光学フィルムとその製造方法、偏光板および液晶表示装置
【課題】ヘイズが低く、良好なブロッキング耐性と脆性とを有する光学フィルムを提供する。
【解決手段】アセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含有する光学フィルムであって、前記セルロースアセテートが、Ａ）およびＢ）の要件を満たし、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
かつ、前記セルロースアセテート１ｋｇ相当のフィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が３５ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である。
【解決手段】アセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含有する光学フィルムであって、前記セルロースアセテートが、Ａ）およびＢ）の要件を満たし、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
かつ、前記セルロースアセテート１ｋｇ相当のフィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が３５ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムとその製造方法、偏光板および液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィン等の樹脂フィルムは、液晶表示装置の光学フィルムとして用いられている。なかでも、セルロースエステルを含む樹脂フィルム（セルロースエステルフィルム）は、偏光子であるポリビニルアルコールフィルムと貼り合わせやすいことから、広く用いられている。
【０００３】
近年、薄型かつ軽量なノートパソコンや、薄型かつ大画面のテレビなどの開発が進んでいる。それに伴い、液晶表示装置用の光学フィルムも、さらに薄く、大きく、コントラストを高める機能を有することが求められている。液晶表示装置のコントラストを高めるためには、光学フィルムのヘイズを低くすることが有効である。
【０００４】
ヘイズが低減されたフィルムとして、精製されたセルロースエステルを含むフィルム（例えば特許文献１）や、濁度が低いセルロースエステルを含むフィルム（例えば特許文献２）などが提案されている。
【０００５】
また、セルロースエステルは加水分解しやすい。そのため、加水分解しにくいセルロースエステルフィルムとして、カルシウムイオンの含有量が所定の範囲に調整されたセルロースエステルを含む光学フィルムが提案されている（例えば特許文献３）。
【０００６】
さらに、総アセチル基置換度に対する６位のアセチル基置換度の割合が高いセルロースジアセテートを含む光学フィルムも提案されている（例えば特許文献４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−２８６９３１号公報
【特許文献２】特開２００８−１１５２９８号公報
【特許文献３】国際公開第２００４／０７６４９０号
【特許文献４】特開２００９−１５５５５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献３に記載のフィルムは、ヘイズが高くなりやすかった。一方、特許文献１および２に記載のフィルムは、ヘイズは低いが、ブロッキング耐性が低かった。ブロッキングを抑制するために、従来では、シリカ系微粒子などのマット剤を含むフィルムが検討されている。しかしながら、マット剤は、フィルム材料とは異なる材料で構成されるため、フィルム材料とマット剤との屈折率差によって散乱が生じやすく、ヘイズが増大しやすかった。
【０００９】
このように、ヘイズが低く、かつブロッキングが抑制されたフィルムを得ることは難しかった。特に膜厚が小さいフィルムにおいては、ブロッキング耐性がより低いという問題があった。
【００１０】
また、膜厚が小さいフィルムは、通常の膜厚のフィルムよりも脆性が大幅に低下しやすい（脆くなりやすい）という問題があった。光学フィルムの製造工程では、横延伸時のフィルムの挟挾部や延伸後のフィルムのナーリング加工部を除去したり、広幅の原反フィルムを所定の幅に調整したりするために、フィルムをスリッティングすることがある。そのため、脆性が低いフィルムは、スリッティング面が荒れたり、割れたりしやすく、生産性が低下しやすかった。また、スリッティングによって発生した微小のフィルム屑が、フィルム面に付着して故障を発生することもあった。
【００１１】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ヘイズが低く、ブロッキングが十分に抑制され、かつ良好な脆性を有する光学フィルム、それを含む偏光板および液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
［１］ アセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含有する光学フィルムであって、
前記セルロースアセテートが、下記Ａ）およびＢ）の要件を満たし、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
かつ
前記セルロースアセテート１ｋｇ相当のフィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が３５ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である、光学フィルム。
［２］ 前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンが、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンを含み、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の、前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）に対する割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下である、［１］に記載の光学フィルム。
［３］ 前記割合（Ｂ／Ａ）が、０．７５以上０．９０以下である、［１］または［２］に記載の光学フィルム。
［４］ ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定される内部ヘイズが、０．０５％以下である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］ 前記光学フィルムの厚みが、１５〜６０μｍである、［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルム。
【００１３】
［６］ 偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に配置された、［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルムと、を含む、偏光板。
［７］ 液晶セルと、前記液晶セルを挟持する一対の偏光板と、を含む液晶表示装置であって、前記一対の偏光板のうち少なくとも一方は、偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に配置される［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルムと、を含む、液晶表示装置。
【００１４】
［８］ ［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法であって、下記Ａ）、Ｂ）およびＣ）の要件を全て満たし、かつアセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含む樹脂組成物を得るステップと、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
Ｃ）セルロースアセテート１ｋｇに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量が３０ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である
前記樹脂組成物を成形して光学フィルムとするステップと、を含む、光学フィルムの製造方法。
［９］ 前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンが、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンを含み、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の、前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）に対する割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下である、［８］に記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光学フィルムは、ヘイズが低く、ブロッキングが十分に抑制され、かつ良好な脆性を有する。そのため、本発明の光学フィルムを含む液晶表示装置は、正面コントラストが高められうる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１Ａ】光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
【図１Ｂ】光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
【図１Ｃ】光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
【図１Ｄ】光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
【図２】本発明に係る液晶表示装置の一実施形態の基本構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
１．光学フィルム
本発明の光学フィルムは、セルロースエステルを含有し、必要に応じて可塑剤などをさらに含有してもよい。
【００１８】
セルロースエステルについて
本発明の光学フィルムに含まれるセルロースエステルは、セルロースを、炭素原子数２〜２２の脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸でエステル化した化合物であり、好ましくはセルロースを炭素原子数７以下の脂肪族カルボン酸でエステル化した化合物である。
【００１９】
セルロースエステルに含まれる脂肪族アシル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、環を有していてもよい。通常、脂肪族アシル基の炭素原子数が多すぎると、レターデーションが発現しにくい。そのため、脂肪族アシル基の炭素原子数は、２〜７であることが好ましく、２〜６であることがより好ましく、２〜４であることがさらに好ましい。脂肪族アシル基は、一種類であっても、二種類以上であってもよい。
【００２０】
セルロースエステルの例には、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどが含まれ、好ましくはセルロースアセテートである。
【００２１】
セルロースエステルのアシル基の総置換度は、レターデーションを発現させやすくしたり、フィルムの柔軟性を高めたりするためには、１．５〜２．６であることが好ましく、２．０〜２．６であることがより好ましく、２．３〜２．５であることがさらに好ましい。セルロースエステルのアシル基置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【００２２】
セルロースエステルに含まれるアシル基のうち、炭素原子数３以上のアシル基の置換度は、レターデーションを発現させやすくするためには、２．６以下であることが好ましく、０であることがより好ましい。即ち、アセチル基の置換度が、好ましくは１．５〜２．６であり、より好ましくは２．０〜２．６であり、さらに好ましくは２．３〜２．５であるセルロースアセテートが好ましい。
【００２３】
セルロースアセテートは、下記式（ａ）および（ｂ）を同時に満たすことが好ましい。
式（ａ） ２．０≦ＤＳｔ≦２．６
式（ｂ） ２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を示し、ＤＳ６は６位アセチル基の置換度を示す）
【００２４】
アセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下のセルロースアセテートなどの置換度が低いセルロースアセテートは、セルローストリアセテートなどの置換度が高いセルロースアセテートと比べて、アセチル基の置換度や置換位置が異なるセルロースアセテートを多く含むため、フィルムの柔軟性が高くなりやすい。さらに、６位のアセチル基の置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）が高いセルロースアセテートは、分子間の水素結合が弱いため、フィルムの柔軟性が高い（脆性が低い）と考えられる。また、分子間の水素結合性が弱いセルロースアセテートは、フィルム同士もくっつきにくいため、ブロッキング耐性も高いと考えられる。
【００２５】
セルロースアセテートは、得られるフィルムの柔軟性とブロッキング耐性をより高めるためには、下記式（ｃ）と（ｄ）を同時に満たすことがより好ましい。
式（ｃ） ２．３≦ＤＳｔ≦２．５
式（ｄ） ３０．０≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３３．５
【００２６】
セルロースアセテートの６位のアセチル基の置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）は、原料のセルロースからセルロースアセテートを合成する際の合成条件（例えば、セルロースのエステル化工程において触媒として用いられる硫酸の量、エステル化工程において添加される氷酢酸の量、エステル化工程後または熟成工程における酢酸水溶液中の酢酸濃度など）によって調整することができる。例えば、６位のアセチル基の置換度が高くするためには、特開２００９−１５５５５５号に記載されるように、セルロースのエステル化工程における触媒としての硫酸の量を少なくしたり、セルロースのエステル化工程における氷酢酸の量を多くしたり、エステル化工程後または熟成工程における酢酸濃度を高くしたり（水分量を少なくしたり）すればよい。
【００２７】
セルロースアセテートの２位、３位、６位のアセチル基の置換度は、Ｔ．Ｓｅｉ，Ｋ．Ｉｓｈｉｔａｎｉ，Ｒ．Ｓｕｚｕｋｉ，Ｋ．Ｉｋｅｍａｔｓｕ，Ｐｏｌｉｍ．Ｊ．，１７，１０６５−１０６９（１９８５）に記載された方法で測定することができる。
【００２８】
セルロースエステルの数平均分子量は、機械的強度が高いフィルムを得るためには、３．０×１０４〜２．０×１０５の範囲であることが好ましく、４．０×１０４〜１．０×１０５の範囲であることがより好ましい。セルロースエステルの数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
【００２９】
測定条件は以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製）を３本接続して使用する。
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１．０×１０６〜５．０×１０２までの１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に選択することが好ましい。
【００３０】
セルロースエステルは、公知の方法で合成することができる。具体的には、セルロースと、少なくとも酢酸または無水酢酸を含む、炭素原子数３以上の有機酸またはその無水物と、をエステル化反応させて合成することができる（特開平１０−４５８０４号に記載の方法を参照）。
【００３１】
原料となるセルロースは、例えば綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）およびケナフなどを用いることができる。原料となるセルロースは、一種類だけであってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。
【００３２】
セルロースエステルは、内部ヘイズの低いフィルムを得るためには、メチルクロライド９２質量％とエタノール８質量％との混合溶媒１７１重量部にセルロースエステル１０重量部を溶解させた溶液を、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下であることが好ましく、０．５以上３．０以下であることがより好ましい。
【００３３】
溶液の濁度が低すぎるセルロースエステルを含むフィルムは、内部ヘイズは低いが、フィルム表面が平滑になりすぎるため、ブロッキング耐性が低くなりやすい。即ち、溶液の濁度が一定以上であるセルロースエステルは、微小なゲルを適度に含む。そのようなセルロースエステルを含むフィルムの表面には、微小なゲルの凹凸が形成されるため、ブロッキング耐性が高められると考えられる。
【００３４】
微小なゲルは、セルロースアセテートの（平均の置換度よりも）低置換度の成分または高置換度の成分が、メチレンクロライド／エタノール混合溶媒中でそれぞれ形成した会合体や；木材パルプを原料とするセルロースアセテートに含まれるヘミセルロース誘導体などである。
【００３５】
一方、溶液の濁度が高すぎるセルロースエステルを含むフィルムは、内部ヘイズが高すぎることがある。
【００３６】
セルロースエステル溶液の濁度は、以下の方法で測定することができる。
１）メチレンクロライド９２重量部とエタノール８重量部とを混合し、メチレンクロライド／エタノール混合溶媒を調製する。このメチレンクロライド／エタノール混合溶媒１７１ｇに、セルロースエステルを１０ｇ添加し、２時間攪拌し、溶解残りがなくなるまでセルロースエステルを溶解させる。
２）得られたセルロースエステル溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４（濾過精度７μｍ）を有する濾過機に投入し、０．４ＭＰａの圧力下で濾過し、濾液を回収する。
３）前述のメチレンクロライド／エタノール混合溶媒を、日本電色工業社製の硝子セル（光路長５ｍｍ）に入れたものを、日本電色工業社製ヘイズメーターＮＤＨ−２０００にセットし、標準合わせを行う。
４）前述の硝子セルを取り外した後、前記２）で得られた濾液を、日本電色工業社製の硝子セルに入れたものをヘイズメーターＮＤＨ−２０００にセットし、溶液の濁度（Ｔｕｒｂ）を測定する。
【００３７】
セルロースアセテート溶液の濁度は、１）セルロースアセテートの原料パルプの種類、２）セルロースアセテートの合成条件、３）セルロースアセテートの精製、４）複数種類のセルロースアセテートの混合などによって調整されうる。
【００３８】
１）の原料パルプの例には、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）およびケナフなどが含まれる。セルロースアセテート溶液の濁度を低くするためには、綿花リンターや、ヘミセルロースの含有量の少ない木材パルプを選択したりすればよい。
【００３９】
２）のセルロースアセテートの合成条件の例には、触媒量、反応温度、反応時間、溶媒（例えば氷酢酸）の量または濃度、および水分量などを調整する方法が含まれる。溶液の濁度を低くするためには、触媒として用いられる硫酸量を多くすればよい（例えば、特開２００３−２０１３０１号を参照）。
【００４０】
３）のセルロースアセテートの精製方法の例には、得られたセルロースエステルを所定の溶媒で懸濁洗浄する方法、セルロースアセテートを良溶媒に溶解させた後、貧溶媒を添加してセルロースアセテートを再沈殿させる方法（例えば、特開２００８−５６８１９号記載の方法）、セルロースアセテート溶液を適切な濾材を用いて濾過した後、得られる濾液からセルロースアセテートを回収する方法、セルロースアセテート溶液を遠心分離して、得られる上澄み液からセルロースアセテートを回収する方法などが含まれる。
【００４１】
４）の複数種のセルロースエステルを混合する方法の例には、濁度の異なるセルロースアセテートを混合する方法などが含まれる。
【００４２】
セルロースエステルは、セルロースエステル１ｋｇに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が３０ｍｇ以上２５０ｍｇ以下であることが好ましく、４０ｍｇ以上２００ｍｇ以下であることがより好ましい。
【００４３】
セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が多すぎると、セルロースエステルを含むフィルム中で金属塩が凝集して結晶化しやすい。結晶化した金属塩は、散乱因子となるため、フィルムの内部ヘイズを高めやすい。一方、セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が少なすぎると、セルロースアセテート溶液の濁度の要因となる前述の微小なゲルが、前述のアルカリ金属イオンやアルカリ土類金属イオンによって分散されないため、凝集しやすい。微小なゲルの凝集物は、散乱因子となるため、フィルムの内部ヘイズを高めやすい。
【００４４】
これに対して、セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が上記の範囲であれば、フィルム中で金属塩が結晶化せずに、均一に分散しやすい。さらに、金属塩は、微小なゲルを分散させやすくしうる。そのため、セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が上記の範囲に調整されたフィルムは、内部ヘイズが低いと考えられる。さらに、フィルムの表面には、微小なゲルによって形成される微小な凸凹が高度に分散しているため、ブロッキング耐性も高いと考えられる。
【００４５】
セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンの例には、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオンなどが含まれ、好ましくはナトリウムイオンまたはカリウムイオンである。アルカリ土類金属イオンの例には、カルシウムイオン、マグネシウムイオン、バリウムイオンなどが含まれ、好ましくはカルシウムイオンまたはマグネシウムイオンである。
【００４６】
セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンは、任意の形態で含まれてよく、例えば遊離酸の塩（酢酸塩や硫酸塩など）として含まれていてもよいし；セルロースアセテートの酸性基（カルボキシル基やスルホン基）の対イオンとして含まれていてもよい。
【００４７】
セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）は、公知の方法で測定することができる。例えば、セルロースアセテートを完全に燃焼させた後に得られる灰分を、塩酸に溶解させて前処理溶液とした後；得られた前処理溶液に含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量を、原子吸光法により測定することができる。また、絶乾させたセルロースアセテートを、マイクロダイジェスト湿式分解装置にて、硫硝酸分解およびアルカリ溶融させて前処理溶液を得た後；得られた前処理溶液に含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量を、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘電結合プラズマ発光分光分析装置）により測定することもできる。
【００４８】
セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）は、１）原料パルプからセルロースアセテートを合成する際の金属塩（中和剤、安定化剤）の添加量、２）セルロースアセテートの洗浄、３）合成後のセルロースアセテートへの金属塩の添加などによって調整することができる。
【００４９】
１）の原料パルプからセルロースアセテートを合成する際の金属塩（中和剤、安定化剤）の添加は、国際公開第２００４／０７６４９０号に記載されるように、セルロースアセテートの製造方法によって種々のタイミングで行われる。アシル化工程の終了工程、アシル化工程後であって熟成工程前、または熟成工程において金属塩を添加してもよいし；熟成工程後の液状のセルロースアセテートを凝固沈殿させる際の凝固液に金属塩を添加してもよいし；乾燥後のセルロースアセテート粒子に金属塩の水溶液を噴霧して添加してもよい。これらの金属塩の添加工程を組み合わされてもよい。これらのうち少なくとも一の金属塩の添加工程において、金属塩の添加量を調整すればよい。
【００５０】
中和剤または安定化剤として使用されるアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の例には、酢酸ナトリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどが含まれる。
【００５１】
２）のセルロースアセテートの洗浄方法の例には、合成後のセルロースアセテートを、金属塩を溶解しうる溶媒（水、メタノール、エタノール等）や、希薄な酸性水溶液（塩酸または硫酸など）で洗浄する方法が含まれる。希薄な酸性水溶液の酸濃度は、洗浄時のセルロースアセテートの加水分解を抑制するために、０．１ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好まく、０．０１ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましい。洗浄方法は、特に制限されず、例えば懸濁洗浄方法などであってよい。
【００５２】
３）の合成後のセルロースアセテートへの金属塩の添加は、例えば、合成後のセルロースアセテートを、金属塩の溶液に浸漬させた後、ろ過および乾燥させることによって行う。
【００５３】
金属塩の溶液に含まれる金属塩の例には、酢酸ナトリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等が含まれる。金属塩の溶液に含まれる溶媒は、金属塩が溶解するものであればよく、好ましくは水、メタノールまたはエタノールであり、より好ましくは水である。金属塩の溶液の濃度は、０．１ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、０．０１ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましい。
【００５４】
前述の通り、セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンには、酢酸塩や硫酸塩（遊離酸の塩）として含まれるものだけでなく、セルロースアセテートの酸性基（カルボキシル基またはスルホン基など）の対イオンとして含まれるものもある。
【００５５】
「セルロースアセテート１ｋｇ中に含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）」に対する「セルロースアセテート１ｋｇ中に含まれるセルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）」の割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下であることが好ましく、０．７５以上０．９以下であることがより好ましい。
【００５６】
「セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」は、前述のセルロースアセテート溶液の濁度の原因となる微小なゲルを高度に分散させうる。即ち、セルロースアセテート溶液の濁度の原因となる微小なゲルは、それ自体（セルロースジアセテート）の対イオンとして存在する金属イオンによって安定化され（分散され）；さらに微小なゲルの周囲の遊離酸の塩として存在する金属イオンによってさらに安定化される（分散される）と考えられる。そのため、割合（Ｂ／Ａ）を上記範囲にすることで、微小なゲルを高度に分散させることができ、得られるフィルムの内部ヘイズを低くすることができる。さらに、得られるフィルムの表面に、微小なゲルによって形成される凸凹が均一に分散するため、ブロッキング耐性も高められると考えられる。
【００５７】
セルロースアセテートに含まれる、セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量（Ｂ）は、例えば、セルロースアセテートを純水で十分に洗浄した後、得られるセルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量を、前述と同様の方法で測定すればよい。
【００５８】
割合（Ｂ／Ａ）は、セルロースアセテートの合成条件（例えば触媒量）を調整したり；セルロースアセテートに、「セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」または「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」を添加して調整したりすることができる。
【００５９】
これらのなかでも、割合（Ｂ／Ａ）を上記の範囲に精度よく調整するためには、セルロースアセテートに、「セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」または「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」（金属塩）を添加して調整する方法が好ましい。その場合、１）セルロースアセテートを純水などの溶媒で十分に洗浄して「セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」の量を測定した後；２）割合（Ｂ／Ａ）が所望の値になるように、金属塩を添加することが好ましい。
【００６０】
「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」は、水溶性である。そのため、「セルロースアセテートの酸性基の対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」は、セルロースアセテートを純水で十分に洗浄した後、セルロースアセテートに残存するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンとして単離することができる。
【００６１】
「セルロースアセテートの酸性基の対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」を完全に単離できたかどうかの判断は、１）セルロースアセテートの洗浄操作を複数回行い、各洗浄操作後のセルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量を測定し、２）測定されたアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量が、洗浄回数によって変化しない（ほぼ一定となる）ことを確認する方法によって行うことができる。例えば、上記の洗浄条件であれば、１回の洗浄操作によって「セルロースアセテートの酸性基の対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」をほぼ完全に単離することができる。
【００６２】
例えば、割合（Ｂ／Ａ）を低くするためには、セルロースアセテートを、金属塩を含む溶液に含浸させた後、ろ過および乾燥するなどして、「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオン」の量を多くしたり；セルロースアセテートの合成条件である触媒量を少なくしたりすればよい。一方、割合（Ｂ／Ａ）を高くするためには、例えばセルロースアセテートを、遊離酸の塩を溶解しうる溶媒（純水、メタノール、エタノール等）で洗浄するなどして「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオン」の量を少なくしたり；セルロースアセテートの合成条件である触媒量を多くしたりすればよい。
【００６３】
本発明の光学フィルムに含まれるセルロースアセテートは、前述した６位のアセチル基の置換度の割合、溶液の濁度、およびアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）をいずれも満たすことが好ましく、前述した対イオンとして存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の割合（Ｂ／Ａ）をさらに満たすことがより好ましい。
【００６４】
本発明の光学フィルムに含まれるセルロースエステルは、一種類のセルロースエステルであってもよいし、例えば置換度の異なる二種類以上のセルロースエステルの混合物であってもよい。二種類のセルロースエステルの混合物における混合比は、１０：９０〜９０：１０（質量比）としうる。
【００６５】
本発明の光学フィルムは、前述のセルロースアセテートに加えて、糖エステル化合物、可塑剤、リターデーション制御剤、波長分散制御剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤および微粒子などをさらに含んでもよい。
【００６６】
糖エステル化合物
本発明の光学フィルムに含有される糖エステル化合物は、糖に含まれる水酸基とモノカルボン酸とをエステル化反応させて得られる化合物である。
【００６７】
糖エステル化合物を構成する糖は、フラノース構造とピラノース構造の少なくとも一方が、１個以上１２個以下結合した化合物であることが好ましい。
【００６８】
糖エステル化合物を構成する糖の例には、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロースおよびアラビノースなどの単糖；ラクトース、スクロース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、ゲンチオビオースなどの二糖；
セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース、ケストース、ゲンチオトリオース、キシロトリオースなどの三糖；ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、ゲンチオテトラオース、ガラクトシルスクロースなどの四糖以上の多糖などが含まれる。糖エステル化合物を構成する糖の例には、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖などのオリゴ糖も含まれる。これらのオリゴ糖は、澱粉やショ糖に、アミラーゼ等の酵素を作用させて製造される。
【００６９】
なかでも、ピラノース構造とフラノース構造の両方を有する糖が好ましく、スクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオースなどがより好ましく、スクロースがさらに好ましい。
【００７０】
糖エステル化合物を構成するモノカルボン酸は、特に制限されず、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸でありうる。フィルムのリターデーションを発現させ易くするためには、芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、一種類でもよいし、二種以上の混合物であってもよい。例えば、脂肪族モノカルボン酸と芳香族モノカルボン酸とを組み合わせてもよい。
【００７１】
脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。
【００７２】
脂環族モノカルボン酸の例には、酢酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸が含まれる。
【００７３】
芳香族モノカルボン酸は、一以上のベンゼン環を有するモノカルボン酸であって、ベンゼン環はアルキル基またはアルコキシ基などの置換基をさらに有していてもよい。芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ−アニス酸、ｍ−アニス酸、ｐ−アニス酸、クレオソート酸、ｏ−ホモサリチル酸、ｍ−ホモサリチル酸、ｐ−ホモサリチル酸、ｏ−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ−ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ−クマル酸などが挙げられ、特に安息香酸が好ましい。
【００７４】
ピラノース構造またはフラノース構造を有する構成糖に含まれる水酸基の７０％以上が、モノカルボン酸でエステル化されていることが好ましい。
【００７５】
糖エステル化合物は、下記一般式（Ａ）で表されるピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも１種を１個以上１２個以下縮合して得られる糖を、モノカルボン酸でエステル化して得られる化合物であることが好ましい。
【化１】
【００７６】
式（Ａ）において、Ｒ１１〜Ｒ１５およびＲ２１〜Ｒ２５は、炭素数２〜２２のアシル基または水素原子を示す。ｍ、ｎはそれぞれ０〜１２の整数を示し、ｍ＋ｎは１〜１２の整数を示す。
【００７７】
炭素数２〜２２のアシル基は、ベンゾイル基であることが好ましい。ベンゾイル基は、さらに置換基を有していてもよく、そのような置換基の例には、アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、フェニル基などが含まれる。
【００７８】
糖エステル化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【００７９】
糖エステル化合物の含有量は、光学フィルムの湿度の変動による位相差値の変動を抑制して、表示品位を安定化させるために、セルロースエステルに対して１〜３０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることが特に好ましい。
【００８０】
可塑剤
可塑剤の例には、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤（フタル酸エステル系可塑剤を含む）、グリコレート系可塑剤、エステル系可塑剤（脂肪酸エステル系可塑剤を含む）、およびアクリル系可塑剤などが好ましい。これらは単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８１】
ポリエステル系可塑剤
ポリエステル系可塑剤は、下記一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。
一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
【００８２】
式（１）中、Ａは、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される２価の基または炭素原子数８〜１４のアリールジカルボン酸から誘導される２価の基を表す。Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される２価の基、炭素原子数６〜１２のアリールグリコールから誘導される２価の基、または炭素原子数が４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基を表す。Ｂは、水素原子またはモノカルボン酸から誘導される１価の基を表す。ｎは、１以上の整数を表す。
【００８３】
Ａの、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸などから誘導される２価の基が含まれる。Ａにおける炭素原子数８〜１４のアリールジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸などから誘導される２価の基が含まれる。
【００８４】
Ｇの、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、エチレングリコール、１,２-プロピレングリコール、１,３-プロピレングリコール、１,２-ブタンジオール、１,３-ブタンジオール、１,２-プロパンジオール、２-メチル-１,３-プロパンジオール、１,４-ブタンジオール、１,５-ペンタンジオール、２,２-ジメチル-１,３-プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２,２-ジエチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールペンタン）、２-ｎ-ブチル-２-エチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールヘプタン）、３-メチル-１,５-ペンタンジオール、１,６-ヘキサンジオール、２,２,４-トリメチル-１,３-ペンタンジオール、２-エチル-１,３-ヘキサンジオール、２-メチル-１,８-オクタンジオール、１,９-ノナンジオール、１,１０-デカンジオール、および１,１２-オクタデカンジオール等から誘導される２価の基が含まれる。
【００８５】
Ｇの、炭素原子数６〜１２のアリールグリコールから誘導される２価の基の例には、１,２-ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１,３-ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１,４-ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）などから誘導される２価の基が含まれる。Ｇにおける炭素原子数が４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールなどから誘導される２価の基が含まれる。
【００８６】
Ｇは、炭素数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される２価の基であることが好ましい。ポリエステル系可塑剤の、セルロースエステルとの相溶性を高めるためである。
【００８７】
Ｂの、モノカルボン酸から誘導される１価の基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、およびアセトキシ安息香酸などの芳香族モノカルボン酸；酢酸、プロピオン酸、および酪酸などの脂肪族モノカルボン酸などから誘導される１価の基が含まれる。
【００８８】
ポリエステル系可塑剤の数平均分子量は、３００〜１５００であることが好ましく、４００〜１０００であることがより好ましい。数平均分子量が３００未満であるポリエステル系可塑剤は、光学フィルムから溶出しやすいことがある。
【００８９】
ポリエステル系可塑剤の酸価は、それを含む光学フィルムと、ハードコート層などの他の機能層との密着性を高める観点などから、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。ポリエステル系可塑剤の酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数として定義される。ポリエステル系可塑剤の酸価は、ＪＩＳ Ｋ００７０に準拠して測定されうる。
【００９０】
ポリエステル系可塑剤の水酸基価は、セルロースエステルとの相溶性を高める観点などから、２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。ポリエステル系可塑剤の水酸基価は、試料１ｇを無水酢酸と反応させてアセチル化させたとき、未反応の酢酸を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数として定義される。ポリエステル系可塑剤の水酸基価は、ＪＩＳ Ｋ ００７０（１９９２）に準拠して測定されうる。
【００９１】
式（１）で示されるポリエステル系可塑剤の具体例を以下に示す。
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【００９２】
多価アルコールエステル系可塑剤
多価アルコールエステル系可塑剤は、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル化合物（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステル系化合物は、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。
【００９３】
脂肪族多価アルコールの好ましい例には、アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。なかでも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。
【００９４】
モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸等でありうる。フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、１種類であってもよいし、２種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【００９５】
脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。そのような脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。なかでも、セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、酢酸、または酢酸とその他のモノカルボン酸との混合物が好ましい。
【００９６】
脂環族モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。
【００９７】
芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの；ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸などが含まれ、好ましくは安息香酸である。
【００９８】
多価アルコールエステル系可塑剤の分子量は、特に制限されないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。揮発し難くするためには、分子量が大きいほうが好ましく；透湿性、セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、分子量が小さいほうが好ましい。
【００９９】
多価カルボン酸エステル系可塑剤
多価カルボン酸エステル系可塑剤は、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコール化合物とのエステル化合物である。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸または３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。
【０１００】
多価カルボン酸の好ましい例には、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などの３価以上の芳香族多価カルボン酸；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸などの脂肪族多価カルボン酸；酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸などのオキシ多価カルボン酸が含まれ、揮発しにくくするためには、好ましくはオキシ多価カルボン酸である。
【０１０１】
アルコール化合物の例には、公知のアルコール化合物、フェノール化合物が含まれる。アルコール化合物の例には、炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２０、さらに好ましくは炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状の脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコール；シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコール化合物；ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコール化合物などが含まれる。アルコール化合物は、一種類でもよいし、二種以上の混合物であってもよい。
【０１０２】
多価カルボン酸としてのオキシ多価カルボン酸は、アルコール性またはフェノール性の水酸基がモノカルボン酸でエステル化されていてもよい。エステル化に用いられるモノカルボン酸は、脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、または芳香族モノカルボン酸でありうる。
【０１０３】
脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状の脂肪酸が含まれる。そのような脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などが含まれる。
【０１０４】
脂環族モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸などが含まれる。これらのなかでも酢酸、プロピオン酸、安息香酸が特に好ましい。
【０１０５】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、特に制限はないが、３００〜１０００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、ブリードアウトを抑制する観点では、大きいほうが好ましく；透湿性やセルロースエステルとの相溶性の観点では、小さいほうが好ましい。
【０１０６】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。酸価を上記範囲にすることで、リターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。
【０１０７】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の酸価は、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数として定義される。酸価はＪＩＳ Ｋ００７０に準拠して測定されうる。
【０１０８】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。
【０１０９】
多価カルボン酸エステル系可塑剤は、フタル酸エステル系可塑剤であってもよい。フタル酸エステル系可塑剤の例には、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が含まれる。
【０１１０】
グリコレート系可塑剤の例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれる。
【０１１１】
エステル系可塑剤には、脂肪酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤やリン酸エステル系可塑剤などが含まれる。
【０１１２】
脂肪酸エステル系可塑剤の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、およびセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステル系可塑剤の例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、およびクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステル系可塑剤の例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、およびトリブチルホスフェート等が含まれる。
【０１１３】
アクリル系可塑剤
アクリル系可塑剤は、少なくとも分子内に芳香環と水酸基の両方を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを重合成分とする重合体Ｘ、または分子内に芳香環を有しないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合成分とする重合体Ｙであることが好ましい。エチレン性不飽和モノマーは、好ましくは（メタ）アクリル酸エステルである。
【０１１４】
重合体Ｘは、下記一般式（Ｘ）で示される構造を有することが好ましい。下記式（Ｘ）の−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｃ）（−ＣＯ２Ｒｄ）］ｍ−は、エチレン性不飽和モノマーＸａから誘導される基であり；―［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｅ）（−ＣＯ２Ｒｆ−ＯＨ）−］ｎ―は、エチレン性不飽和モノマーＸｂから誘導される基である。
一般式（Ｘ）
−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｃ）（−ＣＯ２Ｒｄ）］ｍ−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｅ）（−ＣＯ２Ｒｆ−ＯＨ）−］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
【０１１５】
式（Ｘ）のＲｃおよびＲｅは、水素原子またはメチル基を示す。Ｒｄは、炭素数１〜１２のアルキレン基またはシクロアルキレン基を示す。Ｒｆは、メチレン基、エチレン基またはプロピレン基を示す。Ｘｃは、ＸａおよびＸｂに重合可能なモノマー単位を示す。ｍ、ｎおよびｐは、モル組成比を示す。ただし、ｍとｎは０ではなく、かつｍ＋ｎ＋ｐ＝１００である。重合体Ｘの重量平均分子量は３０００〜３００００であることが好ましい。
【０１１６】
重合体Ｙは、下記一般式（Ｙ）で示される構造を有することが好ましい。下記式（Ｙ）の−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｇ）（−ＣＯ２Ｒｈ−ＯＨ）−］ｋ−は、エチレン性不飽和モノマーＹａから誘導される基である。
一般式（Ｙ）
Ｒｙ−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｇ）（−ＣＯ２Ｒｈ−ＯＨ）−］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
【０１１７】
式（Ｙ）のＲｇは、水素原子またはメチル基を示す。Ｒｈは、メチレン基、エチレン基またはプロピレン基を示す。Ｒｙは、水素原子、水酸基または炭素数１〜３のアルキル基を表す。Ｙｂは、Ｙａに共重合可能なモノマー単位を表す。ｋおよびｑは、モル組成比を表す。ただし、ｋは０ではなく、かつｋ＋ｑ＝１００である。重合体Ｙの重量平均分子量は５００以上３０００以下であることが好ましい。
【０１１８】
これらの可塑剤の含有量の合計は、セルロースエステルに対して０．５〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。
【０１１９】
リターデーション制御剤
本発明の光学フィルムは、液晶表示品質を向上させるために、リターデーション制御剤をさらに含んでもよい。リターデーション制御剤は、欧州特許９１１６５６Ａ２号に記載されるような、二つ以上の芳香環を有する芳香族化合物や、特開２００６−２０２５号に記載の棒状化合物などが含まれる。リターデーション制御剤は、一種類であってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。
【０１２０】
芳香族化合物に含まれる芳香環は、芳香族性炭化水素環、芳香族性ヘテロ環などが含まれ、好ましくは芳香族性ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環の好ましい例には、１，３，５−トリアジン環が特に好ましい。
【０１２１】
リターデーション制御剤の含有量は、光学フィルムに含まれる樹脂成分に対して０．５〜２０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましい。
【０１２２】
波長分散制御剤
本発明の光学フィルムは、波長分散制御剤をさらに含有してもよい。波長分散制御剤は、フィルムのリターデーションの波長分散特性を調整する機能を有する。
【０１２３】
波長分散制御剤は、光吸収スペクトルにおいて、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲において吸収極大を有する化合物であることが好ましく、２７０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長範囲において吸収極大を有する化合物であることがより好ましい。波長分散制御剤の好ましい例には、特開２００１−１６６１４４号および特開２００３−３４４６５５６号に記載の円盤状化合物や；特開２０１０−１６３４８２号に記載の化合物などが含まれる。
【０１２４】
波長分散制御剤の含有量は、光学フィルムに含まれる樹脂成分全体に対して０．５〜２０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましい。
【０１２５】
紫外線吸収剤
本発明の光学フィルムは、光学フィルムの耐久性を向上させるために、紫外線吸収剤をさらに含んでもよい。紫外線吸収剤は、波長４００ｎｍ以下の紫外線を吸収する化合物であり、好ましくは波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下、より好ましくは５％以下、さらに好ましくは２％以下である化合物である。
【０１２６】
紫外線吸収剤の例には、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体などが含まれ、好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、より好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤である。
【０１２７】
紫外線吸収剤の具体例には、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖および側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等のほか、ＢＡＳＦジャパン社製の市販品であるチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等が含まれる。これらの紫外線吸収剤は、一種類だけであっても、二種以上の混合物であってもよい。
【０１２８】
これらのほかにも、高分子紫外線吸収剤や、円盤状化合物なども紫外線吸収剤として好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤の例には、特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が含まれ；円盤状化合物の例には、１，３，５−トリアジン環を有する化合物等が含まれる。
【０１２９】
紫外線吸収剤の含有量は、紫外線吸収剤の種類などにもよるが、光学フィルム全体に対して０．５〜１０質量％であることが好ましく、０．６〜４質量％であることがより好ましい。
【０１３０】
酸化防止剤
本発明の光学フィルムは、例えば高湿高温下で生じやすい光学フィルムの劣化を防止するために、酸化防止剤をさらに含んでもよい。酸化防止剤は、光学フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等による分解を遅延または防止する機能を有する。
【０１３１】
酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系化合物であることが好ましく、その具体例には、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が含まれる。特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。
【０１３２】
これらの化合物は、例えばＮ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤や、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤と併用されてもよい。
【０１３３】
酸化防止剤の含有量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％であることが好ましく、１０〜１０００ｐｐｍであることがより好ましい。
【０１３４】
微粒子
本発明の光学フィルムは、滑り性を向上させるために、微粒子をさらに含んでもよい。微粒子は、無機微粒子であっても有機微粒子であってもよい。
【０１３５】
無機微粒子の例には、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムなどが含まれる。有機微粒子の例には、ポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、アクリルスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系粉末、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂、澱粉等の有機高分子化合物の粉砕分級物、懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレードライ法あるいは分散法等により球型にした高分子化合物などが含まれる。フィルムのヘイズの増大を少なくするためには、珪素を含む微粒子が好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０１３６】
二酸化珪素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の市販品）が含まれる。なかでも、光学フィルムのヘイズを低く保ちつつ、摩擦係数を下げる効果が大きいことから、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが好ましい。
【０１３７】
微粒子の一次平均粒子径は、５〜４００ｎｍであることが好ましく、１０〜３００ｎｍであることがより好ましい。微粒子は、光学フィルムの少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０となるように光学フィルムに含まれることが好ましい。微粒子の含有量は、光学フィルムに対して０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。
【０１３８】
光学フィルムの厚みは、特に限定はされないが、１０〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１００μｍであることがより好ましく、１５〜６０μｍであることがさらに好ましい。光学フィルムの厚みが大きすぎると、湿度によってリターデーションの変動が大きくなりやすい。一方、フィルムの厚みが小さすぎると、所望のリターデーションが得られにくい。
【０１３９】
セルロースエステル１ｋｇ相当の光学フィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）は、３０ｍｇ以上２５０ｍｇ以下であることが好ましく、４０ｍｇ以上２００ｍｇ以下であることがより好ましい。セルロースエステル１ｋｇ相当の光学フィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）は、例えばセルロースアセテート１ｋｇに相当する量の光学フィルムを完全に燃やして灰化させたものを、塩酸に溶解させて前処理溶液とし；当該前処理溶液に含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量を、原子吸光法にて測定することができる。
【０１４０】
本発明の光学フィルムは、光学補償フィルムとして好ましく用いられる。即ち、液晶ディスプレイは、異方性を有する液晶材料や偏光板を有するため、表示画面を正面から見た場合に良好に表示されていても、斜めから見た場合に良好に表示されないことがある（視野角依存性がある）。光学補償フィルムは、このような視野角依存性を低減する上で有効である。
【０１４１】
液晶セルの屈折率分布は、通常、液晶セルの厚み方向で大きく、面内方向で小さい。そのため、光学補償フィルムは、この屈折率の異方性を相殺するものであること；即ち、屈折率分布が、厚み方向で小さく、面内方向で大きい負の一軸性を有することが好ましい。本発明の光学フィルムは、そのような光学補償機能を有するフィルムとして好ましく用いられる。
【０１４２】
本発明の光学フィルムの、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍにて測定されるリターデーションＲｏは、２０〜１００ｎｍであることが好ましい。２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍにて測定されるリターデーションＲｔｈは、７０〜３００ｎｍであることが好ましい。光学フィルムのリターデーションＲ０およびＲｔｈは、通常、延伸条件により調整することができる。
【０１４３】
面内方向のリターデーションＲ０および厚み方向のリターデーションＲｔｈは、それぞれ以下の式で表される。
式（Ｉ） Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（ｎｘ：フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙ：フィルム面内において、遅相軸に対して直交する方向の屈折率、ｎｚ：厚み方向におけるフィルムの屈折率、ｄ：フィルムの厚み（ｎｍ））
【０１４４】
レターデーションＲ０およびＲｔｈは、例えば以下の方法によって求めることができる。
１）フィルムの平均屈折率を屈折計により測定する。
２）王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨにより、フィルム法線方向からの波長５９０ｎｍの光を入射させたときの面内方向のレターデーションＲ０を測定する。
３）王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨにより、フィルム法線方向に対してθの角度（入射角（θ））から波長５９０ｎｍの光を入射させたときのレターデーション値Ｒ（θ）を測定する。θは０°よりも大きく、好ましくは３０°〜５０°である。
４）測定されたＲ０およびＲ（θ）と、前述の平均屈折率と膜厚とから、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出し、Ｒｔｈを算出する。レターデーションの測定は、２３℃５５％ＲＨ条件下で行うことができる。
【０１４５】
本発明の光学フィルムは、フィルム面内に遅相軸または進相軸を有する。遅相軸の製膜方向とのなす角θ１（配向角）は、−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。配向角θ１が上記範囲を満たしていると、光漏れを抑制できるため、表示画像の輝度を高めることができる。
【０１４６】
光学フィルムのリターデーションＲ０およびＲｔｈ、および配向角θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて測定することができる。
【０１４７】
光学フィルムの、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して測定される内部ヘイズは、０．０５％以下であることが好ましく、０．０３％以下であることがさらに好ましい。
【０１４８】
光学フィルムの内部ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法；具体的には、以下の方法で測定することができる。
ヘイズメーター（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色（株）製）を準備する。光源は５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部はシリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）とする。
【０１４９】
１）ブランクヘイズの測定
洗浄したスライドガラスの上に、グリセリンを一滴（０．０５ｍｌ）滴下する。このとき、液滴に気泡が入らないように注意する。
次いで、滴下したグリセリンの上に、カバーガラスを載せる。カバーガラスは押さえなくてもグリセリンは広がる。
これにより得られるブランク測定用のサンプル（カバーガラス／グリセリン／スライドガラス）を、ヘイズメーターにセットして、ヘイズ１（ブランクヘイズ）を測定する。
２）光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定
図１Ａ〜図１Ｄは、光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
前記１）と同様にして、洗浄したスライドガラスの上にグリセリンを滴下する（図１Ａ参照）。
一方で、測定する光学フィルムを、２３℃５５％ＲＨ下で５時間以上調湿する。次いで、滴下したグリセリンの上に、調湿した光学フィルムを、気泡が入らないように載せる（図１Ｂ参照）。
さらに、光学フィルム上に０．０５ｍｌのグリセリンを滴下した後（図１Ｃ参照）、カバーガラスをさらに載せる（図１Ｄ参照）。
これにより得られる測定用のサンプル（カバーガラス／グリセリン／試料フィルム／グリセリン／スライドガラス）を、前述のヘイズメーターにセットして、ヘイズ２を測定する。
３）前記１）で得られたヘイズ１と、前記２）で得られたヘイズ２を、下記式に当てはめて、光学フィルムのヘイズを算出する。
光学フィルムの内部ヘイズ（％）＝ヘイズ２（％）−ヘイズ１（％）
【０１５０】
内部ヘイズの測定は、いずれも２３℃５５％ＲＨの条件下にて行う。また、内部ヘイズの測定に用いるガラスは、ＭＩＣＲＯ ＳＬＩＤＥ ＧＬＡＳＳ Ｓ９２１３ ＭＡＴＳＵＮＡＭＩとする。グリセリンは、関東化学製 鹿特級（純度＞９９．０％）、屈折率１．４７とする。
【０１５１】
光学フィルムの内部ヘイズを低減するためには、前述の通り、セルロースアセテート溶液の濁度を低くしたり、セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）を少なくしたりすればよい。
【０１５２】
光学フィルムの、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に準拠して測定される４０℃、９０％ＲＨにおける透湿度は、１０〜１２００ｇ／ｍ２・２４ｈであることが好ましい。光学フィルムの透湿度を低下させるためには、例えば光学フィルムに含まれるセルロースエステルの総アシル基置換度を高くしたり、炭素数３以上のアシル基置換度の割合を多くしたり、可塑剤などの添加剤を多く含有させたりすればよい。
【０１５３】
本発明の光学フィルムの可視光透過率は９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがより好ましい。本発明の光学フィルムの破断伸度は１０〜８０％であることが好ましい。
【０１５４】
２．光学フィルムの製造方法
本発明の光学フィルムは、前述したセルロースエステルを含む樹脂組成物を得るステップと、前記樹脂組成物を成形して光学フィルムとするステップと、を経て製造されうる。樹脂組成物を成形する方法の例には、溶液流延法、溶融流延法などがあるが、薄膜で平面性の高いフィルムが得られるなどの観点から、溶液流延法であることが好ましい。
【０１５５】
本発明の光学フィルムを溶液流延法により製造する工程は、１）少なくとも前述のセルロースエステルと、必要に応じて可塑剤などを溶剤に溶解させてドープ（樹脂組成物）を調製する工程、２）ドープを無端の金属支持体上に流延する工程、３）流延したドープを乾燥してウェブとする工程、４）ウェブを金属支持体から剥離する工程、５）ウェブを延伸してフィルムを得る工程、６）フィルムをさらに乾燥する工程、７）得られたフィルムを巻取る工程、を含む。
【０１５６】
１）ドープを調製する工程について
前述のセルロースエステルと、必要に応じて添加剤とを溶剤に溶解させてドープを調製する。ドープに含まれるセルロースエステルの濃度は、乾燥負荷を低減するためには高いことが好ましいが、セルロースエステルの濃度が高すぎると濾過しにくく、濾過精度が低下しやすくなる。このため、ドープに含まれるセルロースエステルの濃度は１０〜３５質量％であることが好ましく、１５〜２５質量％であることがより好ましい。
【０１５７】
ドープに含まれる溶剤は、１種類でも２種以上を組み合わせたものでもよい。生産効率を高める観点では、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を組み合わせて用いることが好ましい。良溶剤とは、セルロースエステルを単独で溶解する溶剤をいい、貧溶剤とは、セルロースエステルを膨潤させるか、または単独では溶解しないものをいう。そのため、良溶剤および貧溶剤は、セルロースエステルの平均アシル基置換度（アセチル基置換度）によって異なる。
【０１５８】
良溶剤と貧溶剤を組み合わせて用いる場合、セルロースエステルの溶解性を高めるためには、良溶剤が貧溶剤よりも多いことが好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％であることが好ましい。
【０１５９】
良溶剤の例には、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、およびアセト酢酸メチルなどが含まれ、好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルなどである。貧溶剤の例には、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、およびシクロヘキサノン等が含まれる。ドープ中には、水分が０．０１〜２質量％含まれていることが好ましい。
【０１６０】
セルロースエステルを溶剤に溶解させる方法は、一般的な方法であってよく、例えば加熱および加圧下で溶解させる方法、セルロースエステルに貧溶剤を加えて膨潤させた後、良溶剤をさらに加えて溶解させる方法などでありうる。なかでも、常圧における沸点以上に加熱できることから、加熱および加圧下で溶解させる方法が好ましい。具体的には、常圧下で溶剤の沸点以上であり、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を抑制できる。
【０１６１】
加圧は、窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱して溶剤の蒸気圧を上昇させる方法などによって行うことができる。加熱は、外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易であるため好ましい。
【０１６２】
加熱温度は、セルロースエステルの溶解性を高める観点では、高いほうが好ましいが、高過ぎると、圧力を高める必要があり、生産性が低下する。このため、加熱温度は、４５〜１２０℃であることが好ましく、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃であることがさらに好ましい。圧力は、設定された加熱温度において、溶剤が沸騰しないような範囲に調整される。
【０１６３】
紫外線防止剤や微粒子などの添加剤は、ドープにバッチ添加してもよいし、別途調製した添加剤溶解液をインライン添加してもよい。添加剤溶液は、添加剤を、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の溶媒あるいはこれらの混合溶媒に溶解させたものである。
【０１６４】
特に微粒子は、ろ過材への負荷を減らすために、一部または全部をインライン添加することが好ましい。添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、添加剤溶解液に少量のセルロースエステルを溶解させておくことが好ましい。添加剤溶解液に添加されるセルロースエステルの量は、溶剤１００質量部に対して好ましくは１〜１０質量部であり、より好ましくは３〜５質量部である。
【０１６５】
インライン添加は、例えばスタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等を用いて行うことができる。
【０１６６】
得られるドープには、例えば原料であるセルロースエステルに含まれる不純物などの不溶物が含まれることがある。このような不溶物は、得られるフィルムにおいて輝点異物となりうる。このような不溶物等を除去するために、得られたドープを濾過することが好ましい。
【０１６７】
ドープの濾過は、濾紙等の濾過材によって行われる。濾過材の絶対濾過精度は、ドープに含まれる不溶物等を高度に除去するためには小さいことが好ましいが、小さすぎると目詰まりが生じやすい。このため、濾過材の絶対濾過精度は、０．００８ｍｍ以下であることが好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍであることがより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍであることがさらに好ましい。
【０１６８】
濾過材の種類は、通常の濾過材であってよく、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾過材や、ステンレススチール等の金属製の濾過材などでありうる。なかでも、繊維の脱落等が少ない観点から、金属製の濾過材が好ましい。
【０１６９】
ドープの濾過は、濾過前後の差圧を少なくするために、ドープの調製と同様に、加熱および加圧下で行うことが好ましい。加熱温度も、ドープの調製と同様に、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度とすることが好ましく、具体的には４５〜１２０℃であることが好ましく、４５〜７０℃であることがより好ましく、４５〜５５℃であることがさらに好ましい。濾圧は、低いことが好ましく、具体的には１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。
【０１７０】
ドープの濾過は、得られるフィルムにおける輝点異物の数が一定以下となるように行うことが好ましい。具体的には、径が０．０１ｍｍ以上である輝点異物の数が、２００個／ｃｍ２以下、好ましくは１００個／ｃｍ２以下、より好ましくは５０個／ｍ２以下、さらに好ましくは０〜１０個／ｃｍ２以下となるようにする。径が０．０１ｍｍ以下である輝点異物も少ないことが好ましい。
【０１７１】
フィルムの輝点異物の数は、以下の手順で測定することができる。
ｉ）２枚の偏光板をクロスニコル状態に配置し、それらの間に得られたフィルムを配置する。
ii）一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察したときに、光が漏れてみえる点（異物）の数をカウントする。
【０１７２】
２）ドープを流延する工程について
ドープが流延される金属支持体は、表面が鏡面仕上げされたものが好ましい。金属支持体の好ましい例は、ステンレススチールベルトや、鋳物で表面がメッキ仕上げされたドラムなどである。
【０１７３】
ドープが流延される金属支持体の表面温度は、ウェブの乾燥速度を高めるためには高いことが好ましいが、高すぎるとウェブが発泡したり、ウェブの平滑性が低下したりすることがある。そのため、金属支持体の表面温度は、−５０℃以上溶剤の沸点未満に設定されることが好ましく、０〜４０℃であることがより好ましく、５〜３０℃であることがさらに好ましい。
【０１７４】
金属支持体の表面温度の制御方法は、特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法などであってよい。熱を効率的に伝達でき、金属支持体の温度が一定になるまでの時間を短くできる観点などから、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法が好ましい。
【０１７５】
３）流延したドープを乾燥する工程について
流延したドープを、残留溶媒が一定以下となるように乾燥させる。金属支持体からウェブを剥離するときのウェブの残留溶媒量は、得られるフィルムの平面性を高めるためには１０〜１５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％（低残存溶媒量）または６０〜１３０質量％（高残存溶媒量）であることがより好ましく、２０〜３０質量％（低残存溶媒量）または７０〜１２０質量％（高残存溶媒量）であることがさらに好ましい。
【０１７６】
ウェブの残留溶媒量は、下記式で定義される。下記式において、Ｍは、製造中のウェブまたは製造後のフィルムから任意の時点で採取した試料の質量を示す。Ｎは、前記試料を１１５℃で１時間加熱した後の、試料の質量を示す。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
【０１７７】
４）ウェブを剥離する工程について
ウェブの剥離は、一般的な方法で行われるが、剥離ロールにより剥離することが好ましい。剥離ロールによる剥離は、ウェブが、金属支持体の下面に至り、ほぼ一巡したところで行うことが好ましい。ウェブの剥離張力は、３００Ｎ／ｍ以下とすることが好ましい。
【０１７８】
ウェブの剥離は、前記３）の工程でウェブを乾燥した後、剥離する方法だけでなく、前記２）の工程の後に、乾燥させることなくキャスト膜を冷却して、残留溶媒を多く含む状態のままゲル化させた後に、剥離してもよい。
【０１７９】
剥離されたウェブをさらに乾燥してもよい。剥離されたウェブの乾燥は、一般的に、ウェブを搬送させながら行うことができる。具体的には、剥離されたウェブを、上下に配置した多数のロールにより搬送しながら乾燥させるロール乾燥方式や、テンター方式などがある。
【０１８０】
ウェブの乾燥方法は、特に制限されないが、一般的に、熱風、赤外線、加熱ロールおよびマイクロ波等で乾燥する方法であってよく、簡便である点から、熱風で乾燥する方法が好ましい。ウェブの乾燥温度は、４０℃から２００℃にかけて、段階的に高くすることが好ましい。
【０１８１】
５）ウェブを延伸する工程について
ウェブの延伸により、所望のレターデーション値ＲｏおよびＲｔｈを有する光学フィルムを得る。光学フィルムのレターデーション値ＲｏおよびＲｔｈは、ウェブに掛かる張力の大きさを、少なくともウェブの搬送方向（ドープの流延方向）に対して垂直方向（幅方向）に調整することによって制御することができる。
【０１８２】
ウェブの延伸は、少なくとも幅方向に延伸すればよく、一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよい。また、ウェブの延伸は、幅方向またはドープの流延方向に対して斜め方向の延伸であってもよい。二軸延伸には、ウェブの搬送方向（縦方向）と幅方向（横方向）の両方に延伸することが含まれる。延伸は、逐次延伸であっても同時延伸であってもよい。
【０１８３】
ウェブの延伸倍率は、互いに直交する方向に二軸延伸する場合には、最終的には幅方向（横方向）に１．１〜２．５倍とし、搬送方向（縦方向）に０．８〜１．５倍とすることが好ましく；幅方向（横方向）に１．２〜２．０倍とし、搬送方向（縦方向）に０．９〜１．０倍とすることがより好ましい。
【０１８４】
ウェブの延伸温度は、１２０℃〜２００℃であることが好ましく、１４０℃〜１８０℃であることがより好ましい。延伸されるウェブの残留溶媒は、２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることが好ましい。
【０１８５】
ウェブの延伸方法は、特に制限されず、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法（ロール延伸法）、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を縦方向に向かって広げて縦方向に延伸したり、横方向に広げて横方向に延伸したり、縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法など（テンター延伸法）などが挙げられる。これらの延伸方法は、組み合わされてもよい。
【０１８６】
テンター延伸法は、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動することが好ましい。クリップ部分の移動が滑らかであるため、延伸を行い易く、ウェブの破断を生じる危険性を低減できるからである。
【０１８７】
ウェブの幅保持や横方向の延伸は、テンター法により行うことが好ましい。テンター法は、ピンテンター法でもクリップテンター法でもよい。
【０１８８】
延伸により得られた光学フィルムの幅は、搬送を容易にする観点などから、４ｍ以下であることが好ましく、１〜４ｍであることがより好ましく、１．４〜４ｍであることがさらに好ましく、１．６〜３ｍであることが特に好ましい。延伸により得られた光学フィルムは、必要に応じてさらに乾燥された後、巻き取られる。
【０１８９】
本発明の光学フィルムは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種表示装置の機能フィルムとして用いられる。特に本発明の光学フィルムは、液晶表示装置の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大用の光学補償フィルム等でありうる。
【０１９０】
３．偏光板
本発明の偏光板は、偏光子と、その一方の面に配置された本発明の光学フィルムとを含み、必要に応じて偏光子の他方の面に配置された偏光板保護フィルムをさらに含んでもよい。
【０１９１】
偏光子は、一定方向の偏波面の光のみを通過させる素子である。偏光子の代表的な例は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであり、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものと、がある。
【０１９２】
偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素または二色性染料で染色して得られるフィルムであってもよいし、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素または二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の厚さは、５〜３０μｍであることが好ましく、１０〜２０μｍであることがより好ましい。
【０１９３】
ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜したものであってもよい。ポリビニルアルコール系フィルムは、偏光性能および耐久性能に優れ、色斑が少ないなどことから、エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましい。エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムの例には、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載されたエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％のフィルムが含まれる。
【０１９４】
二色性色素の例には、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素およびアントラキノン系色素などが含まれる。
【０１９５】
本発明の光学フィルムは、偏光子の一方の面に直接配置されてもよいし、他のフィルムまたは層を介して配置されてもよい。本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムの機能を兼ねた光学補償フィルムであることが好ましい。偏光板保護フィルムとは別に光学補償フィルムをさらに用いる必要がなく、液晶表示装置を薄型化できるだけでなく、製造プロセスを簡略化できるからである。
【０１９６】
本発明の光学フィルム以外の偏光板保護フィルムは、特に制限されず、通常のセルロースエステルフィルム等であってよい。セルロースエステルフィルムの市販品の例には、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。
【０１９７】
偏光板は、通常、偏光子と、本発明の光学フィルムまたは偏光板保護フィルムとを貼り合わせて製造することができる。例えば、本発明の光学フィルムの偏光子と接する側の面をアルカリ鹸化処理した後、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液などの接着剤を介して偏光子と貼り合わせることが好ましい。
【０１９８】
４．液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを有する。そして、一対の偏光板のうち少なくとも一方が、前述の光学フィルムを有する偏光板であり、好ましくは一対の偏光板の両方が前述の光学フィルムを有する偏光板である。
【０１９９】
図２は、本発明に係る液晶表示装置の一実施形態の基本構成を示す模式図である。図２に示されるように、液晶表示装置１０は、液晶セル２０と、それを挟持する第一の偏光板４０および第二の偏光板６０と、バックライト８０と、を有する。
【０２００】
液晶セル２０の表示方式は、特に制限されず、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式（ＭＶＡ；Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ ＡｌｉｇｎｍｅｎｔやＰＶＡ；Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔも含む）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式等がある。コントラストを高めるためには、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）方式が好ましい。
【０２０１】
ＶＡ方式の液晶セルは、通常、対向する一対の透明基板と、一対の透明基板の間に挟持され、ポジ型液晶を含む液晶層と、を有する。
【０２０２】
一対の透明基板のうち、少なくとも一方の透明基板には、ポジ型液晶に電圧を印加するための画素電極と、それに対応する対向電極とが配置される。
【０２０３】
液晶層は、正の誘電異方性を有するネマチック液晶材料であるポジ型液晶分子を含む。このポジ型液晶分子は、透明基板の液晶層側の面に設けられた配向膜の配向規制力により、電圧無印加時（画素電極と対向電極との間に電界が生じていない時）には、液晶分子の長軸が、透明基板の表面に対して略垂直となるように配向している。
【０２０４】
このように構成された液晶セルでは、画素電極に画像信号（電圧）を印加することで、画素電極と対向電極との間に、基板面に対して水平方向の電界を生じさせる。これにより、透明基板の表面に対して垂直に初期配向している液晶分子を、その長軸が基板面に対して水平方向となるように配向させる。このように、液晶層を駆動し、各副画素の透過率および反射率を変化させて画像表示を行う。
【０２０５】
第一の偏光板４０は、視認側に配置されており、第一の偏光子４２と、それを挟持する偏光板保護フィルム４４（Ｆ１）および４６（Ｆ２）とを有する。第二の偏光板６０は、バックライト８０側に配置されており、第二の偏光子６２と、それを挟持する偏光板保護フィルム６４（Ｆ３）および偏光板保護フィルム６６（Ｆ４）とを有する。偏光板保護フィルム４６（Ｆ２）と６４（Ｆ３）の一方は、必要に応じて省略される場合がある。
【０２０６】
偏光板保護フィルム４４（Ｆ１）、４６（Ｆ２）、６４（Ｆ３）および６６（Ｆ４）のうち、液晶セル側に配置される偏光板保護フィルム４６（Ｆ２）と６４（Ｆ３）の少なくとも一方を、本発明の光学フィルムとすることが好ましい。表示側に配置される偏光板保護フィルム４４（Ｆ１）は、防眩層、クリアハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防汚層またはバックコート層をさらに有していてもよい。
【実施例】
【０２０７】
以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。
【０２０８】
１．セルロースジアセテートの合成
（合成例１）
広葉樹クラフト法パルプ１００重量部に、氷酢酸５０重量部を噴霧してよく攪拌し、２４℃で１時間静置させた（前処理による活性化工程）。これに、氷酢酸３５０重量部、無水酢酸３００重量部、および硫酸１２重量部からなる混合液を添加し、５０℃で３時間攪拌してセルロースのエステル化反応を行った。得られた溶液に、純水８０重量部、酢酸マグネシウム１０重量部を添加し、エステル化反応を停止させた。得られた溶液を８０℃で２時間攪拌し、熟成反応を行った。反応終了後、得られた溶液に純水２５重量部、酢酸マグネシウム１重量部を添加し、熟成反応を停止させた。得られた溶液を、希酢酸中に攪拌しながら投入して、生成物を沈殿させた。そして、沈殿物を濾別した後、得られた固形分を純水で十分に洗浄および乾燥させて、セルロースジアセテートＡ１を得た。
【０２０９】
得られたセルロースジアセテートＡ１の、１）溶液の濁度、２）アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）および対イオンとして存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの割合（Ｂ／Ａ）、３）６位のアセチル基置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）を、それぞれ以下の方法で測定した。
【０２１０】
１）セルロースアセテート溶液の濁度
メチレンクロライド９２重量部とエタノール８重量部とを混合し、メチレンクロライド／エタノール混合溶媒を調製した。このメチレンクロライド／エタノール混合溶媒１７１ｇに、セルロースジアセテートＡ１を１０ｇ添加して２時間攪拌し、セルロースジアセテートを溶解させた。得られたセルロースジアセテート溶液に、溶解残りがないことを目視で確認した。
【０２１１】
得られたセルロースジアセテート溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４（濾過精度７μｍ）を有する濾過機に投入し、０．４ＭＰａの圧力下で濾過し、濾液を回収した。そして、前述のメチレンクロライド／エタノール混合溶媒を、日本電色工業社製の硝子セル（光路長５ｍｍ）に入れ、日本電色工業社製のヘイズメーターＮＤＨ−２０００にセットして標準合わせを行った。その後、前述の硝子セルを取り外した。さらに、前述で回収したセルロースジアセテート溶液の濾液を、日本電色工業社製の硝子セルに入れたものを、ヘイズメーターＮＤＨ−２０００にセットして、セルロースジアセテート溶液の濁度（Ｔｕｒｂ）を測定した。これらの操作は、２３℃５５％ＲＨ雰囲気下で行った。
【０２１２】
２）アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの定量
２−１）アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）
セルロースジアセテートＡ１を乾燥させた後、完全に燃焼させて灰分を得た。得られた灰分を、塩酸に溶解させて前処理溶液を得た。得られた前処理溶液に含まれる、アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの量を、原子吸光法により測定した。測定値は、絶乾状態のセルロースジアセテート１ｋｇ中の各アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンの含有量（単位：ｍｇ）として得た。アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンの含有量の合計値を、セルロースジアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）（単位：ｐｐｍ）とした。
【０２１３】
２−２）対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）
セルロースジアセテートＡ１を１０ｇに純水１００ｇを加えて、２５℃で２４時間攪拌させた。攪拌後、得られた溶液をろ過して得られたセルロースジアセテートを、純水１００ｇで洗浄した後、乾燥させた。
【０２１４】
得られたセルロースジアセテートＡ１を、前述と同様に、完全に燃焼させて灰分を得た。得られた灰分を、塩酸に溶解させて前処理溶液を得た。得られた前処理溶液に含まれる、セルロースジアセテートＡ１に含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）（単位：ｐｐｍ）を、前述と同様に、原子吸光法により測定した。
【０２１５】
３）６位のアセチル基置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）の測定
セルロースジアセテートＡ１のアセチル基の総置換度（ＤＳｔ）、２位のアセチル基の置換度（ＤＳ２）、３位のアセチル基の置換度（ＤＳ３）、および６位のアセチル基の置換度（ＤＳ６）を、Ｔ．Ｓｅｉ，Ｋ．Ｉｓｈｉｔａｎｉ，Ｒ．Ｓｕｚｕｋｉ，Ｋ．Ｉｋｅｍａｔｓｕ，Ｐｏｌｉｍ．Ｊ．，１７，１０６５−１０６９（１９８５）に記載された方法に準じて測定した。そして、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６の和をＤＳｔとし、６位のアセチル基の置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）を算出した。
【０２１６】
（合成例２）
合成例１で得たセルロースジアセテートＡ１を、５０ｐｐｍの酢酸カルシウム水溶液に２５℃で１時間浸漬させた。この溶液をろ過した後、得られる固形分を乾燥させてセルロースジアセテートＡ２を得た。
【０２１７】
（合成例３）
合成例１で得たセルロースジアセテートＡ１を、１００ｐｐｍの酢酸カルシウム水溶液に２５℃で１時間浸漬させた。この溶液をろ過した後、得られる固形分を乾燥させてセルロースジアセテートＡ３を得た。
【０２１８】
（合成例４）
合成例１で得たセルロースジアセテートＡ１を、２００ｐｐｍの酢酸カルシウム水溶液に２５℃で１時間浸漬させた。この溶液をろ過した後、得られる固形分を乾燥させてセルロースジアセテートＡ４を得た。
【０２１９】
（合成例５）
合成例１で得たセルロースジアセテートＡ１を、４００ｐｐｍの酢酸カルシウム水溶液に２５℃で１時間浸漬させた。この溶液をろ過した後、得られる固形分を乾燥させてセルロースジアセテートＡ５を得た。
【０２２０】
（合成例６）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、原料パルプである広葉樹クラフト法パルプをコットンリンターパルプに変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ６を得た。
【０２２１】
（合成例７）
合成例６で得たセルロースジアセテートＡ６ １重量部を、１重量部のメタノールと１２重量部のメチレンクロライドの混合溶媒に添加し、セルロースジアセテートＡ６を完全に溶解させた。得られた溶液に、８０重量部のメタノールを滴下してセルロースジアセテートを再沈させた後、濾別した。得られたセルロースジアセテートをメタノールで洗浄および乾燥させて、セルロースジアセテートＡ７を得た。
【０２２２】
（合成例８〜９）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、溶液の濁度が表１に示される値となるように、エステル化工程において触媒として用いられる硫酸量を変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ８〜Ａ９を得た。
【０２２３】
（合成例１０）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、割合（Ｂ／Ａ）が表１に示されるように値となるように、エステル化工程において触媒として用いられる硫酸量を変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ１０を得た。
【０２２４】
（合成例１１）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、６位のアセチル基置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）が表１に示される値となるように、エステル化工程後に添加する純水の量を変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ１１を得た。
【０２２５】
（合成例１２〜１３）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、６位のアセチル基置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）が表１に示される値となるように、エステル化工程で添加する氷酢酸の量を変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ１２〜１３を得た。
【０２２６】
得られたセルロースジアセテートＡ１〜Ａ１３の物性を表１にまとめた。
【表１】
【０２２７】
２．光学フィルムの作製
（実施例１）
ドープ液の調製
下記組成のドープ液を調製した。まず、加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを投入した。これらの溶剤に、さらにセルロースジアセテートＡ２を攪拌しながら投入した。得られた溶液を、加熱下で攪拌しながら溶解させ、糖エステル化合物４をさらに添加し、攪拌して完全に溶解させた。得られた溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を用いてろ過し、ドープ液を得た。
〔ドープ液の組成〕
メチレンクロライド ４４０質量部
エタノール ３８質量部
セルロースジアセテートＡ２ １００質量部
糖エステル化合物４ ５質量部
【０２２８】
次いで、３５℃に調整した上記ドープ液を、無端ベルト流延装置のステンレスベルト支持体上に、幅１５００ｍｍとなるように均一に流延させた。ステンレスベルト支持体の温度は３０℃とした。ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）された塗膜中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させた後、剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から塗膜を剥離した。剥離して得られるウェブを、１４０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に２０％延伸した。延伸開始時のウェブの残留溶媒量は１５％であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥は、搬送張力１００Ｎ／ｍ、温度１３０℃で行った。これにより、膜厚４０μｍの光学フィルムを得た。
【０２２９】
（実施例２〜８）
表２に示されるように、セルロースジアセテートの種類を変更した以外は実施例１と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３０】
（実施例９〜１３）
表２に示されるフィルムの膜厚となるように、ドープの流量を変更した以外は実施例１と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３１】
（実施例１４〜１８）
表２に示されるフィルムの膜厚となるように、ドープの流量を変更した以外は実施例２と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３２】
（実施例１９〜２３）
表２に示されるフィルムの膜厚となるように、ドープの流量を変更した以外は実施例７と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３３】
（比較例１〜５）
表２に示されるように、セルロースジアセテートの種類を変更した以外は実施例１と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３４】
得られた光学フィルムの内部ヘイズ、ブロッキング耐性およびスリッティング特性を、以下の方法で評価した。
【０２３５】
内部ヘイズの測定
光学フィルムの内部ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法；具体的には、以下の方法で測定した。ヘイズメーター（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色（株）製）を準備した。光源は５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部はシリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）とした。
【０２３６】
１）ブランクヘイズの測定
洗浄したスライドガラスの上に、グリセリンを一滴（０．０５ｍｌ）滴下した。このとき、液滴に気泡が入らないように注意した。
次いで、滴下したグリセリンの上に、カバーガラスを載せた。カバーガラスは押さえなくてもグリセリンは広がった。
これにより得られるブランク測定用のサンプル（カバーガラス／グリセリン／スライドガラス）を、ヘイズメーターにセットして、ヘイズ１（ブランクヘイズ）を測定した。
２）光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定
前記１）と同様にして、洗浄したスライドガラスの上にグリセリンを滴下した。
一方で、測定する光学フィルムを、２３℃５５％ＲＨ下で５時間以上調湿した。次いで、滴下したグリセリンの上に、調湿した光学フィルムを、気泡が入らないように載せた。
さらに、光学フィルム上に０．０５ｍｌのグリセリンを滴下した後、カバーガラスをさらに載せた。
これにより得られる測定用のサンプル（カバーガラス／グリセリン／試料フィルム／グリセリン／スライドガラス）を、前述のヘイズメーターにセットして、ヘイズ２を測定した。
３）前記１）で得られたヘイズ１と、前記２）で得られたヘイズ２を、下記式に当てはめて、光学フィルムのヘイズを算出した。
光学フィルムの内部ヘイズ（％）＝ヘイズ２（％）−ヘイズ１（％）
【０２３７】
内部ヘイズの測定は、いずれも２３℃５５％ＲＨの条件下にて行った。また、測定に用いたガラスは、ＭＩＣＲＯ ＳＬＩＤＥ ＧＬＡＳＳ Ｓ９２１３ ＭＡＴＳＵＮＡＭＩとした。また、測定に用いたグリセリンは、関東化学製 鹿特級（純度＞９９．０％）、屈折率１．４７とした。
【０２３８】
ブロッキング耐性の測定
得られた、長さ２６００ｍの長尺状の光学フィルムをリール状に巻き取って巻き取り体を得た。得られた巻き取り体を、ポリエチレンシートで二重に包んだ後、２５℃５０％ＲＨの条件下で３０日間保存した。その後、ポリエチレンシートから巻き取り体を取り出し、巻き取り体からフィルムを繰り出したときのブロッキングの発生の有無を、目視観察した。ブロッキング耐性の評価は、以下の基準に基づいて行った。
Ａ：巻き取り体の巻きの状態において、フィルム同士の貼り付きによる凹凸（巻きの変形）が全く見られない
Ｂ：フィルムを繰り出すときに軽い剥離音がするが、巻きに変形が見られない
Ｃ：フィルムを繰り出すときに軽く抵抗があるが、巻きに変形が見られない
Ｄ：フィルムを繰り出すときに軽く抵抗があり、巻きに変形が見られる
Ｅ：フィルムを繰り出すときに強い抵抗があり、巻きに大きな変形が見られる
Ａ、ＢおよびＣが実用上問題ないレベルと判断した。
【０２３９】
スリッティング適性（脆性）
油圧卓上プレス機に、刃先の角度を６０°に摩耗させた上刃と、９０°の下刃とを、水平方向の間隔が３０μｍとなるように取り付けた。そして、上刃の先端と下刃の先端との間に、得られたフィルムをセットし、上刃の下降速度６ｍ／分の条件で、幅９０ｃｍ、長さ１００ｃｍの大きさの試料片を、連続して１００枚切り出した。切り出された各試料片の裁断面を、光学顕微鏡を用いて５０倍で観察した。バリや劈開、切断できない、切りくずの発生等の不良が発生したフィルムの枚数をカウントし、下記式に当てはめて不良率を算出した。
不良率（％）＝（不良が発生したフィルムの枚数／切り出した全フィルムの枚数（１００枚））×１００
【０２４０】
スリッティング適性の評価は、下記の基準に基づいて行った。
Ａ：不良率が１％未満
Ｂ：不良率が１％以上２％未満
Ｃ：不良率が２％以上５％未満
Ｄ：不良率が５％以上１０％未満
Ｅ：不良率が１０％以上
Ａ、ＢおよびＣが実用上問題ないレベルと判断した。
【０２４１】
実施例１〜２３および比較例１〜５の光学フィルムの評価結果を表２に示す。
【表２】
【０２４２】
表２に示されるように、溶液の濁度、アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）、および６位のアセチル基置換度の割合がいずれも本願の範囲を満たすセルロースエステルを含む実施例１〜２３の光学フィルムは、内部ヘイズが低く、かつブロッキング耐性とスリッティング適性が良好であることがわかる。
【０２４３】
一方、アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が少なすぎるセルロースエステルを含む比較例１の光学フィルムは、ブロッキング耐性が低く、アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が多すぎるセルロースエステルを含む比較例２の光学フィルムは、内部ヘイズが高いことがわかる。また、セルロースジアセテート溶液の濁度が低すぎる比較例３の光学フィルムは、ブロッキング耐性が低く、セルロースジアセテート溶液の濁度が高すぎる比較例４の光学フィルムは、内部ヘイズが高いことがわかる。さらに、６位のアセチル基置換度の割合が低すぎる比較例５の光学フィルムは、ブロッキング耐性とスリッティング適性がいずれも低いことがわかる。
【０２４４】
また、対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量（Ｂ）の割合（Ｂ／Ａ）が０．５〜０．９の範囲にあるセルロースエステルを含む実施例１〜３の光学フィルムは、上記範囲を満たさない実施例４〜５および１０の光学フィルムよりも、内部ヘイズが低く、かつブロッキング耐性が優れることがわかる。
【０２４５】
さらに、実施例１１〜１３、１６〜１８および２１〜２３の光学フィルムは、膜厚が小さいにも係わらず、良好なブロッキング耐性とスリッティング適性を示すことがわかる。また、対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの割合（Ｂ／Ａ）が０．７５〜０．９の範囲にあるセルロースエステルを含む実施例１〜５の光学フィルムは、膜厚が小さいにも係わらず、ブロッキング耐性がほとんど低下しないことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０２４６】
本発明の光学フィルムは、ヘイズが低く、ブロッキングが十分に抑制され、かつ良好な脆性を有する。
【符号の説明】
【０２４７】
１０ 液晶表示装置
２０ 液晶セル
４０ 第一の偏光板
４２ 第一の偏光子
４４ 偏光板保護フィルム（Ｆ１）
４６ 偏光板保護フィルム（Ｆ２）
６０ 第二の偏光板
６２ 第二の偏光子
６４ 偏光板保護フィルム（Ｆ３）
６６ 偏光板保護フィルム（Ｆ４）
８０ バックライト
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムとその製造方法、偏光板および液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィン等の樹脂フィルムは、液晶表示装置の光学フィルムとして用いられている。なかでも、セルロースエステルを含む樹脂フィルム（セルロースエステルフィルム）は、偏光子であるポリビニルアルコールフィルムと貼り合わせやすいことから、広く用いられている。
【０００３】
近年、薄型かつ軽量なノートパソコンや、薄型かつ大画面のテレビなどの開発が進んでいる。それに伴い、液晶表示装置用の光学フィルムも、さらに薄く、大きく、コントラストを高める機能を有することが求められている。液晶表示装置のコントラストを高めるためには、光学フィルムのヘイズを低くすることが有効である。
【０００４】
ヘイズが低減されたフィルムとして、精製されたセルロースエステルを含むフィルム（例えば特許文献１）や、濁度が低いセルロースエステルを含むフィルム（例えば特許文献２）などが提案されている。
【０００５】
また、セルロースエステルは加水分解しやすい。そのため、加水分解しにくいセルロースエステルフィルムとして、カルシウムイオンの含有量が所定の範囲に調整されたセルロースエステルを含む光学フィルムが提案されている（例えば特許文献３）。
【０００６】
さらに、総アセチル基置換度に対する６位のアセチル基置換度の割合が高いセルロースジアセテートを含む光学フィルムも提案されている（例えば特許文献４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−２８６９３１号公報
【特許文献２】特開２００８−１１５２９８号公報
【特許文献３】国際公開第２００４／０７６４９０号
【特許文献４】特開２００９−１５５５５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献３に記載のフィルムは、ヘイズが高くなりやすかった。一方、特許文献１および２に記載のフィルムは、ヘイズは低いが、ブロッキング耐性が低かった。ブロッキングを抑制するために、従来では、シリカ系微粒子などのマット剤を含むフィルムが検討されている。しかしながら、マット剤は、フィルム材料とは異なる材料で構成されるため、フィルム材料とマット剤との屈折率差によって散乱が生じやすく、ヘイズが増大しやすかった。
【０００９】
このように、ヘイズが低く、かつブロッキングが抑制されたフィルムを得ることは難しかった。特に膜厚が小さいフィルムにおいては、ブロッキング耐性がより低いという問題があった。
【００１０】
また、膜厚が小さいフィルムは、通常の膜厚のフィルムよりも脆性が大幅に低下しやすい（脆くなりやすい）という問題があった。光学フィルムの製造工程では、横延伸時のフィルムの挟挾部や延伸後のフィルムのナーリング加工部を除去したり、広幅の原反フィルムを所定の幅に調整したりするために、フィルムをスリッティングすることがある。そのため、脆性が低いフィルムは、スリッティング面が荒れたり、割れたりしやすく、生産性が低下しやすかった。また、スリッティングによって発生した微小のフィルム屑が、フィルム面に付着して故障を発生することもあった。
【００１１】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ヘイズが低く、ブロッキングが十分に抑制され、かつ良好な脆性を有する光学フィルム、それを含む偏光板および液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
［１］ アセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含有する光学フィルムであって、
前記セルロースアセテートが、下記Ａ）およびＢ）の要件を満たし、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
かつ
前記セルロースアセテート１ｋｇ相当のフィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が３５ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である、光学フィルム。
［２］ 前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンが、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンを含み、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の、前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）に対する割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下である、［１］に記載の光学フィルム。
［３］ 前記割合（Ｂ／Ａ）が、０．７５以上０．９０以下である、［１］または［２］に記載の光学フィルム。
［４］ ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定される内部ヘイズが、０．０５％以下である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］ 前記光学フィルムの厚みが、１５〜６０μｍである、［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルム。
【００１３】
［６］ 偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に配置された、［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルムと、を含む、偏光板。
［７］ 液晶セルと、前記液晶セルを挟持する一対の偏光板と、を含む液晶表示装置であって、前記一対の偏光板のうち少なくとも一方は、偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に配置される［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルムと、を含む、液晶表示装置。
【００１４】
［８］ ［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法であって、下記Ａ）、Ｂ）およびＣ）の要件を全て満たし、かつアセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含む樹脂組成物を得るステップと、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
Ｃ）セルロースアセテート１ｋｇに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量が３０ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である
前記樹脂組成物を成形して光学フィルムとするステップと、を含む、光学フィルムの製造方法。
［９］ 前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンが、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンを含み、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の、前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）に対する割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下である、［８］に記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光学フィルムは、ヘイズが低く、ブロッキングが十分に抑制され、かつ良好な脆性を有する。そのため、本発明の光学フィルムを含む液晶表示装置は、正面コントラストが高められうる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１Ａ】光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
【図１Ｂ】光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
【図１Ｃ】光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
【図１Ｄ】光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
【図２】本発明に係る液晶表示装置の一実施形態の基本構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
１．光学フィルム
本発明の光学フィルムは、セルロースエステルを含有し、必要に応じて可塑剤などをさらに含有してもよい。
【００１８】
セルロースエステルについて
本発明の光学フィルムに含まれるセルロースエステルは、セルロースを、炭素原子数２〜２２の脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸でエステル化した化合物であり、好ましくはセルロースを炭素原子数７以下の脂肪族カルボン酸でエステル化した化合物である。
【００１９】
セルロースエステルに含まれる脂肪族アシル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、環を有していてもよい。通常、脂肪族アシル基の炭素原子数が多すぎると、レターデーションが発現しにくい。そのため、脂肪族アシル基の炭素原子数は、２〜７であることが好ましく、２〜６であることがより好ましく、２〜４であることがさらに好ましい。脂肪族アシル基は、一種類であっても、二種類以上であってもよい。
【００２０】
セルロースエステルの例には、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどが含まれ、好ましくはセルロースアセテートである。
【００２１】
セルロースエステルのアシル基の総置換度は、レターデーションを発現させやすくしたり、フィルムの柔軟性を高めたりするためには、１．５〜２．６であることが好ましく、２．０〜２．６であることがより好ましく、２．３〜２．５であることがさらに好ましい。セルロースエステルのアシル基置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【００２２】
セルロースエステルに含まれるアシル基のうち、炭素原子数３以上のアシル基の置換度は、レターデーションを発現させやすくするためには、２．６以下であることが好ましく、０であることがより好ましい。即ち、アセチル基の置換度が、好ましくは１．５〜２．６であり、より好ましくは２．０〜２．６であり、さらに好ましくは２．３〜２．５であるセルロースアセテートが好ましい。
【００２３】
セルロースアセテートは、下記式（ａ）および（ｂ）を同時に満たすことが好ましい。
式（ａ） ２．０≦ＤＳｔ≦２．６
式（ｂ） ２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を示し、ＤＳ６は６位アセチル基の置換度を示す）
【００２４】
アセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下のセルロースアセテートなどの置換度が低いセルロースアセテートは、セルローストリアセテートなどの置換度が高いセルロースアセテートと比べて、アセチル基の置換度や置換位置が異なるセルロースアセテートを多く含むため、フィルムの柔軟性が高くなりやすい。さらに、６位のアセチル基の置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）が高いセルロースアセテートは、分子間の水素結合が弱いため、フィルムの柔軟性が高い（脆性が低い）と考えられる。また、分子間の水素結合性が弱いセルロースアセテートは、フィルム同士もくっつきにくいため、ブロッキング耐性も高いと考えられる。
【００２５】
セルロースアセテートは、得られるフィルムの柔軟性とブロッキング耐性をより高めるためには、下記式（ｃ）と（ｄ）を同時に満たすことがより好ましい。
式（ｃ） ２．３≦ＤＳｔ≦２．５
式（ｄ） ３０．０≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３３．５
【００２６】
セルロースアセテートの６位のアセチル基の置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）は、原料のセルロースからセルロースアセテートを合成する際の合成条件（例えば、セルロースのエステル化工程において触媒として用いられる硫酸の量、エステル化工程において添加される氷酢酸の量、エステル化工程後または熟成工程における酢酸水溶液中の酢酸濃度など）によって調整することができる。例えば、６位のアセチル基の置換度が高くするためには、特開２００９−１５５５５５号に記載されるように、セルロースのエステル化工程における触媒としての硫酸の量を少なくしたり、セルロースのエステル化工程における氷酢酸の量を多くしたり、エステル化工程後または熟成工程における酢酸濃度を高くしたり（水分量を少なくしたり）すればよい。
【００２７】
セルロースアセテートの２位、３位、６位のアセチル基の置換度は、Ｔ．Ｓｅｉ，Ｋ．Ｉｓｈｉｔａｎｉ，Ｒ．Ｓｕｚｕｋｉ，Ｋ．Ｉｋｅｍａｔｓｕ，Ｐｏｌｉｍ．Ｊ．，１７，１０６５−１０６９（１９８５）に記載された方法で測定することができる。
【００２８】
セルロースエステルの数平均分子量は、機械的強度が高いフィルムを得るためには、３．０×１０４〜２．０×１０５の範囲であることが好ましく、４．０×１０４〜１．０×１０５の範囲であることがより好ましい。セルロースエステルの数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
【００２９】
測定条件は以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製）を３本接続して使用する。
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１．０×１０６〜５．０×１０２までの１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に選択することが好ましい。
【００３０】
セルロースエステルは、公知の方法で合成することができる。具体的には、セルロースと、少なくとも酢酸または無水酢酸を含む、炭素原子数３以上の有機酸またはその無水物と、をエステル化反応させて合成することができる（特開平１０−４５８０４号に記載の方法を参照）。
【００３１】
原料となるセルロースは、例えば綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）およびケナフなどを用いることができる。原料となるセルロースは、一種類だけであってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。
【００３２】
セルロースエステルは、内部ヘイズの低いフィルムを得るためには、メチルクロライド９２質量％とエタノール８質量％との混合溶媒１７１重量部にセルロースエステル１０重量部を溶解させた溶液を、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下であることが好ましく、０．５以上３．０以下であることがより好ましい。
【００３３】
溶液の濁度が低すぎるセルロースエステルを含むフィルムは、内部ヘイズは低いが、フィルム表面が平滑になりすぎるため、ブロッキング耐性が低くなりやすい。即ち、溶液の濁度が一定以上であるセルロースエステルは、微小なゲルを適度に含む。そのようなセルロースエステルを含むフィルムの表面には、微小なゲルの凹凸が形成されるため、ブロッキング耐性が高められると考えられる。
【００３４】
微小なゲルは、セルロースアセテートの（平均の置換度よりも）低置換度の成分または高置換度の成分が、メチレンクロライド／エタノール混合溶媒中でそれぞれ形成した会合体や；木材パルプを原料とするセルロースアセテートに含まれるヘミセルロース誘導体などである。
【００３５】
一方、溶液の濁度が高すぎるセルロースエステルを含むフィルムは、内部ヘイズが高すぎることがある。
【００３６】
セルロースエステル溶液の濁度は、以下の方法で測定することができる。
１）メチレンクロライド９２重量部とエタノール８重量部とを混合し、メチレンクロライド／エタノール混合溶媒を調製する。このメチレンクロライド／エタノール混合溶媒１７１ｇに、セルロースエステルを１０ｇ添加し、２時間攪拌し、溶解残りがなくなるまでセルロースエステルを溶解させる。
２）得られたセルロースエステル溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４（濾過精度７μｍ）を有する濾過機に投入し、０．４ＭＰａの圧力下で濾過し、濾液を回収する。
３）前述のメチレンクロライド／エタノール混合溶媒を、日本電色工業社製の硝子セル（光路長５ｍｍ）に入れたものを、日本電色工業社製ヘイズメーターＮＤＨ−２０００にセットし、標準合わせを行う。
４）前述の硝子セルを取り外した後、前記２）で得られた濾液を、日本電色工業社製の硝子セルに入れたものをヘイズメーターＮＤＨ−２０００にセットし、溶液の濁度（Ｔｕｒｂ）を測定する。
【００３７】
セルロースアセテート溶液の濁度は、１）セルロースアセテートの原料パルプの種類、２）セルロースアセテートの合成条件、３）セルロースアセテートの精製、４）複数種類のセルロースアセテートの混合などによって調整されうる。
【００３８】
１）の原料パルプの例には、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）およびケナフなどが含まれる。セルロースアセテート溶液の濁度を低くするためには、綿花リンターや、ヘミセルロースの含有量の少ない木材パルプを選択したりすればよい。
【００３９】
２）のセルロースアセテートの合成条件の例には、触媒量、反応温度、反応時間、溶媒（例えば氷酢酸）の量または濃度、および水分量などを調整する方法が含まれる。溶液の濁度を低くするためには、触媒として用いられる硫酸量を多くすればよい（例えば、特開２００３−２０１３０１号を参照）。
【００４０】
３）のセルロースアセテートの精製方法の例には、得られたセルロースエステルを所定の溶媒で懸濁洗浄する方法、セルロースアセテートを良溶媒に溶解させた後、貧溶媒を添加してセルロースアセテートを再沈殿させる方法（例えば、特開２００８−５６８１９号記載の方法）、セルロースアセテート溶液を適切な濾材を用いて濾過した後、得られる濾液からセルロースアセテートを回収する方法、セルロースアセテート溶液を遠心分離して、得られる上澄み液からセルロースアセテートを回収する方法などが含まれる。
【００４１】
４）の複数種のセルロースエステルを混合する方法の例には、濁度の異なるセルロースアセテートを混合する方法などが含まれる。
【００４２】
セルロースエステルは、セルロースエステル１ｋｇに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が３０ｍｇ以上２５０ｍｇ以下であることが好ましく、４０ｍｇ以上２００ｍｇ以下であることがより好ましい。
【００４３】
セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が多すぎると、セルロースエステルを含むフィルム中で金属塩が凝集して結晶化しやすい。結晶化した金属塩は、散乱因子となるため、フィルムの内部ヘイズを高めやすい。一方、セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が少なすぎると、セルロースアセテート溶液の濁度の要因となる前述の微小なゲルが、前述のアルカリ金属イオンやアルカリ土類金属イオンによって分散されないため、凝集しやすい。微小なゲルの凝集物は、散乱因子となるため、フィルムの内部ヘイズを高めやすい。
【００４４】
これに対して、セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が上記の範囲であれば、フィルム中で金属塩が結晶化せずに、均一に分散しやすい。さらに、金属塩は、微小なゲルを分散させやすくしうる。そのため、セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が上記の範囲に調整されたフィルムは、内部ヘイズが低いと考えられる。さらに、フィルムの表面には、微小なゲルによって形成される微小な凸凹が高度に分散しているため、ブロッキング耐性も高いと考えられる。
【００４５】
セルロースエステルに含まれるアルカリ金属イオンの例には、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオンなどが含まれ、好ましくはナトリウムイオンまたはカリウムイオンである。アルカリ土類金属イオンの例には、カルシウムイオン、マグネシウムイオン、バリウムイオンなどが含まれ、好ましくはカルシウムイオンまたはマグネシウムイオンである。
【００４６】
セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンは、任意の形態で含まれてよく、例えば遊離酸の塩（酢酸塩や硫酸塩など）として含まれていてもよいし；セルロースアセテートの酸性基（カルボキシル基やスルホン基）の対イオンとして含まれていてもよい。
【００４７】
セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）は、公知の方法で測定することができる。例えば、セルロースアセテートを完全に燃焼させた後に得られる灰分を、塩酸に溶解させて前処理溶液とした後；得られた前処理溶液に含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量を、原子吸光法により測定することができる。また、絶乾させたセルロースアセテートを、マイクロダイジェスト湿式分解装置にて、硫硝酸分解およびアルカリ溶融させて前処理溶液を得た後；得られた前処理溶液に含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量を、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘電結合プラズマ発光分光分析装置）により測定することもできる。
【００４８】
セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）は、１）原料パルプからセルロースアセテートを合成する際の金属塩（中和剤、安定化剤）の添加量、２）セルロースアセテートの洗浄、３）合成後のセルロースアセテートへの金属塩の添加などによって調整することができる。
【００４９】
１）の原料パルプからセルロースアセテートを合成する際の金属塩（中和剤、安定化剤）の添加は、国際公開第２００４／０７６４９０号に記載されるように、セルロースアセテートの製造方法によって種々のタイミングで行われる。アシル化工程の終了工程、アシル化工程後であって熟成工程前、または熟成工程において金属塩を添加してもよいし；熟成工程後の液状のセルロースアセテートを凝固沈殿させる際の凝固液に金属塩を添加してもよいし；乾燥後のセルロースアセテート粒子に金属塩の水溶液を噴霧して添加してもよい。これらの金属塩の添加工程を組み合わされてもよい。これらのうち少なくとも一の金属塩の添加工程において、金属塩の添加量を調整すればよい。
【００５０】
中和剤または安定化剤として使用されるアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の例には、酢酸ナトリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどが含まれる。
【００５１】
２）のセルロースアセテートの洗浄方法の例には、合成後のセルロースアセテートを、金属塩を溶解しうる溶媒（水、メタノール、エタノール等）や、希薄な酸性水溶液（塩酸または硫酸など）で洗浄する方法が含まれる。希薄な酸性水溶液の酸濃度は、洗浄時のセルロースアセテートの加水分解を抑制するために、０．１ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好まく、０．０１ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましい。洗浄方法は、特に制限されず、例えば懸濁洗浄方法などであってよい。
【００５２】
３）の合成後のセルロースアセテートへの金属塩の添加は、例えば、合成後のセルロースアセテートを、金属塩の溶液に浸漬させた後、ろ過および乾燥させることによって行う。
【００５３】
金属塩の溶液に含まれる金属塩の例には、酢酸ナトリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等が含まれる。金属塩の溶液に含まれる溶媒は、金属塩が溶解するものであればよく、好ましくは水、メタノールまたはエタノールであり、より好ましくは水である。金属塩の溶液の濃度は、０．１ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、０．０１ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましい。
【００５４】
前述の通り、セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンには、酢酸塩や硫酸塩（遊離酸の塩）として含まれるものだけでなく、セルロースアセテートの酸性基（カルボキシル基またはスルホン基など）の対イオンとして含まれるものもある。
【００５５】
「セルロースアセテート１ｋｇ中に含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）」に対する「セルロースアセテート１ｋｇ中に含まれるセルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）」の割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下であることが好ましく、０．７５以上０．９以下であることがより好ましい。
【００５６】
「セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」は、前述のセルロースアセテート溶液の濁度の原因となる微小なゲルを高度に分散させうる。即ち、セルロースアセテート溶液の濁度の原因となる微小なゲルは、それ自体（セルロースジアセテート）の対イオンとして存在する金属イオンによって安定化され（分散され）；さらに微小なゲルの周囲の遊離酸の塩として存在する金属イオンによってさらに安定化される（分散される）と考えられる。そのため、割合（Ｂ／Ａ）を上記範囲にすることで、微小なゲルを高度に分散させることができ、得られるフィルムの内部ヘイズを低くすることができる。さらに、得られるフィルムの表面に、微小なゲルによって形成される凸凹が均一に分散するため、ブロッキング耐性も高められると考えられる。
【００５７】
セルロースアセテートに含まれる、セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量（Ｂ）は、例えば、セルロースアセテートを純水で十分に洗浄した後、得られるセルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量を、前述と同様の方法で測定すればよい。
【００５８】
割合（Ｂ／Ａ）は、セルロースアセテートの合成条件（例えば触媒量）を調整したり；セルロースアセテートに、「セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」または「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」を添加して調整したりすることができる。
【００５９】
これらのなかでも、割合（Ｂ／Ａ）を上記の範囲に精度よく調整するためには、セルロースアセテートに、「セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」または「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」（金属塩）を添加して調整する方法が好ましい。その場合、１）セルロースアセテートを純水などの溶媒で十分に洗浄して「セルロースアセテートの対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」の量を測定した後；２）割合（Ｂ／Ａ）が所望の値になるように、金属塩を添加することが好ましい。
【００６０】
「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」は、水溶性である。そのため、「セルロースアセテートの酸性基の対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」は、セルロースアセテートを純水で十分に洗浄した後、セルロースアセテートに残存するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンとして単離することができる。
【００６１】
「セルロースアセテートの酸性基の対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」を完全に単離できたかどうかの判断は、１）セルロースアセテートの洗浄操作を複数回行い、各洗浄操作後のセルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量を測定し、２）測定されたアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量が、洗浄回数によって変化しない（ほぼ一定となる）ことを確認する方法によって行うことができる。例えば、上記の洗浄条件であれば、１回の洗浄操作によって「セルロースアセテートの酸性基の対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオン」をほぼ完全に単離することができる。
【００６２】
例えば、割合（Ｂ／Ａ）を低くするためには、セルロースアセテートを、金属塩を含む溶液に含浸させた後、ろ過および乾燥するなどして、「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオン」の量を多くしたり；セルロースアセテートの合成条件である触媒量を少なくしたりすればよい。一方、割合（Ｂ／Ａ）を高くするためには、例えばセルロースアセテートを、遊離酸の塩を溶解しうる溶媒（純水、メタノール、エタノール等）で洗浄するなどして「遊離酸の塩として存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオン」の量を少なくしたり；セルロースアセテートの合成条件である触媒量を多くしたりすればよい。
【００６３】
本発明の光学フィルムに含まれるセルロースアセテートは、前述した６位のアセチル基の置換度の割合、溶液の濁度、およびアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）をいずれも満たすことが好ましく、前述した対イオンとして存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の割合（Ｂ／Ａ）をさらに満たすことがより好ましい。
【００６４】
本発明の光学フィルムに含まれるセルロースエステルは、一種類のセルロースエステルであってもよいし、例えば置換度の異なる二種類以上のセルロースエステルの混合物であってもよい。二種類のセルロースエステルの混合物における混合比は、１０：９０〜９０：１０（質量比）としうる。
【００６５】
本発明の光学フィルムは、前述のセルロースアセテートに加えて、糖エステル化合物、可塑剤、リターデーション制御剤、波長分散制御剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤および微粒子などをさらに含んでもよい。
【００６６】
糖エステル化合物
本発明の光学フィルムに含有される糖エステル化合物は、糖に含まれる水酸基とモノカルボン酸とをエステル化反応させて得られる化合物である。
【００６７】
糖エステル化合物を構成する糖は、フラノース構造とピラノース構造の少なくとも一方が、１個以上１２個以下結合した化合物であることが好ましい。
【００６８】
糖エステル化合物を構成する糖の例には、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロースおよびアラビノースなどの単糖；ラクトース、スクロース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、ゲンチオビオースなどの二糖；
セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース、ケストース、ゲンチオトリオース、キシロトリオースなどの三糖；ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、ゲンチオテトラオース、ガラクトシルスクロースなどの四糖以上の多糖などが含まれる。糖エステル化合物を構成する糖の例には、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖などのオリゴ糖も含まれる。これらのオリゴ糖は、澱粉やショ糖に、アミラーゼ等の酵素を作用させて製造される。
【００６９】
なかでも、ピラノース構造とフラノース構造の両方を有する糖が好ましく、スクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオースなどがより好ましく、スクロースがさらに好ましい。
【００７０】
糖エステル化合物を構成するモノカルボン酸は、特に制限されず、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸でありうる。フィルムのリターデーションを発現させ易くするためには、芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、一種類でもよいし、二種以上の混合物であってもよい。例えば、脂肪族モノカルボン酸と芳香族モノカルボン酸とを組み合わせてもよい。
【００７１】
脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。
【００７２】
脂環族モノカルボン酸の例には、酢酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸が含まれる。
【００７３】
芳香族モノカルボン酸は、一以上のベンゼン環を有するモノカルボン酸であって、ベンゼン環はアルキル基またはアルコキシ基などの置換基をさらに有していてもよい。芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ−アニス酸、ｍ−アニス酸、ｐ−アニス酸、クレオソート酸、ｏ−ホモサリチル酸、ｍ−ホモサリチル酸、ｐ−ホモサリチル酸、ｏ−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ−ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ−クマル酸などが挙げられ、特に安息香酸が好ましい。
【００７４】
ピラノース構造またはフラノース構造を有する構成糖に含まれる水酸基の７０％以上が、モノカルボン酸でエステル化されていることが好ましい。
【００７５】
糖エステル化合物は、下記一般式（Ａ）で表されるピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも１種を１個以上１２個以下縮合して得られる糖を、モノカルボン酸でエステル化して得られる化合物であることが好ましい。
【化１】
【００７６】
式（Ａ）において、Ｒ１１〜Ｒ１５およびＲ２１〜Ｒ２５は、炭素数２〜２２のアシル基または水素原子を示す。ｍ、ｎはそれぞれ０〜１２の整数を示し、ｍ＋ｎは１〜１２の整数を示す。
【００７７】
炭素数２〜２２のアシル基は、ベンゾイル基であることが好ましい。ベンゾイル基は、さらに置換基を有していてもよく、そのような置換基の例には、アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、フェニル基などが含まれる。
【００７８】
糖エステル化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【００７９】
糖エステル化合物の含有量は、光学フィルムの湿度の変動による位相差値の変動を抑制して、表示品位を安定化させるために、セルロースエステルに対して１〜３０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることが特に好ましい。
【００８０】
可塑剤
可塑剤の例には、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤（フタル酸エステル系可塑剤を含む）、グリコレート系可塑剤、エステル系可塑剤（脂肪酸エステル系可塑剤を含む）、およびアクリル系可塑剤などが好ましい。これらは単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８１】
ポリエステル系可塑剤
ポリエステル系可塑剤は、下記一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。
一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
【００８２】
式（１）中、Ａは、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される２価の基または炭素原子数８〜１４のアリールジカルボン酸から誘導される２価の基を表す。Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される２価の基、炭素原子数６〜１２のアリールグリコールから誘導される２価の基、または炭素原子数が４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基を表す。Ｂは、水素原子またはモノカルボン酸から誘導される１価の基を表す。ｎは、１以上の整数を表す。
【００８３】
Ａの、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸などから誘導される２価の基が含まれる。Ａにおける炭素原子数８〜１４のアリールジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸などから誘導される２価の基が含まれる。
【００８４】
Ｇの、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、エチレングリコール、１,２-プロピレングリコール、１,３-プロピレングリコール、１,２-ブタンジオール、１,３-ブタンジオール、１,２-プロパンジオール、２-メチル-１,３-プロパンジオール、１,４-ブタンジオール、１,５-ペンタンジオール、２,２-ジメチル-１,３-プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２,２-ジエチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールペンタン）、２-ｎ-ブチル-２-エチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールヘプタン）、３-メチル-１,５-ペンタンジオール、１,６-ヘキサンジオール、２,２,４-トリメチル-１,３-ペンタンジオール、２-エチル-１,３-ヘキサンジオール、２-メチル-１,８-オクタンジオール、１,９-ノナンジオール、１,１０-デカンジオール、および１,１２-オクタデカンジオール等から誘導される２価の基が含まれる。
【００８５】
Ｇの、炭素原子数６〜１２のアリールグリコールから誘導される２価の基の例には、１,２-ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１,３-ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１,４-ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）などから誘導される２価の基が含まれる。Ｇにおける炭素原子数が４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールなどから誘導される２価の基が含まれる。
【００８６】
Ｇは、炭素数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される２価の基であることが好ましい。ポリエステル系可塑剤の、セルロースエステルとの相溶性を高めるためである。
【００８７】
Ｂの、モノカルボン酸から誘導される１価の基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、およびアセトキシ安息香酸などの芳香族モノカルボン酸；酢酸、プロピオン酸、および酪酸などの脂肪族モノカルボン酸などから誘導される１価の基が含まれる。
【００８８】
ポリエステル系可塑剤の数平均分子量は、３００〜１５００であることが好ましく、４００〜１０００であることがより好ましい。数平均分子量が３００未満であるポリエステル系可塑剤は、光学フィルムから溶出しやすいことがある。
【００８９】
ポリエステル系可塑剤の酸価は、それを含む光学フィルムと、ハードコート層などの他の機能層との密着性を高める観点などから、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。ポリエステル系可塑剤の酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数として定義される。ポリエステル系可塑剤の酸価は、ＪＩＳ Ｋ００７０に準拠して測定されうる。
【００９０】
ポリエステル系可塑剤の水酸基価は、セルロースエステルとの相溶性を高める観点などから、２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。ポリエステル系可塑剤の水酸基価は、試料１ｇを無水酢酸と反応させてアセチル化させたとき、未反応の酢酸を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数として定義される。ポリエステル系可塑剤の水酸基価は、ＪＩＳ Ｋ ００７０（１９９２）に準拠して測定されうる。
【００９１】
式（１）で示されるポリエステル系可塑剤の具体例を以下に示す。
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【００９２】
多価アルコールエステル系可塑剤
多価アルコールエステル系可塑剤は、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル化合物（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステル系化合物は、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。
【００９３】
脂肪族多価アルコールの好ましい例には、アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。なかでも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。
【００９４】
モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸等でありうる。フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、１種類であってもよいし、２種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【００９５】
脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。そのような脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。なかでも、セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、酢酸、または酢酸とその他のモノカルボン酸との混合物が好ましい。
【００９６】
脂環族モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。
【００９７】
芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの；ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸などが含まれ、好ましくは安息香酸である。
【００９８】
多価アルコールエステル系可塑剤の分子量は、特に制限されないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。揮発し難くするためには、分子量が大きいほうが好ましく；透湿性、セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、分子量が小さいほうが好ましい。
【００９９】
多価カルボン酸エステル系可塑剤
多価カルボン酸エステル系可塑剤は、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコール化合物とのエステル化合物である。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸または３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。
【０１００】
多価カルボン酸の好ましい例には、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などの３価以上の芳香族多価カルボン酸；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸などの脂肪族多価カルボン酸；酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸などのオキシ多価カルボン酸が含まれ、揮発しにくくするためには、好ましくはオキシ多価カルボン酸である。
【０１０１】
アルコール化合物の例には、公知のアルコール化合物、フェノール化合物が含まれる。アルコール化合物の例には、炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２０、さらに好ましくは炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状の脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコール；シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコール化合物；ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコール化合物などが含まれる。アルコール化合物は、一種類でもよいし、二種以上の混合物であってもよい。
【０１０２】
多価カルボン酸としてのオキシ多価カルボン酸は、アルコール性またはフェノール性の水酸基がモノカルボン酸でエステル化されていてもよい。エステル化に用いられるモノカルボン酸は、脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、または芳香族モノカルボン酸でありうる。
【０１０３】
脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状の脂肪酸が含まれる。そのような脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などが含まれる。
【０１０４】
脂環族モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸などが含まれる。これらのなかでも酢酸、プロピオン酸、安息香酸が特に好ましい。
【０１０５】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、特に制限はないが、３００〜１０００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、ブリードアウトを抑制する観点では、大きいほうが好ましく；透湿性やセルロースエステルとの相溶性の観点では、小さいほうが好ましい。
【０１０６】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。酸価を上記範囲にすることで、リターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。
【０１０７】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の酸価は、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数として定義される。酸価はＪＩＳ Ｋ００７０に準拠して測定されうる。
【０１０８】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。
【０１０９】
多価カルボン酸エステル系可塑剤は、フタル酸エステル系可塑剤であってもよい。フタル酸エステル系可塑剤の例には、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が含まれる。
【０１１０】
グリコレート系可塑剤の例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれる。
【０１１１】
エステル系可塑剤には、脂肪酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤やリン酸エステル系可塑剤などが含まれる。
【０１１２】
脂肪酸エステル系可塑剤の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、およびセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステル系可塑剤の例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、およびクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステル系可塑剤の例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、およびトリブチルホスフェート等が含まれる。
【０１１３】
アクリル系可塑剤
アクリル系可塑剤は、少なくとも分子内に芳香環と水酸基の両方を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを重合成分とする重合体Ｘ、または分子内に芳香環を有しないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合成分とする重合体Ｙであることが好ましい。エチレン性不飽和モノマーは、好ましくは（メタ）アクリル酸エステルである。
【０１１４】
重合体Ｘは、下記一般式（Ｘ）で示される構造を有することが好ましい。下記式（Ｘ）の−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｃ）（−ＣＯ２Ｒｄ）］ｍ−は、エチレン性不飽和モノマーＸａから誘導される基であり；―［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｅ）（−ＣＯ２Ｒｆ−ＯＨ）−］ｎ―は、エチレン性不飽和モノマーＸｂから誘導される基である。
一般式（Ｘ）
−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｃ）（−ＣＯ２Ｒｄ）］ｍ−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｅ）（−ＣＯ２Ｒｆ−ＯＨ）−］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
【０１１５】
式（Ｘ）のＲｃおよびＲｅは、水素原子またはメチル基を示す。Ｒｄは、炭素数１〜１２のアルキレン基またはシクロアルキレン基を示す。Ｒｆは、メチレン基、エチレン基またはプロピレン基を示す。Ｘｃは、ＸａおよびＸｂに重合可能なモノマー単位を示す。ｍ、ｎおよびｐは、モル組成比を示す。ただし、ｍとｎは０ではなく、かつｍ＋ｎ＋ｐ＝１００である。重合体Ｘの重量平均分子量は３０００〜３００００であることが好ましい。
【０１１６】
重合体Ｙは、下記一般式（Ｙ）で示される構造を有することが好ましい。下記式（Ｙ）の−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｇ）（−ＣＯ２Ｒｈ−ＯＨ）−］ｋ−は、エチレン性不飽和モノマーＹａから誘導される基である。
一般式（Ｙ）
Ｒｙ−［ＣＨ２−Ｃ（−Ｒｇ）（−ＣＯ２Ｒｈ−ＯＨ）−］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
【０１１７】
式（Ｙ）のＲｇは、水素原子またはメチル基を示す。Ｒｈは、メチレン基、エチレン基またはプロピレン基を示す。Ｒｙは、水素原子、水酸基または炭素数１〜３のアルキル基を表す。Ｙｂは、Ｙａに共重合可能なモノマー単位を表す。ｋおよびｑは、モル組成比を表す。ただし、ｋは０ではなく、かつｋ＋ｑ＝１００である。重合体Ｙの重量平均分子量は５００以上３０００以下であることが好ましい。
【０１１８】
これらの可塑剤の含有量の合計は、セルロースエステルに対して０．５〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。
【０１１９】
リターデーション制御剤
本発明の光学フィルムは、液晶表示品質を向上させるために、リターデーション制御剤をさらに含んでもよい。リターデーション制御剤は、欧州特許９１１６５６Ａ２号に記載されるような、二つ以上の芳香環を有する芳香族化合物や、特開２００６−２０２５号に記載の棒状化合物などが含まれる。リターデーション制御剤は、一種類であってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。
【０１２０】
芳香族化合物に含まれる芳香環は、芳香族性炭化水素環、芳香族性ヘテロ環などが含まれ、好ましくは芳香族性ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環の好ましい例には、１，３，５−トリアジン環が特に好ましい。
【０１２１】
リターデーション制御剤の含有量は、光学フィルムに含まれる樹脂成分に対して０．５〜２０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましい。
【０１２２】
波長分散制御剤
本発明の光学フィルムは、波長分散制御剤をさらに含有してもよい。波長分散制御剤は、フィルムのリターデーションの波長分散特性を調整する機能を有する。
【０１２３】
波長分散制御剤は、光吸収スペクトルにおいて、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲において吸収極大を有する化合物であることが好ましく、２７０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長範囲において吸収極大を有する化合物であることがより好ましい。波長分散制御剤の好ましい例には、特開２００１−１６６１４４号および特開２００３−３４４６５５６号に記載の円盤状化合物や；特開２０１０−１６３４８２号に記載の化合物などが含まれる。
【０１２４】
波長分散制御剤の含有量は、光学フィルムに含まれる樹脂成分全体に対して０．５〜２０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましい。
【０１２５】
紫外線吸収剤
本発明の光学フィルムは、光学フィルムの耐久性を向上させるために、紫外線吸収剤をさらに含んでもよい。紫外線吸収剤は、波長４００ｎｍ以下の紫外線を吸収する化合物であり、好ましくは波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下、より好ましくは５％以下、さらに好ましくは２％以下である化合物である。
【０１２６】
紫外線吸収剤の例には、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体などが含まれ、好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、より好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤である。
【０１２７】
紫外線吸収剤の具体例には、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖および側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等のほか、ＢＡＳＦジャパン社製の市販品であるチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等が含まれる。これらの紫外線吸収剤は、一種類だけであっても、二種以上の混合物であってもよい。
【０１２８】
これらのほかにも、高分子紫外線吸収剤や、円盤状化合物なども紫外線吸収剤として好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤の例には、特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が含まれ；円盤状化合物の例には、１，３，５−トリアジン環を有する化合物等が含まれる。
【０１２９】
紫外線吸収剤の含有量は、紫外線吸収剤の種類などにもよるが、光学フィルム全体に対して０．５〜１０質量％であることが好ましく、０．６〜４質量％であることがより好ましい。
【０１３０】
酸化防止剤
本発明の光学フィルムは、例えば高湿高温下で生じやすい光学フィルムの劣化を防止するために、酸化防止剤をさらに含んでもよい。酸化防止剤は、光学フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等による分解を遅延または防止する機能を有する。
【０１３１】
酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系化合物であることが好ましく、その具体例には、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が含まれる。特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。
【０１３２】
これらの化合物は、例えばＮ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤や、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤と併用されてもよい。
【０１３３】
酸化防止剤の含有量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％であることが好ましく、１０〜１０００ｐｐｍであることがより好ましい。
【０１３４】
微粒子
本発明の光学フィルムは、滑り性を向上させるために、微粒子をさらに含んでもよい。微粒子は、無機微粒子であっても有機微粒子であってもよい。
【０１３５】
無機微粒子の例には、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムなどが含まれる。有機微粒子の例には、ポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、アクリルスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系粉末、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂、澱粉等の有機高分子化合物の粉砕分級物、懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレードライ法あるいは分散法等により球型にした高分子化合物などが含まれる。フィルムのヘイズの増大を少なくするためには、珪素を含む微粒子が好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０１３６】
二酸化珪素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の市販品）が含まれる。なかでも、光学フィルムのヘイズを低く保ちつつ、摩擦係数を下げる効果が大きいことから、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが好ましい。
【０１３７】
微粒子の一次平均粒子径は、５〜４００ｎｍであることが好ましく、１０〜３００ｎｍであることがより好ましい。微粒子は、光学フィルムの少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０となるように光学フィルムに含まれることが好ましい。微粒子の含有量は、光学フィルムに対して０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。
【０１３８】
光学フィルムの厚みは、特に限定はされないが、１０〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１００μｍであることがより好ましく、１５〜６０μｍであることがさらに好ましい。光学フィルムの厚みが大きすぎると、湿度によってリターデーションの変動が大きくなりやすい。一方、フィルムの厚みが小さすぎると、所望のリターデーションが得られにくい。
【０１３９】
セルロースエステル１ｋｇ相当の光学フィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）は、３０ｍｇ以上２５０ｍｇ以下であることが好ましく、４０ｍｇ以上２００ｍｇ以下であることがより好ましい。セルロースエステル１ｋｇ相当の光学フィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）は、例えばセルロースアセテート１ｋｇに相当する量の光学フィルムを完全に燃やして灰化させたものを、塩酸に溶解させて前処理溶液とし；当該前処理溶液に含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量を、原子吸光法にて測定することができる。
【０１４０】
本発明の光学フィルムは、光学補償フィルムとして好ましく用いられる。即ち、液晶ディスプレイは、異方性を有する液晶材料や偏光板を有するため、表示画面を正面から見た場合に良好に表示されていても、斜めから見た場合に良好に表示されないことがある（視野角依存性がある）。光学補償フィルムは、このような視野角依存性を低減する上で有効である。
【０１４１】
液晶セルの屈折率分布は、通常、液晶セルの厚み方向で大きく、面内方向で小さい。そのため、光学補償フィルムは、この屈折率の異方性を相殺するものであること；即ち、屈折率分布が、厚み方向で小さく、面内方向で大きい負の一軸性を有することが好ましい。本発明の光学フィルムは、そのような光学補償機能を有するフィルムとして好ましく用いられる。
【０１４２】
本発明の光学フィルムの、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍにて測定されるリターデーションＲｏは、２０〜１００ｎｍであることが好ましい。２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍにて測定されるリターデーションＲｔｈは、７０〜３００ｎｍであることが好ましい。光学フィルムのリターデーションＲ０およびＲｔｈは、通常、延伸条件により調整することができる。
【０１４３】
面内方向のリターデーションＲ０および厚み方向のリターデーションＲｔｈは、それぞれ以下の式で表される。
式（Ｉ） Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（ｎｘ：フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙ：フィルム面内において、遅相軸に対して直交する方向の屈折率、ｎｚ：厚み方向におけるフィルムの屈折率、ｄ：フィルムの厚み（ｎｍ））
【０１４４】
レターデーションＲ０およびＲｔｈは、例えば以下の方法によって求めることができる。
１）フィルムの平均屈折率を屈折計により測定する。
２）王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨにより、フィルム法線方向からの波長５９０ｎｍの光を入射させたときの面内方向のレターデーションＲ０を測定する。
３）王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨにより、フィルム法線方向に対してθの角度（入射角（θ））から波長５９０ｎｍの光を入射させたときのレターデーション値Ｒ（θ）を測定する。θは０°よりも大きく、好ましくは３０°〜５０°である。
４）測定されたＲ０およびＲ（θ）と、前述の平均屈折率と膜厚とから、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出し、Ｒｔｈを算出する。レターデーションの測定は、２３℃５５％ＲＨ条件下で行うことができる。
【０１４５】
本発明の光学フィルムは、フィルム面内に遅相軸または進相軸を有する。遅相軸の製膜方向とのなす角θ１（配向角）は、−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。配向角θ１が上記範囲を満たしていると、光漏れを抑制できるため、表示画像の輝度を高めることができる。
【０１４６】
光学フィルムのリターデーションＲ０およびＲｔｈ、および配向角θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて測定することができる。
【０１４７】
光学フィルムの、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して測定される内部ヘイズは、０．０５％以下であることが好ましく、０．０３％以下であることがさらに好ましい。
【０１４８】
光学フィルムの内部ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法；具体的には、以下の方法で測定することができる。
ヘイズメーター（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色（株）製）を準備する。光源は５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部はシリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）とする。
【０１４９】
１）ブランクヘイズの測定
洗浄したスライドガラスの上に、グリセリンを一滴（０．０５ｍｌ）滴下する。このとき、液滴に気泡が入らないように注意する。
次いで、滴下したグリセリンの上に、カバーガラスを載せる。カバーガラスは押さえなくてもグリセリンは広がる。
これにより得られるブランク測定用のサンプル（カバーガラス／グリセリン／スライドガラス）を、ヘイズメーターにセットして、ヘイズ１（ブランクヘイズ）を測定する。
２）光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定
図１Ａ〜図１Ｄは、光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定手順を示す模式図である。
前記１）と同様にして、洗浄したスライドガラスの上にグリセリンを滴下する（図１Ａ参照）。
一方で、測定する光学フィルムを、２３℃５５％ＲＨ下で５時間以上調湿する。次いで、滴下したグリセリンの上に、調湿した光学フィルムを、気泡が入らないように載せる（図１Ｂ参照）。
さらに、光学フィルム上に０．０５ｍｌのグリセリンを滴下した後（図１Ｃ参照）、カバーガラスをさらに載せる（図１Ｄ参照）。
これにより得られる測定用のサンプル（カバーガラス／グリセリン／試料フィルム／グリセリン／スライドガラス）を、前述のヘイズメーターにセットして、ヘイズ２を測定する。
３）前記１）で得られたヘイズ１と、前記２）で得られたヘイズ２を、下記式に当てはめて、光学フィルムのヘイズを算出する。
光学フィルムの内部ヘイズ（％）＝ヘイズ２（％）−ヘイズ１（％）
【０１５０】
内部ヘイズの測定は、いずれも２３℃５５％ＲＨの条件下にて行う。また、内部ヘイズの測定に用いるガラスは、ＭＩＣＲＯ ＳＬＩＤＥ ＧＬＡＳＳ Ｓ９２１３ ＭＡＴＳＵＮＡＭＩとする。グリセリンは、関東化学製 鹿特級（純度＞９９．０％）、屈折率１．４７とする。
【０１５１】
光学フィルムの内部ヘイズを低減するためには、前述の通り、セルロースアセテート溶液の濁度を低くしたり、セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）を少なくしたりすればよい。
【０１５２】
光学フィルムの、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に準拠して測定される４０℃、９０％ＲＨにおける透湿度は、１０〜１２００ｇ／ｍ２・２４ｈであることが好ましい。光学フィルムの透湿度を低下させるためには、例えば光学フィルムに含まれるセルロースエステルの総アシル基置換度を高くしたり、炭素数３以上のアシル基置換度の割合を多くしたり、可塑剤などの添加剤を多く含有させたりすればよい。
【０１５３】
本発明の光学フィルムの可視光透過率は９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがより好ましい。本発明の光学フィルムの破断伸度は１０〜８０％であることが好ましい。
【０１５４】
２．光学フィルムの製造方法
本発明の光学フィルムは、前述したセルロースエステルを含む樹脂組成物を得るステップと、前記樹脂組成物を成形して光学フィルムとするステップと、を経て製造されうる。樹脂組成物を成形する方法の例には、溶液流延法、溶融流延法などがあるが、薄膜で平面性の高いフィルムが得られるなどの観点から、溶液流延法であることが好ましい。
【０１５５】
本発明の光学フィルムを溶液流延法により製造する工程は、１）少なくとも前述のセルロースエステルと、必要に応じて可塑剤などを溶剤に溶解させてドープ（樹脂組成物）を調製する工程、２）ドープを無端の金属支持体上に流延する工程、３）流延したドープを乾燥してウェブとする工程、４）ウェブを金属支持体から剥離する工程、５）ウェブを延伸してフィルムを得る工程、６）フィルムをさらに乾燥する工程、７）得られたフィルムを巻取る工程、を含む。
【０１５６】
１）ドープを調製する工程について
前述のセルロースエステルと、必要に応じて添加剤とを溶剤に溶解させてドープを調製する。ドープに含まれるセルロースエステルの濃度は、乾燥負荷を低減するためには高いことが好ましいが、セルロースエステルの濃度が高すぎると濾過しにくく、濾過精度が低下しやすくなる。このため、ドープに含まれるセルロースエステルの濃度は１０〜３５質量％であることが好ましく、１５〜２５質量％であることがより好ましい。
【０１５７】
ドープに含まれる溶剤は、１種類でも２種以上を組み合わせたものでもよい。生産効率を高める観点では、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を組み合わせて用いることが好ましい。良溶剤とは、セルロースエステルを単独で溶解する溶剤をいい、貧溶剤とは、セルロースエステルを膨潤させるか、または単独では溶解しないものをいう。そのため、良溶剤および貧溶剤は、セルロースエステルの平均アシル基置換度（アセチル基置換度）によって異なる。
【０１５８】
良溶剤と貧溶剤を組み合わせて用いる場合、セルロースエステルの溶解性を高めるためには、良溶剤が貧溶剤よりも多いことが好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％であることが好ましい。
【０１５９】
良溶剤の例には、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、およびアセト酢酸メチルなどが含まれ、好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルなどである。貧溶剤の例には、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、およびシクロヘキサノン等が含まれる。ドープ中には、水分が０．０１〜２質量％含まれていることが好ましい。
【０１６０】
セルロースエステルを溶剤に溶解させる方法は、一般的な方法であってよく、例えば加熱および加圧下で溶解させる方法、セルロースエステルに貧溶剤を加えて膨潤させた後、良溶剤をさらに加えて溶解させる方法などでありうる。なかでも、常圧における沸点以上に加熱できることから、加熱および加圧下で溶解させる方法が好ましい。具体的には、常圧下で溶剤の沸点以上であり、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を抑制できる。
【０１６１】
加圧は、窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱して溶剤の蒸気圧を上昇させる方法などによって行うことができる。加熱は、外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易であるため好ましい。
【０１６２】
加熱温度は、セルロースエステルの溶解性を高める観点では、高いほうが好ましいが、高過ぎると、圧力を高める必要があり、生産性が低下する。このため、加熱温度は、４５〜１２０℃であることが好ましく、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃であることがさらに好ましい。圧力は、設定された加熱温度において、溶剤が沸騰しないような範囲に調整される。
【０１６３】
紫外線防止剤や微粒子などの添加剤は、ドープにバッチ添加してもよいし、別途調製した添加剤溶解液をインライン添加してもよい。添加剤溶液は、添加剤を、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の溶媒あるいはこれらの混合溶媒に溶解させたものである。
【０１６４】
特に微粒子は、ろ過材への負荷を減らすために、一部または全部をインライン添加することが好ましい。添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、添加剤溶解液に少量のセルロースエステルを溶解させておくことが好ましい。添加剤溶解液に添加されるセルロースエステルの量は、溶剤１００質量部に対して好ましくは１〜１０質量部であり、より好ましくは３〜５質量部である。
【０１６５】
インライン添加は、例えばスタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等を用いて行うことができる。
【０１６６】
得られるドープには、例えば原料であるセルロースエステルに含まれる不純物などの不溶物が含まれることがある。このような不溶物は、得られるフィルムにおいて輝点異物となりうる。このような不溶物等を除去するために、得られたドープを濾過することが好ましい。
【０１６７】
ドープの濾過は、濾紙等の濾過材によって行われる。濾過材の絶対濾過精度は、ドープに含まれる不溶物等を高度に除去するためには小さいことが好ましいが、小さすぎると目詰まりが生じやすい。このため、濾過材の絶対濾過精度は、０．００８ｍｍ以下であることが好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍであることがより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍであることがさらに好ましい。
【０１６８】
濾過材の種類は、通常の濾過材であってよく、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾過材や、ステンレススチール等の金属製の濾過材などでありうる。なかでも、繊維の脱落等が少ない観点から、金属製の濾過材が好ましい。
【０１６９】
ドープの濾過は、濾過前後の差圧を少なくするために、ドープの調製と同様に、加熱および加圧下で行うことが好ましい。加熱温度も、ドープの調製と同様に、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度とすることが好ましく、具体的には４５〜１２０℃であることが好ましく、４５〜７０℃であることがより好ましく、４５〜５５℃であることがさらに好ましい。濾圧は、低いことが好ましく、具体的には１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。
【０１７０】
ドープの濾過は、得られるフィルムにおける輝点異物の数が一定以下となるように行うことが好ましい。具体的には、径が０．０１ｍｍ以上である輝点異物の数が、２００個／ｃｍ２以下、好ましくは１００個／ｃｍ２以下、より好ましくは５０個／ｍ２以下、さらに好ましくは０〜１０個／ｃｍ２以下となるようにする。径が０．０１ｍｍ以下である輝点異物も少ないことが好ましい。
【０１７１】
フィルムの輝点異物の数は、以下の手順で測定することができる。
ｉ）２枚の偏光板をクロスニコル状態に配置し、それらの間に得られたフィルムを配置する。
ii）一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察したときに、光が漏れてみえる点（異物）の数をカウントする。
【０１７２】
２）ドープを流延する工程について
ドープが流延される金属支持体は、表面が鏡面仕上げされたものが好ましい。金属支持体の好ましい例は、ステンレススチールベルトや、鋳物で表面がメッキ仕上げされたドラムなどである。
【０１７３】
ドープが流延される金属支持体の表面温度は、ウェブの乾燥速度を高めるためには高いことが好ましいが、高すぎるとウェブが発泡したり、ウェブの平滑性が低下したりすることがある。そのため、金属支持体の表面温度は、−５０℃以上溶剤の沸点未満に設定されることが好ましく、０〜４０℃であることがより好ましく、５〜３０℃であることがさらに好ましい。
【０１７４】
金属支持体の表面温度の制御方法は、特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法などであってよい。熱を効率的に伝達でき、金属支持体の温度が一定になるまでの時間を短くできる観点などから、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法が好ましい。
【０１７５】
３）流延したドープを乾燥する工程について
流延したドープを、残留溶媒が一定以下となるように乾燥させる。金属支持体からウェブを剥離するときのウェブの残留溶媒量は、得られるフィルムの平面性を高めるためには１０〜１５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％（低残存溶媒量）または６０〜１３０質量％（高残存溶媒量）であることがより好ましく、２０〜３０質量％（低残存溶媒量）または７０〜１２０質量％（高残存溶媒量）であることがさらに好ましい。
【０１７６】
ウェブの残留溶媒量は、下記式で定義される。下記式において、Ｍは、製造中のウェブまたは製造後のフィルムから任意の時点で採取した試料の質量を示す。Ｎは、前記試料を１１５℃で１時間加熱した後の、試料の質量を示す。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
【０１７７】
４）ウェブを剥離する工程について
ウェブの剥離は、一般的な方法で行われるが、剥離ロールにより剥離することが好ましい。剥離ロールによる剥離は、ウェブが、金属支持体の下面に至り、ほぼ一巡したところで行うことが好ましい。ウェブの剥離張力は、３００Ｎ／ｍ以下とすることが好ましい。
【０１７８】
ウェブの剥離は、前記３）の工程でウェブを乾燥した後、剥離する方法だけでなく、前記２）の工程の後に、乾燥させることなくキャスト膜を冷却して、残留溶媒を多く含む状態のままゲル化させた後に、剥離してもよい。
【０１７９】
剥離されたウェブをさらに乾燥してもよい。剥離されたウェブの乾燥は、一般的に、ウェブを搬送させながら行うことができる。具体的には、剥離されたウェブを、上下に配置した多数のロールにより搬送しながら乾燥させるロール乾燥方式や、テンター方式などがある。
【０１８０】
ウェブの乾燥方法は、特に制限されないが、一般的に、熱風、赤外線、加熱ロールおよびマイクロ波等で乾燥する方法であってよく、簡便である点から、熱風で乾燥する方法が好ましい。ウェブの乾燥温度は、４０℃から２００℃にかけて、段階的に高くすることが好ましい。
【０１８１】
５）ウェブを延伸する工程について
ウェブの延伸により、所望のレターデーション値ＲｏおよびＲｔｈを有する光学フィルムを得る。光学フィルムのレターデーション値ＲｏおよびＲｔｈは、ウェブに掛かる張力の大きさを、少なくともウェブの搬送方向（ドープの流延方向）に対して垂直方向（幅方向）に調整することによって制御することができる。
【０１８２】
ウェブの延伸は、少なくとも幅方向に延伸すればよく、一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよい。また、ウェブの延伸は、幅方向またはドープの流延方向に対して斜め方向の延伸であってもよい。二軸延伸には、ウェブの搬送方向（縦方向）と幅方向（横方向）の両方に延伸することが含まれる。延伸は、逐次延伸であっても同時延伸であってもよい。
【０１８３】
ウェブの延伸倍率は、互いに直交する方向に二軸延伸する場合には、最終的には幅方向（横方向）に１．１〜２．５倍とし、搬送方向（縦方向）に０．８〜１．５倍とすることが好ましく；幅方向（横方向）に１．２〜２．０倍とし、搬送方向（縦方向）に０．９〜１．０倍とすることがより好ましい。
【０１８４】
ウェブの延伸温度は、１２０℃〜２００℃であることが好ましく、１４０℃〜１８０℃であることがより好ましい。延伸されるウェブの残留溶媒は、２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることが好ましい。
【０１８５】
ウェブの延伸方法は、特に制限されず、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法（ロール延伸法）、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を縦方向に向かって広げて縦方向に延伸したり、横方向に広げて横方向に延伸したり、縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法など（テンター延伸法）などが挙げられる。これらの延伸方法は、組み合わされてもよい。
【０１８６】
テンター延伸法は、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動することが好ましい。クリップ部分の移動が滑らかであるため、延伸を行い易く、ウェブの破断を生じる危険性を低減できるからである。
【０１８７】
ウェブの幅保持や横方向の延伸は、テンター法により行うことが好ましい。テンター法は、ピンテンター法でもクリップテンター法でもよい。
【０１８８】
延伸により得られた光学フィルムの幅は、搬送を容易にする観点などから、４ｍ以下であることが好ましく、１〜４ｍであることがより好ましく、１．４〜４ｍであることがさらに好ましく、１．６〜３ｍであることが特に好ましい。延伸により得られた光学フィルムは、必要に応じてさらに乾燥された後、巻き取られる。
【０１８９】
本発明の光学フィルムは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種表示装置の機能フィルムとして用いられる。特に本発明の光学フィルムは、液晶表示装置の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大用の光学補償フィルム等でありうる。
【０１９０】
３．偏光板
本発明の偏光板は、偏光子と、その一方の面に配置された本発明の光学フィルムとを含み、必要に応じて偏光子の他方の面に配置された偏光板保護フィルムをさらに含んでもよい。
【０１９１】
偏光子は、一定方向の偏波面の光のみを通過させる素子である。偏光子の代表的な例は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであり、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものと、がある。
【０１９２】
偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素または二色性染料で染色して得られるフィルムであってもよいし、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素または二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の厚さは、５〜３０μｍであることが好ましく、１０〜２０μｍであることがより好ましい。
【０１９３】
ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜したものであってもよい。ポリビニルアルコール系フィルムは、偏光性能および耐久性能に優れ、色斑が少ないなどことから、エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましい。エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムの例には、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載されたエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％のフィルムが含まれる。
【０１９４】
二色性色素の例には、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素およびアントラキノン系色素などが含まれる。
【０１９５】
本発明の光学フィルムは、偏光子の一方の面に直接配置されてもよいし、他のフィルムまたは層を介して配置されてもよい。本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムの機能を兼ねた光学補償フィルムであることが好ましい。偏光板保護フィルムとは別に光学補償フィルムをさらに用いる必要がなく、液晶表示装置を薄型化できるだけでなく、製造プロセスを簡略化できるからである。
【０１９６】
本発明の光学フィルム以外の偏光板保護フィルムは、特に制限されず、通常のセルロースエステルフィルム等であってよい。セルロースエステルフィルムの市販品の例には、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。
【０１９７】
偏光板は、通常、偏光子と、本発明の光学フィルムまたは偏光板保護フィルムとを貼り合わせて製造することができる。例えば、本発明の光学フィルムの偏光子と接する側の面をアルカリ鹸化処理した後、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液などの接着剤を介して偏光子と貼り合わせることが好ましい。
【０１９８】
４．液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを有する。そして、一対の偏光板のうち少なくとも一方が、前述の光学フィルムを有する偏光板であり、好ましくは一対の偏光板の両方が前述の光学フィルムを有する偏光板である。
【０１９９】
図２は、本発明に係る液晶表示装置の一実施形態の基本構成を示す模式図である。図２に示されるように、液晶表示装置１０は、液晶セル２０と、それを挟持する第一の偏光板４０および第二の偏光板６０と、バックライト８０と、を有する。
【０２００】
液晶セル２０の表示方式は、特に制限されず、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式（ＭＶＡ；Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ ＡｌｉｇｎｍｅｎｔやＰＶＡ；Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔも含む）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式等がある。コントラストを高めるためには、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）方式が好ましい。
【０２０１】
ＶＡ方式の液晶セルは、通常、対向する一対の透明基板と、一対の透明基板の間に挟持され、ポジ型液晶を含む液晶層と、を有する。
【０２０２】
一対の透明基板のうち、少なくとも一方の透明基板には、ポジ型液晶に電圧を印加するための画素電極と、それに対応する対向電極とが配置される。
【０２０３】
液晶層は、正の誘電異方性を有するネマチック液晶材料であるポジ型液晶分子を含む。このポジ型液晶分子は、透明基板の液晶層側の面に設けられた配向膜の配向規制力により、電圧無印加時（画素電極と対向電極との間に電界が生じていない時）には、液晶分子の長軸が、透明基板の表面に対して略垂直となるように配向している。
【０２０４】
このように構成された液晶セルでは、画素電極に画像信号（電圧）を印加することで、画素電極と対向電極との間に、基板面に対して水平方向の電界を生じさせる。これにより、透明基板の表面に対して垂直に初期配向している液晶分子を、その長軸が基板面に対して水平方向となるように配向させる。このように、液晶層を駆動し、各副画素の透過率および反射率を変化させて画像表示を行う。
【０２０５】
第一の偏光板４０は、視認側に配置されており、第一の偏光子４２と、それを挟持する偏光板保護フィルム４４（Ｆ１）および４６（Ｆ２）とを有する。第二の偏光板６０は、バックライト８０側に配置されており、第二の偏光子６２と、それを挟持する偏光板保護フィルム６４（Ｆ３）および偏光板保護フィルム６６（Ｆ４）とを有する。偏光板保護フィルム４６（Ｆ２）と６４（Ｆ３）の一方は、必要に応じて省略される場合がある。
【０２０６】
偏光板保護フィルム４４（Ｆ１）、４６（Ｆ２）、６４（Ｆ３）および６６（Ｆ４）のうち、液晶セル側に配置される偏光板保護フィルム４６（Ｆ２）と６４（Ｆ３）の少なくとも一方を、本発明の光学フィルムとすることが好ましい。表示側に配置される偏光板保護フィルム４４（Ｆ１）は、防眩層、クリアハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防汚層またはバックコート層をさらに有していてもよい。
【実施例】
【０２０７】
以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。
【０２０８】
１．セルロースジアセテートの合成
（合成例１）
広葉樹クラフト法パルプ１００重量部に、氷酢酸５０重量部を噴霧してよく攪拌し、２４℃で１時間静置させた（前処理による活性化工程）。これに、氷酢酸３５０重量部、無水酢酸３００重量部、および硫酸１２重量部からなる混合液を添加し、５０℃で３時間攪拌してセルロースのエステル化反応を行った。得られた溶液に、純水８０重量部、酢酸マグネシウム１０重量部を添加し、エステル化反応を停止させた。得られた溶液を８０℃で２時間攪拌し、熟成反応を行った。反応終了後、得られた溶液に純水２５重量部、酢酸マグネシウム１重量部を添加し、熟成反応を停止させた。得られた溶液を、希酢酸中に攪拌しながら投入して、生成物を沈殿させた。そして、沈殿物を濾別した後、得られた固形分を純水で十分に洗浄および乾燥させて、セルロースジアセテートＡ１を得た。
【０２０９】
得られたセルロースジアセテートＡ１の、１）溶液の濁度、２）アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）および対イオンとして存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの割合（Ｂ／Ａ）、３）６位のアセチル基置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）を、それぞれ以下の方法で測定した。
【０２１０】
１）セルロースアセテート溶液の濁度
メチレンクロライド９２重量部とエタノール８重量部とを混合し、メチレンクロライド／エタノール混合溶媒を調製した。このメチレンクロライド／エタノール混合溶媒１７１ｇに、セルロースジアセテートＡ１を１０ｇ添加して２時間攪拌し、セルロースジアセテートを溶解させた。得られたセルロースジアセテート溶液に、溶解残りがないことを目視で確認した。
【０２１１】
得られたセルロースジアセテート溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４（濾過精度７μｍ）を有する濾過機に投入し、０．４ＭＰａの圧力下で濾過し、濾液を回収した。そして、前述のメチレンクロライド／エタノール混合溶媒を、日本電色工業社製の硝子セル（光路長５ｍｍ）に入れ、日本電色工業社製のヘイズメーターＮＤＨ−２０００にセットして標準合わせを行った。その後、前述の硝子セルを取り外した。さらに、前述で回収したセルロースジアセテート溶液の濾液を、日本電色工業社製の硝子セルに入れたものを、ヘイズメーターＮＤＨ−２０００にセットして、セルロースジアセテート溶液の濁度（Ｔｕｒｂ）を測定した。これらの操作は、２３℃５５％ＲＨ雰囲気下で行った。
【０２１２】
２）アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの定量
２−１）アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）
セルロースジアセテートＡ１を乾燥させた後、完全に燃焼させて灰分を得た。得られた灰分を、塩酸に溶解させて前処理溶液を得た。得られた前処理溶液に含まれる、アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの量を、原子吸光法により測定した。測定値は、絶乾状態のセルロースジアセテート１ｋｇ中の各アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンの含有量（単位：ｍｇ）として得た。アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンの含有量の合計値を、セルロースジアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）（単位：ｐｐｍ）とした。
【０２１３】
２−２）対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）
セルロースジアセテートＡ１を１０ｇに純水１００ｇを加えて、２５℃で２４時間攪拌させた。攪拌後、得られた溶液をろ過して得られたセルロースジアセテートを、純水１００ｇで洗浄した後、乾燥させた。
【０２１４】
得られたセルロースジアセテートＡ１を、前述と同様に、完全に燃焼させて灰分を得た。得られた灰分を、塩酸に溶解させて前処理溶液を得た。得られた前処理溶液に含まれる、セルロースジアセテートＡ１に含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）（単位：ｐｐｍ）を、前述と同様に、原子吸光法により測定した。
【０２１５】
３）６位のアセチル基置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）の測定
セルロースジアセテートＡ１のアセチル基の総置換度（ＤＳｔ）、２位のアセチル基の置換度（ＤＳ２）、３位のアセチル基の置換度（ＤＳ３）、および６位のアセチル基の置換度（ＤＳ６）を、Ｔ．Ｓｅｉ，Ｋ．Ｉｓｈｉｔａｎｉ，Ｒ．Ｓｕｚｕｋｉ，Ｋ．Ｉｋｅｍａｔｓｕ，Ｐｏｌｉｍ．Ｊ．，１７，１０６５−１０６９（１９８５）に記載された方法に準じて測定した。そして、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６の和をＤＳｔとし、６位のアセチル基の置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）を算出した。
【０２１６】
（合成例２）
合成例１で得たセルロースジアセテートＡ１を、５０ｐｐｍの酢酸カルシウム水溶液に２５℃で１時間浸漬させた。この溶液をろ過した後、得られる固形分を乾燥させてセルロースジアセテートＡ２を得た。
【０２１７】
（合成例３）
合成例１で得たセルロースジアセテートＡ１を、１００ｐｐｍの酢酸カルシウム水溶液に２５℃で１時間浸漬させた。この溶液をろ過した後、得られる固形分を乾燥させてセルロースジアセテートＡ３を得た。
【０２１８】
（合成例４）
合成例１で得たセルロースジアセテートＡ１を、２００ｐｐｍの酢酸カルシウム水溶液に２５℃で１時間浸漬させた。この溶液をろ過した後、得られる固形分を乾燥させてセルロースジアセテートＡ４を得た。
【０２１９】
（合成例５）
合成例１で得たセルロースジアセテートＡ１を、４００ｐｐｍの酢酸カルシウム水溶液に２５℃で１時間浸漬させた。この溶液をろ過した後、得られる固形分を乾燥させてセルロースジアセテートＡ５を得た。
【０２２０】
（合成例６）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、原料パルプである広葉樹クラフト法パルプをコットンリンターパルプに変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ６を得た。
【０２２１】
（合成例７）
合成例６で得たセルロースジアセテートＡ６ １重量部を、１重量部のメタノールと１２重量部のメチレンクロライドの混合溶媒に添加し、セルロースジアセテートＡ６を完全に溶解させた。得られた溶液に、８０重量部のメタノールを滴下してセルロースジアセテートを再沈させた後、濾別した。得られたセルロースジアセテートをメタノールで洗浄および乾燥させて、セルロースジアセテートＡ７を得た。
【０２２２】
（合成例８〜９）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、溶液の濁度が表１に示される値となるように、エステル化工程において触媒として用いられる硫酸量を変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ８〜Ａ９を得た。
【０２２３】
（合成例１０）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、割合（Ｂ／Ａ）が表１に示されるように値となるように、エステル化工程において触媒として用いられる硫酸量を変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ１０を得た。
【０２２４】
（合成例１１）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、６位のアセチル基置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）が表１に示される値となるように、エステル化工程後に添加する純水の量を変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ１１を得た。
【０２２５】
（合成例１２〜１３）
セルロースジアセテートＡ２の合成において、６位のアセチル基置換度の割合（ＤＳ６／ＤＳｔ×１００）が表１に示される値となるように、エステル化工程で添加する氷酢酸の量を変更した以外は合成例２と同様にしてセルロースジアセテートＡ１２〜１３を得た。
【０２２６】
得られたセルロースジアセテートＡ１〜Ａ１３の物性を表１にまとめた。
【表１】
【０２２７】
２．光学フィルムの作製
（実施例１）
ドープ液の調製
下記組成のドープ液を調製した。まず、加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを投入した。これらの溶剤に、さらにセルロースジアセテートＡ２を攪拌しながら投入した。得られた溶液を、加熱下で攪拌しながら溶解させ、糖エステル化合物４をさらに添加し、攪拌して完全に溶解させた。得られた溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を用いてろ過し、ドープ液を得た。
〔ドープ液の組成〕
メチレンクロライド ４４０質量部
エタノール ３８質量部
セルロースジアセテートＡ２ １００質量部
糖エステル化合物４ ５質量部
【０２２８】
次いで、３５℃に調整した上記ドープ液を、無端ベルト流延装置のステンレスベルト支持体上に、幅１５００ｍｍとなるように均一に流延させた。ステンレスベルト支持体の温度は３０℃とした。ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）された塗膜中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させた後、剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から塗膜を剥離した。剥離して得られるウェブを、１４０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に２０％延伸した。延伸開始時のウェブの残留溶媒量は１５％であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥は、搬送張力１００Ｎ／ｍ、温度１３０℃で行った。これにより、膜厚４０μｍの光学フィルムを得た。
【０２２９】
（実施例２〜８）
表２に示されるように、セルロースジアセテートの種類を変更した以外は実施例１と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３０】
（実施例９〜１３）
表２に示されるフィルムの膜厚となるように、ドープの流量を変更した以外は実施例１と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３１】
（実施例１４〜１８）
表２に示されるフィルムの膜厚となるように、ドープの流量を変更した以外は実施例２と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３２】
（実施例１９〜２３）
表２に示されるフィルムの膜厚となるように、ドープの流量を変更した以外は実施例７と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３３】
（比較例１〜５）
表２に示されるように、セルロースジアセテートの種類を変更した以外は実施例１と同様にして光学フィルムを得た。
【０２３４】
得られた光学フィルムの内部ヘイズ、ブロッキング耐性およびスリッティング特性を、以下の方法で評価した。
【０２３５】
内部ヘイズの測定
光学フィルムの内部ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法；具体的には、以下の方法で測定した。ヘイズメーター（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色（株）製）を準備した。光源は５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部はシリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）とした。
【０２３６】
１）ブランクヘイズの測定
洗浄したスライドガラスの上に、グリセリンを一滴（０．０５ｍｌ）滴下した。このとき、液滴に気泡が入らないように注意した。
次いで、滴下したグリセリンの上に、カバーガラスを載せた。カバーガラスは押さえなくてもグリセリンは広がった。
これにより得られるブランク測定用のサンプル（カバーガラス／グリセリン／スライドガラス）を、ヘイズメーターにセットして、ヘイズ１（ブランクヘイズ）を測定した。
２）光学フィルムを含むサンプルのヘイズの測定
前記１）と同様にして、洗浄したスライドガラスの上にグリセリンを滴下した。
一方で、測定する光学フィルムを、２３℃５５％ＲＨ下で５時間以上調湿した。次いで、滴下したグリセリンの上に、調湿した光学フィルムを、気泡が入らないように載せた。
さらに、光学フィルム上に０．０５ｍｌのグリセリンを滴下した後、カバーガラスをさらに載せた。
これにより得られる測定用のサンプル（カバーガラス／グリセリン／試料フィルム／グリセリン／スライドガラス）を、前述のヘイズメーターにセットして、ヘイズ２を測定した。
３）前記１）で得られたヘイズ１と、前記２）で得られたヘイズ２を、下記式に当てはめて、光学フィルムのヘイズを算出した。
光学フィルムの内部ヘイズ（％）＝ヘイズ２（％）−ヘイズ１（％）
【０２３７】
内部ヘイズの測定は、いずれも２３℃５５％ＲＨの条件下にて行った。また、測定に用いたガラスは、ＭＩＣＲＯ ＳＬＩＤＥ ＧＬＡＳＳ Ｓ９２１３ ＭＡＴＳＵＮＡＭＩとした。また、測定に用いたグリセリンは、関東化学製 鹿特級（純度＞９９．０％）、屈折率１．４７とした。
【０２３８】
ブロッキング耐性の測定
得られた、長さ２６００ｍの長尺状の光学フィルムをリール状に巻き取って巻き取り体を得た。得られた巻き取り体を、ポリエチレンシートで二重に包んだ後、２５℃５０％ＲＨの条件下で３０日間保存した。その後、ポリエチレンシートから巻き取り体を取り出し、巻き取り体からフィルムを繰り出したときのブロッキングの発生の有無を、目視観察した。ブロッキング耐性の評価は、以下の基準に基づいて行った。
Ａ：巻き取り体の巻きの状態において、フィルム同士の貼り付きによる凹凸（巻きの変形）が全く見られない
Ｂ：フィルムを繰り出すときに軽い剥離音がするが、巻きに変形が見られない
Ｃ：フィルムを繰り出すときに軽く抵抗があるが、巻きに変形が見られない
Ｄ：フィルムを繰り出すときに軽く抵抗があり、巻きに変形が見られる
Ｅ：フィルムを繰り出すときに強い抵抗があり、巻きに大きな変形が見られる
Ａ、ＢおよびＣが実用上問題ないレベルと判断した。
【０２３９】
スリッティング適性（脆性）
油圧卓上プレス機に、刃先の角度を６０°に摩耗させた上刃と、９０°の下刃とを、水平方向の間隔が３０μｍとなるように取り付けた。そして、上刃の先端と下刃の先端との間に、得られたフィルムをセットし、上刃の下降速度６ｍ／分の条件で、幅９０ｃｍ、長さ１００ｃｍの大きさの試料片を、連続して１００枚切り出した。切り出された各試料片の裁断面を、光学顕微鏡を用いて５０倍で観察した。バリや劈開、切断できない、切りくずの発生等の不良が発生したフィルムの枚数をカウントし、下記式に当てはめて不良率を算出した。
不良率（％）＝（不良が発生したフィルムの枚数／切り出した全フィルムの枚数（１００枚））×１００
【０２４０】
スリッティング適性の評価は、下記の基準に基づいて行った。
Ａ：不良率が１％未満
Ｂ：不良率が１％以上２％未満
Ｃ：不良率が２％以上５％未満
Ｄ：不良率が５％以上１０％未満
Ｅ：不良率が１０％以上
Ａ、ＢおよびＣが実用上問題ないレベルと判断した。
【０２４１】
実施例１〜２３および比較例１〜５の光学フィルムの評価結果を表２に示す。
【表２】
【０２４２】
表２に示されるように、溶液の濁度、アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）、および６位のアセチル基置換度の割合がいずれも本願の範囲を満たすセルロースエステルを含む実施例１〜２３の光学フィルムは、内部ヘイズが低く、かつブロッキング耐性とスリッティング適性が良好であることがわかる。
【０２４３】
一方、アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が少なすぎるセルロースエステルを含む比較例１の光学フィルムは、ブロッキング耐性が低く、アルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が多すぎるセルロースエステルを含む比較例２の光学フィルムは、内部ヘイズが高いことがわかる。また、セルロースジアセテート溶液の濁度が低すぎる比較例３の光学フィルムは、ブロッキング耐性が低く、セルロースジアセテート溶液の濁度が高すぎる比較例４の光学フィルムは、内部ヘイズが高いことがわかる。さらに、６位のアセチル基置換度の割合が低すぎる比較例５の光学フィルムは、ブロッキング耐性とスリッティング適性がいずれも低いことがわかる。
【０２４４】
また、対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの量（Ｂ）の割合（Ｂ／Ａ）が０．５〜０．９の範囲にあるセルロースエステルを含む実施例１〜３の光学フィルムは、上記範囲を満たさない実施例４〜５および１０の光学フィルムよりも、内部ヘイズが低く、かつブロッキング耐性が優れることがわかる。
【０２４５】
さらに、実施例１１〜１３、１６〜１８および２１〜２３の光学フィルムは、膜厚が小さいにも係わらず、良好なブロッキング耐性とスリッティング適性を示すことがわかる。また、対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの割合（Ｂ／Ａ）が０．７５〜０．９の範囲にあるセルロースエステルを含む実施例１〜５の光学フィルムは、膜厚が小さいにも係わらず、ブロッキング耐性がほとんど低下しないことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０２４６】
本発明の光学フィルムは、ヘイズが低く、ブロッキングが十分に抑制され、かつ良好な脆性を有する。
【符号の説明】
【０２４７】
１０ 液晶表示装置
２０ 液晶セル
４０ 第一の偏光板
４２ 第一の偏光子
４４ 偏光板保護フィルム（Ｆ１）
４６ 偏光板保護フィルム（Ｆ２）
６０ 第二の偏光板
６２ 第二の偏光子
６４ 偏光板保護フィルム（Ｆ３）
６６ 偏光板保護フィルム（Ｆ４）
８０ バックライト
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含有する光学フィルムであって、
前記セルロースアセテートが、下記Ａ）およびＢ）の要件を満たし、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
かつ
前記セルロースアセテート１ｋｇ相当のフィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が３５ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である、光学フィルム。
【請求項２】
前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンが、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンを含み、
前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の、前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）に対する割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記割合（Ｂ／Ａ）が、０．７５以上０．９０以下である、請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定される内部ヘイズが、０．０５％以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記光学フィルムの厚みが、１５〜６０μｍである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
偏光子と、
前記偏光子の少なくとも一方の面に配置された、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
を含む、偏光板。
【請求項７】
液晶セルと、前記液晶セルを挟持する一対の偏光板と、を含む液晶表示装置であって、
前記一対の偏光板のうち少なくとも一方は、偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に配置される請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルムと、を含む、液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、
下記Ａ）、Ｂ）およびＣ）の要件を全て満たし、かつアセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含む樹脂組成物を得るステップと、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
Ｃ）セルロースアセテート１ｋｇに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量が３０ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である
前記樹脂組成物を成形して光学フィルムとするステップと、
を含む、光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンが、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンを含み、
前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の、前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）に対する割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下である、請求項８に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１】
アセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含有する光学フィルムであって、
前記セルロースアセテートが、下記Ａ）およびＢ）の要件を満たし、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
かつ
前記セルロースアセテート１ｋｇ相当のフィルムに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）が３５ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である、光学フィルム。
【請求項２】
前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンが、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンを含み、
前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の、前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）に対する割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記割合（Ｂ／Ａ）が、０．７５以上０．９０以下である、請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定される内部ヘイズが、０．０５％以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記光学フィルムの厚みが、１５〜６０μｍである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
偏光子と、
前記偏光子の少なくとも一方の面に配置された、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
を含む、偏光板。
【請求項７】
液晶セルと、前記液晶セルを挟持する一対の偏光板と、を含む液晶表示装置であって、
前記一対の偏光板のうち少なくとも一方は、偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に配置される請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルムと、を含む、液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、
下記Ａ）、Ｂ）およびＣ）の要件を全て満たし、かつアセチル基の総置換度が２．０以上２．６以下であるセルロースアセテートを含む樹脂組成物を得るステップと、
Ａ）セルロースアセテート１０質量部を、メチレンクロライド９２質量％とエタノール８質量％の混合溶媒１７１質量部に溶解させた後、濾過精度７μｍの濾紙で濾過して得られるセルロースアセテート溶液の濁度が０．３以上４．０以下である
Ｂ）セルロースアセテートが下記式を満たす
２９．５≦ＤＳ６／ＤＳｔ×１００≦３４．０
（式中、ＤＳｔはアセチル基の総置換度を表し、ＤＳ６は６位のアセチル基の置換度を表す）
Ｃ）セルロースアセテート１ｋｇに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量が３０ｍｇ以上２５０ｍｇ以下である
前記樹脂組成物を成形して光学フィルムとするステップと、
を含む、光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンが、前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンを含み、
前記セルロースアセテートに含まれる酸性基との対イオンとして存在するアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ｂ）の、前記セルロースアセテートに含まれるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの総量（Ａ）に対する割合（Ｂ／Ａ）が、０．５以上０．９以下である、請求項８に記載の光学フィルムの製造方法。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図２】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図２】
【公開番号】特開２０１３−８０１１７（Ｐ２０１３−８０１１７Ａ）
【公開日】平成２５年５月２日（２０１３．５．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２２０２１９（Ｐ２０１１−２２０２１９）
【出願日】平成２３年１０月４日（２０１１．１０．４）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２日（２０１３．５．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１０月４日（２０１１．１０．４）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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