説明

光学素子及び該光学素子の製造方法

【課題】フレアやゴーストなどの原因となる有害光の発生を抑制し、かつ外観上も高品位な光学素子を得る。
【解決手段】光学素子1の光線有効部2bには、酸化アルミニウムを含有する材料から成り、破線で示すように、ピッチが可視光領域又は赤外光領域の使用波長以下の微細凹凸構造4が形成されている。また非光線有効部3には、使用波長において不透明成分を含む樹脂から成る塗膜5が形成され、更にこの塗膜5上には、保護膜6が形成されている。塗膜5、保護膜6は1〜100μm程度の厚さである。この保護膜6を設けたことにより、微細凹凸構造4を形成する際の温水処理においても、実質的に不透明な塗膜5からの有効成分の溶出を防止しているため、内面反射防止の性能が高く、外観も優れた高品位で高性能な光学素子を実現している。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、レンズ面などの光線有効部に、使用波長以下の微細凹凸構造を有する反射防止構造体を具備する光学素子及び該光学素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
レンズなどの光学素子では、フレアやゴーストなどの原因となる有害光の発生を抑制し、高品位で高性能な光学系を得ることを目的として、様々な工夫がなされている。それらは大きく分けて、次の2つに分類することができる。
【0003】
(1)光線有効部において、入射した光の透過率を向上し、反射率を低減することで有害光の発生を防止する。
【0004】
(2)非光線有効部において、光の吸収率を向上し、反射率を低減することで有害光の発生を防止する。
【0005】
従来から(1)の方法として、真空蒸着法やスパッタリング法などにより、誘電体薄膜を一層又は多層に設ける方法が広く利用されている。また近年では、入射角度特性及び波長帯域特性に優れた反射防止手段として、使用波長以下の微細凹凸形状を用いた反射防止構造体が提案されている。
【0006】
特許文献1では、(1)の方法として次の工程を備えた反射防止構造体が開示されている。
【0007】
(イ)ガラス基板を洗浄、(ロ)Al23ゾル塗布液をディップコート法で塗布、乾燥、(ハ)500℃で10分間焼成、(ニ)約100℃の熱水中に約0.5〜2時間程度浸漬、(ホ)約100℃で10分間の乾燥、(ヘ)400℃、10分程度の焼成。
【0008】
これらの工程により、花弁状透明アルミナ膜がガラス基板上に形成される。このガラス基板を評価したところ、充分な透視性に優れ、優れた反射低減性を示したとされている。
【0009】
一方、(2)の方法としては、使用波長において実質的に不透明な塗料を、レンズ側端部などの非光線有効部に塗布する方法が一般的に用いられている。
【0010】
特許文献2では、コールタール又はコールタールピッチと、ビニルエステル又はアクリロニトリルとの共重合体である塩化ビニリデン系共重合体とを含有する内面反射防止塗料が提案されており、レンズ端面で優れた反射防止特性を実現している。
【0011】
【特許文献1】特開平9−202649号公報
【特許文献2】特公昭58−4946号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0012】
本発明者らは、レンズ面の光線有効部において高い透過率特性を有し、かつ非光線有効部では高い吸収率特性を有する光学素子を開発するために、検討を続けてきた。そして、その目的を達成するために、光線有効部には使用波長以下の微細凹凸構造として、花弁状透明アルミナ膜を形成した。同時に、レンズ側端部の非光線有効部には、使用波長において実質的に不透明な塗膜として、黒色染料を含有する塗膜を形成することを試みた。
【0013】
得られた光学素子を評価したところ、光線有効部では高い透過率が得られたものの、非光線有効部での吸収率特性が十分に高められておらず、外観上もレンズ内面から見ると白い斑状のむらが見られ、光学製品としての品位上、好ましいものではなかった。
【0014】
種々の検討の結果、これは光線有効部に花弁状透明アルミナ膜を形成した際に、荒ずりされたレンズ側端部には光線有効部よりも厚い膜が形成され、その上に内面反射防止塗料が形成されているためと判明した。なお、非光線有効部にも光線有効部と同様の厚さの花弁状透明アルミナ膜が形成されていれば、高い内面反射防止効果が得られることを、本発明者らは知見している。
【0015】
その対策として、花弁状透明アルミナ膜を形成した後に、レンズ側端部に付着した塗膜を有機溶剤等で拭き取るなどの方法も試みたが、荒ずりされたレンズ側端部の塗膜を完全に除去することは困難であることが分った。また、除去が可能であるとしても、極めて手間と時間を要する作業となるため、工業製品としての生産工程上、好ましいものではない。
【0016】
このような状況から、初めに非光線有効部に黒色染料を含有する塗膜を形成し、次いで光線有効部に花弁状透明アルミナ膜を形成することを試みた。得られた光学素子を評価したところ、非光線有効部では十分な吸収率特性が得られておらず、外観上も塗膜の変色や色抜け、むらなどが見られ、更には光線有効部も汚染されており、光学製品としての品位上、好ましいものではなかった。
【0017】
更に種々検討の結果、これは花弁状透明アルミナ膜を形成時に、高温の温水に浸漬する工程において、非光線有効部に設けた実質的に不透明な塗膜から、黒色染料などの成分が溶解したためであることが判明した。
【0018】
本発明の目的は、光線有効部に使用波長以下の微細凹凸構造を有する反射防止構造体を具備し、かつ非光線有効部での内面反射防止の性能及び外観にも優れた高品位で高性能な光学素子を提供することにある。
【0019】
また本発明の他の目的は、上述の性能を有する光学素子を製造する光学素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0020】
上記目的を達成するための本発明に係る光学素子は、光学素材の光線有効部の少なくとも一部に平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造を有する反射防止構造体を具備した光学素子であって、非光線有効部の一部又は全部には使用波長において不透明な塗膜が形成され、該塗膜の上には該塗膜とは成分が異なる保護膜が形成されていることを特徴とする。
【0021】
また、本発明に係る光学素子の製造方法は、光学素材の非光線有効部に使用波長において不透明な塗膜を形成する工程と、前記塗膜の上に前記塗膜とは成分の異なる保護膜を形成する工程と、光線有効部にアルミニウム又は酸化アルミニウムを含有する膜を形成する工程と、温水に浸漬又は水蒸気に曝すことにより、前記アルミニウム又は酸化アルミニウムを含有する膜の表面に平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造から成る反射防止構造体を形成する工程とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【0022】
本発明に係る光学素子及び該光学素子の製造方法によれば、光線有効部のみならず、非光線有効部でもフレアやゴーストなどの有害光の発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0023】
本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。
【実施例1】
【0024】
図1は実施例1の光学素子の断面図である。光学素子1は凹メニスカスレンズであり、光線有効部2bには、酸化アルミニウムを含有する材料から成り、破線で示すように、ピッチが可視光領域又は赤外光領域の使用波長以下の微細凹凸構造4が形成されている。また非光線有効部3には、使用波長において不透明成分を含む樹脂から成る塗膜5が形成され、更にこの塗膜5上には、保護膜6が形成されている。図1においては、塗膜5、保護膜6共にデフォルメして厚く描いているが、実際には1〜100μm程度の厚さである。
【0025】
また、保護膜6は塗膜5の端部も含め塗膜5の全部を覆うように形成することが望ましい。この保護膜6を設けたことにより、微細凹凸構造4を形成する際の温水処理においても、実質的に不透明な塗膜5からの有効成分の溶出を防止しているため、内面反射防止の性能が高く、外観も優れた高品位で高性能な光学素子を実現している。
【0026】
実施例1では、光線有効部の少なくとも一部の光線有効部2bのみに微細凹凸構造4を設け、光線有効部2aには通常の誘電体多層膜から成る反射防止膜を設けたが、本実施例1はこれに限定するものではなく、双方に微細凹凸構造4を設けてもよい。
【0027】
また光学素子1としては、凹メニスカスレンズの場合を示したが、これに限定されるものではない。例えば、両凸レンズ、両凹レンズ、平凸レンズ、平凹レンズ、凸メニスカスレンズ、非球面レンズ、自由曲面レンズ、プリズムなどを含む形状の光学素子でもよい。
【実施例2】
【0028】
図2は実施例2の光学素子の断面図である。光学素子1は両凹レンズであり、光線有効部2a、2bには酸化アルミニウムを含有する材料から成り使用波長以下の微細凹凸構造4が形成されている。また非光線有効部3には、使用波長において不透明な塗膜5が形成され、更にこの塗膜5上には、保護膜6が形成されている。
【0029】
実施例2では、光線有効部2a、2bの両方に微細凹凸構造4を設けたが、これに限定するものではなく、何れか一方を誘電体薄膜から成る反射防止膜としてもよい。また光学素子1として、両凹レンズの場合を示したが、実施例1と同様に多種の形状の光学素子1でもよい。
【実施例3】
【0030】
図3は実施例3の結像光学系の断面図である。光学系10は図1に示す凹メニスカスレンズから成る光学素子1を有し、光線有効部2bには、酸化アルミニウムを含有する材料から成り、ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造4が設けられている。
【0031】
光学系10は光学素子1の光線有効部2bでの透過率が高く、非光線有効部3での反射率が低いため、フレアやゴーストの原因となる有害光の発生を抑制し、かつ外観も優れた高品位で高性能な結像光学系を実現している。
【0032】
本実施例3では結像光学系の場合を示したが、これに限定するものではなく、観察光学系であっても支障はない。また、本実施例3の結像光学系は、カメラなどの光学装置に搭載する場合にも好適である。
【実施例4】
【0033】
図4は実施例4の観察光学系の断面図である。光学系10は図2に示す両凹レンズから成る光学素子1を有し、光線有効部2a、2bには酸化アルミニウムを含有する材料から成り、ピッチが波長以下の微細凹凸構造4が設けられている。
【0034】
光学系10は光学素子1の光線有効部2a、2bでの透過率が高く、非光線有効部3での反射率が低いため、フレアやゴーストの原因となる有害光の発生を抑制し、かつ外観も優れた高品位で高性能な観察光学系を実現している。
【0035】
本実施例では、観察光学系の場合を示したが、これに限定するものではなく、結像光学系に用いることもできる。
【実施例5】
【0036】
図5は実施例5の光学素子の製造方法の工程図である。始めに、任意の硝材から成る光学素材を純水リンス、アルコールで洗浄した後に、(a)に示すように、真空チャック式の回転ステージ21に載置する。そして、光学素材をゆっくり回転させながら、レンズ外端部の非光線有効部3に、使用波長において実質的に不透明な塗膜5として、黒色染料、添加剤、硬化剤を含有する樹脂を筆22で塗布し、乾燥する。
【0037】
本実施例5では、黒色染料を用いたが、これに限定するものではなく、別の色の染料や顔料、不透明微粒子、或いは様々な色の染料、顔料、微粒子などを混合して使用してもよい。また、塗膜5の樹脂としてはエポキシ系、アクリル系、イミド系、メラミン系、フェノール系、ノボラック系、アルキッド系、マレイン酸系、シリコン系の樹脂のうちの少なくとも1つを含有することが望ましい。
【0038】
次に(b)に示すように、光学素材を回転ステージ21で、ゆっくり回転させながら、(a)で塗布した実質的に不透明な塗膜5の上に、保護膜6となる耐温水処理性に優れた樹脂単体又は硬化剤入りの樹脂を含有する塗布液を筆23で塗布し、硬化・乾燥させる。なお、この樹脂には塗膜5と同様の材料を使用できる。この保護膜6の樹脂としては、塗膜5と同様のエポキシ系、アクリル系、イミド系、メラミン系、フェノール系、ノボラック系、アルキッド系、マレイン酸系、シリコン系の樹脂のうちの少なくとも1つを含有することが望ましい。
【0039】
その後に(c)に示すように、光学素材をステージ21で、光線有効部2に酸化アルミニウムを含有する塗布液をノズル24から適量滴下し、約3000rpmで30秒間程度回転させ、100℃以上の温度のオーブンで30分間以上かけて焼成する。
【0040】
ここでは、スピン塗工条件を約3000rpmで30秒間程度としたが、本実施例5はこれに限定するものではなく、所望の膜厚を得るために塗工条件を変えてもよい。また、スピンコート法に限らず、ディップコート法、スプレーコート法などを用いてもよい。
【0041】
次に、(d)に示すように、光学素材を温水処理槽25を用いて、60〜100℃の温水中に5分〜24時間浸漬し、引き上げた後に乾燥させる。なお、温水に浸す代りに、水蒸気を吹き付けてもよい。
【0042】
かくすることにより、(e)に示すように、完成した光学素子1は光線有効部2bに花弁状透明アルミナ膜から成る微細凹凸構造4が形成され、優れた透過率特性を有する。
【0043】
また、多数作製したうちの1つを破壊し、光線有効部2aの表面を上面及び断面からFE―SEMで観察したところ、平均ピッチ400nm以下、平均高さ50nm以上の微細凹凸構造4が形成されていることが確認できた。
【0044】
更に、非光線有効部3には実質的に不透明な塗膜5が劣化することなく形成されており、内面反射防止の性能が高く、外観も優れた高品位で高性能な光学素子を得ることができた。
【0045】
[比較例1]
図6は実施例5の製造方法と対比するための比較例1における光学素子の製造方法である。始めに任意の硝材から成る光学素材を純水リンス、アルコールで洗浄後に、(a)に示すように真空チャック式の回転ステージ21に載置する。そして、光学素材をゆっくり回転させながら、レンズ外端部の非光線有効部3に、使用波長において実質的に不透明な塗膜として、黒色染料、添加剤、硬化剤を含有する樹脂を筆22により塗布し、乾燥した。
【0046】
次に、(b)に示すように、光学素材をステージ21で、光線有効部2に酸化アルミニウムを含有する塗布液をノズル24から適量滴下し、約3000rpmで30秒間程度回転させ、100℃以上の温度のオーブンで30分間以上かけて焼成した。
【0047】
続いて、(c)に示すように、光学素材を温水処理槽25を用いて、60〜100℃の温水中に5分〜24時間浸漬し、引き上げた後に乾燥した。
【0048】
(d)に示すように、完成した光学素子1の非光線有効部3の実質的に不透明な塗膜5は、温水処理により黒色染料の成分が溶出し、内面反射防止の性能は低下し、外観も変色、色抜け、むらなどが発生していた。
【0049】
更に、光線有効部2a、2bの微細凹凸構造4にも、実質的に不透明な塗膜5から溶出した黒色染料の成分が付着して汚染され、光学素子1としての性能、品位上好ましいものではなかった。つまり比較例においては、実施例5の(b)の保護膜6の形成工程を省略したために、上述の不具合が発生したのである。
【図面の簡単な説明】
【0050】
【図1】実施例1の光学素子の断面図である。
【図2】実施例2の光学素子の断面図である。
【図3】実施例3の結像光学系の断面図である。
【図4】実施例4の観察光学系の断面図である。
【図5】実施例5の光学素子の製作方法の工程図である。
【図6】比較例1の光学素子の製作方法の工程図である。
【符号の説明】
【0051】
1 光学素子
2、2a、2b 光線有効部
3 非光線有効部
4 微細凹凸構造
6 保護膜
10 光学系
21 回転ステージ
22、23 筆
24 ノズル
25 温水処理槽

【特許請求の範囲】
【請求項1】
光学素材の光線有効部の少なくとも一部に平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造を有する反射防止構造体を具備した光学素子であって、非光線有効部の一部又は全部には使用波長において不透明な塗膜が形成され、該塗膜の上には該塗膜とは成分が異なる保護膜が形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項2】
前記反射防止構造体はアルミニウム又は酸化アルミニウムを含有することを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
【請求項3】
前記反射防止構造体は前記平均ピッチが400nm以下、平均高さが50nm以上であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
【請求項4】
前記塗膜は樹脂及び不透明成分を含有し、添加剤、硬化剤のうちの何れか一方又は双方を含有することを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
【請求項5】
前記不透明成分はコールタール、コールタールピッチ、染料、顔料、不透明微粒子のうち、少なくとも1つを含有することを特徴とする請求項4に記載の光学素子。
【請求項6】
前記樹脂はエポキシ系、アクリル系、イミド系、メラミン系、フェノール系、ノボラック系、アルキッド系、マレイン酸系、シリコン系の樹脂のうちの少なくとも1つを含有することを特徴とする請求項4に記載の光学素子。
【請求項7】
前記保護膜は樹脂単体又は硬化剤入りの樹脂としたことを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
【請求項8】
前記樹脂はエポキシ系、アクリル系、イミド系、メラミン系、フェノール系、ノボラック系、アルキッド系、マレイン酸系、シリコン系の樹脂のうちの少なくとも1つを含有することを特徴とする請求項7に記載の光学素子。
【請求項9】
前記保護膜は前記使用波長において透明であることを特徴とする請求項7に記載の光学素子。
【請求項10】
前記保護膜は耐温水処理性を有し、温水処理によって前記不透明な塗膜からの成分の溶出を抑制することを特徴とする請求項7に記載の光学素子。
【請求項11】
前記使用波長は可視光領域又は赤外光領域であることを特徴とする請求項1〜10の何れか1つの請求項に記載の光学素子。
【請求項12】
請求項1〜11に記載の光学素子を少なくとも1つ有することを特徴とする光学系。
【請求項13】
前記光学系は結像光学系であることを特徴とする請求項12に記載の光学系。
【請求項14】
前記光学系は観察光学系であることを特徴とする請求項12に記載の光学系。
【請求項15】
請求項13〜14に記載の光学系を少なくとも1つ有することを特徴とする光学装置。
【請求項16】
光学素材の非光線有効部に使用波長において不透明な塗膜を形成する工程と、前記塗膜の上に前記塗膜とは成分の異なる保護膜を形成する工程と、光線有効部にアルミニウム又は酸化アルミニウムを含有する膜を形成する工程と、温水に浸漬又は水蒸気に曝すことにより、前記アルミニウム又は酸化アルミニウムを含有する膜の表面に平均ピッチが使用波長以下の微細凹凸構造から成る反射防止構造体を形成する工程とを有することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項17】
前記アルミニウム又は酸化アルミニウムを含有する膜は、スピンコート法又はディップコート法又はスプレーコート法により形成することを特徴とする請求項16に記載の光学素子の製造方法。
【請求項18】
前記温水に浸漬する工程は、温水の温度を60〜100℃とし、5分〜24時間浸漬することを特徴とする請求項16に記載の光学素子の製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2010−54827(P2010−54827A)
【公開日】平成22年3月11日(2010.3.11)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−220014(P2008−220014)
【出願日】平成20年8月28日(2008.8.28)
【出願人】(000001007)キヤノン株式会社 (59,756)
【Fターム(参考)】