付着物除去装置及び付着物除去方法
【課題】被処理物（ワーク）を損傷させることなく、被処理物に堆積した付着物を効率的に除去することができる付着物除去装置及び付着物除去方法を提供する。
【解決手段】高圧水を噴射するノズル４０が配されたノズルヘッド４１と、ノズルヘッド４１が取り付けられた高圧水噴射ガン３０と、ノズル４０に対向するようにワークＷが載置されるステージ１４とを備え、ワークＷに堆積した付着膜１００を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着膜除去装置１において、高圧水噴射ガン３０は、ステージ１４に対してＹ軸方向に移動可能に構成され、ノズルヘッド４１は、高圧水噴射ガン３０の移動方向に対して直交する方向に直線状に振動可能に構成されていることを特徴とする。
【解決手段】高圧水を噴射するノズル４０が配されたノズルヘッド４１と、ノズルヘッド４１が取り付けられた高圧水噴射ガン３０と、ノズル４０に対向するようにワークＷが載置されるステージ１４とを備え、ワークＷに堆積した付着膜１００を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着膜除去装置１において、高圧水噴射ガン３０は、ステージ１４に対してＹ軸方向に移動可能に構成され、ノズルヘッド４１は、高圧水噴射ガン３０の移動方向に対して直交する方向に直線状に振動可能に構成されていることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、付着物除去装置及び付着物除去方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置やＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）等の電子機器の普及が著しい。このような電子機器を製造するにあたって、基板に金属膜や絶縁膜の薄膜を形成するために、スパッタリング装置やＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置等の真空成膜装置が用いられている。
【０００３】
ところで、前記真空成膜装置を用いて金属膜や絶縁膜の薄膜を形成する際、金属膜や絶縁膜が基板以外の部分、例えば真空成膜装置の防着板や基板トレイ等の成膜装置部品に付着してしまう。これら成膜装置部品は、繰返し使用する必要があり、金属膜や絶縁膜等の付着膜が堆積した状態で使用し続けると、その付着膜が剥離して基板に付着してしまう等の問題があるため、定期的な洗浄が必要となる。
【０００４】
このような付着膜を除去する方法として、化学薬品を用いて溶解する方法やサンドブラストを用いて付着膜を破壊する方法が知られている。また、高圧水を用いて物理的に付着膜を除去する方法も知られている。高圧水を用いる除去方法は、低コスト、リサイクル性等の点で非常に優れている。ただし、高圧水が吐出されるノズルのノズル径は、一般的に１ｍｍ以下であるため、高圧水の噴射面積が狭くなる。そのため、ノズルが搭載されたノズルヘッドを洗浄ガンの中心軸を中心として、回転自在に取り付けている付着膜除去装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
図８は回転式のノズルヘッドにより高圧水が描く軌跡図である。なお、図８では、Ｙ軸を洗浄ガンの移動方向とし、ＸＹ平面をノズルヘッドの回転平面としている。
図８に示すように、従来では洗浄ガンを成膜装置部品に平行に（Ｙ方向に）移動させながらノズルヘッドを回転運動させることで、高圧水の噴射面積を向上させ、除膜効率を向上させている。また、非特許文献１にも示すように、ガンのノズルヘッドは、通常、回転式が一般である。
【特許文献１】特開２００２−２９２３４６号公報
【非特許文献１】「ウォータージェットアタッチメント」ＣＡＴ．ＮＯ．Ｕ４２０２ＮＥ，ｐ．７，ｐ．１０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上述のような付着膜除去装置にあっては、ノズルヘッドの回転運動に対する洗浄ガンの移動速度が重要になる。具体的には、洗浄ガンの移動速度がノズルヘッドの回転速度に対して早過ぎると、成膜装置用部品（以下、ワークという）に堆積した付着膜が除去しきれず、除膜残りが発生してしまう。また、洗浄ガンの移動速度を遅くした場合には、ワーク上の付着膜が除去された部位に対しても再度高圧水を噴射することになってしまうため、時間のロスとワークの損傷に繋がってしまうという問題がある。
【０００７】
さらに、図９に示すように、洗浄ガンをワークＷに対して傾斜させて、高圧水を付着膜（付着物）１００の端面１０１に対して噴射することもできるが（図９中矢印参照）、回転式のノズルヘッドにあっては、付着膜１００の端面１０１に高圧水が効率的に噴射されないという問題がある。
具体的には、図１０の平面図に示すように、洗浄ガンをワークＷに対して傾斜させて高圧水を噴射しても、多くの高圧水が付着膜１００表面とワークＷ表面に噴射されてしまう（図１０中太実線）。そのため、付着膜１００を完全に除去できず付着膜１００が残存してしまうという問題がある。また、付着膜１００が除去された部位に対しても再度高圧水を噴射することになってしまうため、ワークＷの損傷に繋がってしまうという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、被処理物（ワーク）を損傷させることなく、被処理物に堆積した付着物を効率的に除去することができる付着物除去装置及び付着物除去方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の付着物除去装置は、高圧水を噴射するノズルが配されたノズルヘッドと、該ノズルヘッドが取り付けられた高圧水噴射装置と、前記ノズルに対向するように被処理物が載置されるステージとを備え、前記被処理物に堆積した付着物を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着物除去装置において、前記高圧水噴射装置は、前記ステージと平行な第１の方向に前記ステージに対して相対移動可能に構成され、前記ノズルヘッドは、前記ステージと平行であって前記第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動可能に構成されていることを特徴とする。
この構成によれば、高圧水噴射装置をステージと平行な第１の方向にステージに対して相対移動可能に構成するとともに、ノズルヘッドを第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動可能に構成することで、高圧水は、被処理物に対して、正弦波カーブを描くように噴射される。これにより、付着物が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することなくなるため、被処理物の損傷を防止することができる。
また、被処理物の各領域に対して均等に高圧水を噴射させることが可能になり、高圧水噴射装置の移動速度を速めても全ての付着物を除去することができるので、付着物を効率的に除去することができる。
【００１０】
また本発明の付着物除去装置は、前記ノズルヘッドは、前記ノズルから噴射された高圧水が前記被処理物の表面に対して斜め方向から入射するように、前記高圧水噴射装置に取り付けられていることを特徴とする。
この構成によれば、高圧水を被処理物の表面に対して斜め方向から入射するように噴射することで、被処理物と被処理物に堆積した付着物との界面にスベリの力が発生し、付着物の除去効率を向上させることができる。
【００１１】
また本発明の付着物除去装置は、前記ノズルヘッドには、前記第２の方向に沿って前記ノズルが複数配されていることを特徴とする。
この構成によれば、ノズルヘッドに、ノズルを複数配することで、高圧水の噴射範囲を広げることができるため、作業効率を向上させることができる。
【００１２】
また本発明の付着物除去装置は、隣接する前記ノズル間の距離Ｂは、前記ノズルヘッドの振動幅Ａに対して、Ａ≦Ｂ≦Ａ＋２ｍｍの範囲に設定されていることを特徴とする。
この構成によれば、隣接する前記ノズル間の距離Ｂとノズルヘッドの振動幅Ａとの関係を、Ｂ≦Ａ＋２ｍｍに設定することで、付着物が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することを防止することができるため、被処理物の損傷を防止することができる。また、Ａ≦Ｂに設定することで、被処理物の全面に確実に高圧水を噴射することができるため、付着物の除去残りを防止することができる。
【００１３】
一方、本発明の付着膜除去方法は、高圧水を噴射するノズルが配されたノズルヘッドと、該ノズルヘッドが取り付けられた高圧水噴射装置と、前記ノズルに対向するように被処理物が載置されるステージとを備えた付着物除去装置を使用して、前記被処理物に堆積した付着物を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着物除去方法であって、前記高圧水噴射装置を、前記ステージと平行な第１の方向に前記ステージに対して相対移動させるとともに、前記ノズルヘッドを、前記ステージと平行であって前記第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動させながら、前記ノズルから前記付着物に向かって高圧水を噴射することを特徴とする。
この構成によれば、高圧水噴射装置をステージと平行な第１の方向にステージに対して相対移動させるとともに、ノズルヘッドを第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動させることで、高圧水は、被処理物に対して、正弦波カーブを描くように噴射される。これにより、付着物を除去した部位に対して再度高圧水が噴射されることなくなるため、被処理物の損傷を防止することができる。
また、被処理物の各領域に対して均等に高圧水を噴射させることが可能になり、高圧水噴射装置の移動速度を速めても全ての付着物を除去することができるので、付着物を効率的に除去することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の付着物除去装置によれば、付着物が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することなくなるため、被処理物の損傷を防止することができる。また、被処理物の各領域に対して均等に高圧水を噴射させることが可能になり、高圧水噴射装置の移動速度を速めても全ての付着物を除去することができるので、付着物を効率的に除去することができる。したがって、付着物の除去効率及び除去速度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。また、また、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をＸ方向、水平面内においてＸ方向と直交する方向をＹ方向、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれに直交する上下方向をＺ方向とする。
【００１６】
（第１実施形態）
（付着膜除去装置）
図１，２は、本実施形態に係る付着膜除去装置（付着物除去装置）の側面図である。
図１，２に示すように、本実施形態に係る付着膜除去装置１は、被処理物（以下、ワークという）Ｗが載置されるベース部１０と、ワークＷに対して高圧水を吐出する洗浄部２０とを備えている。
【００１７】
ベース部１０は、フレーム１１を備えている。フレーム１１は、平面視矩形状のものであり、その中央部には支持部材１２が配置されている。この支持部材１２は、側面視矩形状のものであり、その上面で、洗浄槽１３を支持している。
洗浄槽１３は、上部が開口した箱型形状であり、後述するノズル４０から吐出される高圧水の飛散を防ぎ、高圧水を収容するものである。また、洗浄槽１３には、ドレインタンクに連通するドレイン管（ともに不図示）が接続されている。
【００１８】
洗浄槽１３内には、ステージ１４が設けられている。このステージ１４は、洗浄するワークＷを載置するものであり、洗浄槽１３の開口と略同形状の金属メッシュ等から構成されている。このように、ステージ１４を金属メッシュで構成することにより、ワークＷとステージ１４との摩擦力を向上させて、洗浄時におけるワークＷのずれを防止することができる。
【００１９】
なお、本実施形態におけるワークＷは、付着膜１００が堆積した真空成膜装置の防着板や基板トレイ等の成膜装置部品であり、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、アルミ（Ａｌ）等からなる。また、ワークＷに堆積する付着膜１００として、真空成膜装置を用いて成膜される銅（Ｃｕ）、酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミ（Ａｌ）合金、モリブデン（Ｍｏ）合金、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、アルミシリコン（ＡｌＳｉ）、タンタル（Ｔａ）等が挙げられる。
【００２０】
また、フレーム１１の両側には、そのＹ軸方向に沿って、第１ガイドレール１５が形成されている。この第１ガイドレール１５は、山型形状の凸部１６を有している。
【００２１】
一方、洗浄部２０は、高圧水噴射ガン（高圧水噴射装置）３０と、該高圧水噴射ガン３０を支持するフレーム２１とを備えている。フレーム２１は、下枠２２と、縦枠２３と、上枠２４とからなり、洗浄槽１３をＸ軸方向で跨ぐように構成されている。
【００２２】
下枠２２の下面には、複数のガイドローラ（例えば、各２つずつ）２５が、回転可能に設けられている。このガイドローラ２５は、側面視Ｈ形状のものであり、上述した第１ガイドレール１５の凸部１６に噛合うように配置されている。そして、洗浄部２０は、モータ等の図示しない駆動手段により、第１ガイドレール１５上をＹ軸方向に沿って移動可能（図２中矢印）に構成されている。
上枠２４は、縦枠２３により支持されており、その上下面には第２ガイドレール２６が形成されている。この第２ガイドレール２６は、上述した第１ガイドレール１５と同様に凸部２７を有するものであり、Ｘ軸方向に沿って形成されている。
【００２３】
第２ガイドレール２６には、第２ガイドレール２６をその上下から挟むようにガイドローラ（例えば、４つずつ）２８が回転可能に設けられている。このガイドローラ２８は、前述したガイドローラ２５と同様の形状のものであり、第２ガイドレール２６の凸部２７に噛合うように配置されている。このガイドローラ２８には、モータ等の駆動手段２９が設けられており、この駆動手段２９には、高圧水噴射ガン３０が設けられている。そして、高圧水噴射ガン３０は、駆動手段２９により第２ガイドレール２６上をＸ軸方向に沿って移動可能に構成されている（図１中矢印）。
【００２４】
図３は、高圧水噴射ガン（高圧水噴射装置）の拡大図であり、図４はノズルヘッドの底面拡大図である。
図３に示すように、高圧水噴射ガン３０は、ベース部１０のステージ１４と対向配置されており、高圧水を吐出するノズル４０と、該ノズル４０を備えたノズルヘッド４１と、該ノズルヘッド４１が取り付けられるガン本体部４２とを備えている。
【００２５】
ガン本体部４２は、駆動手段２９に接続されている。また、ガン本体部４２の上端には、高圧水ホース４３が接続されており、図示しない供給源から高圧水が供給される。なお、本実施形態における高圧水の圧力は３０〜２５０Ｍｐａ程度が好ましい。
【００２６】
一方、図４に示すように、ガン本体部４２の下端には、ノズルヘッド４１が取り付けられている。このノズルヘッド４１は、平面視矩形状のものであり、図示しない駆動手段によりガン本体部４２に対してＸ軸方向に振動可能に構成されている。また、ノズルヘッド４１の下面には、そのＸ軸方向に沿って複数のノズル４０（例えば、２つ）が配列されている。なお、ノズルヘッド４１に配列されるノズル４０の数は、３つ以上でもよく、単数でもよい。
【００２７】
ノズル４０は、供給源から供給される高圧水（図３矢印参照）をワークＷに対して噴射するものであり、本実施形態において、ノズル径が例えば、０．５ｍｍで形成されている。また、このノズル４０により噴射された高圧水のワークＷ表面における噴射径φ（図４中二点鎖線）は、平均で２ｍｍ程度となる。
【００２８】
ここで、隣接するノズル４０間の距離と高圧水噴射ガン３０の直線往復移動の振動幅との関係は、隣接するノズル４０から噴射される高圧水の噴射径φが、接するような位置関係に配置することが好ましい。
具体的には、隣接するノズル４０間の距離Ｂは、ノズルヘッド４１の振動幅Ａに対して、Ａ≦Ｂ≦Ａ＋２ｍｍの範囲に設定されていることが好ましい。Ｂ≦Ａ＋２ｍｍ（図４においてＡ＝Ａ２の場合）とすることで、ノズルヘッド４１の振動により、隣接するノズル４０から噴射される高圧水の噴射径φが接する位置まで移動するため、付着膜１００が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することを防止することができる。また、Ａ≦Ｂ（図４においてＡ＝Ａ１の場合）とすることで、ノズルヘッド４１の振動により、一方のノズル４０が他方のノズル４０と重なる位置まで移動するため、ワークＷの全面に高圧水を確実に噴射させることができ、除去残りを防ぐことができる。
【００２９】
（付着膜除去方法）
次に、本実施形態における付着膜除去装置の作用である、付着膜除去方法について説明する。
まず、図１，２に示すように、ステージ１４上にワークＷを載置する。次に、洗浄部２０を第１ガイドレール１５上のＹ軸負方向の端部に移動させるとともに、高圧水噴射ガン３０を第２ガイドレール２６上のＸ軸負方向の端部に移動させる。そして、ワークＷ表面に対して垂直に高圧水を噴射していく。
【００３０】
作業が開始されると、高圧水噴射ガン３０のノズルヘッド４１は、ワークＷ上をＸ軸方向に振動運動し始める。この時の振動数としては、例えば、１０００ｒｐｍ程度が好ましく、振幅（ノズルヘッドの移動範囲の両端間の距離であり、図４のＡ寸法に相当）としては、例えば２０ｍｍ（±１０ｍｍ）程度が好ましい。なお、上述した振幅とは、ノズルヘッド４１の両端間の振動可能範囲である。
【００３１】
一方、洗浄部２０に搭載された高圧水噴射ガン３０は、ベース部１０の第１ガイドレール１５に沿ってＹ軸正方向に向かって移動し始める。この時の高圧水噴射ガン３０の移動速度は、ノズルヘッド４１の振動の１往復を１サイクルとして、１サイクルにつき０．５ｍｍ程度（ノズルヘッド４１の振動数を１０００ｒｐｍとすれば、高圧水噴射ガン３０の移動速度は約５００ｍｍ／ｍｉｎ）であることが好ましい。移動速度が１サイクルにつき０．５ｍｍ以上であると、ワークＷ表面の付着膜１００が完全に除去できず、付着膜１００が残留してしまう虞があるため好ましくない。また、移動速度が１サイクルにつき０．５ｍｍ以下であると付着膜１００が除去された部位に再度高圧水が噴射されてしまい、ワークＷにダメージを与えてしまう虞があるため好ましくない。
【００３２】
図５は、本実施形態における、付着膜除去装置により高圧水が描く軌跡図である。なお、図５では、Ｘ軸（振幅）をノズルヘッドの振動方向とし、Ｙ軸を高圧水噴射ガンの移動方向としている。
図５に示すように、高圧水噴射ガン３０をＹ軸正方向に移動させるとともに、ノズルヘッド４１をＸ軸方向に振動させつつ、ノズル４０から高圧水を噴射することで、高圧水はワークＷ表面対して正弦波カーブを描くような軌跡で噴射されることとなる。
【００３３】
高圧水噴射ガン３０がＹ軸正方向の端部まで移動したら、高圧水噴射ガン３０をＹ軸負方向の端部まで復帰させ、Ｘ軸正方向にノズル数×ノズル間距離（例えば、図４中では、２×Ｂ）だけ移動させる。その位置から上記と同様の処理を繰り返すことでワークＷ全面に高圧水を噴射していく。
【００３４】
ここで、本実施形態の付着膜除去装置１と従来の回転式のノズルヘッドを備えた付着膜除去装置との除去効率の比較試験を行った。本試験では、ノズルヘッドの振動数、振幅、高圧水の圧力を同条件に設定し、高圧水噴射ガンの移動速度のみを変化させた。
本試験によれば、本実施形態における付着膜除去装置１を用いた場合、従来に比べ、１．２〜１．５倍の移動速度で、ワークＷ全面の付着膜１００を完全に除去することが可能となった。
【００３５】
したがって、本実施形態は、洗浄部２０の高圧水噴射ガン３０をワークＷに対してＹ軸方向に移動可能に構成するとともに、高圧水噴射ガン３０のノズルヘッド４１を高圧水噴射ガン３０の移動方向に対して直交する方向（Ｘ軸方向）に直線状に振動可能に構成した。
この構成によれば、高圧水噴射ガン３０を移動させながら、その移動方向に直交する方向にノズルヘッド４１を直線状に振動させることで、高圧水は、ワークＷに対して、正弦波カーブを描くように噴射される。これにより、付着膜１００が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することなくなるため、ワークＷの損傷を防止することができる。
また、ワークＷの各領域に対して均等に高圧水を噴射させることが可能になり、従来のような回転式のノズルヘッドに比べ、高圧水噴射ガン３０の移動速度を速めても全ての付着物を除去することができるので、付着膜１００を効率的に除去することができる。
【００３６】
さらに、ノズルヘッド４１に、ノズル４０を複数配列することで、高圧水の幅方向（Ｘ軸方向）の噴射範囲を広げることができるため、付着膜１００の除去効率を向上させることができる。
【００３７】
（第２実施形態）
次に、図６，７に基づいて、本発明の第２実施形態について説明する。
本発明の第２実施形態は、高圧水噴射ガン３０のガン本体部４２をワークＷに対して傾斜させて洗浄を行う点で第１実施形態と異なる。なお、本実施形態において、図１，２を援用して、同一部材に同一符号を付し説明を省略する。
本実施形態における付着膜除去装置は、第１実施形態と同様の構成であって（図１，２参照）、さらに、高圧水噴射ガン３０がＹＺ平面内において傾斜した状態で固定しうるように構成されている。つまり、高圧水噴射ガン３０は、ワークＷ表面に対して傾斜配置可能に構成され、ノズル４０から噴射される高圧水がワークＷの表面に対して斜め方向から入射するようになっている。この時の傾斜角度θとしては、ワークＷに対して４５°程度であることが好ましい。
【００３８】
（付着膜除去方法）
次に、本実施形態の付着膜除去装置の作用である、付着膜除去方法について説明する。
まず、高圧水噴射ガン３０をワークＷに対して、傾斜させる。次いで、第１実施形態と同様に除去作業を行う。
【００３９】
この時、従来の回転式ノズルでは、上述したようにワークＷに対して傾斜させて噴射しても、高圧水が付着膜１００の端面１０１に効率的に噴射されなかった（図１０参照）。これに対して、本実施形態の直線振動式ノズルでは、ワークＷに堆積された付着膜１００の端面１０１に、高圧水を効率的に噴射することができる。
具体的には、図７に示すように、付着膜１００の端面１０１に沿って高圧水を確実に噴射させることができるため（図７中太実線）、ワークＷと付着膜１００との界面にスベリの力が発生し、付着膜１００を剥すように除去することができる。これにより、高圧水を垂直に噴射させた場合に比べ、高圧水噴射ガン３０の移動速度をさらに向上させることができる。
【００４０】
したがって、本実施形態は、高圧水噴射ガン３０がワークＷ表面に対して傾斜配置可能に構成され、ノズル４０から噴射される高圧水がワークＷの表面に対して斜め方向から入射するように構成した。
この構成によれば、高圧水噴射ガン３０を、ワークＷに対して傾斜して取り付けることで、高圧水をワークＷに対して斜め方向から入射するように、噴射させることができる。これにより、付着膜１００の端面１０１に沿って高圧水を確実に噴射させることができるため、ワークＷとワークＷに堆積した付着膜１００との界面にスベリの力が発生し、付着膜１００を剥すように除去することができる。したがって、付着膜１００の除去効率をより向上させることができる。
【００４１】
なお、上述の第１、２実施形態について、ワークＷ、付着膜１００の条件等を特に限定はしないが、第１実施形態においては、ワークＷに対して垂直に高圧水を噴射するため、ワークＷに大きな圧力がかかる。したがって、上述したワークＷ及び付着膜１００の材質のうち、比較的硬いワークＷに付着した、硬い付着膜１００を局所的に除去していく際に特に好適である。
【００４２】
一方、第２実施形態は、ワークＷに対して高圧水を傾斜させて噴射するため、ワークＷにかかる高圧水の圧力が垂直に噴射する場合に比べ弱くなっている。逆に、ワークＷと付着膜１００との界面にスベリの力が発生するため、付着膜１００を剥すように除去していくことができる。したがって、上述したワークＷ及び付着膜１００の材質のうち、比較的軟らかいワークＷに付着した、軟らかい付着膜１００を除去する際に特に好適である。
【００４３】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００４４】
例えば、本実施形態において、ステージに対して洗浄部をＹ軸方向に移動可能に構成したが、洗浄部を固定し、ステージを洗浄部に対して移動可能にするような構成としてもよい。
また、ノズルから噴射する流体は、高圧水以外の高圧流体であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施形態における付着膜除去装置の側面図である。
【図２】本発明の実施形態における付着膜除去装置の側面図である。
【図３】本発明の第１実施形態における高圧水噴射ガンの拡大図である。
【図４】本発明の実施形態における高圧水噴射ガンの拡大図である。
【図５】本発明の実施形態における付着膜除去装置により高圧水が描く軌跡図である。
【図６】本発明の第２実施形態における高圧水噴射ガンの拡大図である。
【図７】本発明の第２実施形態における高圧水を付着膜の側面から噴射させた図である。
【図８】従来の回転式ノズルヘッドにより高圧水が描く軌跡図である。
【図９】高圧水を付着膜の側面から噴射させた図である。
【図１０】従来の回転式ノズルヘッドにより高圧水を付着膜の側面から噴射させた図である。
【符号の説明】
【００４６】
１…付着膜除去装置（付着物除去装置） １４…ステージ ３０…高圧水噴射ガン（高圧水噴射装置） ４０…ノズル ４１…ノズルヘッド １００…付着膜（付着物） Ｗ…ワーク（被処理物）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、付着物除去装置及び付着物除去方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置やＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）等の電子機器の普及が著しい。このような電子機器を製造するにあたって、基板に金属膜や絶縁膜の薄膜を形成するために、スパッタリング装置やＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置等の真空成膜装置が用いられている。
【０００３】
ところで、前記真空成膜装置を用いて金属膜や絶縁膜の薄膜を形成する際、金属膜や絶縁膜が基板以外の部分、例えば真空成膜装置の防着板や基板トレイ等の成膜装置部品に付着してしまう。これら成膜装置部品は、繰返し使用する必要があり、金属膜や絶縁膜等の付着膜が堆積した状態で使用し続けると、その付着膜が剥離して基板に付着してしまう等の問題があるため、定期的な洗浄が必要となる。
【０００４】
このような付着膜を除去する方法として、化学薬品を用いて溶解する方法やサンドブラストを用いて付着膜を破壊する方法が知られている。また、高圧水を用いて物理的に付着膜を除去する方法も知られている。高圧水を用いる除去方法は、低コスト、リサイクル性等の点で非常に優れている。ただし、高圧水が吐出されるノズルのノズル径は、一般的に１ｍｍ以下であるため、高圧水の噴射面積が狭くなる。そのため、ノズルが搭載されたノズルヘッドを洗浄ガンの中心軸を中心として、回転自在に取り付けている付着膜除去装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
図８は回転式のノズルヘッドにより高圧水が描く軌跡図である。なお、図８では、Ｙ軸を洗浄ガンの移動方向とし、ＸＹ平面をノズルヘッドの回転平面としている。
図８に示すように、従来では洗浄ガンを成膜装置部品に平行に（Ｙ方向に）移動させながらノズルヘッドを回転運動させることで、高圧水の噴射面積を向上させ、除膜効率を向上させている。また、非特許文献１にも示すように、ガンのノズルヘッドは、通常、回転式が一般である。
【特許文献１】特開２００２−２９２３４６号公報
【非特許文献１】「ウォータージェットアタッチメント」ＣＡＴ．ＮＯ．Ｕ４２０２ＮＥ，ｐ．７，ｐ．１０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上述のような付着膜除去装置にあっては、ノズルヘッドの回転運動に対する洗浄ガンの移動速度が重要になる。具体的には、洗浄ガンの移動速度がノズルヘッドの回転速度に対して早過ぎると、成膜装置用部品（以下、ワークという）に堆積した付着膜が除去しきれず、除膜残りが発生してしまう。また、洗浄ガンの移動速度を遅くした場合には、ワーク上の付着膜が除去された部位に対しても再度高圧水を噴射することになってしまうため、時間のロスとワークの損傷に繋がってしまうという問題がある。
【０００７】
さらに、図９に示すように、洗浄ガンをワークＷに対して傾斜させて、高圧水を付着膜（付着物）１００の端面１０１に対して噴射することもできるが（図９中矢印参照）、回転式のノズルヘッドにあっては、付着膜１００の端面１０１に高圧水が効率的に噴射されないという問題がある。
具体的には、図１０の平面図に示すように、洗浄ガンをワークＷに対して傾斜させて高圧水を噴射しても、多くの高圧水が付着膜１００表面とワークＷ表面に噴射されてしまう（図１０中太実線）。そのため、付着膜１００を完全に除去できず付着膜１００が残存してしまうという問題がある。また、付着膜１００が除去された部位に対しても再度高圧水を噴射することになってしまうため、ワークＷの損傷に繋がってしまうという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、被処理物（ワーク）を損傷させることなく、被処理物に堆積した付着物を効率的に除去することができる付着物除去装置及び付着物除去方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の付着物除去装置は、高圧水を噴射するノズルが配されたノズルヘッドと、該ノズルヘッドが取り付けられた高圧水噴射装置と、前記ノズルに対向するように被処理物が載置されるステージとを備え、前記被処理物に堆積した付着物を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着物除去装置において、前記高圧水噴射装置は、前記ステージと平行な第１の方向に前記ステージに対して相対移動可能に構成され、前記ノズルヘッドは、前記ステージと平行であって前記第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動可能に構成されていることを特徴とする。
この構成によれば、高圧水噴射装置をステージと平行な第１の方向にステージに対して相対移動可能に構成するとともに、ノズルヘッドを第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動可能に構成することで、高圧水は、被処理物に対して、正弦波カーブを描くように噴射される。これにより、付着物が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することなくなるため、被処理物の損傷を防止することができる。
また、被処理物の各領域に対して均等に高圧水を噴射させることが可能になり、高圧水噴射装置の移動速度を速めても全ての付着物を除去することができるので、付着物を効率的に除去することができる。
【００１０】
また本発明の付着物除去装置は、前記ノズルヘッドは、前記ノズルから噴射された高圧水が前記被処理物の表面に対して斜め方向から入射するように、前記高圧水噴射装置に取り付けられていることを特徴とする。
この構成によれば、高圧水を被処理物の表面に対して斜め方向から入射するように噴射することで、被処理物と被処理物に堆積した付着物との界面にスベリの力が発生し、付着物の除去効率を向上させることができる。
【００１１】
また本発明の付着物除去装置は、前記ノズルヘッドには、前記第２の方向に沿って前記ノズルが複数配されていることを特徴とする。
この構成によれば、ノズルヘッドに、ノズルを複数配することで、高圧水の噴射範囲を広げることができるため、作業効率を向上させることができる。
【００１２】
また本発明の付着物除去装置は、隣接する前記ノズル間の距離Ｂは、前記ノズルヘッドの振動幅Ａに対して、Ａ≦Ｂ≦Ａ＋２ｍｍの範囲に設定されていることを特徴とする。
この構成によれば、隣接する前記ノズル間の距離Ｂとノズルヘッドの振動幅Ａとの関係を、Ｂ≦Ａ＋２ｍｍに設定することで、付着物が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することを防止することができるため、被処理物の損傷を防止することができる。また、Ａ≦Ｂに設定することで、被処理物の全面に確実に高圧水を噴射することができるため、付着物の除去残りを防止することができる。
【００１３】
一方、本発明の付着膜除去方法は、高圧水を噴射するノズルが配されたノズルヘッドと、該ノズルヘッドが取り付けられた高圧水噴射装置と、前記ノズルに対向するように被処理物が載置されるステージとを備えた付着物除去装置を使用して、前記被処理物に堆積した付着物を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着物除去方法であって、前記高圧水噴射装置を、前記ステージと平行な第１の方向に前記ステージに対して相対移動させるとともに、前記ノズルヘッドを、前記ステージと平行であって前記第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動させながら、前記ノズルから前記付着物に向かって高圧水を噴射することを特徴とする。
この構成によれば、高圧水噴射装置をステージと平行な第１の方向にステージに対して相対移動させるとともに、ノズルヘッドを第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動させることで、高圧水は、被処理物に対して、正弦波カーブを描くように噴射される。これにより、付着物を除去した部位に対して再度高圧水が噴射されることなくなるため、被処理物の損傷を防止することができる。
また、被処理物の各領域に対して均等に高圧水を噴射させることが可能になり、高圧水噴射装置の移動速度を速めても全ての付着物を除去することができるので、付着物を効率的に除去することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の付着物除去装置によれば、付着物が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することなくなるため、被処理物の損傷を防止することができる。また、被処理物の各領域に対して均等に高圧水を噴射させることが可能になり、高圧水噴射装置の移動速度を速めても全ての付着物を除去することができるので、付着物を効率的に除去することができる。したがって、付着物の除去効率及び除去速度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。また、また、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をＸ方向、水平面内においてＸ方向と直交する方向をＹ方向、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれに直交する上下方向をＺ方向とする。
【００１６】
（第１実施形態）
（付着膜除去装置）
図１，２は、本実施形態に係る付着膜除去装置（付着物除去装置）の側面図である。
図１，２に示すように、本実施形態に係る付着膜除去装置１は、被処理物（以下、ワークという）Ｗが載置されるベース部１０と、ワークＷに対して高圧水を吐出する洗浄部２０とを備えている。
【００１７】
ベース部１０は、フレーム１１を備えている。フレーム１１は、平面視矩形状のものであり、その中央部には支持部材１２が配置されている。この支持部材１２は、側面視矩形状のものであり、その上面で、洗浄槽１３を支持している。
洗浄槽１３は、上部が開口した箱型形状であり、後述するノズル４０から吐出される高圧水の飛散を防ぎ、高圧水を収容するものである。また、洗浄槽１３には、ドレインタンクに連通するドレイン管（ともに不図示）が接続されている。
【００１８】
洗浄槽１３内には、ステージ１４が設けられている。このステージ１４は、洗浄するワークＷを載置するものであり、洗浄槽１３の開口と略同形状の金属メッシュ等から構成されている。このように、ステージ１４を金属メッシュで構成することにより、ワークＷとステージ１４との摩擦力を向上させて、洗浄時におけるワークＷのずれを防止することができる。
【００１９】
なお、本実施形態におけるワークＷは、付着膜１００が堆積した真空成膜装置の防着板や基板トレイ等の成膜装置部品であり、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、アルミ（Ａｌ）等からなる。また、ワークＷに堆積する付着膜１００として、真空成膜装置を用いて成膜される銅（Ｃｕ）、酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミ（Ａｌ）合金、モリブデン（Ｍｏ）合金、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、アルミシリコン（ＡｌＳｉ）、タンタル（Ｔａ）等が挙げられる。
【００２０】
また、フレーム１１の両側には、そのＹ軸方向に沿って、第１ガイドレール１５が形成されている。この第１ガイドレール１５は、山型形状の凸部１６を有している。
【００２１】
一方、洗浄部２０は、高圧水噴射ガン（高圧水噴射装置）３０と、該高圧水噴射ガン３０を支持するフレーム２１とを備えている。フレーム２１は、下枠２２と、縦枠２３と、上枠２４とからなり、洗浄槽１３をＸ軸方向で跨ぐように構成されている。
【００２２】
下枠２２の下面には、複数のガイドローラ（例えば、各２つずつ）２５が、回転可能に設けられている。このガイドローラ２５は、側面視Ｈ形状のものであり、上述した第１ガイドレール１５の凸部１６に噛合うように配置されている。そして、洗浄部２０は、モータ等の図示しない駆動手段により、第１ガイドレール１５上をＹ軸方向に沿って移動可能（図２中矢印）に構成されている。
上枠２４は、縦枠２３により支持されており、その上下面には第２ガイドレール２６が形成されている。この第２ガイドレール２６は、上述した第１ガイドレール１５と同様に凸部２７を有するものであり、Ｘ軸方向に沿って形成されている。
【００２３】
第２ガイドレール２６には、第２ガイドレール２６をその上下から挟むようにガイドローラ（例えば、４つずつ）２８が回転可能に設けられている。このガイドローラ２８は、前述したガイドローラ２５と同様の形状のものであり、第２ガイドレール２６の凸部２７に噛合うように配置されている。このガイドローラ２８には、モータ等の駆動手段２９が設けられており、この駆動手段２９には、高圧水噴射ガン３０が設けられている。そして、高圧水噴射ガン３０は、駆動手段２９により第２ガイドレール２６上をＸ軸方向に沿って移動可能に構成されている（図１中矢印）。
【００２４】
図３は、高圧水噴射ガン（高圧水噴射装置）の拡大図であり、図４はノズルヘッドの底面拡大図である。
図３に示すように、高圧水噴射ガン３０は、ベース部１０のステージ１４と対向配置されており、高圧水を吐出するノズル４０と、該ノズル４０を備えたノズルヘッド４１と、該ノズルヘッド４１が取り付けられるガン本体部４２とを備えている。
【００２５】
ガン本体部４２は、駆動手段２９に接続されている。また、ガン本体部４２の上端には、高圧水ホース４３が接続されており、図示しない供給源から高圧水が供給される。なお、本実施形態における高圧水の圧力は３０〜２５０Ｍｐａ程度が好ましい。
【００２６】
一方、図４に示すように、ガン本体部４２の下端には、ノズルヘッド４１が取り付けられている。このノズルヘッド４１は、平面視矩形状のものであり、図示しない駆動手段によりガン本体部４２に対してＸ軸方向に振動可能に構成されている。また、ノズルヘッド４１の下面には、そのＸ軸方向に沿って複数のノズル４０（例えば、２つ）が配列されている。なお、ノズルヘッド４１に配列されるノズル４０の数は、３つ以上でもよく、単数でもよい。
【００２７】
ノズル４０は、供給源から供給される高圧水（図３矢印参照）をワークＷに対して噴射するものであり、本実施形態において、ノズル径が例えば、０．５ｍｍで形成されている。また、このノズル４０により噴射された高圧水のワークＷ表面における噴射径φ（図４中二点鎖線）は、平均で２ｍｍ程度となる。
【００２８】
ここで、隣接するノズル４０間の距離と高圧水噴射ガン３０の直線往復移動の振動幅との関係は、隣接するノズル４０から噴射される高圧水の噴射径φが、接するような位置関係に配置することが好ましい。
具体的には、隣接するノズル４０間の距離Ｂは、ノズルヘッド４１の振動幅Ａに対して、Ａ≦Ｂ≦Ａ＋２ｍｍの範囲に設定されていることが好ましい。Ｂ≦Ａ＋２ｍｍ（図４においてＡ＝Ａ２の場合）とすることで、ノズルヘッド４１の振動により、隣接するノズル４０から噴射される高圧水の噴射径φが接する位置まで移動するため、付着膜１００が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することを防止することができる。また、Ａ≦Ｂ（図４においてＡ＝Ａ１の場合）とすることで、ノズルヘッド４１の振動により、一方のノズル４０が他方のノズル４０と重なる位置まで移動するため、ワークＷの全面に高圧水を確実に噴射させることができ、除去残りを防ぐことができる。
【００２９】
（付着膜除去方法）
次に、本実施形態における付着膜除去装置の作用である、付着膜除去方法について説明する。
まず、図１，２に示すように、ステージ１４上にワークＷを載置する。次に、洗浄部２０を第１ガイドレール１５上のＹ軸負方向の端部に移動させるとともに、高圧水噴射ガン３０を第２ガイドレール２６上のＸ軸負方向の端部に移動させる。そして、ワークＷ表面に対して垂直に高圧水を噴射していく。
【００３０】
作業が開始されると、高圧水噴射ガン３０のノズルヘッド４１は、ワークＷ上をＸ軸方向に振動運動し始める。この時の振動数としては、例えば、１０００ｒｐｍ程度が好ましく、振幅（ノズルヘッドの移動範囲の両端間の距離であり、図４のＡ寸法に相当）としては、例えば２０ｍｍ（±１０ｍｍ）程度が好ましい。なお、上述した振幅とは、ノズルヘッド４１の両端間の振動可能範囲である。
【００３１】
一方、洗浄部２０に搭載された高圧水噴射ガン３０は、ベース部１０の第１ガイドレール１５に沿ってＹ軸正方向に向かって移動し始める。この時の高圧水噴射ガン３０の移動速度は、ノズルヘッド４１の振動の１往復を１サイクルとして、１サイクルにつき０．５ｍｍ程度（ノズルヘッド４１の振動数を１０００ｒｐｍとすれば、高圧水噴射ガン３０の移動速度は約５００ｍｍ／ｍｉｎ）であることが好ましい。移動速度が１サイクルにつき０．５ｍｍ以上であると、ワークＷ表面の付着膜１００が完全に除去できず、付着膜１００が残留してしまう虞があるため好ましくない。また、移動速度が１サイクルにつき０．５ｍｍ以下であると付着膜１００が除去された部位に再度高圧水が噴射されてしまい、ワークＷにダメージを与えてしまう虞があるため好ましくない。
【００３２】
図５は、本実施形態における、付着膜除去装置により高圧水が描く軌跡図である。なお、図５では、Ｘ軸（振幅）をノズルヘッドの振動方向とし、Ｙ軸を高圧水噴射ガンの移動方向としている。
図５に示すように、高圧水噴射ガン３０をＹ軸正方向に移動させるとともに、ノズルヘッド４１をＸ軸方向に振動させつつ、ノズル４０から高圧水を噴射することで、高圧水はワークＷ表面対して正弦波カーブを描くような軌跡で噴射されることとなる。
【００３３】
高圧水噴射ガン３０がＹ軸正方向の端部まで移動したら、高圧水噴射ガン３０をＹ軸負方向の端部まで復帰させ、Ｘ軸正方向にノズル数×ノズル間距離（例えば、図４中では、２×Ｂ）だけ移動させる。その位置から上記と同様の処理を繰り返すことでワークＷ全面に高圧水を噴射していく。
【００３４】
ここで、本実施形態の付着膜除去装置１と従来の回転式のノズルヘッドを備えた付着膜除去装置との除去効率の比較試験を行った。本試験では、ノズルヘッドの振動数、振幅、高圧水の圧力を同条件に設定し、高圧水噴射ガンの移動速度のみを変化させた。
本試験によれば、本実施形態における付着膜除去装置１を用いた場合、従来に比べ、１．２〜１．５倍の移動速度で、ワークＷ全面の付着膜１００を完全に除去することが可能となった。
【００３５】
したがって、本実施形態は、洗浄部２０の高圧水噴射ガン３０をワークＷに対してＹ軸方向に移動可能に構成するとともに、高圧水噴射ガン３０のノズルヘッド４１を高圧水噴射ガン３０の移動方向に対して直交する方向（Ｘ軸方向）に直線状に振動可能に構成した。
この構成によれば、高圧水噴射ガン３０を移動させながら、その移動方向に直交する方向にノズルヘッド４１を直線状に振動させることで、高圧水は、ワークＷに対して、正弦波カーブを描くように噴射される。これにより、付着膜１００が除去された部位に対して再度高圧水を噴射することなくなるため、ワークＷの損傷を防止することができる。
また、ワークＷの各領域に対して均等に高圧水を噴射させることが可能になり、従来のような回転式のノズルヘッドに比べ、高圧水噴射ガン３０の移動速度を速めても全ての付着物を除去することができるので、付着膜１００を効率的に除去することができる。
【００３６】
さらに、ノズルヘッド４１に、ノズル４０を複数配列することで、高圧水の幅方向（Ｘ軸方向）の噴射範囲を広げることができるため、付着膜１００の除去効率を向上させることができる。
【００３７】
（第２実施形態）
次に、図６，７に基づいて、本発明の第２実施形態について説明する。
本発明の第２実施形態は、高圧水噴射ガン３０のガン本体部４２をワークＷに対して傾斜させて洗浄を行う点で第１実施形態と異なる。なお、本実施形態において、図１，２を援用して、同一部材に同一符号を付し説明を省略する。
本実施形態における付着膜除去装置は、第１実施形態と同様の構成であって（図１，２参照）、さらに、高圧水噴射ガン３０がＹＺ平面内において傾斜した状態で固定しうるように構成されている。つまり、高圧水噴射ガン３０は、ワークＷ表面に対して傾斜配置可能に構成され、ノズル４０から噴射される高圧水がワークＷの表面に対して斜め方向から入射するようになっている。この時の傾斜角度θとしては、ワークＷに対して４５°程度であることが好ましい。
【００３８】
（付着膜除去方法）
次に、本実施形態の付着膜除去装置の作用である、付着膜除去方法について説明する。
まず、高圧水噴射ガン３０をワークＷに対して、傾斜させる。次いで、第１実施形態と同様に除去作業を行う。
【００３９】
この時、従来の回転式ノズルでは、上述したようにワークＷに対して傾斜させて噴射しても、高圧水が付着膜１００の端面１０１に効率的に噴射されなかった（図１０参照）。これに対して、本実施形態の直線振動式ノズルでは、ワークＷに堆積された付着膜１００の端面１０１に、高圧水を効率的に噴射することができる。
具体的には、図７に示すように、付着膜１００の端面１０１に沿って高圧水を確実に噴射させることができるため（図７中太実線）、ワークＷと付着膜１００との界面にスベリの力が発生し、付着膜１００を剥すように除去することができる。これにより、高圧水を垂直に噴射させた場合に比べ、高圧水噴射ガン３０の移動速度をさらに向上させることができる。
【００４０】
したがって、本実施形態は、高圧水噴射ガン３０がワークＷ表面に対して傾斜配置可能に構成され、ノズル４０から噴射される高圧水がワークＷの表面に対して斜め方向から入射するように構成した。
この構成によれば、高圧水噴射ガン３０を、ワークＷに対して傾斜して取り付けることで、高圧水をワークＷに対して斜め方向から入射するように、噴射させることができる。これにより、付着膜１００の端面１０１に沿って高圧水を確実に噴射させることができるため、ワークＷとワークＷに堆積した付着膜１００との界面にスベリの力が発生し、付着膜１００を剥すように除去することができる。したがって、付着膜１００の除去効率をより向上させることができる。
【００４１】
なお、上述の第１、２実施形態について、ワークＷ、付着膜１００の条件等を特に限定はしないが、第１実施形態においては、ワークＷに対して垂直に高圧水を噴射するため、ワークＷに大きな圧力がかかる。したがって、上述したワークＷ及び付着膜１００の材質のうち、比較的硬いワークＷに付着した、硬い付着膜１００を局所的に除去していく際に特に好適である。
【００４２】
一方、第２実施形態は、ワークＷに対して高圧水を傾斜させて噴射するため、ワークＷにかかる高圧水の圧力が垂直に噴射する場合に比べ弱くなっている。逆に、ワークＷと付着膜１００との界面にスベリの力が発生するため、付着膜１００を剥すように除去していくことができる。したがって、上述したワークＷ及び付着膜１００の材質のうち、比較的軟らかいワークＷに付着した、軟らかい付着膜１００を除去する際に特に好適である。
【００４３】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００４４】
例えば、本実施形態において、ステージに対して洗浄部をＹ軸方向に移動可能に構成したが、洗浄部を固定し、ステージを洗浄部に対して移動可能にするような構成としてもよい。
また、ノズルから噴射する流体は、高圧水以外の高圧流体であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施形態における付着膜除去装置の側面図である。
【図２】本発明の実施形態における付着膜除去装置の側面図である。
【図３】本発明の第１実施形態における高圧水噴射ガンの拡大図である。
【図４】本発明の実施形態における高圧水噴射ガンの拡大図である。
【図５】本発明の実施形態における付着膜除去装置により高圧水が描く軌跡図である。
【図６】本発明の第２実施形態における高圧水噴射ガンの拡大図である。
【図７】本発明の第２実施形態における高圧水を付着膜の側面から噴射させた図である。
【図８】従来の回転式ノズルヘッドにより高圧水が描く軌跡図である。
【図９】高圧水を付着膜の側面から噴射させた図である。
【図１０】従来の回転式ノズルヘッドにより高圧水を付着膜の側面から噴射させた図である。
【符号の説明】
【００４６】
１…付着膜除去装置（付着物除去装置） １４…ステージ ３０…高圧水噴射ガン（高圧水噴射装置） ４０…ノズル ４１…ノズルヘッド １００…付着膜（付着物） Ｗ…ワーク（被処理物）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高圧水を噴射するノズルが配されたノズルヘッドと、
該ノズルヘッドが取り付けられた高圧水噴射装置と、
前記ノズルに対向するように被処理物が載置されるステージとを備え、前記被処理物に堆積した付着物を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着物除去装置において、
前記高圧水噴射装置は、前記ステージと平行な第１の方向に前記ステージに対して相対移動可能に構成され、
前記ノズルヘッドは、前記ステージと平行であって前記第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動可能に構成されていることを特徴とする付着物除去装置。
【請求項２】
前記ノズルヘッドは、前記ノズルから噴射された高圧水が前記被処理物の表面に対して斜め方向から入射するように、前記高圧水噴射装置に取り付けられていることを特徴とする請求項１記載の付着物除去装置。
【請求項３】
前記ノズルヘッドには、前記第２の方向に沿って前記ノズルが複数配されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載の付着物除去装置。
【請求項４】
隣接する前記ノズル間の距離Ｂは、前記ノズルヘッドの振動幅Ａに対して、
Ａ≦Ｂ≦Ａ＋２ｍｍ
の範囲に設定されていることを特徴とする請求項３記載の付着物除去装置。
【請求項５】
高圧水を噴射するノズルが配されたノズルヘッドと、
該ノズルヘッドが取り付けられた高圧水噴射装置と、
前記ノズルに対向するように被処理物が載置されるステージとを備えた付着物除去装置を使用して、前記被処理物に堆積した付着物を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着物除去方法であって、
前記高圧水噴射装置を、前記ステージと平行な第１の方向に前記ステージに対して相対移動させるとともに、
前記ノズルヘッドを、前記ステージと平行であって前記第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動させながら、
前記ノズルから前記付着物に向かって高圧水を噴射することを特徴とする付着物除去方法。
【請求項６】
前記ノズルから噴射した高圧水を、前記被処理物と前記付着物との付着面の端辺に向かって、前記被処理物の表面に対して斜め方向から入射させることを特徴とする請求項５記載の付着物除去方法。
【請求項１】
高圧水を噴射するノズルが配されたノズルヘッドと、
該ノズルヘッドが取り付けられた高圧水噴射装置と、
前記ノズルに対向するように被処理物が載置されるステージとを備え、前記被処理物に堆積した付着物を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着物除去装置において、
前記高圧水噴射装置は、前記ステージと平行な第１の方向に前記ステージに対して相対移動可能に構成され、
前記ノズルヘッドは、前記ステージと平行であって前記第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動可能に構成されていることを特徴とする付着物除去装置。
【請求項２】
前記ノズルヘッドは、前記ノズルから噴射された高圧水が前記被処理物の表面に対して斜め方向から入射するように、前記高圧水噴射装置に取り付けられていることを特徴とする請求項１記載の付着物除去装置。
【請求項３】
前記ノズルヘッドには、前記第２の方向に沿って前記ノズルが複数配されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載の付着物除去装置。
【請求項４】
隣接する前記ノズル間の距離Ｂは、前記ノズルヘッドの振動幅Ａに対して、
Ａ≦Ｂ≦Ａ＋２ｍｍ
の範囲に設定されていることを特徴とする請求項３記載の付着物除去装置。
【請求項５】
高圧水を噴射するノズルが配されたノズルヘッドと、
該ノズルヘッドが取り付けられた高圧水噴射装置と、
前記ノズルに対向するように被処理物が載置されるステージとを備えた付着物除去装置を使用して、前記被処理物に堆積した付着物を前記ノズルから噴射される高圧水により除去する付着物除去方法であって、
前記高圧水噴射装置を、前記ステージと平行な第１の方向に前記ステージに対して相対移動させるとともに、
前記ノズルヘッドを、前記ステージと平行であって前記第１の方向と交差する第２の方向に直線状に振動させながら、
前記ノズルから前記付着物に向かって高圧水を噴射することを特徴とする付着物除去方法。
【請求項６】
前記ノズルから噴射した高圧水を、前記被処理物と前記付着物との付着面の端辺に向かって、前記被処理物の表面に対して斜め方向から入射させることを特徴とする請求項５記載の付着物除去方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２００８−２７９３１７（Ｐ２００８−２７９３１７Ａ）
【公開日】平成２０年１１月２０日（２００８．１１．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１２３３９３（Ｐ２００７−１２３３９３）
【出願日】平成１９年５月８日（２００７．５．８）
【出願人】（０００１９２３７２）アルバックマテリアル株式会社 (21)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１１月２０日（２００８．１１．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年５月８日（２００７．５．８）
【出願人】（０００１９２３７２）アルバックマテリアル株式会社 (21)
【Ｆターム（参考）】
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