説明

ベンゾイルピラゾール系化合物を含有する除草性組成物

【課題】幅広い殺草スペクトラムを持ち、高活性で且つ持続効果の長い除草性組成物の提供。
【解決手段】(a)式(I):


{式中、Qは−C(O)SR又は水素原子であり、Rはアルキル又はシクロアルキルであり、Rは水素原子又はアルキルであり、Rはアルキル、シクロアルキルなどであり、Rはアルキル、ハロアルキルなどであり、Rは水素原子、アルキルなどであり、Rはハロアルキル、ハロゲンなどである}で表される除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物(例えばアトラジン及びブロモキシニル等)とを有効成分として含有する除草性組成物。


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【特許請求の範囲】
【請求項1】
(a)式(I):
【化1】

{式中、Qは−C(O)SR又は水素原子であり、Rはアルキル又はシクロアルキルであり、Rは水素原子又はアルキルであり、Rはアルキル;シクロアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルコキシカルボニルアルキル;アルケニル;又はRで置換されてもよいアリールアルキルであり、Rはアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、Rは水素原子;アルキル;アルケニル;アルキニル;ハロゲン;シアノ;シアノアルキル;シアノアルケニル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;ハロアルコキシアルキル;アルキル、シアノ、シアノアルキル、(アルキルチオ)カルボニルアルキル、アルキル(チオカルボニル)アルキル、−C(O)OR及び−C(O)SRから選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されてもよいアミノ(チオカルボニル)アルキル;チオシアナトアルキル;アルコキシ;アルケニルオキシ;アルキニルオキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコキシハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアルコキシ;アルコキシアルコキシアルキル;アルキルチオ;アルコキシアルキルチオ;ハロアルコキシアルキルチオ;アルコキシハロアルキルチオ;ハロアルコキシハロアルキルチオ;アルキルチオアルキルチオ;ハロアルキルチオアルキルチオ;アルキルチオハロアルキルチオ;ハロアルキルチオハロアルキルチオ;アルキルチオアルコキシ;アルキルスルホニル;アルキルスルホニルアルキル;アルコキシカルボニルアルキル;アルコキシカルボニルアルコキシ;ヘテロシクリルアルキル;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアルコキシ;ヘテロシクリルアルコキシアルキル;ヘテロシクリルオキシアルキル;シクロアルキルオキシ;−OC(O)SR;−OC(O)OR;−C(O)OR;−C(O)SR;−C(S)OR;−C(S)SR;アルキル、シアノ、シアノアルキル、(アルキルチオ)カルボニルアルキル、アルキル(チオカルボニル)アルキル、−C(O)OR及び−C(O)SRから選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されてもよいアミノアルキル;又はRで置換されてもよい4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イルであり、Rはハロアルキル;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、Rはアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又はR10で置換されてもよいアリールアルキルであり、R、R及びR10はそれぞれ独立にハロゲン;アルキル;又はアルコキシである}で表される除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物とを有効成分として含有する除草性組成物。
【請求項2】
(a)式(I)中、Qが−C(O)SRである除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物とを有効成分として含有する前記請求項1の除草性組成物。
【請求項3】
(a)式(I)中、Rがアルキル又はシクロアルキルであり、Rが水素原子又はアルキルであり、Rがアルキル;シクロアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルケニル;又はRで置換されてもよいアリールアルキルであり、Rがアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、Rが水素原子;アルキル;ハロゲン;シアノ;シアノアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;ハロアルコキシアルキル;アルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコキシハロアルコキシ;アルコキシアルコキシアルキル;アルキルチオ;アルコキシアルキルチオ;ハロアルコキシアルキルチオ;アルキルチオアルキルチオ;ハロアルキルチオアルキルチオ;アルキルチオアルコキシ;アルキルスルホニル;アルキルスルホニルアルキル;アルコキシカルボニルアルキル;アルコキシカルボニルアルコキシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアルコキシ;ヘテロシクリルアルコキシアルキル;−OC(O)SR;−OC(O)OR;−C(O)OR;−C(O)SR;又はRで置換されてもよい4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イルであり、Rがハロアルキル;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R7がアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又はR10で置換されてもよいアリールアルキルであり、R、R及びR10がそれぞれ独立にハロゲン;アルキル;又はアルコキシである除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物とを有効成分として含有する前記請求項2の除草性組成物。
【請求項4】
(a)式(I)中、Rがアルキル又はシクロアルキルであり、Rが水素原子又はアルキルであり、Rがアルキル;シクロアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;又はR8で置換されてもよいアリールアルキルであり、Rがアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、Rがアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;ハロアルコキシアルキル;アルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアルコキシアルコキシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアルコキシ;ヘテロシクリルアルコキシアルキル;-OC(O)SR;-OC(O)OR;-C(O)OR;-C(O)SR;又はRで置換されてもよい4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イルであり、R6がハロアルキル;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R7がアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又はR10で置換されてもよいアリールアルキルであり、R8、R及びR10がそれぞれ独立にハロゲン;アルキル;又はアルコキシである除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物とを有効成分として含有する前記請求項3の除草性組成物。
【請求項5】
(a)式(I)中、Rがアルキルであり、Rが水素原子であり、Rがアルキルであり、Rがアルキルであり、Rがアルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;−C(O)OR;又は4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イルであり、Rがアルキルスルホニルである除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物とを有効成分として含有する前記請求項4の除草性組成物。
【請求項6】
(a)式(I)中、Qが水素原子である除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物とを有効成分として含有する前記請求項1の除草性組成物。
【請求項7】
(a)式(I)中、Rがアルキル又はシクロアルキルであり、Rが水素原子又はアルキルであり、Rがアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、Rがハロアルキル;アルコキシアルキル;ハロアルコキシアルキル;アルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアルコキシアルコキシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアルコキシ;ヘテロシクリルアルコキシアルキル;-OC(O)SR;-OC(O)OR;-C(O)OR;又は-C(O)SRであり、R6がハロアルキル;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R7がアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又はR10で置換されてもよいアリールアルキルであり、R8、R及びR10がそれぞれ独立にハロゲン;アルキル;又はアルコキシである除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物とを有効成分として含有する前記請求項6の除草性組成物。
【請求項8】
(a)式(I)中、Rがアルキルであり、Rが水素原子であり、Rがアルキルであり、Rがアルコキシアルキル、アルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;又は−C(O)ORであり、Rがアルキルスルホニルである除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物とを有効成分として含有する前記請求項7の除草性組成物。
【請求項9】
他の除草性化合物が、フェノキシ系化合物、芳香族カルボン酸系化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ウラシル系化合物、アニリド系化合物、カーバメート系化合物、ヒドロキシベンゾニトリル系化合物、4級アンモニウム塩系化合物、ジフェニルエーテル系化合物、環状イミド系化合物、ピリダジノン系化合物、ピラゾール系化合物、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系化合物、シクロヘキサンジオン系化合物、スルホニルウレア系化合物、トリアゾロピリミジンスルホンアミド系化合物、イミダゾリノン系化合物、ピリミジニルサリチル酸系化合物、スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系化合物、ジニトロアニリン系化合物、アミド系化合物、有機リン系化合物、フェニルカーバメート系化合物、クミルアミン系化合物、クロロアセトアミド系化合物、チオカーバメート系化合物、植物に寄生することで除草効力を示すとされているもの、ナプタラム、ナプタラムナトリウム、ベナゾリン、ベナゾリンエチル、キンクロラック、キンメラック、ダイフルフェンゾピル、ダイフルフェンゾピルナトリウム、フルオキシピル、フルオキシピル-2-ブトキシ-1-メチルエチル、フルオキシピルメプチル、クロロフルレノール、クロロフルレノールメチル、ピリデート、ベンタゾン、ベンタゾンナトリウム、アミカルバゾン、メタゾール、ペンタノクロール、オキサジアルギル、オキサジアゾン、スルフェントラゾン、カルフェントラゾンエチル、チジアジミン、ペントキサゾン、アザフェニジン、イソプロパゾール、ピラフルフェンエチル、ベンズフェンジゾン、ブタフェナシル、サフルフェナシル、フルポキサム、フルアゾレート、プロフルアゾール、ピラクロニル、フルフェンピルエチル、ベンカルバゾン、アミトロール、フルリドン、フルルタモン、ジフルフェニカン、メトキシフェノン、クロマゾン、スルコトリオン、メソトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、ジフェンゾコート、ジフェンゾコートメチルサルフェート、イソキサクロロトール、ベンゾビシクロン、ピコリナフェン、ビフルブタミド、フラムプロップ-M、フラムプロップ-M-メチル、フラムプロップ-M-イソプロピル、グリホサート、グリホサートナトリウム、グリホサートカリウム、グリホサートアンモニウム、グリホサートジアンモニウム、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートトリメシウム、グリホサートセスキナトリウム、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム、ビラナホス、ビラナホスナトリウム、シンメチリン、アシュラム、アシュラムナトリウム、ジチオピル、チアゾピル、クロルタール、クロルタールジメチル、ジフェナミド、エトベンザニド、メフェナセット、フルフェナセット、トリディファン、カフェンストロール、フェントラザミド、オキサジクロメフォン、インダノファン、ベンフレセート、ピロキサスルフォン、ダラポン、ダラポンナトリウム、TCAナトリウム、トリクロロ酢酸、MSMA、DSMA、CMA、エンドタール、エンドタールジカリウム、エンドタールナトリウム、エンドタールモノ(N,N-ジメチルアルキルアンモニウム)、エトフメセート、ソディウムクロレート、ペラルゴン酸、ホスアミン、ホスアミンアンモニウム、ピノキサデン、HOK−201、アクロレイン、スルファミン酸アンモニウム、ボラックス、クロロ酢酸、クロロ酢酸ナトリウム、シアナミド、メチルアルソン酸、ジメチルアルソン酸、ジメチルアルソン酸ナトリウム、ジノターブ、ジノターブアンモニウム、ジノターブジオールアミン、ジノターブアセテート、DNOC、硫酸第一鉄、フルプロパネート、フルプロパネートナトリウム、イソキサベン、メフルイジド、メフルイジドジオールアミン、メタム、メタムアンモニウム、メタムカリウム、メタムナトリウム、イソチオシアン酸メチル、ペンタクロロフェノール、ペンタクロロフェノールナトリウム、ペンタクロロフェノールラウレート、キノクラミン、硫酸及びウレアサルフェートからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項1の除草性組成物。
【請求項10】
他の除草性化合物が、(b−1)トウモロコシ圃場において選択的に有害植物を防除する化合物、(b−2)ムギ類圃場において選択的に有害植物を防除する化合物、(b−3)イネ圃場において選択的に有害植物を防除する化合物、或いは(b−4)非選択的に有害植物を防除する化合物である、前記請求項1の除草性組成物。
【請求項11】
他の除草性化合物が、フェノキシ系化合物、芳香族カルボン酸系化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ウラシル系化合物、アニリド系化合物、カーバメート系化合物、ヒドロキシベンゾニトリル系化合物、4級アンモニウム塩系化合物、ジフェニルエーテル系化合物、環状イミド系化合物、ピラゾール系化合物、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系化合物、シクロヘキサンジオン系化合物、スルホニルウレア系化合物、トリアゾロピリミジンスルホンアミド系化合物、イミダゾリノン系化合物、ピリミジニルサリチル酸系化合物、スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系化合物、ジニトロアニリン系化合物、有機リン系化合物、フェニルカーバメート系化合物、クミルアミン系化合物、クロロアセトアミド系化合物、チオカーバメート系化合物、植物に寄生することで除草効力を示すとされているもの、ベナゾリン、ベナゾリンエチル、キンクロラック、キンメラック、ダイフルフェンゾピル、ダイフルフェンゾピルナトリウム、フルオキシピル、フルオキシピル−2−ブトキシ−1−メチルエチル、フルオキシピルメプチル、クロロフルレノール、クロロフルレノールメチル、ピリデート、ベンタゾン、ベンタゾンナトリウム、アミカルバゾン、ペンタノクロール、オキサジアルギル、オキサジアゾン、カルフェントラゾンエチル、チジアジミン、ペントキサゾン、ピラフルフェンエチル、ブタフェナシル、サフルフェナシル、フルポキサム、フルアゾレート、ピラクロニル、フルフェンピルエチル、ベンカルバゾン、フルリドン、フルルタモン、ジフルフェニカン、メトキシフェノン、クロマゾン、スルコトリオン、メソトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、ジフェンゾコート、ジフェンゾコートメチルサルフェート、イソキサクロロトール、ベンゾビシクロン、ピコリナフェン、ビフルブタミド、フラムプロップ-M、フラムプロップ-M-メチル、フラムプロップ-M-イソプロピル、グリホサート、グリホサートナトリウム、グリホサートカリウム、グリホサートアンモニウム、グリホサートジアンモニウム、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートトリメシウム、グリホサートセスキナトリウム、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム、ビラナホス、ビラナホスナトリウム、シンメチリン、アシュラム、アシュラムナトリウム、ジチオピル、エトベンザニド、メフェナセット、フルフェナセット、トリディファン、カフェンストロール、フェントラザミド、オキサジクロメフォン、インダノファン、ベンフレセート、ピロキサスルフォン、ダラポン、ダラポンナトリウム、TCAナトリウム、トリクロロ酢酸、CMA、ホスアミン、ホスアミンアンモニウム、ピノキサデン、HOK−201、スルファミン酸アンモニウム、ボラックス、クロロ酢酸、クロロ酢酸ナトリウム、メチルアルソン酸、ジメチルアルソン酸、ジメチルアルソン酸ナトリウム、ジノターブ、ジノターブアンモニウム、ジノターブジオールアミン、ジノターブアセテート、DNOC、フルプロパネート、フルプロパネートナトリウム、イソキサベン、メフルイジド、メフルイジドジオールアミン、ペンタクロロフェノール、ペンタクロロフェノールナトリウム、ペンタクロロフェノールラウレート及びキノクラミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項10の除草性組成物。
【請求項12】
他の除草性化合物が、フェノキシ系化合物、芳香族カルボン酸系化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ヒドロキシベンゾニトリル系化合物、ジフェニルエーテル系化合物、環状イミド系化合物、スルホニルウレア系化合物、ジニトロアニリン系化合物、クロロアセトアミド系化合物、フルオキシピル、ピリデート、ベンタゾン、ベンタゾンナトリウム、カルフェントラゾンエチル、スルコトリオン、メソトリオン、グリホサート、グリホサートナトリウム、グリホサートカリウム、グリホサートアンモニウム、グリホサートジアンモニウム、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートトリメシウム、グリホサートセスキナトリウム、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム及びフルフェナセットからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項9又は11の除草性組成物。
【請求項13】
フェノキシ系化合物が2,4−D、2,4−Dブトチル、2,4−Dブチル、2,4−Dジメチルアンモニウム、2,4−Dジオールアミン、2,4−Dエチル、2,4−D−2−エチルヘキシル、2,4−Dイソブチル、2,4−Dイソオクチル、2,4−Dイソプロピル、2,4−Dイソプロピルアンモニウム、2,4−Dナトリウム、2,4−Dイソプロパノールアンモニウム、2,4−Dトロールアミン、2,4−DB、2,4−DBブチル、2,4−DBジメチルアンモニウム、2,4−DBイソオクチル、2,4−DBカリウム、2,4−DBナトリウム、ジクロロプロップ、ジクロロプロップブトチル、ジクロロプロップジメチルアンモニウム、ジクロロプロップイソオクチル、ジクロロプロップカリウム、ジクロロプロップ−P、ジクロロプロップ−Pジメチルアンモニウム、ジクロロプロップ−Pカリウム、ジクロロプロップ−Pナトリウム、MCPA、MCPAブトチル、MCPAジメチルアンモニウム、MCPA−2−エチルヘキシル、MCPAカリウム、MCPAナトリウム、MCPAチオエチル、MCPB、MCPBエチル、MCPBナトリウム、メコプロップ、メコプロップブトチル、メコプロップナトリウム、メコプロップ−P、メコプロップ−Pブトチル、メコプロップ−Pジメチルアンモニウム、メコプロップ−P−2−エチルヘキシル、メコプロップ−Pカリウム、ナプロアニリド及びクロメプロップからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり;芳香族カルボン酸系化合物が2,3,6−TBA、ジカンバ、ジカンバブトチル、ジカンバジグリコールアミン、ジカンバジメチルアンモニウム、ジカンバジオールアミン、ジカンバイソプロピルアンモニウム、ジカンバカリウム、ジカンバナトリウム、ジクロベニル、ピクロラム、ピクロラムジメチルアンモニウム、ピクロラムイソオクチル、ピクロラムカリウム、ピクロラムトリイソプロパノールアンモニウム、ピクロラムトリイソプロピルアンモニウム、ピクロラムトロールアミン、トリクロピル、トリクロピルブトチル、トリクロピルトリエチルアンモニウム、クロピラリド、クロピラリドオールアミン、クロピラリドカリウム、クロピラリドトリイソプロパノールアンモニウム及びアミノピラリドからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり;尿素系化合物がクロロトルロン、ジウロン、フルオメツロン、リニュロン、イソプロチュロン、メトベンズロン、テブチウロン、ジメフロン、イソウロン、カルブチレート、メタベンズチアズロン、メトクスロン、モノリニュロン、ネブロン、シデュロン、ターブメトン及びトリエタジンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり;トリアジン系化合物がシマジン、アトラジン、アトラトン、シメトリン、プロメトリン、ジメタメトリン、ヘキサジノン、メトリブジン、ターブチラジン、シアナジン、アメトリン、シブトリン、トリアジフラム、ターブトリン、プロパジン、メタミトロン及びプロメトンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり;ヒドロキシベンゾニトリル系化合物がブロモキシニル、ブロモキシニルオクタノエート、ブロモキシニルヘプタノエート、アイオキシニル、アイオキシニルオクタノエート、アイオキシニルカリウム、アイオキシニルナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり;ジフェニルエーテル系化合物がニトロフェン、クロメトキシフェン、ビフェノックス、アシフルオルフェン、アシフルオルフェンナトリウム、ホメサフェン、ホメサフェンナトリウム、オキシフルオルフェン、ラクトフェン、アクロニフェン、エトキシフェンエチル、フルオログリコフェンエチル及びフルオログリコフェンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり;環状イミド系化合物がクロルフタリム、フルミオキサジン、フルミクロラック、フルミクロラックペンチル、シニドンエチル及びフルチアセットメチルからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり;スルホニルウレア系化合物がクロリムロンエチル、クロリムロン、スルホメツロンメチル、スルホメツロン、プリミスルフロンメチル、プリミスルフロン、ベンスルフロンメチル、ベンスルフロン、クロルスルフロン、メトスルフロンメチル、メトスルフロン、シノスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、ピラゾスルフロン、アジムスルフロン、フラザスルフロン、リムスルフロン、ニコスルフロン、イマゾスルフロン、シクロスルファムロン、プロスルフロン、フルピルスルフロンメチルナトリウム、フルピルスルフロン、トリフルスルフロンメチル、トリフルスルフロン、ハロスルフロンメチル、ハロスルフロン、チフェンスルフロンメチル、チフェンスルフロン、エトキシスルフロン、オキサスルフロン、エタメトスルフロン、エタメトスルフロンメチル、イオドスルフロン、イオドスルフロンメチルナトリウム、スルフォスルフロン、トリアスルフロン、トリベヌロンメチル、トリベヌロン、トリトスルフロン、フォーラムスルフロン、トリフルオキシスルフロン、トリフルオキスルフロンナトリウム、メソスルフロンメチル、メソスルフロン、オルソスルファムロン、フルセトスルフロン、アミドスルフロン及びTH−547からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり;ジニトロアニリン系がトリフルラリン、オリザリン、ニトラリン、ペンディメタリン、エタルフルラリン、ベンフルラリン、プロジアミン、ブトラリン及びジニトラミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり;クロロアセトアミド系化合物がアラクロール、メタザクロール、ブタクロール、プレチラクロール、メトラクロール、S−メトラクロール、テニルクロール、ペトキサマイド、アセトクロール、プロパクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−P、プロピソクロール及びジメタクロールからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項12の除草性組成物。
【請求項14】
他の除草性化合物が、2,4−D、2,4−Dエチル、ジカンバ、ジカンバジメチルアンモニウム、クロピラリド、クロピラリドオールアミン、フルオキシピル、リニュロン、アトラジン、メトリブジン、ターブチラジン、ターブトリン、ブロモキシニル、ブロモキシニルオクタノエート、ピリデート、ベンタゾン、ベンタゾンナトリウム、アクロニフェン、シニドンエチル、カルフェントラゾンエチル、スルコトリオン、メソトリオン、リムスルフロン、ニコスルフロン、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、イオドスルフロン、イオドスルフロンメチルナトリウム、トリトスルフロン、フォーラムスルフロン、フルメツラム、メトスラム、フロラスラム、イマザモックス、イマザモックスアンモニウム、グリホサート、グリホサートナトリウム、グリホサートカリウム、グリホサートアンモニウム、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム、ペンディメタリン、アラクロール、メトラクロール、S−メトラクロール、ペトキサマイド、アセトクロール、フルフェナセット、ジメテナミド及びピロキサスルフォンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項13の除草性組成物。
【請求項15】
他の除草性化合物が、(b−1)トウモロコシ圃場において選択的に有害植物を防除する化合物である、前記請求項10の除草性組成物。
【請求項16】
他の除草性化合物が、フェノキシ系化合物、芳香族カルボン酸系化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ヒドロキシベンゾニトリル系化合物、ジフェニルエーテル系化合物、環状イミド系化合物、ピラゾール系化合物、スルホニルウレア系化合物、トリアゾロピリミジンスルホンアミド系化合物、イミダゾリノン系化合物、ジニトロアニリン系化合物、クロロアセトアミド系化合物、チオカーバメート系化合物、ベナゾリン、ベナゾリンエチル、ダイフルフェンゾピル、ダイフルフェンゾピルナトリウム、フルオキシピル、フルオキシピル−2−ブトキシ−1−メチルエチル、フルオキシピルメプチル、ピリデート、ベンタゾン、ベンタゾンナトリウム、アミカルバゾン、カルフェントラゾンエチル、サフルフェナシル、フルフェンピルエチル、ベンカルバゾン、フルリドン、クロマゾン、スルコトリオン、メソトリオン、テンボトリオン、イソキサフルトール、ジフェンゾコート、ジフェンゾコートメチルサルフェート、イソキサクロロトール、グリホサート、グリホサートナトリウム、グリホサートカリウム、グリホサートアンモニウム、グリホサートジアンモニウム、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートトリメシウム、グリホサートセスキナトリウム、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム、フルフェナセット、トリディファン、ベンフレセート、ピロキサスルフォン、ダラポン、ダラポンナトリウム、ジノターブ、ジノターブアンモニウム、ジノターブジオールアミン、ジノターブアセテート及びDNOCからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項15の除草性組成物。
【請求項17】
他の除草性化合物が、(b−2)ムギ類圃場において選択的に有害植物を防除する化合物である、前記請求項10の除草性組成物。
【請求項18】
他の除草性化合物が、フェノキシ系化合物、芳香族カルボン酸系化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、アニリド系化合物、ヒドロキシベンゾニトリル系化合物、ジフェニルエーテル系化合物、環状イミド系化合物、ピラゾール系化合物、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系化合物、シクロヘキサンジオン系化合物、スルホニルウレア系化合物、トリアゾロピリミジンスルホンアミド系化合物、イミダゾリノン系化合物、ピリミジニルサリチル酸系化合物、スルホニルアミノカルボニルトリアゾンリノン系化合物、ジニトロアニリン系化合物、フェニルカーバメート系化合物、クロロアセトアミド系化合物、チオカーバメート系化合物、ベナゾリン、ベナゾリンエチル、キンクロラック、キンメラック、フルオキシピル、フルオキシピル−2−ブトキシ−1−メチルエチル、フルオキシピルメプチル、ピリデート、ベンタゾン、ベンタゾンナトリウム、カルフェントラゾンエチル、チジアジミン、ピラフルフェンエチル、サフルフェナシル、フルポキサム、フルアゾレート、ベンカルバゾン、フルルタモン、ジフルフェニカン、スルコトリオン、ジフェンゾコート、ジフェンゾコートメチルサルフェート、ピコリナフェン、ビフルブタミド、フラムプロップ−M−メチル、フラムプロップ−M、フラムプロップ−M−イソプロピル、フルフェナセット、インダノファン、ピノキサデン、ジノターブ、ジノターブアンモニウム、ジノターブジオールアミン、ジノターブアセテート、DNOC及びイソキサベンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項17の除草性組成物。
【請求項19】
他の除草性化合物が、(b−3)イネ圃場において選択的に有害植物を防除する化合物である、前記請求項10の除草性組成物。
【請求項20】
他の除草性化合物が、フェノキシ系化合物、芳香族カルボン酸系化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、アニリド系化合物、カーバメート系化合物、ジフェニルエーテル系化合物、ピラゾール系化合物、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系化合物、シクロヘキサンジオン系化合物、スルホニルウレア系化合物、トリアゾロピリミジンスルホンアミド系化合物、ピリミジニルサリチル酸系化合物、ジニトロアニリン系化合物、有機リン酸系化合物、クミルアミン系化合物、クロロアセトアミド系化合物、チオカーバメート系化合物、植物に寄生することで除草効力を示すとされているもの、キンクロラック、キンメラック、ピリデート、ベンタゾン、ベンタゾンナトリウム、オキサジアルギル、オキサジアゾン、カルフェントラゾンエチル、ペントキサゾン、ピラクロニル、フルリドン、ジフルフェニカン、メトキシフェノン、クロマゾン、メソトリオン、テフリルトリオン、ベンゾビシクロン、シンメチリン、ジチオピル、エトベンザミド、メフェナセット、フルフェナセット、カフェンストロール、フェントラザミド、オキサジクロメフォン、インダノファン、ベンフレセート、TCAナトリウム、トリクロロ酢酸、HOK−201及びキノクラミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項19の除草性組成物。
【請求項21】
他の除草性化合物が、(b−4)非選択的に有害植物を防除する化合物である、前記請求項10の除草性組成物。
【請求項22】
他の除草性化合物が、フェノキシ系化合物、芳香族カルボン酸系化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ウラシル系化合物、ヒドロキシベンゾニトリル系化合物、4級アンモニウム塩系化合物、スルホニルウレア系化合物、イミダゾリノン系化合物、ピリミジニルサリチル酸系化合物、ジニトロアニリン系化合物、ベナゾリン、ベナゾリンエチル、ダイフルベンゾピル、ダイフルベンゾピルナトリウム、クロロフルレノール、クロロフルレノールメチル、ペンタノクロール、ブタフェナシル、グリホサート、グリホサートナトリウム、グリホサートカリウム、グリホサートアンモニウム、グリホサートジアンモニウム、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートトリメシウム、グリホサートセスキナトリウム、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム、ビラナホス、ビラナホスナトリウム、アシュラム、アシュラムナトリウム、ダラポン、ダラポンナトリウム、TCAナトリウム、トリクロロ酢酸、CMA、ホスアミン、ホスアミンアンモニウム、スルファミン酸アンモニウム、ボラックス、クロロ酢酸、クロロ酢酸ナトリウム、メチルアルソン酸、ジメチルアルソン酸、ジメチルアルソン酸ナトリウム、フルプロパネート、フルプロパネートナトリウム、イソキサベン、メフルイジド、メフルイジドジオールアミン、ペンタクロロフェノール、ペンタクロロフェノールナトリウム及びペンタクロロフェノールラウレートからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項21の除草性組成物。
【請求項23】
他の除草性化合物が、植物の光合成を阻害する化合物である、前記請求項1の除草性組成物。
【請求項24】
他の除草性化合物が、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ウラシル系化合物、アニリド系化合物、カーバメート系化合物、ヒドロキシベンゾニトリル系化合物、ピリデート、ベンタゾン、ベンタゾンナトリウム、アミカルバゾン、メタゾール及びペンタノクロールからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項23の除草性組成物。
【請求項25】
他の除草性化合物が、植物のアミノ酸生合成を阻害する化合物である、前記請求項1の除草性組成物。
【請求項26】
他の除草性化合物が、スルホニルウレア系化合物、トリアゾロピリミジンスルホンアミド系化合物、イミダゾリノン系化合物、ピリミジニルサリチル酸系化合物、スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系化合物、グリホサート、グリホサートナトリウム、グリホサートカリウム、グリホサートアンモニウム、グリホサートジアンモニウム、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートトリメシウム、グリホサートセスキナトリウム、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム、ビラナホス、ビラナホスナトリウム及びシンメチリンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項25の除草性組成物。
【請求項27】
他の除草性化合物が、植物のホルモン作用を攪乱することで除草効力を示す化合物である、前記請求項1の除草性組成物。
【請求項28】
他の除草性化合物が、フェノキシ系化合物、芳香族カルボン酸系化合物、ナプタラム、ナプタラムナトリウム、ベナゾリン、ベナゾリンエチル、キンクロラック、キンメラック、ダイフルフェンゾピル、ダイフルフェンゾピルナトリウム、フルオキシピル、フルオキシピル-2-ブトキシ-1-メチルエチル、フルオキシピルメプチル、クロロフルレノール及びクロロフルレノールメチルからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項27の除草性組成物。
【請求項29】
他の除草性化合物が、カロチノイドなどの植物の色素生合成を阻害し、白化作用を特徴とする除草効力を示す化合物である、前記請求項1の除草性組成物。
【請求項30】
他の除草性化合物が、ピリダジノン系化合物、ピラゾール系化合物、アミトロール、フルリドン、フルルタモン、ジフルフェニカン、メトキシフェノン、クロマゾン、スルコトリオン、メソトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、ジフェンゾコート、ジフェンゾコートメチルサルフェート、イソキサクロロトール、ベンゾビシクロン、ピコリナフェン及びビフルブタミドからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項29の除草性組成物。
【請求項31】
他の除草性化合物が、植物のタンパク質生合成あるいは脂質生合成を阻害することで除草効力を示す化合物である、前記請求項1の除草性組成物。
【請求項32】
他の除草性化合物が、クロロアセトアミド系化合物、チオカーバメート系化合物、エトベンザニド、メフェナセット、フルフェナセット、トリディファン、カフェンストロール、フェントラザミド、オキサジクロメフォン、インダノファン、ベンフレセート、ピロキサスルフォン、ダラポン、ダラポンナトリウム、TCAナトリウム及びトリクロロ酢酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、前記請求項31の除草性組成物。
【請求項33】
(a)式(I)の除草性ベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩と、(b)他の除草性化合物との混合比率が、重量比で1:1000〜1000:1である、前記請求項1の除草性組成物。
【請求項34】
前記請求項1の除草性組成物の除草有効量を、有害植物又はそれが生育する場所に施用し、有害植物を防除する方法。
【請求項35】
トウモロコシ圃場において有害植物を防除する、前記請求項34の方法。
【請求項36】
トウモロコシが遺伝子組み換えされたものである、前記請求項35の方法。
【請求項37】
ムギ類圃場において有害植物を防除する、前記請求項34の方法。
【請求項38】
イネ圃場において有害植物を防除する、前記請求項34の方法。
【請求項39】
非選択的に有害植物を防除する、前記請求項34の方法。

【公開番号】特開2009−13161(P2009−13161A)
【公開日】平成21年1月22日(2009.1.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−19003(P2008−19003)
【出願日】平成20年1月30日(2008.1.30)
【出願人】(000000354)石原産業株式会社 (289)
【Fターム(参考)】