光アシスト磁気ヘッドの製造方法
【課題】光アシスト磁気ヘッドに内面反射型ミラーを、より簡便に形成することが可能な技術を提供する。
【解決手段】一の面と、一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備えた基板と、一の面に固定された底面と、底面の一端から立ち上がる光出射面とを備え、光出射面から所定の方向に光を出射する光源と、基板の端面に設けられ、光源側を向いた導波路入射面を備え、導波路入射面から入射した光を、端面に沿って、端面の一の面側とは反対側の方向に導く導波路と、を一体構造として形成する組立工程と、液状光学材料を、光出射面及び導波路入射面の双方に接触するように、光出射面と導波路入射面との間の空間に充填し、光出射面から当該液状光学材料に入射した光を導波路入射面に向けて反射する反射面を形成する反射面形成工程と、を備える。
【解決手段】一の面と、一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備えた基板と、一の面に固定された底面と、底面の一端から立ち上がる光出射面とを備え、光出射面から所定の方向に光を出射する光源と、基板の端面に設けられ、光源側を向いた導波路入射面を備え、導波路入射面から入射した光を、端面に沿って、端面の一の面側とは反対側の方向に導く導波路と、を一体構造として形成する組立工程と、液状光学材料を、光出射面及び導波路入射面の双方に接触するように、光出射面と導波路入射面との間の空間に充填し、光出射面から当該液状光学材料に入射した光を導波路入射面に向けて反射する反射面を形成する反射面形成工程と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光アシスト磁気ヘッドの技術に関し、特に、光源からの光を内面反射ミラーにより偏向させて光導波路に導く構成を備えた光アシスト磁気ヘッドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク装置（ＨＤＤ：Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）に用いられる磁気記録方式は、記録密度を高くしようとすると磁気ビットの間隔が狭くなり、超常磁性効果等により極性が不安定になる。このため、高い保磁力を有する記録媒体が必要になるが、そのような記録媒体を使用すると記録時に必要な磁場も大きくなる。然るに、記録ヘッドによって発生する磁場は飽和磁束密度によって上限が決まるが、その値は材料限界に近付いており飛躍的な増大が望めないという実情がある。そこで、記録時に局所的に加熱して磁気軟化を生じさせて、保磁力が小さくなった状態で記録し、その後、加熱を止めて自然冷却することにより、記録された磁気ビットの安定性を保証する記録方式が提案されている。この記録方式は熱アシスト磁気記録方式と呼ばれている。
【０００３】
熱アシスト磁気記録方式では、記録媒体の加熱が瞬間的に行われることが望ましい。また、加熱する機構と、高速で回転する記録媒体とが接触することは許されない。そのため、加熱はレーザー光の微少スポットを記録媒体に照射して行われることが一般的であり、よって加熱に光を用いるこの方式は光アシスト磁気記録方式と呼ばれている。光アシスト磁気記録方式で超高密度記録を行う場合には、必要なスポット径は２０ｎｍ程度になるが、通常の光学系では回折限界があるため、光をそこまで集光することはできない。そのため、入射光波長以下のサイズの光学的開口から発生する近接場光（「近視野光」と称する場合がある）を利用した光アシスト磁気ヘッドが使用される場合がある。
【０００４】
光アシスト磁気ヘッドの例が特許文献１に開示されている。特許文献１に記載の光アシスト磁気ヘッドでは、反射面が形成されたプリズム部を用いることで、半導体レーザー（ＬＤ：Ｌａｓｅｒ Ｄｉｏｄｅ）から出射した光を９０°偏向させて、導波路に照射している。このようなプリズム部を用いることにより、ＬＤをスライダに横置きすることが可能となり、ヘッドの薄型化が可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−３３５０２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１のプリズム部のような内面反射型ミラーは、ＬＤからの光が入射する入射面、入射した光を出射する出射面、及び、入射面から入射した光を出射面にむけて反射させる反射面を有する。このような内面反射型ミラーを作成する場合には、従来は、あらかじめ作成された内面反射型ミラーを光アシスト磁気ヘッドに取り付けていた。この製造方法を適用する場合においては、光アシスト磁気ヘッドに取り付ける前に、入射面、出射面、及び反射面を研磨する必要がある。また、ＬＤから出射された光が、内面反射型ミラーの入射面でＬＤ側に反射するのを防止するために、内面反射型ミラーの入射面に反射防止のためのコーティングを行う必要があった。
【０００７】
本発明は、光アシスト磁気ヘッドに内面反射型ミラーを、より簡便に形成することが可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、一の面と、前記一の面の所定の方向の一端に端面とを備えた基板と、前記一の面に固定された底面と、前記底面の一端から立ち上がる光出射面とを備え、光出射面から前記所定の方向に光を出射する光源と、前記基板の端面に設けられ、前記光源側を向いた導波路入射面を備え、前記導波路入射面から入射した光を、前記端面に沿って、前記端面の前記一の面側とは反対側の方向に導く導波路と、を一体構造として形成する組立工程と、液状光学材料を、前記光出射面及び前記導波路入射面の双方に接触するように、前記光出射面と前記導波路入射面との間の空間に充填し、前記光出射面から当該液状光学材料に入射した光を前記導波路入射面に向けて反射する反射面を形成する反射面形成工程と、を備えたことを特徴とする光アシスト磁気ヘッドの製造方法である。
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面形成工程は、前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、前記空間に充填された前記液状光学材料を、前記反射面を形成するための金型で押圧する成形工程と、充填された前記液状光学材料を固化させる固化工程と、を備えることを特徴とする。
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記金型は、前記光出射面からの光が前記反射面により前記導波路入射面に集光されるような所定の曲率を有する曲面を備えていることを特徴とする。
また、請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面形成工程は、前記光出射面及び前記導波路入射面の双方が、略上方を向くように、前記一体構造を所定の角度だけ傾斜させて配置する位置決め工程と、前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、充填された前記液状光学材料を固化させる固化工程と、を備え、前記導波路入射面を含む面と前記光出射面とを結ぶ当該液状光学材料の面が、前記液状光学材料の自重により、前記反射面として成形されることを特徴とする。
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面が、水平面に対して略平行な平面となるように、前記所定の角度が決定されていることを特徴とする。
また、請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面が、一の面に形成されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする。
また、請求項７に記載の発明は、請求項４に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面が、前記光出射面からの光が前記導波路入射面に向けて集光されるような所定の曲率を有する曲面に成形されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする。
また、請求項８に記載の発明は、請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面形成工程は、前記光出射面及び前記導波路入射面の双方が、略下方を向くように、前記一体構造を所定の角度だけ傾斜させて配置する位置決め工程と、前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、前記液状光学材料を固化させる固化工程と、を備え、前記導波路入射面を含む面と前記光出射面とを結ぶ当該液状光学材料の面が、前記液状光学材料の自重により、所定の曲率を有する前記反射面として成形されることを特徴とする。
また、請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前前記反射面が、前記所定の曲率を有する曲面に成形されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によると、液状光学材料を光出射面と導波路入射面との間の空間に充填することで反射面を形成する。そのため、液状光学材料の光出射面に接する面と、前記導波路入射面に接する面とを研磨する必要がなくなり、従来の製造方法よりも簡便に反射面を形成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】情報記録装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】光アシスト磁気ヘッドの一例を示した概略断面図である。
【図３】内面反射型ミラーの一例を示した斜視図である。
【図４】光アシスト磁気ヘッドの一例を示した概略断面図である。
【図５】第１の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。
【図６】第２の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。
【図７】第２の実施形態に係る偏向ミラーの形成方法の一例を示した図である。
【図８】第３の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。
【図９】偏向ミラー周辺の構成の一例を示した概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（情報記録装置の概略構成）
図１に、光アシスト式磁気記録ヘッドを搭載した光アシスト式磁気記録装置（例えばハードディスク装置、以下「情報記録装置」ともいう）の概略構成を示す。情報記録装置１は、例えば記録用の複数枚の回転可能なディスク（磁気記録媒体）３と、ヘッド支持部５と、トラッキング用アクチュエータ７と、光アシスト磁気ヘッド４と、図示しない駆動装置と、を筐体２内に備えている。なお、ディスク３は１枚であってもよい。ヘッド支持部５は、支軸６を支点として矢印Ａの方向（トラッキング方向）に回動可能に設けられている。トラッキング用アクチュエータ７は、ヘッド支持部５に取り付けられている。光アシスト磁気ヘッド４は、ヘッド支持部５の先端に取り付けられている。図示しない駆動装置は、ディスク３を矢印Ｂの方向に回転させる。情報記録装置１は、光アシスト磁気ヘッド４がディスク３の上で浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている。
【００１２】
（光アシスト磁気ヘッド４）
図２に、光アシスト磁気ヘッド４の概略構成例を断面図で示す。光アシスト磁気ヘッド４は、ディスク３に対する情報記録に光を利用する微小光記録ヘッドである。光アシスト磁気ヘッド４は、光源部２０と、スライダ１０と、偏向ミラー３０とを有する。情報記録装置１は、光アシスト磁気ヘッド４がディスク３上で浮上しながら矢印Ｃ方向に相対的に移動しうるように構成されている。なお、図２では、光アシスト磁気ヘッドがスライドする矢印Ｃ方向をｙ方向、光アシスト磁気ヘッド４の厚み方向をｚ方向、ｙ方向及びｚ方向の双方に直交する方向をｘ方向としている。
【００１３】
スライダ１０は、板状の形状をしており、ディスク３と対向する下面１０ｂと、下面１０ｂのｚ方向の反対側に位置する上面１０ａとを有する。また、スライダ１０は、ｙ方向の端部に端面１０ｃを有する。なお、スライダ１０が「基板」に相当する。また、上面１０ａが「一の面」に相当し、端面１０ｃが、「一の面の所定の方向の一端に設けられた端面」に相当する。
【００１４】
光源部２０は半導体レーザー（以下、単に「ＬＤ」と称する）を有する。光源部２０を構成しているＬＤから出射される光の波長は、可視光から近赤外の波長（波長帯としては、０．６μｍ〜２μｍ程度であり、具体的な波長としては、６５０ｎｍ、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ、１３１０ｎｍ、１５５０ｎｍなどが挙げられる）などがある。光源部２０は、光出射面２０ａと、底面２０ｂとを有している。光源部２０は、スライダ１０の上面１０ａに配置されている。このとき、底面２０ｂと上面１０ａとが対向する。光源部２０は、光出射面２０ａから偏向ミラー３０の入射面３０ａに向けて光を出射する。光源部２０から出射された光は、偏向ミラー３０の入射面３０ａに到達する。
【００１５】
偏向ミラー３０は、光源部２０からの光を偏向させて導波路１４の導波路入射面１４ａに導く内面反射型のミラーである。図３（ａ）は、偏向ミラー３０の一例を示した斜視図である。図３（ａ）に示すように、偏向ミラー３０は、入射面３０ａと、出射面３０ｂと、平面状の反射面３０ｃとを有する。反射面３０ｃには、真空蒸着やスパッタリング等により反射膜を成膜してもよい。また、反射面３０ｃは、入射面３０ａから入射した光が、反射面３０ｃで内面反射することで、出射面３０ｂに導かれるように傾斜して形成されている。
【００１６】
ここで図２を参照する。図２に示すように、入射面３０ａは、光源部２０の光出射面２０ａと接合されている。また出射面３０ｂは、スライダ１０の磁気ヘッド部１３に設けられた導波路１４の導波路入射面１４ａと接合されている。偏向ミラー３０は、入射面３０ａから入射した光を、反射面３０ｃで反射し、出射面３０ｂから出射する。これにより、光源部２０から出射された光（以降では「出射光」と呼ぶ場合がある）は、偏向されて導波路１４の導波路入射面１４ａに導かれる。図２の例では、光源部２０からの光は、反射面３０ｃにより９０°偏向されて、導波路入射面１４ａに導かれている。
【００１７】
なお、図４に示すように、偏向ミラー３０に替えて、反射面が、所定の曲率を持つ曲面として形成された偏向ミラー３１を用いてもよい。
【００１８】
図３（ｂ）は、偏向ミラー３１の一例を示している。図３（ｂ）に示すように、偏向ミラー３１は、入射面３１ａと、出射面３１ｂと、反射集光面３１ｃとを有する。反射集光面３１ｃは、ｘ方向とｚ方向の双方に所定の曲率を持った非球面状又は球面状として形成されている。これにより、光源部２０から出射された光は、ｘ方向及びｚ方向の双方の成分が集光されて導波路入射面１４ａに導かれる。なお、反射集光面３１ｃには、真空蒸着やスパッタリング等により反射膜を成膜してもよい。
【００１９】
また、偏向ミラー３１に替えて、図３（ｃ）に示す偏向ミラー３２を用いてもよい。偏向ミラー３２は、入射面３２ａと、出射面３２ｂと、反射円筒面３２ｃとを有する。反射円筒面３２ｃは、ｚ方向に曲率を持った円筒状として形成されている。これにより、光源部２０から出射された光は、ｚ方向の成分が集光されて導波路入射面１４ａに導かれる。なお、反射円筒面３２ｃには、真空蒸着やスパッタリング等により反射膜を成膜してもよい。
【００２０】
スライダ１０は、端面１０ｃに磁気ヘッド部１３を有する。磁気ヘッド部１３は、ｙ方向に所定の厚みを有して形成されており、端面１０ｃの上面１０ａ側の端部近傍に、端面１０ｃからｙ方向に立ち上がる端面１３ａと、端面１３ａとはｚ方向の反対側に形成された端面１３ｂとを有している。磁気ヘッド部１３は、導波路１４と、図示しない磁気記録部と、図示しない磁気情報再生部とを有する。
【００２１】
導波路１４は、偏向ミラー３０によって導かれた光を導光してディスク３に向けて射出する。導波路１４は、図示しないが、下部クラッド層、コア層、上部クラッド層を、光が伝播する方向とは直交する厚み方向に沿って、この順番に積層させたものである。コア層は、各クラッド層（例えば、ＳｉＯ２で形成）よりも屈折率の高い素材（例えば、Ｔａ２Ｏ５）で形成されている。これにより、導波路１４に導かれた光は、コア層と、各クラッド層との間で全反射する。なお、下部クラッド層が「第１のクラッド層」に相当し、上部クラッド層が「第２のクラッド層」に相当する。
【００２２】
図２に示すように、導波路１４は、磁気ヘッド部１３の端面１３ａに導波路入射面１４ａを有し、端面１３ａとは反対側の端面１３ｂ（ディスク３に対向する面）に導波路出射面１４ｂを有する。導波路１４の導波路出射面１４ｂには、近接場光発生素子としてのプラズモンプローブ１５が設けられている。偏向ミラー３０によって偏向させられた光は、導波路入射面１４ａから導波路１４に入射し、導波路出射面１４ｂに向かって導波路１４内を進む。導波路出射面１４ｂに設けられているプラズモンプローブ１５は、偏向ミラー３０によって導かれた光を近接場光に変換してディスク３に向けて射出する。また、図示しない磁気記録部は、ディスク３の被記録部分に対して磁気情報の書き込みを行う。図示しない磁気情報再生部は、ディスク３に記録されている磁気情報の読み取りを行う。
【００２３】
次に、光アシスト磁気ヘッド４の製造方法について、特に、偏向ミラー３０（または、偏向ミラー３１、３２）を形成する工程に着目して、第１の実施形態〜第３の実施形態として以下に説明する。
【００２４】
（第１の実施形態）
第１の実施形態では、金型によるプレス成形により光アシスト磁気ヘッド４に偏向ミラー３０を形成する。本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法について、図５（ａ）〜図５（ｃ）を参照しながら、偏向ミラー３０を形成する工程に着目して説明する。図５（ａ）〜図５（ｃ）は、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法を説明するための図である。
【００２５】
まず、図５（ａ）に示すように、スライダ１０と、光源部２０と、磁気ヘッド部１３とを組み立てて、これらの一体構造４’を作成する。磁気ヘッド部１３は、スライダ１０と一体に形成してもよいし、別体に構成されたものをスライダ１０に取り付けてもよい。
【００２６】
一体構造４’を作成したら、充填手段１００により、所定量の液状光学材料３０を、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方に接するように、光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に充填する。この充填された液状光学材料３０が、偏向ミラー３０に成形される。そのため、液状光学材料３０には、充填時に液状であり、成形後に固化する材料を用いる。液状光学材料３０としては、例えば、昇温により固化する材料を用いるとよい。昇温により固化する液状光学材料３０の例としては、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。また、充填する液状光学材料３０の量は、偏向ミラー３０の体積に基づいて決定する。
【００２７】
次に、図５（ｂ）に示すように、充填された液状光学材料３０を、一体構造４’と金型２００とによりプレス成形する。液状光学材料３０は、金型２００によるプレス成形により、所望の形状の偏向ミラー３０に成形される。これにより、入射面３０ａと、出射面３０ｂと、反射面３０ｃとが形成される。プレス成形された液状光学材料３０は、金型２００との熱伝導により、冷却することで固化させる。また、このとき、入射面３０ａと光出射面２０ａと接合され、出射面３０ｂと導波路入射面１４ａとが接合される。
【００２８】
液状光学材料３０が固化し偏向ミラー３０が形成されたら、一体構造４’から金型２００を取り外すことで、偏向ミラー３０を金型２００から離型する。以上により、一体構造４’上の所望の位置に偏向ミラー３０が形成される。なお、金型２００を離型した後に、反射面３０ｃに反射膜を成膜してもよい。もしくは、金型側２００でプレス成形する前に金型表面に転写可能な反射膜層を形成し、それを成形時に転写してもよい。
【００２９】
なお、本実施形態では、平面上の反射面３０ｃを有する偏向ミラー３０を形成する方法について説明したが、金型２００を切り替えることで、偏向ミラー３１や偏向ミラー３２を形成することも可能である。
【００３０】
以上のように、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法に依れば、液状光学材料３０を光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に充填し、固化させることで偏向ミラー３０を形成する。そのため、入射面３０ａ及び出射面３０ｂを研磨する必要がなくなり、従来の製造方法よりも簡便に偏向ミラー３０を形成することが可能となる。また、液状光学材料３０を直接充填し固化させるため、入射面３０ａと光出射面２０ａとの間、及び出射面３０ｂと導波路入射面１４ａとの間を、空気の層を排除したうえで接合することが可能となる。これにより、光源部２０からの光を導波路１４へ、従来の製造方法を用いた場合よりも、効率よく導くことが可能となる。
【００３１】
（第２の実施形態）
第２の実施形態では、金型によるプレス成形に替えて、液状光学材料が自重により広がる性質を利用して光アシスト磁気ヘッド４に偏向ミラー３０を形成する。本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法について、図６（ａ）〜図６（ｃ）を参照しながら、偏向ミラー３０を形成する工程に着目して説明する。図６（ａ）〜図６（ｃ）は、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法を説明するための図である。
【００３２】
まず、スライダ１０と、光源部２０と、磁気ヘッド部１３とを組み立てて、これらの一体構造４’を作成する。この工程は第１の実施形態と同様である。一体構造４’を作成したら、図６（ａ）に示すように、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方が略上方を向くように、一体構造４’が水平面に対して角度θ１だけ傾斜させて配置する。これにより、充填された液状光学材料され自重により広がる際に、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａにより、その液状光学材料が光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間に保持される。具体的な制御の一例としては、光出射面２０ａの法線のｚ軸成分、及び導波路入射面１４ａの法線のｚ軸成分の双方がｚ方向の上側を向くように、一体構造４’を傾斜させて配置すればよい。
【００３３】
次に、図６（ｂ）に示すように、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａに光（ＵＶ）Ｅを照射し、双方の面を改質して濡れ性を強くする。この処理により、形成される偏向ミラー３０の反射面３０ｃの曲率を所望の値に調整する。詳細については後述する。
【００３４】
光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質したら、図６（ｃ）に示すように、充填手段１００により、所定量の液状光学材料３０を、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方に接するように、光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に充填する。この充填された液状光学材料３０が、固化することで偏向ミラー３０に成形される。そのため、液状光学材料３０には、充填時に液状であり、成形後に固化する材料を用いる。液状光学材料３０としては、昇温により固化する材料や、ＵＶを照射することで固化する材料を用いる。昇温により固化する液状光学材料の例としては、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。また、ＵＶを照射することで固化する液状光学材料の例としては、同じく、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。
【００３５】
充填された液状光学材料は、固化するまでの間、自重により、光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に広がっていく。つまり、反射面３０ｃの形状は、液状光学材料３０が固化するまでの間の変形により形成される。このとき、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質することで、反射面３０ｃの曲率を調整することが可能である。
【００３６】
例えば、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を強くすると各面の親水性が高くなり、液状光学材料と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとの間の接触角が小さくなる。そのため、液状光学材料は自重により光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａ上に広がりやすくなる。これにより、反射面３０ｃは、曲率が小さく、水平面に対して平行な平面の形状に変形しやすくなる。
【００３７】
また、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を弱くすると各面の撥水性が高くなり、液状光学材料と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとの間の接触角が大きくなる。そのため、液状光学材料は光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａ上に広がりにくくなる。これにより、反射面３０ｃは、曲率の大きい曲面の形状に変形しやすくなる。
【００３８】
光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質する方法としては、ＵＶオゾン洗浄やプラズマ処理などが挙げられる。例えば、濡れ性を強くして各面に対する液状光学材料の接触角を小さくしたい場合は、処理対象の面にＵＶオゾンを照射することで、その面の濡れ性を改質する。例えば、液状光学材料としてエポキシ系ＵＶ硬化型樹脂を用いて作成する場合、ＵＶオゾン照射の処理を３００秒程度施すことで、１０°程度の接触角に調整することが可能である。また、液状光学材料としてエポキシ系ＵＶ硬化型樹脂を用いて、プラズマ処理を５秒未満の範囲で施すことで、１０°程度の接触角に調整することが可能である。また、各面に対する液状光学材料の接触角を大きくしたい場合は、濡れ性を弱くすればよい。このように濡れ性を弱くすることで、例えば、図３（ｂ）に示すような、ｘ方向とｚ方向の双方に所定の曲率を持った反射集光面３１ｃを有する偏向ミラー３１を形成することが可能である。なお、液状光学材料として粘度の高い液状光学材料を使用することで、接触角を大きく調整することも可能である。また、粘度の低い液状光学材料を使用することで、接触角を小さく調整することも可能である。
【００３９】
なお、液状光学材料３０の変形速度は、その液状光学材料３０の粘性により変化する。即ち、粘性の高い液状光学材料３０を使用すれば、自重による変形の速度が緩やかになり、粘性が低くなるほど変形の速度が高くなる。
【００４０】
液状光学材料３０が固化することで、偏向ミラー３０が形成される。なお、液状光学材料３０が固化した後に、反射面３０ｃに反射膜を成膜してもよい。
【００４１】
以上から、図６（ｃ）に示すように、充填された液状光学材料３０の、磁気ヘッド部１３の端面１３ａ（即ち、導波路入射面１４ａを含む面）と光出射面２０ａとを結ぶ面が、液状光学材料３０の粘性及び自重と、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性とにより反射面３０ｃとして成形される。
【００４２】
なお、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性の改質は、液状光学材料３０を充填する以前であれば、そのタイミングは限定されない。例えば、一体構造４’を作成する前に、あらかじめ光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａに処理を施しておいてもよい。
【００４３】
また、液状光学材料３０を充填する際（即ち、図６（ｃ）の工程）に、図７（ａ）〜図７（ｃ）に示すように、規制版３００を用いてよい。図７（ａ）〜図７（ｃ）は、規制版３００を用いた偏向ミラー３０の形成方法の一例を説明するための図である。規制版３００は、凹部を有しており、この凹部と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとで液状光学材料３０を充填する空間を形成する。このとき、規制版３００の凹部により、充填された液状光学材料３０のｘ方向に沿った変形が規制される。規制版３００を用いて偏向ミラー３０を形成する場合の具体的な手順について以下に説明する。なお、図７（ａ）〜図７（ｃ）は、一体構造４’を傾斜させていない状態を示している。
【００４４】
まず、液状光学材料３０を充填する前（即ち、図６（ｃ）の工程を実行する前）に、図７（ａ）に示すように、一体構造４’に規制版３００を設置する。これにより、偏向ミラー３０を形成する位置に、規制版３００の凹部と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとで空間が形成される。
【００４５】
規制版３００を設置したら、規制版３００の凹部と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとで形成された空間に液状光学材料３０を充填する（即ち、図６（ｃ）の工程）。このとき、図７（ｂ）に示すように、充填された液状光学材料３０が固化するまでの間における、液状光学材料３０のｘ方向に沿った変形は、規制版３００の凹部により規制される。
【００４６】
液状光学材料３０が固化し偏向ミラー３０が形成されたら、図７（ｃ）に示すように、一体構造４’から規制版３００を取り外す。
【００４７】
なお、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａと、規制版３００の凹部との濡れ性とを調整することで、偏向ミラー３０のような平面の反射面３０ｃや、偏向ミラー３１、３２のように所望の曲率を持つ反射集光面３１ｃまたは反射円筒面３２ｃを形成することが可能となる。例えば、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａと、規制版３００の凹部との双方の濡れ性を強くすることで、図３（ａ）に示すように、平面の反射面３０ｃを有する偏向ミラー３０を形成可能である。また、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を弱くし、規制版３００の凹部の濡れ性を強くすることで、図３（ｃ）に示すように、ｚ方向に曲率を持った反射円筒面３２ｃを有する偏向ミラー３２を形成可能である。
【００４８】
以上、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法に依れば、金型によるプレス成型を用いずに、第１の実施形態と同様の作用効果を有する偏向ミラー３０を形成することが可能となる。
【００４９】
（第３の実施形態）
第３の実施形態では、液状光学材料が自重により重力方向に変形する性質を利用して、所定の曲率の曲面を持つ偏向ミラー３１を形成する。本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法について、図８（ａ）〜図８（ｃ）を参照しながら、偏向ミラー３１を形成する工程に着目して説明する。図８（ａ）〜図８（ｃ）は、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法を説明するための図である。
【００５０】
まず、スライダ１０と、光源部２０と、磁気ヘッド部１３とを組み立てて、これらの一体構造４’を作成する。この工程は第１の実施形態と同様である。一体構造４’を作成したら、図８（ａ）に示すように、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方が略下方を向くように、一体構造４’が水平面に対して角度θ２だけ傾斜させて配置する。具体的な制御の一例としては、光出射面２０ａの法線のｚ軸成分、及び導波路入射面１４ａの法線のｚ軸成分の双方がｚ方向の下側を向くように、一体構造４’を傾斜させて配置すればよい。
【００５１】
次に、図８（ｂ）に示すように、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａに光（ＵＶ）Ｅを照射し、双方の面を改質して濡れ性を強くする。この処理により、形成される偏向ミラー３０の反射面３０ｃの曲率を所望の値に調整する。詳細については後述する。
【００５２】
光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質したら、図６（ｃ）に示すように、インクジェット等の塗布手段１１０により、所定量の液状光学材料３１を、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方に接するように、光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に塗布する。この塗布された液状光学材料３１が、固化することで偏向ミラー３１に成形される。そのため、液状光学材料３１には、塗布時に液状であり、成形後に固化する材料を用いる。液状光学材料３１としては、昇温により固化する材料や、ＵＶを照射することで固化する材料を用いる。昇温により固化する液状光学材料の例としては、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。また、ＵＶを照射することで固化する液状光学材料の例としては、同じく、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。
【００５３】
塗布された液状光学材料３１は、固化するまでの間、自重により下方に向かって変形する。液状光学材料３１が冷却により固化する場合は、液状光学材料３１の温度調整により、液状光学材料３１の固化時間を調整する。また、液状光学材料３１がＵＶ照射により固化する場合は、ＵＶの照射量を調整することで、液状光学材料３１の固化時間を調整する。
【００５４】
また、液状光学材料３１の変形速度は、その液状光学材料３１の粘性により変化する。即ち、粘性の高い液状光学材料３１を使用すれば、自重による変形の速度が緩やかになり、粘性が低くなるほど変形の速度が高くなる。
【００５５】
また、反射集光面３１ｃの曲率は、液状光学材料と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質することで調整することが可能である。第２の実施形態でも説明したとおり、濡れ性を弱くすると、液状光学材料と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとの間の接触角が大きくなる。そのため、液状光学材料を塗布したとき、反射集光面３１ｃの曲率は大きくなり、曲面を形成しやすくなる。
【００５６】
即ち、液状光学材料３１の固化時間と、液状光学材料３１の粘性とに基づき、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を調整することで、所望の曲率の反射集光面３１ｃを有する偏向ミラー３１を形成することが可能である。
【００５７】
なお、第２の実施形態と同様に、規制版３００を用いてもよい。規制版３００を用いることで、例えば、反射円筒面３２ｃを有する偏向ミラー３２を形成可能である。具体的には、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を弱くし、規制版３００の凹部の濡れ性を強くしたうえで、液状光学材料３１の固化時間を調整すればよい。
【００５８】
以上から、図８（ｃ）に示すように、充填された液状光学材料３１の、磁気ヘッド部１３の端面１３ａ（即ち、導波路入射面１４ａを含む面）と光出射面２０ａとを結ぶ面が、液状光学材料３１の粘性及び自重と、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性とにより反射面３１ｃとして成形される。
【００５９】
以上、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法に依れば、金型によるプレス成型を用いずに、第１の実施形態と同様の作用効果を有する偏向ミラー３１を形成することが可能となる。
【００６０】
なお、反射面３０ｃが磁気ヘッド部１３の端面１３ａと光出射面２０ａとを結び、かつ、光源部２０からの光を導波路１４に導ければ、スライダ１０と、光源部２０と、磁気ヘッド部１３との位置関係は限定されない。例えば、図９は、本発明に係る光アシスト磁気ヘッド４の、偏向ミラー３０周辺の構成の一例を示した概略断面図である。図９に示すように、端面１０ｃと光出射面２０ａとは、同一平面上に形成される必要はない。同様に、上面１０ａと端面１３ａ（即ち、導波路入射面１４ａ）とは、同一平面上に形成される必要はない。これらは、偏向ミラー３１、３２についても同様である。
【００６１】
以上、本発明に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法に依れば、偏向ミラー３０を形成する際に、入射面３０ａ及び出射面３０ｂを研磨する必要がなくなり、従来の製造方法よりも簡便に偏向ミラー３０を形成することが可能となる。また、液状光学材料３０を直接充填し固化させるため、入射面３０ａと光出射面２０ａとの間、及び出射面３０ｂと導波路入射面１４ａとの間を、空気の層を排除したうえで接合することが可能となる。これにより、光源部２０からの光を導波路１４へ、従来の製造方法を用いた場合よりも、効率よく導くことが可能となる。これは、偏向ミラー３１及び３２についても同様である。
【符号の説明】
【００６２】
１ 情報記録装置
２ 筐体
３ ディスク
４ 光アシスト磁気ヘッド
４’ 一体構造
５ ヘッド支持部
６ 支軸
７ トラッキング用アクチュエータ
１０ スライダ
１０ａ 上面
１０ｂ 下面
１０ｃ 端面
１３ 磁気ヘッド部
１３ａ 端面
１３ｂ 端面
１４ 導波路
１４ａ 導波路入射面
１４ｂ 導波路出射面
１５ プラズモンプローブ
２０ 光源部
２０ａ 光出射面
３０ 偏向ミラー
３０ａ 入射面
３０ｂ 出射面
３０ｃ 反射面
３１ 偏向ミラー
３１ａ 入射面
３１ｂ 出射面
３１ｃ 反射集光面
３２ 偏向ミラー
３２ａ 入射面
３２ｂ 出射面
３２ｃ 反射円筒面
１００ 充填手段
１１０ 塗布手段
２００ 金型
３００ 規制版
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光アシスト磁気ヘッドの技術に関し、特に、光源からの光を内面反射ミラーにより偏向させて光導波路に導く構成を備えた光アシスト磁気ヘッドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク装置（ＨＤＤ：Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）に用いられる磁気記録方式は、記録密度を高くしようとすると磁気ビットの間隔が狭くなり、超常磁性効果等により極性が不安定になる。このため、高い保磁力を有する記録媒体が必要になるが、そのような記録媒体を使用すると記録時に必要な磁場も大きくなる。然るに、記録ヘッドによって発生する磁場は飽和磁束密度によって上限が決まるが、その値は材料限界に近付いており飛躍的な増大が望めないという実情がある。そこで、記録時に局所的に加熱して磁気軟化を生じさせて、保磁力が小さくなった状態で記録し、その後、加熱を止めて自然冷却することにより、記録された磁気ビットの安定性を保証する記録方式が提案されている。この記録方式は熱アシスト磁気記録方式と呼ばれている。
【０００３】
熱アシスト磁気記録方式では、記録媒体の加熱が瞬間的に行われることが望ましい。また、加熱する機構と、高速で回転する記録媒体とが接触することは許されない。そのため、加熱はレーザー光の微少スポットを記録媒体に照射して行われることが一般的であり、よって加熱に光を用いるこの方式は光アシスト磁気記録方式と呼ばれている。光アシスト磁気記録方式で超高密度記録を行う場合には、必要なスポット径は２０ｎｍ程度になるが、通常の光学系では回折限界があるため、光をそこまで集光することはできない。そのため、入射光波長以下のサイズの光学的開口から発生する近接場光（「近視野光」と称する場合がある）を利用した光アシスト磁気ヘッドが使用される場合がある。
【０００４】
光アシスト磁気ヘッドの例が特許文献１に開示されている。特許文献１に記載の光アシスト磁気ヘッドでは、反射面が形成されたプリズム部を用いることで、半導体レーザー（ＬＤ：Ｌａｓｅｒ Ｄｉｏｄｅ）から出射した光を９０°偏向させて、導波路に照射している。このようなプリズム部を用いることにより、ＬＤをスライダに横置きすることが可能となり、ヘッドの薄型化が可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−３３５０２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１のプリズム部のような内面反射型ミラーは、ＬＤからの光が入射する入射面、入射した光を出射する出射面、及び、入射面から入射した光を出射面にむけて反射させる反射面を有する。このような内面反射型ミラーを作成する場合には、従来は、あらかじめ作成された内面反射型ミラーを光アシスト磁気ヘッドに取り付けていた。この製造方法を適用する場合においては、光アシスト磁気ヘッドに取り付ける前に、入射面、出射面、及び反射面を研磨する必要がある。また、ＬＤから出射された光が、内面反射型ミラーの入射面でＬＤ側に反射するのを防止するために、内面反射型ミラーの入射面に反射防止のためのコーティングを行う必要があった。
【０００７】
本発明は、光アシスト磁気ヘッドに内面反射型ミラーを、より簡便に形成することが可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、一の面と、前記一の面の所定の方向の一端に端面とを備えた基板と、前記一の面に固定された底面と、前記底面の一端から立ち上がる光出射面とを備え、光出射面から前記所定の方向に光を出射する光源と、前記基板の端面に設けられ、前記光源側を向いた導波路入射面を備え、前記導波路入射面から入射した光を、前記端面に沿って、前記端面の前記一の面側とは反対側の方向に導く導波路と、を一体構造として形成する組立工程と、液状光学材料を、前記光出射面及び前記導波路入射面の双方に接触するように、前記光出射面と前記導波路入射面との間の空間に充填し、前記光出射面から当該液状光学材料に入射した光を前記導波路入射面に向けて反射する反射面を形成する反射面形成工程と、を備えたことを特徴とする光アシスト磁気ヘッドの製造方法である。
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面形成工程は、前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、前記空間に充填された前記液状光学材料を、前記反射面を形成するための金型で押圧する成形工程と、充填された前記液状光学材料を固化させる固化工程と、を備えることを特徴とする。
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記金型は、前記光出射面からの光が前記反射面により前記導波路入射面に集光されるような所定の曲率を有する曲面を備えていることを特徴とする。
また、請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面形成工程は、前記光出射面及び前記導波路入射面の双方が、略上方を向くように、前記一体構造を所定の角度だけ傾斜させて配置する位置決め工程と、前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、充填された前記液状光学材料を固化させる固化工程と、を備え、前記導波路入射面を含む面と前記光出射面とを結ぶ当該液状光学材料の面が、前記液状光学材料の自重により、前記反射面として成形されることを特徴とする。
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面が、水平面に対して略平行な平面となるように、前記所定の角度が決定されていることを特徴とする。
また、請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面が、一の面に形成されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする。
また、請求項７に記載の発明は、請求項４に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面が、前記光出射面からの光が前記導波路入射面に向けて集光されるような所定の曲率を有する曲面に成形されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする。
また、請求項８に記載の発明は、請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前記反射面形成工程は、前記光出射面及び前記導波路入射面の双方が、略下方を向くように、前記一体構造を所定の角度だけ傾斜させて配置する位置決め工程と、前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、前記液状光学材料を固化させる固化工程と、を備え、前記導波路入射面を含む面と前記光出射面とを結ぶ当該液状光学材料の面が、前記液状光学材料の自重により、所定の曲率を有する前記反射面として成形されることを特徴とする。
また、請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法であって、前前記反射面が、前記所定の曲率を有する曲面に成形されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によると、液状光学材料を光出射面と導波路入射面との間の空間に充填することで反射面を形成する。そのため、液状光学材料の光出射面に接する面と、前記導波路入射面に接する面とを研磨する必要がなくなり、従来の製造方法よりも簡便に反射面を形成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】情報記録装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】光アシスト磁気ヘッドの一例を示した概略断面図である。
【図３】内面反射型ミラーの一例を示した斜視図である。
【図４】光アシスト磁気ヘッドの一例を示した概略断面図である。
【図５】第１の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。
【図６】第２の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。
【図７】第２の実施形態に係る偏向ミラーの形成方法の一例を示した図である。
【図８】第３の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。
【図９】偏向ミラー周辺の構成の一例を示した概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（情報記録装置の概略構成）
図１に、光アシスト式磁気記録ヘッドを搭載した光アシスト式磁気記録装置（例えばハードディスク装置、以下「情報記録装置」ともいう）の概略構成を示す。情報記録装置１は、例えば記録用の複数枚の回転可能なディスク（磁気記録媒体）３と、ヘッド支持部５と、トラッキング用アクチュエータ７と、光アシスト磁気ヘッド４と、図示しない駆動装置と、を筐体２内に備えている。なお、ディスク３は１枚であってもよい。ヘッド支持部５は、支軸６を支点として矢印Ａの方向（トラッキング方向）に回動可能に設けられている。トラッキング用アクチュエータ７は、ヘッド支持部５に取り付けられている。光アシスト磁気ヘッド４は、ヘッド支持部５の先端に取り付けられている。図示しない駆動装置は、ディスク３を矢印Ｂの方向に回転させる。情報記録装置１は、光アシスト磁気ヘッド４がディスク３の上で浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている。
【００１２】
（光アシスト磁気ヘッド４）
図２に、光アシスト磁気ヘッド４の概略構成例を断面図で示す。光アシスト磁気ヘッド４は、ディスク３に対する情報記録に光を利用する微小光記録ヘッドである。光アシスト磁気ヘッド４は、光源部２０と、スライダ１０と、偏向ミラー３０とを有する。情報記録装置１は、光アシスト磁気ヘッド４がディスク３上で浮上しながら矢印Ｃ方向に相対的に移動しうるように構成されている。なお、図２では、光アシスト磁気ヘッドがスライドする矢印Ｃ方向をｙ方向、光アシスト磁気ヘッド４の厚み方向をｚ方向、ｙ方向及びｚ方向の双方に直交する方向をｘ方向としている。
【００１３】
スライダ１０は、板状の形状をしており、ディスク３と対向する下面１０ｂと、下面１０ｂのｚ方向の反対側に位置する上面１０ａとを有する。また、スライダ１０は、ｙ方向の端部に端面１０ｃを有する。なお、スライダ１０が「基板」に相当する。また、上面１０ａが「一の面」に相当し、端面１０ｃが、「一の面の所定の方向の一端に設けられた端面」に相当する。
【００１４】
光源部２０は半導体レーザー（以下、単に「ＬＤ」と称する）を有する。光源部２０を構成しているＬＤから出射される光の波長は、可視光から近赤外の波長（波長帯としては、０．６μｍ〜２μｍ程度であり、具体的な波長としては、６５０ｎｍ、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ、１３１０ｎｍ、１５５０ｎｍなどが挙げられる）などがある。光源部２０は、光出射面２０ａと、底面２０ｂとを有している。光源部２０は、スライダ１０の上面１０ａに配置されている。このとき、底面２０ｂと上面１０ａとが対向する。光源部２０は、光出射面２０ａから偏向ミラー３０の入射面３０ａに向けて光を出射する。光源部２０から出射された光は、偏向ミラー３０の入射面３０ａに到達する。
【００１５】
偏向ミラー３０は、光源部２０からの光を偏向させて導波路１４の導波路入射面１４ａに導く内面反射型のミラーである。図３（ａ）は、偏向ミラー３０の一例を示した斜視図である。図３（ａ）に示すように、偏向ミラー３０は、入射面３０ａと、出射面３０ｂと、平面状の反射面３０ｃとを有する。反射面３０ｃには、真空蒸着やスパッタリング等により反射膜を成膜してもよい。また、反射面３０ｃは、入射面３０ａから入射した光が、反射面３０ｃで内面反射することで、出射面３０ｂに導かれるように傾斜して形成されている。
【００１６】
ここで図２を参照する。図２に示すように、入射面３０ａは、光源部２０の光出射面２０ａと接合されている。また出射面３０ｂは、スライダ１０の磁気ヘッド部１３に設けられた導波路１４の導波路入射面１４ａと接合されている。偏向ミラー３０は、入射面３０ａから入射した光を、反射面３０ｃで反射し、出射面３０ｂから出射する。これにより、光源部２０から出射された光（以降では「出射光」と呼ぶ場合がある）は、偏向されて導波路１４の導波路入射面１４ａに導かれる。図２の例では、光源部２０からの光は、反射面３０ｃにより９０°偏向されて、導波路入射面１４ａに導かれている。
【００１７】
なお、図４に示すように、偏向ミラー３０に替えて、反射面が、所定の曲率を持つ曲面として形成された偏向ミラー３１を用いてもよい。
【００１８】
図３（ｂ）は、偏向ミラー３１の一例を示している。図３（ｂ）に示すように、偏向ミラー３１は、入射面３１ａと、出射面３１ｂと、反射集光面３１ｃとを有する。反射集光面３１ｃは、ｘ方向とｚ方向の双方に所定の曲率を持った非球面状又は球面状として形成されている。これにより、光源部２０から出射された光は、ｘ方向及びｚ方向の双方の成分が集光されて導波路入射面１４ａに導かれる。なお、反射集光面３１ｃには、真空蒸着やスパッタリング等により反射膜を成膜してもよい。
【００１９】
また、偏向ミラー３１に替えて、図３（ｃ）に示す偏向ミラー３２を用いてもよい。偏向ミラー３２は、入射面３２ａと、出射面３２ｂと、反射円筒面３２ｃとを有する。反射円筒面３２ｃは、ｚ方向に曲率を持った円筒状として形成されている。これにより、光源部２０から出射された光は、ｚ方向の成分が集光されて導波路入射面１４ａに導かれる。なお、反射円筒面３２ｃには、真空蒸着やスパッタリング等により反射膜を成膜してもよい。
【００２０】
スライダ１０は、端面１０ｃに磁気ヘッド部１３を有する。磁気ヘッド部１３は、ｙ方向に所定の厚みを有して形成されており、端面１０ｃの上面１０ａ側の端部近傍に、端面１０ｃからｙ方向に立ち上がる端面１３ａと、端面１３ａとはｚ方向の反対側に形成された端面１３ｂとを有している。磁気ヘッド部１３は、導波路１４と、図示しない磁気記録部と、図示しない磁気情報再生部とを有する。
【００２１】
導波路１４は、偏向ミラー３０によって導かれた光を導光してディスク３に向けて射出する。導波路１４は、図示しないが、下部クラッド層、コア層、上部クラッド層を、光が伝播する方向とは直交する厚み方向に沿って、この順番に積層させたものである。コア層は、各クラッド層（例えば、ＳｉＯ２で形成）よりも屈折率の高い素材（例えば、Ｔａ２Ｏ５）で形成されている。これにより、導波路１４に導かれた光は、コア層と、各クラッド層との間で全反射する。なお、下部クラッド層が「第１のクラッド層」に相当し、上部クラッド層が「第２のクラッド層」に相当する。
【００２２】
図２に示すように、導波路１４は、磁気ヘッド部１３の端面１３ａに導波路入射面１４ａを有し、端面１３ａとは反対側の端面１３ｂ（ディスク３に対向する面）に導波路出射面１４ｂを有する。導波路１４の導波路出射面１４ｂには、近接場光発生素子としてのプラズモンプローブ１５が設けられている。偏向ミラー３０によって偏向させられた光は、導波路入射面１４ａから導波路１４に入射し、導波路出射面１４ｂに向かって導波路１４内を進む。導波路出射面１４ｂに設けられているプラズモンプローブ１５は、偏向ミラー３０によって導かれた光を近接場光に変換してディスク３に向けて射出する。また、図示しない磁気記録部は、ディスク３の被記録部分に対して磁気情報の書き込みを行う。図示しない磁気情報再生部は、ディスク３に記録されている磁気情報の読み取りを行う。
【００２３】
次に、光アシスト磁気ヘッド４の製造方法について、特に、偏向ミラー３０（または、偏向ミラー３１、３２）を形成する工程に着目して、第１の実施形態〜第３の実施形態として以下に説明する。
【００２４】
（第１の実施形態）
第１の実施形態では、金型によるプレス成形により光アシスト磁気ヘッド４に偏向ミラー３０を形成する。本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法について、図５（ａ）〜図５（ｃ）を参照しながら、偏向ミラー３０を形成する工程に着目して説明する。図５（ａ）〜図５（ｃ）は、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法を説明するための図である。
【００２５】
まず、図５（ａ）に示すように、スライダ１０と、光源部２０と、磁気ヘッド部１３とを組み立てて、これらの一体構造４’を作成する。磁気ヘッド部１３は、スライダ１０と一体に形成してもよいし、別体に構成されたものをスライダ１０に取り付けてもよい。
【００２６】
一体構造４’を作成したら、充填手段１００により、所定量の液状光学材料３０を、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方に接するように、光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に充填する。この充填された液状光学材料３０が、偏向ミラー３０に成形される。そのため、液状光学材料３０には、充填時に液状であり、成形後に固化する材料を用いる。液状光学材料３０としては、例えば、昇温により固化する材料を用いるとよい。昇温により固化する液状光学材料３０の例としては、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。また、充填する液状光学材料３０の量は、偏向ミラー３０の体積に基づいて決定する。
【００２７】
次に、図５（ｂ）に示すように、充填された液状光学材料３０を、一体構造４’と金型２００とによりプレス成形する。液状光学材料３０は、金型２００によるプレス成形により、所望の形状の偏向ミラー３０に成形される。これにより、入射面３０ａと、出射面３０ｂと、反射面３０ｃとが形成される。プレス成形された液状光学材料３０は、金型２００との熱伝導により、冷却することで固化させる。また、このとき、入射面３０ａと光出射面２０ａと接合され、出射面３０ｂと導波路入射面１４ａとが接合される。
【００２８】
液状光学材料３０が固化し偏向ミラー３０が形成されたら、一体構造４’から金型２００を取り外すことで、偏向ミラー３０を金型２００から離型する。以上により、一体構造４’上の所望の位置に偏向ミラー３０が形成される。なお、金型２００を離型した後に、反射面３０ｃに反射膜を成膜してもよい。もしくは、金型側２００でプレス成形する前に金型表面に転写可能な反射膜層を形成し、それを成形時に転写してもよい。
【００２９】
なお、本実施形態では、平面上の反射面３０ｃを有する偏向ミラー３０を形成する方法について説明したが、金型２００を切り替えることで、偏向ミラー３１や偏向ミラー３２を形成することも可能である。
【００３０】
以上のように、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法に依れば、液状光学材料３０を光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に充填し、固化させることで偏向ミラー３０を形成する。そのため、入射面３０ａ及び出射面３０ｂを研磨する必要がなくなり、従来の製造方法よりも簡便に偏向ミラー３０を形成することが可能となる。また、液状光学材料３０を直接充填し固化させるため、入射面３０ａと光出射面２０ａとの間、及び出射面３０ｂと導波路入射面１４ａとの間を、空気の層を排除したうえで接合することが可能となる。これにより、光源部２０からの光を導波路１４へ、従来の製造方法を用いた場合よりも、効率よく導くことが可能となる。
【００３１】
（第２の実施形態）
第２の実施形態では、金型によるプレス成形に替えて、液状光学材料が自重により広がる性質を利用して光アシスト磁気ヘッド４に偏向ミラー３０を形成する。本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法について、図６（ａ）〜図６（ｃ）を参照しながら、偏向ミラー３０を形成する工程に着目して説明する。図６（ａ）〜図６（ｃ）は、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法を説明するための図である。
【００３２】
まず、スライダ１０と、光源部２０と、磁気ヘッド部１３とを組み立てて、これらの一体構造４’を作成する。この工程は第１の実施形態と同様である。一体構造４’を作成したら、図６（ａ）に示すように、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方が略上方を向くように、一体構造４’が水平面に対して角度θ１だけ傾斜させて配置する。これにより、充填された液状光学材料され自重により広がる際に、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａにより、その液状光学材料が光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間に保持される。具体的な制御の一例としては、光出射面２０ａの法線のｚ軸成分、及び導波路入射面１４ａの法線のｚ軸成分の双方がｚ方向の上側を向くように、一体構造４’を傾斜させて配置すればよい。
【００３３】
次に、図６（ｂ）に示すように、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａに光（ＵＶ）Ｅを照射し、双方の面を改質して濡れ性を強くする。この処理により、形成される偏向ミラー３０の反射面３０ｃの曲率を所望の値に調整する。詳細については後述する。
【００３４】
光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質したら、図６（ｃ）に示すように、充填手段１００により、所定量の液状光学材料３０を、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方に接するように、光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に充填する。この充填された液状光学材料３０が、固化することで偏向ミラー３０に成形される。そのため、液状光学材料３０には、充填時に液状であり、成形後に固化する材料を用いる。液状光学材料３０としては、昇温により固化する材料や、ＵＶを照射することで固化する材料を用いる。昇温により固化する液状光学材料の例としては、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。また、ＵＶを照射することで固化する液状光学材料の例としては、同じく、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。
【００３５】
充填された液状光学材料は、固化するまでの間、自重により、光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に広がっていく。つまり、反射面３０ｃの形状は、液状光学材料３０が固化するまでの間の変形により形成される。このとき、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質することで、反射面３０ｃの曲率を調整することが可能である。
【００３６】
例えば、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を強くすると各面の親水性が高くなり、液状光学材料と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとの間の接触角が小さくなる。そのため、液状光学材料は自重により光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａ上に広がりやすくなる。これにより、反射面３０ｃは、曲率が小さく、水平面に対して平行な平面の形状に変形しやすくなる。
【００３７】
また、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を弱くすると各面の撥水性が高くなり、液状光学材料と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとの間の接触角が大きくなる。そのため、液状光学材料は光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａ上に広がりにくくなる。これにより、反射面３０ｃは、曲率の大きい曲面の形状に変形しやすくなる。
【００３８】
光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質する方法としては、ＵＶオゾン洗浄やプラズマ処理などが挙げられる。例えば、濡れ性を強くして各面に対する液状光学材料の接触角を小さくしたい場合は、処理対象の面にＵＶオゾンを照射することで、その面の濡れ性を改質する。例えば、液状光学材料としてエポキシ系ＵＶ硬化型樹脂を用いて作成する場合、ＵＶオゾン照射の処理を３００秒程度施すことで、１０°程度の接触角に調整することが可能である。また、液状光学材料としてエポキシ系ＵＶ硬化型樹脂を用いて、プラズマ処理を５秒未満の範囲で施すことで、１０°程度の接触角に調整することが可能である。また、各面に対する液状光学材料の接触角を大きくしたい場合は、濡れ性を弱くすればよい。このように濡れ性を弱くすることで、例えば、図３（ｂ）に示すような、ｘ方向とｚ方向の双方に所定の曲率を持った反射集光面３１ｃを有する偏向ミラー３１を形成することが可能である。なお、液状光学材料として粘度の高い液状光学材料を使用することで、接触角を大きく調整することも可能である。また、粘度の低い液状光学材料を使用することで、接触角を小さく調整することも可能である。
【００３９】
なお、液状光学材料３０の変形速度は、その液状光学材料３０の粘性により変化する。即ち、粘性の高い液状光学材料３０を使用すれば、自重による変形の速度が緩やかになり、粘性が低くなるほど変形の速度が高くなる。
【００４０】
液状光学材料３０が固化することで、偏向ミラー３０が形成される。なお、液状光学材料３０が固化した後に、反射面３０ｃに反射膜を成膜してもよい。
【００４１】
以上から、図６（ｃ）に示すように、充填された液状光学材料３０の、磁気ヘッド部１３の端面１３ａ（即ち、導波路入射面１４ａを含む面）と光出射面２０ａとを結ぶ面が、液状光学材料３０の粘性及び自重と、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性とにより反射面３０ｃとして成形される。
【００４２】
なお、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性の改質は、液状光学材料３０を充填する以前であれば、そのタイミングは限定されない。例えば、一体構造４’を作成する前に、あらかじめ光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａに処理を施しておいてもよい。
【００４３】
また、液状光学材料３０を充填する際（即ち、図６（ｃ）の工程）に、図７（ａ）〜図７（ｃ）に示すように、規制版３００を用いてよい。図７（ａ）〜図７（ｃ）は、規制版３００を用いた偏向ミラー３０の形成方法の一例を説明するための図である。規制版３００は、凹部を有しており、この凹部と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとで液状光学材料３０を充填する空間を形成する。このとき、規制版３００の凹部により、充填された液状光学材料３０のｘ方向に沿った変形が規制される。規制版３００を用いて偏向ミラー３０を形成する場合の具体的な手順について以下に説明する。なお、図７（ａ）〜図７（ｃ）は、一体構造４’を傾斜させていない状態を示している。
【００４４】
まず、液状光学材料３０を充填する前（即ち、図６（ｃ）の工程を実行する前）に、図７（ａ）に示すように、一体構造４’に規制版３００を設置する。これにより、偏向ミラー３０を形成する位置に、規制版３００の凹部と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとで空間が形成される。
【００４５】
規制版３００を設置したら、規制版３００の凹部と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとで形成された空間に液状光学材料３０を充填する（即ち、図６（ｃ）の工程）。このとき、図７（ｂ）に示すように、充填された液状光学材料３０が固化するまでの間における、液状光学材料３０のｘ方向に沿った変形は、規制版３００の凹部により規制される。
【００４６】
液状光学材料３０が固化し偏向ミラー３０が形成されたら、図７（ｃ）に示すように、一体構造４’から規制版３００を取り外す。
【００４７】
なお、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａと、規制版３００の凹部との濡れ性とを調整することで、偏向ミラー３０のような平面の反射面３０ｃや、偏向ミラー３１、３２のように所望の曲率を持つ反射集光面３１ｃまたは反射円筒面３２ｃを形成することが可能となる。例えば、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａと、規制版３００の凹部との双方の濡れ性を強くすることで、図３（ａ）に示すように、平面の反射面３０ｃを有する偏向ミラー３０を形成可能である。また、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を弱くし、規制版３００の凹部の濡れ性を強くすることで、図３（ｃ）に示すように、ｚ方向に曲率を持った反射円筒面３２ｃを有する偏向ミラー３２を形成可能である。
【００４８】
以上、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法に依れば、金型によるプレス成型を用いずに、第１の実施形態と同様の作用効果を有する偏向ミラー３０を形成することが可能となる。
【００４９】
（第３の実施形態）
第３の実施形態では、液状光学材料が自重により重力方向に変形する性質を利用して、所定の曲率の曲面を持つ偏向ミラー３１を形成する。本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法について、図８（ａ）〜図８（ｃ）を参照しながら、偏向ミラー３１を形成する工程に着目して説明する。図８（ａ）〜図８（ｃ）は、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法を説明するための図である。
【００５０】
まず、スライダ１０と、光源部２０と、磁気ヘッド部１３とを組み立てて、これらの一体構造４’を作成する。この工程は第１の実施形態と同様である。一体構造４’を作成したら、図８（ａ）に示すように、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方が略下方を向くように、一体構造４’が水平面に対して角度θ２だけ傾斜させて配置する。具体的な制御の一例としては、光出射面２０ａの法線のｚ軸成分、及び導波路入射面１４ａの法線のｚ軸成分の双方がｚ方向の下側を向くように、一体構造４’を傾斜させて配置すればよい。
【００５１】
次に、図８（ｂ）に示すように、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａに光（ＵＶ）Ｅを照射し、双方の面を改質して濡れ性を強くする。この処理により、形成される偏向ミラー３０の反射面３０ｃの曲率を所望の値に調整する。詳細については後述する。
【００５２】
光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質したら、図６（ｃ）に示すように、インクジェット等の塗布手段１１０により、所定量の液状光学材料３１を、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの双方に接するように、光出射面２０ａと導波路入射面１４ａとの間の空間に塗布する。この塗布された液状光学材料３１が、固化することで偏向ミラー３１に成形される。そのため、液状光学材料３１には、塗布時に液状であり、成形後に固化する材料を用いる。液状光学材料３１としては、昇温により固化する材料や、ＵＶを照射することで固化する材料を用いる。昇温により固化する液状光学材料の例としては、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。また、ＵＶを照射することで固化する液状光学材料の例としては、同じく、アクリル系樹脂、またはエポキシ系樹脂などが挙げられる。
【００５３】
塗布された液状光学材料３１は、固化するまでの間、自重により下方に向かって変形する。液状光学材料３１が冷却により固化する場合は、液状光学材料３１の温度調整により、液状光学材料３１の固化時間を調整する。また、液状光学材料３１がＵＶ照射により固化する場合は、ＵＶの照射量を調整することで、液状光学材料３１の固化時間を調整する。
【００５４】
また、液状光学材料３１の変形速度は、その液状光学材料３１の粘性により変化する。即ち、粘性の高い液状光学材料３１を使用すれば、自重による変形の速度が緩やかになり、粘性が低くなるほど変形の速度が高くなる。
【００５５】
また、反射集光面３１ｃの曲率は、液状光学材料と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を改質することで調整することが可能である。第２の実施形態でも説明したとおり、濡れ性を弱くすると、液状光学材料と光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａとの間の接触角が大きくなる。そのため、液状光学材料を塗布したとき、反射集光面３１ｃの曲率は大きくなり、曲面を形成しやすくなる。
【００５６】
即ち、液状光学材料３１の固化時間と、液状光学材料３１の粘性とに基づき、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を調整することで、所望の曲率の反射集光面３１ｃを有する偏向ミラー３１を形成することが可能である。
【００５７】
なお、第２の実施形態と同様に、規制版３００を用いてもよい。規制版３００を用いることで、例えば、反射円筒面３２ｃを有する偏向ミラー３２を形成可能である。具体的には、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性を弱くし、規制版３００の凹部の濡れ性を強くしたうえで、液状光学材料３１の固化時間を調整すればよい。
【００５８】
以上から、図８（ｃ）に示すように、充填された液状光学材料３１の、磁気ヘッド部１３の端面１３ａ（即ち、導波路入射面１４ａを含む面）と光出射面２０ａとを結ぶ面が、液状光学材料３１の粘性及び自重と、光出射面２０ａ及び導波路入射面１４ａの濡れ性とにより反射面３１ｃとして成形される。
【００５９】
以上、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法に依れば、金型によるプレス成型を用いずに、第１の実施形態と同様の作用効果を有する偏向ミラー３１を形成することが可能となる。
【００６０】
なお、反射面３０ｃが磁気ヘッド部１３の端面１３ａと光出射面２０ａとを結び、かつ、光源部２０からの光を導波路１４に導ければ、スライダ１０と、光源部２０と、磁気ヘッド部１３との位置関係は限定されない。例えば、図９は、本発明に係る光アシスト磁気ヘッド４の、偏向ミラー３０周辺の構成の一例を示した概略断面図である。図９に示すように、端面１０ｃと光出射面２０ａとは、同一平面上に形成される必要はない。同様に、上面１０ａと端面１３ａ（即ち、導波路入射面１４ａ）とは、同一平面上に形成される必要はない。これらは、偏向ミラー３１、３２についても同様である。
【００６１】
以上、本発明に係る光アシスト磁気ヘッド４の製造方法に依れば、偏向ミラー３０を形成する際に、入射面３０ａ及び出射面３０ｂを研磨する必要がなくなり、従来の製造方法よりも簡便に偏向ミラー３０を形成することが可能となる。また、液状光学材料３０を直接充填し固化させるため、入射面３０ａと光出射面２０ａとの間、及び出射面３０ｂと導波路入射面１４ａとの間を、空気の層を排除したうえで接合することが可能となる。これにより、光源部２０からの光を導波路１４へ、従来の製造方法を用いた場合よりも、効率よく導くことが可能となる。これは、偏向ミラー３１及び３２についても同様である。
【符号の説明】
【００６２】
１ 情報記録装置
２ 筐体
３ ディスク
４ 光アシスト磁気ヘッド
４’ 一体構造
５ ヘッド支持部
６ 支軸
７ トラッキング用アクチュエータ
１０ スライダ
１０ａ 上面
１０ｂ 下面
１０ｃ 端面
１３ 磁気ヘッド部
１３ａ 端面
１３ｂ 端面
１４ 導波路
１４ａ 導波路入射面
１４ｂ 導波路出射面
１５ プラズモンプローブ
２０ 光源部
２０ａ 光出射面
３０ 偏向ミラー
３０ａ 入射面
３０ｂ 出射面
３０ｃ 反射面
３１ 偏向ミラー
３１ａ 入射面
３１ｂ 出射面
３１ｃ 反射集光面
３２ 偏向ミラー
３２ａ 入射面
３２ｂ 出射面
３２ｃ 反射円筒面
１００ 充填手段
１１０ 塗布手段
２００ 金型
３００ 規制版
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一の面と、前記一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備えた基板と、
前記一の面に固定された底面と、前記底面の一端から立ち上がる光出射面とを備え、光出射面から前記所定の方向に光を出射する光源と、
前記基板の端面に設けられ、前記光源側を向いた導波路入射面を備え、前記導波路入射面から入射した光を、前記端面に沿って、前記端面の前記一の面側とは反対側の方向に導く導波路と、
を一体構造として形成する組立工程と、
液状光学材料を、前記光出射面及び前記導波路入射面の双方に接触するように、前記光出射面と前記導波路入射面との間の空間に充填し、前記光出射面から当該液状光学材料に入射した光を前記導波路入射面に向けて反射する反射面を形成する反射面形成工程と、
を備えたことを特徴とする光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記反射面形成工程は、
前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、
前記空間に充填された前記液状光学材料を、前記反射面を形成するための金型で押圧する成形工程と、
充填された前記液状光学材料を固化させる固化工程と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記金型は、前記光出射面からの光が前記反射面により前記導波路入射面に集光されるような所定の曲率を有する曲面を備えていることを特徴とする請求項２に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記反射面形成工程は、
前記光出射面及び前記導波路入射面の双方が、略上方を向くように、前記一体構造を所定の角度だけ傾斜させて配置する位置決め工程と、
前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、
充填された前記液状光学材料を固化させる固化工程と、
を備え、
前記導波路入射面を含む面と前記光出射面とを結ぶ当該液状光学材料の面が、前記液状光学材料の自重により、前記反射面として成形されることを特徴とする請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記反射面が、水平面に対して略平行な平面となるように、前記所定の角度が決定されていることを特徴とする請求項４に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記反射面が、一の面に形成されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする請求項５に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記反射面が、前記光出射面からの光が前記導波路入射面に向けて集光されるような所定の曲率を有する曲面に成形されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする請求項４に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記反射面形成工程は、
前記光出射面及び前記導波路入射面の双方が、略下方を向くように、前記一体構造を所定の角度だけ傾斜させて配置する位置決め工程と、
前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、
前記液状光学材料を固化させる固化工程と、
を備え、
前記導波路入射面を含む面と前記光出射面とを結ぶ当該液状光学材料の面が、前記液状光学材料の自重により、所定の曲率を有する前記反射面として成形されることを特徴とする請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記反射面が、前記所定の曲率を有する曲面に成形されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする請求項８に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１】
一の面と、前記一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備えた基板と、
前記一の面に固定された底面と、前記底面の一端から立ち上がる光出射面とを備え、光出射面から前記所定の方向に光を出射する光源と、
前記基板の端面に設けられ、前記光源側を向いた導波路入射面を備え、前記導波路入射面から入射した光を、前記端面に沿って、前記端面の前記一の面側とは反対側の方向に導く導波路と、
を一体構造として形成する組立工程と、
液状光学材料を、前記光出射面及び前記導波路入射面の双方に接触するように、前記光出射面と前記導波路入射面との間の空間に充填し、前記光出射面から当該液状光学材料に入射した光を前記導波路入射面に向けて反射する反射面を形成する反射面形成工程と、
を備えたことを特徴とする光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記反射面形成工程は、
前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、
前記空間に充填された前記液状光学材料を、前記反射面を形成するための金型で押圧する成形工程と、
充填された前記液状光学材料を固化させる固化工程と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記金型は、前記光出射面からの光が前記反射面により前記導波路入射面に集光されるような所定の曲率を有する曲面を備えていることを特徴とする請求項２に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記反射面形成工程は、
前記光出射面及び前記導波路入射面の双方が、略上方を向くように、前記一体構造を所定の角度だけ傾斜させて配置する位置決め工程と、
前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、
充填された前記液状光学材料を固化させる固化工程と、
を備え、
前記導波路入射面を含む面と前記光出射面とを結ぶ当該液状光学材料の面が、前記液状光学材料の自重により、前記反射面として成形されることを特徴とする請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記反射面が、水平面に対して略平行な平面となるように、前記所定の角度が決定されていることを特徴とする請求項４に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記反射面が、一の面に形成されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする請求項５に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記反射面が、前記光出射面からの光が前記導波路入射面に向けて集光されるような所定の曲率を有する曲面に成形されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする請求項４に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記反射面形成工程は、
前記光出射面及び前記導波路入射面の双方が、略下方を向くように、前記一体構造を所定の角度だけ傾斜させて配置する位置決め工程と、
前記液状光学材料を、前記空間に充填する充填工程と、
前記液状光学材料を固化させる固化工程と、
を備え、
前記導波路入射面を含む面と前記光出射面とを結ぶ当該液状光学材料の面が、前記液状光学材料の自重により、所定の曲率を有する前記反射面として成形されることを特徴とする請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記反射面が、前記所定の曲率を有する曲面に成形されるように、前記充填工程以前に、前記光出射面及び前記導波路入射面の濡れ性を改質する表面処理工程を有することを特徴とする請求項８に記載の光アシスト磁気ヘッドの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１２−２３８３５８（Ｐ２０１２−２３８３５８Ａ）
【公開日】平成２４年１２月６日（２０１２．１２．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１０６８２７（Ｐ２０１１−１０６８２７）
【出願日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１２月６日（２０１２．１２．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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