光学補償膜及びその製造方法
【課題】塗工により膜の厚み方向に大きなＲｔｈ（面外位相差量）を有し、位相差の波長依存性の小さな塗工膜からなる光学補償膜を提供する。
【解決手段】マレイミド系樹脂と環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜。
【解決手段】マレイミド系樹脂と環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、波長依存性等の光学特性及び基材との密着性に優れた光学補償膜、特に塗工後未延伸の状態でも光学補償機能を有する液晶表示素子用の光学補償膜及びその製造方法に関するものである。詳細にはＲｔｈ（面外位相差量）を上昇させた光学補償膜であり、より薄膜の光学補償膜が期待される。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話からコンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。
【０００３】
特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償などに大きな役割を果たしている。従来の光学補償フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィン、セルロース系樹脂の延伸フィルムが用いられている。しかしながらこれらのフィルムには延伸工程が必要となること、延伸工程での位相差の均一性を求めることが困難となる、等の課題がある。また、特に大面積のフィルムにおいては、延伸により発現する位相差の制御を行うことがよりいっそう困難となる。
【０００４】
この延伸による課題を解決する方法として、塗工（コーティング）により未延伸での光学補償機能を発現させる光学補償膜の検討がなされている。
【０００５】
アクロン大学のハリス及びチェンは、剛直棒状のポリイミド、ポリエステル、ポリアミド、ポリ（アミド−イミド）、ポリ（エステル−イミド）よりなる光学補償膜を提案しており（例えば、特許文献１，２参照。）、これらの材料は、自発的な分子配向性を有していることから塗工により延伸工程を経ることなく位相差を発現するという特徴がある。
【０００６】
更に、ポリイミドの塗工性（溶剤への溶解性）を向上したポリイミドからなる光学補償膜（例えば、特許文献３参照。）、ディスコティック液晶化合物を偏光板の保護フィルムに塗工した偏光板（例えば、特許文献４参照。）、等が提案されている。
【０００７】
また、フェニルマレイミド−イソブテン共重合体からなる延伸フィルム（例えば、特許文献５参照。）が提案されている。
【０００８】
また、マレイミド樹脂よりなる光学補償膜が開示されている（例えば、特許文献６参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】米国特許第５３４４９１６号公報
【特許文献２】特表平１０−５０８０４８号公報
【特許文献３】特開２００５−０７０７４５号公報
【特許文献４】特許第２５６５６４４号公報
【特許文献５】特開２００４−２６９８４２号公報
【特許文献６】特開２００８−２８７２２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかし、特許文献１〜３において提案された方法で用いられるポリマーは、芳香族ポリマーであることから位相差の波長依存性が大きく、液晶表示素子の光学補償膜として用いた場合に色ずれなど画質低下の課題を有するものであった。
【００１１】
また、特許文献４に提案されているディスコティック液晶化合物を用いる方法は、液晶化合物を均一に配向させることが必要となり塗工プロセスが煩雑化する、配向ムラが大きい等の課題を有するばかりか、該液晶化合物も芳香族化合物が主体となることから位相差の波長依存性が大きいという品質上の課題も有するものであった。
【００１２】
特許文献５で得られる延伸フィルムは、塗工するだけでは位相差は発現しない（ｎｘ＝ｎｙ＝ｎｚ）。
【００１３】
特許文献６には、紫外線吸収剤として、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエートなどの紫外線吸収剤を必要に応じて配合していてもよいと記載されているものの、添加することによりＲｔｈ（面外位相差量）を上昇させる効果については記載されていない。
【００１４】
そこで、本発明は、光学特性に優れた光学補償膜を提供することを目的とするものであり、さらに詳しくは、塗工した際に光学補償機能を発現すると共に、その位相差の波長依存性の小さく、基材との密着性に優れ、Ｒｔｈ（面外位相差量）を上昇させたことにより薄膜化が期待される光学補償膜を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の樹脂と環状炭化水素系化合物からなる塗工膜が光学補償機能を有する膜、特に液晶表示素子用の光学補償に好適な塗工型光学補償膜となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１６】
即ち本発明は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜に関するものである。
【００１７】
以下、本発明の光学補償膜について詳細に説明する。
【００１８】
本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ（ｎｘ，ｎｙが異なる場合、最も小さい屈折率をｎｙとする）、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜である。
【００１９】
上記環状炭化水素系化合物を添加することにより、ｎｘ、ｎｙが増大し、ｎｚが低下するため、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚの関係を強めるものであり、煩雑な延伸工程を加えることなく、環状炭化水素系化合物の添加量を変えるのみによって、より大きなＲｔｈを発現させることができる。
【００２０】
本発明の光学補償膜に用いるマレイミド系樹脂としては、例えばＮ−置換マレイミド重合体樹脂、Ｎ−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等が挙げられ、該マレイミド系樹脂を構成するＮ−置換マレイミド残基単位としては、例えば下記一般式（１）で示されるＮ−置換マレイミド残基単位を挙げることができる。
【００２１】
【化１】
（ここで、Ｒ１は、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基，炭素数１〜１８の分岐状アルキル基，炭素数１〜１８の環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基を示す。）
一般式（１）で示されるＮ−置換マレイミド残基単位におけるＲ１は、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基，炭素数１〜１８の分岐状アルキル基，炭素数１〜１８の環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基であり、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ラウリル基等が挙げられ、炭素数１〜１８の分岐状アルキル基としては、例えばイソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜１８の環状アルキル基としては、例えばシクロヘキシル基等が挙げられ、ハロゲン基としては、例えば塩素、臭素、フッ素、ヨウ素等の１種又は２種以上が挙げられ、特にＲｔｈが大きく、溶剤への溶解性、機械的強度に優れる光学補償膜となることから、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等が好ましい。
【００２２】
該Ｎ−置換マレイミド残基単位の具体的例示としては、例えばＮ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−エチルマレイミド残基単位、Ｎ−クロロエチルマレイミド残基単位、Ｎ−メトキシエチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド残基単位、Ｎ−イソプロピルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−イソブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド残基単位等の１種又は２種以上が挙げられ、特にＲｔｈが大きく、溶剤への溶解性、機械的強度に優れる光学補償膜となることから、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−イソブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド残基単位等が好ましい。
【００２３】
該Ｎ−置換マレイミド重合体樹脂としては、例えばＮ−メチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−エチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−クロロエチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−メトキシエチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−イソプロピルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−イソブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド重合体樹脂等を挙げることができる。
【００２４】
該Ｎ−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂としては、例えばＮ−メチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−エチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−クロロエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−メトキシエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−イソプロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−イソブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等を挙げることができる。
【００２５】
その中でも、特に製膜時の成膜性に優れ、光学補償機能、耐熱性に優れた光学補償膜となることからＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等であることが好ましく、特にＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂等が好ましい。
【００２６】
また、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂は、本発明の目的を逸脱しない限りにおいてＮ−置換マレイミド残基単位、無水マレイン酸残基単位以外の残基単位を含有するものであってもよく、該残基単位としては、例えばスチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；アクリル酸残基単位；アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位等のアクリル酸エステル残基単位；メタクリル酸残基単位；メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位等のメタクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基等の１種又は２種以上を挙げることができる。
【００２７】
また、該マレイミド系樹脂としては、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと記す。）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０３以上のものであることが好ましく、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れた光学補償膜となることから２×１０４以上２×１０５以下であることが好ましい。
【００２８】
本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂の製造方法としては、該マレイミド系樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えばＮ−置換マレイミド類、無水マレイン酸、場合によってはＮ−置換マレイミド類と共重合可能な単量体を併用しラジカル重合あるいはラジカル共重合を行うことにより製造することができる。この際のＮ−置換マレイミド類としては、例えばＮ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−クロロエチルマレイミド、Ｎ−メトキシエチルマレイミド、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド等の１種又は２種以上が挙げられ、共重合可能な単量体としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のビニルエステル類；アクリロニトリル；メタクリロニトリル等の１種又は２種以上を挙げることができる。
【００２９】
また、ラジカル重合法としては、公知の重合方法で行うことが可能であり、例えば塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
【００３０】
ラジカル重合法を行う際の重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤が挙げられる。
【００３１】
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水；Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
【００３２】
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には４０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【００３３】
本発明の光学補償膜では、環状炭化水素系化合物はフィルムの３次元屈折率関係（ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ）を強める、すなわち、より大きなＲｔｈを発現させることを目的として添加されるものである。
【００３４】
本発明者の研究により、マレイミド系樹脂に環状炭化水素系化合物を配合することにより、マレイミド系樹脂からなるフィルムのＲｔｈが上昇することが判明した。なお、環状炭化水素系化合物は、下記一般式（２）、（３）、（４）のいずれかを満たす化合物が好ましく、特に一般式（２）、（３）を満たす化合物が好ましく、１種類、若しくは２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３５】
【化２】
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアミノ基、メルカプト基、スルホン酸基、アルコキシ基、アルデヒド基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環を表し、それぞれが同一のものであっても、異なるものであってもよい。）
一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３におけるハロゲン原子としては、例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられ、置換もしくは無置換のアミノ基としては、例えば−ＮＨ２、−ＮＨＣＨ３、−Ｎ（ＣＨ３）２、−ＮＨＣ２Ｈ５、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）２、−ＮＨＣ３Ｈ７、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）２、−ＮＨ（Ｃ４Ｈ９）、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）２、−ＮＨＰｈ等が挙げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基等が挙げられ、アルキル基としては炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニル、アリル、１−ヘキセニル等が挙げられ、アルキニル基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニル、１−ブチニル、１−ヘキシニル等が挙げられる。
【００３６】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、芳香族炭化水素環としては、例えばベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，３，５−トリアジン環等が挙げられる。芳香族環の数としては、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜８であることが特に好ましい。
【００３７】
芳香族複素環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族複素環の例には、例えばフラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，３，５−トリアジン環等が挙げられる。
【００３８】
芳香族縮合環の例には、例えばインデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環、チアントレン環、ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、キノリン環等が挙げられる。
【００３９】
芳香族環は、置換基を有していてもよい。ただし、置換基は、２つの芳香族環の立体配座を立体障害しないことが必要である。立体障害では、置換基の種類および位置が問題になる。置換基の種類としては、立体的に嵩高い置換基（例えば、３級アルキル基）が立体障害を起こしやすい。置換基の位置としては、芳香族環の結合に隣接する位置（ベンゼン環の場合はオルト位）が置換された場合に、立体障害が生じやすい。
【００４０】
置換基の例には、例えばハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基、非芳香族性複素環基等が挙げられる。
【００４１】
アルキル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、例えばメチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチル、２−ジエチルアミノエチル等が挙げられる。
【００４２】
アルケニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、例えばビニル、アリル、１−ヘキセニル等が挙げられる。
【００４３】
アルキニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、例えばエチニル、１−ブチニル、１−ヘキシニル等が挙げられる。
【００４４】
脂肪族アシル基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、例えばアセチル、プロパノイル、ブタノイル等が挙げられる。
【００４５】
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、例えばアセトキシが挙げられる。
【００４６】
アルコキシ基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例、置換アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、メトキシエトキシ等が挙げられる。
【００４７】
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等が挙げられる。
【００４８】
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ等が挙げられる。
【００４９】
アルキルチオ基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等が挙げられる。
【００５０】
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル等が挙げられる。
【００５１】
脂肪族アミド基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、例えばアセトアミドが挙げられる。
【００５２】
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、例えばメタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オクタンスルホンアミド等が挙げられる。
【００５３】
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、２−カルボキシエチルアミノ等が挙げられる。
【００５４】
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、例えばメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。
【００５５】
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、例えばメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル等が挙げられる。
【００５６】
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、例えばメチルウレイドが挙げられる。
【００５７】
非芳香族性複素環基の例には、例えばピペリジノ、モルホリノ等が挙げられる。
【００５８】
これらの中でも一般式（２）における、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３としては、メルカプト基、芳香族環が好ましい。
【００５９】
具体的な一般式（２）で示される化合物としては、例えば２，４−ジアミノ−６−ブチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリフェニル−１，３，５−トリアジン、２−メトキシ−４−メチル−６−（メチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン等が挙げられ、特に２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリフェニル−１，３，５−トリアジンが好ましい。
【００６０】
【化３】
（式中Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６はそれぞれ、単結合またはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族環、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−、を表し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環を表す。）
一般式（３）のＸ４、Ｘ５、Ｘ６におけるアルキレン基としては炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチレン、エチレン、ｎ−ブチレン、ｎ−ヘキシレン等が挙げられ、アルケニレン基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニレン、アリレン、１−ヘキセニレン等が挙げられ、アルキニレン基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニレン、１−ブチニレン、１−ヘキシニレン等が挙げられる。
【００６１】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３の芳香族環が挙げられる。
【００６２】
一般式（３）のＲ２、Ｒ３、Ｒ４における置換もしくは無置換のアルキル基としては炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニル、アリル、１−ヘキセニル等が挙げられ、アルキニル基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニル、１−ブチニル、１−ヘキシニル等が挙げられる。
【００６３】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３の芳香族環が挙げられる。
【００６４】
具体的な一般式（３）で示される化合物としては、例えば２，４−ジアミノ−６−［２−（２−メチル−１−イミダゾリル）エチル］−１，３，５−トリアジン、６−（ジブチルアミノ）−２，４−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン、２−（３，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（３−カルボキシアニリノ）−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリアニリニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）ビニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられ、特に２，４，６−トリアニリニル−１，３，５−トリアジン、６−（ジブチルアミノ）−２，４−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジンが好ましい。
【００６５】
【化４】
（式中Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９はそれぞれ、単結合またはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族環、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−を表し、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環を表す。）
一般式（４）のＸ７、Ｘ８、Ｘ９におけるアルキレン基としては炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチレン、エチレン、ｎ−ブチレン、ｎ−ヘキシレン等が挙げられ、アルケニレン基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニレン、アリレン、１−ヘキセニレン等が挙げられ、アルキニレン基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニレン、１−ブチニレン、１−ヘキシニレン等が挙げられる。
【００６６】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３の芳香族環が挙げられる。
【００６７】
一般式（４）のＲ５、Ｒ６、Ｒ７における置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては、炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニル、アリル、１−ヘキセニル等が挙げられ、アルキニル基としては、炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニル、１−ブチニル、１−ヘキシニル等が挙げられる。
【００６８】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３の芳香族環が挙げられる。
【００６９】
具体的な一般式（４）で示される化合物としては、例えば１，３，５−ベンゼントリチオール、１，３，５−ベンゼントリカルボニルトリクロリド、１，３，５−トリフェニルベンゼン、Ｎ，Ｎ′′，Ｎ′′′−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミン、１，３，５−トリ（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ−ｔ−ブチルベンゼン、１，３，５−トリアセチルベンゼン、１，３，５−トリメトキシベンゼン、１，３，５−トリス（４−ブロモフェニル）ベンゼン等が挙げられ、特に１，３，５−トリフェニルベンゼン、Ｎ，Ｎ′′，Ｎ′′′−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミンが好ましい。
【００７０】
これらの環状炭化水素系化合物の分子量は、１００〜８００であることが好ましい。
【００７１】
本発明の光学補償膜におけるマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物の配合割合は、基材との密着性に優れた光学補償膜が得られることからマレイミド系樹脂１００重量部に対して環状炭化水素系化合物０．０１〜２０重量部が好ましく、更に０．１〜１０重量部が好ましく、特に１〜５重量部が好ましい。
【００７２】
また、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物の配合方法としては、特に制限はなく、例えばマレイミド系樹脂を溶媒に溶解した溶液に環状炭化水素系化合物を添加することにより行なうことができる。その際に使用する溶媒としては、マレイミド系樹脂が溶解する溶媒であれば特に制限はなく、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶剤；ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤；四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤；Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられ、これらは２種類以上組み合わせて用いることが出来る。
【００７３】
本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜からなることを特徴とし、好ましい製造方法として、ガラス基板、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂製フィルム等の基材上にマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる溶液を塗工し、乾燥することにより製造する方法が挙げられ、マレイミド系樹脂としては特に上記一般式（１）で示されるマレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂であることが好ましい。
【００７４】
塗工方法は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物を溶媒に溶解した溶液をガラス基板、あるいはトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂製フィルム等の基材上に塗工後、加熱等により溶媒を除去する方法である。その際の塗工方法としては、例えばドクターブレード法、バーコーター法、グラビアコーター法、スロットダイコーター法、リップコーター法、コンマコーター法等が用いられる。工業的には薄膜塗工はグラビアコーター法、厚膜塗工はコンマコーター法が一般的である。
【００７５】
使用する溶剤については、マレイミド系樹脂が溶解する溶媒であれば特に制限はなく、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶剤；ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤；四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤；Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられ、これらは２種類以上組み合わせて用いることが出来る。
【００７６】
溶液塗工においては、より容易に高い透明性を有し、且つ厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償膜が得られることから、溶液粘度１０〜１００００ｃｐｓとすることが好ましく、特に１０〜５０００ｃｐｓとすることが好ましい。
【００７７】
この際のマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる膜の塗工厚さは、塗工膜のＲｔｈ（面外位相差量）により決められ、その中でも優れた表面平滑性、視野角改良を有する光学補償膜が得られることから、乾燥後０．１〜１００μｍが好ましく、さらに好ましくは０．５〜５０μｍ、特に好ましくは１〜２０μｍである。
【００７８】
本発明の光学補償膜は、該マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であり、特に光学補償膜として用いる際の光学補償機能に優れたものである。そして高分子よりなるフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、一般的にフィルムの３次元屈折率の制御をフィルムの延伸などにより行うが、該延伸工程には製造工程や品質の管理が複雑になったりする等の課題を有する。それに反し、本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ（ｎｘ、ｎｙが異なる場合、最も小さい屈折率をｎｘとする）、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜であり、未延伸の状態（未延伸膜）で膜の厚み方向の屈折率が小さくなるという特異な挙動を示すことを見出している。
【００７９】
本発明の光学補償膜は、環状炭化水素系化合物を添加することにより下記一般式（５）で示されるＲｔｈ（面外位相差量）が、無添加の場合と比して、好ましくは１．２倍以上、さらに好ましくは１．５倍以上に上昇させることができる。
【００８０】
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ （５）
（ここで、ｄは光学補償膜の膜厚（ｎｍ）を示す。）
このようにこれらの環状炭化水素系化合物は、比較的少量の使用量で光学補償膜のＲｔｈを上昇させることができ、添加量に応じてＲｔｈの上昇幅を調整することができる。また比較的マレイミド系樹脂との相溶性がよいため、膜の表面に析出（ブリードアウト）しにくい。従って、このような環状炭化水素系化合物を用いることで、ブリードアウトの問題を生じることなく、光学補償膜のＲｔｈを未延伸のまま（塗工のみで）、任意の値に調整した膜を得ることができる。
【００８１】
本発明の光学補償膜のＲｔｈは、該マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜の厚み、及びマレイミド系樹脂と環状炭化水素系化合物の配合比を変えることにより、容易に制御することが可能であり、位相差フィルムとしての適応が期待できる光学補償膜となることから、Ｒｔｈが５０〜２０００ｎｍの範囲にあることが好ましく、さらに液晶表示素子の視野角改善効果に優れたものとなることから６０〜１０００ｎｍの範囲にあることが好ましく、特に７０〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００８２】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に色ずれの小さい液晶表示素子となることから位相差量の波長依存性が小さいものであることが好ましく、塗工膜を４０度傾斜させ測定波長４５０ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ４５０）と測定波長５８９ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ５８９）の比で示される位相差量の波長依存性（Ｒ４５０／Ｒ５８９）が１．１以下であることが好ましく、特に１．０８以下であることが好ましい。
【００８３】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に画質の特性が良好なものとなることから、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１（１９９７年版）を準拠し測定した光線透過率が８５％以上であることが好ましく、特に９０％以上であることが好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００年版）を準拠し測定したヘーズ（曇り度）が２％以下であることが好ましく、特に１％以下であることが好ましい。
【００８４】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際の品質の安定性から耐熱性が高いものであることが好ましく、用いるマレイミド系樹脂のガラス転移温度が１００℃以上であるものが好ましく、さらに１２０℃以上であるものが好ましく、特に１３５℃以上であるものが好ましい。
【００８５】
また、本発明の光学補償膜は熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていても良い。該酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤１００重量部に対してリン系酸化防止剤を１００〜５００重量部混合して使用することが特に好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂１００重量部に対して０．０１〜１０重量部が好ましく、特に０．５〜１重量部が好ましい。
【００８６】
本発明の光学補償膜は、発明の主旨を越えない範囲で、その他ポリマー、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されたものであってもよい。
【００８７】
本発明の光学補償膜は、偏光板と積層して用いることもできる。また、光学補償膜として、本発明の光学補償膜に、さらにセルロース系樹脂製フィルム等のフィルムとの積層体であっても良い。
【００８８】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子の視野角改良フィルムや色補償フィルムなどの液晶表示素子用光学補償膜として用いることができる。
【発明の効果】
【００８９】
本発明の光学補償膜は、塗工するだけで光学補償機能を発現するマレイミド系樹脂と環状炭化水素系化合物からなるものであり、Ｒｔｈ（面外位相差量）を上昇させることにより薄膜の光学補償膜が期待され、その光学補償機能の制御も容易であることから液晶表示素子、特にＶＡ−モードの液晶テレビのコントラストや視角特性の改良に有効な光学補償膜として有用なものである。
【実施例】
【００９０】
以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。
【００９１】
〜数平均分子量（Ｍｎ）の測定〜
ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製、商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）を用い、ジメチルホルムアミドを溶剤とし標準ポリスチレン換算値として求めた。
【００９２】
〜ガラス転移温度の測定〜
示差走査型熱量計（セイコー電子工業（株）製、商品名ＤＳＣ２０００）を用い、１０℃／ｍｉｎ．の昇温速度にて測定した。
【００９３】
〜光線透過率の測定〜
透明性の一評価として、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１（１９９７年版）に準拠して光線透過率の測定を行った。
【００９４】
〜ヘーズの測定〜
透明性の一評価として、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００年版）に準拠してヘーズの測定を行った。
【００９５】
〜屈折率の測定〜
ＪＩＳ Ｋ ７１４２（１９８１年版）に準拠してアッベ屈折率計（アタゴ製）を用いて測定した。
【００９６】
〜３次元屈折率の計算〜
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器（株）製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて仰角を変えて測定波長５８９ｎｍの光で３次元屈折率を測定した。さらに、３次元屈折率よりＲｔｈ（面外位相差量）および下記式（６）で示されるＲｅ（面内位相差量）を算出した。
【００９７】
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （６）
（ここで、ｄは光学補償膜の膜厚（ｎｍ）を示す。）
〜位相差量の波長依存性の測定〜
位相差量の波長依存性（Ｒ４５０／Ｒ５８９）は、塗工膜を４０度傾斜させ測定波長４５０ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ４５０）と測定波長５８９ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ５８９）の比で示した。
【００９８】
〜クロスカット法１００マス試験評価〜
ＪＩＳ Ｋ ５４００（１９９９年版）に準拠して規定のカット間隔で塗工膜に対して１００個の格子状パターンを切り込みを入れて、剥がれ具体を判定した。このとき、判定は１００個の格子状パターンにおける良好な個数により判定した。また、粘着テープを格子状パターンの上に貼り引き剥がすことで剥がれ具合を観察した。この時の判定も同じく１００個の格子状パターンにおける良好な個数により判定した。
【００９９】
合成例１（Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂の製造例）
ガラス封管中に、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド３２．４ｇ、重合開始剤としてジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート０．０５４ｇを仕込み、窒素置換後、重合温度６０℃、重合時間５時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥し２０ｇのＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は１２００００であった。また、ガラス転移温度（以下、Ｔｇと称する）は１８５℃であった。
【０１００】
合成例２（Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の製造例）
ガラス封管中に、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド４０ｇ、重合開始剤として、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート０．０５ｇを仕込み、窒素置換後、重合温度６０℃、重合時間５時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥し３２ｇのＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は１６００００であった。また、Ｔｇは１４８℃であった。
【０１０１】
比較例１
合成例１で得られたＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂を５０重量部のトルエンと５０重量部のメチルエチルケトンからなる混合溶剤に溶解し、１３％溶液とし、コーターによりガラス基板に塗工し、室温で４８時間乾燥して幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。 得られた塗工膜は、光線透過率９１．１％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７４２、ｎｙ＝１．５１７４２、ｎｚ＝１．５１４２２であり、Ｒｔｈ＝４８．０ｍ、Ｒｅ＝０．０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１０２】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１０３】
実施例１
比較例１と同様の方法で作成した溶液に、さらにＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂１００重量部に対し、環状炭化水素系化合物として２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジン（一般式（２）の化合物）を１重量部添加した後、比較例１と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１０４】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．０％、ヘーズ０．７％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１８４３、ｎｙ＝１．５１８４２、ｎｚ＝１．５１２２６（ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝９２．５ｍ、Ｒｅ＝０．１ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１０５】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１０６】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１０７】
実施例２
２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジンの添加量を３重量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１０８】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．０％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１８４８、ｎｙ＝１．５１８４８、ｎｚ＝１．５１０２８（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝１２３．０ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。
【０１０９】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１１０】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１１１】
実施例３
環状炭化水素系化合物を６−（ジブチルアミノ）−２，４−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン（一般式（３）の化合物）に変更した以外は、実施例１と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１１２】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．２％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１８２８、ｎｙ＝１．５１８２７、ｎｚ＝１．５１１８７（ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝９６．１ｍ、Ｒｅ＝０．２ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１１３】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１１４】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１１５】
実施例４
６−（ジブチルアミノ）−２，４−ジメルカプト−１，３，５−トリアジンの添加量を３重量部に変更した以外は、実施例３と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１１６】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．１％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１８１６、ｎｙ＝１．５１８１６、ｎｚ＝１．５１０９０（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝１０８．９ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１１７】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１１８】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１１９】
比較例２
合成例２で得られたＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂を３０重量部のトルエンと７０重量部のメチルエチルケトンからなる混合溶剤に溶解し、１５％溶液とし、コーターによりガラス基板に塗工し、室温窒素気流下で２４時間乾燥して幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１２０】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．８％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１５６６、ｎｙ＝１．５１５６５、ｎｚ＝１．５１３４２であり、Ｒｔｈ＝３３．５ｍ、Ｒｅ＝０．２ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。
【０１２１】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１２２】
実施例５
比較例２と同様の方法で作成した溶液に、さらにＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂１００重量部に対し、環状炭化水素系化合物として２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン（一般式（３）の化合物）を１重量部添加した後、比較例２と同様の方法で幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１２３】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．８％、ヘーズ０．５％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７２１、ｎｙ＝１．５１７２１、ｎｚ＝１．５１３４２（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝５６．８ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０７であった。
【０１２４】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例２に示したＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１２５】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１２６】
実施例６
２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジンの添加量を３重量部に変更した以外は、実施例５と同様の方法で幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１２７】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．７％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７３５、ｎｙ＝１．５１７３４、ｎｚ＝１．５１３２９（ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝６０．８ｍ、Ｒｅ＝０．２ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。
【０１２８】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例２に示したＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１２９】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１３０】
実施例７
環状炭化水素系化合物をＮ，Ｎ´，Ｎ´´−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミン（一般式（４）の化合物）に変更した以外は、実施例５と同様の方法で幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１３１】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．８％、ヘーズ０．７％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７２９、ｎｙ＝１．５１７２９、ｎｚ＝１．５１１５２（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝８６．６ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０７であった。
【０１３２】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例２に示したＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１３３】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１３４】
実施例８
Ｎ，Ｎ´，Ｎ´´−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミンの添加量を３重量部に変更した以外は、実施例７と同様の方法で幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１３５】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．７％、ヘーズ０．８％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７８０、ｎｙ＝１．５１７８０、ｎｚ＝１．５１１９８（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝８７．３ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０７であった。
【０１３６】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例２に示したＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１３７】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１３８】
比較例３
比較例１と同様の方法で作成した溶液に、さらにＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂１００重量部に対し、環状炭化水素系化合物でなくかつ一般式（２）、（３）、（４）のいずれにも属さないトリ（２−エチルヘキシル）ホスフェートを３重量部添加した後、比較例１と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１３９】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．９％、ヘーズ０．５％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７４２、ｎｙ＝１．５１７４１、ｎｚ＝１．５１４９１であり、Ｒｔｈ＝３７．６ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１４０】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が小さくなっており、環状炭化水素系化合物でない化合物を用いたことによってＲｔｈが減少していることが分かる。よって、このような環状炭化水素系化合物でなくかつ一般式（２）、（３）、（４）のいずれにも属さない化合物では、マレイミド系樹脂フィルムのＲｔｈを上昇させる効果はないといえる。
【０１４１】
以上の光学特性の評価結果を、表１に示す。
【０１４２】
【表１】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、波長依存性等の光学特性及び基材との密着性に優れた光学補償膜、特に塗工後未延伸の状態でも光学補償機能を有する液晶表示素子用の光学補償膜及びその製造方法に関するものである。詳細にはＲｔｈ（面外位相差量）を上昇させた光学補償膜であり、より薄膜の光学補償膜が期待される。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話からコンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。
【０００３】
特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償などに大きな役割を果たしている。従来の光学補償フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィン、セルロース系樹脂の延伸フィルムが用いられている。しかしながらこれらのフィルムには延伸工程が必要となること、延伸工程での位相差の均一性を求めることが困難となる、等の課題がある。また、特に大面積のフィルムにおいては、延伸により発現する位相差の制御を行うことがよりいっそう困難となる。
【０００４】
この延伸による課題を解決する方法として、塗工（コーティング）により未延伸での光学補償機能を発現させる光学補償膜の検討がなされている。
【０００５】
アクロン大学のハリス及びチェンは、剛直棒状のポリイミド、ポリエステル、ポリアミド、ポリ（アミド−イミド）、ポリ（エステル−イミド）よりなる光学補償膜を提案しており（例えば、特許文献１，２参照。）、これらの材料は、自発的な分子配向性を有していることから塗工により延伸工程を経ることなく位相差を発現するという特徴がある。
【０００６】
更に、ポリイミドの塗工性（溶剤への溶解性）を向上したポリイミドからなる光学補償膜（例えば、特許文献３参照。）、ディスコティック液晶化合物を偏光板の保護フィルムに塗工した偏光板（例えば、特許文献４参照。）、等が提案されている。
【０００７】
また、フェニルマレイミド−イソブテン共重合体からなる延伸フィルム（例えば、特許文献５参照。）が提案されている。
【０００８】
また、マレイミド樹脂よりなる光学補償膜が開示されている（例えば、特許文献６参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】米国特許第５３４４９１６号公報
【特許文献２】特表平１０−５０８０４８号公報
【特許文献３】特開２００５−０７０７４５号公報
【特許文献４】特許第２５６５６４４号公報
【特許文献５】特開２００４−２６９８４２号公報
【特許文献６】特開２００８−２８７２２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかし、特許文献１〜３において提案された方法で用いられるポリマーは、芳香族ポリマーであることから位相差の波長依存性が大きく、液晶表示素子の光学補償膜として用いた場合に色ずれなど画質低下の課題を有するものであった。
【００１１】
また、特許文献４に提案されているディスコティック液晶化合物を用いる方法は、液晶化合物を均一に配向させることが必要となり塗工プロセスが煩雑化する、配向ムラが大きい等の課題を有するばかりか、該液晶化合物も芳香族化合物が主体となることから位相差の波長依存性が大きいという品質上の課題も有するものであった。
【００１２】
特許文献５で得られる延伸フィルムは、塗工するだけでは位相差は発現しない（ｎｘ＝ｎｙ＝ｎｚ）。
【００１３】
特許文献６には、紫外線吸収剤として、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエートなどの紫外線吸収剤を必要に応じて配合していてもよいと記載されているものの、添加することによりＲｔｈ（面外位相差量）を上昇させる効果については記載されていない。
【００１４】
そこで、本発明は、光学特性に優れた光学補償膜を提供することを目的とするものであり、さらに詳しくは、塗工した際に光学補償機能を発現すると共に、その位相差の波長依存性の小さく、基材との密着性に優れ、Ｒｔｈ（面外位相差量）を上昇させたことにより薄膜化が期待される光学補償膜を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の樹脂と環状炭化水素系化合物からなる塗工膜が光学補償機能を有する膜、特に液晶表示素子用の光学補償に好適な塗工型光学補償膜となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１６】
即ち本発明は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜に関するものである。
【００１７】
以下、本発明の光学補償膜について詳細に説明する。
【００１８】
本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ（ｎｘ，ｎｙが異なる場合、最も小さい屈折率をｎｙとする）、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜である。
【００１９】
上記環状炭化水素系化合物を添加することにより、ｎｘ、ｎｙが増大し、ｎｚが低下するため、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚの関係を強めるものであり、煩雑な延伸工程を加えることなく、環状炭化水素系化合物の添加量を変えるのみによって、より大きなＲｔｈを発現させることができる。
【００２０】
本発明の光学補償膜に用いるマレイミド系樹脂としては、例えばＮ−置換マレイミド重合体樹脂、Ｎ−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等が挙げられ、該マレイミド系樹脂を構成するＮ−置換マレイミド残基単位としては、例えば下記一般式（１）で示されるＮ−置換マレイミド残基単位を挙げることができる。
【００２１】
【化１】
（ここで、Ｒ１は、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基，炭素数１〜１８の分岐状アルキル基，炭素数１〜１８の環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基を示す。）
一般式（１）で示されるＮ−置換マレイミド残基単位におけるＲ１は、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基，炭素数１〜１８の分岐状アルキル基，炭素数１〜１８の環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基であり、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ラウリル基等が挙げられ、炭素数１〜１８の分岐状アルキル基としては、例えばイソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜１８の環状アルキル基としては、例えばシクロヘキシル基等が挙げられ、ハロゲン基としては、例えば塩素、臭素、フッ素、ヨウ素等の１種又は２種以上が挙げられ、特にＲｔｈが大きく、溶剤への溶解性、機械的強度に優れる光学補償膜となることから、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等が好ましい。
【００２２】
該Ｎ−置換マレイミド残基単位の具体的例示としては、例えばＮ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−エチルマレイミド残基単位、Ｎ−クロロエチルマレイミド残基単位、Ｎ−メトキシエチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド残基単位、Ｎ−イソプロピルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−イソブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド残基単位等の１種又は２種以上が挙げられ、特にＲｔｈが大きく、溶剤への溶解性、機械的強度に優れる光学補償膜となることから、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−イソブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド残基単位等が好ましい。
【００２３】
該Ｎ−置換マレイミド重合体樹脂としては、例えばＮ−メチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−エチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−クロロエチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−メトキシエチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−イソプロピルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−イソブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド重合体樹脂等を挙げることができる。
【００２４】
該Ｎ−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂としては、例えばＮ−メチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−エチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−クロロエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−メトキシエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−イソプロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−イソブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等を挙げることができる。
【００２５】
その中でも、特に製膜時の成膜性に優れ、光学補償機能、耐熱性に優れた光学補償膜となることからＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等であることが好ましく、特にＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂等が好ましい。
【００２６】
また、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂は、本発明の目的を逸脱しない限りにおいてＮ−置換マレイミド残基単位、無水マレイン酸残基単位以外の残基単位を含有するものであってもよく、該残基単位としては、例えばスチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；アクリル酸残基単位；アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位等のアクリル酸エステル残基単位；メタクリル酸残基単位；メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位等のメタクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基等の１種又は２種以上を挙げることができる。
【００２７】
また、該マレイミド系樹脂としては、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと記す。）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０３以上のものであることが好ましく、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れた光学補償膜となることから２×１０４以上２×１０５以下であることが好ましい。
【００２８】
本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂の製造方法としては、該マレイミド系樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えばＮ−置換マレイミド類、無水マレイン酸、場合によってはＮ−置換マレイミド類と共重合可能な単量体を併用しラジカル重合あるいはラジカル共重合を行うことにより製造することができる。この際のＮ−置換マレイミド類としては、例えばＮ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−クロロエチルマレイミド、Ｎ−メトキシエチルマレイミド、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ラウリルマレイミド等の１種又は２種以上が挙げられ、共重合可能な単量体としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のビニルエステル類；アクリロニトリル；メタクリロニトリル等の１種又は２種以上を挙げることができる。
【００２９】
また、ラジカル重合法としては、公知の重合方法で行うことが可能であり、例えば塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
【００３０】
ラジカル重合法を行う際の重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤が挙げられる。
【００３１】
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水；Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
【００３２】
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には４０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【００３３】
本発明の光学補償膜では、環状炭化水素系化合物はフィルムの３次元屈折率関係（ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ）を強める、すなわち、より大きなＲｔｈを発現させることを目的として添加されるものである。
【００３４】
本発明者の研究により、マレイミド系樹脂に環状炭化水素系化合物を配合することにより、マレイミド系樹脂からなるフィルムのＲｔｈが上昇することが判明した。なお、環状炭化水素系化合物は、下記一般式（２）、（３）、（４）のいずれかを満たす化合物が好ましく、特に一般式（２）、（３）を満たす化合物が好ましく、１種類、若しくは２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３５】
【化２】
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアミノ基、メルカプト基、スルホン酸基、アルコキシ基、アルデヒド基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環を表し、それぞれが同一のものであっても、異なるものであってもよい。）
一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３におけるハロゲン原子としては、例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられ、置換もしくは無置換のアミノ基としては、例えば−ＮＨ２、−ＮＨＣＨ３、−Ｎ（ＣＨ３）２、−ＮＨＣ２Ｈ５、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）２、−ＮＨＣ３Ｈ７、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）２、−ＮＨ（Ｃ４Ｈ９）、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）２、−ＮＨＰｈ等が挙げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基等が挙げられ、アルキル基としては炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニル、アリル、１−ヘキセニル等が挙げられ、アルキニル基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニル、１−ブチニル、１−ヘキシニル等が挙げられる。
【００３６】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、芳香族炭化水素環としては、例えばベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，３，５−トリアジン環等が挙げられる。芳香族環の数としては、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜８であることが特に好ましい。
【００３７】
芳香族複素環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族複素環の例には、例えばフラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，３，５−トリアジン環等が挙げられる。
【００３８】
芳香族縮合環の例には、例えばインデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環、チアントレン環、ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、キノリン環等が挙げられる。
【００３９】
芳香族環は、置換基を有していてもよい。ただし、置換基は、２つの芳香族環の立体配座を立体障害しないことが必要である。立体障害では、置換基の種類および位置が問題になる。置換基の種類としては、立体的に嵩高い置換基（例えば、３級アルキル基）が立体障害を起こしやすい。置換基の位置としては、芳香族環の結合に隣接する位置（ベンゼン環の場合はオルト位）が置換された場合に、立体障害が生じやすい。
【００４０】
置換基の例には、例えばハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基、非芳香族性複素環基等が挙げられる。
【００４１】
アルキル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、例えばメチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチル、２−ジエチルアミノエチル等が挙げられる。
【００４２】
アルケニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、例えばビニル、アリル、１−ヘキセニル等が挙げられる。
【００４３】
アルキニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、例えばエチニル、１−ブチニル、１−ヘキシニル等が挙げられる。
【００４４】
脂肪族アシル基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、例えばアセチル、プロパノイル、ブタノイル等が挙げられる。
【００４５】
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、例えばアセトキシが挙げられる。
【００４６】
アルコキシ基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例、置換アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、メトキシエトキシ等が挙げられる。
【００４７】
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等が挙げられる。
【００４８】
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ等が挙げられる。
【００４９】
アルキルチオ基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等が挙げられる。
【００５０】
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル等が挙げられる。
【００５１】
脂肪族アミド基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、例えばアセトアミドが挙げられる。
【００５２】
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、例えばメタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オクタンスルホンアミド等が挙げられる。
【００５３】
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、２−カルボキシエチルアミノ等が挙げられる。
【００５４】
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、例えばメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。
【００５５】
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、例えばメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル等が挙げられる。
【００５６】
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、例えばメチルウレイドが挙げられる。
【００５７】
非芳香族性複素環基の例には、例えばピペリジノ、モルホリノ等が挙げられる。
【００５８】
これらの中でも一般式（２）における、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３としては、メルカプト基、芳香族環が好ましい。
【００５９】
具体的な一般式（２）で示される化合物としては、例えば２，４−ジアミノ−６−ブチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリフェニル−１，３，５−トリアジン、２−メトキシ−４−メチル−６−（メチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン等が挙げられ、特に２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリフェニル−１，３，５−トリアジンが好ましい。
【００６０】
【化３】
（式中Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６はそれぞれ、単結合またはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族環、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−、を表し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環を表す。）
一般式（３）のＸ４、Ｘ５、Ｘ６におけるアルキレン基としては炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチレン、エチレン、ｎ−ブチレン、ｎ−ヘキシレン等が挙げられ、アルケニレン基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニレン、アリレン、１−ヘキセニレン等が挙げられ、アルキニレン基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニレン、１−ブチニレン、１−ヘキシニレン等が挙げられる。
【００６１】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３の芳香族環が挙げられる。
【００６２】
一般式（３）のＲ２、Ｒ３、Ｒ４における置換もしくは無置換のアルキル基としては炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニル、アリル、１−ヘキセニル等が挙げられ、アルキニル基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニル、１−ブチニル、１−ヘキシニル等が挙げられる。
【００６３】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３の芳香族環が挙げられる。
【００６４】
具体的な一般式（３）で示される化合物としては、例えば２，４−ジアミノ−６−［２−（２−メチル−１−イミダゾリル）エチル］−１，３，５−トリアジン、６−（ジブチルアミノ）−２，４−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン、２−（３，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（３−カルボキシアニリノ）−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリアニリニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）ビニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられ、特に２，４，６−トリアニリニル−１，３，５−トリアジン、６−（ジブチルアミノ）−２，４−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジンが好ましい。
【００６５】
【化４】
（式中Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９はそれぞれ、単結合またはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族環、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−を表し、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環を表す。）
一般式（４）のＸ７、Ｘ８、Ｘ９におけるアルキレン基としては炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチレン、エチレン、ｎ−ブチレン、ｎ−ヘキシレン等が挙げられ、アルケニレン基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニレン、アリレン、１−ヘキセニレン等が挙げられ、アルキニレン基としては炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニレン、１−ブチニレン、１−ヘキシニレン等が挙げられる。
【００６６】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３の芳香族環が挙げられる。
【００６７】
一般式（４）のＲ５、Ｒ６、Ｒ７における置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素原子数１〜８であることが好ましく、例えばメチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては、炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばビニル、アリル、１−ヘキセニル等が挙げられ、アルキニル基としては、炭素原子数２〜８であることが好ましく、例えばエチニル、１−ブチニル、１−ヘキシニル等が挙げられる。
【００６８】
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式（２）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３の芳香族環が挙げられる。
【００６９】
具体的な一般式（４）で示される化合物としては、例えば１，３，５−ベンゼントリチオール、１，３，５−ベンゼントリカルボニルトリクロリド、１，３，５−トリフェニルベンゼン、Ｎ，Ｎ′′，Ｎ′′′−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミン、１，３，５−トリ（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ−ｔ−ブチルベンゼン、１，３，５−トリアセチルベンゼン、１，３，５−トリメトキシベンゼン、１，３，５−トリス（４−ブロモフェニル）ベンゼン等が挙げられ、特に１，３，５−トリフェニルベンゼン、Ｎ，Ｎ′′，Ｎ′′′−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミンが好ましい。
【００７０】
これらの環状炭化水素系化合物の分子量は、１００〜８００であることが好ましい。
【００７１】
本発明の光学補償膜におけるマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物の配合割合は、基材との密着性に優れた光学補償膜が得られることからマレイミド系樹脂１００重量部に対して環状炭化水素系化合物０．０１〜２０重量部が好ましく、更に０．１〜１０重量部が好ましく、特に１〜５重量部が好ましい。
【００７２】
また、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物の配合方法としては、特に制限はなく、例えばマレイミド系樹脂を溶媒に溶解した溶液に環状炭化水素系化合物を添加することにより行なうことができる。その際に使用する溶媒としては、マレイミド系樹脂が溶解する溶媒であれば特に制限はなく、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶剤；ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤；四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤；Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられ、これらは２種類以上組み合わせて用いることが出来る。
【００７３】
本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜からなることを特徴とし、好ましい製造方法として、ガラス基板、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂製フィルム等の基材上にマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる溶液を塗工し、乾燥することにより製造する方法が挙げられ、マレイミド系樹脂としては特に上記一般式（１）で示されるマレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂であることが好ましい。
【００７４】
塗工方法は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物を溶媒に溶解した溶液をガラス基板、あるいはトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂製フィルム等の基材上に塗工後、加熱等により溶媒を除去する方法である。その際の塗工方法としては、例えばドクターブレード法、バーコーター法、グラビアコーター法、スロットダイコーター法、リップコーター法、コンマコーター法等が用いられる。工業的には薄膜塗工はグラビアコーター法、厚膜塗工はコンマコーター法が一般的である。
【００７５】
使用する溶剤については、マレイミド系樹脂が溶解する溶媒であれば特に制限はなく、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶剤；ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤；四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤；Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられ、これらは２種類以上組み合わせて用いることが出来る。
【００７６】
溶液塗工においては、より容易に高い透明性を有し、且つ厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償膜が得られることから、溶液粘度１０〜１００００ｃｐｓとすることが好ましく、特に１０〜５０００ｃｐｓとすることが好ましい。
【００７７】
この際のマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる膜の塗工厚さは、塗工膜のＲｔｈ（面外位相差量）により決められ、その中でも優れた表面平滑性、視野角改良を有する光学補償膜が得られることから、乾燥後０．１〜１００μｍが好ましく、さらに好ましくは０．５〜５０μｍ、特に好ましくは１〜２０μｍである。
【００７８】
本発明の光学補償膜は、該マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であり、特に光学補償膜として用いる際の光学補償機能に優れたものである。そして高分子よりなるフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、一般的にフィルムの３次元屈折率の制御をフィルムの延伸などにより行うが、該延伸工程には製造工程や品質の管理が複雑になったりする等の課題を有する。それに反し、本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸とし、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ（ｎｘ、ｎｙが異なる場合、最も小さい屈折率をｎｘとする）、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜であり、未延伸の状態（未延伸膜）で膜の厚み方向の屈折率が小さくなるという特異な挙動を示すことを見出している。
【００７９】
本発明の光学補償膜は、環状炭化水素系化合物を添加することにより下記一般式（５）で示されるＲｔｈ（面外位相差量）が、無添加の場合と比して、好ましくは１．２倍以上、さらに好ましくは１．５倍以上に上昇させることができる。
【００８０】
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ （５）
（ここで、ｄは光学補償膜の膜厚（ｎｍ）を示す。）
このようにこれらの環状炭化水素系化合物は、比較的少量の使用量で光学補償膜のＲｔｈを上昇させることができ、添加量に応じてＲｔｈの上昇幅を調整することができる。また比較的マレイミド系樹脂との相溶性がよいため、膜の表面に析出（ブリードアウト）しにくい。従って、このような環状炭化水素系化合物を用いることで、ブリードアウトの問題を生じることなく、光学補償膜のＲｔｈを未延伸のまま（塗工のみで）、任意の値に調整した膜を得ることができる。
【００８１】
本発明の光学補償膜のＲｔｈは、該マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜の厚み、及びマレイミド系樹脂と環状炭化水素系化合物の配合比を変えることにより、容易に制御することが可能であり、位相差フィルムとしての適応が期待できる光学補償膜となることから、Ｒｔｈが５０〜２０００ｎｍの範囲にあることが好ましく、さらに液晶表示素子の視野角改善効果に優れたものとなることから６０〜１０００ｎｍの範囲にあることが好ましく、特に７０〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００８２】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に色ずれの小さい液晶表示素子となることから位相差量の波長依存性が小さいものであることが好ましく、塗工膜を４０度傾斜させ測定波長４５０ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ４５０）と測定波長５８９ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ５８９）の比で示される位相差量の波長依存性（Ｒ４５０／Ｒ５８９）が１．１以下であることが好ましく、特に１．０８以下であることが好ましい。
【００８３】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に画質の特性が良好なものとなることから、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１（１９９７年版）を準拠し測定した光線透過率が８５％以上であることが好ましく、特に９０％以上であることが好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００年版）を準拠し測定したヘーズ（曇り度）が２％以下であることが好ましく、特に１％以下であることが好ましい。
【００８４】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際の品質の安定性から耐熱性が高いものであることが好ましく、用いるマレイミド系樹脂のガラス転移温度が１００℃以上であるものが好ましく、さらに１２０℃以上であるものが好ましく、特に１３５℃以上であるものが好ましい。
【００８５】
また、本発明の光学補償膜は熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていても良い。該酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤１００重量部に対してリン系酸化防止剤を１００〜５００重量部混合して使用することが特に好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂１００重量部に対して０．０１〜１０重量部が好ましく、特に０．５〜１重量部が好ましい。
【００８６】
本発明の光学補償膜は、発明の主旨を越えない範囲で、その他ポリマー、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されたものであってもよい。
【００８７】
本発明の光学補償膜は、偏光板と積層して用いることもできる。また、光学補償膜として、本発明の光学補償膜に、さらにセルロース系樹脂製フィルム等のフィルムとの積層体であっても良い。
【００８８】
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子の視野角改良フィルムや色補償フィルムなどの液晶表示素子用光学補償膜として用いることができる。
【発明の効果】
【００８９】
本発明の光学補償膜は、塗工するだけで光学補償機能を発現するマレイミド系樹脂と環状炭化水素系化合物からなるものであり、Ｒｔｈ（面外位相差量）を上昇させることにより薄膜の光学補償膜が期待され、その光学補償機能の制御も容易であることから液晶表示素子、特にＶＡ−モードの液晶テレビのコントラストや視角特性の改良に有効な光学補償膜として有用なものである。
【実施例】
【００９０】
以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。
【００９１】
〜数平均分子量（Ｍｎ）の測定〜
ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製、商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）を用い、ジメチルホルムアミドを溶剤とし標準ポリスチレン換算値として求めた。
【００９２】
〜ガラス転移温度の測定〜
示差走査型熱量計（セイコー電子工業（株）製、商品名ＤＳＣ２０００）を用い、１０℃／ｍｉｎ．の昇温速度にて測定した。
【００９３】
〜光線透過率の測定〜
透明性の一評価として、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１（１９９７年版）に準拠して光線透過率の測定を行った。
【００９４】
〜ヘーズの測定〜
透明性の一評価として、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００年版）に準拠してヘーズの測定を行った。
【００９５】
〜屈折率の測定〜
ＪＩＳ Ｋ ７１４２（１９８１年版）に準拠してアッベ屈折率計（アタゴ製）を用いて測定した。
【００９６】
〜３次元屈折率の計算〜
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器（株）製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて仰角を変えて測定波長５８９ｎｍの光で３次元屈折率を測定した。さらに、３次元屈折率よりＲｔｈ（面外位相差量）および下記式（６）で示されるＲｅ（面内位相差量）を算出した。
【００９７】
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （６）
（ここで、ｄは光学補償膜の膜厚（ｎｍ）を示す。）
〜位相差量の波長依存性の測定〜
位相差量の波長依存性（Ｒ４５０／Ｒ５８９）は、塗工膜を４０度傾斜させ測定波長４５０ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ４５０）と測定波長５８９ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ５８９）の比で示した。
【００９８】
〜クロスカット法１００マス試験評価〜
ＪＩＳ Ｋ ５４００（１９９９年版）に準拠して規定のカット間隔で塗工膜に対して１００個の格子状パターンを切り込みを入れて、剥がれ具体を判定した。このとき、判定は１００個の格子状パターンにおける良好な個数により判定した。また、粘着テープを格子状パターンの上に貼り引き剥がすことで剥がれ具合を観察した。この時の判定も同じく１００個の格子状パターンにおける良好な個数により判定した。
【００９９】
合成例１（Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂の製造例）
ガラス封管中に、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド３２．４ｇ、重合開始剤としてジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート０．０５４ｇを仕込み、窒素置換後、重合温度６０℃、重合時間５時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥し２０ｇのＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は１２００００であった。また、ガラス転移温度（以下、Ｔｇと称する）は１８５℃であった。
【０１００】
合成例２（Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の製造例）
ガラス封管中に、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド４０ｇ、重合開始剤として、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート０．０５ｇを仕込み、窒素置換後、重合温度６０℃、重合時間５時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥し３２ｇのＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は１６００００であった。また、Ｔｇは１４８℃であった。
【０１０１】
比較例１
合成例１で得られたＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂を５０重量部のトルエンと５０重量部のメチルエチルケトンからなる混合溶剤に溶解し、１３％溶液とし、コーターによりガラス基板に塗工し、室温で４８時間乾燥して幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。 得られた塗工膜は、光線透過率９１．１％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７４２、ｎｙ＝１．５１７４２、ｎｚ＝１．５１４２２であり、Ｒｔｈ＝４８．０ｍ、Ｒｅ＝０．０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１０２】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１０３】
実施例１
比較例１と同様の方法で作成した溶液に、さらにＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂１００重量部に対し、環状炭化水素系化合物として２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジン（一般式（２）の化合物）を１重量部添加した後、比較例１と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１０４】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．０％、ヘーズ０．７％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１８４３、ｎｙ＝１．５１８４２、ｎｚ＝１．５１２２６（ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝９２．５ｍ、Ｒｅ＝０．１ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１０５】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１０６】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１０７】
実施例２
２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジンの添加量を３重量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１０８】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．０％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１８４８、ｎｙ＝１．５１８４８、ｎｚ＝１．５１０２８（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝１２３．０ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。
【０１０９】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１１０】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１１１】
実施例３
環状炭化水素系化合物を６−（ジブチルアミノ）−２，４−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン（一般式（３）の化合物）に変更した以外は、実施例１と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１１２】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．２％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１８２８、ｎｙ＝１．５１８２７、ｎｚ＝１．５１１８７（ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝９６．１ｍ、Ｒｅ＝０．２ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１１３】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１１４】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１１５】
実施例４
６−（ジブチルアミノ）−２，４−ジメルカプト−１，３，５−トリアジンの添加量を３重量部に変更した以外は、実施例３と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１１６】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．１％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１８１６、ｎｙ＝１．５１８１６、ｎｚ＝１．５１０９０（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝１０８．９ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１１７】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１１８】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１１９】
比較例２
合成例２で得られたＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂を３０重量部のトルエンと７０重量部のメチルエチルケトンからなる混合溶剤に溶解し、１５％溶液とし、コーターによりガラス基板に塗工し、室温窒素気流下で２４時間乾燥して幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１２０】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．８％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１５６６、ｎｙ＝１．５１５６５、ｎｚ＝１．５１３４２であり、Ｒｔｈ＝３３．５ｍ、Ｒｅ＝０．２ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。
【０１２１】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１２２】
実施例５
比較例２と同様の方法で作成した溶液に、さらにＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂１００重量部に対し、環状炭化水素系化合物として２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン（一般式（３）の化合物）を１重量部添加した後、比較例２と同様の方法で幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１２３】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．８％、ヘーズ０．５％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７２１、ｎｙ＝１．５１７２１、ｎｚ＝１．５１３４２（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝５６．８ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０７であった。
【０１２４】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例２に示したＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１２５】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１２６】
実施例６
２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジンの添加量を３重量部に変更した以外は、実施例５と同様の方法で幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１２７】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．７％、ヘーズ０．６％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７３５、ｎｙ＝１．５１７３４、ｎｚ＝１．５１３２９（ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝６０．８ｍ、Ｒｅ＝０．２ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０６であった。
【０１２８】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例２に示したＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１２９】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１３０】
実施例７
環状炭化水素系化合物をＮ，Ｎ´，Ｎ´´−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミン（一般式（４）の化合物）に変更した以外は、実施例５と同様の方法で幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１３１】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．８％、ヘーズ０．７％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７２９、ｎｙ＝１．５１７２９、ｎｚ＝１．５１１５２（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝８６．６ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０７であった。
【０１３２】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例２に示したＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１３３】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１３４】
実施例８
Ｎ，Ｎ´，Ｎ´´−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミンの添加量を３重量部に変更した以外は、実施例７と同様の方法で幅２０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１３５】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．７％、ヘーズ０．８％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７８０、ｎｙ＝１．５１７８０、ｎｚ＝１．５１１９８（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）であり、Ｒｔｈ＝８７．３ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０７であった。
【０１３６】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例２に示したＮ−ｎ−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってＲｔｈが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。
【０１３７】
クロスカット法１００マス試験におけるカット評価では、１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも１００個の格子パターン中１００個が良好な密着を示した。
【０１３８】
比較例３
比較例１と同様の方法で作成した溶液に、さらにＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂１００重量部に対し、環状炭化水素系化合物でなくかつ一般式（２）、（３）、（４）のいずれにも属さないトリ（２−エチルヘキシル）ホスフェートを３重量部添加した後、比較例１と同様の方法で幅５０ｍｍ、厚み１５μｍ（塗工膜のみの厚み）の塗工膜フィルム（塗工膜＋ガラス基板）を得た。
【０１３９】
得られた塗工膜は、光線透過率９１．９％、ヘーズ０．５％であり、３次元屈折率はｎｘ＝１．５１７４２、ｎｙ＝１．５１７４１、ｎｚ＝１．５１４９１であり、Ｒｔｈ＝３７．６ｍ、Ｒｅ＝０ｎｍであった。さらに位相差量の波長依存性を示すＲ４５０／Ｒ５８９は１．０５であった。
【０１４０】
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例１に示したＮ−ｎ−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ傾向が小さくなっており、環状炭化水素系化合物でない化合物を用いたことによってＲｔｈが減少していることが分かる。よって、このような環状炭化水素系化合物でなくかつ一般式（２）、（３）、（４）のいずれにも属さない化合物では、マレイミド系樹脂フィルムのＲｔｈを上昇させる効果はないといえる。
【０１４１】
以上の光学特性の評価結果を、表１に示す。
【０１４２】
【表１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜。
【請求項２】
下記一般式（１）で示されるＮ−置換マレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載の光学補償膜。
【化１】
（ここで、Ｒ１は、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基，炭素数１〜１８の分岐状アルキル基，炭素数１〜１８の環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基を表す。）
【請求項３】
環状炭化水素系化合物が、下記一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）でそれぞれ示される化合物から選ばれることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光学補償膜。
【化２】
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアミノ基、メルカプト基、スルホン酸基、アルコキシ基、アルデヒド基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環を表し、それぞれが同一のものであっても、異なるものであってもよい。）
【化３】
（式中Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６はそれぞれ、単結合またはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族環、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−、を表し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環を表す。）
【化４】
（式中Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９はそれぞれ、単結合またはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族環、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−を表し、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環を表す。）
【請求項４】
測定波長５８９ｎｍの光で測定した際の下記式（５）で示されるＲｔｈ（面外位相差量）が５０〜２０００ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学補償膜。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ （５）
（ここで、ｄは光学補償膜の膜厚（ｎｍ）を示す。）
【請求項５】
塗工膜を４０度傾斜させ測定波長４５０ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ４５０）と測定波長５８９ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ５８９）の比で示される位相差量の波長依存性（Ｒ４５０／Ｒ５８９）が、１．１以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学補償膜。
【請求項６】
塗工膜が未延伸膜であることを特徴する請求項１〜５のいずれかに記載の光学補償膜。
【請求項７】
液晶表示素子用光学補償膜であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学補償膜。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の光学補償膜とセルロース系樹脂製フィルムとの積層体であることを特徴とする光学補償膜。
【請求項９】
基材上にマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる溶液を、塗工し、乾燥することを特徴とする光学補償膜の製造方法。
【請求項１０】
マレイミド系樹脂溶液が、上記一般式（１）で示されるマレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂の溶液であることを特徴とする請求項９に記載の光学補償膜の製造方法。
【請求項１】
マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の２軸をｘ軸、ｙ軸、面外方向をｚ軸とし、ｘ軸方向の屈折率をｎｘ、ｙ軸方向の屈折率をｎｙ、ｚ軸方向の屈折率をｎｚとした際の３次元屈折率関係がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする光学補償膜。
【請求項２】
下記一般式（１）で示されるＮ−置換マレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載の光学補償膜。
【化１】
（ここで、Ｒ１は、炭素数１〜１８の直鎖状アルキル基，炭素数１〜１８の分岐状アルキル基，炭素数１〜１８の環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基を表す。）
【請求項３】
環状炭化水素系化合物が、下記一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）でそれぞれ示される化合物から選ばれることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光学補償膜。
【化２】
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアミノ基、メルカプト基、スルホン酸基、アルコキシ基、アルデヒド基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環を表し、それぞれが同一のものであっても、異なるものであってもよい。）
【化３】
（式中Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６はそれぞれ、単結合またはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族環、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−、を表し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環を表す。）
【化４】
（式中Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９はそれぞれ、単結合またはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族環、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−を表し、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環を表す。）
【請求項４】
測定波長５８９ｎｍの光で測定した際の下記式（５）で示されるＲｔｈ（面外位相差量）が５０〜２０００ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学補償膜。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ （５）
（ここで、ｄは光学補償膜の膜厚（ｎｍ）を示す。）
【請求項５】
塗工膜を４０度傾斜させ測定波長４５０ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ４５０）と測定波長５８９ｎｍの光で測定した位相差量（Ｒ５８９）の比で示される位相差量の波長依存性（Ｒ４５０／Ｒ５８９）が、１．１以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学補償膜。
【請求項６】
塗工膜が未延伸膜であることを特徴する請求項１〜５のいずれかに記載の光学補償膜。
【請求項７】
液晶表示素子用光学補償膜であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学補償膜。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の光学補償膜とセルロース系樹脂製フィルムとの積層体であることを特徴とする光学補償膜。
【請求項９】
基材上にマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる溶液を、塗工し、乾燥することを特徴とする光学補償膜の製造方法。
【請求項１０】
マレイミド系樹脂溶液が、上記一般式（１）で示されるマレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂の溶液であることを特徴とする請求項９に記載の光学補償膜の製造方法。
【公開番号】特開２０１１−５３５９４（Ｐ２０１１−５３５９４Ａ）
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２０４５２９（Ｐ２００９−２０４５２９）
【出願日】平成２１年９月４日（２００９．９．４）
【出願人】（０００００３３００）東ソー株式会社 (1,901)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月４日（２００９．９．４）
【出願人】（０００００３３００）東ソー株式会社 (1,901)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]