反射防止フィルムの製造方法
【課題】気泡による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】連続走行する支持体Ｗ上に、スロットダイ１２を使用して粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液１４を塗布する反射防止フィルムの製造方法である。スロットダイ内部に塗布液を供給するポケット１８と、ポケットと連通し塗布液をスロットダイ外に吐出させるスロット２０とを設け、ポケットの入口に供給する塗布液の一部をポケットの出口より引き抜く。
【解決手段】連続走行する支持体Ｗ上に、スロットダイ１２を使用して粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液１４を塗布する反射防止フィルムの製造方法である。スロットダイ内部に塗布液を供給するポケット１８と、ポケットと連通し塗布液をスロットダイ外に吐出させるスロット２０とを設け、ポケットの入口に供給する塗布液の一部をポケットの出口より引き抜く。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムの製造方法に係り、特に、泡による面状故障の改善に効果のある反射防止フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に使用されている。また、眼鏡やカメラのレンズにも、反射防止フィルムが使用されている。
【０００３】
このような反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が、従来から普通に用いられている。複数の透明薄膜を用いる理由は、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。これら金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタリング法により形成されるが、これらに代えて、塗布法により形成する場合もある。
【０００４】
このような塗布法により塗布膜を形成する塗布装置として、バーコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、エクストルージョンコーター等の装置がある。特に、エクストルージョンコーターは他と比較して、高速、薄層の塗布が可能であることから多用されている。
【０００５】
エクストルージョンコーターは、帯状可撓性の支持体（以下、「ウェブ」という）とダイとの間にビードを形成し、塗布を行う装置であるが、ダイ内部のポケット及びスロット内部に気泡が混入、残存すると、塗布液がスロット幅方向に均一に送液されず、その結果、ビードがダイの長手方向（ウェブの幅方向）に均一に形成されなくなり、面状故障（スジ故障）を引き起こす原因となる。
【０００６】
このような、薄層塗布による反射防止フィルムの製造では、膜厚の均一性が製品の性能を大きく左右するために、非常にシビアな条件が求められる。したがって、微小な気泡の有無も大きな問題となる。このポケット内に気泡が混入する原因は、以下の３通りが考えられる。
【０００７】
１）塗布の作業中に、大気中からスロットを通過して気泡が流入する。
【０００８】
２）塗布の作業中に、送液ライン中の塗布液から溶存気体が溶け出して気泡が発生する。
【０００９】
３）空の状態のポケットに塗布液を供給する際に、ダイ内部のリップ部に気泡が引っかかって残存する。
【００１０】
その結果、気泡がポケット内に残存することが多い。
【００１１】
上記問題を解決するために、ダイより上流部において溶存気体を脱泡装置によって減少させる等の方法が考えられる。しかし、エクストルージョンコーターで薄層塗布を行うためには、スロットの開口幅（スロットクリアランス）を非常に狭く（たとえば、１５０μｍ程度）設定することより、除ききれなかった気泡や、何らかの理由でポケット内に発生した気泡がスロットに引っかかると、通常塗布時の送液を行うことだけでは取り除くことが困難である。
【００１２】
このような気泡による面状故障を解消する方法として、特許文献１のような構成が提案されている。この提案は、ポケットの液供給口とは反対に空気排出口を設け、そこから液を排出し内部の泡を抜く方法であり、ダイ内部の各位置における圧損（圧力）を適正に制御することにより、液の脈動や気泡の発生を抑制できるとされている。
【特許文献１】特開２００２−４５７６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、特許文献１に記載の方法でポケット内の気泡を排除することは可能であるが、スロット内部にトラップされた泡を抜くことは困難である。既述したように、反射防止フィルム等の光学フィルムを製造するには、低塗布量の薄層塗布が必要であるので、スロット部に残存した気泡は通常塗布時の送液では抜くことができない。
【００１４】
また、泡抜き時に開放系を設けることは、エクストルージョンコーターの利点である、密閉系による有機溶剤の揮発防止、異物混入防止等を阻害する原因となりかねない。同様に、薄層塗布（たとえば、１０ｍｌ／ｍ2 以下）では、溶媒の揮発による微小な濃度変化によって膜厚偏差を生じ、反射防止フィルム等の光学フィルムの性能を低下させてしまう。
【００１５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、気泡による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
前記目的を達成するために、本発明は、連続走行する支持体上に、スロットダイを使用して粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液を塗布する反射防止フィルムの製造方法において、前記スロットダイ内部に前記塗布液を供給するポケットと、該ポケットと連通し前記塗布液をスロットダイ外に吐出させるスロットとを設け、前記ポケットの入口に供給する前記塗布液の一部を前記ポケットの出口より引き抜くことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法を提供する。
【００１７】
本発明によれば、ポケットの入口に供給する粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液の一部をポケットの出口より引き抜く。すなわち、ポケット内の粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液を回流させた。このようにすることにより、ポケット内に泡が付着し残存することを防ぐことができる。また、引き抜いた塗布液を密閉したまま送液タンクに戻すことにより、密閉性を保つことが可能であり、また、塗布液もポケット内を均一な速度で流れるので、塗布面状の幅方向（ウェブの走行方向と垂直な方向）の均一性が向上する。
【００１８】
このような本発明によれば、気泡による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルムを製造することができる。
【００１９】
本発明において、前記支持体をバックアップローラで支持した状態で塗布を行うことが好ましい。このように、支持体をバックアップローラで支持した状態で塗布を行えば、塗布膜が安定的に形成でき、良好な面状を得ることができる。
【００２０】
また、本発明において、前記スロットダイがエクストルージョン方式の塗布ヘッドであることが好ましい。このようなエクストルージョンコーターは、各種タイプのスロットダイコーターのなかでも、低粘度の塗布液の塗布に適しており、本発明の効果が良好に得られる。
【００２１】
また、本発明において、前記スロットの開口幅が３００μｍ以下であることが好ましい。また、本発明において、前記スロットの開口幅が１５０μｍ以下であることが好ましい。このように、開口幅が小さいスロットを有するスロットダイを使用することにより、良好な反射防止フィルムが製造できる。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明によれば、気泡による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、添付図面に従って、本発明に係る反射防止フィルムの製造方法の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２４】
図１は、発明に係る反射防止フィルムの製造方法が適用される反射防止フィルムの製造ラインの塗布工程１０を示す構成図である。この反射防止フィルムの製造ラインは、ロール状の支持体フィルム（以下、「ウェブ」と称する）Ｗを連続的に送り出す工程と、ウェブＷを巻き取る工程との間に、塗布工程と乾燥工程（他に、塗布膜を硬化する工程）等を適宜必要な数だけ設置したものである。
【００２５】
図１に示される塗布工程１０は、塗布位置においてウェブＷを巻き掛けるバックアップローラ１１に相対するように、スロットダイ１２が設けられている。このスロットダイ１２には塗布液１４が供給されるとともに、供給された塗布液１４の一部が引き抜かれるようになっている。
【００２６】
すなわち、スロットダイ１２は塗布液１４を貯留する塗布液タンク４０と往き側配管４２で連結されるとともに、この塗布液タンク４０と戻り側配管４４で連結されている。往き側配管４２には、上流側より順に、送液ポンプ４６、濾過フィルタ４８、膜脱気装置５０、流量計５２が接続されている。戻り側配管４４には、上流側より順に、引き抜き用ポンプ５４、流量計５６が接続されている。
【００２７】
送液ポンプ４６及び引き抜き用ポンプ５４としては、公知の各種タイプのポンプ（ギア ギアポンプでは、種類によっては「すり抜け」と称される現象により、塗布液１４を良好に送れなくなる場合もある。また、塗布液１４中の分子が大きい場合（たとえば、１μｍ以上）、ギアのかみ合わせによって分子のせん断、又はギアの破損を引き起こす可能性がある。
【００２８】
流量計５２及び流量計５６としては、公知の各種タイプの流量計が使用できるが、コリオリ式流量計が好ましく使用できる。
【００２９】
濾過フィルタ４８及び膜脱気装置５０は、塗布液の組成等に応じて適宜の仕様のものが採用できる。
【００３０】
図２は、スロットダイ（塗布ヘッド）１２の一部を切断して示す斜視図であり、図３は、スロットダイ１２の先端部分とウェブＷとの位置関係を示す概略断面図である。
【００３１】
図２及び図３に示されるように、スロットダイ１２には、塗布液を供給できるような下記の液供給系が設けられている。すなわち、スロットダイ１２の本体１６には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びたポケット（液溜め部）１８と、ポケット１８と連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液を塗出するスロット２０と、ポケット１８へ塗布液を供給する液供給口２２と、ポケット１８から塗布液を引き抜く液排出口２４と、を備えている。
【００３２】
ポケット１８は、「液溜め部」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図２に示されるように、ウェブＷの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。ポケット１８の貫通した両端開口部は、図２に示されるように、本体１６の両端部に取付けられる閉鎖板２６、２８により閉止されている。なお、既述の液供給口２２は閉鎖板２６に、液排出口２４は閉鎖板２８にそれぞれ設けられている。
【００３３】
スロット２０は、ポケット１８からウェブＷに向け、３００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以下の開口幅（スロットクリアランス）をもってスロットダイ１２の本体１６内部を貫通し、かつポケット１８と同じようにウェブＷの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブＷの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。
【００３４】
スロット２０の、ポケット１８との境界部から開口部までの距離（ウェブＷに向けた流路の長さ）は、スロット２０のウェブＷの幅方向の開口長さ、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がウェブＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスロット２０から供給できればよい。なお、スロット２０のウェブＷの幅方向の開口長さが１０００〜１２００ｍｍ程度の場合には３０〜８０ｍｍの範囲が好ましく採用できる。
【００３５】
スロット２０は、スロットダイ１２の本体１６のフロントエッジ３０とバックエッジ３２とにより形成される。スロットダイ１２の本体１６の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａがそれぞれ形成されている。
【００３６】
図２に示されるように、フロントエッジ面３０ａは断面が略直線状に、バックエッジ面３２ａは、断面が山型に形成されている。また、フロントエッジ面３０ａの後端エッジ部３０ｂとバックエッジ面３２ａの先端エッジ部３２ｂとには所定の段差が設けられ、塗布液１４の所定厚さの膜が形成できるようになっている。
【００３７】
なお、図２に示されるフロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａの断面形状は一例であり、他の断面形状、たとえば円弧状、放物線状等、各種の形状が採用できる。
【００３８】
次に、スロットダイ１２の先端部分について、図３を参照しながら説明する。なお、図３においては、フロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａの断面形状が図２のものと異なって形成されている。
【００３９】
図３に示される塗布工程１０において、バックアップローラ１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１２から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成できるようになっている。
【００４０】
このスロット２０のスロット先端における、バックアップローラ１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【００４１】
スロット２０の開口部２０ａが位置するスロットダイ１２のフロントエッジ３０及びバックエッジ３２の、フロントエッジ面３０ａは、平坦状に形成されており、バックエッジ面３２ａは、先細り状に形成されている。
【００４２】
次に、上記の塗布工程１０による塗布方法について説明する。
【００４３】
反射防止フィルムに用いるウェブＷとしては、透明なプラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４' −ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。
【００４４】
特に、トリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリアセチルセルロースフィルムとしては、ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ（富士写真フィルム（株）製）等の公知のもの、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。
【００４５】
ウェブＷの光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることが更に好ましい。ウェブＷのヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることが更に好ましい。ウェブＷの屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００４６】
ウェブＷの厚さは特に限定されないが、３０〜１５０μｍが好ましく、４０〜１３０μｍがより好ましく、７０〜１２０μｍが更に好ましい。
【００４７】
塗布液用分散媒としては、特に限定されない。単独でも２種以上を混合して使用してもよい。
【００４８】
好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、スチレン等の芳香族炭化水素類、クロルベンゼン、オルトージクロルベンゼン等の塩化芳香族炭化水素類、モノクロルメタン等のメタン誘導体、モノクロルエタン等のエタン誘導体等を含む塩化脂肪族炭化水素類、メタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、エチルエーテル、1,4 −ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、エチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ノルマルヘキサン等の脂肪族炭化水素類、脂肪族又は芳香族炭化水素の混合物等が該当する。
【００４９】
これら溶媒の中でも、ケトン類の単独又は２種以上の混合により作成される塗布用分散媒が特に好ましい。
【００５０】
本発明の塗布方式は、液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御する必要がある。
【００５１】
粘度については０．０１Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．００５Ｐａ・ｓ以下がより好ましく、０．００２Ｐａ・ｓ以下が更に好ましい。
【００５２】
塗布液によっては、せん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると、乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。
【００５３】
また、液物性ではないが、ウェブに塗布される塗布液の量も、塗布可能な上限の速度に影響を与える。ウェブに塗布される塗布液の量は２．０〜５．０ｍｌ／ｍ2 であることが好ましい。ウェブに塗布される塗布液の量を増やすと、塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、ウェブに塗布される塗布液の量を増やしすぎると、乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適なウェブに塗布される塗布液の量を決めることが好ましい。
【００５４】
表面張力については、１５〜３６ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは、乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると、塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、１７〜３２ｍＮ／ｍの範囲がより好まく、１９〜２６ｍＮ／ｍの範囲が更に好ましい。
【００５５】
光干渉による多層構成の反射防止膜製造は、以下のように行われる。
【００５６】
ウェブＷが巻回されたロールからウェブＷがクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、ウェブＷに帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きウェブＷ上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布工程１０で塗布液がウェブＷ上に塗布され、塗布されたウェブＷは乾燥室に送られて乾燥される。
【００５７】
乾燥した塗布層を有するウェブＷは、乾燥室から放射線硬化室へ送り出され、放射線が照射されて塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。更に、放射線により硬化した層を有するウェブＷは熱硬化部へ送られ、加熱されて硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するウェブＷは巻き取られてロール状となる。
【００５８】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能であるが、生産性の観点から各層の形成を連続的に行う事が好ましい。
【００５９】
以下、塗布液を塗布する工程について説明する。
【００６０】
塗布液タンク４０より送液ポンプ４６により圧送された塗布液１４は、送液ポンプ４６、濾過フィルタ４８、膜脱気装置５０、流量計５２を経て往き側配管４２によりスロットダイ１２に供給される。
【００６１】
スロットダイ１２は、塗布液１４が供給されるとともに、供給された塗布液１４の一部が引き抜かれるようになっている。したがって、供給された塗布液１４の一部は、引き抜き用ポンプ５４により引き抜かれ、流量計５６を経て戻り側配管４４により塗布液タンク４０に戻される。
【００６２】
そして、バックアップローラ１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１２から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂが形成される。
【００６３】
本発明のように、反射防止フィルム等の光学フィルムを製造するためには、低粘度（０．０１Ｐａ・ｓ以下）の塗布液１４を使用するために、スロットダイ１２のスロット２０の開口幅（スロットクリアランス）を狭くすることにより圧損を稼ぐ必要がある。同時に、スロット２０の開口幅を狭くすることによってビード１４ａの乱れを減少させている。
【００６４】
一方、スロット２０の開口幅を狭くすることによってスロット２０からより気泡が抜けにくくなってしまう。これに対し、スロットダイ１２の液供給口２２の反対側に液排出口２４を設け、ポケット１８内の塗布液１４を回流させた。これにより、ポケット１８内に気泡が付着し残存することを防ぐことができる。
【００６５】
このように、戻り側配管４４に塗布液１４引きぬき用の引き抜き用ポンプ５４を設け、更に下流に引き抜き量を調整するための流量計５６を設けた。この引き抜き方式では、送液量と引き抜き量の差分が塗布され、引き抜かれた塗布液１４は戻り側配管４４で密閉されたまま塗布液タンク４０に戻される。
【００６６】
図１に示される塗布工程１０により、塗布液１４を引き抜きながら塗布したところ、塗布液１４を引き抜かずに塗布したものよりもスジ欠陥が少なく、幅方向の均一性も向上した。したがって、本実施の形態によれば、気泡による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルムを製造することができる。
【００６７】
以上、本発明に係る反射防止フィルムの製造方法の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００６８】
たとえば、本実施形態では、スロットダイ１２のフロントエッジ面３０ａ及びバックエッジ面３２ａの形状が２種類（図２及び図３）例示されているが、これ以外の各種の態様が採り得る。
【００６９】
また、本実施形態では、スロットダイ１２の一端に液供給口２２が設けられ、他端に液排出口２４が設けられているが、これ以外の態様、たとえば、スロットダイ１２の中央に液供給口２２が設けられ、両端に液排出口２４、２４が設けられる態様が採り得る。
【実施例】
【００７０】
以下に、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７１】
実施例全般において、以下の塗布液を使用した。
【００７２】
反射防止膜用の塗布液を調合した。屈折率が１．４２である、熱架橋性含フッ素ポリマーを６重量％含むメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３ｇに、ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０ｎｍ〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ2 ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を８ｇ、メチルエチルケトンを９４ｇ、及びシクロヘキサノンを６ｇを添加し、攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ（ＰＰＥ−０１）で濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
【００７３】
塗布液の粘度及び表面張力を、それぞれ、０．００１Ｎ．ｓ／ｍ2 、０．０２４Ｎ／ｍとした。
【００７４】
［実施例１］
塗布速度（ウェブＷの走行速度）を１０〜５０ｍ／分とし、塗布量を３．５ｍｌ／ｍ2 とし、スロット２０の開口幅（スロットクリアランス）を１５０μｍに設定し、塗布液１４の引き抜きの有り無しで比較した。引き抜きの有りの場合は、送液ポンプ４６と引き抜き用ポンプ５４を同時に運転し、引き抜きの有り無しの場合は、送液ポンプ４６のみ運転した。
【００７５】
塗布・乾燥後のウェブＷのスジ故障、幅方向膜厚分布、及び塗布面状を評価した。以上の条件及び評価結果を図４の表に示す。
【００７６】
スジ故障については、「引き抜きあり」のものは、いずれも故障が０であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、スジ故障が５〜１０箇所見られた。
【００７７】
幅方向膜厚分については、「引き抜きあり」のものは、１．２〜１．４％であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、３．１〜４．１％であった。
【００７８】
塗布面状については、「引き抜きあり」のものは、いずれも「良好」であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、いずれも「悪い」であった。
【００７９】
上記の結果より、エクストルージョンコーターに塗布液の引き抜き方式を組み合わせると有効なことが分かった。
【００８０】
［実施例２］
塗布速度（ウェブＷの走行速度）を３０ｍ／分とし、塗布量を３．５ｍｌ／ｍ2 とし、スロット２０の開口幅（スロットクリアランス）を１００〜５００μｍに設定し、塗布液１４の引き抜きの有り無しで比較した。引き抜きの有りの場合は、送液ポンプ４６と引き抜き用ポンプ５４を同時に運転し、引き抜きの有り無しの場合は、送液ポンプ４６のみ運転した。
【００８１】
塗布・乾燥後のウェブＷのスジ故障、及び塗布面状を評価した。以上の条件及び評価結果を図５の表に示す。
【００８２】
スジ故障については、「引き抜きあり」のものは、スロットクリアランスが１００〜５００μｍのいずれのものも故障が０であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、スロットクリアランスが５００μｍのもののみ故障が０であり、他のものはスジ故障が４〜６箇所見られた。
【００８３】
塗布面状については、「引き抜きあり」のものは、いずれも「○」であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、スロットクリアランスが５００μｍのものが「○」であり、スロットクリアランスが３００μｍのものが「△」であり、スロットクリアランスが１５０、１００μｍのものが「×」であった。
【００８４】
上記の結果より、エクストルージョンコーターに塗布液の引き抜き方式を組み合わせると有効なことが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明に係る反射防止フィルムの製造方法が適用される反射防止フィルムの製造ラインの塗布工程を示す構成図
【図２】エクストルージョン塗布装置の塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図
【図３】塗布ヘッドの先端部分とウェブとの位置関係を示す概略断面図
【図４】実施例１の条件及び結果を示す表
【図５】実施例２の条件及び結果を示す表
【符号の説明】
【００８６】
１０…塗布工程、１１…バックアップローラ、１２…スロットダイ、１４…塗布液、１４ａ…ビード、１４ｂ…塗膜、１８…ポケット、２０…スロット、４０…塗布液タンク、４２…往き側配管、４４…戻り側配管、４６…送液ポンプ、４８…濾過フィルタ、５０…膜脱気装置、５２、５６…流量計、５４…引き抜き用ポンプ、Ｗ…可撓性支持体（ウェブ）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムの製造方法に係り、特に、泡による面状故障の改善に効果のある反射防止フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に使用されている。また、眼鏡やカメラのレンズにも、反射防止フィルムが使用されている。
【０００３】
このような反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が、従来から普通に用いられている。複数の透明薄膜を用いる理由は、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。これら金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタリング法により形成されるが、これらに代えて、塗布法により形成する場合もある。
【０００４】
このような塗布法により塗布膜を形成する塗布装置として、バーコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、エクストルージョンコーター等の装置がある。特に、エクストルージョンコーターは他と比較して、高速、薄層の塗布が可能であることから多用されている。
【０００５】
エクストルージョンコーターは、帯状可撓性の支持体（以下、「ウェブ」という）とダイとの間にビードを形成し、塗布を行う装置であるが、ダイ内部のポケット及びスロット内部に気泡が混入、残存すると、塗布液がスロット幅方向に均一に送液されず、その結果、ビードがダイの長手方向（ウェブの幅方向）に均一に形成されなくなり、面状故障（スジ故障）を引き起こす原因となる。
【０００６】
このような、薄層塗布による反射防止フィルムの製造では、膜厚の均一性が製品の性能を大きく左右するために、非常にシビアな条件が求められる。したがって、微小な気泡の有無も大きな問題となる。このポケット内に気泡が混入する原因は、以下の３通りが考えられる。
【０００７】
１）塗布の作業中に、大気中からスロットを通過して気泡が流入する。
【０００８】
２）塗布の作業中に、送液ライン中の塗布液から溶存気体が溶け出して気泡が発生する。
【０００９】
３）空の状態のポケットに塗布液を供給する際に、ダイ内部のリップ部に気泡が引っかかって残存する。
【００１０】
その結果、気泡がポケット内に残存することが多い。
【００１１】
上記問題を解決するために、ダイより上流部において溶存気体を脱泡装置によって減少させる等の方法が考えられる。しかし、エクストルージョンコーターで薄層塗布を行うためには、スロットの開口幅（スロットクリアランス）を非常に狭く（たとえば、１５０μｍ程度）設定することより、除ききれなかった気泡や、何らかの理由でポケット内に発生した気泡がスロットに引っかかると、通常塗布時の送液を行うことだけでは取り除くことが困難である。
【００１２】
このような気泡による面状故障を解消する方法として、特許文献１のような構成が提案されている。この提案は、ポケットの液供給口とは反対に空気排出口を設け、そこから液を排出し内部の泡を抜く方法であり、ダイ内部の各位置における圧損（圧力）を適正に制御することにより、液の脈動や気泡の発生を抑制できるとされている。
【特許文献１】特開２００２−４５７６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、特許文献１に記載の方法でポケット内の気泡を排除することは可能であるが、スロット内部にトラップされた泡を抜くことは困難である。既述したように、反射防止フィルム等の光学フィルムを製造するには、低塗布量の薄層塗布が必要であるので、スロット部に残存した気泡は通常塗布時の送液では抜くことができない。
【００１４】
また、泡抜き時に開放系を設けることは、エクストルージョンコーターの利点である、密閉系による有機溶剤の揮発防止、異物混入防止等を阻害する原因となりかねない。同様に、薄層塗布（たとえば、１０ｍｌ／ｍ2 以下）では、溶媒の揮発による微小な濃度変化によって膜厚偏差を生じ、反射防止フィルム等の光学フィルムの性能を低下させてしまう。
【００１５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、気泡による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
前記目的を達成するために、本発明は、連続走行する支持体上に、スロットダイを使用して粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液を塗布する反射防止フィルムの製造方法において、前記スロットダイ内部に前記塗布液を供給するポケットと、該ポケットと連通し前記塗布液をスロットダイ外に吐出させるスロットとを設け、前記ポケットの入口に供給する前記塗布液の一部を前記ポケットの出口より引き抜くことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法を提供する。
【００１７】
本発明によれば、ポケットの入口に供給する粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液の一部をポケットの出口より引き抜く。すなわち、ポケット内の粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液を回流させた。このようにすることにより、ポケット内に泡が付着し残存することを防ぐことができる。また、引き抜いた塗布液を密閉したまま送液タンクに戻すことにより、密閉性を保つことが可能であり、また、塗布液もポケット内を均一な速度で流れるので、塗布面状の幅方向（ウェブの走行方向と垂直な方向）の均一性が向上する。
【００１８】
このような本発明によれば、気泡による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルムを製造することができる。
【００１９】
本発明において、前記支持体をバックアップローラで支持した状態で塗布を行うことが好ましい。このように、支持体をバックアップローラで支持した状態で塗布を行えば、塗布膜が安定的に形成でき、良好な面状を得ることができる。
【００２０】
また、本発明において、前記スロットダイがエクストルージョン方式の塗布ヘッドであることが好ましい。このようなエクストルージョンコーターは、各種タイプのスロットダイコーターのなかでも、低粘度の塗布液の塗布に適しており、本発明の効果が良好に得られる。
【００２１】
また、本発明において、前記スロットの開口幅が３００μｍ以下であることが好ましい。また、本発明において、前記スロットの開口幅が１５０μｍ以下であることが好ましい。このように、開口幅が小さいスロットを有するスロットダイを使用することにより、良好な反射防止フィルムが製造できる。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明によれば、気泡による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、添付図面に従って、本発明に係る反射防止フィルムの製造方法の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２４】
図１は、発明に係る反射防止フィルムの製造方法が適用される反射防止フィルムの製造ラインの塗布工程１０を示す構成図である。この反射防止フィルムの製造ラインは、ロール状の支持体フィルム（以下、「ウェブ」と称する）Ｗを連続的に送り出す工程と、ウェブＷを巻き取る工程との間に、塗布工程と乾燥工程（他に、塗布膜を硬化する工程）等を適宜必要な数だけ設置したものである。
【００２５】
図１に示される塗布工程１０は、塗布位置においてウェブＷを巻き掛けるバックアップローラ１１に相対するように、スロットダイ１２が設けられている。このスロットダイ１２には塗布液１４が供給されるとともに、供給された塗布液１４の一部が引き抜かれるようになっている。
【００２６】
すなわち、スロットダイ１２は塗布液１４を貯留する塗布液タンク４０と往き側配管４２で連結されるとともに、この塗布液タンク４０と戻り側配管４４で連結されている。往き側配管４２には、上流側より順に、送液ポンプ４６、濾過フィルタ４８、膜脱気装置５０、流量計５２が接続されている。戻り側配管４４には、上流側より順に、引き抜き用ポンプ５４、流量計５６が接続されている。
【００２７】
送液ポンプ４６及び引き抜き用ポンプ５４としては、公知の各種タイプのポンプ（ギア ギアポンプでは、種類によっては「すり抜け」と称される現象により、塗布液１４を良好に送れなくなる場合もある。また、塗布液１４中の分子が大きい場合（たとえば、１μｍ以上）、ギアのかみ合わせによって分子のせん断、又はギアの破損を引き起こす可能性がある。
【００２８】
流量計５２及び流量計５６としては、公知の各種タイプの流量計が使用できるが、コリオリ式流量計が好ましく使用できる。
【００２９】
濾過フィルタ４８及び膜脱気装置５０は、塗布液の組成等に応じて適宜の仕様のものが採用できる。
【００３０】
図２は、スロットダイ（塗布ヘッド）１２の一部を切断して示す斜視図であり、図３は、スロットダイ１２の先端部分とウェブＷとの位置関係を示す概略断面図である。
【００３１】
図２及び図３に示されるように、スロットダイ１２には、塗布液を供給できるような下記の液供給系が設けられている。すなわち、スロットダイ１２の本体１６には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びたポケット（液溜め部）１８と、ポケット１８と連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液を塗出するスロット２０と、ポケット１８へ塗布液を供給する液供給口２２と、ポケット１８から塗布液を引き抜く液排出口２４と、を備えている。
【００３２】
ポケット１８は、「液溜め部」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図２に示されるように、ウェブＷの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。ポケット１８の貫通した両端開口部は、図２に示されるように、本体１６の両端部に取付けられる閉鎖板２６、２８により閉止されている。なお、既述の液供給口２２は閉鎖板２６に、液排出口２４は閉鎖板２８にそれぞれ設けられている。
【００３３】
スロット２０は、ポケット１８からウェブＷに向け、３００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以下の開口幅（スロットクリアランス）をもってスロットダイ１２の本体１６内部を貫通し、かつポケット１８と同じようにウェブＷの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブＷの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。
【００３４】
スロット２０の、ポケット１８との境界部から開口部までの距離（ウェブＷに向けた流路の長さ）は、スロット２０のウェブＷの幅方向の開口長さ、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がウェブＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスロット２０から供給できればよい。なお、スロット２０のウェブＷの幅方向の開口長さが１０００〜１２００ｍｍ程度の場合には３０〜８０ｍｍの範囲が好ましく採用できる。
【００３５】
スロット２０は、スロットダイ１２の本体１６のフロントエッジ３０とバックエッジ３２とにより形成される。スロットダイ１２の本体１６の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａがそれぞれ形成されている。
【００３６】
図２に示されるように、フロントエッジ面３０ａは断面が略直線状に、バックエッジ面３２ａは、断面が山型に形成されている。また、フロントエッジ面３０ａの後端エッジ部３０ｂとバックエッジ面３２ａの先端エッジ部３２ｂとには所定の段差が設けられ、塗布液１４の所定厚さの膜が形成できるようになっている。
【００３７】
なお、図２に示されるフロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａの断面形状は一例であり、他の断面形状、たとえば円弧状、放物線状等、各種の形状が採用できる。
【００３８】
次に、スロットダイ１２の先端部分について、図３を参照しながら説明する。なお、図３においては、フロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａの断面形状が図２のものと異なって形成されている。
【００３９】
図３に示される塗布工程１０において、バックアップローラ１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１２から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成できるようになっている。
【００４０】
このスロット２０のスロット先端における、バックアップローラ１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【００４１】
スロット２０の開口部２０ａが位置するスロットダイ１２のフロントエッジ３０及びバックエッジ３２の、フロントエッジ面３０ａは、平坦状に形成されており、バックエッジ面３２ａは、先細り状に形成されている。
【００４２】
次に、上記の塗布工程１０による塗布方法について説明する。
【００４３】
反射防止フィルムに用いるウェブＷとしては、透明なプラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４' −ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。
【００４４】
特に、トリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリアセチルセルロースフィルムとしては、ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ（富士写真フィルム（株）製）等の公知のもの、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。
【００４５】
ウェブＷの光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることが更に好ましい。ウェブＷのヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることが更に好ましい。ウェブＷの屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００４６】
ウェブＷの厚さは特に限定されないが、３０〜１５０μｍが好ましく、４０〜１３０μｍがより好ましく、７０〜１２０μｍが更に好ましい。
【００４７】
塗布液用分散媒としては、特に限定されない。単独でも２種以上を混合して使用してもよい。
【００４８】
好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、スチレン等の芳香族炭化水素類、クロルベンゼン、オルトージクロルベンゼン等の塩化芳香族炭化水素類、モノクロルメタン等のメタン誘導体、モノクロルエタン等のエタン誘導体等を含む塩化脂肪族炭化水素類、メタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、エチルエーテル、1,4 −ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、エチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ノルマルヘキサン等の脂肪族炭化水素類、脂肪族又は芳香族炭化水素の混合物等が該当する。
【００４９】
これら溶媒の中でも、ケトン類の単独又は２種以上の混合により作成される塗布用分散媒が特に好ましい。
【００５０】
本発明の塗布方式は、液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御する必要がある。
【００５１】
粘度については０．０１Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．００５Ｐａ・ｓ以下がより好ましく、０．００２Ｐａ・ｓ以下が更に好ましい。
【００５２】
塗布液によっては、せん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると、乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。
【００５３】
また、液物性ではないが、ウェブに塗布される塗布液の量も、塗布可能な上限の速度に影響を与える。ウェブに塗布される塗布液の量は２．０〜５．０ｍｌ／ｍ2 であることが好ましい。ウェブに塗布される塗布液の量を増やすと、塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、ウェブに塗布される塗布液の量を増やしすぎると、乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適なウェブに塗布される塗布液の量を決めることが好ましい。
【００５４】
表面張力については、１５〜３６ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは、乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると、塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、１７〜３２ｍＮ／ｍの範囲がより好まく、１９〜２６ｍＮ／ｍの範囲が更に好ましい。
【００５５】
光干渉による多層構成の反射防止膜製造は、以下のように行われる。
【００５６】
ウェブＷが巻回されたロールからウェブＷがクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、ウェブＷに帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きウェブＷ上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布工程１０で塗布液がウェブＷ上に塗布され、塗布されたウェブＷは乾燥室に送られて乾燥される。
【００５７】
乾燥した塗布層を有するウェブＷは、乾燥室から放射線硬化室へ送り出され、放射線が照射されて塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。更に、放射線により硬化した層を有するウェブＷは熱硬化部へ送られ、加熱されて硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するウェブＷは巻き取られてロール状となる。
【００５８】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能であるが、生産性の観点から各層の形成を連続的に行う事が好ましい。
【００５９】
以下、塗布液を塗布する工程について説明する。
【００６０】
塗布液タンク４０より送液ポンプ４６により圧送された塗布液１４は、送液ポンプ４６、濾過フィルタ４８、膜脱気装置５０、流量計５２を経て往き側配管４２によりスロットダイ１２に供給される。
【００６１】
スロットダイ１２は、塗布液１４が供給されるとともに、供給された塗布液１４の一部が引き抜かれるようになっている。したがって、供給された塗布液１４の一部は、引き抜き用ポンプ５４により引き抜かれ、流量計５６を経て戻り側配管４４により塗布液タンク４０に戻される。
【００６２】
そして、バックアップローラ１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１２から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂが形成される。
【００６３】
本発明のように、反射防止フィルム等の光学フィルムを製造するためには、低粘度（０．０１Ｐａ・ｓ以下）の塗布液１４を使用するために、スロットダイ１２のスロット２０の開口幅（スロットクリアランス）を狭くすることにより圧損を稼ぐ必要がある。同時に、スロット２０の開口幅を狭くすることによってビード１４ａの乱れを減少させている。
【００６４】
一方、スロット２０の開口幅を狭くすることによってスロット２０からより気泡が抜けにくくなってしまう。これに対し、スロットダイ１２の液供給口２２の反対側に液排出口２４を設け、ポケット１８内の塗布液１４を回流させた。これにより、ポケット１８内に気泡が付着し残存することを防ぐことができる。
【００６５】
このように、戻り側配管４４に塗布液１４引きぬき用の引き抜き用ポンプ５４を設け、更に下流に引き抜き量を調整するための流量計５６を設けた。この引き抜き方式では、送液量と引き抜き量の差分が塗布され、引き抜かれた塗布液１４は戻り側配管４４で密閉されたまま塗布液タンク４０に戻される。
【００６６】
図１に示される塗布工程１０により、塗布液１４を引き抜きながら塗布したところ、塗布液１４を引き抜かずに塗布したものよりもスジ欠陥が少なく、幅方向の均一性も向上した。したがって、本実施の形態によれば、気泡による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルムを製造することができる。
【００６７】
以上、本発明に係る反射防止フィルムの製造方法の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００６８】
たとえば、本実施形態では、スロットダイ１２のフロントエッジ面３０ａ及びバックエッジ面３２ａの形状が２種類（図２及び図３）例示されているが、これ以外の各種の態様が採り得る。
【００６９】
また、本実施形態では、スロットダイ１２の一端に液供給口２２が設けられ、他端に液排出口２４が設けられているが、これ以外の態様、たとえば、スロットダイ１２の中央に液供給口２２が設けられ、両端に液排出口２４、２４が設けられる態様が採り得る。
【実施例】
【００７０】
以下に、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７１】
実施例全般において、以下の塗布液を使用した。
【００７２】
反射防止膜用の塗布液を調合した。屈折率が１．４２である、熱架橋性含フッ素ポリマーを６重量％含むメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３ｇに、ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０ｎｍ〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ2 ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を８ｇ、メチルエチルケトンを９４ｇ、及びシクロヘキサノンを６ｇを添加し、攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ（ＰＰＥ−０１）で濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
【００７３】
塗布液の粘度及び表面張力を、それぞれ、０．００１Ｎ．ｓ／ｍ2 、０．０２４Ｎ／ｍとした。
【００７４】
［実施例１］
塗布速度（ウェブＷの走行速度）を１０〜５０ｍ／分とし、塗布量を３．５ｍｌ／ｍ2 とし、スロット２０の開口幅（スロットクリアランス）を１５０μｍに設定し、塗布液１４の引き抜きの有り無しで比較した。引き抜きの有りの場合は、送液ポンプ４６と引き抜き用ポンプ５４を同時に運転し、引き抜きの有り無しの場合は、送液ポンプ４６のみ運転した。
【００７５】
塗布・乾燥後のウェブＷのスジ故障、幅方向膜厚分布、及び塗布面状を評価した。以上の条件及び評価結果を図４の表に示す。
【００７６】
スジ故障については、「引き抜きあり」のものは、いずれも故障が０であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、スジ故障が５〜１０箇所見られた。
【００７７】
幅方向膜厚分については、「引き抜きあり」のものは、１．２〜１．４％であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、３．１〜４．１％であった。
【００７８】
塗布面状については、「引き抜きあり」のものは、いずれも「良好」であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、いずれも「悪い」であった。
【００７９】
上記の結果より、エクストルージョンコーターに塗布液の引き抜き方式を組み合わせると有効なことが分かった。
【００８０】
［実施例２］
塗布速度（ウェブＷの走行速度）を３０ｍ／分とし、塗布量を３．５ｍｌ／ｍ2 とし、スロット２０の開口幅（スロットクリアランス）を１００〜５００μｍに設定し、塗布液１４の引き抜きの有り無しで比較した。引き抜きの有りの場合は、送液ポンプ４６と引き抜き用ポンプ５４を同時に運転し、引き抜きの有り無しの場合は、送液ポンプ４６のみ運転した。
【００８１】
塗布・乾燥後のウェブＷのスジ故障、及び塗布面状を評価した。以上の条件及び評価結果を図５の表に示す。
【００８２】
スジ故障については、「引き抜きあり」のものは、スロットクリアランスが１００〜５００μｍのいずれのものも故障が０であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、スロットクリアランスが５００μｍのもののみ故障が０であり、他のものはスジ故障が４〜６箇所見られた。
【００８３】
塗布面状については、「引き抜きあり」のものは、いずれも「○」であった。これに対し、「引き抜き無し」のものは、スロットクリアランスが５００μｍのものが「○」であり、スロットクリアランスが３００μｍのものが「△」であり、スロットクリアランスが１５０、１００μｍのものが「×」であった。
【００８４】
上記の結果より、エクストルージョンコーターに塗布液の引き抜き方式を組み合わせると有効なことが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明に係る反射防止フィルムの製造方法が適用される反射防止フィルムの製造ラインの塗布工程を示す構成図
【図２】エクストルージョン塗布装置の塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図
【図３】塗布ヘッドの先端部分とウェブとの位置関係を示す概略断面図
【図４】実施例１の条件及び結果を示す表
【図５】実施例２の条件及び結果を示す表
【符号の説明】
【００８６】
１０…塗布工程、１１…バックアップローラ、１２…スロットダイ、１４…塗布液、１４ａ…ビード、１４ｂ…塗膜、１８…ポケット、２０…スロット、４０…塗布液タンク、４２…往き側配管、４４…戻り側配管、４６…送液ポンプ、４８…濾過フィルタ、５０…膜脱気装置、５２、５６…流量計、５４…引き抜き用ポンプ、Ｗ…可撓性支持体（ウェブ）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続走行する支持体上に、スロットダイを使用して粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液を塗布する反射防止フィルムの製造方法において、
前記スロットダイ内部に前記塗布液を供給するポケットと、該ポケットと連通し前記塗布液をスロットダイ外に吐出させるスロットとを設け、前記ポケットの入口に供給する前記塗布液の一部を前記ポケットの出口より引き抜くことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記支持体をバックアップローラで支持した状態で塗布を行う請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記スロットダイがエクストルージョン方式の塗布ヘッドである請求項１又は２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記スロットの開口幅が３００μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記スロットの開口幅が１５０μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１】
連続走行する支持体上に、スロットダイを使用して粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以下の塗布液を塗布する反射防止フィルムの製造方法において、
前記スロットダイ内部に前記塗布液を供給するポケットと、該ポケットと連通し前記塗布液をスロットダイ外に吐出させるスロットとを設け、前記ポケットの入口に供給する前記塗布液の一部を前記ポケットの出口より引き抜くことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記支持体をバックアップローラで支持した状態で塗布を行う請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記スロットダイがエクストルージョン方式の塗布ヘッドである請求項１又は２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記スロットの開口幅が３００μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記スロットの開口幅が１５０μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００６−２５１３６５（Ｐ２００６−２５１３６５Ａ）
【公開日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−６７８２６（Ｐ２００５−６７８２６）
【出願日】平成１７年３月１０日（２００５．３．１０）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月１０日（２００５．３．１０）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]