入力装置及びキャリブレーション方法
【課題】 特に、キャリブレーションのための入力操作を簡単にできるとともに、キャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティ性に優れた操作応答性を得ることが可能な入力装置及びキャリブレーション方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の入力装置は、入力領域３３に位置する基材表面に第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂを有し、第１分割抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層３８ａ，３８ｂが形成される第１基板と、第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層３６ａ，３６ｂを有し、第２抵抗層のＹ方向の両側に第２電極層３７ａ，３７ｂが形成される第２基板と、入力領域３３の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて各分割抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことが可能な制御部と、を有する。
【解決手段】 本発明の入力装置は、入力領域３３に位置する基材表面に第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂを有し、第１分割抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層３８ａ，３８ｂが形成される第１基板と、第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層３６ａ，３６ｂを有し、第２抵抗層のＹ方向の両側に第２電極層３７ａ，３７ｂが形成される第２基板と、入力領域３３の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて各分割抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことが可能な制御部と、を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入力領域上の操作位置を検出することが可能な入力装置のキャリブレーションに関する。
【背景技術】
【０００２】
以下の特許文献１〜５には、入力装置（タッチパネル）のキャリブレーション方法が記載されている。
【０００３】
これら特許文献には、例えば入力領域の４隅を指やスタイラス等で押圧して入力し、その際に得られた電圧値を制御部（ＩＣ）で記録し、前記電圧値に基づいて抵抗層の面内の電位分布を補正するキャリブレーション方法が開示されている。
【０００４】
しかしながら、上記したキャリブレーション方法では以下の問題点があった。すなわち、従来のキャリブレーション方法では、入力領域に複数の入力ポイントが必要であるため入力ミスが生じやすく、キャリブレーションを精度良く行えないことがあった。
【０００５】
また、特許文献６には、マルチタッチ入力が可能な抵抗式の入力装置の構造が開示されている。特許文献６の図１等に示されているように、基板表面に形成される抵抗層は分割して形成されている。このようなマルチタッチ入力が可能な入力装置に対して、特許文献１〜５に示したようなキャリブレーションを実行しようとすると各分割抵抗層の四隅に対して入力ポイントが発生するため、入力ポイント数が増大し、操作者に対する負担が大きくなった。例えば、相対向する基板の各抵抗層がいずれも２つに分割された入力装置では、必要な入力ポイント数が１２になり、入力ポイント数が大幅に増大する。このように、入力ポイント数が増えることで、入力ミスもさらに生じやすくなり、益々、キャリブレーション精度が低下し、この結果、操作応答性に対するリニアリティ（直線性）が低下しやすくなった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３６２５１９号公報
【特許文献２】特開２００４−５４４１３号公報
【特許文献３】特開平６−３５６０８号公報
【特許文献４】特開２００１−９２５９６号公報
【特許文献５】特開２００８−２７６３１０号公報
【特許文献６】特開２０１０−２６６４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、キャリブレーションのための入力操作を簡単にできるとともに、キャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティ性に優れた操作応答性を得ることが可能な入力装置及びキャリブレーション方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明における入力装置は、
入力領域に位置する基材表面に第１抵抗層を有し、前記第１抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層が形成される第１基板と、前記第１基板と対向して配置され、前記第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層を有し、前記第２抵抗層の前記Ｘ方向に対し直交するＹ方向の両側に第２電極層が形成される第２基板と、前記入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことが可能な制御部と、を有することを特徴とするものである。
【０００９】
また本発明は、入力領域に位置する基材表面に第１抵抗層を有し、前記第１抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層が形成される第１基板と、前記第１基板と対向して配置され、前記第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層を有し、前記第２抵抗層の前記Ｘ方向に対し直交するＹ方向の両側に第２電極層が形成される第２基板と、を有する入力装置のキャリブレーション方法において、
前記入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことを特徴とするものである。
【００１０】
これにより、キャリブレーションのための入力操作を簡単にでき、操作者に対する負担を軽減でき、またキャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００１１】
本発明では、前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の少なくとも一方は、分割されて複数の分割抵抗層を構成しており、前記制御部では、各分割抵抗層に対して前記キャリブレーションを行うことが好ましい。
【００１２】
このように抵抗層が分割されている場合、従来のように抵抗層の例えば四隅を押圧してキャリブレーションを行う方法であると各分割抵抗層に対して四隅を入力することが必要であるため入力ポイント数が非常に増えてしまい、操作者に対する負担が大きくなる。しかも、操作応答性に対するリニアリティを向上させるために各入力ポイントを全て正確に押圧することが必要であり、したがって入力ポイント数が増えばそれだけ入力ミスが発生しやすくなり、リニアリティが低下しやすくなった。これに対して本発明では、入力領域の周縁部に沿って入力操作すればキャリブレーションを行うことが出来るため、抵抗層が分割されている形態では特に、従来に比べて、操作者への負担を軽減できるとともに、キャリブレーション精度を向上させることができ、従来に比べて効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００１３】
また本発明では、前記第１抵抗層は分割されて複数の第１分割抵抗層を構成しており、前記第２抵抗層は分割されて複数の第２分割抵抗層を構成しており、前記入力領域は各第１分割抵抗層間に形成された境界部と、各第２抵抗層間に形成された境界部とにより複数の分割入力領域に画定されており、
各分割入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる各電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて、各分割入力領域に対する前記キャリブレーションを行うことが好ましい。
【００１４】
このとき、複数の凸部を有する治具が設けられ、前記治具を前記入力領域上で移動させて、各凸部により各分割入力領域の周縁部を全て入力操作することが好適である。これにより各分割入力領域に対して、きめ細かいキャリブレーションを行うことができ、各分割入力領域を合わせた入力領域の全面にて、より効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００１５】
また本発明では、前記入力領域の前記周縁部に沿って穴が形成されたテンプレートが設けられていることが好ましい。本発明では、前記テンプレートの前記穴を、前記入力領域上に重ね合わせ、前記穴から露出する前記入力領域の周縁部に沿って入力操作することができる。
【００１６】
これにより、より簡単且つ正確に入力領域の周縁部に沿って入力操作を行うことができ、操作者への負担を軽減できるとともにキャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の入力装置及びキャリブレーション方法によれば、キャリブレーションのための入力操作を簡単にでき、操作者に対する負担を軽減でき、またキャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は本発明の実施形態における入力装置（タッチパネル）の部分縦断面図、
【図２】図２は、入力装置の検知動作を示す説明図、
【図３】図３（ａ−１）は、第１実施形態の入力装置の平面図、図３（ａ−２）は、第１実施形態の入力装置に配置される第１基板の平面図、図３（ａ−３）は、第１実施形態の入力装置に配置される第２基板の裏面図、図３（ａ−４）（ａ−５）は、キャリブレーションのための入力操作により得られた電圧プロファイルの模式図、
【図４】第１実施形態に対するキャリブレーション入力操作用の治具及び入力装置の斜視図、
【図５】図４に示す治具を用いて操作した際に各スタイラスによる入力状態を説明するための入力装置の平面図、
【図６】本実施形態における入力装置の制御部を説明するためのブロック図、
【図７】図７（ａ−１）は、第２実施形態の入力装置の平面図、図７（ａ−２）は、第２実施形態の入力装置に配置される第１基板の平面図、図７（ａ−３）は、第２実施形態の入力装置に配置される第２基板の裏面図、図７（ａ−４）（ａ−５）は、キャリブレーションのための入力操作により得られた電圧プロファイルの模式図、
【図８】図８は、第２実施形態に対するキャリブレーション入力操作用の治具及び入力装置の斜視図、
【図９】図８に示す治具を用いて操作した際に各スタイラスによる入力状態を説明するための入力装置の平面図、
【図１０】キャリブレーション入力操作用のテンプレートを入力装置の表面に重ねた状態を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１は本発明の実施形態における入力装置（タッチパネル）の部分縦断面図、図２は、入力装置の検知動作を示す説明図、図３（ａ−１）は、第１実施形態の入力装置の平面図、図３（ａ−２）は、第１実施形態の入力装置に配置される第１基板の平面図、図３（ａ−３）は、第１実施形態の入力装置に配置される第２基板の裏面図、図３（ａ−４）（ａ−５）は、キャリブレーションのための入力操作により得られた電圧プロファイルの模式図、図４は、第１実施形態に対するキャリブレーション入力操作用の治具及び入力装置の斜視図、図５は図４に示す操作体を用いて操作した際に各スタイラスによる入力状態を説明するための入力装置の平面図、図６は本実施形態における入力装置の制御部を説明するためのブロック図、図７（ａ−１）は、第２実施形態の入力装置の平面図、図７（ａ−２）は、第２実施形態の入力装置に配置される第１基板の平面図、図７（ａ−３）は、第２実施形態の入力装置に配置される第２基板の裏面図、図７（ａ−４）（ａ−５）は、キャリブレーションのための入力操作により得られた電圧プロファイルの模式図、図８は、第２実施形態に対するキャリブレーション入力操作用の治具及び入力装置の斜視図、図９は、図８に示す操作体を用いて操作した際に各スタイラスによる入力状態を説明するための入力装置の平面図、図１０は、キャリブレーション入力操作用のテンプレートを入力装置の表面に重ねた状態を示す平面図、である。
【００２０】
各図において平面内にて直交する２方向のうち、一方を横方向（Ｘ１−Ｘ２）とし、他方を縦方向（Ｙ１−Ｙ２）と定義する。
【００２１】
本実施形態における入力装置２０は、マルチタッチ入力が可能な抵抗式の入力装置を構成する。図１に示すように入力装置２０は、第１基板２２、第２基板２１、及び表面部材６０とを有して構成される。
【００２２】
第１基板２２は、透光性基材３０と、透光性基材３０の上面（第２基板２１と対向する内面）に形成された透光性の第１抵抗層３１と、第１抵抗層３１に電気的に接続される第１電極層（図１では図示しない）とを有して構成される。
【００２３】
図３（ａ−２）に示す第１実施形態では、第１抵抗層３１が分割されて２つの第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂを構成する。図３（ａ−２）に示すように、各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂは、所定の間隔を空けて縦方向（Ｙ１−Ｙ２）に並設される。各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂは、同じ形状で形成され同じ抵抗値となっている。
【００２４】
図３（ａ−２）に示すように、各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂの横方向（Ｘ１−Ｘ２）の両側には、夫々、第１電極層３８ａ，３８ｂが電気的に接続される。各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂは夫々、指やスタイラス等の操作体で操作可能な入力領域３３に配置される。一方、第１電極層３８ａ，３８ｂは、入力領域３３の周囲に設けられた非入力領域３４に形成される。入力領域３３は図１に示す液晶ディスプレイ５４と高さ方向（Ｚ）にて対向する部分に設けられる。
【００２５】
次に、図１に示すように、第１基板２２と高さ方向（Ｚ）にて所定間隔を空けて対向する第２基板２１は、透光性基材３５と、透光性基材３５の下面（第１基板２２と対向する内面）に形成された透光性の第２抵抗層３６と、第２抵抗層３６に電気的に接続される第２電極層（図１では図示しない）とを有して構成される。
【００２６】
図３（ａ−３）に示す第１実施形態では、第２抵抗層３６が分割されて２つの第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂを構成する。図３（ａ−３）に示すように、各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂは、所定の間隔を空けて横方向（Ｘ１−Ｘ２）に並設される。各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂは、同じ形状で形成され同じ抵抗値となっている。
【００２７】
図３（ａ−３）に示すように、各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂの縦方向（Ｙ１−Ｙ２）の両側には、夫々、第２電極層３７ａ，３７ｂが電気的に接続される。各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂは夫々、指やスタイラス等の操作体で操作可能な入力領域３３に配置される。一方、第２電極層３７ａ，３７ｂは、入力領域３３の周囲に設けられた非入力領域３４に形成される。
【００２８】
透光性基材３０，３５はポリカーボネート樹脂（ＰＣ樹脂）やポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ樹脂）、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ樹脂）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ樹脂）、ポリメタクリル酸メチル樹脂（アクリル）（ＰＭＭＡ）等の透明基材で形成され、厚みが５０μｍ〜１３００μｍ程度で形成される。下側の透光性基材３０は上側の透光性基材３５より厚くまた剛性が高いことが好適である。例えば下側の透光性基材３０は、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ樹脂）等のプラスチック基材で形成され、上側の透光性基材３５よりも厚く形成されることが好ましい。一方、上側の透光性基材３５は可撓性を確保すべくフィルム等で形成されることが好適である。
【００２９】
第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＳｎＯ2，ＺｎＯ等の無機透明導電材料を、スパッタや蒸着等で成膜して形成される。又は、これらの無機透明導電材料の微粉末を固着したものでもよい。あるいは、有機透明導電材料として、カーボンナノチューブやポリチオフィン、ポリピロール等の有機導電性ポリマーをコーティングしたものでもよい。各抵抗層３１，３６の厚さは、０．０５μｍ〜２μｍ程度である。
【００３０】
また、第１電極層３８ａ，３８ｂ及び第２配線層３７ａ，３７ｂは例えばＡｇ塗膜を印刷形成したものである。各電極層には各抵抗層３１，３６よりも抵抗値の低い導電材料が使用される。
【００３１】
図１に示す入力装置２０はマルチタッチ入力が可能な抵抗式のタッチパネルの構造であり、入力操作可能な入力領域３３が設けられる。図１に示すように入力領域３３では、第１基板２２と第２基板２１との間に空気層３９が設けられている。また図示しないが空気層３９内には多数のドットスペーサが設けられている。
【００３２】
なお第１基板２２と第２基板２１の間には入力領域３３の周囲の非入力領域３４にスペーサが設けられ、第１基板２２と第２基板２１との間が接合されている。
【００３３】
図２にて本実施形態における入力装置の検知動作を説明する。図２に示す第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６は図３と同様に夫々、２つの分割抵抗層で構成されている。
【００３４】
操作者が指やスタイラスで入力領域３３を下方向へ押圧すると、第２基板２１が下方向へ撓み、抵抗層３１，３６が当接する。このとき、図２のＰ点で、第１分割抵抗層３１ｂと第２分割抵抗層３６ｂ同士が接触すると、第１分割抵抗層３１ｂをＸ方向に分割した抵抗値に対応する電圧が第２分割抵抗層３６ｂの縦方向（Ｙ１−Ｙ２）の両側に接続された第２電極層３７ｂ，３７ｂから得られ、また、第２分割抵抗層３６ｂをＹ１−Ｙ２方向に分割した抵抗値に対応する電圧が第１電極層３８ｂ，３８ｂから得られる。そして得られた各電圧をＡ／Ｄ変換することにより、Ｐ点のＸ−Ｙ座標上の位置を検知できる。
【００３５】
また本実施形態では図１に示すように、第２基板２１の上面側には、操作面（入力領域３３の表面）を備える透光性の表面部材６０が設けられる。また表面部材６０の下面には非入力領域３４（例えば図３参照）の部分に加飾部が形成される。そして、表面部材６０と第２基板２１との間が透光性の粘着層６１を介して接合されている。
【００３６】
また図１に示す実施形態では、第１基板２２の下面には粘着層５２を介して光透過性の支持部材５３が接合されている。粘着層５２，６１には、例えば、アクリル樹脂系粘着テープを用いることが出来る。支持部材５３は、透明な樹脂板であり、アクリル系のプラスチック基材で形成されることが好適である。なお支持部材５３の形成は任意である。
【００３７】
図３（ａ−２）に示したように第１実施形態の入力装置２０では、第１抵抗層３１は分割されて２つの第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂを構成しており、各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂ間には第１の境界部４０が設けられている。
【００３８】
また図３（ａ−３）に示したように第１実施形態の入力装置２０では、第２抵抗層３６は分割されて２つの第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂを構成しており、各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂ間には第２の境界部４１が設けられている。
【００３９】
このため、表面部材６０側から見ると、図３（ａ−１）に示すように入力領域３３は第１の境界部４０及び第２の境界部４１により４つの分割入力領域３３ａ〜３３ｄに画定される。
【００４０】
図３（ａ−２）（ａ−３）に示す各分割抵抗層３１ａ，３１ｂ，３６ａ，３６ｂの面内の電位分布を補正するためのキャリブレーションについて説明する。
【００４１】
図６に示すように本実施形態の入力装置２０には、各電極層３８ａ，３８ｂ，３７ａ，３７ｂに電気的に接続された制御部（ＩＣ）４２が設けられている。制御部４２は例えば入力装置２０の側部に接続されるフレキシブルプリント基板に設けられる。図６に示すように、前記制御部４２は、キャリブレーション部４３及び位置検出部４４を有して構成される。
【００４２】
本実施形態では初期設定（キャリブレーション）として、操作者は、スタイラス等を使用して、図３（ａ−１）に示す入力領域３３の周縁部（１）〜（８）に沿って入力操作を行う。図３（ａ−１）には、矢印で示す初期入力軌道Ａを、入力領域３３の周縁部（１）〜（８）よりもやや内側に図示したが、これは、周縁部（１）〜（８）の位置と、初期入力軌道Ａとを図面上見やすくするためであり、入力領域３３の周縁部（１）〜（８）上に沿って入力操作を行うことが好適である。ただし、周縁部（１）〜（８）付近が、実際の入力操作に使用されない不感領域とみなすような場合には、図３（ａ−１）に示すように初期入力軌道Ａが多少、周縁部（１）〜（８）の内側であってもよい。よって本実施形態において、「入力領域の周縁部に沿う入力操作」とは周縁部上のみならず、周縁部よりも多少内側の位置も含まれる。
【００４３】
図３（ａ−２）（ａ−３）に示す第１電極層３８ａ，３８ｂ及び第２電極層３７ａ，３７ｂに交互に所定の電圧を印加して、各分割抵抗層３１ａ，３１ｂ，３６ａ，３６ｂ内に交互に電圧勾配を形成する。そして、操作者が、図３（ａ−１）に示す初期入力軌道Ａの入力操作を行うと、図２で説明した原理により第２電極層３７ａ，３７ｂからは図３（ａ−４）に示す電圧プロファイルＶｘを得ることが出来、第１電極層３８ａ，３８ｂからは図３（ａ−５）に示す電圧プロファイルＶｙを得ることが出来る。
【００４４】
図３（ａ−４）に示すように、入力領域３３の周縁部（３）と周縁部（４）との間、及び、入力領域３３の周縁部（７）と周縁部（８）との間では電圧プロファイルＶｘが途切れているが、これは初期入力軌道Ａが、第１抵抗層３１が形成されていない第１の境界部４０上を通過しているためである。
【００４５】
また図３（ａ−５）に示すように、入力領域３３の周縁部（１）と周縁部（２）との間、及び、入力領域３３の周縁部（５）と周縁部（６）との間では電圧プロファイルＶｙが途切れているが、これは初期入力軌道Ａが、第２抵抗層３６が形成されていない第２の境界部４１上を通過しているためである。
【００４６】
図６に示すように、複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙが制御部４２に送られる。制御部４２におけるキャリブレーション部４３では、複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを用いて、第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂ及び第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂの面内の電位分布に対するキャリブレーションを行う。
【００４７】
キャリブレーション部４３では、第１分割抵抗層３１ａのＸ１端部での電圧及びＸ２側部での電圧として、電圧プロファイルＶｘの周縁部（３）及び周縁部（８）の出力を用いる。周縁部（３）の出力は、電圧プロファイルＶｘを見てわかるように、周縁部（２）の最大出力から変曲点Ｂを介してほぼ一定となる。また、周縁部（３）の出力と周縁部（４）の出力との間に非出力領域（欠損部）Ｃがある。よって制御部４２では、電圧プロファイルＶｘの変化を検出することで、周縁部（３）の出力を適切に認識することが出来る。同様の理由により、電圧プロファイルＶｘや電圧プロファイルＶｙの各周縁部の出力を適切に得ることが出来る。
【００４８】
また、キャリブレーション部４３では、第１分割抵抗層３１ｂのＸ１側端部での電圧及びＸ２側端部での電圧として、電圧プロファイルＶｘの周縁部（４）及び周縁部（７）の出力を用いる。
【００４９】
そして、キャリブレーション部４３では、各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂにおける面内のＸ１側端部からＸ２側端部にかけて同じ電位分布となるように、上記した電圧プロファイルＶｘの周縁部（３）（４）（７）（８）の出力を用いて補正する。
【００５０】
また、キャリブレーション部４３では、第２分割抵抗層３６ａのＹ１側端部での電圧及びＹ２側端部での電圧として、電圧プロファイルＶｙの周縁部（１）及び周縁部（６）の出力を用いる。また、キャリブレーション部４３では、第２分割抵抗層３６ｂのＹ１側端部での電圧及びＹ２側端部での電圧として、電圧プロファイルＶｙの周縁部（２）及び周縁部（５）の出力を用いる。そして、キャリブレーション部４３では、各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂにおける面内のＹ１側端部からＹ２側端部にかけて同じ電位分布となるように、上記した電圧プロファイルＶｙの周縁部（１）（２）（５）（６）の出力を用いて補正する。
【００５１】
上記したキャリブレーションにより得られたキャリブレーション補正値が制御部４２に記憶されている。そして、キャリブレーション終了後に、入力領域３３上を入力操作した際の位置検出時、制御部４２の位置検出部４４では前記キャリブレーション補正値を用いて入力位置を算出する。例えば、図３（ａ−１）に示すように、入力領域３３上を斜めに横断する入力操作Ｄを行ったとき、上記のキャリブレーションにより、第１電極層３８ａ，３８ｂ及び第２電極層３７ａ，３７ｂから夫々、得られる電圧変化を一直線上に得ることができる。すなわち図３（ａ−２）及び（ａ−３）に示すように入力操作Ｄは、第１分割抵抗層３１ａと第１分割抵抗層３１ｂ間、及び第２分割抵抗層３６ａと第２分割抵抗層３６ｂ間の境界部４０，４１を跨ぐが、境界部を介したリニアリティを適切に確保することが可能である。
【００５２】
以上により本実施形態によれば、マルチタッチ入力が可能な抵抗式の入力装置２０において、キャリブレーションための入力操作を簡単に行うことができ、操作者の負担を軽減することができるとともに、キャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００５３】
図４では、複数のスタイラス（凸部）４５〜４８が支持体４９の下面に支持されたキャリブレーション入力操作用の治具５０が用意されている。支持体４９には例えば透光性基材を用いる。スタイラス４５〜４８は全部で４本設けられており、すなわち分割入力領域３３ａ〜３３ｄと同じ数だけ設けられる。そして各スタイラス４５〜４８を入力装置２０の入力領域３３側に向けた状態にセットする。このとき、各スタイラス４５〜４８の先端４５ａ〜４８ａが、各分割入力領域３３ａ〜３３ｄの同じ角部に位置するように、すなわち、図４，図５に示すようにスタイラス４５の先端４５ａを例えば入力領域３３のうち分割入力領域３３ａの周縁部における角部Ｅに当接させたとき（図６では見やすいように、スタイラス４５の先端４５ａの位置を角部Ｅから少し離して図示した。他のスタイラス４６〜４８についても同様）、スタイラス４６の先端４６ａが分割入力領域３３ｂの周縁部における角部Ｆに当接し、スタイラス４７の先端４７ａが分割入力領域３３ｃの周縁部における角部Ｇに当接し、スタイラス４８の先端４８ａが分割入力領域３３ｄの周縁部における角部Ｈに当接するように、治具５０における各スタイラス４５〜４８の設置位置が規制されている。
【００５４】
そして、図４，図５の位置からスタイラス４６の先端４６ａが分割入力領域３３ｂの角部Ｉに位置するように治具５０をＸ１方向に移動させ、続いてスタイラス４７の先端４７ａが、分割入力領域３３ｃの角部Ｊに位置するように治具５０をＹ２方向に移動させ、続いて、スタイラス４８の先端４８ａが分割入力領域３３ｄの角部Ｋに位置するように治具５０をＸ２方向に移動させ、最後に、スタイラス４６の先端４６ａが分割入力領域３３ａの角部Ｅに位置するように治具５０をＹ１方向に移動させる。
【００５５】
上記のように治具５０を移動させることで、スタイラス４５により分割入力領域３３ａの周縁部を入力操作でき、スタイラス４６により分割入力領域３３ｂの周縁部を入力操作でき、スタイラス４７により分割入力領域３３ｂの周縁部を入力操作でき、スタイラス４８により分割入力領域３３ｂの周縁部を入力操作できる。
【００５６】
これにより、各分割入力領域３３ａ〜３３ｄに対して、夫々、電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを得ることができ、よって、各分割入力領域３３ａ〜３３ｄに対してきめ細かいキャリブレーションを行うことができ、各分割入力領域３３ａ〜３３ｄを合わせた入力領域３３の全面にて、より効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００５７】
図７（ａ−２）に示す第２実施形態では、第１抵抗層３１が分割されて３つの第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅを構成する。図７（ａ−２）に示すように、各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅは、所定の間隔を空けて縦方向（Ｙ１−Ｙ２）に並設される。各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅの間には第１の境界部４０が形成されている。各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅは、同じ形状で形成され同じ抵抗値となっている。
【００５８】
図７（ａ−２）に示すように、各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅの横方向（Ｘ１−Ｘ２）の両側には、夫々、第１電極層３８ｃ〜３８ｅが電気的に接続される。各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅは夫々、入力領域３３に配置される。一方、第１電極層３８ｃ〜３８ｅは、非入力領域３４に形成される。
【００５９】
図７（ａ−３）に示す第２実施形態では、第２抵抗層３６が分割されて３つの第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅを構成する。図７（ａ−３）に示すように、各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅは、所定の間隔を空けて横方向（Ｘ１−Ｘ２）に並設される。各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅの間には第２の境界部４１が形成されている。各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅは、同じ形状で形成され同じ抵抗値となっている。
【００６０】
図７（ａ−３）に示すように、各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅの縦方向（Ｙ１−Ｙ２）の両側には、夫々、第２電極層３７ｃ〜３７ｅが電気的に接続される。各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅは夫々、入力領域３３に配置される。一方、第２電極層３７ｃ〜３７ｅは、非入力領域３４に形成される。
【００６１】
第２実施形態では、図７（ａ−１）に示すように、入力領域３３が第１の境界部４０及び第２の境界部４１により９つの分割入力領域３３ｅ〜３３ｍに画定される。
【００６２】
図７に示す第２実施形態においても、図３の第１実施形態と同様に、初期設定（キャリブレーション）として、操作者が、図７（ａ−１）に示す入力領域３３の周縁部（１）〜（１２）に沿って入力操作を行う（図７（ａ−１）に初期入力軌道Ｎを示す）。
【００６３】
これにより、図７（ａ−４）及び図７（ａ−５）に示す複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを得ることが出来る。
【００６４】
図６に示すように、複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙが制御部４２に送られる。制御部４２のキャリブレーション部４３では、複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを用いて、第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅ及び第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅの面内の電位分布に対するキャリブレーションを行う。
【００６５】
キャリブレーション部４３では、第１分割抵抗層３１ｃに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｘの周縁部（４）及び周縁部（１２）の出力を用いて行う。また、第１分割抵抗層３１ｄに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｘの周縁部（５）及び周縁部（１１）の出力を用いて行う。また、第１分割抵抗層３１ｅに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｘの周縁部（６）及び周縁部（１０）の出力を用いて行う。各周縁部の出力は、電圧プロファイルＶｘにおける出力の変曲点や非出力領域（欠損部）の存在により適切に認識することが出来る。
【００６６】
また、キャリブレーション部４３では、第２分割抵抗層３６ｃに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｙの周縁部（１）及び周縁部（９）の出力を用いて行う。また、第２分割抵抗層３６ｄに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｙの周縁部（２）及び周縁部（８）の出力を用いて行う。また、第２分割抵抗層３６ｅに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｙの周縁部（３）及び周縁部（７）の出力を用いて行う。各周縁部の出力は、電圧プロファイルＶｙにおける出力の変曲点や非出力領域（欠損部）の存在により適切に認識することが出来る。
【００６７】
図７の第２実施形態では図３の第１実施形態に比べて分割抵抗層の数が多くなり、したがって分割入力領域３３ｅ〜３３ｋの数が増えている。従来のように入力領域の例えば四隅に位置する入力ポイントを押圧する方式であると、分割入力領域の数が増えるほど、入力ポイントの数が多くなり（図７（ａ）のように分割入力領域が３×３である場合、入力ポイントが２０個必要となる）、操作者に過度の負担を負わせるばかりか、入力ミスが生じてキャリブレーション精度が低下し、操作応答性に対するリニアリティを確保することが出来なかった。これに対して本実施形態では、図７（ａ−１）に示すように多数の分割入力領域３３ｅ〜３３ｍが存在しても、入力領域３３の周縁部（１）〜（１２）に沿って入力操作することでキャリブレーションを行うことが出来るため、操作者に過度の負担を負わせることなく簡単なキャリブレーションのための入力操作を実現できるとともにキャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることが可能になる。
【００６８】
図８では、複数のスタイラス（凸部）７０〜７８が支持体８０の下面に支持されたキャリブレーション入力操作用の治具８１が用意されている。スタイラス７０〜７９は全部で９本設けられており、すなわち分割入力領域３３ｅ〜３３ｋの数と同数である。各スタイラス７０〜７８を入力装置２０の入力領域３３側に向けた状態にセットする。図８，図９に示すように、各スタイラス７０〜７８の先端７０ａ〜７８ａが各分割入力領域３３ｅ〜３３ｋの同じ角部に位置するように、例えば、スタイラス７０の先端７０ａを入力領域３３のうち分割入力領域３３ｅの周縁部における角部Ｏに当接させたとき、スタイラス７１の先端７１ａが分割入力領域３３ｆの周縁部における角部Ｐに当接し、スタイラス７２の先端７２ａが分割入力領域３３ｇの周縁部における角部Ｑに当接し、スタイラス７３の先端７３ａが分割入力領域３３ｈの周縁部における角部Ｒに当接し、スタイラス７４の先端７４ａが分割入力領域３３ｉの周縁部における角部Ｓに当接し、スタイラス７５の先端７５ａが分割入力領域３３ｊの周縁部における角部Ｔに当接し、スタイラス７６の先端７６ａが分割入力領域３３ｋの周縁部における角部Ｕに当接し、スタイラス７７の先端７７ａが分割入力領域３３ｌの周縁部における角部Ｖに当接し、スタイラス７８の先端７８ａが分割入力領域３３ｍの周縁部における角部Ｗに当接するように、治具８１における各スタイラス７０〜７８の設置位置が規制されている。そして、図８，図９の位置からスタイラス７０の先端７０ａが分割入力領域３３ｅの角部Ｘに位置するように治具５０をＹ１方向に移動させ、続いてスタイラス７２の先端７２ａが、分割入力領域３３ｇの角部Ｙに位置するように治具５０をＸ１方向に移動させ、続いて、スタイラス７８の先端７８ａが分割入力領域３３ｍの角部Ｚに位置するように治具５０をＹ２方向に移動させ、最後に、スタイラス７６の先端７６ａが分割入力領域３３ｋの角部Ｕに位置するように治具５０をＸ２方向に移動させる。
【００６９】
上記のように治具８１を移動させることで、各スタイラス７０〜７８により各分割入力領域３３ｅ〜３３ｍの周縁部を入力操作できる。
【００７０】
これにより、各分割入力領域３３ｅ〜３３ｍに対して、夫々、電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを得ることができ、よって、各分割入力領域３３ｅ〜３３ｍに対してきめ細かいキャリブレーションを行うことができ、各分割入力領域３３ｅ〜３３ｍを合わせた入力領域３３の全面にて、より効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００７１】
図１０に示す実施形態では、入力領域３３の周縁部に沿って穴８５が形成されたキャリブレーション入力操作用のテンプレート８６が用意されている。そして、テンプレート８６の穴８５を、入力領域３３上に重ね合わせ、穴８５から露出する入力領域３３の周縁部３３ｒをスタイラス等の操作体８７により入力操作することで簡単且つ高精度にキャリブレーションを行うことができ、より効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。図４，図８に示す治具５０，８１とともに、図１０に示すテンプレート８６を用いることが好適である。
【００７２】
図３及び図７に示す実施形態では、第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６の双方が分割されていたが、第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６のどちらか一方のみが分割された構成であってもよい。また、第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６がどちらも分割されていない構成、すなわち第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６が共に１層ずつ設けられた形態であっても本実施形態を適用することが出来る。ただし本実施形態におけるキャリブレーションは、抵抗層が分割された形態に特に有効である。
【符号の説明】
【００７３】
２０ 入力装置
２１ 第２基板
２２ 第１基板
３０、３５ 透光性基材
３１ 第１抵抗層
３１ａ〜３１ｅ 第１分割抵抗層
３３ 入力領域
３３ａ〜３３ｍ 分割入力領域
３３ｒ 周縁部
３４ 非入力領域
３６ 第２抵抗層
３６ａ〜３６ｅ 第２分割抵抗層
３７ａ〜３７ｅ 第２電極層
３８ａ〜３８ｅ 第１電極層
４０ 第１の境界部
４１ 第２の境界部
４２ 制御部
４３ キャリブレーション部
４４ 位置検出部
４５〜４８、７０〜７８ スタイラス
５０、８１ 治具
６０ 表面部材
８５ 穴
８６ テンプレート
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入力領域上の操作位置を検出することが可能な入力装置のキャリブレーションに関する。
【背景技術】
【０００２】
以下の特許文献１〜５には、入力装置（タッチパネル）のキャリブレーション方法が記載されている。
【０００３】
これら特許文献には、例えば入力領域の４隅を指やスタイラス等で押圧して入力し、その際に得られた電圧値を制御部（ＩＣ）で記録し、前記電圧値に基づいて抵抗層の面内の電位分布を補正するキャリブレーション方法が開示されている。
【０００４】
しかしながら、上記したキャリブレーション方法では以下の問題点があった。すなわち、従来のキャリブレーション方法では、入力領域に複数の入力ポイントが必要であるため入力ミスが生じやすく、キャリブレーションを精度良く行えないことがあった。
【０００５】
また、特許文献６には、マルチタッチ入力が可能な抵抗式の入力装置の構造が開示されている。特許文献６の図１等に示されているように、基板表面に形成される抵抗層は分割して形成されている。このようなマルチタッチ入力が可能な入力装置に対して、特許文献１〜５に示したようなキャリブレーションを実行しようとすると各分割抵抗層の四隅に対して入力ポイントが発生するため、入力ポイント数が増大し、操作者に対する負担が大きくなった。例えば、相対向する基板の各抵抗層がいずれも２つに分割された入力装置では、必要な入力ポイント数が１２になり、入力ポイント数が大幅に増大する。このように、入力ポイント数が増えることで、入力ミスもさらに生じやすくなり、益々、キャリブレーション精度が低下し、この結果、操作応答性に対するリニアリティ（直線性）が低下しやすくなった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３６２５１９号公報
【特許文献２】特開２００４−５４４１３号公報
【特許文献３】特開平６−３５６０８号公報
【特許文献４】特開２００１−９２５９６号公報
【特許文献５】特開２００８−２７６３１０号公報
【特許文献６】特開２０１０−２６６４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、キャリブレーションのための入力操作を簡単にできるとともに、キャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティ性に優れた操作応答性を得ることが可能な入力装置及びキャリブレーション方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明における入力装置は、
入力領域に位置する基材表面に第１抵抗層を有し、前記第１抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層が形成される第１基板と、前記第１基板と対向して配置され、前記第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層を有し、前記第２抵抗層の前記Ｘ方向に対し直交するＹ方向の両側に第２電極層が形成される第２基板と、前記入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことが可能な制御部と、を有することを特徴とするものである。
【０００９】
また本発明は、入力領域に位置する基材表面に第１抵抗層を有し、前記第１抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層が形成される第１基板と、前記第１基板と対向して配置され、前記第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層を有し、前記第２抵抗層の前記Ｘ方向に対し直交するＹ方向の両側に第２電極層が形成される第２基板と、を有する入力装置のキャリブレーション方法において、
前記入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことを特徴とするものである。
【００１０】
これにより、キャリブレーションのための入力操作を簡単にでき、操作者に対する負担を軽減でき、またキャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００１１】
本発明では、前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の少なくとも一方は、分割されて複数の分割抵抗層を構成しており、前記制御部では、各分割抵抗層に対して前記キャリブレーションを行うことが好ましい。
【００１２】
このように抵抗層が分割されている場合、従来のように抵抗層の例えば四隅を押圧してキャリブレーションを行う方法であると各分割抵抗層に対して四隅を入力することが必要であるため入力ポイント数が非常に増えてしまい、操作者に対する負担が大きくなる。しかも、操作応答性に対するリニアリティを向上させるために各入力ポイントを全て正確に押圧することが必要であり、したがって入力ポイント数が増えばそれだけ入力ミスが発生しやすくなり、リニアリティが低下しやすくなった。これに対して本発明では、入力領域の周縁部に沿って入力操作すればキャリブレーションを行うことが出来るため、抵抗層が分割されている形態では特に、従来に比べて、操作者への負担を軽減できるとともに、キャリブレーション精度を向上させることができ、従来に比べて効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００１３】
また本発明では、前記第１抵抗層は分割されて複数の第１分割抵抗層を構成しており、前記第２抵抗層は分割されて複数の第２分割抵抗層を構成しており、前記入力領域は各第１分割抵抗層間に形成された境界部と、各第２抵抗層間に形成された境界部とにより複数の分割入力領域に画定されており、
各分割入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる各電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて、各分割入力領域に対する前記キャリブレーションを行うことが好ましい。
【００１４】
このとき、複数の凸部を有する治具が設けられ、前記治具を前記入力領域上で移動させて、各凸部により各分割入力領域の周縁部を全て入力操作することが好適である。これにより各分割入力領域に対して、きめ細かいキャリブレーションを行うことができ、各分割入力領域を合わせた入力領域の全面にて、より効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００１５】
また本発明では、前記入力領域の前記周縁部に沿って穴が形成されたテンプレートが設けられていることが好ましい。本発明では、前記テンプレートの前記穴を、前記入力領域上に重ね合わせ、前記穴から露出する前記入力領域の周縁部に沿って入力操作することができる。
【００１６】
これにより、より簡単且つ正確に入力領域の周縁部に沿って入力操作を行うことができ、操作者への負担を軽減できるとともにキャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の入力装置及びキャリブレーション方法によれば、キャリブレーションのための入力操作を簡単にでき、操作者に対する負担を軽減でき、またキャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は本発明の実施形態における入力装置（タッチパネル）の部分縦断面図、
【図２】図２は、入力装置の検知動作を示す説明図、
【図３】図３（ａ−１）は、第１実施形態の入力装置の平面図、図３（ａ−２）は、第１実施形態の入力装置に配置される第１基板の平面図、図３（ａ−３）は、第１実施形態の入力装置に配置される第２基板の裏面図、図３（ａ−４）（ａ−５）は、キャリブレーションのための入力操作により得られた電圧プロファイルの模式図、
【図４】第１実施形態に対するキャリブレーション入力操作用の治具及び入力装置の斜視図、
【図５】図４に示す治具を用いて操作した際に各スタイラスによる入力状態を説明するための入力装置の平面図、
【図６】本実施形態における入力装置の制御部を説明するためのブロック図、
【図７】図７（ａ−１）は、第２実施形態の入力装置の平面図、図７（ａ−２）は、第２実施形態の入力装置に配置される第１基板の平面図、図７（ａ−３）は、第２実施形態の入力装置に配置される第２基板の裏面図、図７（ａ−４）（ａ−５）は、キャリブレーションのための入力操作により得られた電圧プロファイルの模式図、
【図８】図８は、第２実施形態に対するキャリブレーション入力操作用の治具及び入力装置の斜視図、
【図９】図８に示す治具を用いて操作した際に各スタイラスによる入力状態を説明するための入力装置の平面図、
【図１０】キャリブレーション入力操作用のテンプレートを入力装置の表面に重ねた状態を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１は本発明の実施形態における入力装置（タッチパネル）の部分縦断面図、図２は、入力装置の検知動作を示す説明図、図３（ａ−１）は、第１実施形態の入力装置の平面図、図３（ａ−２）は、第１実施形態の入力装置に配置される第１基板の平面図、図３（ａ−３）は、第１実施形態の入力装置に配置される第２基板の裏面図、図３（ａ−４）（ａ−５）は、キャリブレーションのための入力操作により得られた電圧プロファイルの模式図、図４は、第１実施形態に対するキャリブレーション入力操作用の治具及び入力装置の斜視図、図５は図４に示す操作体を用いて操作した際に各スタイラスによる入力状態を説明するための入力装置の平面図、図６は本実施形態における入力装置の制御部を説明するためのブロック図、図７（ａ−１）は、第２実施形態の入力装置の平面図、図７（ａ−２）は、第２実施形態の入力装置に配置される第１基板の平面図、図７（ａ−３）は、第２実施形態の入力装置に配置される第２基板の裏面図、図７（ａ−４）（ａ−５）は、キャリブレーションのための入力操作により得られた電圧プロファイルの模式図、図８は、第２実施形態に対するキャリブレーション入力操作用の治具及び入力装置の斜視図、図９は、図８に示す操作体を用いて操作した際に各スタイラスによる入力状態を説明するための入力装置の平面図、図１０は、キャリブレーション入力操作用のテンプレートを入力装置の表面に重ねた状態を示す平面図、である。
【００２０】
各図において平面内にて直交する２方向のうち、一方を横方向（Ｘ１−Ｘ２）とし、他方を縦方向（Ｙ１−Ｙ２）と定義する。
【００２１】
本実施形態における入力装置２０は、マルチタッチ入力が可能な抵抗式の入力装置を構成する。図１に示すように入力装置２０は、第１基板２２、第２基板２１、及び表面部材６０とを有して構成される。
【００２２】
第１基板２２は、透光性基材３０と、透光性基材３０の上面（第２基板２１と対向する内面）に形成された透光性の第１抵抗層３１と、第１抵抗層３１に電気的に接続される第１電極層（図１では図示しない）とを有して構成される。
【００２３】
図３（ａ−２）に示す第１実施形態では、第１抵抗層３１が分割されて２つの第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂを構成する。図３（ａ−２）に示すように、各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂは、所定の間隔を空けて縦方向（Ｙ１−Ｙ２）に並設される。各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂは、同じ形状で形成され同じ抵抗値となっている。
【００２４】
図３（ａ−２）に示すように、各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂの横方向（Ｘ１−Ｘ２）の両側には、夫々、第１電極層３８ａ，３８ｂが電気的に接続される。各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂは夫々、指やスタイラス等の操作体で操作可能な入力領域３３に配置される。一方、第１電極層３８ａ，３８ｂは、入力領域３３の周囲に設けられた非入力領域３４に形成される。入力領域３３は図１に示す液晶ディスプレイ５４と高さ方向（Ｚ）にて対向する部分に設けられる。
【００２５】
次に、図１に示すように、第１基板２２と高さ方向（Ｚ）にて所定間隔を空けて対向する第２基板２１は、透光性基材３５と、透光性基材３５の下面（第１基板２２と対向する内面）に形成された透光性の第２抵抗層３６と、第２抵抗層３６に電気的に接続される第２電極層（図１では図示しない）とを有して構成される。
【００２６】
図３（ａ−３）に示す第１実施形態では、第２抵抗層３６が分割されて２つの第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂを構成する。図３（ａ−３）に示すように、各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂは、所定の間隔を空けて横方向（Ｘ１−Ｘ２）に並設される。各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂは、同じ形状で形成され同じ抵抗値となっている。
【００２７】
図３（ａ−３）に示すように、各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂの縦方向（Ｙ１−Ｙ２）の両側には、夫々、第２電極層３７ａ，３７ｂが電気的に接続される。各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂは夫々、指やスタイラス等の操作体で操作可能な入力領域３３に配置される。一方、第２電極層３７ａ，３７ｂは、入力領域３３の周囲に設けられた非入力領域３４に形成される。
【００２８】
透光性基材３０，３５はポリカーボネート樹脂（ＰＣ樹脂）やポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ樹脂）、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ樹脂）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ樹脂）、ポリメタクリル酸メチル樹脂（アクリル）（ＰＭＭＡ）等の透明基材で形成され、厚みが５０μｍ〜１３００μｍ程度で形成される。下側の透光性基材３０は上側の透光性基材３５より厚くまた剛性が高いことが好適である。例えば下側の透光性基材３０は、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ樹脂）等のプラスチック基材で形成され、上側の透光性基材３５よりも厚く形成されることが好ましい。一方、上側の透光性基材３５は可撓性を確保すべくフィルム等で形成されることが好適である。
【００２９】
第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＳｎＯ2，ＺｎＯ等の無機透明導電材料を、スパッタや蒸着等で成膜して形成される。又は、これらの無機透明導電材料の微粉末を固着したものでもよい。あるいは、有機透明導電材料として、カーボンナノチューブやポリチオフィン、ポリピロール等の有機導電性ポリマーをコーティングしたものでもよい。各抵抗層３１，３６の厚さは、０．０５μｍ〜２μｍ程度である。
【００３０】
また、第１電極層３８ａ，３８ｂ及び第２配線層３７ａ，３７ｂは例えばＡｇ塗膜を印刷形成したものである。各電極層には各抵抗層３１，３６よりも抵抗値の低い導電材料が使用される。
【００３１】
図１に示す入力装置２０はマルチタッチ入力が可能な抵抗式のタッチパネルの構造であり、入力操作可能な入力領域３３が設けられる。図１に示すように入力領域３３では、第１基板２２と第２基板２１との間に空気層３９が設けられている。また図示しないが空気層３９内には多数のドットスペーサが設けられている。
【００３２】
なお第１基板２２と第２基板２１の間には入力領域３３の周囲の非入力領域３４にスペーサが設けられ、第１基板２２と第２基板２１との間が接合されている。
【００３３】
図２にて本実施形態における入力装置の検知動作を説明する。図２に示す第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６は図３と同様に夫々、２つの分割抵抗層で構成されている。
【００３４】
操作者が指やスタイラスで入力領域３３を下方向へ押圧すると、第２基板２１が下方向へ撓み、抵抗層３１，３６が当接する。このとき、図２のＰ点で、第１分割抵抗層３１ｂと第２分割抵抗層３６ｂ同士が接触すると、第１分割抵抗層３１ｂをＸ方向に分割した抵抗値に対応する電圧が第２分割抵抗層３６ｂの縦方向（Ｙ１−Ｙ２）の両側に接続された第２電極層３７ｂ，３７ｂから得られ、また、第２分割抵抗層３６ｂをＹ１−Ｙ２方向に分割した抵抗値に対応する電圧が第１電極層３８ｂ，３８ｂから得られる。そして得られた各電圧をＡ／Ｄ変換することにより、Ｐ点のＸ−Ｙ座標上の位置を検知できる。
【００３５】
また本実施形態では図１に示すように、第２基板２１の上面側には、操作面（入力領域３３の表面）を備える透光性の表面部材６０が設けられる。また表面部材６０の下面には非入力領域３４（例えば図３参照）の部分に加飾部が形成される。そして、表面部材６０と第２基板２１との間が透光性の粘着層６１を介して接合されている。
【００３６】
また図１に示す実施形態では、第１基板２２の下面には粘着層５２を介して光透過性の支持部材５３が接合されている。粘着層５２，６１には、例えば、アクリル樹脂系粘着テープを用いることが出来る。支持部材５３は、透明な樹脂板であり、アクリル系のプラスチック基材で形成されることが好適である。なお支持部材５３の形成は任意である。
【００３７】
図３（ａ−２）に示したように第１実施形態の入力装置２０では、第１抵抗層３１は分割されて２つの第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂを構成しており、各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂ間には第１の境界部４０が設けられている。
【００３８】
また図３（ａ−３）に示したように第１実施形態の入力装置２０では、第２抵抗層３６は分割されて２つの第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂを構成しており、各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂ間には第２の境界部４１が設けられている。
【００３９】
このため、表面部材６０側から見ると、図３（ａ−１）に示すように入力領域３３は第１の境界部４０及び第２の境界部４１により４つの分割入力領域３３ａ〜３３ｄに画定される。
【００４０】
図３（ａ−２）（ａ−３）に示す各分割抵抗層３１ａ，３１ｂ，３６ａ，３６ｂの面内の電位分布を補正するためのキャリブレーションについて説明する。
【００４１】
図６に示すように本実施形態の入力装置２０には、各電極層３８ａ，３８ｂ，３７ａ，３７ｂに電気的に接続された制御部（ＩＣ）４２が設けられている。制御部４２は例えば入力装置２０の側部に接続されるフレキシブルプリント基板に設けられる。図６に示すように、前記制御部４２は、キャリブレーション部４３及び位置検出部４４を有して構成される。
【００４２】
本実施形態では初期設定（キャリブレーション）として、操作者は、スタイラス等を使用して、図３（ａ−１）に示す入力領域３３の周縁部（１）〜（８）に沿って入力操作を行う。図３（ａ−１）には、矢印で示す初期入力軌道Ａを、入力領域３３の周縁部（１）〜（８）よりもやや内側に図示したが、これは、周縁部（１）〜（８）の位置と、初期入力軌道Ａとを図面上見やすくするためであり、入力領域３３の周縁部（１）〜（８）上に沿って入力操作を行うことが好適である。ただし、周縁部（１）〜（８）付近が、実際の入力操作に使用されない不感領域とみなすような場合には、図３（ａ−１）に示すように初期入力軌道Ａが多少、周縁部（１）〜（８）の内側であってもよい。よって本実施形態において、「入力領域の周縁部に沿う入力操作」とは周縁部上のみならず、周縁部よりも多少内側の位置も含まれる。
【００４３】
図３（ａ−２）（ａ−３）に示す第１電極層３８ａ，３８ｂ及び第２電極層３７ａ，３７ｂに交互に所定の電圧を印加して、各分割抵抗層３１ａ，３１ｂ，３６ａ，３６ｂ内に交互に電圧勾配を形成する。そして、操作者が、図３（ａ−１）に示す初期入力軌道Ａの入力操作を行うと、図２で説明した原理により第２電極層３７ａ，３７ｂからは図３（ａ−４）に示す電圧プロファイルＶｘを得ることが出来、第１電極層３８ａ，３８ｂからは図３（ａ−５）に示す電圧プロファイルＶｙを得ることが出来る。
【００４４】
図３（ａ−４）に示すように、入力領域３３の周縁部（３）と周縁部（４）との間、及び、入力領域３３の周縁部（７）と周縁部（８）との間では電圧プロファイルＶｘが途切れているが、これは初期入力軌道Ａが、第１抵抗層３１が形成されていない第１の境界部４０上を通過しているためである。
【００４５】
また図３（ａ−５）に示すように、入力領域３３の周縁部（１）と周縁部（２）との間、及び、入力領域３３の周縁部（５）と周縁部（６）との間では電圧プロファイルＶｙが途切れているが、これは初期入力軌道Ａが、第２抵抗層３６が形成されていない第２の境界部４１上を通過しているためである。
【００４６】
図６に示すように、複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙが制御部４２に送られる。制御部４２におけるキャリブレーション部４３では、複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを用いて、第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂ及び第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂの面内の電位分布に対するキャリブレーションを行う。
【００４７】
キャリブレーション部４３では、第１分割抵抗層３１ａのＸ１端部での電圧及びＸ２側部での電圧として、電圧プロファイルＶｘの周縁部（３）及び周縁部（８）の出力を用いる。周縁部（３）の出力は、電圧プロファイルＶｘを見てわかるように、周縁部（２）の最大出力から変曲点Ｂを介してほぼ一定となる。また、周縁部（３）の出力と周縁部（４）の出力との間に非出力領域（欠損部）Ｃがある。よって制御部４２では、電圧プロファイルＶｘの変化を検出することで、周縁部（３）の出力を適切に認識することが出来る。同様の理由により、電圧プロファイルＶｘや電圧プロファイルＶｙの各周縁部の出力を適切に得ることが出来る。
【００４８】
また、キャリブレーション部４３では、第１分割抵抗層３１ｂのＸ１側端部での電圧及びＸ２側端部での電圧として、電圧プロファイルＶｘの周縁部（４）及び周縁部（７）の出力を用いる。
【００４９】
そして、キャリブレーション部４３では、各第１分割抵抗層３１ａ，３１ｂにおける面内のＸ１側端部からＸ２側端部にかけて同じ電位分布となるように、上記した電圧プロファイルＶｘの周縁部（３）（４）（７）（８）の出力を用いて補正する。
【００５０】
また、キャリブレーション部４３では、第２分割抵抗層３６ａのＹ１側端部での電圧及びＹ２側端部での電圧として、電圧プロファイルＶｙの周縁部（１）及び周縁部（６）の出力を用いる。また、キャリブレーション部４３では、第２分割抵抗層３６ｂのＹ１側端部での電圧及びＹ２側端部での電圧として、電圧プロファイルＶｙの周縁部（２）及び周縁部（５）の出力を用いる。そして、キャリブレーション部４３では、各第２分割抵抗層３６ａ，３６ｂにおける面内のＹ１側端部からＹ２側端部にかけて同じ電位分布となるように、上記した電圧プロファイルＶｙの周縁部（１）（２）（５）（６）の出力を用いて補正する。
【００５１】
上記したキャリブレーションにより得られたキャリブレーション補正値が制御部４２に記憶されている。そして、キャリブレーション終了後に、入力領域３３上を入力操作した際の位置検出時、制御部４２の位置検出部４４では前記キャリブレーション補正値を用いて入力位置を算出する。例えば、図３（ａ−１）に示すように、入力領域３３上を斜めに横断する入力操作Ｄを行ったとき、上記のキャリブレーションにより、第１電極層３８ａ，３８ｂ及び第２電極層３７ａ，３７ｂから夫々、得られる電圧変化を一直線上に得ることができる。すなわち図３（ａ−２）及び（ａ−３）に示すように入力操作Ｄは、第１分割抵抗層３１ａと第１分割抵抗層３１ｂ間、及び第２分割抵抗層３６ａと第２分割抵抗層３６ｂ間の境界部４０，４１を跨ぐが、境界部を介したリニアリティを適切に確保することが可能である。
【００５２】
以上により本実施形態によれば、マルチタッチ入力が可能な抵抗式の入力装置２０において、キャリブレーションための入力操作を簡単に行うことができ、操作者の負担を軽減することができるとともに、キャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００５３】
図４では、複数のスタイラス（凸部）４５〜４８が支持体４９の下面に支持されたキャリブレーション入力操作用の治具５０が用意されている。支持体４９には例えば透光性基材を用いる。スタイラス４５〜４８は全部で４本設けられており、すなわち分割入力領域３３ａ〜３３ｄと同じ数だけ設けられる。そして各スタイラス４５〜４８を入力装置２０の入力領域３３側に向けた状態にセットする。このとき、各スタイラス４５〜４８の先端４５ａ〜４８ａが、各分割入力領域３３ａ〜３３ｄの同じ角部に位置するように、すなわち、図４，図５に示すようにスタイラス４５の先端４５ａを例えば入力領域３３のうち分割入力領域３３ａの周縁部における角部Ｅに当接させたとき（図６では見やすいように、スタイラス４５の先端４５ａの位置を角部Ｅから少し離して図示した。他のスタイラス４６〜４８についても同様）、スタイラス４６の先端４６ａが分割入力領域３３ｂの周縁部における角部Ｆに当接し、スタイラス４７の先端４７ａが分割入力領域３３ｃの周縁部における角部Ｇに当接し、スタイラス４８の先端４８ａが分割入力領域３３ｄの周縁部における角部Ｈに当接するように、治具５０における各スタイラス４５〜４８の設置位置が規制されている。
【００５４】
そして、図４，図５の位置からスタイラス４６の先端４６ａが分割入力領域３３ｂの角部Ｉに位置するように治具５０をＸ１方向に移動させ、続いてスタイラス４７の先端４７ａが、分割入力領域３３ｃの角部Ｊに位置するように治具５０をＹ２方向に移動させ、続いて、スタイラス４８の先端４８ａが分割入力領域３３ｄの角部Ｋに位置するように治具５０をＸ２方向に移動させ、最後に、スタイラス４６の先端４６ａが分割入力領域３３ａの角部Ｅに位置するように治具５０をＹ１方向に移動させる。
【００５５】
上記のように治具５０を移動させることで、スタイラス４５により分割入力領域３３ａの周縁部を入力操作でき、スタイラス４６により分割入力領域３３ｂの周縁部を入力操作でき、スタイラス４７により分割入力領域３３ｂの周縁部を入力操作でき、スタイラス４８により分割入力領域３３ｂの周縁部を入力操作できる。
【００５６】
これにより、各分割入力領域３３ａ〜３３ｄに対して、夫々、電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを得ることができ、よって、各分割入力領域３３ａ〜３３ｄに対してきめ細かいキャリブレーションを行うことができ、各分割入力領域３３ａ〜３３ｄを合わせた入力領域３３の全面にて、より効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００５７】
図７（ａ−２）に示す第２実施形態では、第１抵抗層３１が分割されて３つの第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅを構成する。図７（ａ−２）に示すように、各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅは、所定の間隔を空けて縦方向（Ｙ１−Ｙ２）に並設される。各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅの間には第１の境界部４０が形成されている。各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅは、同じ形状で形成され同じ抵抗値となっている。
【００５８】
図７（ａ−２）に示すように、各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅの横方向（Ｘ１−Ｘ２）の両側には、夫々、第１電極層３８ｃ〜３８ｅが電気的に接続される。各第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅは夫々、入力領域３３に配置される。一方、第１電極層３８ｃ〜３８ｅは、非入力領域３４に形成される。
【００５９】
図７（ａ−３）に示す第２実施形態では、第２抵抗層３６が分割されて３つの第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅを構成する。図７（ａ−３）に示すように、各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅは、所定の間隔を空けて横方向（Ｘ１−Ｘ２）に並設される。各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅの間には第２の境界部４１が形成されている。各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅは、同じ形状で形成され同じ抵抗値となっている。
【００６０】
図７（ａ−３）に示すように、各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅの縦方向（Ｙ１−Ｙ２）の両側には、夫々、第２電極層３７ｃ〜３７ｅが電気的に接続される。各第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅは夫々、入力領域３３に配置される。一方、第２電極層３７ｃ〜３７ｅは、非入力領域３４に形成される。
【００６１】
第２実施形態では、図７（ａ−１）に示すように、入力領域３３が第１の境界部４０及び第２の境界部４１により９つの分割入力領域３３ｅ〜３３ｍに画定される。
【００６２】
図７に示す第２実施形態においても、図３の第１実施形態と同様に、初期設定（キャリブレーション）として、操作者が、図７（ａ−１）に示す入力領域３３の周縁部（１）〜（１２）に沿って入力操作を行う（図７（ａ−１）に初期入力軌道Ｎを示す）。
【００６３】
これにより、図７（ａ−４）及び図７（ａ−５）に示す複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを得ることが出来る。
【００６４】
図６に示すように、複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙが制御部４２に送られる。制御部４２のキャリブレーション部４３では、複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを用いて、第１分割抵抗層３１ｃ〜３１ｅ及び第２分割抵抗層３６ｃ〜３６ｅの面内の電位分布に対するキャリブレーションを行う。
【００６５】
キャリブレーション部４３では、第１分割抵抗層３１ｃに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｘの周縁部（４）及び周縁部（１２）の出力を用いて行う。また、第１分割抵抗層３１ｄに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｘの周縁部（５）及び周縁部（１１）の出力を用いて行う。また、第１分割抵抗層３１ｅに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｘの周縁部（６）及び周縁部（１０）の出力を用いて行う。各周縁部の出力は、電圧プロファイルＶｘにおける出力の変曲点や非出力領域（欠損部）の存在により適切に認識することが出来る。
【００６６】
また、キャリブレーション部４３では、第２分割抵抗層３６ｃに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｙの周縁部（１）及び周縁部（９）の出力を用いて行う。また、第２分割抵抗層３６ｄに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｙの周縁部（２）及び周縁部（８）の出力を用いて行う。また、第２分割抵抗層３６ｅに対するキャリブレーションを、電圧プロファイルＶｙの周縁部（３）及び周縁部（７）の出力を用いて行う。各周縁部の出力は、電圧プロファイルＶｙにおける出力の変曲点や非出力領域（欠損部）の存在により適切に認識することが出来る。
【００６７】
図７の第２実施形態では図３の第１実施形態に比べて分割抵抗層の数が多くなり、したがって分割入力領域３３ｅ〜３３ｋの数が増えている。従来のように入力領域の例えば四隅に位置する入力ポイントを押圧する方式であると、分割入力領域の数が増えるほど、入力ポイントの数が多くなり（図７（ａ）のように分割入力領域が３×３である場合、入力ポイントが２０個必要となる）、操作者に過度の負担を負わせるばかりか、入力ミスが生じてキャリブレーション精度が低下し、操作応答性に対するリニアリティを確保することが出来なかった。これに対して本実施形態では、図７（ａ−１）に示すように多数の分割入力領域３３ｅ〜３３ｍが存在しても、入力領域３３の周縁部（１）〜（１２）に沿って入力操作することでキャリブレーションを行うことが出来るため、操作者に過度の負担を負わせることなく簡単なキャリブレーションのための入力操作を実現できるとともにキャリブレーション精度を向上させることができ、リニアリティに優れた操作応答性を得ることが可能になる。
【００６８】
図８では、複数のスタイラス（凸部）７０〜７８が支持体８０の下面に支持されたキャリブレーション入力操作用の治具８１が用意されている。スタイラス７０〜７９は全部で９本設けられており、すなわち分割入力領域３３ｅ〜３３ｋの数と同数である。各スタイラス７０〜７８を入力装置２０の入力領域３３側に向けた状態にセットする。図８，図９に示すように、各スタイラス７０〜７８の先端７０ａ〜７８ａが各分割入力領域３３ｅ〜３３ｋの同じ角部に位置するように、例えば、スタイラス７０の先端７０ａを入力領域３３のうち分割入力領域３３ｅの周縁部における角部Ｏに当接させたとき、スタイラス７１の先端７１ａが分割入力領域３３ｆの周縁部における角部Ｐに当接し、スタイラス７２の先端７２ａが分割入力領域３３ｇの周縁部における角部Ｑに当接し、スタイラス７３の先端７３ａが分割入力領域３３ｈの周縁部における角部Ｒに当接し、スタイラス７４の先端７４ａが分割入力領域３３ｉの周縁部における角部Ｓに当接し、スタイラス７５の先端７５ａが分割入力領域３３ｊの周縁部における角部Ｔに当接し、スタイラス７６の先端７６ａが分割入力領域３３ｋの周縁部における角部Ｕに当接し、スタイラス７７の先端７７ａが分割入力領域３３ｌの周縁部における角部Ｖに当接し、スタイラス７８の先端７８ａが分割入力領域３３ｍの周縁部における角部Ｗに当接するように、治具８１における各スタイラス７０〜７８の設置位置が規制されている。そして、図８，図９の位置からスタイラス７０の先端７０ａが分割入力領域３３ｅの角部Ｘに位置するように治具５０をＹ１方向に移動させ、続いてスタイラス７２の先端７２ａが、分割入力領域３３ｇの角部Ｙに位置するように治具５０をＸ１方向に移動させ、続いて、スタイラス７８の先端７８ａが分割入力領域３３ｍの角部Ｚに位置するように治具５０をＹ２方向に移動させ、最後に、スタイラス７６の先端７６ａが分割入力領域３３ｋの角部Ｕに位置するように治具５０をＸ２方向に移動させる。
【００６９】
上記のように治具８１を移動させることで、各スタイラス７０〜７８により各分割入力領域３３ｅ〜３３ｍの周縁部を入力操作できる。
【００７０】
これにより、各分割入力領域３３ｅ〜３３ｍに対して、夫々、電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙを得ることができ、よって、各分割入力領域３３ｅ〜３３ｍに対してきめ細かいキャリブレーションを行うことができ、各分割入力領域３３ｅ〜３３ｍを合わせた入力領域３３の全面にて、より効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。
【００７１】
図１０に示す実施形態では、入力領域３３の周縁部に沿って穴８５が形成されたキャリブレーション入力操作用のテンプレート８６が用意されている。そして、テンプレート８６の穴８５を、入力領域３３上に重ね合わせ、穴８５から露出する入力領域３３の周縁部３３ｒをスタイラス等の操作体８７により入力操作することで簡単且つ高精度にキャリブレーションを行うことができ、より効果的に、リニアリティに優れた操作応答性を得ることができる。図４，図８に示す治具５０，８１とともに、図１０に示すテンプレート８６を用いることが好適である。
【００７２】
図３及び図７に示す実施形態では、第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６の双方が分割されていたが、第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６のどちらか一方のみが分割された構成であってもよい。また、第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６がどちらも分割されていない構成、すなわち第１抵抗層３１及び第２抵抗層３６が共に１層ずつ設けられた形態であっても本実施形態を適用することが出来る。ただし本実施形態におけるキャリブレーションは、抵抗層が分割された形態に特に有効である。
【符号の説明】
【００７３】
２０ 入力装置
２１ 第２基板
２２ 第１基板
３０、３５ 透光性基材
３１ 第１抵抗層
３１ａ〜３１ｅ 第１分割抵抗層
３３ 入力領域
３３ａ〜３３ｍ 分割入力領域
３３ｒ 周縁部
３４ 非入力領域
３６ 第２抵抗層
３６ａ〜３６ｅ 第２分割抵抗層
３７ａ〜３７ｅ 第２電極層
３８ａ〜３８ｅ 第１電極層
４０ 第１の境界部
４１ 第２の境界部
４２ 制御部
４３ キャリブレーション部
４４ 位置検出部
４５〜４８、７０〜７８ スタイラス
５０、８１ 治具
６０ 表面部材
８５ 穴
８６ テンプレート
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力領域に位置する基材表面に第１抵抗層を有し、前記第１抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層が形成される第１基板と、前記第１基板と対向して配置され、前記第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層を有し、前記第２抵抗層の前記Ｘ方向に対し直交するＹ方向の両側に第２電極層が形成される第２基板と、前記入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことが可能な制御部と、を有することを特徴とする入力装置。
【請求項２】
前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の少なくとも一方は、分割されて複数の分割抵抗層を構成しており、前記制御部では、各分割抵抗層に対して前記キャリブレーションを行う請求項１記載の入力装置。
【請求項３】
前記第１抵抗層は分割されて複数の第１分割抵抗層を構成しており、前記第２抵抗層は分割されて複数の第２分割抵抗層を構成しており、前記入力領域は各第１分割抵抗層間に形成された境界部と、各第２抵抗層間に形成された境界部とにより複数の分割入力領域に画定されており、
各分割入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる各電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて、各分割入力領域に対する前記キャリブレーションを行う請求項１記載の入力装置。
【請求項４】
複数の凸部を有する治具が設けられ、前記凸部は、前記治具を前記入力領域上で移動させながら各分割入力領域の周縁部が全て入力操作されるように配置されている請求項３記載の入力装置。
【請求項５】
前記入力領域の前記周縁部に沿って穴が形成されたキャリブレーション入力操作用のテンプレートが設けられている請求項１ないし４のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項６】
入力領域に位置する基材表面に第１抵抗層を有し、前記第１抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層が形成される第１基板と、前記第１基板と対向して配置され、前記第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層を有し、前記第２抵抗層の前記Ｘ方向に対し直交するＹ方向の両側に第２電極層が形成される第２基板と、を有する入力装置のキャリブレーション方法において、
前記入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことを特徴とするキャリブレーション方法。
【請求項７】
前記第１抵抗層は分割されて複数の第１分割抵抗層を構成しており、前記第２抵抗層は分割されて複数の第２分割抵抗層を構成しており、前記入力領域は各第１分割抵抗層間に形成された境界部と、各第２抵抗層間に形成された境界部とにより複数の分割入力領域に画定されており、
複数の凸部を有する治具が用意され、前記治具を前記入力領域上で移動させて、各凸部により各分割入力領域の周縁部を全て入力操作する請求項６記載のキャリブレーション方法。
【請求項８】
前記入力領域の前記周縁部に沿って穴が形成されたテンプレートが用意されており、前記テンプレートの前記穴を、前記入力領域上に重ね合わせ、前記穴から露出する前記入力領域の周縁部に沿って入力操作する請求項６又は７に記載のキャリブレーション方法。
【請求項１】
入力領域に位置する基材表面に第１抵抗層を有し、前記第１抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層が形成される第１基板と、前記第１基板と対向して配置され、前記第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層を有し、前記第２抵抗層の前記Ｘ方向に対し直交するＹ方向の両側に第２電極層が形成される第２基板と、前記入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことが可能な制御部と、を有することを特徴とする入力装置。
【請求項２】
前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の少なくとも一方は、分割されて複数の分割抵抗層を構成しており、前記制御部では、各分割抵抗層に対して前記キャリブレーションを行う請求項１記載の入力装置。
【請求項３】
前記第１抵抗層は分割されて複数の第１分割抵抗層を構成しており、前記第２抵抗層は分割されて複数の第２分割抵抗層を構成しており、前記入力領域は各第１分割抵抗層間に形成された境界部と、各第２抵抗層間に形成された境界部とにより複数の分割入力領域に画定されており、
各分割入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる各電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて、各分割入力領域に対する前記キャリブレーションを行う請求項１記載の入力装置。
【請求項４】
複数の凸部を有する治具が設けられ、前記凸部は、前記治具を前記入力領域上で移動させながら各分割入力領域の周縁部が全て入力操作されるように配置されている請求項３記載の入力装置。
【請求項５】
前記入力領域の前記周縁部に沿って穴が形成されたキャリブレーション入力操作用のテンプレートが設けられている請求項１ないし４のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項６】
入力領域に位置する基材表面に第１抵抗層を有し、前記第１抵抗層のＸ方向の両側に第１電極層が形成される第１基板と、前記第１基板と対向して配置され、前記第１抵抗層と対向する基材表面に第２抵抗層を有し、前記第２抵抗層の前記Ｘ方向に対し直交するＹ方向の両側に第２電極層が形成される第２基板と、を有する入力装置のキャリブレーション方法において、
前記入力領域の周縁部に沿って入力操作して得られる複数の電圧プロファイルＶｘ，Ｖｙに基づいて前記第１抵抗層及び前記第２抵抗層の面内の電位分布に対するキャリブレーションを行うことを特徴とするキャリブレーション方法。
【請求項７】
前記第１抵抗層は分割されて複数の第１分割抵抗層を構成しており、前記第２抵抗層は分割されて複数の第２分割抵抗層を構成しており、前記入力領域は各第１分割抵抗層間に形成された境界部と、各第２抵抗層間に形成された境界部とにより複数の分割入力領域に画定されており、
複数の凸部を有する治具が用意され、前記治具を前記入力領域上で移動させて、各凸部により各分割入力領域の周縁部を全て入力操作する請求項６記載のキャリブレーション方法。
【請求項８】
前記入力領域の前記周縁部に沿って穴が形成されたテンプレートが用意されており、前記テンプレートの前記穴を、前記入力領域上に重ね合わせ、前記穴から露出する前記入力領域の周縁部に沿って入力操作する請求項６又は７に記載のキャリブレーション方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１１−２４８５８７（Ｐ２０１１−２４８５８７Ａ）
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２０５０８（Ｐ２０１０−１２０５０８）
【出願日】平成２２年５月２６日（２０１０．５．２６）
【出願人】（００００１００９８）アルプス電気株式会社 (4,263)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月２６日（２０１０．５．２６）
【出願人】（００００１００９８）アルプス電気株式会社 (4,263)
【Ｆターム（参考）】
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