０１４６】
さらに、上述した実施の形態において説明したブラスト加工装置８０の構成は、例示に過ぎない。例えば、図２５に示すように、被加工体Ｗが一方向に移動するとともに、その移動経路に沿って複数のブラストノズル８５が配置されているようにしてもよい。図２５に示す例においては、被加工体（リブ形成用基板２０、リブ層４０およびブラストマスク５０の積層体）Ｗが、当該被加工体Ｗのリブ形成用基板２０の第２方向と進行方向とが一致するようにして、搬送される。被加工体Ｗの搬送経路の上流側に第１ブラスト加工用の第１ノズル８５ａが複数配置され、被加工体Ｗの搬送経路の下流側に第１ブラスト加工用の第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃがそれぞれ複数配置されている。また、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃは、被加工体Ｗの搬送方向に沿って交互に配置されている。各ノズル８５ａ，８５ｂ，８５ｃは、細長い吐出口８６が被加工体Ｗの搬送方向に沿うようにして、つまり、搬送される被加工体Ｗのリブ形成用基板２０の第１方向に沿うようにして配置されている。また、各ノズル８５は、被加工体Ｗの搬送方向に直交する方向、つまり、搬送される被加工体Ｗのリブ形成用基板２０の第２方向に沿って、往復移動するようになっている。このようなブラスト加工装置８０によれば、被加工体Ｗの全面をムラなく加工していくことが可能となる。
【０１４７】
また、上述した実施の形態において、第２ブラスト加工中、第２ノズル８５ｂからブラスト材７５を噴射する時間帯と、第３ノズル８５ｃからブラスト材７５を噴射する時間帯と、を別々にする例を示したがこれに限られない。図２６に示すように、第２ノズル８５ｂと第３ノズル８５ｃとの配置間隔を十分大きく取ることにより、ブラスト材８５を対向する方向から同時に噴射したとしても、異なるノズル８５ｂ，８５ｃから噴射されたブラスト材７５の移動（飛行）が互いに阻害し合ってしまうことを防止することが可能となる。さらに、図２７に示すように、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃから、互いから離間する向きにブラスト材７５が噴射されるようにしてもよい。このような例によっても、異なるノズル８５ｂ，８５ｃから噴射されたブラスト材７５の移動（飛行）が互いに阻害し合ってしまうことを防止することが可能となる。
【０１４８】
さらに、上述した実施の形態において、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃの二つのノズルによって、第１方向に沿った両側から第２リブ３８にブラスト材７５を噴射する例を示したが、これに限られない。一つのノズルを用い、当該一つのノズルをマトリクスリブ３１（被加工体Ｗ）に対して相対移動させることによって、第１方向に沿った両側から第２リブ３８にブラスト材７５を噴射するようにしてもよい。また、第１方向に沿った両側から第２リブ３８にブラスト材７５を噴射することは必須ではなく、第１方向に沿ったいずれか一方の側のみから第２リブ３８にブラスト材７５を噴射するようにしてもよい。この場合、第２ノズル８５ｂおよび第３ノズル８５ｃのうちのいずれか一方を省略することが可能となる。
【０１４９】
以上のように上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１５０】
【図１】図１は、プラズマディスプレイパネル用背面板の一例を示す斜視図である。
【図２】図２は、プラズマディスプレイパネル用背面板の一例を示す断面図である。
【図３】図３（ａ）および（ｂ）は、図１に示されたプラズマディスプレイパネル用背面板に組み込まれたリブ形成用基板を説明するための図であって、図３（ｂ）はリブ形成用基板を示す斜視図であり、図３（ａ）は誘電体層を省いた状態におけるリブ形成用基板を示す斜視図である。
【図４】図４、本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法および製造装置の一実施の形態を説明するための図である。
【図５】図５は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法のリブ層形成工程を説明するための図である。
【図６】図６は、ブラストマスク形成工程において形成されたブラストマスクを示す平面図である。
【図７】図７は、ブラスト加工装置の概略構成を示す側面図である。
【図８】図８は、図７に示されたブラスト加工装置の概略構成を示す平面図である。
【図９】図９は、図７および図８に示されたブラスト加工装置に組み込まれ得るノズルの一例を示す斜視図である。
【図１０】図１０は、図７および図８に示されたブラスト加工装置に組み込まれ得るノズルの他の例を示す斜視図である。
【図１１】図１１は、図６のＸＩ−ＸＩに沿った断面を示す図であって、第１ブラスト加工中における被加工体の一状態を第１方向に沿った断面において示す図である。
【図１２】図１２は、図６のＸＩＩ−ＸＩＩに沿った断面を示す図であって、第１ブラスト加工後における被加工体の状態を第２方向に沿った断面において示す図である
【図１３】図１３は、第２ブラスト加工時におけるノズルおよび被加工体の相対移動方法の一例を説明するための図である。
【図１４】図１４は、図１１に対応する断面図であって、第２ブラスト加工中における被加工体の一状態を第１方向に沿った断面において示す図である。
【図１５】図１５は、図１２に対応する断面図であって、第２ブラスト加工後における被加工体の状態を第２方向に沿った断面において示す図である。
【図１６】図１６は、第１リブの好ましくない例を説明するための断面図である。
【図１７】図１７は、図６に対応する図であって、ブラストマスクの変形例を示す平面図である。
【図１８】図１８は、図６に対応する図であって、ブラストマスクの他の変形例を示す平面図である。
【図１９】図１９は、図１２に対応する図であって、図１８に示されたブラストマスクを用いて第１ブラスト加工を行った後における被加工体の状態を第２方向に沿った断面において示す図である。
【図２０】図２０は、図６に対応する図であって、ブラストマスクのさらに他の変形例を示す平面図である。
【図２１】図２１は、図６に対応する図であって、ブラストマスクのさらに他の変形例を示す平面図である。
【図２２】図２２は、図６に対応する図であって、ブラストマスクのさらに他の変形例を示す平面図である。
【図２３】図２３は、図６に対応する図であって、ブラストマスクのさらに他の変形例を示す平面図である。
【図２４】図２４は、図１２に対応する図であって、図２３に示されたブラストマスクを用いて第１ブラスト加工を行った後における被加工体の状態を第２方向に沿った断面において示す図である。
【図２５】図２５は、ブラスト加工装置の変形例を示す平面図である。
【図２６】図２６は、ブラスト加工装置の他の変形例を示す平面図である。
【図２７】図２７は、図７に対応する図であって、ブラスト加工装置のさらに他の変形例を示す側面図である。
【符号の説明】
【０１５１】
１０ プラズマディスプレイパネル用背面板（ＰＤＰ用背面板）
２０ リブ形成用基板
３０ 段差マトリクスリブ
３１ マトリクスリブ
３４ 第１リブ
３８ 第２リブ
３９ 先端部分
４０ リブ層
４１ 第１リブ層
４２ 第２リブ層
４３ 第３リブ層
５０ ブラストマスク
５１ 第１パターン部
５２ 第２パターン部
５２ａ 端部分
５２ｂ 中間部分
５２ｄ 接続位置
５２ｅ 中心位置
７０ プラズマディスプレイパネル用背面板の製造装置
７１ リブ形成装置
７５ ブラスト材
８０ ブラスト加工装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工工程と、
前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工工程と、
前記第２ブラスト加工工程後に、前記段差マトリクスリブ上から前記ブラストマスクを除去する工程と、を備える
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項２】
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られる
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項３】
リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工工程と、
前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工工程と、を備え、
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られる
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項４】
前記第２ブラスト加工工程において、前記ブラストマスクのうちの、前記第２リブの直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取る
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項５】
前記第１ブラスト加工工程後であって前記第２ブラスト加工工程前に、前記マトリクスリブ上から前記ブラストマスクを除去する工程を、さらに備える
ことを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項６】
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されるよう、前記リブ層が削られる
ことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項７】
前記ブラストマスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１パターン部間を前記第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部の最小幅は、前記第１パターン部の最小幅よりも小さい
ことを特徴とする請求項２乃至６のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項８】
前記第２パターン部の幅は一定であり、前記第１パターン部の幅よりも小さい
ことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項９】
前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分よりも前記両端部分の間の中間部分において、小さくなっている
ことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１０】
前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分において前記両端部分の間の中間部分よりも、小さくなっている
ことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１１】
前記第１ブラスト加工工程において、前記リブ層または前記リブ形成用基板上で跳ね返ったブラスト材による側方への削り込みによって、リブ層のうちの、前記第２リブの前記少なくとも一部分の直上方に位置する部分が削られる
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１２】
前記ブラストマスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１パターン部間を前記第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部は、前記第１パターン部間で分断されている
ことを特徴とする請求項２乃至６のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１３】
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２パターン部の分断された領域に進むブラスト材による削り込みと、前記リブ層または前記リブ形成用基板上で跳ね返ったブラスト材による側方への削り込みと、によって、リブ層のうちの、前記第２リブの前記少なくとも一部分の直上方に位置する部分が削られる
ことを特徴とする請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１４】
前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有し、
前記第１ブラスト加工工程において、第１リブおよび第２リブは、それぞれ、前記第１リブ層からなる部分と、前記第２リブ層からなる部分と、前記第３リブ層からなる部分と、を含むように形成され、
前記第２ブラスト加工工程において、前記第２リブの前記第３リブ層からなる部分が削られる
ことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１５】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第３リブ層のブラスト加工性よりも高い
ことを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１６】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下である
ことを特徴とする請求項１４または１５に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１７】
前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下である
ことを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１８】
前記第２ブラスト加工工程において、前記リブ形成用基板の板面の法線に対するブラスト材の噴射方向の傾斜角度は、４５°以上である
ことを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１９】
プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられるブラスト加工装置であって、
リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工と、
前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記ブラストマスク下の前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工と、
を実行するように構成されている
ことを特徴とするブラスト加工装置。
【請求項２０】
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られる
ことを特徴とする請求項１９に記載のブラスト加工装置。
【請求項２１】
プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられるブラスト加工装置であって、
リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工と、
前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工と、
を実行するように構成されており、
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層を削る
ことを特徴とするブラスト加工装置。
【請求項２２】
前記第２ブラスト加工工程において、前記ブラストマスクのうちの、前記第２リブの直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取る
ことを特徴とする請求項１９乃至２１のいずれか一項に記載のブラスト加工装置。
【請求項２３】
前記第２ブラスト加工工程は、前記マトリクスリブ上から前記ブラストマスクが除去された後に実行される
ことを特徴とする請求項２１に記載のブラスト加工装置。
【請求項２４】
前記第１ブラスト加工において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されるよう、前記リブ層を削る
ことを特徴とする請求項２０乃至２３のいずれか一項に記載のブラスト加工装置。
【請求項２５】
前記第２ブラスト加工工程において、前記リブ形成用基板の板面の法線に対するブラスト材の噴射方向の傾斜角度は、４５°以上である
ことを特徴とする請求項１９乃至２４のいずれか一項に記載のブラスト加工装置。
【請求項２６】
請求項１乃至１８に記載された製造方法によって製造された
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項２７】
リブ形成用基板と、
前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、を備え、
前記リブ層は、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクス状にパターニングされており、
前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層および第１リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有し、
前記第１リブは、前記第１リブ層からなる部分と、前記第２リブ層からなる部分と、前記第３リブ層からなる部分と、を含み、
前記第２リブは、少なくとも前記第１リブ層からなる部分と前記第２リブ層からなる部分とを含み、前記第２リブの前記背面板基板からの高さは前記第１リブの前記背面板基板からの高さよりも低い
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項２８】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下である
ことを特徴とする請求項２７に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項２９】
前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下である
ことを特徴とする請求項２７または２８に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項３０】
ブラスト加工を用いてプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、
リブ形成用基板と、
前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、
前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を備え、
前記ブラストマスクは、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１パターン部間を延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部の最小幅は、前記第１パターン部の最小幅よりも小さい
ことを特徴とする積層体。
【請求項３１】
前記第２パターン部の幅は一定であり、前記第１パターン部の幅よりも小さい
ことを特徴とする請求項３０に記載の積層体。
【請求項３２】
前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分よりも前記両端部分の間の中間部分において、小さくなっている
ことを特徴とする請求項３０に記載の積層体。
【請求項３３】
前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分において前記両端部分の間の中間部分よりも、小さくなっている
ことを特徴とする請求項３１に記載の積層体。
【請求項３４】
ブラスト加工を用いてプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、
リブ形成用基板と、
前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、
前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を備え、
前記ブラストマスクは、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１パターン部間を延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部は、前記第１パターン部間で分断されている
ことを特徴とする積層体。
【請求項３５】
前記リブ層は、前記第１パターン部の直下に位置する複数の第１リブと、前記第２パターン部の直下に位置し、前記第１リブ間を延びる第２リブと、を含むマトリクス状にパターニングされており、
前記第２リブの少なくとも一部分における高さが、前記第１リブの厚みよりも低くなっている
ことを特徴とする請求項３０乃至３４のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項３６】
前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されている
ことを特徴とする請求項３５に記載の積層体。
【請求項３７】
前記リブ層は、
前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、
前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、
前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有する
ことを特徴とする請求項３０乃至３６のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項３８】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第３リブ層のブラスト加工性よりも高い
ことを特徴とする請求項３７に記載の積層体。
【請求項３９】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下である
ことを特徴とする請求項３７または３８に記載の積層体。
【請求項４０】
前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下である
ことを特徴とする請求項３７乃至３９のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項１】
リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工工程と、
前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工工程と、
前記第２ブラスト加工工程後に、前記段差マトリクスリブ上から前記ブラストマスクを除去する工程と、を備える
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項２】
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られる
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項３】
リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工工程と、
前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工工程と、を備え、
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られる
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項４】
前記第２ブラスト加工工程において、前記ブラストマスクのうちの、前記第２リブの直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取る
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項５】
前記第１ブラスト加工工程後であって前記第２ブラスト加工工程前に、前記マトリクスリブ上から前記ブラストマスクを除去する工程を、さらに備える
ことを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項６】
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されるよう、前記リブ層が削られる
ことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項７】
前記ブラストマスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１パターン部間を前記第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部の最小幅は、前記第１パターン部の最小幅よりも小さい
ことを特徴とする請求項２乃至６のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項８】
前記第２パターン部の幅は一定であり、前記第１パターン部の幅よりも小さい
ことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項９】
前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分よりも前記両端部分の間の中間部分において、小さくなっている
ことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１０】
前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分において前記両端部分の間の中間部分よりも、小さくなっている
ことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１１】
前記第１ブラスト加工工程において、前記リブ層または前記リブ形成用基板上で跳ね返ったブラスト材による側方への削り込みによって、リブ層のうちの、前記第２リブの前記少なくとも一部分の直上方に位置する部分が削られる
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１２】
前記ブラストマスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１パターン部間を前記第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部は、前記第１パターン部間で分断されている
ことを特徴とする請求項２乃至６のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１３】
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２パターン部の分断された領域に進むブラスト材による削り込みと、前記リブ層または前記リブ形成用基板上で跳ね返ったブラスト材による側方への削り込みと、によって、リブ層のうちの、前記第２リブの前記少なくとも一部分の直上方に位置する部分が削られる
ことを特徴とする請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１４】
前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有し、
前記第１ブラスト加工工程において、第１リブおよび第２リブは、それぞれ、前記第１リブ層からなる部分と、前記第２リブ層からなる部分と、前記第３リブ層からなる部分と、を含むように形成され、
前記第２ブラスト加工工程において、前記第２リブの前記第３リブ層からなる部分が削られる
ことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１５】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第３リブ層のブラスト加工性よりも高い
ことを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１６】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下である
ことを特徴とする請求項１４または１５に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１７】
前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下である
ことを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１８】
前記第２ブラスト加工工程において、前記リブ形成用基板の板面の法線に対するブラスト材の噴射方向の傾斜角度は、４５°以上である
ことを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１９】
プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられるブラスト加工装置であって、
リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工と、
前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記ブラストマスク下の前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工と、
を実行するように構成されている
ことを特徴とするブラスト加工装置。
【請求項２０】
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層が削られる
ことを特徴とする請求項１９に記載のブラスト加工装置。
【請求項２１】
プラズマディスプレイパネル用背面板の製造に用いられるブラスト加工装置であって、
リブ形成用基板と、前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を含む被加工体の前記ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射し、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクスリブを前記リブ層から形成する第１ブラスト加工と、
前記リブ形成用基板の板面の法線に対して傾斜した方向であって、前記リブ形成用基板の平面視において前記第１方向に沿った方向から、前記マトリクスリブにブラスト材を噴射し、前記第２リブの先端部分を削って、前記第２リブの前記リブ形成用基板からの高さが前記第１リブの前記リブ形成用基板からの高さよりも低くなっている段差マトリクスリブを形成する第２ブラスト加工と、
を実行するように構成されており、
前記第１ブラスト加工工程において、前記第２リブの少なくとも一部分における高さが前記リブ層の厚みよりも小さくなるよう、前記リブ層を削る
ことを特徴とするブラスト加工装置。
【請求項２２】
前記第２ブラスト加工工程において、前記ブラストマスクのうちの、前記第２リブの直上方に位置する部分の少なくとも一部を削り取る
ことを特徴とする請求項１９乃至２１のいずれか一項に記載のブラスト加工装置。
【請求項２３】
前記第２ブラスト加工工程は、前記マトリクスリブ上から前記ブラストマスクが除去された後に実行される
ことを特徴とする請求項２１に記載のブラスト加工装置。
【請求項２４】
前記第１ブラスト加工において、前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されるよう、前記リブ層を削る
ことを特徴とする請求項２０乃至２３のいずれか一項に記載のブラスト加工装置。
【請求項２５】
前記第２ブラスト加工工程において、前記リブ形成用基板の板面の法線に対するブラスト材の噴射方向の傾斜角度は、４５°以上である
ことを特徴とする請求項１９乃至２４のいずれか一項に記載のブラスト加工装置。
【請求項２６】
請求項１乃至１８に記載された製造方法によって製造された
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項２７】
リブ形成用基板と、
前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、を備え、
前記リブ層は、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１リブ間を延びる複数の第２リブと、を含むマトリクス状にパターニングされており、
前記リブ層は、前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層および第１リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有し、
前記第１リブは、前記第１リブ層からなる部分と、前記第２リブ層からなる部分と、前記第３リブ層からなる部分と、を含み、
前記第２リブは、少なくとも前記第１リブ層からなる部分と前記第２リブ層からなる部分とを含み、前記第２リブの前記背面板基板からの高さは前記第１リブの前記背面板基板からの高さよりも低い
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項２８】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下である
ことを特徴とする請求項２７に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項２９】
前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下である
ことを特徴とする請求項２７または２８に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項３０】
ブラスト加工を用いてプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、
リブ形成用基板と、
前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、
前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を備え、
前記ブラストマスクは、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１パターン部間を延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部の最小幅は、前記第１パターン部の最小幅よりも小さい
ことを特徴とする積層体。
【請求項３１】
前記第２パターン部の幅は一定であり、前記第１パターン部の幅よりも小さい
ことを特徴とする請求項３０に記載の積層体。
【請求項３２】
前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分よりも前記両端部分の間の中間部分において、小さくなっている
ことを特徴とする請求項３０に記載の積層体。
【請求項３３】
前記第２パターン部の幅は、前記第１パターン部に接続する両端部分において前記両端部分の間の中間部分よりも、小さくなっている
ことを特徴とする請求項３１に記載の積層体。
【請求項３４】
ブラスト加工を用いてプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する際に用いられる積層体であって、
リブ形成用基板と、
前記リブ形成用基板上に形成されたリブ層と、
前記リブ層上に形成されたブラストマスクと、を備え、
前記ブラストマスクは、前記リブ形成用基板上の第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記リブ形成用基板上の前記第２方向に沿って、前記第１パターン部間を延びる複数の第２パターン部と、を有し、
前記ブラストマスクの前記第２パターン部は、前記第１パターン部間で分断されている
ことを特徴とする積層体。
【請求項３５】
前記リブ層は、前記第１パターン部の直下に位置する複数の第１リブと、前記第２パターン部の直下に位置し、前記第１リブ間を延びる第２リブと、を含むマトリクス状にパターニングされており、
前記第２リブの少なくとも一部分における高さが、前記第１リブの厚みよりも低くなっている
ことを特徴とする請求項３０乃至３４のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項３６】
前記第２リブの前記少なくとも一部分と、当該一部分の直上方に位置する前記ブラストマスクと、の間に隙間が形成されている
ことを特徴とする請求項３５に記載の積層体。
【請求項３７】
前記リブ層は、
前記リブ形成用基板上に形成された第１リブ層と、
前記第１リブ層上に形成され、前記第１リブ層よりもブラスト加工性の低い第２リブ層と、
前記第２リブ層上に形成され、前記第２リブ層よりもブラスト加工性の高い第３リブ層と、を有する
ことを特徴とする請求項３０乃至３６のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項３８】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第３リブ層のブラスト加工性よりも高い
ことを特徴とする請求項３７に記載の積層体。
【請求項３９】
前記第１リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下である
ことを特徴とする請求項３７または３８に記載の積層体。
【請求項４０】
前記第３リブ層のブラスト加工性は、前記第２リブ層のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下である
ことを特徴とする請求項３７乃至３９のいずれか一項に記載の積層体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【公開番号】特開２００９−１７０１６８（Ｐ２００９−１７０１６８Ａ）
【公開日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−４７７１（Ｐ２００８−４７７１）
【出願日】平成２０年１月１１日（２００８．１．１１）
【出願人】（５０１２８０６７７）ディー・エー・ピー・テクノロジー株式会社 (19)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月１１日（２００８．１．１１）
【出願人】（５０１２８０６７７）ディー・エー・ピー・テクノロジー株式会社 (19)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]