位相差フィルムの製造方法
【課題】Ｒｅが４０以上と高くヘイズが０．５％以下と小さい位相差フィルムを製造する。
【解決手段】セルロースアシレートフィルム１１を１９０℃に達するように加熱する。この加熱工程は、セルロースアシレートフィルム１１の両側部をクリップ１３で把持しながらクリップテンタ１８で実施する。クリップテンタ１８では、加熱工程の後、このセルロースアシレートフィルムを結晶化温度Ｔｃよりも低い温度に下げる降温工程と幅を拡げる拡幅工程とをこの順で行う。拡幅時のセルロースアシレートフィルム１１の温度はガラス転移点Ｔｇよりも高くＴｃよりも低い。拡幅工程での拡幅率は１．１以上とし、この拡幅工程により位相差フィルム１７が得られる。
【解決手段】セルロースアシレートフィルム１１を１９０℃に達するように加熱する。この加熱工程は、セルロースアシレートフィルム１１の両側部をクリップ１３で把持しながらクリップテンタ１８で実施する。クリップテンタ１８では、加熱工程の後、このセルロースアシレートフィルムを結晶化温度Ｔｃよりも低い温度に下げる降温工程と幅を拡げる拡幅工程とをこの順で行う。拡幅時のセルロースアシレートフィルム１１の温度はガラス転移点Ｔｇよりも高くＴｃよりも低い。拡幅工程での拡幅率は１．１以上とし、この拡幅工程により位相差フィルム１７が得られる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパーソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。このような液晶表示装置は液晶セル内の液晶の配列状態により様々なモードが提案されているが、従来は液晶セルの下側基板から上側基板に向かって約９０°捩れた配列状態になるＴＮモードが主流であった。
【０００３】
一般に液晶表示装置は液晶セル、光学補償シート、偏光子から構成される。光学補償シートは画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために用いられており、延伸した複屈折フィルムや透明フィルムに液晶を塗布したフィルムが使用されている。
【０００４】
例えば、特許文献１ではディスコティック液晶をトリアセチルセルロースフィルム上に塗布し配向させて固定化した光学補償シートをＴＮモードの液晶セルに適用し、視野角を広げる技術が開示されている。しかしながら、大画面で様々な角度から見ることが想定されるテレビ用途の液晶表示装置は視野角依存性に対する要求が厳しく、前述のような手法をもってしても要求を満足することはできていない。そのため、ＩＰＳ（Ｉｎ−ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）モードなど、ＴＮモードとは異なる液晶表示装置が研究されている。特にＶＡモードはコントラストが高く、比較的製造の歩留まりが高いことからＴＶ用の液晶表示装置として着目されている。
【０００５】
液晶表示装置の位相差フィルムには、光学的異方性（高いレターデーション値）が要求される。特にＶＡ用の光学補償シートでは４０ｎｍ以上の面内レターデーション（Ｒｅ）が必要とされる。
【０００６】
位相差フィルムは、液晶ディスプレイにおける液晶層の位相差と合わせることにより、液晶層を通過した後の楕円偏光を直線偏光に近い状態へ変換するものである。そして、液晶層の位相差は一律ではなく、様々である。そのために、用いる液晶層に応じて、組み合わせるべき位相差フィルムを選択する必要がある。
【０００７】
位相差フィルムとして用いられるポリマーフィルムには、様々なものがあり、代表的なものとしては、セルロースアシレートからなるフィルムがある。セルロースアシレートフィルムは、所定の方向に引っ張る延伸工程を経て、位相差フィルムとされる。長尺の位相差フィルムを製造する場合には、例えば、セルロースアシレートフィルムの側端部をクリップ等の保持手段により保持して、幅方向に張力を付与して幅を拡げる。この延伸工程により、面方向レタデーションＲｅを上昇させる。なお、Ｒｅは、フィルムの厚み方向に直交する方向、すなわちフィルム面方向におけるレタデーション値であり、以下の式（１）により求められる。Ｎｘは位相差フィルムの面での遅相軸方向であるＸ軸における屈折率、Ｎｙは進相軸方向であるＹ軸における屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。
Ｒｅ＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ・・・（１）
【０００８】
また、厚み方向におけるレタデーションＲｔｈが高いセルロースアシレートフィルムが望まれる場合もある。Ｒｔｈは以下の式により求められる。なお、Ｎｚは位相差フィルムの厚み方向であるＺ軸における屈折率である。
Ｒｔｈ＝｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｝×ｄ・・・（２）
【０００９】
非特許文献１には、高いレタデーション値を有するセルロースアセテートフィルムが開示されている。非特許文献１の２９ページには、ガラス転移点以下の温度で一軸方向あるいは二軸方向に３０〜１６０℃で延伸するセルロースアシレート位相差板の製法が開示されており、溶液製膜法による製膜工程と延伸工程とを逐次あるいは連続して行い、フィルム中に溶媒が残存する状態で延伸することが好ましいとしている。
【００１０】
特許文献２ではセルローストリアセテートで高いレタデーション値を実現するために、少なくとも２つの芳香環を有する芳香族化合物、中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物を添加し、延伸処理を行っている。一般にセルローストリアセテートは延伸しにくい高分子素材であり、複屈折率を大きくすることは困難であることが知られているが、添加剤を延伸処理で同時に配向させることにより複屈折率を大きくすることを可能にし、高いレタデーション値を実現している。このフィルムは偏光板の保護膜を兼ねることができるため、安価で薄膜な液晶表示装置を提供することができる利点がある。
【００１１】
特許文献３には残留溶媒量１０〜１００質量％の範囲で温度１５〜１６０℃で少なくとも一方向に１．２〜４．０倍延伸するセルロースエステル光学二軸フィルムが開示されている。
【００１２】
また、特許文献４には、残留溶媒量が３％未満のロール状フィルムを送り出し装置から送り出し、延伸温度よりも１０℃から４０℃低い温度で予熱した後、１４０℃から１８０℃に加熱したテンター装置中で幅方向に１．１倍から１．６倍に延伸したことを特徴とする光学用セルロースアシレートフィルムが開示されている。
【特許文献１】特許第２５８７３９８号公報
【特許文献２】欧州特許出願公開第９１１６５６号明細書
【特許文献３】特開２００２−１８７９６０号公報
【特許文献４】特開２００６−８３２０３号公報
【非特許文献１】発明協会公開技法第２００１−１７４５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
非特許文献１，特許文献１〜４の方法で高いレタデーション値を有する位相差フィルムを得るにはより高倍率の延伸が必要となるが、これらの方法で得られた位相差フィルムはヘイズ値が高くなり、これらの位相差フィルムを用いた液晶表示装置はコントラストが低下してしまう。さらにこれらの方法で得られる位相差フィルムは寸法安定性が経時的に悪くなりやすく、これを用いた液晶表示装置は、表示画面における外周部や角部に光漏れを生じやすくなるなどの問題点があった。
【００１４】
そこで、本発明では、上記問題に鑑み、Ｒｅが４０以上と高いにも関わらず、ヘイズが０．５％以下と小さく、さらに寸法変化率が小さい位相差フィルムを製造することができる位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するために、本発明の位相差フィルムの製造方法は、長尺のセルロースアシレートフィルムの両側部を保持した状態で、前記セルロースアシレートフィルムを１９０℃に達するように加熱する加熱工程と、この加熱工程を経たセルロースアシレートフィルムを、１９０℃未満の温度に保持した状態で拡幅して位相差フィルムとする拡幅工程と、を有することを特徴として構成されている。
【００１６】
前記製造方法では、拡幅工程前のセルロースアシレートフィルムの幅をＬ１、拡幅工程後の幅をＬ２とし、セルロースアシレートの結晶化温度をＴｃ、ガラス転移点をＴｇとするときに、拡幅工程では、セルロースアシレートフィルムをＴｇよりも高くＴｃよりも低い範囲に温度を保持した状態で、Ｌ２≧１．１×Ｌ１となるように拡幅することが好ましい。
【００１７】
位相差フィルム製造方法は、さらに、セルロースアシレートが溶媒に溶解しているドープを、走行する支持体に連続的に流延して流延膜とする流延工程と、前記溶媒が含まれる流延膜を支持体から湿潤フィルムとして剥がす剥離工程と、湿潤フィルムを、溶媒残留率が２％に達するまで乾燥して前記セルロースアシレートフィルムとする乾燥工程とを有することが好ましい。
【００１８】
溶媒残留率が６０％であるときの湿潤フィルムの幅をＬ３、１０％であるときの幅をＬ４とするときに、乾燥工程は、溶媒残留率が６０％から１０％に減る間の前記湿潤フィルムを、Ｌ４≧１．１×Ｌ３となるように拡幅する乾燥拡幅工程を有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、Ｒｅが４０以上と高いにも関わらず、ヘイズが０．５％以下と小さく、さらには、寸法変化率が小さい位相差フィルムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明の実施様態について詳細に説明する。ただし、本発明はここに挙げる実施様態に限定されるものではない。
【００２１】
位相差フィルムを製造するために用いるポリマーフィルムとしては、セルロースアシレートからなるセルロースアシレートフィルムを用いる。セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、つまりアシル基の置換度（以下、アシル基置換度と称する）が下記式（Ｉ）〜（III）の全ての条件を満足するものがより好ましい。なお、（Ｉ）〜（III）において、Ａ及びＢはともにアシル基置換度であり、Ａにおけるアシル基はアセチル基であり、Ｂにおけるアシル基は炭素原子数が３〜２２のものである。
２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０・・・（Ｉ）
０≦Ａ≦３．０・・・（II）
０≦Ｂ≦２．９・・・（III）
【００２２】
セルロースを構成しβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部がエステル化されて、水酸基の水素が炭素数２以上のアシル基に置換された重合体（ポリマー）である。なお、グルコース単位中のひとつの水酸基のエステル化が１００％されていると置換度は１であるので、セルロースアシレートの場合には、２位、３位および６位の水酸基がそれぞれ１００％エステル化されていると置換度は３となる。
【００２３】
ここで、グルコース単位の２位のアシル基置換度をＤＳ２、３位のアシル基置換度をＤＳ３、６位のアシル基置換度をＤＳ６とする。ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６で求められる全アシル基置換度は２．００〜３．００であることが好ましく、２．２２〜２．９０であることがより好ましく、２．４０〜２．８８であることがさらに好ましい。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．３２以上であることが好ましく、０．３２２以上であることがより好ましく、０．３２４〜０．３４０であることがさらに好ましい。
【００２４】
アシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上であってもよい。アシル基が２種類以上であるときには、そのひとつがアセチル基であることが好ましい。２位、３位及び６位の水酸基の水素のアセチル基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位、３位及び６位におけるアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は２．２〜２．８６であることが好ましく、２．４０〜２．８０であることが特に好ましい。ＤＳＢは１．５０以上であることが好ましく、１．７以上であることが特に好ましい。そして、ＤＳＢはその２８％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましいが、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは３１％以上、特に好ましくは３２％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。また、セルロースアシレートの６位のＤＳＡ＋ＤＳＢの値が０．７５以上であることが好ましく、０．８０以上であることがより好ましく、０．８５以上であることが特に好ましい。以上のようなセルロースアシレートを用いることにより、溶解性が好ましいドープや、粘度が低く、ろ過性がよいドープを製造することができる。特に非塩素系有機溶媒を用いる場合には、上記のようなセルロースアシレートが好ましい。
【００２５】
炭素数が２以上であるアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定されない。例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどがあり、これらは、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、プロピオニル基、ブタノイル基が特に好ましい。
【００２６】
セルロースアシレートフィルム中には、セルロースアシレートの他に各種添加剤が含まれていてもよい。各種添加剤としては、可塑剤、劣化防止剤、紫外線吸収剤、染料、滑り性を向上させるいわゆるマット剤としての微粒子、Ｒｅ及びＲｔｈを上昇させるためのレタデーション上昇剤等が挙げられる。なお、セルロースアシレートフィルムを溶液製膜方法で製造する場合には、流延支持体からの剥離性を良くするためのいわゆる剥離剤を用いることができ、この剥離剤がセルロースアシレートフィルム中に含まれていてもよい。
【００２７】
レタデーション上昇剤をセルロースアシレートフィルム中に含ませておくと、含ませない場合に比べて、後述の位相差フィルムの製造工程における拡幅率を小さくしても同様の高さのＲｅ及びＲｔｈを発現させることができる。レタデーション上昇剤は、特に限定されず、例えば、特開２００６−２３５４８３号公報の段落［００３０］〜［０１４２］に記載されるものを用いることができる。中でも、特に好ましいレタデーション上昇剤としては、化１の構造式で示す化合物を挙げることができる。
【００２８】
【化１】
【００２９】
レタデーション上昇剤を用いる場合には、セルロースアシレートの質量に対して好ましくは２％以上１０％以下の割合となるように、より好ましくは３％以上１０％以下の割合となるようにレタデーション上昇剤を用いるとよい。この百分率の値は、セルロースアシレートフィルムの質量をｘ、レタデーション上昇剤の質量をｙとするときに、１００×ｘ／ｙで求める値である。
【００３０】
図１は、位相差フィルム製造設備の概略図である。位相差フィルム製造設備１０は、セルロースアシレートフィルム１１を送り出す送出装置１２と、この送出装置１２から送られてきたセルロースアシレートフィルム１１の両側部を保持手段としてのクリップ１３により保持して搬送し、搬送されるセルロースアシレートフィルム１１の温度制御と、幅を拡げる拡幅とを実施して位相差フィルム１７とするクリップテンタ１８と、位相差フィルム１７の両側部を切断除去する耳切装置２１と、位相差フィルム１７の温度を調整する温度調整装置２２と、位相差フィルム１７を巻き取る巻取装置２３とを備える。
【００３１】
セルロースアシレートフィルム１１は、乾燥されたものであり、本実施形態では溶液製膜方法によってつくられて、一旦ロール状に巻き取られたものである。溶液製膜方法によりつくられたセルロースアシレートフィルムを用いる場合には、溶媒含有率が多くても２重量％、すなわち２重量％以下にされているものを用いることが好ましい。これにより、後述の加熱工程と拡幅工程とを実施するヘイズ抑制効果をより高めることになる。
【００３２】
セルロースアシレートフィルム１１のロールは送出装置１２により巻き出されて、クリップテンタ１８に送られる。送出装置１２は、セルロースアシレートフィルム１１のロールの回転を制御する駆動制御部（図示無し）を有し、これによりクリップテンタ１８への送り速度が調整される。
【００３３】
クリップテンタ１８には、セルロースアシレートフィルム１１の搬送路の両側部に、セルロースアシレートフィルム１１の側部を把持する複数のクリップ１３と、この複数のクリップ１３が取り付けられ無端で走行するチェーン（図示無し）と、チェーンの軌道を決めるレール（図示無し）と、セルロースアシレートフィルム１１の幅方向に延びているスリットを搬送方向に複数有し、これらのスリットから空気をセルロースアシレートフィルム１１に向けて送り出す送風ダクト２６と、この送風ダクト２６に空気を送る送風機２７とが備えられる。送風ダクト２６は、内部がセルロースアシレートフィルム１１の搬送方向で複数に区画されており、前記スリットはフィルム搬送路に対向するように各区画に形成されている。各スリットから流出される空気は、送風ダクト２６に接続された送風機２７により送風ダクト２６に送られる。送風機２７には、送風ダクト２６の各区画のスリットからの空気の送り出しのオン・オフ、風量、風速、空気の温度及び湿度を制御するコントローラ（図示無し）が備えられ、このコントローラが、区画毎に、送り出す空気の温湿度と流量とを独立して制御する。レールにはシフト機構（図示無し）が備えられ、このシフト機構は、レールをセルロースアシレートフィルム１１の幅方向に移動させ、これによりチェーンは変位する。
【００３４】
セルロースアシレートフィルム１１は、クリップテンタ１８に案内されると、各側部をクリップ１３で把持され、クリップ１３の走行により搬送される。両側部のうち一方のクリップ１３と他方のクリップ１３との距離を変化させることによりセルロースアシレートフィルム１１の幅方向に付与される張力を変化させ、これにより幅を変えることができる。クリップテンタ１８における工程についての詳細は、別の図面を用いて後述する。
【００３５】
クリップテンタ１８の位相差フィルム１７は、耳切装置２１に案内されて両側部を連続的に切断除去される。これにより、クリップ１３で把持されていた把持箇所が、製品となる中央部と分離される。切り取られた両側部は、ロータリカッタ（図示無し）を備えるクラッシャ２８に送られて細かいチップ状に切断される。
【００３６】
温度調整装置２２には、位相差フィルム１７を周面で支持してローラ３１が複数備えられる。これらのローラ３１の中には、周方向に回転駆動することにより位相差フィルム１７を搬送する駆動ローラが含まれる。温度調整装置２２の内部には、位相差フィルム１７の幅方向に延びたスリット（図示せず）が搬送方向に複数設けられた送風ダクト３２が備えられており、この送風ダクト３２から冷風が流出することにより位相差フィルム１７を冷却する。
【００３７】
温度調整装置２２で冷却された位相差フィルム１７は、巻取装置２３に送られてロール状に巻かれる。
【００３８】
図２は、クリップテンタ１８におけるセルロースアシレートフィルム１１の説明図である。矢線Ｙは、セルロースアシレートフィルム１１の搬送方向である。クリップテンタ１８では、セルロースアシレートフィルム１１に、矢線Ｘ１，Ｘ２で示す幅方向に張力を加える。クリップ１３（図１参照）によるセルロースアシレートフィルム１１の保持を開始する位置を保持開始位置ＰＳ、保持を解除する位置を保持解除位置ＰＥとする。クリップテンタ１８の入口は保持開始位置ＰＳよりも上流側、出口は保持解除位置よりも下流側にあるが、図２においては図示を略す。
【００３９】
セルロースアシレートフィルム１１は、クリップテンタ１８に入ると、送風ダクト２６から流出される空気により加熱され、温度が上昇する。そして、セルロースアシレートの結晶化温度Ｔｃ以上の温度になるようにセルロースアシレートフィルム１１を加熱する。この工程を加熱工程と称するものとする。従来は、ポリマーフィルムを加熱するに際してはポリマーができるだけ結晶化しないように、つまり非晶質部分ができるだけ多くなるように条件を設定し、温度条件については結晶化温度Ｔｃよりも低い温度に抑えられてきた。これは、ポリマーが結晶化すると、通常は、透明性が落ちるからである。これに対し、本発明では、位相差フィルム１７の素材としてセルロースアシレートフィルムを用い、後述の拡幅工程の前に、結晶化温度Ｔｃ以上の温度になるようにセルロースアシレートフィルム１１を加熱する加熱工程を実施する。すなわち、積極的、意図的に、セルロースアシレートフィルム１１を昇温させてセルロースアシレートの結晶化温度Ｔｃ以上にする。これにより、セルロースアシレートフィルム１１の透明性が向上、すなわちヘイズが低下する。
【００４０】
なお、セルロースアシレートは非晶質ポリマーの代表的存在であるが、結晶化温度Ｔｃが検出される場合がある。しかし、結晶化温度Ｔｃよりも高い温度で結晶化がもし起きていたとしても、他のポリマーと比べて、結晶部の体積が非常に小さいのではないかと考えられる。このために、結晶化しても、ヘイズを上昇させるほどには結晶部が大きくならずに微結晶領域が点在したものとなると推察する。そして、この結晶部の発生及び成長により起こりうるヘイズの上昇よりも、セルロースアシレートフィルム１１の中に通常存在している極微小なボイド（空隙）が高温加熱により消失するという加熱の効果の方が非常に大きく、このため位相差フィルム１７としてのヘイズが低減する結果が得られるものと考えられる。
【００４１】
セルロースアシレートフィルム１１を加熱により昇温させて結晶化温度Ｔｃに達した位置を温度保持開始位置Ｐ１、結晶化温度Ｔｃ以上の温度に保持することを終了する、すなわち、降温させて結晶化温度Ｔｃ未満の温度になった位置を温度保持終了位置Ｐ２と称する。本実施形態では、セルロースアシレートフィルム１１の搬送路に沿って、非接触式の温度検知手段を複数設け、搬送されるセルロースアシレートフィルム１１の温度を複数位置で測定し、セルロースアシレートフィルム１１の温度がＴｃに達した位置を検知するが、この方法に限定されない。例えば、送風ダクト２６からの空気の温度と、この空気によるセルロースアシレート１１の単位時間あたりの上昇温度すなわち温度上昇速度との関係を予め求めておき、送風ダクト２６からの空気の温度及び流量とクリップ１３の走行速度との関係から温度保持開始位置Ｐ１を求めることはできる。
【００４２】
結晶化温度Ｔｃには、昇温結晶と降温結晶との両温度があり、加熱工程を開始した場合の上記結晶化温度Ｔｃは昇温結晶での温度である。昇温結晶の温度は、ＪＩＳ Ｋ７１２１に従って示差走査熱量測定により求めることができる。温度保持開始位置Ｐ１は、送風ダクト２６（図１参照）からの空気の温度や流量によって変位するが、変位させることの容易さの観点からは、温度保持終了位置Ｐ２を変位させる方が好ましい。例えば、セルロースアシレートフィルム１１のヘイズが小さくなりにくい場合には、小さくなりやすい場合よりも、温度保持終了位置Ｐ２が下流側になるように、送風ダクト２６からの空気の温度や風量を設定するとよい。
【００４３】
温度保持開始時位置Ｐ１から温度保持終了位置Ｐ２までの距離は、例えば、以下の（１）〜（３）の方法でそれぞれ決定することができる。ただし、この方法に限られるものではない。
（１）位相差フィルム１７とすべきセルロースアシレートフィルム１１からサンプリングして、そのサンプルにつきＴｓ以上の温度に加熱する。加熱した後、ヘイズを測定する。このようにして温度保持時間とヘイズとの関係を予め求めておき、この関係とクリップ１３の移動速度とから温度保持開始時位置Ｐ１から温度保持終了位置Ｐ２までの距離を求める。この場合には、Ｔｃ以上での温度保持の後に、一方向へ延伸して広げたサンプルでヘイズと温度保持時間との関係を求めることがより好ましい。
（２）クリップテンタ１８の下流側の搬送路に、位相差フィルム１７に向けて光を射出する光源と、位相差フィルム１７を介してこの光源に対向するように設けられ、入射光の強度を測定する受光部とにより、位相差フィルム１７の透明度を測定し、目標とする透明度との差に応じて温度保持開始時位置Ｐ１から温度保持終了位置Ｐ２までの距離を求める。目標とする透明度に至っていない場合には、両位置Ｐ１，Ｐ２の距離をさらに長く設定する。なお、この方法を用いる場合には、目標とするヘイズと上記光源及び受光部により求める透明度との関係を予め求めておくことが好ましい。
（３）位相差フィルム１７とすべきセルロースアシレートフィルム１１からサンプリングし、このサンプルをＴｃ以上に加熱する。加熱したサンプルにつき、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を実施し、結晶化温度Ｔｃが検出されるか否かを確認する。検出される場合には、他のサンプルにつき温度保持時間がさらに長くなるように加熱する。そして、結晶化温度Ｔｃが認められない程度にまで温度保持時間を長くする。つまり結晶化温度Ｔｃが認められない程度となる温度保持時間を求め、これとクリップ１３の移動速度とにより両位置Ｐ１，Ｐ２の距離を決定する。
【００４４】
セルロースアシレートフィルム１１の温度を結晶化温度Ｔｃ以上に保持する時間は、３秒以上３分以下の範囲であることが好ましい。そして、この時間は連続することが好ましい。３秒よりも短いとセルロースアシレートフィルム１１の中に通常存在している極微小なボイド（空隙）が消失せず、そのためヘイズが０．５以下であるような位相差フィルムが得られない場合がある。セルロースアシレートフィルム１１の中にシリカ等の微粒子を含まれている場合には、３秒以上という時間を継続して結晶化温度Ｔｃ以上に保持することでヘイズの低減効果が顕著にみられる。３分よりも長くても、ヘイズの低減効果のさらなる上昇の見込みが極めて薄いので、３分よりも長く継続して温度保持する必要はほとんどない。また、３分よりも長くした場合には、Ｒｅを４０ｎｍ以上に大きくすることができない場合がある。
【００４５】
保持すべき温度（以降、保持温度と称する）の上限値は、セルロースアシレートの熱劣化やセルロースアシレートフィルム１１に含まれる添加剤の種類を考慮する点を除くと、特に限定されない。添加剤を同定することができない場合には、Ｔｃ＋５０℃を上限値とするとよく、すなわち、加熱工程でのセルロースアシレートフィルム１１の保持温度は、Ｔｃ以上（Ｔｃ＋５０℃）以下の範囲にするとよい。なお、上記の時間連続してこの範囲にあるならば、保持温度は一定である必要はなく、変化していてもよい。つまり、温度保持開始位置Ｐ１から温度保持終了位置Ｐ２までの搬送区間におけるセルロースアシレートフィルム１１の温度は上記温度範囲で変化してよい。
【００４６】
セルロースアシレートの結晶化温度Ｔｃは、アシル基の種類、アシル基置換度により異なるので、用いるセルロースアシレートフィルム１１毎に結晶化温度Ｔｃを実際に測定することが好ましい。しかしながら、実際に測定せずとも、加熱工程で１９０℃に達するようにセルロースアシレートフィルム１１を加熱すればよく、保持温度は１９０℃以上２４０℃以下の範囲とすることが好ましく、２００℃以上２２０℃以下の範囲とすることがより好ましい。保持温度が１９０℃よりも低いと、例えばセルロースアシレートの種類やセルロースアシレートフィルム１１の性状によっては、ヘイズの低減する効果が十分には得られない場合がある。つまり、ヘイズが０．５よりも大きくなる場合が無いとは言えない。一方、２４０℃よりも高い保持温度では、セルロースアシレートフィルム１１に含まれる低分子化合物の添加剤が気化してしまうことがあるし、２５０℃よりも高い保持温度ではセルロースアシレートが分解してしまうことがある。
【００４７】
また、セルロースアセテート（ＴＡＣ）のように結晶化温度Ｔｃが検出されるものの他に、セルロースアシレートの中には、アシル基の種類により、結晶化温度Ｔｃが検出されないものもある。このようなセルロースアシレートとしては、例えば、アシル基としてアシル基とプロピオニル基との両方をもつセルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）がある。ＣＡＰは、ＴＡＣよりも融点が低く、また部分的にでも結晶化するものか否かについては未確認である。しかし、このように結晶化温度Ｔｃが検出されないセルロースアシレートの場合にも、加熱工程を実施し、この加熱工程で１９０℃に達するようにセルロースアシレートフィルム１１を加熱すればよく、保持温度は１９０℃以上２４０℃以下の範囲とすることが好ましく、２００℃以上２２０℃以下の範囲とすることがより好ましい。
【００４８】
セルロースアシレートフィルム１１の温度を上記の範囲に保持するためには、セルロースアシレートフィルム１１の搬送路の温度が１９０℃以上２４０℃以下の範囲に保持されるように送風ダクト２６からの空気の温度と流量とを制御することが好ましい。
【００４９】
加熱工程は、セルロースアシレートフィルム１１を拡幅せずに、すなわち非拡幅で実施することが好ましく、幅を一定に保持した状態で実施することがより好ましい。つまり、拡幅も縮幅（幅を小さくすること）もせずに、保持開始位置Ｐ２における第１幅Ｌ１を一定に保持するように、クリップ１３を走行させることが最も好ましい。なお、図２において符号ＫＬは、クリップ１３で保持されるセルロースアシレートフィルム１１の保持対象部のうち、セルロースアシレートフィルム１１の幅方向における最も中央部側の位置を表し、セルロースアシレートフィルム１１及び位相差フィルム１７の幅とは、いずれも両側の保持対象ラインＫＬ間の距離である。
【００５０】
クリップテンタ１８では、加熱工程の後を経たセルロースアシレートフィルム１１を、Ｔｃよりも低い温度あるいは１９０℃未満の温度に保持した状態で拡幅する拡幅工程を実施する。拡幅を開始する位置を拡幅開始位置Ｐ３、拡幅を終了する位置を拡幅終了位置Ｐ４と称する。この拡幅工程の前に、加熱工程を終えたセルロースアシレートフィルム１１の温度を、Ｔｃよりも低い温度に下げる降温工程を実施することがより好ましい。拡幅は、セルロースアシレートフィルム１１の温度がＴｃよりも低い温度になった後に開始することが好ましく、拡幅開始位置Ｐ３ができるだけ上流側になるようにすることが生産効率の上では好ましいからである。
【００５１】
温度保持終了位置Ｐ２の下流の搬送路における送風ダクト２６からの空気の温度を、温度保持終了位置Ｐ２の上流側におけるよりも低く設定しておくことにより、降温工程を実施することができる。
【００５２】
この降温工程により、セルロースアシレートフィルム１１の温度をＴｃよりも低い温度にまで下げる。セルロースアシレートの結晶化温度につき、昇温結晶での温度と降温結晶での温度とが互いに異なる場合には、加熱工程の場合と同様に昇温結晶での温度をＴｃとみなしてよい。
【００５３】
セルロースアシレートフィルム１１に含まれるセルロースアシレートのガラス転移点をＴｇとするときに、後工程である拡幅工程では、Ｔｇよりも高くＴｃよりも低い範囲にセルロースアシレートフィルム１１の温度を保持した状態で拡幅することが好ましいので、降温工程では、セルロースアシレートフィルム１１をＴｇよりも高くＴｃよりも低い温度範囲になるように送風ダクト２６からの空気により温度調整することが好ましい。Ｔｇは、ＪＩＳ Ｋ７１２１に従い、示差走査熱量測定により測定することができる。
【００５４】
ＴｇやＴｃを測定することができない場合等、これらを予め測定しない場合には、降温工程で１５０℃よりも高く１９０℃よりも低い温度になるようにセルロースアシレートフィルム１１の温度を下げればよく、１６０℃以上１８０℃以下の範囲とすることがより好ましい。１９０℃以上では、拡幅工程を実施してもレタデーションが位相差フィルムとして用いるに十分な程度には上がらない場合があるからである。一方、１５０℃よりも低い温度にまでセルロースアシレートフィルム１１の温度を下げてしまってそのまま拡幅工程に移行すると、拡幅工程での張力付与により、セルロースアシレートフィルム１１が裂けてしまったり、位相差フィルム１７のヘイズが高くなってしまう等、前述の加熱工程の効果が薄れることがある。そこで、降温工程でも、１５０℃よりも低い温度とならないように、送風ダクト２６からの送風による加熱は実施してもよい。
【００５５】
セルロースアシレートフィルム１１の搬送路に沿って複数設けられる非接触式の温度検知手段により、搬送されるセルロースアシレートフィルム１１の温度を測定し、セルロースアシレートフィルム１１の温度がＴｃに達した位置を検知し、これを降温終了位置Ｐ５とすることができるが、この方法に限定されない。例えば、温度保持開始位置Ｐ１を求める場合と同様に、送風ダクト２６からの空気の温度と、この空気によるセルロースアシレート１１の単位時間あたりの下降温度すなわち温度下降速度との関係を予め求めておき、送風ダクト２６からの空気の温度及び流量とクリップ１３の走行速度との関係から降温終了位置Ｐ５を求めることができる。
【００５６】
降温工程でも加熱工程と同様に、非拡幅とし、第１幅Ｌ１を保持することが好ましい。
【００５７】
降温工程を経てＴｃ未満の温度、好ましくは１５０℃以上１９０℃以下の温度にされたセルロースアシレートフィルム１１は、位相差フィルム１７としてのレタデーション値を発現するための拡幅工程に供される。拡幅工程の間は、上記温度範囲にセルロースアシレートフィルム１１の温度を保持し、１６０℃以上１８０℃以下の範囲に保持することがより好ましい。これにより、後述の拡幅率で拡幅する場合のレタデーション値の上昇とセルロースアシレートフィルム１１が裂けないように防止することとの両効果がより向上する。
【００５８】
拡幅工程により得られる位相差フィルム１７の幅、すなわち拡幅終了位置Ｐ４における位相差フィルム１７の幅を第２幅Ｌ２と称する。Ｌ２／Ｌ１で求める拡幅率が１．１以上となるように、すなわち、Ｌ２≧１．１×Ｌ１となるように、拡幅することが好ましい。この拡幅は、２．０×Ｌ１≧Ｌ２≧１．１×Ｌ１となるように実施することがより好ましく、１．７×Ｌ１≧Ｌ２≧１．１×Ｌ１がさらに好ましい。拡幅率が１．１よりも小さいと、レタデーション値、特にＲｅが、レタデーション上昇剤を用いた場合でも位相差フィルムとして十分な程度に高くはならないことがある。一方、拡幅率が２．０よりも大きいと、セルロースアシレートフィルム１１が裂けてしまうことを防止するためにセルロースアシレートフィルム１１の温度をＴｃ以上に上げなければならない場合があり、これにより、レタデーション上昇剤を加えてもレタデーションが十分に上がらなくなることがある。
【００５９】
セルロースアシレートフィルムに対して、以上のような加熱工程と加熱工程後の拡幅工程とを実施することにより、レタデーションが４０以上と高いにも関わらずヘイズが０．５以下と低い位相差フィルムをセルロースアシレートフィルムからつくることができる。得られる位相差フィルムは、さらに、Ｒｔｈも７０以上と高いものとなる。
【００６０】
上記の方法によると、セルロースアシレートフィルム１１が、溶液製膜工程で拡幅されているか否かに関わらず、すなわち、セルロースアシレートフィルム１１として非拡幅のものを用いても、高いＲｅと低いヘイズとを有する位相差フィルムを製造することができる。そして、さらに、溶液製膜工程でも所定条件の拡幅を実施する場合には、ヘイズをより低くするとともに、ヘイズ低減のための上記加熱工程を実施することにより、溶液製膜工程での拡幅により生じた歪みが緩和されるので寸法安定性が向上した、すなわち寸法変化率がより小さな位相差フィルムをつくることができる。以下に溶液製膜工程と組み合わせた態様につき説明する。
【００６１】
［ドープの原料及び製造方法］
セルロースアシレートフィルム１１を溶液製膜方法で製造する場合には、セルロースアシレートが溶媒に溶解されたドープをつくる。前述の各種添加剤も、このドープ中に含ませておく。
【００６２】
セルロースアシレートを溶解し、ドープの溶媒成分となる液体としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが例示される。なお、添加剤の中には、これらに溶解せずに分散して使用されるものもある。
【００６３】
上記溶媒の中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく、ジクロロメタンが最も好ましい。そして、セルロースアシレートの溶解性、流延支持体からの流延膜の剥ぎ取り性、位相差フィルムの機械的強度、位相差フィルムの光学特性等の観点から、炭素原子数１〜５のアルコールを一種ないし数種類を、ジクロロメタンに混合して用いることが好ましい。このとき、アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２重量％〜２５重量％であることが好ましく、５重量％〜２０重量％であることがより好ましい。アルコールの好ましい具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノール等が挙げられるが、中でも、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【００６４】
環境に対する影響を最小限に抑えることを目的にした場合には、ジクロロメタンを用いずにドープを製造してもよい。この場合の溶剤としては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルが好ましく、これらを適宜混合して用いることがある。これらのエーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、溶媒として用いることができる。また、溶媒は、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を化学構造中に有するものであってもよい。
【００６５】
各種添加剤及び溶剤については、特開２００５−１０４１４８号公報の段落［０１９６］から段落［０５１６］に詳細に記載されており、これに記載される各種添加剤及び溶剤も本発明に適用することができる。
【００６６】
流延すべきドープの製造方法は特に限定されず、公知の製造方法を適用してよい。ただし、流延されたドープからなる流延膜を冷却により固化させて剥ぎ取るいわゆる冷却流延の場合には、流延膜を乾燥して剥ぎ取るいわゆる乾燥流延の場合のドープよりも、セルロースアシレート等の固形分の濃度が高くなるように、ドープを製造することが好ましい。固形分濃度が高くする方法としては、いわゆるフラッシュ濃縮法を用いることが好ましい。フラッシュ濃縮法とは、目的とする濃度よりも低い濃度のドープを一旦つくり、このドープ５１を公知のフラッシュ装置で吹き出させることにより溶媒の一部を蒸発させる方法である。
【００６７】
流延すべきドープは、セルロースアシレートの濃度が５重量％〜４０重量％であることが好ましく、１５重量％以上３０重量％以下の範囲とすることがより好ましく、１７重量％以上２５重量％以下の範囲とすることがさらに好ましい。
【００６８】
［フィルム製造設備及び方法］
図３は、溶液製膜部を含む位相差フィルム１７の製造設備の概略図である。図３の位相差フィルム製造設備５０においては、図１の位相差フィルム製造設備１０と同じ装置や部材については、図１と同じ符号を付し、説明を略す。
【００６９】
位相差フィルム製造設備５０は、ドープ５１からセルロースアシレートフィルム１１をつくる溶液製膜部５２と、溶液製膜部５２で得られたセルロースアシレートフィルム１１を位相差フィルム１７とする光学制御部５３とを備える。この位相差フィルム製造設備５０は、図１の位相差フィルム製造設備１０の送出装置１２に代えて溶液製膜部５２が備えられたものとされている。すなわち、溶液製膜部５２の下流側には、位相差フィルム製造設備１０のクリップテンタ１８が接続し、このクリップテンタ１８から下流側が光学制御部５３である。
【００７０】
溶液製膜部５２には、ドープ５１を流延して流延膜５６を形成し、溶媒を含んだ湿潤フィルム５７とするための流延室５８と、湿潤フィルム５７の両側端部を保持手段としてのクリップ６１により保持して湿潤フィルム５７を拡幅するクリップテンタ６２と、湿潤フィルム５７の両側端部を切り離す耳切装置８７と、湿潤フィルム５７を複数のローラ６６に掛け渡して搬送しながら乾燥してセルロースアシレートフィルム１１とする乾燥室６７とが上流側から順に備えられる。
【００７１】
流延室５８には、案内されてきたドープ５１を連続的に流出する流延ダイ７１と、流延ダイ７１のドープ流出口に対向して備えられる無端のバンド７２と、バンド７２がかけ渡されこれを連続走行させるふたつのバックアップローラ７３とを備える。
【００７２】
流延ダイ７１には、バンド７２に向けて流出するドープ５１の温度が所定温度に保持されるように、流延ダイ７１の温度を制御する温度コントローラ（図示なし）が取り付けられる。ふたつのバックアップローラ７３のうち、少なくともいずれか一方は、駆動手段（図示せず）により周方向へ回転する。走行するバンド７２の上に流延ダイ７１から連続的にドープ５１を流出することにより、バンド７２の上でドープ５１が流延されて流延膜５６が形成される。
【００７３】
バックアップローラ７３には、バックアップローラ７３に所定の温度の伝熱媒体を供給して、バックアップローラ７３の周面温度を制御する伝熱媒体循環装置７６が備えられる。バックアップローラ７３の内部には、伝熱媒体の流路（図示せず）が形成されており、その流路中を、伝熱媒体が通過することにより、バックアップローラ７３の周面温度が所定の値に保持され、このバックアップローラ７３に接触するバンド７２の温度が制御される。バンド７２の温度は、溶媒の種類、固形成分の種類、ドープ５１の濃度等に応じて適宜設定する。
【００７４】
バンド７２の走行方向における流延ダイ７１の上流側には、空気を吸引する減圧チャンバ７７が備えられる。減圧チャンバ７７による空気の吸引により、ビードとして流出されたドープ５１の上流側のエリアを減圧して下流側のエリアよりも低い圧力にする。
【００７５】
流延室５８には、その内部温度を所定の値に保つための温調装置７８と、ドープ５１及び流延膜５６から蒸発した溶媒を凝縮回収するための凝縮器（コンデンサ）８１とが設けられる。そして、凝縮液化した溶媒を回収するための回収装置８２が流延室５８の外部には設けられてある。
【００７６】
流延室５８の下流に設けられるクリップテンタ６２は、光学制御部５３のクリップテンタ１８と同じ構成とされており、すなわち、湿潤フィルム５７の搬送方向に延び、温度調整された空気を湿潤フィルム５７に対して上方から吹き付けるように送り出す送風ダクト８３と、この送風ダクト８３に空気を送る送風機８６とを備える。
【００７７】
耳切装置８７は、光学制御部５３の耳切装置２１と同じ構成とされており、湿潤フィルムの両側部を切り取る。そして、この耳切装置８７は、切り取られた湿潤フィルム１７の側端部屑を細かく切断処理するためのクラッシャ８８を備える。
【００７８】
乾燥室６７には、湿潤フィルム５７から蒸発した溶媒、すなわち溶媒ガスを吸着して回収する吸着回収装置９１が接続する。
【００７９】
次に、位相差フィルム製造設備５０により位相差フィルム１７を製造する方法の一例を説明する。ドープ５１は、伝熱媒体により冷却されたバンド７２に流延ダイ７１から流延される。流延時におけるドープ５１の温度は３０〜３５℃の範囲で一定、バンド７２の表面温度は３５〜４０℃の範囲で一定とされることが好ましい。流延室５８の温度は、温調装置７８により３０℃〜３５℃とされることが好ましい。なお、流延室５８の内部で蒸発した溶媒は回収装置８２により回収された後、再生させてドープ製造用の溶媒として再利用される。
【００８０】
流延ダイ７１からバンド７２にかけては流延ビードが形成され、バンド７２の上には流延膜５６が形成される。流延ビードの様態を安定させるために、このビードに関し上流側のエリアは、所定の圧力値となるように減圧チャンバ７７で制御される。ビードに関して上流側のエリアの圧力は、下流側のエリアよりも２０００Ｐａ〜１０Ｐａ低くすることが好ましい。なお、減圧チャンバ７７にジャケット（図示しない）を取り付けて、内部温度が所定の温度を保つようにすることが好ましい。この温度は、ドープの溶媒の凝縮点以上であることが好ましい。
【００８１】
流延膜５６をバンド７２から剥ぎ取るに十分な程度にまで乾燥する。乾燥は、バンド７２の近傍に送風ダクト（図示無し）を設け、この送風ダクトから流延膜５６に空気を送ることにより実施することができる。剥ぎ取りは、バンド７２の下流側から湿潤フィルム５７を引っ張り、この湿潤フィルム５７が搬送路に備えられたローラ９２に支持されることにより、なされる。剥ぎ取り時の流延膜の溶媒残留率は、２０％以上１００％以下であることが好ましい。本明細書において溶媒残留率（単位；％）は乾量基準の値であり、具体的には、溶媒の重量をｘ、流延膜５６の重量をｙとするときに、｛ｘ／（ｙ−ｘ）｝×１００で求める値である。
【００８２】
溶媒を含んだ状態でバンド７２から剥ぎ取られた湿潤フィルム５７は、クリップテンタ６２に案内されると、その両側端部が保持手段としてのクリップ６１に把持されて下流側へ搬送される。この搬送の間に、湿潤フィルム５７は送風ダクト８３から送り出される空気により乾燥をすすめられる。
【００８３】
なお、湿潤フィルム５７の温度は、送風ダクト８３から流出される空気により制御される。送風ダクト８３のスリットは、湿潤フィルム５７の搬送路近傍に設けられており、流出される空気の温度と湿潤フィルム５７の温度とは同じ温度とみなしてよい。なお、クリップテンタ６２における湿潤フィルムの温度については、別の図面を用いて後述する。
【００８４】
なお、クリップテンタ６２では湿潤フィルム５７が下流に進むに従い湿潤フィルム５７の溶媒残留率は徐々に減る。そこで、下流に進むほど湿潤フィルム５７の温度が高くなるように、下流ほど高い温度の空気を送風ダクト８３から送り出してもよい。そして、湿潤フィルム５７は、溶媒残留率が１０％に達するまではこのクリップテンタ６２で乾燥を進められる。したがって、１０％より低い溶媒残留率になってもこのクリップテンタ６２で乾燥を続けてもよい。
【００８５】
クリップテンタ６２では、湿潤フィルム５７を、幅方向に引っ張る。湿潤フィルム５７は、溶媒の減少に伴い幅方向に縮む、すなわち縮幅することがあるが、このクリップテンタ６２では縮幅、幅の保持、拡幅のいずれを実施してもよいが、後述のように、拡幅工程を所定条件で実施することがより好ましい。
【００８６】
なお、乾燥流延に代えて冷却流延を実施する場合には、クリップテンタ６２に代えて、保持手段がピンである公知のいわゆるピンテンタを用いることが好ましい。
【００８７】
クリップテンタ６２からの湿潤フィルム５７は、ピンで保持されていた両側端部を耳切装置８７により切断除去される。切り離された両側端部はカッターブロワ（図示なし）によりクラッシャ８８に送られる。クラッシャ８８により、側端部は粉砕されてチップとなる。このチップはドープ製造用に再利用されるので、原料の有効利用を図ることができる。
【００８８】
一方、両側端部を切断除去された湿潤フィルム５７は、乾燥室６７に送られて、さらに乾燥される。この乾燥は、溶媒残留率が２％に達するまで、すなわち０以上２％以下の範囲になるまで実施し、この乾燥によりセルロースアシレートフィルム１１が得られる。乾燥室６７では、湿潤フィルム５７はローラ６６に巻き掛けられながら搬送される。乾燥室６７の内部温度は、特に限定されるものではないが、５０〜１６０℃とすることが好ましい。なお、乾燥室６７は、送風温度を変えるために、湿潤フィルム５７の搬送方向で複数の区画に分割されていることがより好ましい。また、耳切装置８７と乾燥室６７との間に予備乾燥室（図示せず）を設けて位相差フィルム１７を予備乾燥すると、乾燥室６７で位相差フィルム１７の温度が急激に上昇することが防止されるので、乾燥室６７での湿潤フィルム５７の形状変化を抑制することができる。
【００８９】
乾燥室６７で蒸発して発生した溶媒ガスは、吸着回収装置９１により吸着回収される。溶媒成分が除去された空気は、乾燥室６７の内部に乾燥風として再度送られる。
【００９０】
溶媒残留率が０以上２％以下の範囲とされたセルロースアシレートフィルム１１は、光学制御部のクリップテンタ１８に送られる。そして、図１の位相差フィルム製造設備１０を用いた場合と同様の工程を経て位相差フィルム１７が製造される。
【００９１】
流延ダイ、減圧チャンバ、支持体などの構造、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取り方法から、溶媒回収方法、フィルム回収方法まで、特開２００５−１０４１４８号公報の［０６１７］段落から［０８８９］段落に詳しく記述されており、これらの記載は本発明に適用することができる。
【００９２】
図４は、クリップテンタ６２のクリップ６１（図３参照）での保持を開始してから解除するまでの湿潤フィルム５７の説明図である。矢線Ｙは、湿潤フィルム５７の搬送方向である。クリップテンタ６２では、湿潤フィルム５７を矢線Ｘ１，Ｘ２で示す幅方向に張力を加える。クリップテンタ６２において、クリップ６１による保持を開始する位置を保持開始位置ＰＳ、保持を解除する位置を保持解除位置ＰＥ、バンド７２からの剥ぎ取り位置を剥ぎ取り位置ＰＰとする。なお、クリップテンタ６２の入口は保持開始位置ＰＳよりも上流側、出口は保持解除位置ＰＥよりも下流側にあるが、図４においては図示を略す。
【００９３】
剥ぎ取り位置ＰＰでバンド７２から剥がされてから保持開始位置ＰＳに至るまでも湿潤フィルム５７からは徐々に溶媒が蒸発し、また、クリップテンタ６２では送風ダクト８３からの乾燥風の流出によりさらに蒸発が進められて湿潤フィルム５７の溶媒残留率はさらに低くされる。溶媒残留率が６０重量％となる位置を第１１位置Ｐ１１、１０重量％となる位置を第１２位置Ｐ１２とする。
【００９４】
クリップテンタ６２では、湿潤フィルム５７は結晶化温度Ｔｃよりも低い温度に保持されて乾燥を進められる。クリップテンタ６２における湿潤フィルム５７の温度は、１００℃以上１６０℃以下の範囲で一定であることがより好ましく、１１０℃以上１５０℃以下の範囲で一定であることがより好ましい。
【００９５】
そして、前述の通り、クリップテンタでは拡幅を実施することがより好ましい。ただし、この拡幅は、溶媒残留率が６０％以上１０％以下の範囲で実施する。つまり、第１１位置Ｐ１１から第１２位置Ｐ１２までの間の搬送路にて実施する。この工程を、以下、乾燥拡幅工程と称する。乾燥拡幅工程の開始位置である第１３位置Ｐ１３は、第１１位置Ｐ１１と同じまたは第１１位置Ｐ１１と第１２位置Ｐ１２との間であり、乾燥拡幅工程の終了位置である第１４位置Ｐ１４は、第１２位置Ｐ１２と同じまたは第１３位置Ｐ１１と第１２位置Ｐ１２との間である。
【００９６】
第１３位置Ｐ１３における湿潤フィルム５７の幅を第３幅Ｌ３、第１４位置における幅を第４幅Ｌ４とする。ここで、図４では、保持開始位置ＰＳから第１３位置Ｐ１３までの間は、湿潤フィルム５７の幅を一定に保持しておく態様を示している。そして、乾燥拡幅工程では、Ｌ４／Ｌ３で求める拡幅率が１．１以上となるように、すなわち、Ｌ４≧１．１×Ｌ３となるように、拡幅することが好ましい。この拡幅は、１．５×Ｌ３≧Ｌ４≧１．１×Ｌ３となるように実施することがより好ましく、１．４×Ｌ３≧Ｌ４≧１．１×Ｌ３がさらに好ましい。
【００９７】
光学制御部５３における拡幅工程に加えてこの乾燥拡幅工程を実施することにより、得られる位相差フィルム１７のヘイズはより低いものとなり、さらに寸法安定性が向上するという効果が得られる。この寸法安定性は、温度が６０℃、相対湿度が９０％の環境下でのものである。
【００９８】
この乾燥拡幅工程を実施する場合には、光学制御部５３のクリップテンタ１８における拡幅工程での拡幅率をより小さくすることができる。そして、所定のＲｅを発現するための拡幅率をＲＡとするときに、乾燥拡幅工程を実施せずに拡幅工程での拡幅率Ｌ２／Ｌ１をＲＡとする場合よりも、拡幅工程での拡幅率Ｌ２／Ｌ１と乾燥拡幅工程Ｌ４／Ｌ３とをともにゼロより大きくして結果的にＬ２／Ｌ３がＲＡとなるようにする場合の方が好ましい。これにより、Ｒｅ値が等しくても、ヘイズの低さと寸法安定性とにおいて、より優れた位相差フィルム１７をつくることができる。
【００９９】
上記のようなタイミング及び拡幅率で乾燥拡幅工程を実施することにより、位相差フィルム１７のヘイズをより低下させ、かつ、寸法安定性も向上させることができる。
【０１００】
この実施態様では、湿潤フィルム５７の乾燥を、溶媒残留率が２％以下となるようにクリップテンタ６２と乾燥室６７とで実施する。さらに、本実施形態ではふたつのクリップテンタ６２，１８を用いているが、これをひとつのクリップテンタとし、かつ、乾燥室６７を用いずに、ひとつのクリップテンタ内で、湿潤フィルムの乾燥工程と、この乾燥工程に含まれる乾燥拡幅工程と、乾燥工程の後の加熱工程と、拡幅工程とを実施してもよい。
【０１０１】
また、本実施形態は、溶液製膜部５２と光学制御部５３とを接続し、乾燥工程と加熱工程とを連続して実施するものを挙げているが、これに限定されない。例えば、溶液製膜部５２で得られるセルロースアシレートフィルム１１を巻取装置で一旦巻きとり、このセルロースアシレート１１をつかって図１の位相差フィルム製造設備１０により位相差フィルム１７を製造することができる。
【０１０２】
本発明は、以上の態様により、Ｒｅが４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の位相差フィルムをつくる場合にヘイズの抑制と寸法安定性との両効果があり、Ｒｅが４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下の位相差フィルムをつくる場合により効果がある。具体的には、ヘイズを０．５以下、さらには０．３以下にまで低く抑えることができ、また、寸法安定性については、位相差フィルムの長手方向における寸法変化率を−０．３〜＋０．３程度の範囲にまで、幅方向における寸法変化率を−０．２〜＋０．２程度の範囲にまで、それぞれ小さく抑えることができる。また、本発明は、上記のヘイズと寸法安定性とを満足し、７０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の範囲のＲｔｈをもつ位相差フィルムをつくることができ、より確実には１１０〜１２０ｎｍのＲｔｈをもつ位相差フィルムをつくることができる。
【０１０３】
さらに、本発明では、レタデーション上昇剤をもちいることにより、拡幅工程と乾燥拡幅工程での拡幅率をより小さく設定しても上記のＲｅ、ヘイズ、寸法安定性を満たす位相差フィルムを、より容易に製造することができる。
【０１０４】
本発明は、幅が１４００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下、中でも１８００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下である位相差フィルムを製造する場合に特に効果があり、また、厚みが２０μｍ以上６０μｍ以下の薄い位相差フィルムを製造する場合に特に効果がある。
【実施例１】
【０１０５】
下記の処方のドープ５１をつくった。固形分濃度は１９．４重量％である
セルロースアシレート １００重量部
（置換度２．８１のセルローストリアセテート、粘度平均重合度３０５．６％、ジクロロメタン溶液６質量％の粘度 ３５０ｍＰａ・ｓ）
ジクロロメタン（溶媒の第１成分） ４０３重量部
メタノール（溶媒の第２成分） ６０．２重量部
化１に示すレタデーション上昇剤 ７．４重量部
トリフェニルホスフェート ７．９重量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ３．９重量部
【０１０６】
なお、レタデーション上昇剤の量を５．４重量部に代えたドープ５１もつくった。
【０１０７】
上記ドープ５１を用いて、位相差フィルム製造設備５０により、互いに異なる１２の条件で、表１に示す厚みとなるように位相差フィルムを製造した。製造速度は５０ｍ／分である。各条件は表１に示す。「実験」は本発明の態様であり、「比較実験」は本発明に対する比較例である。なお、実験１〜実験３，実験５〜実験８，比較実験１は、レタデーション上昇剤の量が７．４重量部であるドープを用い、他の実験及び比較実験は、レタデーション上昇剤の量が５．４重量部であるドープを用いた。
【０１０８】
ドープ５１をギアポンプで溶液製膜部５２に送り、得られたセルロースアシレートフィルムを巻き取った。なお流延膜の剥ぎ取りは、溶媒残留率が４０％のときに実施した。そして、このセルロースアシレートフィルムを位相差フィルム製造設備１０で位相差フィルムとした。
【０１０９】
いずれの実験、比較実験とも、第１３位置Ｐ１３における溶媒残留率は４５％で、第１４位置Ｐ１４における溶媒残留率は２５％である。乾燥室６７では、溶媒残留率が０．２％以下になるまで乾燥し、これを巻き取った。このセルロースアシレートフィルムにつきガラス転移点Ｔｇと結晶化温度Ｔｃとを測定したところ、Ｔｇは１２６℃、Ｔｃは１８７℃であった。
【０１１０】
巻き取ったセルロースアシレートフィルムを送出装置１２によりクリップテンタ１８に案内した。そして、比較実験１を除く実験及び比較実験につき、加熱工程を実施した。表１の「加熱工程」欄の温度はこの加熱工程におけるセルロースアシレートフィルムの温度である。加熱工程の実施時間は５秒である。また、拡幅開始位置Ｐ１における溶媒残留率は０．２％である。次に、比較実験１を除く実験及び比較実験につき、拡幅工程を実施した。
【０１１１】
表１の「乾燥拡幅工程」の「拡幅率」は、Ｌ４／Ｌ３の値であり、「拡幅工程」の「拡幅率」は「Ｌ２／Ｌ１」の値である。そして、「乾燥拡幅工程」と「拡幅工程」との「温度」は湿潤フィルムの温度とセルロースアシレートフィルムの温度をそれぞれ意味する。
「拡幅率」各延伸工程のテンター入口フィルム幅に対するテンター出口フィルム幅の倍率で表している。なお、表１の各欄において「−」の記載は、該当する工程を実施しなかったことを意味する。
【０１１２】
そして、得られた１２種の位相差フィルムにつき、ヘイズ、Ｒｅ、Ｒｔｈ、寸法変化率を評価した。
【０１１３】
ヘイズ（単位；％）は、各位相差フィルムから４０ｍｍ×８０ｍｍの大きさでサンプリングし、各サンプルにつき、２５℃６０％ＲＨでヘイズメータ（型式：ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定し、以下の基準で評価した。
◎；０以上０．３以下で非常に良好
○；０．３より大きく０．５以下で良好
×；０．５より大きく不良
【０１１４】
寸法変化率は、位相差フィルムの長手方向と幅方向との両方における評価を実施した。まず、各位相差フィルムから３０ｍｍ×１２０ｍｍをサンプリングし、評価対象とすべきサンプルを２つずつ用意する。この２つのうち一方は、得られた長尺の位相差フィルムの長手方向で１２０ｍｍ、幅方向で３０ｍｍのものであり、他方は、長手方向で３０ｍｍ、幅方向で１２０ｍｍの各寸法で切り取ったものである。そして、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、ピンゲージ（ミツトヨ（株）製 ＥＦ−ＰＨ）にて、１２０ｍｍ長の方向での両端に直径６ｍｍの穴を略１００ｍｍの間隔でふたつ開け、穴と穴との距離をＬ２０とする。サンプルをＥＳＰＥＣ製 ｔｅｍｐ． ＆ ｈｕｍｉｄ．ｃｈａｍｂｅｒ ＰＲ−４５にて、６０℃、９０％ＲＨ、２４時間処理した後の穴と穴との距離（Ｌ２１）を測定する。なお、この寸法変化率は、すべての距離の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した値である。そして、下記式により各サンプルの寸法変化率を求めることができる。
６０℃、９０％ＲＨの寸法変化率＝｛（Ｌ２０−Ｌ２１）／Ｌ２０｝×１００
【０１１５】
なお、寸法変化率は、−０．３〜＋０．３の範囲であるときには、良好と評価することができる。
【０１１６】
【表１】
【実施例２】
【０１１７】
実施例１の実験と比較実験とで得られたそれぞれの位相差フィルムを用いて、液晶表示装置を以下の方法でつくった。
【０１１８】
［偏光板の作製］
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
【０１１９】
実施例１で得られた位相差フィルム、および市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ（富士写真フイルム（株）製、ヘイズ０．３％、厚みムラ０．７μｍ））を１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に位相差フィルムとセルローストリアセテートフィルムとを１２０℃で十分に乾燥させた。
【０１２０】
前記のようにけん化処理を行った市販のセルローストリアセテートフィルムを前記偏光膜の一方の面にポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せた後に、同じく前記のようにけん化処理を行った位相差フィルムを前記の偏光膜の他方の面に貼り合わせ、偏光板を作製した。なお、偏光膜、位相差フィルム、セルローストリアセテートフィルムはいずれもロール形態で作製されているため各ロールフィルムの長手方向が平行となっており連続的に貼り合わされる。偏光膜のセル側に配置される位相差フィルムは、その遅相軸と偏光子の透過軸とが平行になるように貼り合わされる。
【０１２１】
作製した偏光板のセル側の面にはアクリル系の粘着材、さらにその粘着材の上にセパレートフィルムを貼り付けた。セルと反対側の面にはプロテクトフィルムを貼り付けた。
【０１２２】
［ＶＡモード液晶パネルへの実装］
ＶＡモードの液晶テレビ（ＬＣ−３７ＧＸ３Ｗ、シャープ（株）製）の液晶セルの両面に配されてある偏光板をそれぞれ剥がした。そして、偏光板が剥がされた液晶セルの各面に、作成した偏光板を貼り付けた。その際、実施例１の実験１〜８、および比較実験１〜４で作製した位相差フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、液晶セルの観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付け１２種の液晶表示装置をつくった。表２における実験番号及び比較実験番号は、使用した位相差フィルムが実施例１のいずれの実験及び比較実験で得られたものかを示す。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。得られた液晶表示装置について、正面コントラストを求めた。この正面コントラストは、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、２５℃、６０％ＲＨの条件にて、白表示状態における輝度と黒表示状態における輝度を測定し、両者の比を計算することにより求めた。正面コントラストの値は表２に示す。
【０１２３】
さらに、６０℃９０％の状態に５００時間静置した後、さらに２５℃６０％にて２４時間静置した後に、表示画面における外周部及び角部での光漏れの有無を黒表示にて評価した。この結果を表２に示す。表２の「光漏れ評価」欄は、以下の基準で評価した結果である。
「○」；光漏れがまったく見えない
「△」；外周部及び角部に、光漏れがわずかに視認される
「×」；外周部及び角部に、光漏れがはっきりと視認される
【０１２４】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【０１２５】
【図１】本発明を実施した位相差フィルム製造設備の概略図である。
【図２】クリップテンタにおけるセルロースアシレートフィルムの保持状態を示す説明図である。
【図３】溶液製膜部を含む位相差フィルム製造設備の概略図である。
【図４】溶液製膜部のクリップテンタにおける湿潤フィルムの保持状態を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１２６】
１０ 位相差フィルム製造設備
１１ セルロースアシレートフィルム
１７ 位相差フィルム
１８ テンタ
５０ 位相差フィルム製造設備
５２ 溶液製膜部
５３ 光学制御部
６２ クリップテンタ
６７ 乾燥室
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパーソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。このような液晶表示装置は液晶セル内の液晶の配列状態により様々なモードが提案されているが、従来は液晶セルの下側基板から上側基板に向かって約９０°捩れた配列状態になるＴＮモードが主流であった。
【０００３】
一般に液晶表示装置は液晶セル、光学補償シート、偏光子から構成される。光学補償シートは画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために用いられており、延伸した複屈折フィルムや透明フィルムに液晶を塗布したフィルムが使用されている。
【０００４】
例えば、特許文献１ではディスコティック液晶をトリアセチルセルロースフィルム上に塗布し配向させて固定化した光学補償シートをＴＮモードの液晶セルに適用し、視野角を広げる技術が開示されている。しかしながら、大画面で様々な角度から見ることが想定されるテレビ用途の液晶表示装置は視野角依存性に対する要求が厳しく、前述のような手法をもってしても要求を満足することはできていない。そのため、ＩＰＳ（Ｉｎ−ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）モードなど、ＴＮモードとは異なる液晶表示装置が研究されている。特にＶＡモードはコントラストが高く、比較的製造の歩留まりが高いことからＴＶ用の液晶表示装置として着目されている。
【０００５】
液晶表示装置の位相差フィルムには、光学的異方性（高いレターデーション値）が要求される。特にＶＡ用の光学補償シートでは４０ｎｍ以上の面内レターデーション（Ｒｅ）が必要とされる。
【０００６】
位相差フィルムは、液晶ディスプレイにおける液晶層の位相差と合わせることにより、液晶層を通過した後の楕円偏光を直線偏光に近い状態へ変換するものである。そして、液晶層の位相差は一律ではなく、様々である。そのために、用いる液晶層に応じて、組み合わせるべき位相差フィルムを選択する必要がある。
【０００７】
位相差フィルムとして用いられるポリマーフィルムには、様々なものがあり、代表的なものとしては、セルロースアシレートからなるフィルムがある。セルロースアシレートフィルムは、所定の方向に引っ張る延伸工程を経て、位相差フィルムとされる。長尺の位相差フィルムを製造する場合には、例えば、セルロースアシレートフィルムの側端部をクリップ等の保持手段により保持して、幅方向に張力を付与して幅を拡げる。この延伸工程により、面方向レタデーションＲｅを上昇させる。なお、Ｒｅは、フィルムの厚み方向に直交する方向、すなわちフィルム面方向におけるレタデーション値であり、以下の式（１）により求められる。Ｎｘは位相差フィルムの面での遅相軸方向であるＸ軸における屈折率、Ｎｙは進相軸方向であるＹ軸における屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。
Ｒｅ＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ・・・（１）
【０００８】
また、厚み方向におけるレタデーションＲｔｈが高いセルロースアシレートフィルムが望まれる場合もある。Ｒｔｈは以下の式により求められる。なお、Ｎｚは位相差フィルムの厚み方向であるＺ軸における屈折率である。
Ｒｔｈ＝｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｝×ｄ・・・（２）
【０００９】
非特許文献１には、高いレタデーション値を有するセルロースアセテートフィルムが開示されている。非特許文献１の２９ページには、ガラス転移点以下の温度で一軸方向あるいは二軸方向に３０〜１６０℃で延伸するセルロースアシレート位相差板の製法が開示されており、溶液製膜法による製膜工程と延伸工程とを逐次あるいは連続して行い、フィルム中に溶媒が残存する状態で延伸することが好ましいとしている。
【００１０】
特許文献２ではセルローストリアセテートで高いレタデーション値を実現するために、少なくとも２つの芳香環を有する芳香族化合物、中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物を添加し、延伸処理を行っている。一般にセルローストリアセテートは延伸しにくい高分子素材であり、複屈折率を大きくすることは困難であることが知られているが、添加剤を延伸処理で同時に配向させることにより複屈折率を大きくすることを可能にし、高いレタデーション値を実現している。このフィルムは偏光板の保護膜を兼ねることができるため、安価で薄膜な液晶表示装置を提供することができる利点がある。
【００１１】
特許文献３には残留溶媒量１０〜１００質量％の範囲で温度１５〜１６０℃で少なくとも一方向に１．２〜４．０倍延伸するセルロースエステル光学二軸フィルムが開示されている。
【００１２】
また、特許文献４には、残留溶媒量が３％未満のロール状フィルムを送り出し装置から送り出し、延伸温度よりも１０℃から４０℃低い温度で予熱した後、１４０℃から１８０℃に加熱したテンター装置中で幅方向に１．１倍から１．６倍に延伸したことを特徴とする光学用セルロースアシレートフィルムが開示されている。
【特許文献１】特許第２５８７３９８号公報
【特許文献２】欧州特許出願公開第９１１６５６号明細書
【特許文献３】特開２００２−１８７９６０号公報
【特許文献４】特開２００６−８３２０３号公報
【非特許文献１】発明協会公開技法第２００１−１７４５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
非特許文献１，特許文献１〜４の方法で高いレタデーション値を有する位相差フィルムを得るにはより高倍率の延伸が必要となるが、これらの方法で得られた位相差フィルムはヘイズ値が高くなり、これらの位相差フィルムを用いた液晶表示装置はコントラストが低下してしまう。さらにこれらの方法で得られる位相差フィルムは寸法安定性が経時的に悪くなりやすく、これを用いた液晶表示装置は、表示画面における外周部や角部に光漏れを生じやすくなるなどの問題点があった。
【００１４】
そこで、本発明では、上記問題に鑑み、Ｒｅが４０以上と高いにも関わらず、ヘイズが０．５％以下と小さく、さらに寸法変化率が小さい位相差フィルムを製造することができる位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するために、本発明の位相差フィルムの製造方法は、長尺のセルロースアシレートフィルムの両側部を保持した状態で、前記セルロースアシレートフィルムを１９０℃に達するように加熱する加熱工程と、この加熱工程を経たセルロースアシレートフィルムを、１９０℃未満の温度に保持した状態で拡幅して位相差フィルムとする拡幅工程と、を有することを特徴として構成されている。
【００１６】
前記製造方法では、拡幅工程前のセルロースアシレートフィルムの幅をＬ１、拡幅工程後の幅をＬ２とし、セルロースアシレートの結晶化温度をＴｃ、ガラス転移点をＴｇとするときに、拡幅工程では、セルロースアシレートフィルムをＴｇよりも高くＴｃよりも低い範囲に温度を保持した状態で、Ｌ２≧１．１×Ｌ１となるように拡幅することが好ましい。
【００１７】
位相差フィルム製造方法は、さらに、セルロースアシレートが溶媒に溶解しているドープを、走行する支持体に連続的に流延して流延膜とする流延工程と、前記溶媒が含まれる流延膜を支持体から湿潤フィルムとして剥がす剥離工程と、湿潤フィルムを、溶媒残留率が２％に達するまで乾燥して前記セルロースアシレートフィルムとする乾燥工程とを有することが好ましい。
【００１８】
溶媒残留率が６０％であるときの湿潤フィルムの幅をＬ３、１０％であるときの幅をＬ４とするときに、乾燥工程は、溶媒残留率が６０％から１０％に減る間の前記湿潤フィルムを、Ｌ４≧１．１×Ｌ３となるように拡幅する乾燥拡幅工程を有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、Ｒｅが４０以上と高いにも関わらず、ヘイズが０．５％以下と小さく、さらには、寸法変化率が小さい位相差フィルムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明の実施様態について詳細に説明する。ただし、本発明はここに挙げる実施様態に限定されるものではない。
【００２１】
位相差フィルムを製造するために用いるポリマーフィルムとしては、セルロースアシレートからなるセルロースアシレートフィルムを用いる。セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、つまりアシル基の置換度（以下、アシル基置換度と称する）が下記式（Ｉ）〜（III）の全ての条件を満足するものがより好ましい。なお、（Ｉ）〜（III）において、Ａ及びＢはともにアシル基置換度であり、Ａにおけるアシル基はアセチル基であり、Ｂにおけるアシル基は炭素原子数が３〜２２のものである。
２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０・・・（Ｉ）
０≦Ａ≦３．０・・・（II）
０≦Ｂ≦２．９・・・（III）
【００２２】
セルロースを構成しβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部がエステル化されて、水酸基の水素が炭素数２以上のアシル基に置換された重合体（ポリマー）である。なお、グルコース単位中のひとつの水酸基のエステル化が１００％されていると置換度は１であるので、セルロースアシレートの場合には、２位、３位および６位の水酸基がそれぞれ１００％エステル化されていると置換度は３となる。
【００２３】
ここで、グルコース単位の２位のアシル基置換度をＤＳ２、３位のアシル基置換度をＤＳ３、６位のアシル基置換度をＤＳ６とする。ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６で求められる全アシル基置換度は２．００〜３．００であることが好ましく、２．２２〜２．９０であることがより好ましく、２．４０〜２．８８であることがさらに好ましい。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．３２以上であることが好ましく、０．３２２以上であることがより好ましく、０．３２４〜０．３４０であることがさらに好ましい。
【００２４】
アシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上であってもよい。アシル基が２種類以上であるときには、そのひとつがアセチル基であることが好ましい。２位、３位及び６位の水酸基の水素のアセチル基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位、３位及び６位におけるアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は２．２〜２．８６であることが好ましく、２．４０〜２．８０であることが特に好ましい。ＤＳＢは１．５０以上であることが好ましく、１．７以上であることが特に好ましい。そして、ＤＳＢはその２８％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましいが、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは３１％以上、特に好ましくは３２％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。また、セルロースアシレートの６位のＤＳＡ＋ＤＳＢの値が０．７５以上であることが好ましく、０．８０以上であることがより好ましく、０．８５以上であることが特に好ましい。以上のようなセルロースアシレートを用いることにより、溶解性が好ましいドープや、粘度が低く、ろ過性がよいドープを製造することができる。特に非塩素系有機溶媒を用いる場合には、上記のようなセルロースアシレートが好ましい。
【００２５】
炭素数が２以上であるアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定されない。例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどがあり、これらは、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、プロピオニル基、ブタノイル基が特に好ましい。
【００２６】
セルロースアシレートフィルム中には、セルロースアシレートの他に各種添加剤が含まれていてもよい。各種添加剤としては、可塑剤、劣化防止剤、紫外線吸収剤、染料、滑り性を向上させるいわゆるマット剤としての微粒子、Ｒｅ及びＲｔｈを上昇させるためのレタデーション上昇剤等が挙げられる。なお、セルロースアシレートフィルムを溶液製膜方法で製造する場合には、流延支持体からの剥離性を良くするためのいわゆる剥離剤を用いることができ、この剥離剤がセルロースアシレートフィルム中に含まれていてもよい。
【００２７】
レタデーション上昇剤をセルロースアシレートフィルム中に含ませておくと、含ませない場合に比べて、後述の位相差フィルムの製造工程における拡幅率を小さくしても同様の高さのＲｅ及びＲｔｈを発現させることができる。レタデーション上昇剤は、特に限定されず、例えば、特開２００６−２３５４８３号公報の段落［００３０］〜［０１４２］に記載されるものを用いることができる。中でも、特に好ましいレタデーション上昇剤としては、化１の構造式で示す化合物を挙げることができる。
【００２８】
【化１】
【００２９】
レタデーション上昇剤を用いる場合には、セルロースアシレートの質量に対して好ましくは２％以上１０％以下の割合となるように、より好ましくは３％以上１０％以下の割合となるようにレタデーション上昇剤を用いるとよい。この百分率の値は、セルロースアシレートフィルムの質量をｘ、レタデーション上昇剤の質量をｙとするときに、１００×ｘ／ｙで求める値である。
【００３０】
図１は、位相差フィルム製造設備の概略図である。位相差フィルム製造設備１０は、セルロースアシレートフィルム１１を送り出す送出装置１２と、この送出装置１２から送られてきたセルロースアシレートフィルム１１の両側部を保持手段としてのクリップ１３により保持して搬送し、搬送されるセルロースアシレートフィルム１１の温度制御と、幅を拡げる拡幅とを実施して位相差フィルム１７とするクリップテンタ１８と、位相差フィルム１７の両側部を切断除去する耳切装置２１と、位相差フィルム１７の温度を調整する温度調整装置２２と、位相差フィルム１７を巻き取る巻取装置２３とを備える。
【００３１】
セルロースアシレートフィルム１１は、乾燥されたものであり、本実施形態では溶液製膜方法によってつくられて、一旦ロール状に巻き取られたものである。溶液製膜方法によりつくられたセルロースアシレートフィルムを用いる場合には、溶媒含有率が多くても２重量％、すなわち２重量％以下にされているものを用いることが好ましい。これにより、後述の加熱工程と拡幅工程とを実施するヘイズ抑制効果をより高めることになる。
【００３２】
セルロースアシレートフィルム１１のロールは送出装置１２により巻き出されて、クリップテンタ１８に送られる。送出装置１２は、セルロースアシレートフィルム１１のロールの回転を制御する駆動制御部（図示無し）を有し、これによりクリップテンタ１８への送り速度が調整される。
【００３３】
クリップテンタ１８には、セルロースアシレートフィルム１１の搬送路の両側部に、セルロースアシレートフィルム１１の側部を把持する複数のクリップ１３と、この複数のクリップ１３が取り付けられ無端で走行するチェーン（図示無し）と、チェーンの軌道を決めるレール（図示無し）と、セルロースアシレートフィルム１１の幅方向に延びているスリットを搬送方向に複数有し、これらのスリットから空気をセルロースアシレートフィルム１１に向けて送り出す送風ダクト２６と、この送風ダクト２６に空気を送る送風機２７とが備えられる。送風ダクト２６は、内部がセルロースアシレートフィルム１１の搬送方向で複数に区画されており、前記スリットはフィルム搬送路に対向するように各区画に形成されている。各スリットから流出される空気は、送風ダクト２６に接続された送風機２７により送風ダクト２６に送られる。送風機２７には、送風ダクト２６の各区画のスリットからの空気の送り出しのオン・オフ、風量、風速、空気の温度及び湿度を制御するコントローラ（図示無し）が備えられ、このコントローラが、区画毎に、送り出す空気の温湿度と流量とを独立して制御する。レールにはシフト機構（図示無し）が備えられ、このシフト機構は、レールをセルロースアシレートフィルム１１の幅方向に移動させ、これによりチェーンは変位する。
【００３４】
セルロースアシレートフィルム１１は、クリップテンタ１８に案内されると、各側部をクリップ１３で把持され、クリップ１３の走行により搬送される。両側部のうち一方のクリップ１３と他方のクリップ１３との距離を変化させることによりセルロースアシレートフィルム１１の幅方向に付与される張力を変化させ、これにより幅を変えることができる。クリップテンタ１８における工程についての詳細は、別の図面を用いて後述する。
【００３５】
クリップテンタ１８の位相差フィルム１７は、耳切装置２１に案内されて両側部を連続的に切断除去される。これにより、クリップ１３で把持されていた把持箇所が、製品となる中央部と分離される。切り取られた両側部は、ロータリカッタ（図示無し）を備えるクラッシャ２８に送られて細かいチップ状に切断される。
【００３６】
温度調整装置２２には、位相差フィルム１７を周面で支持してローラ３１が複数備えられる。これらのローラ３１の中には、周方向に回転駆動することにより位相差フィルム１７を搬送する駆動ローラが含まれる。温度調整装置２２の内部には、位相差フィルム１７の幅方向に延びたスリット（図示せず）が搬送方向に複数設けられた送風ダクト３２が備えられており、この送風ダクト３２から冷風が流出することにより位相差フィルム１７を冷却する。
【００３７】
温度調整装置２２で冷却された位相差フィルム１７は、巻取装置２３に送られてロール状に巻かれる。
【００３８】
図２は、クリップテンタ１８におけるセルロースアシレートフィルム１１の説明図である。矢線Ｙは、セルロースアシレートフィルム１１の搬送方向である。クリップテンタ１８では、セルロースアシレートフィルム１１に、矢線Ｘ１，Ｘ２で示す幅方向に張力を加える。クリップ１３（図１参照）によるセルロースアシレートフィルム１１の保持を開始する位置を保持開始位置ＰＳ、保持を解除する位置を保持解除位置ＰＥとする。クリップテンタ１８の入口は保持開始位置ＰＳよりも上流側、出口は保持解除位置よりも下流側にあるが、図２においては図示を略す。
【００３９】
セルロースアシレートフィルム１１は、クリップテンタ１８に入ると、送風ダクト２６から流出される空気により加熱され、温度が上昇する。そして、セルロースアシレートの結晶化温度Ｔｃ以上の温度になるようにセルロースアシレートフィルム１１を加熱する。この工程を加熱工程と称するものとする。従来は、ポリマーフィルムを加熱するに際してはポリマーができるだけ結晶化しないように、つまり非晶質部分ができるだけ多くなるように条件を設定し、温度条件については結晶化温度Ｔｃよりも低い温度に抑えられてきた。これは、ポリマーが結晶化すると、通常は、透明性が落ちるからである。これに対し、本発明では、位相差フィルム１７の素材としてセルロースアシレートフィルムを用い、後述の拡幅工程の前に、結晶化温度Ｔｃ以上の温度になるようにセルロースアシレートフィルム１１を加熱する加熱工程を実施する。すなわち、積極的、意図的に、セルロースアシレートフィルム１１を昇温させてセルロースアシレートの結晶化温度Ｔｃ以上にする。これにより、セルロースアシレートフィルム１１の透明性が向上、すなわちヘイズが低下する。
【００４０】
なお、セルロースアシレートは非晶質ポリマーの代表的存在であるが、結晶化温度Ｔｃが検出される場合がある。しかし、結晶化温度Ｔｃよりも高い温度で結晶化がもし起きていたとしても、他のポリマーと比べて、結晶部の体積が非常に小さいのではないかと考えられる。このために、結晶化しても、ヘイズを上昇させるほどには結晶部が大きくならずに微結晶領域が点在したものとなると推察する。そして、この結晶部の発生及び成長により起こりうるヘイズの上昇よりも、セルロースアシレートフィルム１１の中に通常存在している極微小なボイド（空隙）が高温加熱により消失するという加熱の効果の方が非常に大きく、このため位相差フィルム１７としてのヘイズが低減する結果が得られるものと考えられる。
【００４１】
セルロースアシレートフィルム１１を加熱により昇温させて結晶化温度Ｔｃに達した位置を温度保持開始位置Ｐ１、結晶化温度Ｔｃ以上の温度に保持することを終了する、すなわち、降温させて結晶化温度Ｔｃ未満の温度になった位置を温度保持終了位置Ｐ２と称する。本実施形態では、セルロースアシレートフィルム１１の搬送路に沿って、非接触式の温度検知手段を複数設け、搬送されるセルロースアシレートフィルム１１の温度を複数位置で測定し、セルロースアシレートフィルム１１の温度がＴｃに達した位置を検知するが、この方法に限定されない。例えば、送風ダクト２６からの空気の温度と、この空気によるセルロースアシレート１１の単位時間あたりの上昇温度すなわち温度上昇速度との関係を予め求めておき、送風ダクト２６からの空気の温度及び流量とクリップ１３の走行速度との関係から温度保持開始位置Ｐ１を求めることはできる。
【００４２】
結晶化温度Ｔｃには、昇温結晶と降温結晶との両温度があり、加熱工程を開始した場合の上記結晶化温度Ｔｃは昇温結晶での温度である。昇温結晶の温度は、ＪＩＳ Ｋ７１２１に従って示差走査熱量測定により求めることができる。温度保持開始位置Ｐ１は、送風ダクト２６（図１参照）からの空気の温度や流量によって変位するが、変位させることの容易さの観点からは、温度保持終了位置Ｐ２を変位させる方が好ましい。例えば、セルロースアシレートフィルム１１のヘイズが小さくなりにくい場合には、小さくなりやすい場合よりも、温度保持終了位置Ｐ２が下流側になるように、送風ダクト２６からの空気の温度や風量を設定するとよい。
【００４３】
温度保持開始時位置Ｐ１から温度保持終了位置Ｐ２までの距離は、例えば、以下の（１）〜（３）の方法でそれぞれ決定することができる。ただし、この方法に限られるものではない。
（１）位相差フィルム１７とすべきセルロースアシレートフィルム１１からサンプリングして、そのサンプルにつきＴｓ以上の温度に加熱する。加熱した後、ヘイズを測定する。このようにして温度保持時間とヘイズとの関係を予め求めておき、この関係とクリップ１３の移動速度とから温度保持開始時位置Ｐ１から温度保持終了位置Ｐ２までの距離を求める。この場合には、Ｔｃ以上での温度保持の後に、一方向へ延伸して広げたサンプルでヘイズと温度保持時間との関係を求めることがより好ましい。
（２）クリップテンタ１８の下流側の搬送路に、位相差フィルム１７に向けて光を射出する光源と、位相差フィルム１７を介してこの光源に対向するように設けられ、入射光の強度を測定する受光部とにより、位相差フィルム１７の透明度を測定し、目標とする透明度との差に応じて温度保持開始時位置Ｐ１から温度保持終了位置Ｐ２までの距離を求める。目標とする透明度に至っていない場合には、両位置Ｐ１，Ｐ２の距離をさらに長く設定する。なお、この方法を用いる場合には、目標とするヘイズと上記光源及び受光部により求める透明度との関係を予め求めておくことが好ましい。
（３）位相差フィルム１７とすべきセルロースアシレートフィルム１１からサンプリングし、このサンプルをＴｃ以上に加熱する。加熱したサンプルにつき、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を実施し、結晶化温度Ｔｃが検出されるか否かを確認する。検出される場合には、他のサンプルにつき温度保持時間がさらに長くなるように加熱する。そして、結晶化温度Ｔｃが認められない程度にまで温度保持時間を長くする。つまり結晶化温度Ｔｃが認められない程度となる温度保持時間を求め、これとクリップ１３の移動速度とにより両位置Ｐ１，Ｐ２の距離を決定する。
【００４４】
セルロースアシレートフィルム１１の温度を結晶化温度Ｔｃ以上に保持する時間は、３秒以上３分以下の範囲であることが好ましい。そして、この時間は連続することが好ましい。３秒よりも短いとセルロースアシレートフィルム１１の中に通常存在している極微小なボイド（空隙）が消失せず、そのためヘイズが０．５以下であるような位相差フィルムが得られない場合がある。セルロースアシレートフィルム１１の中にシリカ等の微粒子を含まれている場合には、３秒以上という時間を継続して結晶化温度Ｔｃ以上に保持することでヘイズの低減効果が顕著にみられる。３分よりも長くても、ヘイズの低減効果のさらなる上昇の見込みが極めて薄いので、３分よりも長く継続して温度保持する必要はほとんどない。また、３分よりも長くした場合には、Ｒｅを４０ｎｍ以上に大きくすることができない場合がある。
【００４５】
保持すべき温度（以降、保持温度と称する）の上限値は、セルロースアシレートの熱劣化やセルロースアシレートフィルム１１に含まれる添加剤の種類を考慮する点を除くと、特に限定されない。添加剤を同定することができない場合には、Ｔｃ＋５０℃を上限値とするとよく、すなわち、加熱工程でのセルロースアシレートフィルム１１の保持温度は、Ｔｃ以上（Ｔｃ＋５０℃）以下の範囲にするとよい。なお、上記の時間連続してこの範囲にあるならば、保持温度は一定である必要はなく、変化していてもよい。つまり、温度保持開始位置Ｐ１から温度保持終了位置Ｐ２までの搬送区間におけるセルロースアシレートフィルム１１の温度は上記温度範囲で変化してよい。
【００４６】
セルロースアシレートの結晶化温度Ｔｃは、アシル基の種類、アシル基置換度により異なるので、用いるセルロースアシレートフィルム１１毎に結晶化温度Ｔｃを実際に測定することが好ましい。しかしながら、実際に測定せずとも、加熱工程で１９０℃に達するようにセルロースアシレートフィルム１１を加熱すればよく、保持温度は１９０℃以上２４０℃以下の範囲とすることが好ましく、２００℃以上２２０℃以下の範囲とすることがより好ましい。保持温度が１９０℃よりも低いと、例えばセルロースアシレートの種類やセルロースアシレートフィルム１１の性状によっては、ヘイズの低減する効果が十分には得られない場合がある。つまり、ヘイズが０．５よりも大きくなる場合が無いとは言えない。一方、２４０℃よりも高い保持温度では、セルロースアシレートフィルム１１に含まれる低分子化合物の添加剤が気化してしまうことがあるし、２５０℃よりも高い保持温度ではセルロースアシレートが分解してしまうことがある。
【００４７】
また、セルロースアセテート（ＴＡＣ）のように結晶化温度Ｔｃが検出されるものの他に、セルロースアシレートの中には、アシル基の種類により、結晶化温度Ｔｃが検出されないものもある。このようなセルロースアシレートとしては、例えば、アシル基としてアシル基とプロピオニル基との両方をもつセルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）がある。ＣＡＰは、ＴＡＣよりも融点が低く、また部分的にでも結晶化するものか否かについては未確認である。しかし、このように結晶化温度Ｔｃが検出されないセルロースアシレートの場合にも、加熱工程を実施し、この加熱工程で１９０℃に達するようにセルロースアシレートフィルム１１を加熱すればよく、保持温度は１９０℃以上２４０℃以下の範囲とすることが好ましく、２００℃以上２２０℃以下の範囲とすることがより好ましい。
【００４８】
セルロースアシレートフィルム１１の温度を上記の範囲に保持するためには、セルロースアシレートフィルム１１の搬送路の温度が１９０℃以上２４０℃以下の範囲に保持されるように送風ダクト２６からの空気の温度と流量とを制御することが好ましい。
【００４９】
加熱工程は、セルロースアシレートフィルム１１を拡幅せずに、すなわち非拡幅で実施することが好ましく、幅を一定に保持した状態で実施することがより好ましい。つまり、拡幅も縮幅（幅を小さくすること）もせずに、保持開始位置Ｐ２における第１幅Ｌ１を一定に保持するように、クリップ１３を走行させることが最も好ましい。なお、図２において符号ＫＬは、クリップ１３で保持されるセルロースアシレートフィルム１１の保持対象部のうち、セルロースアシレートフィルム１１の幅方向における最も中央部側の位置を表し、セルロースアシレートフィルム１１及び位相差フィルム１７の幅とは、いずれも両側の保持対象ラインＫＬ間の距離である。
【００５０】
クリップテンタ１８では、加熱工程の後を経たセルロースアシレートフィルム１１を、Ｔｃよりも低い温度あるいは１９０℃未満の温度に保持した状態で拡幅する拡幅工程を実施する。拡幅を開始する位置を拡幅開始位置Ｐ３、拡幅を終了する位置を拡幅終了位置Ｐ４と称する。この拡幅工程の前に、加熱工程を終えたセルロースアシレートフィルム１１の温度を、Ｔｃよりも低い温度に下げる降温工程を実施することがより好ましい。拡幅は、セルロースアシレートフィルム１１の温度がＴｃよりも低い温度になった後に開始することが好ましく、拡幅開始位置Ｐ３ができるだけ上流側になるようにすることが生産効率の上では好ましいからである。
【００５１】
温度保持終了位置Ｐ２の下流の搬送路における送風ダクト２６からの空気の温度を、温度保持終了位置Ｐ２の上流側におけるよりも低く設定しておくことにより、降温工程を実施することができる。
【００５２】
この降温工程により、セルロースアシレートフィルム１１の温度をＴｃよりも低い温度にまで下げる。セルロースアシレートの結晶化温度につき、昇温結晶での温度と降温結晶での温度とが互いに異なる場合には、加熱工程の場合と同様に昇温結晶での温度をＴｃとみなしてよい。
【００５３】
セルロースアシレートフィルム１１に含まれるセルロースアシレートのガラス転移点をＴｇとするときに、後工程である拡幅工程では、Ｔｇよりも高くＴｃよりも低い範囲にセルロースアシレートフィルム１１の温度を保持した状態で拡幅することが好ましいので、降温工程では、セルロースアシレートフィルム１１をＴｇよりも高くＴｃよりも低い温度範囲になるように送風ダクト２６からの空気により温度調整することが好ましい。Ｔｇは、ＪＩＳ Ｋ７１２１に従い、示差走査熱量測定により測定することができる。
【００５４】
ＴｇやＴｃを測定することができない場合等、これらを予め測定しない場合には、降温工程で１５０℃よりも高く１９０℃よりも低い温度になるようにセルロースアシレートフィルム１１の温度を下げればよく、１６０℃以上１８０℃以下の範囲とすることがより好ましい。１９０℃以上では、拡幅工程を実施してもレタデーションが位相差フィルムとして用いるに十分な程度には上がらない場合があるからである。一方、１５０℃よりも低い温度にまでセルロースアシレートフィルム１１の温度を下げてしまってそのまま拡幅工程に移行すると、拡幅工程での張力付与により、セルロースアシレートフィルム１１が裂けてしまったり、位相差フィルム１７のヘイズが高くなってしまう等、前述の加熱工程の効果が薄れることがある。そこで、降温工程でも、１５０℃よりも低い温度とならないように、送風ダクト２６からの送風による加熱は実施してもよい。
【００５５】
セルロースアシレートフィルム１１の搬送路に沿って複数設けられる非接触式の温度検知手段により、搬送されるセルロースアシレートフィルム１１の温度を測定し、セルロースアシレートフィルム１１の温度がＴｃに達した位置を検知し、これを降温終了位置Ｐ５とすることができるが、この方法に限定されない。例えば、温度保持開始位置Ｐ１を求める場合と同様に、送風ダクト２６からの空気の温度と、この空気によるセルロースアシレート１１の単位時間あたりの下降温度すなわち温度下降速度との関係を予め求めておき、送風ダクト２６からの空気の温度及び流量とクリップ１３の走行速度との関係から降温終了位置Ｐ５を求めることができる。
【００５６】
降温工程でも加熱工程と同様に、非拡幅とし、第１幅Ｌ１を保持することが好ましい。
【００５７】
降温工程を経てＴｃ未満の温度、好ましくは１５０℃以上１９０℃以下の温度にされたセルロースアシレートフィルム１１は、位相差フィルム１７としてのレタデーション値を発現するための拡幅工程に供される。拡幅工程の間は、上記温度範囲にセルロースアシレートフィルム１１の温度を保持し、１６０℃以上１８０℃以下の範囲に保持することがより好ましい。これにより、後述の拡幅率で拡幅する場合のレタデーション値の上昇とセルロースアシレートフィルム１１が裂けないように防止することとの両効果がより向上する。
【００５８】
拡幅工程により得られる位相差フィルム１７の幅、すなわち拡幅終了位置Ｐ４における位相差フィルム１７の幅を第２幅Ｌ２と称する。Ｌ２／Ｌ１で求める拡幅率が１．１以上となるように、すなわち、Ｌ２≧１．１×Ｌ１となるように、拡幅することが好ましい。この拡幅は、２．０×Ｌ１≧Ｌ２≧１．１×Ｌ１となるように実施することがより好ましく、１．７×Ｌ１≧Ｌ２≧１．１×Ｌ１がさらに好ましい。拡幅率が１．１よりも小さいと、レタデーション値、特にＲｅが、レタデーション上昇剤を用いた場合でも位相差フィルムとして十分な程度に高くはならないことがある。一方、拡幅率が２．０よりも大きいと、セルロースアシレートフィルム１１が裂けてしまうことを防止するためにセルロースアシレートフィルム１１の温度をＴｃ以上に上げなければならない場合があり、これにより、レタデーション上昇剤を加えてもレタデーションが十分に上がらなくなることがある。
【００５９】
セルロースアシレートフィルムに対して、以上のような加熱工程と加熱工程後の拡幅工程とを実施することにより、レタデーションが４０以上と高いにも関わらずヘイズが０．５以下と低い位相差フィルムをセルロースアシレートフィルムからつくることができる。得られる位相差フィルムは、さらに、Ｒｔｈも７０以上と高いものとなる。
【００６０】
上記の方法によると、セルロースアシレートフィルム１１が、溶液製膜工程で拡幅されているか否かに関わらず、すなわち、セルロースアシレートフィルム１１として非拡幅のものを用いても、高いＲｅと低いヘイズとを有する位相差フィルムを製造することができる。そして、さらに、溶液製膜工程でも所定条件の拡幅を実施する場合には、ヘイズをより低くするとともに、ヘイズ低減のための上記加熱工程を実施することにより、溶液製膜工程での拡幅により生じた歪みが緩和されるので寸法安定性が向上した、すなわち寸法変化率がより小さな位相差フィルムをつくることができる。以下に溶液製膜工程と組み合わせた態様につき説明する。
【００６１】
［ドープの原料及び製造方法］
セルロースアシレートフィルム１１を溶液製膜方法で製造する場合には、セルロースアシレートが溶媒に溶解されたドープをつくる。前述の各種添加剤も、このドープ中に含ませておく。
【００６２】
セルロースアシレートを溶解し、ドープの溶媒成分となる液体としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが例示される。なお、添加剤の中には、これらに溶解せずに分散して使用されるものもある。
【００６３】
上記溶媒の中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく、ジクロロメタンが最も好ましい。そして、セルロースアシレートの溶解性、流延支持体からの流延膜の剥ぎ取り性、位相差フィルムの機械的強度、位相差フィルムの光学特性等の観点から、炭素原子数１〜５のアルコールを一種ないし数種類を、ジクロロメタンに混合して用いることが好ましい。このとき、アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２重量％〜２５重量％であることが好ましく、５重量％〜２０重量％であることがより好ましい。アルコールの好ましい具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノール等が挙げられるが、中でも、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【００６４】
環境に対する影響を最小限に抑えることを目的にした場合には、ジクロロメタンを用いずにドープを製造してもよい。この場合の溶剤としては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルが好ましく、これらを適宜混合して用いることがある。これらのエーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、溶媒として用いることができる。また、溶媒は、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を化学構造中に有するものであってもよい。
【００６５】
各種添加剤及び溶剤については、特開２００５−１０４１４８号公報の段落［０１９６］から段落［０５１６］に詳細に記載されており、これに記載される各種添加剤及び溶剤も本発明に適用することができる。
【００６６】
流延すべきドープの製造方法は特に限定されず、公知の製造方法を適用してよい。ただし、流延されたドープからなる流延膜を冷却により固化させて剥ぎ取るいわゆる冷却流延の場合には、流延膜を乾燥して剥ぎ取るいわゆる乾燥流延の場合のドープよりも、セルロースアシレート等の固形分の濃度が高くなるように、ドープを製造することが好ましい。固形分濃度が高くする方法としては、いわゆるフラッシュ濃縮法を用いることが好ましい。フラッシュ濃縮法とは、目的とする濃度よりも低い濃度のドープを一旦つくり、このドープ５１を公知のフラッシュ装置で吹き出させることにより溶媒の一部を蒸発させる方法である。
【００６７】
流延すべきドープは、セルロースアシレートの濃度が５重量％〜４０重量％であることが好ましく、１５重量％以上３０重量％以下の範囲とすることがより好ましく、１７重量％以上２５重量％以下の範囲とすることがさらに好ましい。
【００６８】
［フィルム製造設備及び方法］
図３は、溶液製膜部を含む位相差フィルム１７の製造設備の概略図である。図３の位相差フィルム製造設備５０においては、図１の位相差フィルム製造設備１０と同じ装置や部材については、図１と同じ符号を付し、説明を略す。
【００６９】
位相差フィルム製造設備５０は、ドープ５１からセルロースアシレートフィルム１１をつくる溶液製膜部５２と、溶液製膜部５２で得られたセルロースアシレートフィルム１１を位相差フィルム１７とする光学制御部５３とを備える。この位相差フィルム製造設備５０は、図１の位相差フィルム製造設備１０の送出装置１２に代えて溶液製膜部５２が備えられたものとされている。すなわち、溶液製膜部５２の下流側には、位相差フィルム製造設備１０のクリップテンタ１８が接続し、このクリップテンタ１８から下流側が光学制御部５３である。
【００７０】
溶液製膜部５２には、ドープ５１を流延して流延膜５６を形成し、溶媒を含んだ湿潤フィルム５７とするための流延室５８と、湿潤フィルム５７の両側端部を保持手段としてのクリップ６１により保持して湿潤フィルム５７を拡幅するクリップテンタ６２と、湿潤フィルム５７の両側端部を切り離す耳切装置８７と、湿潤フィルム５７を複数のローラ６６に掛け渡して搬送しながら乾燥してセルロースアシレートフィルム１１とする乾燥室６７とが上流側から順に備えられる。
【００７１】
流延室５８には、案内されてきたドープ５１を連続的に流出する流延ダイ７１と、流延ダイ７１のドープ流出口に対向して備えられる無端のバンド７２と、バンド７２がかけ渡されこれを連続走行させるふたつのバックアップローラ７３とを備える。
【００７２】
流延ダイ７１には、バンド７２に向けて流出するドープ５１の温度が所定温度に保持されるように、流延ダイ７１の温度を制御する温度コントローラ（図示なし）が取り付けられる。ふたつのバックアップローラ７３のうち、少なくともいずれか一方は、駆動手段（図示せず）により周方向へ回転する。走行するバンド７２の上に流延ダイ７１から連続的にドープ５１を流出することにより、バンド７２の上でドープ５１が流延されて流延膜５６が形成される。
【００７３】
バックアップローラ７３には、バックアップローラ７３に所定の温度の伝熱媒体を供給して、バックアップローラ７３の周面温度を制御する伝熱媒体循環装置７６が備えられる。バックアップローラ７３の内部には、伝熱媒体の流路（図示せず）が形成されており、その流路中を、伝熱媒体が通過することにより、バックアップローラ７３の周面温度が所定の値に保持され、このバックアップローラ７３に接触するバンド７２の温度が制御される。バンド７２の温度は、溶媒の種類、固形成分の種類、ドープ５１の濃度等に応じて適宜設定する。
【００７４】
バンド７２の走行方向における流延ダイ７１の上流側には、空気を吸引する減圧チャンバ７７が備えられる。減圧チャンバ７７による空気の吸引により、ビードとして流出されたドープ５１の上流側のエリアを減圧して下流側のエリアよりも低い圧力にする。
【００７５】
流延室５８には、その内部温度を所定の値に保つための温調装置７８と、ドープ５１及び流延膜５６から蒸発した溶媒を凝縮回収するための凝縮器（コンデンサ）８１とが設けられる。そして、凝縮液化した溶媒を回収するための回収装置８２が流延室５８の外部には設けられてある。
【００７６】
流延室５８の下流に設けられるクリップテンタ６２は、光学制御部５３のクリップテンタ１８と同じ構成とされており、すなわち、湿潤フィルム５７の搬送方向に延び、温度調整された空気を湿潤フィルム５７に対して上方から吹き付けるように送り出す送風ダクト８３と、この送風ダクト８３に空気を送る送風機８６とを備える。
【００７７】
耳切装置８７は、光学制御部５３の耳切装置２１と同じ構成とされており、湿潤フィルムの両側部を切り取る。そして、この耳切装置８７は、切り取られた湿潤フィルム１７の側端部屑を細かく切断処理するためのクラッシャ８８を備える。
【００７８】
乾燥室６７には、湿潤フィルム５７から蒸発した溶媒、すなわち溶媒ガスを吸着して回収する吸着回収装置９１が接続する。
【００７９】
次に、位相差フィルム製造設備５０により位相差フィルム１７を製造する方法の一例を説明する。ドープ５１は、伝熱媒体により冷却されたバンド７２に流延ダイ７１から流延される。流延時におけるドープ５１の温度は３０〜３５℃の範囲で一定、バンド７２の表面温度は３５〜４０℃の範囲で一定とされることが好ましい。流延室５８の温度は、温調装置７８により３０℃〜３５℃とされることが好ましい。なお、流延室５８の内部で蒸発した溶媒は回収装置８２により回収された後、再生させてドープ製造用の溶媒として再利用される。
【００８０】
流延ダイ７１からバンド７２にかけては流延ビードが形成され、バンド７２の上には流延膜５６が形成される。流延ビードの様態を安定させるために、このビードに関し上流側のエリアは、所定の圧力値となるように減圧チャンバ７７で制御される。ビードに関して上流側のエリアの圧力は、下流側のエリアよりも２０００Ｐａ〜１０Ｐａ低くすることが好ましい。なお、減圧チャンバ７７にジャケット（図示しない）を取り付けて、内部温度が所定の温度を保つようにすることが好ましい。この温度は、ドープの溶媒の凝縮点以上であることが好ましい。
【００８１】
流延膜５６をバンド７２から剥ぎ取るに十分な程度にまで乾燥する。乾燥は、バンド７２の近傍に送風ダクト（図示無し）を設け、この送風ダクトから流延膜５６に空気を送ることにより実施することができる。剥ぎ取りは、バンド７２の下流側から湿潤フィルム５７を引っ張り、この湿潤フィルム５７が搬送路に備えられたローラ９２に支持されることにより、なされる。剥ぎ取り時の流延膜の溶媒残留率は、２０％以上１００％以下であることが好ましい。本明細書において溶媒残留率（単位；％）は乾量基準の値であり、具体的には、溶媒の重量をｘ、流延膜５６の重量をｙとするときに、｛ｘ／（ｙ−ｘ）｝×１００で求める値である。
【００８２】
溶媒を含んだ状態でバンド７２から剥ぎ取られた湿潤フィルム５７は、クリップテンタ６２に案内されると、その両側端部が保持手段としてのクリップ６１に把持されて下流側へ搬送される。この搬送の間に、湿潤フィルム５７は送風ダクト８３から送り出される空気により乾燥をすすめられる。
【００８３】
なお、湿潤フィルム５７の温度は、送風ダクト８３から流出される空気により制御される。送風ダクト８３のスリットは、湿潤フィルム５７の搬送路近傍に設けられており、流出される空気の温度と湿潤フィルム５７の温度とは同じ温度とみなしてよい。なお、クリップテンタ６２における湿潤フィルムの温度については、別の図面を用いて後述する。
【００８４】
なお、クリップテンタ６２では湿潤フィルム５７が下流に進むに従い湿潤フィルム５７の溶媒残留率は徐々に減る。そこで、下流に進むほど湿潤フィルム５７の温度が高くなるように、下流ほど高い温度の空気を送風ダクト８３から送り出してもよい。そして、湿潤フィルム５７は、溶媒残留率が１０％に達するまではこのクリップテンタ６２で乾燥を進められる。したがって、１０％より低い溶媒残留率になってもこのクリップテンタ６２で乾燥を続けてもよい。
【００８５】
クリップテンタ６２では、湿潤フィルム５７を、幅方向に引っ張る。湿潤フィルム５７は、溶媒の減少に伴い幅方向に縮む、すなわち縮幅することがあるが、このクリップテンタ６２では縮幅、幅の保持、拡幅のいずれを実施してもよいが、後述のように、拡幅工程を所定条件で実施することがより好ましい。
【００８６】
なお、乾燥流延に代えて冷却流延を実施する場合には、クリップテンタ６２に代えて、保持手段がピンである公知のいわゆるピンテンタを用いることが好ましい。
【００８７】
クリップテンタ６２からの湿潤フィルム５７は、ピンで保持されていた両側端部を耳切装置８７により切断除去される。切り離された両側端部はカッターブロワ（図示なし）によりクラッシャ８８に送られる。クラッシャ８８により、側端部は粉砕されてチップとなる。このチップはドープ製造用に再利用されるので、原料の有効利用を図ることができる。
【００８８】
一方、両側端部を切断除去された湿潤フィルム５７は、乾燥室６７に送られて、さらに乾燥される。この乾燥は、溶媒残留率が２％に達するまで、すなわち０以上２％以下の範囲になるまで実施し、この乾燥によりセルロースアシレートフィルム１１が得られる。乾燥室６７では、湿潤フィルム５７はローラ６６に巻き掛けられながら搬送される。乾燥室６７の内部温度は、特に限定されるものではないが、５０〜１６０℃とすることが好ましい。なお、乾燥室６７は、送風温度を変えるために、湿潤フィルム５７の搬送方向で複数の区画に分割されていることがより好ましい。また、耳切装置８７と乾燥室６７との間に予備乾燥室（図示せず）を設けて位相差フィルム１７を予備乾燥すると、乾燥室６７で位相差フィルム１７の温度が急激に上昇することが防止されるので、乾燥室６７での湿潤フィルム５７の形状変化を抑制することができる。
【００８９】
乾燥室６７で蒸発して発生した溶媒ガスは、吸着回収装置９１により吸着回収される。溶媒成分が除去された空気は、乾燥室６７の内部に乾燥風として再度送られる。
【００９０】
溶媒残留率が０以上２％以下の範囲とされたセルロースアシレートフィルム１１は、光学制御部のクリップテンタ１８に送られる。そして、図１の位相差フィルム製造設備１０を用いた場合と同様の工程を経て位相差フィルム１７が製造される。
【００９１】
流延ダイ、減圧チャンバ、支持体などの構造、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取り方法から、溶媒回収方法、フィルム回収方法まで、特開２００５−１０４１４８号公報の［０６１７］段落から［０８８９］段落に詳しく記述されており、これらの記載は本発明に適用することができる。
【００９２】
図４は、クリップテンタ６２のクリップ６１（図３参照）での保持を開始してから解除するまでの湿潤フィルム５７の説明図である。矢線Ｙは、湿潤フィルム５７の搬送方向である。クリップテンタ６２では、湿潤フィルム５７を矢線Ｘ１，Ｘ２で示す幅方向に張力を加える。クリップテンタ６２において、クリップ６１による保持を開始する位置を保持開始位置ＰＳ、保持を解除する位置を保持解除位置ＰＥ、バンド７２からの剥ぎ取り位置を剥ぎ取り位置ＰＰとする。なお、クリップテンタ６２の入口は保持開始位置ＰＳよりも上流側、出口は保持解除位置ＰＥよりも下流側にあるが、図４においては図示を略す。
【００９３】
剥ぎ取り位置ＰＰでバンド７２から剥がされてから保持開始位置ＰＳに至るまでも湿潤フィルム５７からは徐々に溶媒が蒸発し、また、クリップテンタ６２では送風ダクト８３からの乾燥風の流出によりさらに蒸発が進められて湿潤フィルム５７の溶媒残留率はさらに低くされる。溶媒残留率が６０重量％となる位置を第１１位置Ｐ１１、１０重量％となる位置を第１２位置Ｐ１２とする。
【００９４】
クリップテンタ６２では、湿潤フィルム５７は結晶化温度Ｔｃよりも低い温度に保持されて乾燥を進められる。クリップテンタ６２における湿潤フィルム５７の温度は、１００℃以上１６０℃以下の範囲で一定であることがより好ましく、１１０℃以上１５０℃以下の範囲で一定であることがより好ましい。
【００９５】
そして、前述の通り、クリップテンタでは拡幅を実施することがより好ましい。ただし、この拡幅は、溶媒残留率が６０％以上１０％以下の範囲で実施する。つまり、第１１位置Ｐ１１から第１２位置Ｐ１２までの間の搬送路にて実施する。この工程を、以下、乾燥拡幅工程と称する。乾燥拡幅工程の開始位置である第１３位置Ｐ１３は、第１１位置Ｐ１１と同じまたは第１１位置Ｐ１１と第１２位置Ｐ１２との間であり、乾燥拡幅工程の終了位置である第１４位置Ｐ１４は、第１２位置Ｐ１２と同じまたは第１３位置Ｐ１１と第１２位置Ｐ１２との間である。
【００９６】
第１３位置Ｐ１３における湿潤フィルム５７の幅を第３幅Ｌ３、第１４位置における幅を第４幅Ｌ４とする。ここで、図４では、保持開始位置ＰＳから第１３位置Ｐ１３までの間は、湿潤フィルム５７の幅を一定に保持しておく態様を示している。そして、乾燥拡幅工程では、Ｌ４／Ｌ３で求める拡幅率が１．１以上となるように、すなわち、Ｌ４≧１．１×Ｌ３となるように、拡幅することが好ましい。この拡幅は、１．５×Ｌ３≧Ｌ４≧１．１×Ｌ３となるように実施することがより好ましく、１．４×Ｌ３≧Ｌ４≧１．１×Ｌ３がさらに好ましい。
【００９７】
光学制御部５３における拡幅工程に加えてこの乾燥拡幅工程を実施することにより、得られる位相差フィルム１７のヘイズはより低いものとなり、さらに寸法安定性が向上するという効果が得られる。この寸法安定性は、温度が６０℃、相対湿度が９０％の環境下でのものである。
【００９８】
この乾燥拡幅工程を実施する場合には、光学制御部５３のクリップテンタ１８における拡幅工程での拡幅率をより小さくすることができる。そして、所定のＲｅを発現するための拡幅率をＲＡとするときに、乾燥拡幅工程を実施せずに拡幅工程での拡幅率Ｌ２／Ｌ１をＲＡとする場合よりも、拡幅工程での拡幅率Ｌ２／Ｌ１と乾燥拡幅工程Ｌ４／Ｌ３とをともにゼロより大きくして結果的にＬ２／Ｌ３がＲＡとなるようにする場合の方が好ましい。これにより、Ｒｅ値が等しくても、ヘイズの低さと寸法安定性とにおいて、より優れた位相差フィルム１７をつくることができる。
【００９９】
上記のようなタイミング及び拡幅率で乾燥拡幅工程を実施することにより、位相差フィルム１７のヘイズをより低下させ、かつ、寸法安定性も向上させることができる。
【０１００】
この実施態様では、湿潤フィルム５７の乾燥を、溶媒残留率が２％以下となるようにクリップテンタ６２と乾燥室６７とで実施する。さらに、本実施形態ではふたつのクリップテンタ６２，１８を用いているが、これをひとつのクリップテンタとし、かつ、乾燥室６７を用いずに、ひとつのクリップテンタ内で、湿潤フィルムの乾燥工程と、この乾燥工程に含まれる乾燥拡幅工程と、乾燥工程の後の加熱工程と、拡幅工程とを実施してもよい。
【０１０１】
また、本実施形態は、溶液製膜部５２と光学制御部５３とを接続し、乾燥工程と加熱工程とを連続して実施するものを挙げているが、これに限定されない。例えば、溶液製膜部５２で得られるセルロースアシレートフィルム１１を巻取装置で一旦巻きとり、このセルロースアシレート１１をつかって図１の位相差フィルム製造設備１０により位相差フィルム１７を製造することができる。
【０１０２】
本発明は、以上の態様により、Ｒｅが４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の位相差フィルムをつくる場合にヘイズの抑制と寸法安定性との両効果があり、Ｒｅが４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下の位相差フィルムをつくる場合により効果がある。具体的には、ヘイズを０．５以下、さらには０．３以下にまで低く抑えることができ、また、寸法安定性については、位相差フィルムの長手方向における寸法変化率を−０．３〜＋０．３程度の範囲にまで、幅方向における寸法変化率を−０．２〜＋０．２程度の範囲にまで、それぞれ小さく抑えることができる。また、本発明は、上記のヘイズと寸法安定性とを満足し、７０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の範囲のＲｔｈをもつ位相差フィルムをつくることができ、より確実には１１０〜１２０ｎｍのＲｔｈをもつ位相差フィルムをつくることができる。
【０１０３】
さらに、本発明では、レタデーション上昇剤をもちいることにより、拡幅工程と乾燥拡幅工程での拡幅率をより小さく設定しても上記のＲｅ、ヘイズ、寸法安定性を満たす位相差フィルムを、より容易に製造することができる。
【０１０４】
本発明は、幅が１４００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下、中でも１８００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下である位相差フィルムを製造する場合に特に効果があり、また、厚みが２０μｍ以上６０μｍ以下の薄い位相差フィルムを製造する場合に特に効果がある。
【実施例１】
【０１０５】
下記の処方のドープ５１をつくった。固形分濃度は１９．４重量％である
セルロースアシレート １００重量部
（置換度２．８１のセルローストリアセテート、粘度平均重合度３０５．６％、ジクロロメタン溶液６質量％の粘度 ３５０ｍＰａ・ｓ）
ジクロロメタン（溶媒の第１成分） ４０３重量部
メタノール（溶媒の第２成分） ６０．２重量部
化１に示すレタデーション上昇剤 ７．４重量部
トリフェニルホスフェート ７．９重量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ３．９重量部
【０１０６】
なお、レタデーション上昇剤の量を５．４重量部に代えたドープ５１もつくった。
【０１０７】
上記ドープ５１を用いて、位相差フィルム製造設備５０により、互いに異なる１２の条件で、表１に示す厚みとなるように位相差フィルムを製造した。製造速度は５０ｍ／分である。各条件は表１に示す。「実験」は本発明の態様であり、「比較実験」は本発明に対する比較例である。なお、実験１〜実験３，実験５〜実験８，比較実験１は、レタデーション上昇剤の量が７．４重量部であるドープを用い、他の実験及び比較実験は、レタデーション上昇剤の量が５．４重量部であるドープを用いた。
【０１０８】
ドープ５１をギアポンプで溶液製膜部５２に送り、得られたセルロースアシレートフィルムを巻き取った。なお流延膜の剥ぎ取りは、溶媒残留率が４０％のときに実施した。そして、このセルロースアシレートフィルムを位相差フィルム製造設備１０で位相差フィルムとした。
【０１０９】
いずれの実験、比較実験とも、第１３位置Ｐ１３における溶媒残留率は４５％で、第１４位置Ｐ１４における溶媒残留率は２５％である。乾燥室６７では、溶媒残留率が０．２％以下になるまで乾燥し、これを巻き取った。このセルロースアシレートフィルムにつきガラス転移点Ｔｇと結晶化温度Ｔｃとを測定したところ、Ｔｇは１２６℃、Ｔｃは１８７℃であった。
【０１１０】
巻き取ったセルロースアシレートフィルムを送出装置１２によりクリップテンタ１８に案内した。そして、比較実験１を除く実験及び比較実験につき、加熱工程を実施した。表１の「加熱工程」欄の温度はこの加熱工程におけるセルロースアシレートフィルムの温度である。加熱工程の実施時間は５秒である。また、拡幅開始位置Ｐ１における溶媒残留率は０．２％である。次に、比較実験１を除く実験及び比較実験につき、拡幅工程を実施した。
【０１１１】
表１の「乾燥拡幅工程」の「拡幅率」は、Ｌ４／Ｌ３の値であり、「拡幅工程」の「拡幅率」は「Ｌ２／Ｌ１」の値である。そして、「乾燥拡幅工程」と「拡幅工程」との「温度」は湿潤フィルムの温度とセルロースアシレートフィルムの温度をそれぞれ意味する。
「拡幅率」各延伸工程のテンター入口フィルム幅に対するテンター出口フィルム幅の倍率で表している。なお、表１の各欄において「−」の記載は、該当する工程を実施しなかったことを意味する。
【０１１２】
そして、得られた１２種の位相差フィルムにつき、ヘイズ、Ｒｅ、Ｒｔｈ、寸法変化率を評価した。
【０１１３】
ヘイズ（単位；％）は、各位相差フィルムから４０ｍｍ×８０ｍｍの大きさでサンプリングし、各サンプルにつき、２５℃６０％ＲＨでヘイズメータ（型式：ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定し、以下の基準で評価した。
◎；０以上０．３以下で非常に良好
○；０．３より大きく０．５以下で良好
×；０．５より大きく不良
【０１１４】
寸法変化率は、位相差フィルムの長手方向と幅方向との両方における評価を実施した。まず、各位相差フィルムから３０ｍｍ×１２０ｍｍをサンプリングし、評価対象とすべきサンプルを２つずつ用意する。この２つのうち一方は、得られた長尺の位相差フィルムの長手方向で１２０ｍｍ、幅方向で３０ｍｍのものであり、他方は、長手方向で３０ｍｍ、幅方向で１２０ｍｍの各寸法で切り取ったものである。そして、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、ピンゲージ（ミツトヨ（株）製 ＥＦ−ＰＨ）にて、１２０ｍｍ長の方向での両端に直径６ｍｍの穴を略１００ｍｍの間隔でふたつ開け、穴と穴との距離をＬ２０とする。サンプルをＥＳＰＥＣ製 ｔｅｍｐ． ＆ ｈｕｍｉｄ．ｃｈａｍｂｅｒ ＰＲ−４５にて、６０℃、９０％ＲＨ、２４時間処理した後の穴と穴との距離（Ｌ２１）を測定する。なお、この寸法変化率は、すべての距離の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した値である。そして、下記式により各サンプルの寸法変化率を求めることができる。
６０℃、９０％ＲＨの寸法変化率＝｛（Ｌ２０−Ｌ２１）／Ｌ２０｝×１００
【０１１５】
なお、寸法変化率は、−０．３〜＋０．３の範囲であるときには、良好と評価することができる。
【０１１６】
【表１】
【実施例２】
【０１１７】
実施例１の実験と比較実験とで得られたそれぞれの位相差フィルムを用いて、液晶表示装置を以下の方法でつくった。
【０１１８】
［偏光板の作製］
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
【０１１９】
実施例１で得られた位相差フィルム、および市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ（富士写真フイルム（株）製、ヘイズ０．３％、厚みムラ０．７μｍ））を１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に位相差フィルムとセルローストリアセテートフィルムとを１２０℃で十分に乾燥させた。
【０１２０】
前記のようにけん化処理を行った市販のセルローストリアセテートフィルムを前記偏光膜の一方の面にポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せた後に、同じく前記のようにけん化処理を行った位相差フィルムを前記の偏光膜の他方の面に貼り合わせ、偏光板を作製した。なお、偏光膜、位相差フィルム、セルローストリアセテートフィルムはいずれもロール形態で作製されているため各ロールフィルムの長手方向が平行となっており連続的に貼り合わされる。偏光膜のセル側に配置される位相差フィルムは、その遅相軸と偏光子の透過軸とが平行になるように貼り合わされる。
【０１２１】
作製した偏光板のセル側の面にはアクリル系の粘着材、さらにその粘着材の上にセパレートフィルムを貼り付けた。セルと反対側の面にはプロテクトフィルムを貼り付けた。
【０１２２】
［ＶＡモード液晶パネルへの実装］
ＶＡモードの液晶テレビ（ＬＣ−３７ＧＸ３Ｗ、シャープ（株）製）の液晶セルの両面に配されてある偏光板をそれぞれ剥がした。そして、偏光板が剥がされた液晶セルの各面に、作成した偏光板を貼り付けた。その際、実施例１の実験１〜８、および比較実験１〜４で作製した位相差フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、液晶セルの観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付け１２種の液晶表示装置をつくった。表２における実験番号及び比較実験番号は、使用した位相差フィルムが実施例１のいずれの実験及び比較実験で得られたものかを示す。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。得られた液晶表示装置について、正面コントラストを求めた。この正面コントラストは、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、２５℃、６０％ＲＨの条件にて、白表示状態における輝度と黒表示状態における輝度を測定し、両者の比を計算することにより求めた。正面コントラストの値は表２に示す。
【０１２３】
さらに、６０℃９０％の状態に５００時間静置した後、さらに２５℃６０％にて２４時間静置した後に、表示画面における外周部及び角部での光漏れの有無を黒表示にて評価した。この結果を表２に示す。表２の「光漏れ評価」欄は、以下の基準で評価した結果である。
「○」；光漏れがまったく見えない
「△」；外周部及び角部に、光漏れがわずかに視認される
「×」；外周部及び角部に、光漏れがはっきりと視認される
【０１２４】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【０１２５】
【図１】本発明を実施した位相差フィルム製造設備の概略図である。
【図２】クリップテンタにおけるセルロースアシレートフィルムの保持状態を示す説明図である。
【図３】溶液製膜部を含む位相差フィルム製造設備の概略図である。
【図４】溶液製膜部のクリップテンタにおける湿潤フィルムの保持状態を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１２６】
１０ 位相差フィルム製造設備
１１ セルロースアシレートフィルム
１７ 位相差フィルム
１８ テンタ
５０ 位相差フィルム製造設備
５２ 溶液製膜部
５３ 光学制御部
６２ クリップテンタ
６７ 乾燥室
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺のセルロースアシレートフィルムの両側部を保持した状態で、前記セルロースアシレートフィルムを１９０℃に達するように加熱する加熱工程と、
前記加熱工程を経た前記セルロースアシレートフィルムを、１９０℃未満の温度に保持した状態で拡幅して位相差フィルムとする拡幅工程と、
を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記拡幅工程前の前記セルロースアシレートフィルムの幅をＬ１、前記拡幅工程後の幅をＬ２とし、セルロースアシレートの結晶化温度をＴｃ、ガラス転移点をＴｇとするときに、
前記拡幅工程では、前記セルロースアシレートフィルムをＴｇよりも高くＴｃよりも低い範囲に温度を保持した状態で、Ｌ２≧１．１×Ｌ１となるように拡幅することを特徴とする請求項１記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記セルロースアシレートが溶媒に溶解しているドープを、走行する支持体に連続的に流延して流延膜とする流延工程と、
前記溶媒が含まれる前記流延膜を前記支持体から湿潤フィルムとして剥がす剥離工程と、
前記湿潤フィルムを、溶媒残留率が２％に達するまで乾燥して前記セルロースアシレートフィルムとする乾燥工程と、
を有することを特徴とする請求項１または２記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
溶媒残留率が６０％であるときの前記湿潤フィルムの幅をＬ３、１０％であるときの幅をＬ４とするときに、
前記乾燥工程は、溶媒残留率が６０％から１０％に減る間の前記湿潤フィルムを、Ｌ４≧１．１×Ｌ３となるように拡幅する乾燥拡幅工程を有することを特徴とする請求項３記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項１】
長尺のセルロースアシレートフィルムの両側部を保持した状態で、前記セルロースアシレートフィルムを１９０℃に達するように加熱する加熱工程と、
前記加熱工程を経た前記セルロースアシレートフィルムを、１９０℃未満の温度に保持した状態で拡幅して位相差フィルムとする拡幅工程と、
を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記拡幅工程前の前記セルロースアシレートフィルムの幅をＬ１、前記拡幅工程後の幅をＬ２とし、セルロースアシレートの結晶化温度をＴｃ、ガラス転移点をＴｇとするときに、
前記拡幅工程では、前記セルロースアシレートフィルムをＴｇよりも高くＴｃよりも低い範囲に温度を保持した状態で、Ｌ２≧１．１×Ｌ１となるように拡幅することを特徴とする請求項１記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記セルロースアシレートが溶媒に溶解しているドープを、走行する支持体に連続的に流延して流延膜とする流延工程と、
前記溶媒が含まれる前記流延膜を前記支持体から湿潤フィルムとして剥がす剥離工程と、
前記湿潤フィルムを、溶媒残留率が２％に達するまで乾燥して前記セルロースアシレートフィルムとする乾燥工程と、
を有することを特徴とする請求項１または２記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
溶媒残留率が６０％であるときの前記湿潤フィルムの幅をＬ３、１０％であるときの幅をＬ４とするときに、
前記乾燥工程は、溶媒残留率が６０％から１０％に減る間の前記湿潤フィルムを、Ｌ４≧１．１×Ｌ３となるように拡幅する乾燥拡幅工程を有することを特徴とする請求項３記載の位相差フィルムの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１０−１４９９４（Ｐ２０１０−１４９９４Ａ）
【公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１７５２０３（Ｐ２００８−１７５２０３）
【出願日】平成２０年７月４日（２００８．７．４）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年７月４日（２００８．７．４）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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