説明

ポリアリールアミンを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子

【課題】 ポリアリールアミンを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供すること。特に、製造プロセスの簡素化、大画面化、及び素子性能の向上を提供すること。
【解決手段】 一層以上の有機化合物層を陽極と陰極で構成された一対の電極で挟持してなる有機EL素子において、有機化合物層が正孔輸送層及び/又は正孔注入層を有し、特定構造を有するポリアリールアミンが該正孔輸送層及び/又は正孔注入層に含有される有機エレクトロルミネッセンス素子である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は有機エレクトロルミネッセンス分野に関し、詳しくは正孔注入層又は輸送層に特定のポリマーが使用され、発光層には特定の低分子材料を用いることによって作製された有機エレクトロルミネッセンス素子に関するものである。
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、フラットパネルディスプレイ等の平面発光体、複写機、プリンター、液晶ディスプレイのバックライト又は計器類等の光源、表示板、標識灯等に利用できる。
【背景技術】
【0002】
有機エレクトロルミネッセンス素子(以下エレクトロルミネッセンスをELと略記することがある)はポリフルオレンや可溶性PPV(ポリ(p-フェニレンビニレン))などのポリマーを用い、スピンコーティングやインクジェット等の湿式法と、低分子材料を用いた真空蒸着等の乾式法により作製される。特に、上記の作製法においては湿式法のほうが表示画面の大面積化が比較的に容易であり、ポリマー材料を用いた有機EL素子作製の研究が精力的に進められている。最近では、複数の有機薄膜層を有する有機EL素子を湿式法で作製したことが開示されており、この特許では正孔注入層および発光層がともにポリマー材料で構成されている(例えば、特許文献1参照)。
しかし、ポリマー材料は分子量分布を有し、また、精製が困難で高純度化しづらい等の欠点があり、有機EL素子の発光層に用いた場合、発光色の色純度や発光効率、輝度や輝度半減時間に問題があった。
一方、低分子材料は公知の精製方法で高純度化が容易であり、有機EL素子の発光層に用いた場合ではポリマーに比べて発光色の色純度や発光効率、輝度に優れ、輝度半減時間も長いことが長所としてあげられる。しかしながら、発光層に隣接する正孔注入層又は正孔輸送層を構成する材料によっては、良好な発光性能を示さない場合もあった。
【特許文献1】国際公開WO2004/84260号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、ポリアリールアミンを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを目的とし、特に、製造プロセスの簡素化、大画面化、及び素子性能の向上を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、少なくとも発光層を含む一層以上の有機化合物層を陽極と陰極で構成された一対の電極で挟持してなる有機EL素子において、有機化合物層が正孔輸送層及び/又は正孔注入層を有し、下記一般式(1)で示されるポリアリールアミンが該正孔輸送層及び/又は正孔注入層に含有される有機エレクトロルミネッセンス素子が前記の目的を達成することを見出し、本発明を完成させたものである。
【化1】

一般式(1)中、Arは、それぞれ独立に置換もしくは無置換の炭素数6〜40のアリール基、又は置換もしくは無置換の炭素数3〜40のヘテロアリール基である。Ar1〜Ar4は、それぞれ独立に置換もしくは無置換の炭素数6〜40の2価のアリーレン基である。a、b、c及びdは、それぞれ独立に1〜2の整数であり、eは0〜2の整数である。nは3以上の整数である。
【0005】
また、本発明は、前記正孔輸送層及び/又は正孔注入層が主として前記ポリアリールアミンを含有する前記有機エレクトロルミネッセンス素子、発光層が主としてアントラセン誘導体、ピレン誘導体及び/又はフルオレン誘導体から選ばれる前記有機エレクトロルミネッセンス素子、発光層にドーパントを含む前記有機エレクトロルミネッセンス素子、正孔輸送層及び/又は正孔注入層を湿式成膜し、発光層を湿式成膜する前記有機エレクトロルミネッセンス素子、及び正孔輸送層及び/又は正孔注入層を湿式成膜し、発光層を蒸着により成膜する前記有機エレクトロルミネッセンス素子を提供するものである。
【発明の効果】
【0006】
低分子材料からなる発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、特定の構造を有するポリアリールアミンを正孔輸送、注入層に使用することで素子性能を向上させることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【0007】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、少なくとも発光層を含む一層以上の有機化合物層を陽極と陰極で構成された一対の電極で挟持してなる有機EL素子において、有機化合物層が正孔輸送層及び/又は正孔注入層を有し、下記一般式(1)で示されるポリアリールアミンを該正孔輸送層及び/又は正孔注入層に含有するものである。
【化2】

一般式(1)中、Arは置換もしくは無置換の炭素数6〜40のアリール基、又は置換もしくは無置換の炭素数3〜40のヘテロアリール基であり、Ar1〜Ar4は、それぞれ独立に置換もしくは無置換の炭素数6〜40の2価のアリーレン基である。a、b、c及びdは、それぞれ独立に1〜2の整数であり、eは0〜2の整数である。nは3以上の整数である。
【0008】
一般式(1)において、Arの核炭素数6〜40のアリール基の例としては、フェニル基、2−ビフェニリル基、3−ビフェニリル基、4−ビフェニリル基、テルフェニル基、3,5−ジフェニルフェニル基、3,5−ジ(1−ナフチル)フェニル基、3,5−ジ(2−ナフチル)フェニル基、3,4−ジフェニルフェニル基、ペンタフェニルフェニル基、4−(2,2−ジフェニルビニル)フェニル基、4−(1,2,2−トリフェニルビニル)フェニル基、フルオレニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、4−(1−ナフチル)フェニル基、4−(2−ナフチル)フェニル基、3−(1−ナフチル)フェニル基、3−(2−ナフチル)フェニル基、9−アントリル基、2−アントリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、コロニル基等が挙げられる。
【0009】
一般式(1)において、Arの核炭素数3〜40のヘテロアリール基の例としては、1−ピロリル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジル基、ピリダジル基、2−ピリジニル基、3−ピリジニル基、4−ピリジニル基、1−インドリル基、2−インドリル基、3−インドリル基、4−インドリル基、5−インドリル基、6−インドリル基、7−インドリル基、1−イソインドリル基、2−イソインドリル基、3−イソインドリル基、4−イソインドリル基、5−イソインドリル基、6−イソインドリル基、7−イソインドリル基、2−フリル基、3−フリル基、2−ベンゾフラニル基、3−ベンゾフラニル基、4−ベンゾフラニル基、5−ベンゾフラニル基、6−ベンゾフラニル基、7−ベンゾフラニル基、1−イソベンゾフラニル基、3−イソベンゾフラニル基、4−イソベンゾフラニル基、5−イソベンゾフラニル基、6−イソベンゾフラニル基、7−イソベンゾフラニル基、キノリル基、3−キノリル基、4−キノリル基、5−キノリル基、6−キノリル基、7−キノリル基、8−キノリル基、1−イソキノリル基、3−イソキノリル基、4−イソキノリル基、5−イソキノリル基、6−イソキノリル基、7−イソキノリル基、8−イソキノリル基、2−キノキサリニル基、5−キノキサリニル基、6−キノキサリニル基、1−フェナントリジニル基、2−フェナントリジニル基、3−フェナントリジニル基、4−フェナントリジニル基、6−フェナントリジニル基、7−フェナントリジニル基、8−フェナントリジニル基、9−フェナントリジニル基、10−フェナントリジニル基、1−アクリジニル基、2−アクリジニル基、3−アクリジニル基、4−アクリジニル基、9−アクリジニル基、1,7−フェナントロリン−2−イル基、1,7−フェナントロリン−3−イル基、1,7−フェナントロリン−4−イル基、1,7−フェナントロリン−5−イル基、1,7−フェナントロリン−6−イル基、1,7−フェナントロリン−8−イル基、1,7−フェナントロリン−9−イル基、1,7−フェナントロリン−10−イル基、1,8−フェナントロリン−2−イル基、1,8−フェナントロリン−3−イル基、1,8−フェナントロリン−4−イル基、1,8−フェナントロリン−5−イル基、1,8−フェナントロリン−6−イル基、1,8−フェナントロリン−7−イル基、1,8−フェナントロリン−9−イル基、1,8−フェナントロリン−10−イル基、1,9−フェナントロリン−2−イル基、1,9−フェナントロリン−3−イル基、1,9−フェナントロリン−4−イル基、1,9−フェナントロリン−5−イル基、1,9−フェナントロリン−6−イル基、1,9−フェナントロリン−7−イル基、1,9−フェナントロリン−8−イル基、1,9−フェナントロリン−10−イル基、1,10−フェナントロリン−2−イル基、1,10−フェナントロリン−3−イル基、1,10−フェナントロリン−4−イル基、1,10−フェナントロリン−5−イル基、2,9−フェナントロリン−1−イル基、2,9−フェナントロリン−3−イル基、2,9−フェナントロリン−4−イル基、2,9−フェナントロリン−5−イル基、2,9−フェナントロリン−6−イル基、2,9−フェナントロリン−7−イル基、2,9−フェナントロリン−8−イル基、2,9−フェナントロリン−10−イル基、2,8−フェナントロリン−1−イル基、2,8−フェナントロリン−3−イル基、2,8−フェナントロリン−4−イル基、2,8−フェナントロリン−5−イル基、2,8−フェナントロリン−6−イル基、2,8−フェナントロリン−7−イル基、2,8−フェナントロリン−9−イル基、2,8−フェナントロリン−10−イル基、2,7−フェナントロリン−1−イル基、2,7−フェナントロリン−3−イル基、2,7−フェナントロリン−4−イル基、2,7−フェナントロリン−5−イル基、2,7−フェナントロリン−6−イル基、2,7−フェナントロリン−8−イル基、2,7−フェナントロリン−9−イル基、2,7−フェナントロリン−10−イル基、1−フェナジニル基、2−フェナジニル基、1−フェノチアジニル基、2−フェノチアジニル基、3−フェノチアジニル基、4−フェノチアジニル基、10−フェノチアジニル基、1−フェノキサジニル基、2−フェノキサジニル基、3−フェノキサジニル基、4−フェノキサジニル基、10−フェノキサジニル基、2−オキサゾリル基、4−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、2−オキサジアゾリル基、5−オキサジアゾリル基、3−フラザニル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−メチルピロール−1−イル基、2−メチルピロール−3−イル基、2−メチルピロール−4−イル基、2−メチルピロール−5−イル基、3−メチルピロール−1−イル基、3−メチルピロール−2−イル基、3−メチルピロール−4−イル基、3−メチルピロール−5−イル基、2−t−ブチルピロール−4−イル基、3−(2−フェニルプロピル)ピロール−1−イル基、2−メチル−1−インドリル基、4−メチル−1−インドリル基、2−メチル−3−インドリル基、4−メチル−3−インドリル基、2−t−ブチル−1−インドリル基、4−t−ブチル−1−インドリル基、2−t−ブチル−3−インドリル基、4−t−ブチル−3−インドリル基等が挙げられる。
【0010】
一般式(1)において、置換もしくは無置換の炭素数6〜40の2価のアリーレン基であるAr1〜Ar4の例としては、前記Arの核炭素数6〜40のアリール基の例からいずれかの水素原子を取り去った構造のものが挙げられる。
【0011】
一般式(1)において、Ar及びAr1〜Ar4であるアリール基、アリーレン基、ヘテロアリール基の置換基としては、例えば、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニル等が挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニル等が挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜12、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ、ジベンジルアミノ等が挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等が挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシ等が挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等が挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等が挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシ等が挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等が挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノ等が挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ等が挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等が挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等が挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等が挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオ等が挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオ等が挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル、トシル等が挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニル等が挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイド等が挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミド等が挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含むものであり具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、カルバゾリル等が挙げられる。)、シリル基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリル等が挙げられる。)等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されても良い。また置換基が二つ以上ある場合は、同一でも異なっていても良い。また、可能な場合には互いに連結して環を形成していても良い。
【0012】
本発明の一般式(1)で表されるポリアリールアミンの好ましい具体例を以下に示すが、これら例示化合物に限定されるものではない。
【0013】
【化3】

【0014】
本発明のポリアリールアミンは、有機EL素子用材料であると好ましく、特に、有機EL素子用正孔輸送材料及び有機EL素子用正孔注入材料に適している。
また、本発明のポリアリールアミンは、正孔注入材料としても正孔輸送材料としても使用できるが、フェニレンジアミン骨格を持つ化合物は正孔注入材料として、ジフェニレンジアミン骨格を持つ化合物は正孔輸送材料として用いると好ましい。
本発明のEL素子の正孔輸送材料及び正孔注入材料は湿式で成膜することが好ましい。
【0015】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層は主としてアントラセン誘導体、ピレン誘導体及び/又はフルオレン誘導体から選ばれる。好適なアントラセン誘導体、ピレン誘導体及び/又はフルオレン誘導体を以下に示す。
【化4】

式(I)中、A1,A2は置換基を有していてもよい核炭素数6〜50のアリール基、又は置換基を有していてもよい核原子数5〜50のヘテロアリール基である。A1及びA2は同一ではない。nは1又は2の整数である。
【0016】
式(II)中、A3〜A5は置換基を有していてもよい核炭素数6〜50のアリール基、又は置換基を有していてもよい核原子数5〜50のヘテロアリール基である。A3〜A5はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
【0017】
式(III)中、A6,A7はアントラセニレン又はピレニレンである。A6及びA7は同一でも異なっていてもよい。mは1〜3の整数である。R1,R2は、同一でも異なっていてもよく、水素又は炭素数が1〜10のアルキル基である。R3,R4は、同一でも異なっていてもよく、水素、炭素数が1〜6のアルキル基で置換されたフェニル基又はビフェニル基である。
好ましくは、A6及びA7は同一であり、R1及びR2は、同一であって、炭素数が4〜10のアルキル基であり、R3及びR4は、同一である。
【0018】
式(IV)中、L,L’はそれぞれ置換もしくは無置換のフェニレン基、置換もしくは無置換のナフタレニレン基、置換もしくは無置換のフルオレニレン基、置換もしくは無置換のジベンゾシロリレン基である。A8,A9はそれぞれ置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族基である。p、qは0〜2の整数、rは1〜4の整数、sは0〜4の整数である。
【0019】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層を作製するとき、ホスト材料として上述したアントラセン誘導体、ピレン誘導体及び/又はフルオレン誘導体を用いることができる。さらに、発光層に含まれるドーパントとして、スチリルアミン化合物及び/又はアリールアミン化合物を含有することが好ましい。
スチリルアミン化合物としては、下記式(1)で表されるものが好ましい。
【0020】
【化5】

(式中、Ar1は、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、スチルベン基、ジスチリルアリール基から選ばれる基であり、Ar2及びAr3は、それぞれ水素原子又は炭素数が6〜20の芳香族基であり、Ar1〜Ar3は置換されてもよい。pは、1〜4の整数である。さらに好ましくはAr2又はAr3の少なくとも一方はスチリル基で置換されている。)
【0021】
ここで、炭素数が6〜20の芳香族基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントリル基、テルフェニル基等が挙げられる。
【0022】
アリールアミン化合物としては、下記式(2)で表されるものが好ましい。
【化6】

(式中、Ar4〜Ar6は、置換もしくは無置換の核原子数5〜40のアリール基である。qは、1〜4の整数である。)
【0023】
ここで、核原子数が5〜40のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、クリセニル基、ナフタセニル基、アントラニル基、フェナントリル基、ピレニル基、コロニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ピローリル基、フラニル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基、オキサジアゾリル基、ジフェニルアントラニル基、インドリル基、カルバゾリル基、ピリジル基、ベンゾキノリル基、フルオランテニル基、アセナフトフルオランテニル基、スチルベン基等が挙げられる。尚、アリール基の好ましい置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基(エチル基、メチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6のアルコキシ基(エトキシ基、メトキシ基、イソプロポキシ基、n−プロポキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロペントキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、核原子数5〜40のアリール基、核原子数5〜40のアリール基で置換されたアミノ基、核原子数5〜40のアリール基を有するエステル基、炭素数1〜6のアルキル基を有するエステル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【0024】
本発明のEL素子の発光層は上記発光材料を蒸着ばかりではなく、湿式でも成膜できる。この発光層の湿式成膜、及び前記正孔輸送材料及び正孔注入材料の湿式成膜には、ディッピング法、スピンコーティング法、キャスティング法、バーコート法、ロールコート法等の塗布法が適用できる。また、この湿式成膜に用いる溶媒例としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなどのハロゲン系炭化水素系溶媒や、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソールなどのエーテル系溶媒、メタノールやエタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールなどのアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラリン、ドデシルベンゼン、ヘキサン、オクタン、デカンなどの炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル系溶媒等が挙げられる。なかでも、ハロゲン系炭化水素系溶媒や炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒が好ましい。また、これらの溶媒は単独で使用しても複数混合して用いてもよい。なお、使用可能な溶媒はこれらに限定されるものではない。
【0025】
有機EL素子の素子構成は、以下の構成を例示できる。しかし、これらに限定されるものではない。
(1)陽極/発光層/陰極
(2)陽極/正孔注入層/発光層/陰極
(3)陽極/発光層/電子注入層/陰極
(4)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
(5)陽極/有機半導体層/発光層/陰極
(6)陽極/有機半導体層/電子障壁層/発光層/陰極
(7)陽極/有機半導体層/発光層/付着改善層/陰極
(8)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
(9)陽極/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(10)陽極/無機半導体層/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(11)陽極/有機半導体層/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(12)陽極/絶縁層/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/絶縁層/陰極
(13)陽極/絶縁層/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
これらの中で通常(8)の構成が好ましく用いられる。
【0026】
正孔注入、輸送層は、発光層への正孔注入を助け、発光領域まで輸送する層であって、正孔移動度が大きく、イオン化エネルギーが通常5.5eV以下と小さい。このような正孔注入、輸送層としてはより低い電界強度で正孔を発光層に輸送する材料が好ましく、さらに正孔の移動度が、例えば104〜106V/cmの電界印加時に、少なくとも10-4cm2/V・秒であれば好ましい。
【0027】
正孔注入、輸送層を形成する材料としては、本発明のポリアリールアミンを含有することが好ましい。しかし、前記の好ましい性質を有するものであれば特に制限はなく、従来、光導伝材料において正孔の電荷輸送材料として慣用されているものや、有機EL素子の正孔注入層に使用される公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。例えば、芳香族第三級アミン、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、さらにはポリビニルカルバゾール、ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスルフォン酸(PEDOT・PSS)等が挙げられる。さらに、具体例としては、トリアゾール誘導体(米国特許3,112,197号明細書等参照)、オキサジアゾール誘導体(米国特許3,189,447号明細書等参照)、イミダゾール誘導体(特公昭37−16096号公報等参照)、ポリアリールアルカン誘導体(米国特許3,615,402号明細書、同第3,820,989号明細書、同第3,542,544号明細書、特公昭45−555号公報、同51−10983号公報、特開昭51−93224号公報、同55−17105号公報、同56−4148号公報、同55−108667号公報、同55−156953号公報、同56−36656号公報等参照)、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体(米国特許第3,180,729号明細書、同第4,278,746号明細書、特開昭55−88064号公報、同55−88065号公報、同49−105537号公報、同55−51086号公報、同56−80051号公報、同56−88141号公報、同57−45545号公報、同54−112637号公報、同55−74546号公報等参照)、フェニレンジアミン誘導体(米国特許第3,615,404号明細書、特公昭51−10105号公報、同46−3712号公報、同47−25336号公報、特開昭54−53435号公報、同54−110536号公報、同54−119925号公報等参照)、アリールアミン誘導体(米国特許第3,567,450号明細書、同第3,180,703号明細書、同第3,240,597号明細書、同第3,658,520号明細書、同第4,232,103号明細書、同第4,175,961号明細書、同第4,012,376号明細書、特公昭49−35702号公報、同39−27577号公報、特開昭55−144250号公報、同56−119132号公報、同56−22437号公報、西独特許第1,110,518号明細書等参照)、アミノ置換カルコン誘導体(米国特許第3,526,501号明細書等参照)、オキサゾール誘導体(米国特許第3,257,203号明細書等に開示のもの)、スチリルアントラセン誘導体(特開昭56−46234号公報等参照)、フルオレノン誘導体(特開昭54−110837号公報等参照)、ヒドラゾン誘導体(米国特許第3,717,462号明細書、特開昭54−59143号公報、同55−52063号公報、同55−52064号公報、同55−46760号公報、同55−85495号公報、同57−11350号公報、同57−148749号公報、特開平2−311591号公報等参照)、スチルベン誘導体(特開昭61−210363号公報、同第61−228451号公報、同61−14642号公報、同61−72255号公報、同62−47646号公報、同62−36674号公報、同62−10652号公報、同62−30255号公報、同60−93455号公報、同60−94462号公報、同60−174749号公報、同60−175052号公報等参照)、シラザン誘導体(米国特許第4,950,950号明細書)、ポリシラン系(特開平2−204996号公報)、アニリン系共重合体(特開平2−282263号公報)、特開平1−211399号公報に開示されている導電性高分子オリゴマー(特にチオフェンオリゴマー)等を挙げることができる。
【0028】
正孔注入層の材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物(米国特許第4,127,412号明細書、特開昭53−27033号公報、同54−58445号公報、同54−149634号公報、同54−64299号公報、同55−79450号公報、同55−144250号公報、同56−119132号公報、同61−295558号公報、同61−98353号公報、同63−295695号公報等参照)、特に芳香族第三級アミン化合物を用いることが好ましい。
【0029】
また、米国特許第5,061,569号に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有する、例えば4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(以下NPDと略記する)、また特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4’,4”−トリス(N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(以下MTDATAと略記する)等を挙げることができる。
また、芳香族ジメチリディン系化合物の他、p型Si、p型SiC等の無機化合物も正孔注入層の材料として使用することができる。
【0030】
正孔注入、輸送層は上述した材料の一種又は二種以上からなる一層で構成されてもよいし、又は別種の化合物からなる正孔注入、輸送層を積層したものであってもよい。
【0031】
有機半導体層は発光層への正孔注入又は電子注入を助ける層であって、10-10S/cm以上の導電率を有するものが好適である。このような有機半導体層の材料としては、含チオフェンオリゴマーや特開平8−193191号公報に開示してある含アリールアミンオリゴマー等の導電性オリゴマー、含アリールアミンデンドリマー等の導電性デンドリマー等を用いることができる。
【0032】
電子注入層は発光層への電子の注入を補助する層であって、電子移動度が大きく、また付着改善層は、この電子注入層の中で特に陰極との付着が良い材料からなる層である。電子注入層に用いられる材料としては、8−ヒドロキシキノリン、その誘導体の金属錯体やオキサジアゾール誘導体が好適である。
【0033】
この8−ヒドロキシキノリン又はその誘導体の金属錯体の具体例としては、オキシン(一般に8−キノリノール又は8−ヒドロキシキノリン)のキレートを含む金属キレートオキシノイド化合物が挙げられる。例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)を電子注入層に用いることができる。
また、オキサジアゾール誘導体としては、下記式で表される電子伝達化合物が挙げられる。
【化7】

【0034】
(式中Ar1',Ar2',Ar3',Ar5',Ar6',Ar9'はそれぞれ置換又は無置換のアリール基を示し、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ar4',Ar7',Ar8'は置換又は無置換のアリーレン基を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい)
ここで、アリール基としてはフェニル基、ビフェニル基、アントラニル基、ペリレニル基、ピレニル基等が挙げられる。また、アリーレン基としてはフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントラニレン基、ペリレニレン基、ピレニレン基等が挙げられる。また、置換基としては炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基又はシアノ基等が挙げられる。この電子伝達化合物は薄膜形成性のものが好ましい。
【0035】
この電子伝達性化合物の具体例としては下記のものを挙げることができる。
【化8】

【0036】
有機EL素子において、陰極と有機層の間に絶縁体や半導体で構成される電子注入層をさらに設けてもよく、電流のリークを有効に防止して、電子注入性を向上させることができる。
このような絶縁体としては、アルカリ金属カルコゲニド、アルカリ土類金属カルコゲニド、アルカリ金属のハロゲン化物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物からなる群から選択される少なくとも一つの金属化合物を使用するのが好ましい。電子注入層がこれらのアルカリ金属カルコゲニド等で構成されていれば、電子注入性をさらに向上させることができる点で好ましい。具体的に、好ましいアルカリ金属カルコゲニドとしては、例えば、Li2O、K2O、Na2S、Na2Se及びNa2Oが挙げられ、好ましいアルカリ土類金属カルコゲニドとしては、例えば、CaO、BaO、SrO、BeO、BaS及びCaSeが挙げられる。また、好ましいアルカリ金属のハロゲン化物としては、例えば、LiF、NaF、KF、LiCl、KCl及びNaCl等が挙げられる。また、好ましいアルカリ土類金属のハロゲン化物としては、例えば、CaF2、BaF2、SrF2、MgF2及びBeF2等のフッ化物や、フッ化物以外のハロゲン化物が挙げられる。
【0037】
また、半導体としては、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Li、Na、Cd、Mg、Si、Ta、Sb及びZnの少なくとも一つの元素を含む酸化物、窒化物又は酸化窒化物等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、電子輸送層を構成する無機化合物が、微結晶又は非晶質の絶縁性薄膜であることが好ましい。電子輸送層がこれらの絶縁性薄膜で構成されていれば、より均質な薄膜が形成されるために、ダークスポット等の画素欠陥を減少させることができる。尚、このような無機化合物としては、上述したアルカリ金属カルコゲニド、アルカリ土類金属カルコゲニド、アルカリ金属のハロゲン化物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物等が挙げられる。
【0038】
有機EL素子は、超薄膜に電界を印可するために、リークやショートによる画素欠陥が生じやすい。これを防止するために、一対の電極間に絶縁性の薄膜層を挿入することが好ましい。
絶縁層に用いられる材料としては、例えば、酸化アルミニウム、弗化リチウム、酸化リチウム、弗化セシウム、酸化セシウム、酸化マグネシウム、弗化マグネシウム、酸化カルシウム、弗化カルシウム、窒化アルミニウム、酸化チタン、酸化珪素、酸化ゲルマニウム、窒化珪素、窒化ホウ素、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化バナジウム等が挙げられる。また、これらの混合物や積層物を用いてもよい。
【0039】
本発明の有機EL素子の有機薄膜層を形成する各有機層の膜厚は特に制限されないが、一般に膜厚が薄すぎるとピンホール等の欠陥が生じやすく、逆に厚すぎると高い印加電圧が必要となり効率が悪くなるため、通常は数nmから1μmの範囲が好ましい。
【0040】
有機EL素子の陽極は、正孔を正孔注入/輸送層又は発光層に注入する役割を担うものであり、4.5eV以上の仕事関数を有することが効果的である。陽極材料の具体例としては、錫ドープ酸化インジウム合金(ITO)、酸化錫(NESA)、金、銀、白金、銅等が適用できる。
陽極は、これらの電極物質を蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることにより作製できる。
発光層からの発光を陽極から取り出す場合、陽極の発光に対する透過率が10%より大きくすることが好ましい。また陽極のシート抵抗は、数百Ω/□以下が好ましい。陽極の膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1μm、好ましくは10〜200nmの範囲で選択される。
【0041】
有機EL素子の陰極は、電子を電子注入/輸送層又は発光層に注入する役割を担うものであり、仕事関数の小さい(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質として用いることができる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム・銀合金、アルミニウム/酸化アルミニウム、アルミニウム・リチウム合金、インジウム、希土類金属等が挙げられる。
陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。発光層からの発光を陰極から取り出す場合、陰極の発光に対する透過率は10%より大きくすることが好ましい。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜1μm、好ましくは50〜200nmである。
【0042】
一般に有機EL素子は透光性の基板上に作製する。ここでいう透光性基板は有機EL素子を支持する基板であり、400〜700nmの可視領域の光の透過率が50%以上で、平滑な基板が好ましい。
具体的には、ガラス板、ポリマー板等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等が挙げられる。またポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。
【実施例】
【0043】
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
【0044】
実施例1
25mm×75mm×1.1mm厚のITO透明電極付きガラス基板(ジオマティック社製)をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を5分間行なった後、UVオゾン洗浄を30分間行なった。その基板の上に、スピンコート法で正孔注入層に用いるポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸(PEDOT・PSS)を100nmの膜厚で成膜した。ついで、下記ポリマー1(分子量:145000)のトルエン溶液(0.6wt%)をスピンコート法で20nmの膜厚で正孔輸送層を成膜し、170℃で30分間乾燥した。
ついで、発光層として化合物Aを蒸着により成膜した。なお、このときに化合物Bを化合物Aに対し、A:B=40:2(wt/wt)で蒸着した。このときの発光層の膜厚は50nmであった。この膜上に膜厚10nmのトリス(8−キノリノール)アルミニウム膜(以下「Alq膜」と略記する。)を成膜した。このAlq膜は、電子輸送層として機能する。この後還元性ドーパントであるLi(Li源:サエスゲッター社製)とAlqを二元蒸着させ、電子注入層(陰極)としてAlq:Li膜を形成した。このAlq:Li膜上に金属Alを蒸着させ金属陰極を形成し有機EL発光素子を形成した。この素子は青色発光し、100cd/m2における電圧と発光効率(cd/A)、初期輝度1000cd/m2における輝度半減時間を表1に示す。
【化9】

【0045】
実施例2
ポリマー1のかわりに、ポリマー2(分子量:14000)を用いた以外は実施例1と同様に素子を作製した。結果を表1に示す。
【化10】

【0046】
実施例3
ポリマー1のかわりに、ポリマー3(分子量:50000)を用いた以外は実施例1と同様に素子作製した。結果を表1に示す。
【化11】

【0047】
比較例1
ポリマー1のかわりに、ポリマー4(分子量:270000)を用いた以外は実施例1と同様に素子を作製した。結果を表1に示す。
【化12】

【0048】
比較例2
ポリマー1のかわりに、ポリマー5(分子量:16000)を用いた以外は実施例1と同様に素子を作製した。結果を表1に示す。
【化13】

【0049】
比較例3
ポリマー1のかわりに、ポリマー6(分子量:43000)を用いた以外は実施例1と同様に素子を作製した。結果を表1に示す。
【化14】

【0050】
【表1】

【0051】
実施例4
化合物Aのかわりに、化合物Cを用いた以外は実施例1と同様に素子を作製した。結果を表2に示す。
【化15】

【0052】
実施例5
化合物Aのかわりに、化合物Dを用いた以外は実施例1と同様に素子を作製した。結果を表2に示す。
【化16】

【0053】
実施例6
化合物Aのかわりに、化合物Eを用いた以外は実施例1と同様に素子を作製した。結果を表2に示す。
【化17】

【0054】
実施例7
化合物Aのかわりに、化合物Fを用いた以外は実施例1と同様に素子を作製した。結果を表2に示す。
【化18】

【0055】
実施例8
化合物Aのかわりに、化合物Fを用いた以外は実施例1と同様に素子を作製した。結果を表2に示す。
【化19】

【0056】
【表2】

【0057】
実施例9
25mm×75mm×1.1mm厚のITO透明電極付きガラス基板(ジオマティック社製)をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を5分間行なった後、UVオゾン洗浄を30分間行なった。その基板の上に、スピンコート法で正孔注入層に用いるポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸(PEDOT・PSS)を100nmの膜厚で成膜した。ついで、前記ポリマー1(分子量:145000)のトルエン溶液(0.6wt%)をスピンコート法で20nmの膜厚で正孔輸送層を成膜し、170℃で30分間乾燥した。
ついで化合物A:化合物B(A:B=20:2(wt/wt))の1wt%トルエン溶液を用いて発光層をスピンコート法で成膜した。この時の膜厚は50nmであった。この膜上に膜厚10nmのトリス(8−キノリノール)アルミニウム膜(以下「Alq膜」と略記する。)を成膜した。このAlq膜は、電子輸送層として機能する。この後還元性ドーパントであるLi(Li源:サエスゲッター社製)とAlqを二元蒸着させ、電子注入層(陰極)としてAlq:Li膜を形成した。このAlq:Li膜上に金属Alを蒸着させ金属陰極を形成し有機EL発光素子を形成した。この素子は青色発光し、100cd/m2における電圧と発光効率(cd/A)、初期輝度1000cd/m2における輝度半減時間を表3に示す。
【0058】
実施例10
ポリマー1のかわりに、ポリマー3(分子量:50000)を用いた以外は実施例9と同様に素子を作製した。結果を表3に示す。
【0059】
比較例4
ポリマー1のかわりに、ポリマー4(分子量:270000)を用いた以外は実施例9と同様に素子を作製した。結果を表3に示す。
【0060】
【表3】

【0061】
実施例11
化合物Aのかわりに、化合物Cを用いた以外は実施例9と同様に素子を作製した。このとき、素子は青色に発光し、100cd/m2における電圧は5.5Vであり、発光効率は5.8cd/Aであった。
【0062】
実施例12
化合物Aのかわりに、化合物Eを用いた以外は実施例9と同様に素子を作製した。このとき、素子は青色に発光し、100cd/m2における電圧は5.5Vであり、発光効率は5.2cd/Aであった。
【産業上の利用可能性】
【0063】
以上詳細に説明したように、本発明の芳香族アミン化合物は溶解性が高く、ウェットプロセス成膜が可能であり、それを用いた有機EL素子は、種々の発光色相を呈し、耐熱性が高く、特に本発明の芳香族アミン化合物を正孔注入、輸送材料として用いると、正孔注入、輸送性が高く高発光輝度及び高発光効率で、長寿命である。このため、本発明の有機EL素子は、実用性が高く、壁掛テレビの平面発光体やディスプレイのバックライト等の光源として有用である。
【図面の簡単な説明】
【0064】
【図1】本発明の有機EL素子の一実施形態を示す断面図である。
【符号の説明】
【0065】
10 陽極
20 有機化合物層
21 正孔注入層
22 正孔輸送層
23 発光層
24 電子輸送層
25 電子注入層
30 陰極

【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも発光層を含む一層以上の有機化合物層を陽極と陰極で構成された一対の電極で挟持してなる有機EL素子において、該有機化合物層が正孔輸送層及び/又は正孔注入層を有し、下記一般式(1)で示されるポリアリールアミンが該正孔輸送層及び/又は正孔注入層に含有される有機エレクトロルミネッセンス素子。
【化1】

[一般式(1)中、Arは、それぞれ独立に置換もしくは無置換の炭素数6〜40のアリール基、又は置換もしくは無置換の炭素数3〜40のヘテロアリール基である。
Ar1〜Ar4は、それぞれ独立に置換もしくは無置換の炭素数6〜40の2価のアリーレン基である。
a、b、c、dは、それぞれ独立に1〜2の整数であり、eは0〜2の整数である。
nは3以上の整数である。]
【請求項2】
前記正孔輸送層及び/又は正孔注入層が前記ポリアリールアミンを含有する請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項3】
前記発光層が主としてアントラセン誘導体、ピレン誘導体及びフルオレン誘導体から選ばれる少なくとも一種を含む請求項1〜2のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項4】
前記発光層がスチリルアミン化合物及び/又はアリールアミン化合物を含む請求項3記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項5】
前記正孔輸送層及び/又は正孔注入層を湿式成膜し、前記発光層を湿式成膜する請求項1〜4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項6】
前記正孔輸送層及び/又は正孔注入層を湿式成膜し、前記発光層を蒸着により成膜する請求項1〜4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

【図1】
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【公開番号】特開2007−73814(P2007−73814A)
【公開日】平成19年3月22日(2007.3.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−260562(P2005−260562)
【出願日】平成17年9月8日(2005.9.8)
【出願人】(000183646)出光興産株式会社 (2,069)
【Fターム(参考)】