光学装置、位置検出方法、および表示装置の製造方法
【課題】高い位置合わせ精度を得ることの可能な光学装置、および位置検出方法を提供すると共に、上記の位置検出方法を用いた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】位置検出装置において、積層フィルムを所定の位置に配置する。次に、その積層フィルムの端面に、積層フィルムの法線と交差する方向から直線偏光光を照射し、その状態で、積層フィルムの端面およびその近傍を積層フィルムの上方から撮像する。その後、そのようにして得られた映像に基づいて積層フィルムの位置を検出する。
【解決手段】位置検出装置において、積層フィルムを所定の位置に配置する。次に、その積層フィルムの端面に、積層フィルムの法線と交差する方向から直線偏光光を照射し、その状態で、積層フィルムの端面およびその近傍を積層フィルムの上方から撮像する。その後、そのようにして得られた映像に基づいて積層フィルムの位置を検出する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、高い位置合わせ精度を得ることの可能な光学装置、および位置検出方法に関する。また、本技術は、上記の位置検出方法を用いた表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、３次元表示が可能なディスプレイの開発が進んでいる。３次元表示方式としては、例えば、右眼用の画像と左眼用の画像とをそれぞれディスプレイの画面に表示し、これを、偏光めがねをかけた状態で観察する方式がある（例えば、特許文献１参照）。この方式は、２次元表示が可能なディスプレイ、例えばブラウン管、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイの前面に、パターニングされた位相差フィルムを配置することで実現される。位相差フィルムには、左右の眼にそれぞれ入射する光の偏光状態を制御するために、リターデンションや光学軸がディスプレイの画素レベルでパターニングされている。そのため、ディスプレイの画素に合わせて位相差フィルムを貼り合わせることが必要となる。
【０００３】
ところで、位相差フィルムと表示パネルとの貼り合わせには、高精度なアライメントが必要である。そのため、例えば、位相差フィルムおよび表示パネルの双方にアライメントマークを付けておき、検出用カメラでそれぞれのアライメントマークを撮像し、得られた画像からそれぞれの位置を導出することが考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−２２１４６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、対象物にアライメントマークを形成する方法としては、例えば、対象物に対してアライメントマークを蒸着や印刷などにより事後的に付与したり、マークを付した部材を用いて対象物を製造したりする方法が考えられる。しかし、そのような方法を、例えば、位相差フィルムと表示パネルとの貼り合わせなどに適用した場合には、位相差フィルムの位相差領域の形成と、アライメントマークの形成とが別工程となる。そのため、アライメント精度を向上させようとしたときには、一方の位置を認識しながら、他方を高精度に位置決めすることが必要となる。その結果、製造工程が複雑となったり、工程数が多くなったりするという問題がある。
【０００６】
そこで、例えば、位相差フィルムのパターン化位相差領域およびアライメントマークの双方を、凹凸パターンを有する金属原盤による一括転写によって形成するなどして、位相差フィルムのパターン化位相差領域およびアライメントマークを同一工程で形成することが考えられる。また、例えば、位相差フィルムのパターン化位相差領域そのものを、アライメントマークとして利用することも考えられる。上記のようにした場合には、簡易な方法かつ少ない工程数でアライメント精度を向上させることができる。ただし、上記のようにした場合には、アライメントマークを画像認識するために、検出用カメラの光路上に、アライメントマークの他に、例えば、偏光板などを設けることが必要となる。
【０００７】
ところが、例えば、位相差フィルムと表示パネルとの貼り合わせに際して、位相差フィルムの上面には、位相差フィルムの上面に傷および汚れが付着するのを防止する保護フィルムがあらかじめ貼り合わされていることがある。また、同様に、位相差板の裏面に、保護フィルムが貼り合わされていることもある。
【０００８】
通常、保護フィルムには、リターデンションの高いＰＥＴフィルムが使われる。そのため、保護フィルムで偏光が乱されてしまうので、検出用カメラでアライメントマークを明瞭に撮像することができず、アライメントマークの位置検出の精度が低下し、位置合わせ精度が低下してしまうという問題がある。
【０００９】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、高い位置合わせ精度を得ることの可能な光学装置、および位置検出方法を提供することにある。また、第２の目的は、上記の位置検出方法を用いた表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本技術による光学装置は、遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、この位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体を被写体とするものである。この光学装置は、積層体を所定の位置に設置したときに、その積層体の端面に、積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射することが可能な照明装置を備えている。この光学装置は、さらに、積層体の端面およびその近傍を、積層体の上方から撮像する撮像装置を備えている。
【００１１】
本技術による位置検出方法は、遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、その位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の位置を検出する方法である。この位置検出方法は、積層体の端面に、積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、積層体の端面およびその近傍を積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて積層体の位置を検出するステップを含んでいる。
【００１２】
本技術による光学装置および位置検出方法では、積層体の端面に対して、積層体の法線と交差する方向から直線偏光光が照射された状態で、積層体の端面およびその近傍が、積層体の上方から撮像される。これにより、保護フィルムのリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られる。
【００１３】
本技術による表示装置の製造方法は、以下の３つの工程を含むものである。
（Ａ）遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、この位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の位置を検出する第１工程
（Ｂ）表示パネルの位置を検出する第２工程
（Ｃ）第１工程で検出した積層体の位置の情報と、第２工程で検出した表示パネルの位置の情報とを利用して、積層体、または積層体から保護フィルムを剥離したものと、表示パネルとを互いに貼り合わせる第３工程
【００１４】
本技術による表示装置の製造方法は、第１工程において、積層体の端面に、積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、積層体の端面およびその近傍を積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて積層体の位置を検出する。これにより、本技術による表示装置の製造方法では、保護フィルムのリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られる。
【００１５】
本技術による光学装置において、直線偏光光を照射することの可能な照明装置は、例えば、反射板、光源、および第１偏光板を備えている。ここで、光源は、反射板の法線と交差する光軸を有すると共に直線偏光光を発するものである。第１偏光板は、光源および撮像装置の光軸上であって、かつ反射板と、積層体を設置する位置との間に配置されると共に、光源から発せられた光の偏光軸と平行な方向に透過軸の成分を有している。
【００１６】
本技術による光学装置は、撮像装置で撮像した映像に基づいて積層体の位置を検出する検出装置をさらに備えていてもよい。この場合には、光学装置から、積層体の位置の情報を出力することができる。
【００１７】
本技術による光学装置において、光源は、当該光源の光軸が、積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面またはその近傍を通過する位置に配置されていてもよい。また、光源は、当該光源から発せられた光のうち反射板で反射された光が、積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に入射する位置に配置されていてもよい。また、光源は、当該光源から発せられた光が、積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に直接に入射する位置に配置されていてもよい。また、光源は、当該光源の焦点が、積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面から離れた位置となるように配置されていてもよい。
【００１８】
本技術による光学装置において、撮像装置は、当該撮像装置の光軸が、積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の端縁またはその近傍を通過する位置に配置されていてもよい。また、撮像装置の光軸は、反射板の法線と平行となっていてもよい。
【００１９】
被写体である積層体内の位相差領域が、位相差領域の延在方向との関係で、０°または９０°の遅相軸を有している場合には、本技術による光学装置は、撮像装置の光軸上であって、かつ撮像装置と、積層体が設置される位置との間に、光の偏光方向を変移させる素子が何も設けられておりず、積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体から出射されてきた光を直接に撮像装置で検出するようになっていることが好ましい。このようにした場合には、０°の遅相軸を有する位相差領域と、９０°の遅相軸を有有する位相差領域とで、コントラストの差を大きくすることができる。
【００２０】
被写体である積層体内の位相差領域が、位相差領域の延在方向との関係で、＋４５°または−４５°の遅相軸を有している場合には、本技術による光学装置は、撮像装置の光軸上であって、かつ撮像装置と、積層体が配置される位置との間に配置されると共に、積層体の位相差領域の延在方向と４５°の角度で交差する方向に透過軸を有する第２偏光板をさらに備えていることが好ましい。このようにした場合には、＋４５°の遅相軸を有する位相差領域と、−４５°の遅相軸を有有する位相差領域とで、コントラストの差を大きくすることができる。
【発明の効果】
【００２１】
本技術の光学装置、位置検出方法、および表示装置の製造方法によれば、保護フィルムのリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られるようにしたので、保護フィルムの有無に拘わらず、高い位置合わせ精度を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】一実施の形態に係る積層フィルムの斜視図である。
【図２】図１の基材フィルムの一例を表す平面図および断面図である。
【図３】図１の基材フィルムの他の例を表す断面図である。
【図４】図１の位相差層の一例を表す平面図である。
【図５】図１の積層フィルムの位置を検出するための位置検出装置の概略構成図である。
【図６】図５の位置検出装置を撮像装置側から見たときの平面図である。
【図７】図５の位置検出装置で撮像された映像の一例を表す図である。
【図８】第１変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図９】図８の基材フィルムの一例を表す平面図および断面図である。
【図１０】図８の基材フィルムの他の例を表す断面図である。
【図１１】図８の位相差層の一例を表す平面図である。
【図１２】図８の積層フィルムの位置を検出するための位置検出装置の概略構成図である。
【図１３】第２変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１４】第３変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１５】第４変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１６】第５変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１７】第６変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１８】第７変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１９】図５の位置検出装置の他の例の概略構成図である。
【図２０】図１２の位置検出装置の他の例の概略構成図である。
【図２１】図２の基材フィルムの一変形例を表す平面図である。
【図２２】図３の基材フィルムの一変形例を表す平面図である。
【図２３】図９の基材フィルムの一変形例を表す平面図である。
【図２４】図１０の基材フィルムの一変形例を表す平面図である。
【図２５】図２、図９の基材フィルムの他の変形例を表す平面図である。
【図２６】図２１、図２３の基材フィルムの他の変形例を表す平面図である。
【図２７】図３、図１０の基材フィルムの他の変形例を表す平面図である。
【図２８】図２２、図２４の基材フィルムの他の変形例を表す平面図である。
【図２９】図４、図１２の位相差層の一変形例を表す平面図である。
【図３０】図２９の位相差層の一変形例を表す平面図である。
【図３１】一適用例に係る表示装置の断面図である。
【図３２】図３１の表示装置の製造手順を表す流れ図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（図１〜図７）
位相差層の遅相軸が０°、９０°となっているときの検出例
２．変形例（図８〜図３０）
・位相差層の遅相軸が±４５°となっているときの検出例
・積層フィルムを構成するフィルムのバリエーション
・位置検出装置のバリエーション
・基材フィルムのパターン領域、位相差層のパターン化位相差領域の両端部が積層 フィルムの端面から後退している例
・フレーム領域にアライメントマークが設けられている例
３．適用例（図３１、図３２）
上記積層フィルムが表示装置に用いられている例
【００２４】
＜１．実施の形態＞
［積層フィルム１０の構成］
図１は、一実施の形態に係る積層フィルム１０を斜視的に表すものである。積層フィルム１０は、当該積層フィルム１０そのもの、または当該積層フィルム１０に含まれる一部のフィルムを剥離したものを３Ｄディスプレイに適用するものである。積層フィルム１０は、例えば、図１に示したように、基材フィルム１１の上面に、位相差層１２、ＡＲフィルム１３および保護フィルム１４を備えており、基材フィルム１１の裏面に、保護フィルム１５を備えている。ＡＲフィルム１３は位相差層１２に接着されている。保護フィルム１４はＡＲフィルム１３に剥離可能に接着されており、保護フィルム１５も基材フィルム１１に剥離可能に接着されている。なお、積層フィルム１０は、上記以外の層をさらに備えていてもよい。
【００２５】
図２（Ａ）は、基材フィルム１１の上面構成の一例を表すものである。図２（Ｂ）は、図２（Ａ）の断面構成の一例を表すものである。基材フィルム１１は、位相差層１２などを支持するフィルムであり、例えば、透明樹脂フィルムによって構成されている。基材フィルム１１は、例えば、光学異方性の小さい、つまり複屈折の小さいものが好ましい。そのような特性を持つ透明樹脂フィルムとしては、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）、ＣＯＣ（シクロオレフィンコポリマー）、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）などが挙げられる。ここで、ＣＯＰとしては、例えば、ゼオノアやゼオネックス（日本ゼオン社の登録商標）、アートン（ＪＳＲ社の登録商標）などがある。基材フィルム１１の厚みは、例えば３０μｍ〜５００μｍである。基材フィルム１１は、例えば単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。基材フィルム１１が多層構造となっている場合には、基材フィルム１１は、例えば、図示しないが、基材の表面に樹脂層が形成された２層構造となっている。
【００２６】
基材フィルム１１は、図２（Ａ），（Ｂ）に示したように、表面に、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂを有しており、さらに平坦領域１１Ｃを有している。なお、本実施の形態では、３Ｄディスプレイの表示画素領域に対応する領域であるパターン領域１１−１に、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂが形成されている。また、３Ｄディスプレイのフレーム領域に対応する領域であるフレーム領域１１−２に、平坦面からなる平坦領域１１Ｃが形成されている。
【００２７】
第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂは、基材フィルム１１の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。なお、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂは、３Ｄディスプレイに含まれる画素電極（図示せず）の配列に対応して配置されている。例えば、第１溝領域１１Ａが３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されており、第２溝領域１１Ｂが３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。
【００２８】
第１溝領域１１Ａは、第１溝領域１１Ａの延在方向と直交する方向に延在する複数の微細な溝Ｖ１を含んでいる。一方、第２溝領域１１Ｂは、第２溝領域１１Ｂの延在方向に延在する複数の微細な溝Ｖ２を含んでいる。溝Ｖ１の延在方向と溝Ｖ２の延在方向とは、互いに直交している。
【００２９】
溝Ｖ１，Ｖ２は、その形状（特に溝Ｖ１，Ｖ２のエッジ部分）によって液晶などを配向させる配向機能を有している。溝Ｖ１，Ｖ２の開口幅（例えばピッチ）は、例えば数μｍ以下となっている。溝Ｖ１，Ｖ２の開口幅が数μｍ以下となっていれば、製造過程において、溝Ｖ１，Ｖ２内に液晶を充填したときに、液晶分子を配向させることが容易となる。溝Ｖ１，Ｖ２の深は、数十ｎｍ以上、数μｍ以下となっていることが好ましい。溝Ｖ１，Ｖ２の深さが数ｎｍ程度となっている場合には、液晶分子を正しく配向させることが困難となり、溝Ｖ１，Ｖ２の深さが数μｍを越える場合には、溝Ｖ１，Ｖ２の縁部で液晶の配向が乱れる傾向がある。
【００３０】
なお、基材フィルム１１が、例えば、図３に示したように、基材１１１の表面に配向膜１１２が形成された２層構造となっていてもよい。基材１１１は、例えば、上述したような透明樹脂フィルムによって構成されている。配向膜１１２は、例えば、光配向膜、ラビングによる配向膜、またはパターン転写による配向膜によって構成されている。配向膜１１２は、例えば、パターン領域１１−１に、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂを有しており、フレーム領域１１−２に、配向機能の無い無配向領域１１２Ｃを有している。第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂは、基材フィルム１１の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。なお、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂは、３Ｄディスプレイに含まれる画素電極（図示せず）の配列に対応して配置されている。例えば、第１配向領域１１２Ａが３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されており、第２配向領域１１２Ｂが３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。
【００３１】
第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂでは、互いに配向特性が異なっている。具体的には、第１配向領域１１２Ａは、第１配向領域１１２Ａの延在方向と直交する方向（垂直方向）に液晶分子などを配向させる性質を有しており、第２配向領域１１２Ｂは、第２配向領域１１２Ｂの延在方向（水平方向）に液晶分子などを配向させる性質を有している。第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂの配向方向は、互いに直交している。
【００３２】
図４は、位相差層１２の上面構成の一例を表すものである。位相差層１２は、基材フィルム１１のパターン領域１１−１に対応してパターン化位相差領域１２−１を有しており、基材フィルム１１のフレーム領域１１−２に対応してフレーム領域１２−２を有している。本実施の形態では、フレーム領域１２−２は、位相差がほとんど無いか、または小さな領域となっている。なお、フレーム領域１２−２そのものは、必要に応じてなくしてもよい。
【００３３】
パターン化位相差領域１２−１は、図４に示したように、第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂを有している。第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂは、位相差層１２の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。第１位相差領域１２Ａは、基材フィルム１１の第１溝領域１１Ａまたは第１配向領域１１２Ａと対向する位置に配置されており、３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されている。一方、第２位相差領域１２Ｂは、基材フィルム１１の第２溝領域１１Ｂまたは第２配向領域１１２Ｂと対向する位置に配置されており、３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂは、３Ｄディスプレイの画素ピッチと同一の幅となっている。
【００３４】
第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂでは、互いに位相差特性が異なっている。具体的には、第１位相差領域１２Ａは、第１位相差領域１２Ａの延在方向と直交する方向（垂直方向）（９０°）に遅相軸ＡＸ１を有しており、位相差領域１２Ｂは、位相差領域１２Ｂの延在方向（水平方向）（０°）に遅相軸ＡＸ２を有している。遅相軸ＡＸ１，ＡＸ２は、互いに直交している。例えば、第１位相差領域１２Ａのリタデーションが＋λ／４となっており、位相差領域１２Ｂのリタデーションが−λ／４となっている。第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂでは、リタデーションの絶対値が互いに等しくなっていることが好ましい。なお、本明細書において、λは、例えば、後述の位置検出装置１００に含まれる発光装置１１０の主波長（例えば、５５０ｎｍ）である。
【００３５】
なお、リタデーションは、例えば、回転検光子法や、セナルモン法など、いくつかの楕円偏光解析にて測定することが可能なものである。本明細書では、リタデーションの値として、回転検光子法を用いることによって得られた値が示されている。また、上記において、リタデーションの符号が逆になっているのは、それぞれの遅相軸の向きが９０°異なることを示している。
【００３６】
また、全ての波長（可視領域全体）でリタデーションを本明細書に示した値にする必要はなく、例えば、λが５００ｎｍ〜５６０ｎｍ程度の緑の領域の範囲内で、リタデーションが本明細書に示した値になっていることが好ましい。これは、人間の網膜は、緑の波長帯の光に対して高い感度を有していること、緑の領域で合わせることで、青や赤の領域でも比較的合うことがその理由である。
【００３７】
ＡＲフィルム１３は、外光の反射を抑える機能を有するフィルムである。保護フィルム１４は、保護フィルム１４の下にある層（例えばＡＲフィルム１３）を傷などから保護するものである。保護フィルム１５は、保護フィルム１５の下にある層（例えば基材フィルム１１）を傷などから保護するものである。保護フィルム１４，１５は、透明な樹脂フィルムであり、接着層（図示せず）または静電気などによって、その下にある層（例えばＡＲフィルム１３や基材フィルム１１）の表面に、剥離可能に接着されている。保護フィルム１４，１５は、一般的なＰＥＴフィルムからなっていてもよい。
【００３８】
［位置検出装置１００の構成］
次に、位置検出装置１００について説明する。位置検出装置１００は、積層フィルム１０の位置を検出するためのものであり、例えば、図５に示したように、発光装置１１０、反射板１２０、撮像装置１３０、偏光板１４０，１５０、検出装置１６０を備えている。位置検出装置１００において、積層フィルム１０は、反射板１２０との対向領域内であって、かつ反射板１２０との関係で発光装置１１０側に配置されるようになっている。なお、発光装置１１０、反射板１２０、および偏光板１４０，１５０からなる光学系が、位置検出装置１００における照明光学系に相当する。位置検出装置１００における照明光学系は、後述するように、積層フィルム１０を所定の位置の設置したときに、その積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に、積層フィルム１０の法線と交差する方向から直線偏光光を照射することの可能な構成となっている。
【００３９】
発光装置１１０は、例えば、光ファイバから光を出力する光源である。発光装置１１０の光源は、無偏光光を出力するものであってもよいし、偏光板１４０の透過軸方向と平行な方向に偏光成分を有する直線偏光光を出力するものであってもよい。なお、発光装置１１０の光源が直線偏光光を出力するものである場合には、場合によっては、偏光板１４０を省略することも可能である。
【００４０】
発光装置１１０は、当該発光装置１１０の光軸ＡＸ１１が、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２またはその近傍を通過する位置に配置されている。本実施の形態では、発光装置１１０は、当該発光装置１１０から発せられた光のうち反射板１２０で反射された光が、積層フィルム１０を所定の位置に配置したときに積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２に入射する位置に配置されている。発光装置１１０は、例えば、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに積層フィルム１０の四隅や、積層フィルム１０一辺の中央部分などを照明するようになっている。発光装置１１０の光軸ＡＸ１１は、反射板１２０の法線と角度θ１（０°＜θ１＜９０°）で交差している。角度θ１は、反射板１２０での反射光が側面Ｓ１，Ｓ２に入射するようにするために、例えば、４０°程度となっている。
【００４１】
発光装置１１０は、当該発光装置１１０の焦点が、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに当該積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２から離れた位置となるように配置されている。つまり、発光装置１１０は、積層フィルム１０との関係でデフォーカスされている。これは、撮像装置１３０で撮像することにより得られた映像が、発光装置１１０から発せられた光によってホワイトアウトしてしまうのを防ぐためである。
【００４２】
偏光板１４０は、例えば、発光装置１１０の光ファイバの先端に取り付けられている。偏光板１４０の透過軸は、例えば、発光装置１１０から発せられた光の光軸ＡＸ１１と、発光装置１１０から発せられた光のうち反射板１２０で反射された光の光軸とを含む面（例えば図５の紙面と平行な面）と平行な方向、またはその方向と直交する方向を向いている。なお、偏光板１４０の透過軸は、上記以外の方向を向いていてもよい。
【００４３】
反射板１２０は、発光装置１１０から発せられた光を反射するものであり、例えば、表面にＡｇ膜などの高反射膜を有する反射ミラーである。偏光板１５０は、発光装置１１０および撮像装置１３０の光軸ＡＸ１１，ＡＸ１０上であって、かつ反射板１２０と、積層フィルム１０を設置する位置との間に配置されている。偏光板１５０は、発光装置１１０から発せられた光のうち偏光板１４０を透過した光の偏光軸（つまり偏光板１４０の透過軸）と平行な方向に透過軸の成分を有しており、好ましくは偏光板１４０の透過軸と平行な透過軸を有している。なお、偏光板１４０が省略されている場合には、偏光板１５０は、発光装置１１０から発せられた光の偏光軸と平行な方向に透過軸の成分を有しており、好ましくは発光装置１１０から発せられた光の偏光軸と平行な透過軸を有している。
【００４４】
撮像装置１３０は、例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサである。撮像装置１３０は、積層フィルム１０の端面Ｓ１およびその近傍と、積層フィルム１０の端面Ｓ２およびその近傍とを、積層フィルム１０の上方から撮像するようになっている。撮像装置１３０は、当該撮像装置１３０の光軸ＡＸ１０が、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに当該積層フィルム１０の端縁またはその近傍を通過する位置に配置されている。撮像装置１３０は、積層フィルム１０のうち、発光装置１１０で照明された部位を撮像するようになっており、例えば、図６に測定点Ｍ１〜Ｍ６で示したように、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに積層フィルム１０の四隅と、積層フィルム１０一辺の中央部分とを照明するようになっている。撮像装置１３０の光軸ＡＸ１０は、例えば、反射板１２０の法線と平行となっている。撮像装置１３０は、撮像により得られた映像を検出装置１６０に送出するようになっている。撮像装置１３０は、例えば、図７に示したように、測定点Ｍ１〜Ｍ６の映像を検出装置１６０に出力するようになっている。
【００４５】
検出装置１６０は、撮像装置１３０で撮像された映像に基づいて積層フィルム１０の位置を検出するものである。検出装置１６０は、撮像装置１３０で撮像された映像における白黒のストライプを利用して、積層フィルム１０の位置を検出するようになっている。ここで、白黒のストライプは、本実施の形態では、位相差層１２の第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂによって生成される。つまり、本実施の形態では、位相差層１２の第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂが、アライメントマークとして機能している。
【００４６】
なお、本実施の形態では、撮像装置１３０の光軸ＡＸ１０上であって、かつ撮像装置１３０と、積層フィルム１０が設置される位置との間に、光の偏光方向を変移させる素子が何も設けられていない。つまり、本実施の形態では、位置検出装置１００は、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに当該積層フィルム１０から出射されてきた光を直接に撮像装置１３０で検出するようになっている。
【００４７】
[検出]
次に、位置検出装置１００を用いて、基材フィルム１１および位相差層１２を備えた積層フィルム１０の位置を測定する方法について説明する。まず、基材フィルム１１および位相差層１２を備えた積層フィルム１０を所定の位置に配置する。次に、その積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に、積層フィルム１０の法線と交差する方向から直線偏光光を照射し、その状態で、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２およびその近傍を積層フィルム１０の上方から撮像する。その後、そのようにして得られた映像に基づいて積層フィルム１０の位置を検出する。
【００４８】
[効果]
本実施の形態では、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に対して、積層フィルム１０の法線と交差する斜め方向から直線偏光光が照射された状態で、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２およびその近傍が、積層フィルム１０の上方から撮像される。これにより、積層フィルム１０に含まれる保護フィルム１４または保護フィルム１５のリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られる。その結果、保護フィルム１４，１５の有無に拘わらず、高精度で積層フィルム１０の位置を検出することができ、後述の積層フィルム３０と表示パネル２０を互いに貼り合わせる際に高い位置合わせ精度を得ることができる。
【００４９】
＜２．変形例＞
【００５０】
（変形例１）
上記実施の形態では、基材フィルム１１の溝Ｖ１，Ｖ２の延在方向が、第１溝領域１１Ａの延在方向と平行な方向（水平方向）および直交する方向（垂直方向）となっていた。同様に、基材フィルム１１の第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂの配向方向が、第１配向領域１１２Ａと平行な方向（水平方向）および直交する方向（垂直方向）となっていた。さらに、位相差層１２の第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂの遅相軸が、第１位相差領域１２Ａ等の延在方向と平行な方向（水平方向）および直交する方向（垂直方向）となっていた。しかし、例えば、図８に示したように、基材フィルム１１および位相差層１２の代わりに、基材フィルム１１および位相差層１２の上述の特徴とは異なる特徴を有する基材フィルム２１および位相差層２２が設けられていてもよい。
【００５１】
基材フィルム２１は、例えば、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、表面に、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂを有しており、さらに平坦領域２１Ｃを有している。なお、本変形例では、３Ｄディスプレイの表示画素領域に対応する領域であるパターン領域２１−１に、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂが形成されている。また、３Ｄディスプレイのフレーム領域に対応する領域であるフレーム領域２１−２に、平坦面からなる平坦領域２１Ｃが形成されている。
【００５２】
第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂは、基材フィルム２１の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。なお、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂは、３Ｄディスプレイに含まれる画素電極（図示せず）の配列に対応して配置されている。例えば、第１溝領域２１Ａが３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されており、第２溝領域２１Ｂが３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。
【００５３】
第１溝領域２１Ａは、第１溝領域２１Ａの延在方向と直交以外の角度で交差する方向（例えば−４５°）に延在する複数の微細な溝Ｖ３を含んでいる。一方、第２溝領域２１Ｂは、第２溝領域２１Ｂの延在方向と直交以外の方向であって、かつ溝Ｖ３の延在方向とは異なる方向（例えば＋４５°）に延在する複数の微細な溝Ｖ４を含んでいる。溝Ｖ３の延在方向と溝Ｖ４の延在方向とは、互いに直交している。
【００５４】
溝Ｖ３，Ｖ４は、その形状（特に溝Ｖ３，Ｖ４のエッジ部分）によって液晶などを配向させる配向機能を有している。溝Ｖ３，Ｖ４の開口幅（例えばピッチ）は、例えば数μｍ以下となっている。溝Ｖ３，Ｖ４の開口幅が数μｍ以下となっていれば、製造過程において、溝Ｖ３，Ｖ４内に液晶を充填したときに、液晶分子を配向させることが容易となる。溝Ｖ３，Ｖ４の深は、数十ｎｍ以上、数μｍ以下となっていることが好ましい。溝Ｖ３，Ｖ４の深さが数ｎｍ程度となっている場合には、液晶分子を正しく配向させることが困難となり、溝Ｖ３，Ｖ４の深さが数μｍを越える場合には、溝Ｖ３，Ｖ４の縁部で液晶の配向が乱れる傾向がある。
【００５５】
なお、基材フィルム２１が、例えば、図１０に示したように、基材２１１の表面に配向膜２１２が形成された２層構造となっていてもよい。基材２１１は、例えば、上述したような透明樹脂フィルムによって構成されている。配向膜２１２は、例えば、光配向膜、ラビングによる配向膜、またはパターン転写による配向膜によって構成されている。配向膜２１２は、例えば、パターン領域２１−１に、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂを有しており、フレーム領域２１−２に、配向機能の無い無配向領域２１２Ｃを有している。第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂは、基材フィルム２１の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。なお、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂは、３Ｄディスプレイに含まれる画素電極（図示せず）の配列に対応して配置されている。例えば、第１配向領域２１２Ａが３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されており、第２配向領域２１２Ｂが３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。
【００５６】
第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂでは、互いに配向特性が異なっている。具体的には、第１配向領域２１２Ａは、第１配向領域２１２Ａの延在方向と直交する方向（垂直方向）に液晶分子などを配向させる性質を有しており、第２配向領域２１２Ｂは、第２配向領域２１２Ｂの延在方向（水平方向）に液晶分子などを配向させる性質を有している。第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂの配向方向は、互いに直交している。
【００５７】
図１１は、位相差層２２の上面構成の一例を表すものである。位相差層２２は、基材フィルム２１のパターン領域２１−１に対応してパターン化位相差領域２２−１を有しており、基材フィルム２１のフレーム領域２１−２に対応してフレーム領域２２−２を有している。本変形例では、フレーム領域２２−２は、位相差がほとんど無いか、または小さな領域となっている。なお、フレーム領域２２−２そのものは、必要に応じてなくしてもよい。
【００５８】
パターン化位相差領域２２−１は、図１１に示したように、第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂを有している。第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂは、位相差層２２の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。第１位相差領域２２Ａは、基材フィルム２１の第１溝領域２１Ａまたは第１配向領域２１２Ａと対向する位置に配置されており、３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されている。一方、第２位相差領域２２Ｂは、基材フィルム２１の第２溝領域２１Ｂまたは第２配向領域２１２Ｂと対向する位置に配置されており、３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂは、３Ｄディスプレイの画素ピッチと同一の幅となっている。
【００５９】
第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂでは、互いに位相差特性が異なっている。具体的には、第１位相差領域２２Ａは、第１位相差領域２２Ａの延在方向と直交以外の角度で交差する方向（例えば−４５°）に遅相軸ＡＸ３を有しており、位相差領域２２Ｂは、位相差領域２２Ｂの延在方向と直交以外の方向であって、かつ遅相軸ＡＸ３とは異なる方向（例えば＋４５°）に遅相軸ＡＸ４を有している。遅相軸ＡＸ３，ＡＸ４は、互いに直交している。例えば、第１位相差領域２２Ａのリタデーションが＋λ／４となっており、位相差領域２２Ｂのリタデーションが−λ／４となっている。第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂでは、リタデーションの絶対値が互いに等しくなっていることが好ましい。
【００６０】
［位置検出装置１００の構成］
次に、本変形例における位置検出装置１００について説明する。本変形例では、位置検出装置１００は、基材フィルム２１および位相差層２２を備えた積層フィルム１０の位置を検出するためのものであり、例えば、図１２に示したように、図１１に記載の位置検出装置１００に、偏光板１７０を設けたものに相当する。偏光板１７０は、撮像装置１３０の光軸ＡＸ１０上に配置されている。本変形例における位置検出装置１００は、積層フィルム１０の端面およびその近傍を、偏光板１７０を介して撮像するようになっている。偏光板１７０は、第１位相差領域２２Ａの延在方向と直交以外の角度で交差する方向に遅相軸を有しており、具体的には、第１位相差領域２２Ａの遅相軸ＡＸ３または、第２位相差領域２２Ｂの遅相軸ＡＸ４と平行な方向に遅相軸を有している。
【００６１】
[検出]
次に、本変形例における位置検出装置１００を用いて、基材フィルム２１および位相差層２２を備えた積層フィルム１０の位置を測定する方法について説明する。まず、基材フィルム２１および位相差層２２を備えた積層フィルム１０を所定の位置に配置する。次に、その積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に、積層フィルム１０の法線と交差する方向から直線偏光光を照射し、その状態で、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２およびその近傍を積層フィルム１０の上方から撮像する。その後、そのようにして得られた映像に基づいて積層フィルム１０の位置を検出する。
【００６２】
[効果]
本変形例では、基材フィルム２１および位相差層２２を備えた積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に対して、積層フィルム１０の法線と交差する斜め方向から直線偏光光が照射された状態で、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２およびその近傍が、積層フィルム１０の上方から撮像される。これにより、積層フィルム１０に含まれる保護フィルム１４または保護フィルム１５のリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られる。その結果、保護フィルム１４，１５の有無に拘わらず、高精度で積層フィルム１０の位置を検出することができ、後述の積層フィルム３０と表示パネル２０を互いに貼り合わせる際に高い位置合わせ精度を得ることができる。
【００６３】
（変形例２）
また、上記実施の形態およびその変形例では、積層フィルム１０は、ＡＲフィルム１３が設けられていたが、例えば、図１３に示したように、ＡＲフィルム１３の代わりにＡＧ（アンチグレア）フィルム１６が設けられていてもよい。
【００６４】
（変形例３）
また、上記実施の形態およびその変形例では、積層フィルム１０は、両面に保護フィルム１４，１５が設けられていたが、例えば、図１４に示したように、保護フィルム１５が省略されていたり、図１５に示したように、保護フィルム１４が省略されていたりしてもよい。
【００６５】
（変形例４）
また、上記実施の形態およびその変形例では、積層フィルム１０は、ＡＲフィルム１３またはＡＧフィルム１６を備えていたが、例えば、図１６に示したように、これらＡＲフィルム１３およびＡＧフィルム１６が省略されていてもよい。さらに、本変形例において、例えば、図１７に示したように、保護フィルム１５が省略されていたり、図１８に示したように、保護フィルム１４が省略されていたりしてもよい。
【００６６】
（変形例５）
また、上記実施の形態およびその変形例では、位置検出装置１００において、発光装置１１０の光軸ＡＸ１１は、積層フィルム１０を通過せず、積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２から離れた位置を通過していた。しかし、例えば、図１９、図２０に示したように、発光装置１１０の光軸ＡＸ１１が、積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２を通過していてもよい。つまり、この場合には、発光装置１１０は、当該発光装置１１０から発せられた光が、積層フィルム１０を所定の位置に配置したときに当該積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２に直接に入射する位置に配置されている。なお、この場合においても、発光装置１１０は、当該発光装置１１０の焦点が、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに当該積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２から離れた位置となるように配置されている。つまり、発光装置１１０は、積層フィルム１０との関係でデフォーカスされている。また、発光装置１１０の光軸ＡＸ１１が、積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２を通過している場合や側面Ｓ１，Ｓ２から離れている場合に、場合によっては、反射板１２０および偏光板１５０を省略することも可能である。また、反射板１２０および偏光板１５０を省略した場合に、発光装置１１０および偏光板１４０が、積層フィルム１０との関係で、撮像装置１３０とは反対側に配置されていてもよい。
【００６７】
（変形例６）
また、上記実施の形態およびその変形例では、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂが基材フィルム１１の端部にまで延在していたが、例えば、図２１に示したように、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂの端縁が基材フィルム１１の端部から後退した（離れた）位置に配置されていてもよい。また、上記実施の形態およびその変形例では、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂが基材フィルム１１の端部にまで延在していたが、例えば、図２２に示したように、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂの端縁が基材フィルム１１の端部から後退した（離れた）位置に配置されていてもよい。
【００６８】
（変形例７）
また、上記変形例１では、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂが基材フィルム２１の端部にまで延在していたが、例えば、図２３に示したように、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂの端縁が基材フィルム２１の端部から後退した（離れた）位置に配置されていてもよい。また、上記変形例１では、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂが基材フィルム２１の端部にまで延在していたが、例えば、図２４に示したように、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂの端縁が基材フィルム２１の端部から後退した（離れた）位置に配置されていてもよい。
【００６９】
（変形例８）
また、上記実施の形態およびその変形例において、例えば、図２５，図２６に示したように、フレーム領域１１−２，２１−２に、第１溝領域１１Ａ，２１Ａおよび第２溝領域１１Ｂ，２１Ｂがパターン領域１１−１，２１−１と同様の態様で設けられていてもよい。また、上記実施の形態およびその変形例において、例えば、図２７，図２８に示したように、フレーム領域１１−２，２１−２に、第１配向領域１１２Ａ，２１２Ａおよび第２溝領域１１２Ｂ，２１２Ｂがパターン領域１１−１，２１−１と同様の態様で設けられていてもよい。
【００７０】
（変形例９）
また、上記実施の形態およびその変形例において、例えば、図２９，図３０に示したように、フレーム領域１２−２，２２−２に、第１位相差領域１２Ａ，２２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂ，２２Ｂがパターン化位相差領域１２−１，２２−１と同様の態様で設けられていてもよい。
【００７１】
＜３．適用例＞
次に、上記実施の形態およびその変形例に係る積層フィルム１０を用いて表示装置を製造する方法について説明する。
【００７２】
図３１は、上記実施の形態およびその変形例に係る積層フィルム１０を用いて製造した表示装置１の断面構成の一例を表すものである。表示装置１は、表示パネル２０と積層フィルム１０とを互いに貼り合わせたものである。表示装置１に搭載された積層フィルム１０は、表示パネル２０の上面に貼り合わされたものであり、保護フィルム１４，１５のうち少なくとも表示パネル２０側の保護フィルム１５が剥離された状態で表示パネル２０の上面に貼り合わされている。
【００７３】
図３２は、積層フィルム１０を用いて表示装置１を製造する手順を表す流れ図である。まず、上記実施の形態等で述べたようにして、積層フィルム１０の位置を計測する（ステップＳ１０１）と共に、表示パネル２０の位置を計測する（ステップＳ１０２）。次に、積層フィルム１０の保護フィルム１４，１５のうち少なくとも保護フィルム１５を必要に応じて剥離する（ステップＳ１０３）。続いて、積層フィルム１０および表示パネル２０の位置の情報を利用して、積層フィルム１０と表示パネル２０とを互いに貼り合わせる（ステップＳ１０４）。このようにして、表示装置１が製造される。
【００７４】
本適用例では、上記実施の形態等で述べたようにして、積層フィルム１０の位置が計測される。これにより、積層フィルム１０に含まれる保護フィルム１４，１５のうち少なくとも一方の保護フィルムのリタデーションが面内でばらついている場合であっても、高精度で積層フィルム１０の位置を検出することができる。その結果、積層フィルム１０と表示パネル２０を互いに貼り合わせる際に高い位置合わせ精度を得ることができる。
【００７５】
以上、実施の形態、変形例および適用例を挙げて本技術を説明したが、上記実施の形態等に限定されず、種々変形が可能である。
【００７６】
例えば、上記実施の形態等では、位置検出装置１００には、複数の撮像装置１３０が用いられていたが、例えば、積層フィルム１０全体を撮像可能な１台の撮像装置１３０だけが用いられていてもよい。
【００７７】
また、例えば、本技術は以下のような構成を取ることができる。
（１）
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体を所定の位置に設置したときに、その積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射することの可能な照明装置と、
前記積層体の端面およびその近傍を、前記積層体の上方から撮像する撮像装置と
を備えた
光学装置。
（２）
前記照明装置は、
反射板と、
前記反射板の法線と交差する光軸を有すると共に直線偏光光を発する光源と、
前記光源および前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記反射板と、前記積層体を設置する位置との間に配置されると共に、前記光源から発せられた光の偏光軸と平行な方向に透過軸の成分を有する第１偏光板と
を有する
（１）に記載の光学装置。
（３）
前記撮像装置で撮像した映像に基づいて前記積層体の位置を検出する検出装置をさらに備えた
（１）または（２）に記載の光学装置。
（４）
前記光源は、当該光源の光軸が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面またはその近傍を通過する位置に配置されている
（２）に記載の光学装置。
（５）
前記光源は、当該光源から発せられた光のうち前記反射板で反射された光が、前記積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に入射する位置に配置されている
（４）に記載の光学装置。
（６）
前記光源は、当該光源から発せられた光が、前記積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に直接に入射する位置に配置されている
（４）に記載の光学装置。
（７）
前記光源は、当該光源の焦点が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面から離れた位置となるように配置されている
（４）ないし（６）のいずれか１つに記載の光学装置。
（８）
前記撮像装置は、当該撮像装置の光軸が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の端縁またはその近傍を通過する位置に配置されている
（２）に記載の光学装置。
（９）
前記撮像装置の光軸は、前記反射板の法線と平行となっている
（８）に記載の光学装置。
（１０）
当該光学装置は、前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記撮像装置と、前記積層体が設置される位置との間に、光の偏光方向を変移させる素子が何も設けられておりず、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体から出射されてきた光を直接に前記撮像装置で検出するようになっている
（２）に記載の光学装置。
（１１）
前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記撮像装置と、前記積層体が配置される位置との間に配置されると共に、前記積層体の位相差領域の延在方向と４５°の角度で交差する方向に透過軸を有する第２偏光板をさらに備えた
（２）に記載の光学装置。
（１２）
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、前記積層体の端面およびその近傍を前記積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて前記積層体の位置を検出する
位置検出方法。
（１３）
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の位置を検出する第１工程と、
表示パネルの位置を検出する第２工程と、
前記第１工程で検出した前記積層体の位置の情報と、前記第２工程で検出した前記表示パネルの位置の情報とを利用して、前記積層体、または前記積層体から前記保護フィルムを剥離したものと、前記表示パネルとを互いに貼り合わせる第３工程と
を含み、
前記第１工程において、前記積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、前記積層体の端面およびその近傍を前記積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて前記積層体の位置を検出する
表示装置の製造方法。
【符号の説明】
【００７８】
１０…積層フィルム、１１，２１…基材フィルム、１１Ａ，２１Ａ…第１溝領域、１１Ｂ，２１Ｂ…第２溝領域、１１Ｃ，２１Ｃ…平坦領域、１１−１…パターン領域、１１−２，１２−２，２１−２，２２−２…フレーム領域、１２，２２…位相差層、１２Ａ，２２Ａ…第１位相差領域、１２Ｂ，２２Ｂ…第２位相差領域、１２Ｃ，２２Ｃ，１１２Ｃ，２１２Ｃ…無配向領域、１２−１，２２−１…パターン化位相差領域、１３…ＡＲフィルム、１４，１５…保護フィルム、１６…ＡＧフィルム、１００…位置検出装置、１１０…発光装置、１１１，２１１…基材、１１２，２１２…配向膜、１１２Ａ，２１２Ａ…第１配向領域、１１２Ｂ，２１２Ｂ…第２配向領域、１２０…反射板、１３０…撮像装置、１４０，１５０，１７０…偏光板、１６０…検出装置、ＡＸ１〜ＡＸ４…遅相軸、ＡＸ１０，ＡＸ１１…光軸、Ｍ１〜Ｍ６…測定点、Ｓ１，Ｓ２…端面、Ｖ１〜Ｖ４…溝、θ１…角度。
【技術分野】
【０００１】
本技術は、高い位置合わせ精度を得ることの可能な光学装置、および位置検出方法に関する。また、本技術は、上記の位置検出方法を用いた表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、３次元表示が可能なディスプレイの開発が進んでいる。３次元表示方式としては、例えば、右眼用の画像と左眼用の画像とをそれぞれディスプレイの画面に表示し、これを、偏光めがねをかけた状態で観察する方式がある（例えば、特許文献１参照）。この方式は、２次元表示が可能なディスプレイ、例えばブラウン管、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイの前面に、パターニングされた位相差フィルムを配置することで実現される。位相差フィルムには、左右の眼にそれぞれ入射する光の偏光状態を制御するために、リターデンションや光学軸がディスプレイの画素レベルでパターニングされている。そのため、ディスプレイの画素に合わせて位相差フィルムを貼り合わせることが必要となる。
【０００３】
ところで、位相差フィルムと表示パネルとの貼り合わせには、高精度なアライメントが必要である。そのため、例えば、位相差フィルムおよび表示パネルの双方にアライメントマークを付けておき、検出用カメラでそれぞれのアライメントマークを撮像し、得られた画像からそれぞれの位置を導出することが考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−２２１４６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、対象物にアライメントマークを形成する方法としては、例えば、対象物に対してアライメントマークを蒸着や印刷などにより事後的に付与したり、マークを付した部材を用いて対象物を製造したりする方法が考えられる。しかし、そのような方法を、例えば、位相差フィルムと表示パネルとの貼り合わせなどに適用した場合には、位相差フィルムの位相差領域の形成と、アライメントマークの形成とが別工程となる。そのため、アライメント精度を向上させようとしたときには、一方の位置を認識しながら、他方を高精度に位置決めすることが必要となる。その結果、製造工程が複雑となったり、工程数が多くなったりするという問題がある。
【０００６】
そこで、例えば、位相差フィルムのパターン化位相差領域およびアライメントマークの双方を、凹凸パターンを有する金属原盤による一括転写によって形成するなどして、位相差フィルムのパターン化位相差領域およびアライメントマークを同一工程で形成することが考えられる。また、例えば、位相差フィルムのパターン化位相差領域そのものを、アライメントマークとして利用することも考えられる。上記のようにした場合には、簡易な方法かつ少ない工程数でアライメント精度を向上させることができる。ただし、上記のようにした場合には、アライメントマークを画像認識するために、検出用カメラの光路上に、アライメントマークの他に、例えば、偏光板などを設けることが必要となる。
【０００７】
ところが、例えば、位相差フィルムと表示パネルとの貼り合わせに際して、位相差フィルムの上面には、位相差フィルムの上面に傷および汚れが付着するのを防止する保護フィルムがあらかじめ貼り合わされていることがある。また、同様に、位相差板の裏面に、保護フィルムが貼り合わされていることもある。
【０００８】
通常、保護フィルムには、リターデンションの高いＰＥＴフィルムが使われる。そのため、保護フィルムで偏光が乱されてしまうので、検出用カメラでアライメントマークを明瞭に撮像することができず、アライメントマークの位置検出の精度が低下し、位置合わせ精度が低下してしまうという問題がある。
【０００９】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、高い位置合わせ精度を得ることの可能な光学装置、および位置検出方法を提供することにある。また、第２の目的は、上記の位置検出方法を用いた表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本技術による光学装置は、遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、この位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体を被写体とするものである。この光学装置は、積層体を所定の位置に設置したときに、その積層体の端面に、積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射することが可能な照明装置を備えている。この光学装置は、さらに、積層体の端面およびその近傍を、積層体の上方から撮像する撮像装置を備えている。
【００１１】
本技術による位置検出方法は、遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、その位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の位置を検出する方法である。この位置検出方法は、積層体の端面に、積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、積層体の端面およびその近傍を積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて積層体の位置を検出するステップを含んでいる。
【００１２】
本技術による光学装置および位置検出方法では、積層体の端面に対して、積層体の法線と交差する方向から直線偏光光が照射された状態で、積層体の端面およびその近傍が、積層体の上方から撮像される。これにより、保護フィルムのリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られる。
【００１３】
本技術による表示装置の製造方法は、以下の３つの工程を含むものである。
（Ａ）遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、この位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の位置を検出する第１工程
（Ｂ）表示パネルの位置を検出する第２工程
（Ｃ）第１工程で検出した積層体の位置の情報と、第２工程で検出した表示パネルの位置の情報とを利用して、積層体、または積層体から保護フィルムを剥離したものと、表示パネルとを互いに貼り合わせる第３工程
【００１４】
本技術による表示装置の製造方法は、第１工程において、積層体の端面に、積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、積層体の端面およびその近傍を積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて積層体の位置を検出する。これにより、本技術による表示装置の製造方法では、保護フィルムのリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られる。
【００１５】
本技術による光学装置において、直線偏光光を照射することの可能な照明装置は、例えば、反射板、光源、および第１偏光板を備えている。ここで、光源は、反射板の法線と交差する光軸を有すると共に直線偏光光を発するものである。第１偏光板は、光源および撮像装置の光軸上であって、かつ反射板と、積層体を設置する位置との間に配置されると共に、光源から発せられた光の偏光軸と平行な方向に透過軸の成分を有している。
【００１６】
本技術による光学装置は、撮像装置で撮像した映像に基づいて積層体の位置を検出する検出装置をさらに備えていてもよい。この場合には、光学装置から、積層体の位置の情報を出力することができる。
【００１７】
本技術による光学装置において、光源は、当該光源の光軸が、積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面またはその近傍を通過する位置に配置されていてもよい。また、光源は、当該光源から発せられた光のうち反射板で反射された光が、積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に入射する位置に配置されていてもよい。また、光源は、当該光源から発せられた光が、積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に直接に入射する位置に配置されていてもよい。また、光源は、当該光源の焦点が、積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面から離れた位置となるように配置されていてもよい。
【００１８】
本技術による光学装置において、撮像装置は、当該撮像装置の光軸が、積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の端縁またはその近傍を通過する位置に配置されていてもよい。また、撮像装置の光軸は、反射板の法線と平行となっていてもよい。
【００１９】
被写体である積層体内の位相差領域が、位相差領域の延在方向との関係で、０°または９０°の遅相軸を有している場合には、本技術による光学装置は、撮像装置の光軸上であって、かつ撮像装置と、積層体が設置される位置との間に、光の偏光方向を変移させる素子が何も設けられておりず、積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体から出射されてきた光を直接に撮像装置で検出するようになっていることが好ましい。このようにした場合には、０°の遅相軸を有する位相差領域と、９０°の遅相軸を有有する位相差領域とで、コントラストの差を大きくすることができる。
【００２０】
被写体である積層体内の位相差領域が、位相差領域の延在方向との関係で、＋４５°または−４５°の遅相軸を有している場合には、本技術による光学装置は、撮像装置の光軸上であって、かつ撮像装置と、積層体が配置される位置との間に配置されると共に、積層体の位相差領域の延在方向と４５°の角度で交差する方向に透過軸を有する第２偏光板をさらに備えていることが好ましい。このようにした場合には、＋４５°の遅相軸を有する位相差領域と、−４５°の遅相軸を有有する位相差領域とで、コントラストの差を大きくすることができる。
【発明の効果】
【００２１】
本技術の光学装置、位置検出方法、および表示装置の製造方法によれば、保護フィルムのリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られるようにしたので、保護フィルムの有無に拘わらず、高い位置合わせ精度を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】一実施の形態に係る積層フィルムの斜視図である。
【図２】図１の基材フィルムの一例を表す平面図および断面図である。
【図３】図１の基材フィルムの他の例を表す断面図である。
【図４】図１の位相差層の一例を表す平面図である。
【図５】図１の積層フィルムの位置を検出するための位置検出装置の概略構成図である。
【図６】図５の位置検出装置を撮像装置側から見たときの平面図である。
【図７】図５の位置検出装置で撮像された映像の一例を表す図である。
【図８】第１変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図９】図８の基材フィルムの一例を表す平面図および断面図である。
【図１０】図８の基材フィルムの他の例を表す断面図である。
【図１１】図８の位相差層の一例を表す平面図である。
【図１２】図８の積層フィルムの位置を検出するための位置検出装置の概略構成図である。
【図１３】第２変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１４】第３変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１５】第４変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１６】第５変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１７】第６変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１８】第７変形例に係る積層フィルムの斜視図である。
【図１９】図５の位置検出装置の他の例の概略構成図である。
【図２０】図１２の位置検出装置の他の例の概略構成図である。
【図２１】図２の基材フィルムの一変形例を表す平面図である。
【図２２】図３の基材フィルムの一変形例を表す平面図である。
【図２３】図９の基材フィルムの一変形例を表す平面図である。
【図２４】図１０の基材フィルムの一変形例を表す平面図である。
【図２５】図２、図９の基材フィルムの他の変形例を表す平面図である。
【図２６】図２１、図２３の基材フィルムの他の変形例を表す平面図である。
【図２７】図３、図１０の基材フィルムの他の変形例を表す平面図である。
【図２８】図２２、図２４の基材フィルムの他の変形例を表す平面図である。
【図２９】図４、図１２の位相差層の一変形例を表す平面図である。
【図３０】図２９の位相差層の一変形例を表す平面図である。
【図３１】一適用例に係る表示装置の断面図である。
【図３２】図３１の表示装置の製造手順を表す流れ図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（図１〜図７）
位相差層の遅相軸が０°、９０°となっているときの検出例
２．変形例（図８〜図３０）
・位相差層の遅相軸が±４５°となっているときの検出例
・積層フィルムを構成するフィルムのバリエーション
・位置検出装置のバリエーション
・基材フィルムのパターン領域、位相差層のパターン化位相差領域の両端部が積層 フィルムの端面から後退している例
・フレーム領域にアライメントマークが設けられている例
３．適用例（図３１、図３２）
上記積層フィルムが表示装置に用いられている例
【００２４】
＜１．実施の形態＞
［積層フィルム１０の構成］
図１は、一実施の形態に係る積層フィルム１０を斜視的に表すものである。積層フィルム１０は、当該積層フィルム１０そのもの、または当該積層フィルム１０に含まれる一部のフィルムを剥離したものを３Ｄディスプレイに適用するものである。積層フィルム１０は、例えば、図１に示したように、基材フィルム１１の上面に、位相差層１２、ＡＲフィルム１３および保護フィルム１４を備えており、基材フィルム１１の裏面に、保護フィルム１５を備えている。ＡＲフィルム１３は位相差層１２に接着されている。保護フィルム１４はＡＲフィルム１３に剥離可能に接着されており、保護フィルム１５も基材フィルム１１に剥離可能に接着されている。なお、積層フィルム１０は、上記以外の層をさらに備えていてもよい。
【００２５】
図２（Ａ）は、基材フィルム１１の上面構成の一例を表すものである。図２（Ｂ）は、図２（Ａ）の断面構成の一例を表すものである。基材フィルム１１は、位相差層１２などを支持するフィルムであり、例えば、透明樹脂フィルムによって構成されている。基材フィルム１１は、例えば、光学異方性の小さい、つまり複屈折の小さいものが好ましい。そのような特性を持つ透明樹脂フィルムとしては、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）、ＣＯＣ（シクロオレフィンコポリマー）、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）などが挙げられる。ここで、ＣＯＰとしては、例えば、ゼオノアやゼオネックス（日本ゼオン社の登録商標）、アートン（ＪＳＲ社の登録商標）などがある。基材フィルム１１の厚みは、例えば３０μｍ〜５００μｍである。基材フィルム１１は、例えば単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。基材フィルム１１が多層構造となっている場合には、基材フィルム１１は、例えば、図示しないが、基材の表面に樹脂層が形成された２層構造となっている。
【００２６】
基材フィルム１１は、図２（Ａ），（Ｂ）に示したように、表面に、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂを有しており、さらに平坦領域１１Ｃを有している。なお、本実施の形態では、３Ｄディスプレイの表示画素領域に対応する領域であるパターン領域１１−１に、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂが形成されている。また、３Ｄディスプレイのフレーム領域に対応する領域であるフレーム領域１１−２に、平坦面からなる平坦領域１１Ｃが形成されている。
【００２７】
第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂは、基材フィルム１１の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。なお、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂは、３Ｄディスプレイに含まれる画素電極（図示せず）の配列に対応して配置されている。例えば、第１溝領域１１Ａが３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されており、第２溝領域１１Ｂが３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。
【００２８】
第１溝領域１１Ａは、第１溝領域１１Ａの延在方向と直交する方向に延在する複数の微細な溝Ｖ１を含んでいる。一方、第２溝領域１１Ｂは、第２溝領域１１Ｂの延在方向に延在する複数の微細な溝Ｖ２を含んでいる。溝Ｖ１の延在方向と溝Ｖ２の延在方向とは、互いに直交している。
【００２９】
溝Ｖ１，Ｖ２は、その形状（特に溝Ｖ１，Ｖ２のエッジ部分）によって液晶などを配向させる配向機能を有している。溝Ｖ１，Ｖ２の開口幅（例えばピッチ）は、例えば数μｍ以下となっている。溝Ｖ１，Ｖ２の開口幅が数μｍ以下となっていれば、製造過程において、溝Ｖ１，Ｖ２内に液晶を充填したときに、液晶分子を配向させることが容易となる。溝Ｖ１，Ｖ２の深は、数十ｎｍ以上、数μｍ以下となっていることが好ましい。溝Ｖ１，Ｖ２の深さが数ｎｍ程度となっている場合には、液晶分子を正しく配向させることが困難となり、溝Ｖ１，Ｖ２の深さが数μｍを越える場合には、溝Ｖ１，Ｖ２の縁部で液晶の配向が乱れる傾向がある。
【００３０】
なお、基材フィルム１１が、例えば、図３に示したように、基材１１１の表面に配向膜１１２が形成された２層構造となっていてもよい。基材１１１は、例えば、上述したような透明樹脂フィルムによって構成されている。配向膜１１２は、例えば、光配向膜、ラビングによる配向膜、またはパターン転写による配向膜によって構成されている。配向膜１１２は、例えば、パターン領域１１−１に、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂを有しており、フレーム領域１１−２に、配向機能の無い無配向領域１１２Ｃを有している。第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂは、基材フィルム１１の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。なお、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂは、３Ｄディスプレイに含まれる画素電極（図示せず）の配列に対応して配置されている。例えば、第１配向領域１１２Ａが３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されており、第２配向領域１１２Ｂが３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。
【００３１】
第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂでは、互いに配向特性が異なっている。具体的には、第１配向領域１１２Ａは、第１配向領域１１２Ａの延在方向と直交する方向（垂直方向）に液晶分子などを配向させる性質を有しており、第２配向領域１１２Ｂは、第２配向領域１１２Ｂの延在方向（水平方向）に液晶分子などを配向させる性質を有している。第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂの配向方向は、互いに直交している。
【００３２】
図４は、位相差層１２の上面構成の一例を表すものである。位相差層１２は、基材フィルム１１のパターン領域１１−１に対応してパターン化位相差領域１２−１を有しており、基材フィルム１１のフレーム領域１１−２に対応してフレーム領域１２−２を有している。本実施の形態では、フレーム領域１２−２は、位相差がほとんど無いか、または小さな領域となっている。なお、フレーム領域１２−２そのものは、必要に応じてなくしてもよい。
【００３３】
パターン化位相差領域１２−１は、図４に示したように、第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂを有している。第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂは、位相差層１２の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。第１位相差領域１２Ａは、基材フィルム１１の第１溝領域１１Ａまたは第１配向領域１１２Ａと対向する位置に配置されており、３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されている。一方、第２位相差領域１２Ｂは、基材フィルム１１の第２溝領域１１Ｂまたは第２配向領域１１２Ｂと対向する位置に配置されており、３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂは、３Ｄディスプレイの画素ピッチと同一の幅となっている。
【００３４】
第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂでは、互いに位相差特性が異なっている。具体的には、第１位相差領域１２Ａは、第１位相差領域１２Ａの延在方向と直交する方向（垂直方向）（９０°）に遅相軸ＡＸ１を有しており、位相差領域１２Ｂは、位相差領域１２Ｂの延在方向（水平方向）（０°）に遅相軸ＡＸ２を有している。遅相軸ＡＸ１，ＡＸ２は、互いに直交している。例えば、第１位相差領域１２Ａのリタデーションが＋λ／４となっており、位相差領域１２Ｂのリタデーションが−λ／４となっている。第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂでは、リタデーションの絶対値が互いに等しくなっていることが好ましい。なお、本明細書において、λは、例えば、後述の位置検出装置１００に含まれる発光装置１１０の主波長（例えば、５５０ｎｍ）である。
【００３５】
なお、リタデーションは、例えば、回転検光子法や、セナルモン法など、いくつかの楕円偏光解析にて測定することが可能なものである。本明細書では、リタデーションの値として、回転検光子法を用いることによって得られた値が示されている。また、上記において、リタデーションの符号が逆になっているのは、それぞれの遅相軸の向きが９０°異なることを示している。
【００３６】
また、全ての波長（可視領域全体）でリタデーションを本明細書に示した値にする必要はなく、例えば、λが５００ｎｍ〜５６０ｎｍ程度の緑の領域の範囲内で、リタデーションが本明細書に示した値になっていることが好ましい。これは、人間の網膜は、緑の波長帯の光に対して高い感度を有していること、緑の領域で合わせることで、青や赤の領域でも比較的合うことがその理由である。
【００３７】
ＡＲフィルム１３は、外光の反射を抑える機能を有するフィルムである。保護フィルム１４は、保護フィルム１４の下にある層（例えばＡＲフィルム１３）を傷などから保護するものである。保護フィルム１５は、保護フィルム１５の下にある層（例えば基材フィルム１１）を傷などから保護するものである。保護フィルム１４，１５は、透明な樹脂フィルムであり、接着層（図示せず）または静電気などによって、その下にある層（例えばＡＲフィルム１３や基材フィルム１１）の表面に、剥離可能に接着されている。保護フィルム１４，１５は、一般的なＰＥＴフィルムからなっていてもよい。
【００３８】
［位置検出装置１００の構成］
次に、位置検出装置１００について説明する。位置検出装置１００は、積層フィルム１０の位置を検出するためのものであり、例えば、図５に示したように、発光装置１１０、反射板１２０、撮像装置１３０、偏光板１４０，１５０、検出装置１６０を備えている。位置検出装置１００において、積層フィルム１０は、反射板１２０との対向領域内であって、かつ反射板１２０との関係で発光装置１１０側に配置されるようになっている。なお、発光装置１１０、反射板１２０、および偏光板１４０，１５０からなる光学系が、位置検出装置１００における照明光学系に相当する。位置検出装置１００における照明光学系は、後述するように、積層フィルム１０を所定の位置の設置したときに、その積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に、積層フィルム１０の法線と交差する方向から直線偏光光を照射することの可能な構成となっている。
【００３９】
発光装置１１０は、例えば、光ファイバから光を出力する光源である。発光装置１１０の光源は、無偏光光を出力するものであってもよいし、偏光板１４０の透過軸方向と平行な方向に偏光成分を有する直線偏光光を出力するものであってもよい。なお、発光装置１１０の光源が直線偏光光を出力するものである場合には、場合によっては、偏光板１４０を省略することも可能である。
【００４０】
発光装置１１０は、当該発光装置１１０の光軸ＡＸ１１が、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２またはその近傍を通過する位置に配置されている。本実施の形態では、発光装置１１０は、当該発光装置１１０から発せられた光のうち反射板１２０で反射された光が、積層フィルム１０を所定の位置に配置したときに積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２に入射する位置に配置されている。発光装置１１０は、例えば、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに積層フィルム１０の四隅や、積層フィルム１０一辺の中央部分などを照明するようになっている。発光装置１１０の光軸ＡＸ１１は、反射板１２０の法線と角度θ１（０°＜θ１＜９０°）で交差している。角度θ１は、反射板１２０での反射光が側面Ｓ１，Ｓ２に入射するようにするために、例えば、４０°程度となっている。
【００４１】
発光装置１１０は、当該発光装置１１０の焦点が、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに当該積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２から離れた位置となるように配置されている。つまり、発光装置１１０は、積層フィルム１０との関係でデフォーカスされている。これは、撮像装置１３０で撮像することにより得られた映像が、発光装置１１０から発せられた光によってホワイトアウトしてしまうのを防ぐためである。
【００４２】
偏光板１４０は、例えば、発光装置１１０の光ファイバの先端に取り付けられている。偏光板１４０の透過軸は、例えば、発光装置１１０から発せられた光の光軸ＡＸ１１と、発光装置１１０から発せられた光のうち反射板１２０で反射された光の光軸とを含む面（例えば図５の紙面と平行な面）と平行な方向、またはその方向と直交する方向を向いている。なお、偏光板１４０の透過軸は、上記以外の方向を向いていてもよい。
【００４３】
反射板１２０は、発光装置１１０から発せられた光を反射するものであり、例えば、表面にＡｇ膜などの高反射膜を有する反射ミラーである。偏光板１５０は、発光装置１１０および撮像装置１３０の光軸ＡＸ１１，ＡＸ１０上であって、かつ反射板１２０と、積層フィルム１０を設置する位置との間に配置されている。偏光板１５０は、発光装置１１０から発せられた光のうち偏光板１４０を透過した光の偏光軸（つまり偏光板１４０の透過軸）と平行な方向に透過軸の成分を有しており、好ましくは偏光板１４０の透過軸と平行な透過軸を有している。なお、偏光板１４０が省略されている場合には、偏光板１５０は、発光装置１１０から発せられた光の偏光軸と平行な方向に透過軸の成分を有しており、好ましくは発光装置１１０から発せられた光の偏光軸と平行な透過軸を有している。
【００４４】
撮像装置１３０は、例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサである。撮像装置１３０は、積層フィルム１０の端面Ｓ１およびその近傍と、積層フィルム１０の端面Ｓ２およびその近傍とを、積層フィルム１０の上方から撮像するようになっている。撮像装置１３０は、当該撮像装置１３０の光軸ＡＸ１０が、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに当該積層フィルム１０の端縁またはその近傍を通過する位置に配置されている。撮像装置１３０は、積層フィルム１０のうち、発光装置１１０で照明された部位を撮像するようになっており、例えば、図６に測定点Ｍ１〜Ｍ６で示したように、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに積層フィルム１０の四隅と、積層フィルム１０一辺の中央部分とを照明するようになっている。撮像装置１３０の光軸ＡＸ１０は、例えば、反射板１２０の法線と平行となっている。撮像装置１３０は、撮像により得られた映像を検出装置１６０に送出するようになっている。撮像装置１３０は、例えば、図７に示したように、測定点Ｍ１〜Ｍ６の映像を検出装置１６０に出力するようになっている。
【００４５】
検出装置１６０は、撮像装置１３０で撮像された映像に基づいて積層フィルム１０の位置を検出するものである。検出装置１６０は、撮像装置１３０で撮像された映像における白黒のストライプを利用して、積層フィルム１０の位置を検出するようになっている。ここで、白黒のストライプは、本実施の形態では、位相差層１２の第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂによって生成される。つまり、本実施の形態では、位相差層１２の第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂが、アライメントマークとして機能している。
【００４６】
なお、本実施の形態では、撮像装置１３０の光軸ＡＸ１０上であって、かつ撮像装置１３０と、積層フィルム１０が設置される位置との間に、光の偏光方向を変移させる素子が何も設けられていない。つまり、本実施の形態では、位置検出装置１００は、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに当該積層フィルム１０から出射されてきた光を直接に撮像装置１３０で検出するようになっている。
【００４７】
[検出]
次に、位置検出装置１００を用いて、基材フィルム１１および位相差層１２を備えた積層フィルム１０の位置を測定する方法について説明する。まず、基材フィルム１１および位相差層１２を備えた積層フィルム１０を所定の位置に配置する。次に、その積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に、積層フィルム１０の法線と交差する方向から直線偏光光を照射し、その状態で、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２およびその近傍を積層フィルム１０の上方から撮像する。その後、そのようにして得られた映像に基づいて積層フィルム１０の位置を検出する。
【００４８】
[効果]
本実施の形態では、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に対して、積層フィルム１０の法線と交差する斜め方向から直線偏光光が照射された状態で、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２およびその近傍が、積層フィルム１０の上方から撮像される。これにより、積層フィルム１０に含まれる保護フィルム１４または保護フィルム１５のリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られる。その結果、保護フィルム１４，１５の有無に拘わらず、高精度で積層フィルム１０の位置を検出することができ、後述の積層フィルム３０と表示パネル２０を互いに貼り合わせる際に高い位置合わせ精度を得ることができる。
【００４９】
＜２．変形例＞
【００５０】
（変形例１）
上記実施の形態では、基材フィルム１１の溝Ｖ１，Ｖ２の延在方向が、第１溝領域１１Ａの延在方向と平行な方向（水平方向）および直交する方向（垂直方向）となっていた。同様に、基材フィルム１１の第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂの配向方向が、第１配向領域１１２Ａと平行な方向（水平方向）および直交する方向（垂直方向）となっていた。さらに、位相差層１２の第１位相差領域１２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂの遅相軸が、第１位相差領域１２Ａ等の延在方向と平行な方向（水平方向）および直交する方向（垂直方向）となっていた。しかし、例えば、図８に示したように、基材フィルム１１および位相差層１２の代わりに、基材フィルム１１および位相差層１２の上述の特徴とは異なる特徴を有する基材フィルム２１および位相差層２２が設けられていてもよい。
【００５１】
基材フィルム２１は、例えば、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、表面に、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂを有しており、さらに平坦領域２１Ｃを有している。なお、本変形例では、３Ｄディスプレイの表示画素領域に対応する領域であるパターン領域２１−１に、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂが形成されている。また、３Ｄディスプレイのフレーム領域に対応する領域であるフレーム領域２１−２に、平坦面からなる平坦領域２１Ｃが形成されている。
【００５２】
第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂは、基材フィルム２１の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。なお、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂは、３Ｄディスプレイに含まれる画素電極（図示せず）の配列に対応して配置されている。例えば、第１溝領域２１Ａが３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されており、第２溝領域２１Ｂが３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。
【００５３】
第１溝領域２１Ａは、第１溝領域２１Ａの延在方向と直交以外の角度で交差する方向（例えば−４５°）に延在する複数の微細な溝Ｖ３を含んでいる。一方、第２溝領域２１Ｂは、第２溝領域２１Ｂの延在方向と直交以外の方向であって、かつ溝Ｖ３の延在方向とは異なる方向（例えば＋４５°）に延在する複数の微細な溝Ｖ４を含んでいる。溝Ｖ３の延在方向と溝Ｖ４の延在方向とは、互いに直交している。
【００５４】
溝Ｖ３，Ｖ４は、その形状（特に溝Ｖ３，Ｖ４のエッジ部分）によって液晶などを配向させる配向機能を有している。溝Ｖ３，Ｖ４の開口幅（例えばピッチ）は、例えば数μｍ以下となっている。溝Ｖ３，Ｖ４の開口幅が数μｍ以下となっていれば、製造過程において、溝Ｖ３，Ｖ４内に液晶を充填したときに、液晶分子を配向させることが容易となる。溝Ｖ３，Ｖ４の深は、数十ｎｍ以上、数μｍ以下となっていることが好ましい。溝Ｖ３，Ｖ４の深さが数ｎｍ程度となっている場合には、液晶分子を正しく配向させることが困難となり、溝Ｖ３，Ｖ４の深さが数μｍを越える場合には、溝Ｖ３，Ｖ４の縁部で液晶の配向が乱れる傾向がある。
【００５５】
なお、基材フィルム２１が、例えば、図１０に示したように、基材２１１の表面に配向膜２１２が形成された２層構造となっていてもよい。基材２１１は、例えば、上述したような透明樹脂フィルムによって構成されている。配向膜２１２は、例えば、光配向膜、ラビングによる配向膜、またはパターン転写による配向膜によって構成されている。配向膜２１２は、例えば、パターン領域２１−１に、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂを有しており、フレーム領域２１−２に、配向機能の無い無配向領域２１２Ｃを有している。第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂは、基材フィルム２１の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。なお、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂは、３Ｄディスプレイに含まれる画素電極（図示せず）の配列に対応して配置されている。例えば、第１配向領域２１２Ａが３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されており、第２配向領域２１２Ｂが３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。
【００５６】
第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂでは、互いに配向特性が異なっている。具体的には、第１配向領域２１２Ａは、第１配向領域２１２Ａの延在方向と直交する方向（垂直方向）に液晶分子などを配向させる性質を有しており、第２配向領域２１２Ｂは、第２配向領域２１２Ｂの延在方向（水平方向）に液晶分子などを配向させる性質を有している。第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂの配向方向は、互いに直交している。
【００５７】
図１１は、位相差層２２の上面構成の一例を表すものである。位相差層２２は、基材フィルム２１のパターン領域２１−１に対応してパターン化位相差領域２２−１を有しており、基材フィルム２１のフレーム領域２１−２に対応してフレーム領域２２−２を有している。本変形例では、フレーム領域２２−２は、位相差がほとんど無いか、または小さな領域となっている。なお、フレーム領域２２−２そのものは、必要に応じてなくしてもよい。
【００５８】
パターン化位相差領域２２−１は、図１１に示したように、第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂを有している。第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂは、共通する一の方向（例えば水平方向）に延在する帯状の形状となっている。これら第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂは、位相差層２２の面内方向に、隣接して規則的に配置されており、具体的には、第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂの短手方向（例えば垂直方向）に交互に配置されている。第１位相差領域２２Ａは、基材フィルム２１の第１溝領域２１Ａまたは第１配向領域２１２Ａと対向する位置に配置されており、３Ｄディスプレイの右目用画素の配列に対応して配置されている。一方、第２位相差領域２２Ｂは、基材フィルム２１の第２溝領域２１Ｂまたは第２配向領域２１２Ｂと対向する位置に配置されており、３Ｄディスプレイの左目用画素の配列に対応して配置されている。第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂは、３Ｄディスプレイの画素ピッチと同一の幅となっている。
【００５９】
第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂでは、互いに位相差特性が異なっている。具体的には、第１位相差領域２２Ａは、第１位相差領域２２Ａの延在方向と直交以外の角度で交差する方向（例えば−４５°）に遅相軸ＡＸ３を有しており、位相差領域２２Ｂは、位相差領域２２Ｂの延在方向と直交以外の方向であって、かつ遅相軸ＡＸ３とは異なる方向（例えば＋４５°）に遅相軸ＡＸ４を有している。遅相軸ＡＸ３，ＡＸ４は、互いに直交している。例えば、第１位相差領域２２Ａのリタデーションが＋λ／４となっており、位相差領域２２Ｂのリタデーションが−λ／４となっている。第１位相差領域２２Ａおよび第２位相差領域２２Ｂでは、リタデーションの絶対値が互いに等しくなっていることが好ましい。
【００６０】
［位置検出装置１００の構成］
次に、本変形例における位置検出装置１００について説明する。本変形例では、位置検出装置１００は、基材フィルム２１および位相差層２２を備えた積層フィルム１０の位置を検出するためのものであり、例えば、図１２に示したように、図１１に記載の位置検出装置１００に、偏光板１７０を設けたものに相当する。偏光板１７０は、撮像装置１３０の光軸ＡＸ１０上に配置されている。本変形例における位置検出装置１００は、積層フィルム１０の端面およびその近傍を、偏光板１７０を介して撮像するようになっている。偏光板１７０は、第１位相差領域２２Ａの延在方向と直交以外の角度で交差する方向に遅相軸を有しており、具体的には、第１位相差領域２２Ａの遅相軸ＡＸ３または、第２位相差領域２２Ｂの遅相軸ＡＸ４と平行な方向に遅相軸を有している。
【００６１】
[検出]
次に、本変形例における位置検出装置１００を用いて、基材フィルム２１および位相差層２２を備えた積層フィルム１０の位置を測定する方法について説明する。まず、基材フィルム２１および位相差層２２を備えた積層フィルム１０を所定の位置に配置する。次に、その積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に、積層フィルム１０の法線と交差する方向から直線偏光光を照射し、その状態で、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２およびその近傍を積層フィルム１０の上方から撮像する。その後、そのようにして得られた映像に基づいて積層フィルム１０の位置を検出する。
【００６２】
[効果]
本変形例では、基材フィルム２１および位相差層２２を備えた積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２に対して、積層フィルム１０の法線と交差する斜め方向から直線偏光光が照射された状態で、積層フィルム１０の端面Ｓ１，Ｓ２およびその近傍が、積層フィルム１０の上方から撮像される。これにより、積層フィルム１０に含まれる保護フィルム１４または保護フィルム１５のリタデーションが面内でばらついている場合であっても、その影響の少ない映像が得られる。その結果、保護フィルム１４，１５の有無に拘わらず、高精度で積層フィルム１０の位置を検出することができ、後述の積層フィルム３０と表示パネル２０を互いに貼り合わせる際に高い位置合わせ精度を得ることができる。
【００６３】
（変形例２）
また、上記実施の形態およびその変形例では、積層フィルム１０は、ＡＲフィルム１３が設けられていたが、例えば、図１３に示したように、ＡＲフィルム１３の代わりにＡＧ（アンチグレア）フィルム１６が設けられていてもよい。
【００６４】
（変形例３）
また、上記実施の形態およびその変形例では、積層フィルム１０は、両面に保護フィルム１４，１５が設けられていたが、例えば、図１４に示したように、保護フィルム１５が省略されていたり、図１５に示したように、保護フィルム１４が省略されていたりしてもよい。
【００６５】
（変形例４）
また、上記実施の形態およびその変形例では、積層フィルム１０は、ＡＲフィルム１３またはＡＧフィルム１６を備えていたが、例えば、図１６に示したように、これらＡＲフィルム１３およびＡＧフィルム１６が省略されていてもよい。さらに、本変形例において、例えば、図１７に示したように、保護フィルム１５が省略されていたり、図１８に示したように、保護フィルム１４が省略されていたりしてもよい。
【００６６】
（変形例５）
また、上記実施の形態およびその変形例では、位置検出装置１００において、発光装置１１０の光軸ＡＸ１１は、積層フィルム１０を通過せず、積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２から離れた位置を通過していた。しかし、例えば、図１９、図２０に示したように、発光装置１１０の光軸ＡＸ１１が、積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２を通過していてもよい。つまり、この場合には、発光装置１１０は、当該発光装置１１０から発せられた光が、積層フィルム１０を所定の位置に配置したときに当該積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２に直接に入射する位置に配置されている。なお、この場合においても、発光装置１１０は、当該発光装置１１０の焦点が、積層フィルム１０を所定の位置に設置したときに当該積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２から離れた位置となるように配置されている。つまり、発光装置１１０は、積層フィルム１０との関係でデフォーカスされている。また、発光装置１１０の光軸ＡＸ１１が、積層フィルム１０の側面Ｓ１，Ｓ２を通過している場合や側面Ｓ１，Ｓ２から離れている場合に、場合によっては、反射板１２０および偏光板１５０を省略することも可能である。また、反射板１２０および偏光板１５０を省略した場合に、発光装置１１０および偏光板１４０が、積層フィルム１０との関係で、撮像装置１３０とは反対側に配置されていてもよい。
【００６７】
（変形例６）
また、上記実施の形態およびその変形例では、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂが基材フィルム１１の端部にまで延在していたが、例えば、図２１に示したように、第１溝領域１１Ａおよび第２溝領域１１Ｂの端縁が基材フィルム１１の端部から後退した（離れた）位置に配置されていてもよい。また、上記実施の形態およびその変形例では、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂが基材フィルム１１の端部にまで延在していたが、例えば、図２２に示したように、第１配向領域１１２Ａおよび第２配向領域１１２Ｂの端縁が基材フィルム１１の端部から後退した（離れた）位置に配置されていてもよい。
【００６８】
（変形例７）
また、上記変形例１では、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂが基材フィルム２１の端部にまで延在していたが、例えば、図２３に示したように、第１溝領域２１Ａおよび第２溝領域２１Ｂの端縁が基材フィルム２１の端部から後退した（離れた）位置に配置されていてもよい。また、上記変形例１では、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂが基材フィルム２１の端部にまで延在していたが、例えば、図２４に示したように、第１配向領域２１２Ａおよび第２配向領域２１２Ｂの端縁が基材フィルム２１の端部から後退した（離れた）位置に配置されていてもよい。
【００６９】
（変形例８）
また、上記実施の形態およびその変形例において、例えば、図２５，図２６に示したように、フレーム領域１１−２，２１−２に、第１溝領域１１Ａ，２１Ａおよび第２溝領域１１Ｂ，２１Ｂがパターン領域１１−１，２１−１と同様の態様で設けられていてもよい。また、上記実施の形態およびその変形例において、例えば、図２７，図２８に示したように、フレーム領域１１−２，２１−２に、第１配向領域１１２Ａ，２１２Ａおよび第２溝領域１１２Ｂ，２１２Ｂがパターン領域１１−１，２１−１と同様の態様で設けられていてもよい。
【００７０】
（変形例９）
また、上記実施の形態およびその変形例において、例えば、図２９，図３０に示したように、フレーム領域１２−２，２２−２に、第１位相差領域１２Ａ，２２Ａおよび第２位相差領域１２Ｂ，２２Ｂがパターン化位相差領域１２−１，２２−１と同様の態様で設けられていてもよい。
【００７１】
＜３．適用例＞
次に、上記実施の形態およびその変形例に係る積層フィルム１０を用いて表示装置を製造する方法について説明する。
【００７２】
図３１は、上記実施の形態およびその変形例に係る積層フィルム１０を用いて製造した表示装置１の断面構成の一例を表すものである。表示装置１は、表示パネル２０と積層フィルム１０とを互いに貼り合わせたものである。表示装置１に搭載された積層フィルム１０は、表示パネル２０の上面に貼り合わされたものであり、保護フィルム１４，１５のうち少なくとも表示パネル２０側の保護フィルム１５が剥離された状態で表示パネル２０の上面に貼り合わされている。
【００７３】
図３２は、積層フィルム１０を用いて表示装置１を製造する手順を表す流れ図である。まず、上記実施の形態等で述べたようにして、積層フィルム１０の位置を計測する（ステップＳ１０１）と共に、表示パネル２０の位置を計測する（ステップＳ１０２）。次に、積層フィルム１０の保護フィルム１４，１５のうち少なくとも保護フィルム１５を必要に応じて剥離する（ステップＳ１０３）。続いて、積層フィルム１０および表示パネル２０の位置の情報を利用して、積層フィルム１０と表示パネル２０とを互いに貼り合わせる（ステップＳ１０４）。このようにして、表示装置１が製造される。
【００７４】
本適用例では、上記実施の形態等で述べたようにして、積層フィルム１０の位置が計測される。これにより、積層フィルム１０に含まれる保護フィルム１４，１５のうち少なくとも一方の保護フィルムのリタデーションが面内でばらついている場合であっても、高精度で積層フィルム１０の位置を検出することができる。その結果、積層フィルム１０と表示パネル２０を互いに貼り合わせる際に高い位置合わせ精度を得ることができる。
【００７５】
以上、実施の形態、変形例および適用例を挙げて本技術を説明したが、上記実施の形態等に限定されず、種々変形が可能である。
【００７６】
例えば、上記実施の形態等では、位置検出装置１００には、複数の撮像装置１３０が用いられていたが、例えば、積層フィルム１０全体を撮像可能な１台の撮像装置１３０だけが用いられていてもよい。
【００７７】
また、例えば、本技術は以下のような構成を取ることができる。
（１）
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体を所定の位置に設置したときに、その積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射することの可能な照明装置と、
前記積層体の端面およびその近傍を、前記積層体の上方から撮像する撮像装置と
を備えた
光学装置。
（２）
前記照明装置は、
反射板と、
前記反射板の法線と交差する光軸を有すると共に直線偏光光を発する光源と、
前記光源および前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記反射板と、前記積層体を設置する位置との間に配置されると共に、前記光源から発せられた光の偏光軸と平行な方向に透過軸の成分を有する第１偏光板と
を有する
（１）に記載の光学装置。
（３）
前記撮像装置で撮像した映像に基づいて前記積層体の位置を検出する検出装置をさらに備えた
（１）または（２）に記載の光学装置。
（４）
前記光源は、当該光源の光軸が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面またはその近傍を通過する位置に配置されている
（２）に記載の光学装置。
（５）
前記光源は、当該光源から発せられた光のうち前記反射板で反射された光が、前記積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に入射する位置に配置されている
（４）に記載の光学装置。
（６）
前記光源は、当該光源から発せられた光が、前記積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に直接に入射する位置に配置されている
（４）に記載の光学装置。
（７）
前記光源は、当該光源の焦点が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面から離れた位置となるように配置されている
（４）ないし（６）のいずれか１つに記載の光学装置。
（８）
前記撮像装置は、当該撮像装置の光軸が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の端縁またはその近傍を通過する位置に配置されている
（２）に記載の光学装置。
（９）
前記撮像装置の光軸は、前記反射板の法線と平行となっている
（８）に記載の光学装置。
（１０）
当該光学装置は、前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記撮像装置と、前記積層体が設置される位置との間に、光の偏光方向を変移させる素子が何も設けられておりず、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体から出射されてきた光を直接に前記撮像装置で検出するようになっている
（２）に記載の光学装置。
（１１）
前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記撮像装置と、前記積層体が配置される位置との間に配置されると共に、前記積層体の位相差領域の延在方向と４５°の角度で交差する方向に透過軸を有する第２偏光板をさらに備えた
（２）に記載の光学装置。
（１２）
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、前記積層体の端面およびその近傍を前記積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて前記積層体の位置を検出する
位置検出方法。
（１３）
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の位置を検出する第１工程と、
表示パネルの位置を検出する第２工程と、
前記第１工程で検出した前記積層体の位置の情報と、前記第２工程で検出した前記表示パネルの位置の情報とを利用して、前記積層体、または前記積層体から前記保護フィルムを剥離したものと、前記表示パネルとを互いに貼り合わせる第３工程と
を含み、
前記第１工程において、前記積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、前記積層体の端面およびその近傍を前記積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて前記積層体の位置を検出する
表示装置の製造方法。
【符号の説明】
【００７８】
１０…積層フィルム、１１，２１…基材フィルム、１１Ａ，２１Ａ…第１溝領域、１１Ｂ，２１Ｂ…第２溝領域、１１Ｃ，２１Ｃ…平坦領域、１１−１…パターン領域、１１−２，１２−２，２１−２，２２−２…フレーム領域、１２，２２…位相差層、１２Ａ，２２Ａ…第１位相差領域、１２Ｂ，２２Ｂ…第２位相差領域、１２Ｃ，２２Ｃ，１１２Ｃ，２１２Ｃ…無配向領域、１２−１，２２−１…パターン化位相差領域、１３…ＡＲフィルム、１４，１５…保護フィルム、１６…ＡＧフィルム、１００…位置検出装置、１１０…発光装置、１１１，２１１…基材、１１２，２１２…配向膜、１１２Ａ，２１２Ａ…第１配向領域、１１２Ｂ，２１２Ｂ…第２配向領域、１２０…反射板、１３０…撮像装置、１４０，１５０，１７０…偏光板、１６０…検出装置、ＡＸ１〜ＡＸ４…遅相軸、ＡＸ１０，ＡＸ１１…光軸、Ｍ１〜Ｍ６…測定点、Ｓ１，Ｓ２…端面、Ｖ１〜Ｖ４…溝、θ１…角度。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体を所定の位置に設置したときに、その積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射することの可能な照明装置と、
前記積層体の端面およびその近傍を、前記積層体の上方から撮像する撮像装置と
を備えた
光学装置。
【請求項２】
前記照明装置は、
反射板と、
前記反射板の法線と交差する光軸を有すると共に直線偏光光を発する光源と、
前記光源および前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記反射板と、前記積層体を設置する位置との間に配置されると共に、前記光源から発せられた光の偏光軸と平行な方向に透過軸の成分を有する第１偏光板と
を有する
請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記撮像装置で撮像した映像に基づいて前記積層体の位置を検出する検出装置をさらに備えた
請求項１に記載の光学装置。
【請求項４】
前記光源は、当該光源の光軸が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面またはその近傍を通過する位置に配置されている
請求項２に記載の光学装置。
【請求項５】
前記光源は、当該光源から発せられた光のうち前記反射板で反射された光が、前記積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に入射する位置に配置されている
請求項４に記載の光学装置。
【請求項６】
前記光源は、当該光源から発せられた光が、前記積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に直接に入射する位置に配置されている
請求項４に記載の光学装置。
【請求項７】
前記光源は、当該光源の焦点が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面から離れた位置となるように配置されている
請求項４に記載の光学装置。
【請求項８】
前記撮像装置は、当該撮像装置の光軸が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の端縁またはその近傍を通過する位置に配置されている
請求項２に記載の光学装置。
【請求項９】
前記撮像装置の光軸は、前記反射板の法線と平行となっている
請求項８に記載の光学装置。
【請求項１０】
当該光学装置は、前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記撮像装置と、前記積層体が設置される位置との間に、光の偏光方向を変移させる素子が何も設けられておりず、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体から出射されてきた光を直接に前記撮像装置で検出するようになっている
請求項２に記載の光学装置。
【請求項１１】
前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記撮像装置と、前記積層体が配置される位置との間に配置されると共に、前記積層体の位相差領域の延在方向と４５°の角度で交差する方向に透過軸を有する第２偏光板をさらに備えた
請求項２に記載の光学装置。
【請求項１２】
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、前記積層体の端面およびその近傍を前記積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて前記積層体の位置を検出する
位置検出方法。
【請求項１３】
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の位置を検出する第１工程と、
表示パネルの位置を検出する第２工程と、
前記第１工程で検出した前記積層体の位置の情報と、前記第２工程で検出した前記表示パネルの位置の情報とを利用して、前記積層体、または前記積層体から前記保護フィルムを剥離したものと、前記表示パネルとを互いに貼り合わせる第３工程と
を含み、
前記第１工程において、前記積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、前記積層体の端面およびその近傍を前記積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて前記積層体の位置を検出する
表示装置の製造方法。
【請求項１】
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体を所定の位置に設置したときに、その積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射することの可能な照明装置と、
前記積層体の端面およびその近傍を、前記積層体の上方から撮像する撮像装置と
を備えた
光学装置。
【請求項２】
前記照明装置は、
反射板と、
前記反射板の法線と交差する光軸を有すると共に直線偏光光を発する光源と、
前記光源および前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記反射板と、前記積層体を設置する位置との間に配置されると共に、前記光源から発せられた光の偏光軸と平行な方向に透過軸の成分を有する第１偏光板と
を有する
請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記撮像装置で撮像した映像に基づいて前記積層体の位置を検出する検出装置をさらに備えた
請求項１に記載の光学装置。
【請求項４】
前記光源は、当該光源の光軸が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面またはその近傍を通過する位置に配置されている
請求項２に記載の光学装置。
【請求項５】
前記光源は、当該光源から発せられた光のうち前記反射板で反射された光が、前記積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に入射する位置に配置されている
請求項４に記載の光学装置。
【請求項６】
前記光源は、当該光源から発せられた光が、前記積層体を所定の位置に配置したときに当該積層体の側面に直接に入射する位置に配置されている
請求項４に記載の光学装置。
【請求項７】
前記光源は、当該光源の焦点が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の側面から離れた位置となるように配置されている
請求項４に記載の光学装置。
【請求項８】
前記撮像装置は、当該撮像装置の光軸が、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体の端縁またはその近傍を通過する位置に配置されている
請求項２に記載の光学装置。
【請求項９】
前記撮像装置の光軸は、前記反射板の法線と平行となっている
請求項８に記載の光学装置。
【請求項１０】
当該光学装置は、前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記撮像装置と、前記積層体が設置される位置との間に、光の偏光方向を変移させる素子が何も設けられておりず、前記積層体を所定の位置に設置したときに当該積層体から出射されてきた光を直接に前記撮像装置で検出するようになっている
請求項２に記載の光学装置。
【請求項１１】
前記撮像装置の光軸上であって、かつ前記撮像装置と、前記積層体が配置される位置との間に配置されると共に、前記積層体の位相差領域の延在方向と４５°の角度で交差する方向に透過軸を有する第２偏光板をさらに備えた
請求項２に記載の光学装置。
【請求項１２】
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、前記積層体の端面およびその近傍を前記積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて前記積層体の位置を検出する
位置検出方法。
【請求項１３】
遅相軸の向きが互いに異なる複数種類の帯状の位相差領域が規則的に配置された位相差層と、前記位相差層と直接または間接的に貼り合わされた保護フィルムとを含む積層体の位置を検出する第１工程と、
表示パネルの位置を検出する第２工程と、
前記第１工程で検出した前記積層体の位置の情報と、前記第２工程で検出した前記表示パネルの位置の情報とを利用して、前記積層体、または前記積層体から前記保護フィルムを剥離したものと、前記表示パネルとを互いに貼り合わせる第３工程と
を含み、
前記第１工程において、前記積層体の端面に、前記積層体の法線と交差する方向から直線偏光光を照射した状態で、前記積層体の端面およびその近傍を前記積層体の上方から撮像し、それによって得られた映像に基づいて前記積層体の位置を検出する
表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【公開番号】特開２０１２−２４２６７９（Ｐ２０１２−２４２６７９Ａ）
【公開日】平成２４年１２月１０日（２０１２．１２．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１１３９５２（Ｐ２０１１−１１３９５２）
【出願日】平成２３年５月２０日（２０１１．５．２０）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１２月１０日（２０１２．１２．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月２０日（２０１１．５．２０）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
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