説明

レーザアブレーション装置及びレーザアブレーション量算出方法

【課題】 試料のレーザアブレーション量を求めることができるレーザアブレーション装置及びレーザアブレーション量算出方法を提供する。
【解決手段】 レーザアブレーション装置2においては、試料Sに対するレーザアブレーションが開始されると、演算部50によって、光検出器45により測定されたレーザ光のエネルギから、光検出器43,44により測定されたレーザ光のエネルギが減ぜられて、試料Sに照射されたレーザ光のうち試料Sに吸収されたレーザ光のエネルギが算出される。更に、演算部50によって、試料Sに吸収されるレーザ光のエネルギと試料Sのレーザアブレーション量との相関関係についての情報に基づいて、試料Sに吸収されたレーザ光のエネルギから、試料Sのレーザアブレーション量が算出される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、レーザアブレーション装置及びレーザアブレーション量算出方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来のレーザアブレーション装置としては、試料に対してレーザアブレーションを行うことで微粉体物又はガス化物を生じさせ、その微粉体物又はガス化物をキャリアガスによって導出するものが一般的である(例えば、特許文献1参照)。
【特許文献1】特開平7−72047号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
しかしながら、従来の一般的なレーザアブレーション装置には、試料のレーザアブレーション量(レーザ光の吸収によって単位時間当たりに微粉体化又はガス化される試料の量、すなわち、単位時間当たりの微粉体物又はガス化物の発生量)が時間の経過に対して変動するという問題があった。そのため、レーザアブレーション装置によって導出された微粉体物又はガス化物について、例えばICP−MS(高周波誘導結合プラズマ質量分析)装置において元素組成比を測定すると、元素組成比の測定値が時間の経過に対して変動してしまっていた。しかも、レーザアブレーション装置における試料のレーザアブレーション量が不明であるため、ICP−MS装置における元素組成比の測定値を補正することも困難であった。
【0004】
そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、試料のレーザアブレーション量を求めることができるレーザアブレーション装置及びレーザアブレーション量算出方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上記目的を達成するために、本発明に係るレーザアブレーション装置は、試料に対してレーザアブレーションを行うことで微粉体物又はガス化物を生じさせるレーザアブレーション装置であって、試料に照射するためのレーザ光のエネルギを測定する第1の測定手段と、試料に照射されたレーザ光のうち試料を透過したレーザ光の少なくとも一部のエネルギ、及び試料に照射されたレーザ光のうち試料で反射されたレーザ光の少なくとも一部のエネルギの少なくとも一方を測定する第2の測定手段と、を備えることを特徴とする。
【0006】
このレーザアブレーション装置によれば、第1の測定手段により測定されたレーザ光のエネルギから、第2の測定手段により測定されたレーザ光のエネルギを減ずることで、試料に照射されたレーザ光のうち試料に吸収されたレーザ光のエネルギを算出することができる。そして、試料に吸収されるレーザ光のエネルギと試料のレーザアブレーション量とには相関関係が存在するため、その相関関係に基づいて、試料に吸収されたレーザ光のエネルギから、試料のレーザアブレーション量を求めることが可能となる。
【0007】
本発明に係るレーザアブレーション装置は、第1の測定手段により測定されたレーザ光のエネルギから、第2の測定手段により測定されたレーザ光のエネルギを減ずることで、試料に照射されたレーザ光のうち試料に吸収されたレーザ光のエネルギを算出すると共に、試料に吸収されるレーザ光のエネルギと試料のレーザアブレーション量との相関関係についての情報を有する演算手段を備えることが好ましい。この演算手段によれば、試料に吸収されるレーザ光のエネルギと試料のレーザアブレーション量との相関関係についての情報に基づいて、試料に吸収されたレーザ光のエネルギから、試料のレーザアブレーション量を求めることが可能となる。
【0008】
本発明に係るレーザアブレーション装置においては、試料に照射されるレーザ光の光軸は、試料のレーザ光照射面に対して斜めになっていることが好ましい。これにより、試料がレーザ光の一部を反射するものである場合に、試料のレーザ光照射面で反射されたレーザ光を第2の測定手段が受光し易い構成を採用することができる。
【0009】
また、本発明に係るレーザアブレーション量算出方法は、試料に対してレーザアブレーションを行うことで微粉体物又はガス化物を生じさせるレーザアブレーション装置におけるレーザアブレーション量算出方法であって、試料に吸収されるレーザ光のエネルギと試料のレーザアブレーション量との相関関係についての情報を取得する取得工程と、試料に照射するためのレーザ光のエネルギを測定する第1の測定工程と、試料に照射されたレーザ光のうち試料を透過したレーザ光の少なくとも一部のエネルギ、及び試料に照射されたレーザ光のうち試料で反射されたレーザ光の少なくとも一部のエネルギの少なくとも一方を測定する第2の測定工程と、第1の測定工程で測定されたレーザ光のエネルギから、第2の測定工程で測定されたレーザ光のエネルギを減ずることで、試料に照射されたレーザ光のうち試料に吸収されたレーザ光のエネルギを算出する算出工程と、を含むことを特徴とする。
【0010】
このレーザアブレーション量算出方法によれば、試料に吸収されるレーザ光のエネルギと試料のレーザアブレーション量との相関関係についての情報に基づいて、試料に吸収されたレーザ光のエネルギから、試料のレーザアブレーション量を求めることが可能となる。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、試料のレーザアブレーション量を求めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【0013】
図1に示されるように、LA−ICP−MS装置1は、分析対象の試料Sに対してレーザアブレーションを行うことで微粉体物又はガス化物を生じさせるレーザアブレーション装置2と、試料Sに対するレーザアブレーションによって生じた微粉体物又はガス化物をイオン化して、質量電荷比m/z値(m:質量数、z:電荷数)ごとに(すなわち、質量数の異なる元素ごとに)単位時間当たりのカウント数(すなわち、検出強度)を測定するICP−MS装置3と、により構成されている。
【0014】
レーザアブレーション装置2は、レーザ光を出射するレーザユニット5と、試料Sを撮像するCCDカメラ6と、試料Sが配置される試料室40と、試料のレーザアブレーション量を算出する演算部(演算手段)50と、を備えている。
【0015】
レーザアブレーション装置2において、レーザユニット5から所定の波長で出射されたレーザ光は、ミラー10,11で反射されて、波長変換素子12に入射する。波長変換素子12で波長を半減されたレーザ光は、波長変換素子13で更に波長を半減されて、ミラー14,15,16で反射された後、レンズ17を通って、ビームスプリッタ18で反射され、試料室40に設けられた透過窓を通って試料Sに照射される。
【0016】
レーザユニット5は、例えば、波長1064nmのNd−YAGレーザを搭載している。そして、レーザユニット5から出射されたレーザ光は、波長変換素子12で波長1064nmから波長532nm(2次高調波)に変換され、更に、波長変換素子13で波長532nmから波長266nm(3次高調波)に変換される。このように、レーザ光を短波長とすることで、レーザ光のエネルギが高まり、より多くの物質に対してレーザアブレーションを行うことができる。
【0017】
CCDカメラ6は、ビームスプリッタ18を介して試料室40内に配置された試料Sを観察することができるようになっている。CCDカメラ6は、例えば、試料Sの表面におけるレーザ光の照射位置を撮像する。
【0018】
図1及び図2に示されるように、試料室40内には、試料Sが載置される試料台41が設けられている。試料Sは、傾斜面を有するスペーサ42を介して試料台41上に傾斜した状態で配置される。そのため、試料Sに照射されるレーザ光の光軸Lは、試料Sのレーザ光照射面S1に対して斜めになっている。
【0019】
更に、試料室40内には、試料Sに照射されたレーザ光のうち試料Sを透過したレーザ光のエネルギを測定する光検出器(第2の測定手段)43、及び試料Sに照射されたレーザ光のうち試料Sのレーザ光照射面S1で反射されたレーザ光のエネルギを測定する光検出器(第2の測定手段)44が設けられている。光検出器43は、試料台41内に配置されており、試料Sを透過したレーザ光は、試料台41に設けられた光通過孔を通って光検出器43に照射される。また、レーザユニット5内には、試料Sに照射するためのレーザ光のエネルギを測定する光検出器(第1の測定手段)45が設けられている。各光検出器43,44,45としては、例えば、光電子増倍管、CCD検出器、焦電性結晶を用いた熱型光検出器等が用いられる。なお、試料Sに照射するためのレーザ光のエネルギを測定する光検出器45は、レーザユニット5から出射されたレーザ光の一部を分岐して、その分岐したレーザ光のエネルギを測定するものであってもよい。
【0020】
演算部50は、光検出器45により測定されたレーザ光のエネルギから、光検出器43により測定されたレーザ光のエネルギ及び光検出器44により測定されたレーザ光のエネルギを減ずることで、試料Sに照射されたレーザ光のうち試料Sに吸収されたレーザ光のエネルギを算出する。また、演算部50は、試料Sに吸収されるレーザ光のエネルギと試料Sのレーザアブレーション量との相関関係についての情報を予め取得し、記憶している。
【0021】
試料室40には、キャリアガスを試料室40内に導入する導入管19、及び試料室40外に導出する導出管20が接続されている。これらの導入管19及び導出管20としては、例えばタイゴンチューブ等が用いられる。
【0022】
図1に示されるように、試料室40に一端が接続された導出管20の他端は、ICP−MS部3におけるプラズマトーチ21の後端部に接続されている。これにより、導入管19によって試料室40内に導入されたキャリアガスは、レーザ光の照射によって微粉体化又はガス化された試料Sと共に、導出管20を通ってICP−MS部3へと向かう。
【0023】
ICP−MS装置3は、導入管22からキャリアガスと共に導入された試料Sをイオン化するためのプラズマPを発生させるプラズマトーチ21と、プラズマトーチ21の先端部近傍にイオン導入部23が設けられてなる質量分析部24と、を備えている。
【0024】
プラズマトーチ21は、3重管構造となっており、キャリアガスが導入管22から導入され、プラズマPを形成するためのプラズマガスが管26から導入され、プラズマトーチ21の壁面を冷却するためのクーラントガスが管27から導入されるようになっている。なお、キャリアガス、プラズマガス及びクーラントガスとしては、例えば、アルゴンガス等が用いられる。
【0025】
プラズマトーチ21内には、キャリアガス、プラズマガス及びクーラントガスを合わせて、全体として約15〜20リットル/分の流量のガスが供給される。それぞれのガス導入量の一形態としては、キャリアガスが約1リットル/分、プラズマガスが約1リットル/分、クーラントガスが約16リットル/分である。
【0026】
プラズマトーチ21の先端側には、高周波電源に接続された高周波コイル28が設けられている。この高周波コイル28に電圧が印加されると、プラズマトーチ21の先端側の内部にプラズマPが形成される。
【0027】
質量分析部24のイオン導入部23は、プラズマトーチ21の先端部に対向する導入孔29を有している。そして、導入孔29を介して、プラズマPからの光やイオンを筐体30内に導入する。なお、導入孔29の直径は、例えば1mm程度である。
【0028】
筐体30内は、真空ポンプ31,32によって、イオン導入部23側が低真空室、その反対側が高真空室というように、真空度が異なる2つの部屋に分かれている。質量分析部24は、筐体30内において、プラズマPからの光とイオンとをイオンレンズ33で分離してイオンのみを通過させ、質量多重極部34で特定のイオンのみを取り出して検出器35で検出するようになっている。
【0029】
次に、上述したレーザアブレーション装置2におけるレーザアブレーション量算出方法について説明する。
【0030】
まず、演算部50によって、試料Sに吸収されるレーザ光のエネルギと試料Sのレーザアブレーション量との相関関係についての情報が予め取得され、記憶される。なお、レーザアブレーション量は、例えばレーザ変位計を用いて、レーザ光照射前後における試料の表面形状を比較し、除去された体積を算出することで、計測される。続いて、試料Sにレーザ光が照射されて試料Sに対するレーザアブレーションが開始される。
【0031】
試料Sに対するレーザアブレーションが開始されると、光検出器45によって、試料Sに照射するためのレーザ光のエネルギが測定される。同時に、光検出器43によって、試料Sに照射されたレーザ光のうち試料Sを透過したレーザ光のエネルギが測定され、光検出器44によって、試料Sに照射されたレーザ光のうち試料Sのレーザ光照射面S1で反射されたレーザ光のエネルギが測定される。
【0032】
そして、演算部50によって、光検出器45により測定されたレーザ光のエネルギから、光検出器43,44により測定されたレーザ光のエネルギが減ぜられて、試料Sに照射されたレーザ光のうち試料Sに吸収されたレーザ光のエネルギが算出される。更に、演算部50によって、試料Sに吸収されるレーザ光のエネルギと試料Sのレーザアブレーション量との相関関係についての情報に基づいて、試料Sに吸収されたレーザ光のエネルギから、試料Sのレーザアブレーション量が算出される。
【0033】
以上説明したように、レーザアブレーション装置2によれば、試料Sのレーザアブレーション量を求めることができる。これにより、レーザアブレーション装置2において試料Sのレーザアブレーション量が時間の経過に対して変動し、ICP−MS装置3において元素組成比の測定値が時間の経過に対して変動しても、求められた試料Sのレーザアブレーション量に基づいて、ICP−MS装置3における元素組成比の測定値を補正することが可能となる。
【0034】
更に、試料Sが例えば多層薄膜試料である場合に、求められた試料Sのレーザアブレーション量、及びICP−MS装置3における単位時間当たりのカウント数の測定値に基づいて、各層の膜厚を求めることが可能となる。
【0035】
また、レーザアブレーション装置2においては、試料Sに照射されるレーザ光の光軸Lが試料Sのレーザ光照射面S1に対して斜めになっているため、試料Sのレーザ光照射面S1で反射されたレーザ光を光検出器44が受光し易い構成を採用することができる。
【0036】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。
【0037】
例えば、試料Sが、金属材料等、レーザ光を殆ど透過しない材料からなる場合には、図3に示されるように、試料Sを透過したレーザ光のエネルギを測定する光検出器43を設けずに、試料Sのレーザ光照射面S1で反射されたレーザ光のエネルギを測定する光検出器44を設ければよい。
【0038】
また、図3に示されるように、レーザ光照射面S1が略水平となるように試料Sが配置される場合には、試料Sに照射されるレーザ光の光軸Lが水平面(すなわち、試料Sのレーザ光照射面S1)に対して斜めになるようにレーザアブレーション装置2を構成すれば、試料Sのレーザ光照射面S1で反射されたレーザ光を光検出器44が受光し易い構成を採用することができる。
【0039】
また、試料Sが、石英ガラス等、レーザ光を殆ど反射しない材料からなる場合には、図4に示されるように、試料Sのレーザ光照射面S1で反射されたレーザ光のエネルギを測定する光検出器44を設けずに、試料Sを透過したレーザ光のエネルギを測定する光検出器43を設ければよい。なお、このような場合には、試料Sに照射されるレーザ光の光軸Lが試料Sのレーザ光照射面S1に対して斜めになるようにレーザアブレーション装置2を構成する必要はない。
【図面の簡単な説明】
【0040】
【図1】本発明に係るレーザアブレーション装置の一実施形態が適用されたLA−ICP−MS装置の構成図である。
【図2】図1に示されたレーザアブレーション装置の要部拡大図である。
【図3】本発明に係るレーザアブレーション装置の他の実施形態の要部拡大図である。
【図4】本発明に係るレーザアブレーション装置の他の実施形態の要部拡大図である。
【符号の説明】
【0041】
2…レーザアブレーション装置、43,44…光検出器(第2の測定手段)、45…光検出器(第1の測定手段)、50…演算部(演算手段)、L…光軸、S…試料、S1…レーザ光照射面。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
試料に対してレーザアブレーションを行うことで微粉体物又はガス化物を生じさせるレーザアブレーション装置であって、
前記試料に照射するためのレーザ光のエネルギを測定する第1の測定手段と、
前記試料に照射されたレーザ光のうち前記試料を透過したレーザ光の少なくとも一部のエネルギ、及び前記試料に照射されたレーザ光のうち前記試料で反射されたレーザ光の少なくとも一部のエネルギの少なくとも一方を測定する第2の測定手段と、を備えることを特徴とするレーザアブレーション装置。
【請求項2】
前記第1の測定手段により測定されたレーザ光のエネルギから、前記第2の測定手段により測定されたレーザ光のエネルギを減ずることで、前記試料に照射されたレーザ光のうち前記試料に吸収されたレーザ光のエネルギを算出すると共に、前記試料に吸収されるレーザ光のエネルギと前記試料のレーザアブレーション量との相関関係についての情報を有する演算手段を備えることを特徴とする請求項1記載のレーザアブレーション装置。
【請求項3】
前記試料に照射されるレーザ光の光軸は、前記試料のレーザ光照射面に対して斜めになっていることを特徴とする請求項1又は2記載のレーザアブレーション装置。
【請求項4】
試料に対してレーザアブレーションを行うことで微粉体物又はガス化物を生じさせるレーザアブレーション装置におけるレーザアブレーション量算出方法であって、
前記試料に吸収されるレーザ光のエネルギと前記試料のレーザアブレーション量との相関関係についての情報を取得する取得工程と、
前記試料に照射するためのレーザ光のエネルギを測定する第1の測定工程と、
前記試料に照射されたレーザ光のうち前記試料を透過したレーザ光の少なくとも一部のエネルギ、及び前記試料に照射されたレーザ光のうち前記試料で反射されたレーザ光の少なくとも一部のエネルギの少なくとも一方を測定する第2の測定工程と、
前記第1の測定工程で測定されたレーザ光のエネルギから、前記第2の測定工程で測定されたレーザ光のエネルギを減ずることで、前記試料に照射されたレーザ光のうち前記試料に吸収されたレーザ光のエネルギを算出する算出工程と、を含むことを特徴とするレーザアブレーション量算出方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2008−8866(P2008−8866A)
【公開日】平成20年1月17日(2008.1.17)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−182359(P2006−182359)
【出願日】平成18年6月30日(2006.6.30)
【出願人】(000003067)TDK株式会社 (7,238)
【Fターム(参考)】