塗膜形成方法および圧電素子の製造方法
【課題】本発明の目的は、被塗布物の角部に膜厚の厚い塗膜を形成することができるとともに、被塗布物の側面に簡単に塗膜を形成することができる塗膜形成方法、およびこの塗膜形成方法を用いることにより、信頼性の高い圧電素子を簡単に製造することのできる圧電素子の製造方法を提供すること
【解決手段】上面２７、側面２８および角部Ａを有する圧電素子片２にレジスト液を塗布してレジスト膜（塗膜）を形成する塗膜形成方法であって、角部Ａに角部用レジスト液Ｑを塗布し、角部レジスト膜Ｌ１を形成する角部レジスト膜形成工程と、側面２８に側面用レジスト液Ｒを塗布し、側面レジスト膜Ｌ２を形成する側面塗膜形成工程とを有する。
【解決手段】上面２７、側面２８および角部Ａを有する圧電素子片２にレジスト液を塗布してレジスト膜（塗膜）を形成する塗膜形成方法であって、角部Ａに角部用レジスト液Ｑを塗布し、角部レジスト膜Ｌ１を形成する角部レジスト膜形成工程と、側面２８に側面用レジスト液Ｒを塗布し、側面レジスト膜Ｌ２を形成する側面塗膜形成工程とを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗膜形成方法および圧電素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、水晶等の圧電体材料で構成された圧電基板の表面に電極を形成する方法として次のような方法が知られている。すなわち、まず、圧電基板上に電極を形成するための金属膜をスパッタリング法により形成する。次いで、金属膜上にレジスト（フォトレジスト）を塗布し、電極の形状にパターニング（露光・現像）することによりレジストマスクを形成する。そして、レジストマスクを介して金属膜をエッチングした後、レジストマスクを除去することにより圧電基板上に電極を形成する。
【０００３】
また、金属膜上にレジストを塗布する方法（塗膜を形成する方法）として、スプレーコート法や（特許文献１参照）、ディッピング法などが知られている。これらのうち、スプレーコート法は、ミスト状にしたレジストを気流に乗せて圧電基板に吹き付けることにより金属膜の表面にレジストを塗布する方法である。一方のディッピング法は、容器に満たされたレジスト液中に圧電基板を浸漬させることにより、金属膜の表面にレジストを塗布する方法である。
【０００４】
しかしながら、このようなスプレーコート法およびディッピング法では、ともに、金属膜上に塗布されたレジストに、その表面積が最も小さくなるような力（表面張力）が働く。そのため、塗布されたレジストを乾燥して形成したレジスト膜では、圧電基板の角部に対応する部分の膜厚が、レジストマスクとしての機能を発揮するには薄くなり過ぎる。その結果、レジストマスクを介して金属膜をエッチングする際に、圧電基板の角部に対応する部分（すなわち、レジストマスクが薄い部分）にて、不本意な金属膜の除去が行われ、短絡や断線が発生するという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−８７９３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、被塗布物の角部に膜厚の厚い塗膜を形成することができるとともに、被塗布物の側面に簡単に塗膜を形成することができる塗膜形成方法、およびこの塗膜形成方法を用いることにより、信頼性の高い圧電素子を簡単に製造することのできる圧電素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の塗膜形成方法は、上面、側面およびこれらが交差する角部を有する被塗布物に対して、吐出法により液滴をノズルから吐出し、前記被塗布物に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
前記角部に角部用液滴を塗布し、角部塗付膜を形成する角部塗膜形成工程と、
前記側面に側面用液滴を塗布し、側面塗膜を形成する側面塗膜形成工程とを有し、
前記角部塗膜形成工程は、前記角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部用液滴を前記角部に着弾させ乾燥することにより前記角部塗膜を形成し、
前記側面塗膜形成工程は、前記側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、角部塗膜に着弾した前記側面用液滴を前記側面に流化させた後に乾燥することにより前記側面塗膜を形成するよう構成されていることを特徴とする。
これにより、被塗布物の角部に膜厚の厚い塗膜を形成することができる。また、液滴の吐出方向を一定（上面の法線方向）に保ったままで、法線方向の異なる全ての側面に対して液滴を塗布することができるため、側面に簡単に塗膜を形成することができ、液滴塗布の簡易化を図ることができる。
【０００８】
本発明の塗付膜形成方法では、前記角部塗膜形成工程は、第１の角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記第１の角部用液滴を前記角部に着弾させる第１の工程と、前記第１の角部用液滴が乾燥した後に、前記第１の角部用液滴の前記被塗布物の着弾位置に対して前記角部の延在方向にずれた位置から、第２の角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するとともに前記被塗布物への着弾状態にて前記第１の角部用液滴と重なるように前記ノズルから吐出し、前記第２の角部用液滴を前記角部に着弾させる第２の工程とを有することが好ましい。
これにより、角部塗膜の膜厚を、より厚くすることができる。
【０００９】
本発明の塗膜形成方法では、前記角部塗膜形成工程において、前記第１の工程では、前記角部から前記上面の法線方向に引いた線分上を前記第１の角部用液滴の中心が通過し、前記第２の工程では、前記角部から前記上面の法線方向に引いた線分上を前記第２の角部用液滴の中心が通過することが好ましい。
これにより、第１の角部用液滴が、角部付近に、角部を包み込むとともに上面および側面に跨がるように塗布される。そのため、より確実に、角部に第１の角部用液滴を塗布することができる。また、ノズルの位置が所定位置から若干ずれたり、第１の角部用液滴の吐出方向が上面の法線方向から若干ずれたりしても、そのずれを許容し、第１の角部用液滴を角部に着弾させることができる。第２の角部用液滴についても同様の効果が得られる。
【００１０】
本発明の塗膜形成方法では、前記角部塗膜形成工程において、前記第１の工程では、複数の前記第１の角部用液滴を前記被塗布物への着弾状態にて互いに重ならないように前記ノズルから吐出し、前記第２の工程では、複数の前記第２の角部用液滴を前記被塗布物への着弾状態にて互いに重ならないように前記ノズルから吐出することが好ましい。
これにより、角部塗膜形成工程および側面塗膜形成工程の処理時間を短くすることができる。
【００１１】
本発明の塗付膜形成方法では、前記側面塗膜形成工程は、複数の第１の側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部塗膜に着弾した前記複数の第１の側面用液滴を前記角部塗膜上で一体化させて前記側面に流化させる第１の工程と、前記第１の角部用液滴の前記被塗布物の着弾位置に対して前記角部の延在方向にずれた位置から、複数の第２の側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部塗膜に着弾した前記複数の第２の側面用液滴を前記角部塗膜上で一体化させて前記側面に流化させる第２の工程とを有することが好ましい。
【００１２】
これにより、角部レジスト膜上で一体化した液滴の容量を、側面の被塗布物厚さ方向の全域に濡れ広がるのに十分なものとすることができる。また、第１の工程に対して、第２の工程を角部の延在方向にずらして行うことにより、側面の角部延在方向全域に側面塗膜を形成することができる。その結果、側面の全域に、比較的膜厚の厚い側面塗膜を形成することができる。
【００１３】
本発明の塗付膜形成方法では、前記側面塗膜形成工程において、前記第１の工程では、前記複数の第１の側面用液滴の中心が同一線分上を通過し、前記第２の工程では、前記複数の第２の側面用液滴の中心が同一線分上を通過することが好ましい。
これにより、第１の工程では、角部塗膜上にて、第１の側面用液滴を確実に一体化させることができ、第２の工程でも、角部塗膜上にて、第２の側面用液滴を確実に一体化させることができる。
【００１４】
本発明の塗付膜形成方法では、前記側面塗膜形成工程において、前記第１の工程により前記側面に塗布された複数の第１の側面用液滴と、前記第２の工程により前記側面に塗布された複数の第２の側面用液滴とが、重なり合う領域を有していることが好ましい。
これにより、側面レジスト膜の膜厚をより厚くすることができる。
本発明の塗膜形成方法では、前記角部用液滴および前記側面用液滴の径は、それぞれ、１０μｍ〜３０μｍであることが好ましい。
角部用液滴の直径をこのような大きさとすることにより、角部用液滴を角部に着弾させやすくなるとともに、角部液滴を角部に留めておくことが容易となる（すなわち、自重で角部用液滴が側面を流下するのを防止または抑制することができる。また、側面用液滴の直径をこのような大きさとすることにより、より確実に、角部塗膜上にて、複数の側壁用液滴を一体化させることとができるとともに、比較的少ない液滴数で、一体化した液滴の容積を、側面の被塗布物厚さ方向全域に濡れ広がるのに十分な容積とすることができる。
【００１５】
本発明の塗付膜形成方法では、前記側面用液滴の粘度は、前記角部用液滴の粘度よりも低いことが好ましい。
これにより、角部用液滴については、角部に留まり易くなり、側面用液滴については、側面を流下し易くなる。すなわち、角部用液滴は、角部塗膜形成工程に適した液滴となり、側面用液滴は、側面塗膜形成工程に適した液滴となる。
【００１６】
本発明の塗膜形成方法では、前記角部用液滴の粘度は、１ｃＰ〜２０ｃＰであり、前記側面用液滴の粘度は、１ｃＰ〜２０ｃＰであることが好ましい。
これにより、複数の側面用液滴が一体化した液滴が側面を流下し易くなるとともに、その液滴が、側面を流下し過ぎることを防止することができる。そのため、側面に、比較的膜厚が厚く、かつ膜厚が均一な塗膜を形成することができる。
【００１７】
本発明の塗膜形成方法では、前記被塗布物は、圧電体材料で構成された圧電素子片であることが好ましい。
これにより、例えば、圧電素子片上に所望の形状の電極を形成する際に用いるレジストマスクを形成するためのレジスト膜を簡単に形成することができる。そのため、圧電素子片上に電極が形成されてなる圧電素子を簡単に製造することができる。
本発明の塗膜形成方法では、前記液滴は、レジスト液であることが好ましい。
これにより、例えば、圧電素子片上に所望の形状の電極を形成する際に用いるレジストマスクを形成するためのレジスト膜を簡単に形成することができる。そのため、圧電素子片上に電極が形成されてなる圧電素子を簡単に製造することができる。
【００１８】
本発明の圧電素子の製造方法は、上面、側面およびこれらが交差する角部を有する圧電素子片の表面に電極を形成することにより圧電素子を形成する圧電素子の製造方法であって、
前記圧電素子片の表面に前記電極形成用の金属膜を形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜の表面にレジストマスクを形成するレジストマスク形成工程と、
前記レジストマスクを用いて前記金属膜をパターニングし、前記電極を形成する電極形成工程とを有し、
前記レジストマスク形成工程は、前記角部に角部用レジスト液を塗布し、角部レジスト膜を形成する角部レジスト膜形成工程と、前記側面に側面用レジスト液を塗布し、側面レジスト膜を形成する側面レジスト膜形成工程とを有し、前記角部レジスト膜および前記側面レジスト膜に露光、現像を行うことにより前記レジストマスクを形成するよう構成され、
前記角部レジスト膜形成工程は、前記角部用レジスト液を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部用レジスト液を前記角部に着弾させ乾燥することにより前記角部レジスト膜を形成し、
前記側面レジスト膜形成工程は、前記側面レジスト液を前記上面の法線方向から前記角部レジスト膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部レジスト膜に着弾した前記側面用レジスト液を前記側面に流化させた後に乾燥することにより前記側面レジスト膜を形成することを特徴とする。
【００１９】
これにより、圧電素子片の表面に形成された金属膜上に形成されたレジスト膜の、圧電素子片の角部に対応する部分の膜厚を厚くすることができる。そのため、このようなレジスト膜をパターニングして形成されたレジストマスクを介して金属膜をエッチングすることにより、圧電素子片の角部付近における、不本意な、金属膜の除去を防止することができる。これにより、断線や短絡を防止することができ、信頼性の高い圧電素子を製造することができる。
また、このような側面レジスト膜形成工程によれば、角部レジスト膜形成工程でのノズルの姿勢を保ったままで、側面に側面レジスト膜を形成することができるため、角部レジスト膜形成工程から側面レジスト膜形成工程への移行がスムーズとなり、かつ、側面レジスト膜の形成が容易となる。
【００２０】
本発明の圧電素子の製造方法は、前記圧電素子片は、基部と、基部から互いに平行に突出した少なくとも一対の腕部を有し、前記レジストマスク形成工程では、前記圧電素子片の側面のうち前記一対の腕部の付け根部分の又部には、前記レジスト液を塗布しないことが好ましい。
これにより、レジスト液の使用量を低減することができる。また、又部にレジスト液を塗布しないため、又部に対する露光・現像等の工程を省略することができ、圧電素子の製造工程を簡易化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の圧電素子の製造方法により製造される圧電素子を示す斜視図である。
【図２】図１に示す圧電素子の断面図（Ａ−Ａ線断面図）である。
【図３】本発明の圧電素子の製造方法の第１実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明の圧電素子の製造方法の第１実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明の圧電素子の製造方法の第１実施形態を示す断面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図および平面図である。
【図７】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図および平面図である。
【図８】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図および平面図である。
【図９】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１０】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１１】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１２】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１３】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１４】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図である。
【図１５】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１６】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１７】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１８】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１９】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図２０】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図２１】本発明の第３実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図２２】本発明の第３実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の塗膜形成方法および圧電素子の製造方法を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜第１実施形態＞
まず、本発明の塗膜形成方法を備えた圧電素子の製造方法（本願発明の圧電素子の製造方法）の第１実施形態について説明する。
【００２３】
図１は、本発明の圧電素子の製造方法により製造される圧電素子を示す斜視図、図２は、図１に示す圧電素子の断面図（Ａ−Ａ線断面図）、図３ないし図５は、それぞれ、本発明の圧電素子の製造方法の第１実施形態を示す断面図、図６ないし図８は、それぞれ、本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図および平面図、図９〜図１３は、それぞれ、本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図、図１４は、本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図１〜図１４の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。また、以下では、図１に示すように、互いに直交する３つの軸をｘ軸、ｙ軸およびｚ軸とし、圧電素子片２の上面に平行な平面をｘｙ平面とする。
【００２４】
図１に示す圧電素子（振動子）１は、圧電素子片（振動片）２と、圧電素子片２上に形成された電極３とで構成されている。
圧電素子片２は、音叉型の平面視形状を有する薄板である。すなわち、圧電素子片２は、上面と、下面と、側面と、上面および側面が交差する上側角部と、下面および側面が交差する下側角部とを有している。
【００２５】
具体的には、圧電素子片２は、基部２１と、基部２１から突出し同一方向に延在する一対の腕部２２、２３を有している。また、図２に示すように、腕部２２には、上面に開放する上側凹部２２１と、下面に開放する下側凹部２２２とが形成されている。同様に、腕部２３にも、上面に開放する上側凹部２３１と、下面に開放する下側凹部２３２とが形成されている。これら凹部２２１〜２３２は、それぞれ、腕部２２、２３の延在方向に沿って延在している。また、凹部２２１〜２３２は、互いにほぼ等しい形状（長さ、幅、深さ、開口形状、横断面形状、縦断面形状等）を有している。
このような圧電素子片２の構成材料としては、例えば、水晶、酸化亜鉛、チタン酸ジルコン酸鉛、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、四硼酸リチウム等が挙げられ、これらの中でも水晶を用いることにより、振動特性および温度特性等の優れる圧電素子１が得られる。
【００２６】
図１に示すように、電極３は、互いに絶縁された第１の電極３１および第２の電極３２を有している。第１の電極３１は、基部２１の上面に形成された端子３１１と、腕部２２の側面にその側面を囲むように形成された側面電極３１２と、腕部２３の上側凹部２３１に形成された上側凹部電極３１３と、腕部２３の下側凹部２３２に形成された下側凹部電極３１４とを有している。側面電極３１２は、基部２１の側面に形成された配線を介して端子３１１に接続されており、上側凹部電極３１３は、基部２１の上面に形成された配線を介して側面電極３１２に接続されており、下側凹部電極３１４は、基部２１の下面に形成された配線を介して側面電極３１２に接続されている。
【００２７】
このような第１の電極３１とは対称的に、第２の電極３２は、基部２１の上面に形成された端子３２１と、腕部２３の側面にその側面を囲むように形成された側面電極３２２と、腕部２２の上側凹部２２１に設けられた上側凹部電極３２３と、腕部２２の下側凹部２２２に設けられた下側凹部電極３２４とを有している。また、側面電極３２２、上側凹部電極３２３および下側凹部電極３２４は、それぞれ、配線を介して端子３２１に接続されている。
このような構成の圧電素子１は、例えば、基部２１を固定した状態にて、第１の電極３１および第２の電極３２にそれぞれ交流電圧を印加することにより、腕部２２、２３を所定の周波数で振動させたり、反対に、腕部２２、２３の振動により発生する起電力を第１の電極３１および第２の電極３２により検知したりするのに使用する。
【００２８】
次いで、圧電素子１の製造方法（本発明の圧電素子の製造方法）について図３ないし図５に基づいて説明する。なお、図３〜図５は、それぞれ、図１のＡ−Ａ線断面図を示している。
圧電素子１の製造方法は、圧電素子片（被塗布物）２を用意する圧電素子片用意工程と、圧電素子片２の表面に電極３を形成するための金属膜を形成する金属膜形成工程と、金属膜の表面にレジストマスクを形成するレジストマスク形成工程と、レジストマスクを用いて金属膜をパターニングし、電極３を形成する電極形成工程とを有している。以下、これら各工程について詳細に説明する。
【００２９】
［圧電素子片用意工程］
まず、図３（ａ）に示すように、ソーワイヤー等により切り出した後、研磨加工および洗浄を行った薄板状（例えば、厚さが５０μｍ〜２００μｍ程度）の水晶ウエハ１００を用意し、この水晶ウエハ１００の上面に、クロム層Ｃｒおよび金層Ａｕをこの順で例えばスパッタ法により形成する。次いで、金層Ａｕ表面にレジストを塗布した後、このレジストを音叉形状のパターンに露光・現像し、音叉形状のレジストマスクＭ１を形成する。
【００３０】
次いで、図３（ｂ）に示すように、レジストマスクＭ１を介して金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをエッチング（ウェットエッチング、ドライエッチング等の各種エッチング。以下同様である）し、これら層をレジストマスクＭ１同様、音叉形状にパターニングする。次いで、図３（ｃ）に示すように、金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをマスクとして、水晶ウエハ１００をエッチングする。これにより、音叉型の平面視形状を有する、すなわち基部２１および一対の腕部２２、２３を有する水晶ウエハ１００が得られる。
【００３１】
次いで、図３（ｄ）に示すように、レジストマスクＭ１を除去した後、再度、金層Ａｕの表面にレジストを塗布し、このレジストを上側凹部２２１、２３１の開口パターンに露光・現像し、上側凹部２２１、２３１の形状に対応するレジストマスクＭ２を形成する。次いで、図４（ａ）に示すように、レジストマスクＭ２を介して金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをエッチングし、さらに、金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをマスクとして、水晶ウエハ１００をハーフエッチングする。これにより、水晶ウエハ１００の上面に開放する上側凹部２２１、２３１が形成される。
【００３２】
次いで、図４（ｂ）に示すように、上側凹部２２１、２３１の形成と同様の方法で、下側凹部２２２、２３２を形成する。すなわち、水晶ウエハ１００の下面にクロム層Ｃｒおよび金層Ａｕを形成した後、金層Ａｕの表面に下側凹部２２２、２３２に対応するパターンを有するレジストマスクを形成し、そのレジストマスクを介して水晶ウエハ１００をハーフエッチングする。これにより、水晶ウエハ１００の下面に開放する下側凹部２２２、２３２が形成される。なお、下側凹部２２２、２３２の形成は、上側凹部２２１、２３１の形成と同時に行ってもよいし、上側凹部２２１、２３１の形成に先立って行ってもよい。
次いで、図４（ｃ）に示すように、水晶ウエハ１００上に形成された全ての膜（レジストマスクＭ２、クロム層Ｃｒおよび金層Ａｕ）を除去する。以上の工程により、基部２１、腕部２２、２３、上側凹部２２１、２３１および下側凹部２２２、２３２を有する圧電素子片２が得られる。
【００３３】
［金属膜形成工程］
図５（ａ）に示すように、圧電素子片２の表面（上面、下面および側面）に、電極３（第１の電極３１および第２の電極３２）を形成するためのクロム層Ｃｒおよび金層Ａｕをスパッタ法により形成する。
［レジストマスク形成工程］
図５（ｂ）に示すように、後述する方法（本発明の塗付膜形成方法）により、金層Ａｕの表面にレジスト液を塗布し、これを乾燥することによりレジスト膜を形成する。その後、このレジスト膜を第１電極３１および第２電極３２のパターン形状に露光・現像することにより、第１の電極３１および第２の電極３２の外形パターンを有するレジストマスクＭ３を形成する。
【００３４】
なお、図５（ｂ）に示すように、本工程では、腕部２２、２３のつけ根部分に挟まれた又部２４にはレジスト液を塗布しない。ここで、図１に示すように、圧電素子１では、第１の電極３１の側面電極３１２と第２の電極３２の側面電極３２２とを絶縁（分離）するために、又部２４には電極が形成されていない。すなわち、前述の金属膜形成工程にて又部２４に形成されたクロム層Ｃｒおよび金層Ａｕを除去する必要がある。そのため、クロム層Ｃｒおよび金層Ａｕを除去する必要がある又部２４へのレジスト液の塗布を省略することにより、レジスト液の使用量を低減することができる。また、又部２４にレジスト液を塗布しないのであるから、又部２４に対する露光・現像等の工程を省略することができ、圧電素子１の製造工程を簡易化することができる。
【００３５】
［電極形成工程］
図５（ｃ）に示すように、レジストマスクＭ３を介して金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをエッチングし、これら層を第１、第２の電極３１、３２の形状にパターニングする。エッチング終了後、レジストマスクＭ３を除去する。これにより、クロム層Ｃｒと金層Ａｕが積層して構成された第１の電極３１および第２の電極３２が得られる。なお、第１の電極３１と第２の電極３２との短絡を防止するために、第１の電極３１および第２の電極３２を覆うように圧電素子片２の表面に表面保護膜を形成してもよい。
【００３６】
以上の工程により、圧電素子１が製造される。
なお、このようにして圧電素子１を製造した後、圧電素子１の周波数調整を行ってもよい。この調整方法としては、例えば、金属膜形成工程にて圧電素子片２の表面に形成したクロム層Ｃｒおよび金層Ａｕを用いて、腕部２２、２３の先端部分（第１、第２の電極３１、３２のパターン形状に重ならない領域）に形成した錘部材を、レーザートリミングにより除去して、腕部２２、２３の質量を減少させることにより（質量削減方式により）、圧電素子１の周波数調整を行う方法が挙げられる。
【００３７】
次いで、前述したレジストマスク形成工程における、金層Ａｕ表面へのレジストの塗布方法（本発明の塗膜形成方法）を図６ないし図１４に基づいて詳細に説明する。なお、図６〜図８では、説明の便宜上、クロム層Ｃｒおよび金層Ａｕの積層構造を、単に一層構造の「電極膜４」として図示する。また、以下では、説明の便宜上、圧電素子片２の表面に電極膜４が形成されているものを単に「圧電素子片２」とも言う。
【００３８】
［レジスト液の塗布方法（レジスト膜の形成方法）］
圧電素子片２表面へのレジストの塗布は、吐出法を用いて、インクジェットヘッド５００からレジスト液（液滴）Ｐ、Ｑ、Ｒを吐出し、圧電素子片２表面に着弾させることにより行われる。
インクジェットヘッド５００としては、インクジェットプリンター等で使用されるものとほぼ同様の構成のものを用いることができる。インクジェットヘッド５００の構成について簡単に説明すれば、インクジェットヘッド５００は、例えば、複数のノズル孔（例えば、２列５０行）が形成されたノズルプレートと、各ノズル孔に１対１の関係で連通する複数のインク室と、各インク室を収縮・膨張させる複数のピエゾ素子とを有しており、ピエゾ素子の駆動によりインク室が収縮・膨張すると、その内容量の変化に基づいて、そのインク室に充填されたレジスト液（角部用レジスト液Ｑ、側面用レジスト液Ｒおよびレジスト液Ｐ）がノズル孔から液滴として前記ノズルプレートの法線方向へ吐出するように構成されている。
【００３９】
まず、圧電素子片２を上側凹部２２１、２３１が開放する側の面（以下「第１面２７」とも言う）が上側に位置するように、図示しない載置台に載置する。この図示しない載置台は、例えばヒーター等の加熱手段を備えており、載置された圧電素子片２を加熱することが可能である。
このような載置台によって圧電素子片２を加熱しながら（所定温度に保ちながら）レジスト液を圧電素子片２表面に着弾させることにより、圧電素子片２に着弾したレジスト液を迅速に乾燥することができる。また、例えば、圧電素子片２の温度を適宜調節することにより、レジスト液が圧電素子片２に着弾してから乾燥するまでの時間を制御することもできる。
次いで、圧電素子１の第１面２７（上面）とインクジェットヘッド５００とを対向させるとともに、インクジェットヘッド５００の姿勢を、ノズルプレートと第１面２７とが略平行となるように設定する。これにより、インクジェットヘッド５００から吐出されるレジスト液の吐出方向が、第１面２７の法線方向、すなわちｚ軸方向と一致する。
【００４０】
このときのインクジェットヘッド５００のノズルプレート（ノズル孔）と第１面２７との離間距離は、特に限定されないが、０．５ｍｍ〜２ｍｍ程度であるのが好ましい。このような範囲とすることにより、インクジェットヘッド５００と圧電素子片２との接触を防止しつつ、ノズル孔から吐出したレジスト液を第１面２７や後述する角部Ａの所望位置に高精度に着弾させることができる。
なお、角部用レジスト液Ｑ、側面用レジスト液Ｒおよびレジスト液Ｐを、互いに同じレジスト液としてもよいし、これらのうち２つを同じレジスト液とし残りの１つを異なるレジスト液としてもよし、互いに異なるレジスト液としてもよい。
【００４１】
［角部レジスト膜形成工程］
次いで、第１面２７と側面２８が交差して形成された角部Ａに、角部用レジスト液Ｑを着弾させ、角部Ａに、角部レジスト膜Ｌ１を形成する。なお、本実施形態では、ノズル孔５０１から吐出される複数の角部用レジスト液Ｑの径は、それぞれ、ほぼ等しく設定されている。
【００４２】
［第１の工程］
まず、図６（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００を、所定のノズル孔５０１が角部Ａ上（直上）にくるように位置させる。次いで、ノズル孔５０１から第１の角部用レジスト液Ｑ１をｚ軸方向（圧電素子片２の上面の法線方向）に吐出する。吐出された第１の角部用レジスト液Ｑ１は、その中心Ｏ１が角部Ａからｚ軸方向に引いた線分Ｓ１上を通過して角部Ａに着弾する。
【００４３】
図６（ｂ）に示すように、角部Ａに着弾した第１の角部用レジスト液Ｑ１は、角部Ａ付近に留まる。そして、図６（ｃ）に示すように、第１の角部用レジスト液Ｑ１を乾燥することにより、角部Ａに第１の角部レジスト膜片Ｌ１１を形成する。
ここで、第１の角部用レジスト液Ｑ１の中心が通過する線分Ｓ１の位置は、第１の角部用レジスト液Ｑ１を角部Ａに着弾させることができれば特に限定されないが、上述のように、角部Ａからｚ軸方向に引いた線分と一致する位置であるのが好ましい。これにより、第１の角部用レジスト液Ｑ１が、角部Ａ付近に、角部Ａを包み込むとともに第１面２７および側面２８に跨がるように塗布される。そのため、角部Ａに、より確実に第１の角部レジスト膜片Ｌ１１を形成することができる。また、ノズル孔５０１の位置が所定位置から若干ずれたり、第１の角部用レジスト液Ｑ１の吐出方向がｚ軸方向から若干ずれたりしても、そのずれを許容し、第１の角部用レジスト液Ｑ１を角部Ａに着弾させることができる。後述する第２の角部用レジスト液Ｑ２〜第ｎの角部用レジスト液Ｑｎについても同様である。
【００４４】
［第２の工程］
次いで、図７（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００（ノズル孔５０１）をｙ軸方向（角部Ａの延在方向）に所定距離ｄ１ずらし、ノズル孔５０１から第２の角部用レジスト液Ｑ２をｚ軸方向に吐出する。吐出された第２の角部用レジスト液Ｑ２は、圧電素子片２への着弾状態にて、第１の角部レジスト膜片Ｌ１１と重なり合う部分を有するように、その中心が線分Ｓ２上を通過して角部Ａに着弾する。線分Ｓ２は、線分Ｓ１に対してｙ軸方向に所定距離ｄ１ずれている。
【００４５】
図７（ｂ）に示すように、角部Ａに着弾した第２の角部用レジスト液Ｑ２は、角部Ａ付近に留まる。そして、図７（ｃ）に示すように、第２の角部用レジスト液Ｑ２を乾燥することにより、角部Ａに、第２の角部レジスト膜片Ｌ１２を形成する。図７（ｃ）に示すように、第２の角部レジスト膜片Ｌ１２は、第１の角部レジスト膜片Ｌ１１と重なり合う領域を有している。
【００４６】
［第３の工程］
次いで、図８（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ１ずらし、ノズル孔５０１から第３の角部用レジスト液Ｑ３をｚ軸方向に吐出する。吐出された第３の角部用レジスト液Ｑ３は、圧電素子片２への着弾状態にて、第２の角部レジスト膜片Ｌ１２と重なり合う部分を有するように、その中心が線分Ｓ３上を通過して角部Ａに着弾する。線分Ｓ３は、線分Ｓ２に対してｙ軸方向に所定距離ｄ１ずれている。
【００４７】
図８（ｂ）に示すように、角部Ａに着弾した第３の角部用レジスト液Ｑ３は、角部Ａ付近に留まる。そして、図８（ｃ）に示すように、第３の角部用レジスト液Ｑ３を乾燥することにより、角部Ａに、第３の角部レジスト膜片Ｌ１３を形成する。図８（ｃ）に示すように、第３の角部レジスト膜片Ｌ１３は、第２の角部レジスト膜片Ｌ１２と重なり合う領域を有している。
【００４８】
［第４の工程〜第ｎの工程］
上述したような、角部Ａへの第１の角部レジスト膜片Ｌ１１〜第３の角部レジスト膜片Ｌ１３の形成方法と同様にして、角部Ａに、第４の角部レジスト膜片Ｌ１４〜第ｎの角部レジスト膜片Ｌ１ｎを形成する。これにより、図９に示すように、角部Ａの全域に形成された角部レジスト膜Ｌ１（第１の角部レジスト膜片Ｌ１１〜第ｎの角部レジスト膜片Ｌ１ｎの集合体）が得られる。
このような角部Ａへの角部レジスト膜Ｌ１の形成と同様に、その他の角部（第１面２７と側面とが交差して形成された角部であって、又部２４に対応する部分は除く）にも、角部レジスト膜を形成する。以上により、角部レジスト膜形成工程が終了する。
【００４９】
このような角部レジスト膜形成工程によれば、角部Ａに留まった角部用レジスト液Ｑを乾燥することにより、角部レジスト膜Ｌ１を形成するため、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚を比較的厚くすることができる。すなわち、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚が、レジストマスクＭ３としての機能を発揮するのに十分な膜厚となる。そのため、前述の電極形成工程にて、レジストマスクＭ３を介して電極膜４をエッチングする際に、角部Ａ付近にて、不本意に、電極膜４が除去されるのを防止することができる。その結果、電極３の断線、短絡等が防止され、信頼性の高い圧電素子１を製造することができる。
また、圧電素子片２に対するインクジェットヘッド５００の姿勢を一定に保ったまま（すなわち、角部用レジスト液Ｑの吐出方向をｚ軸方向に保ったまま）、延在方向の異なる全ての角部に角部用レジスト液Ｑを塗布することができるため、レジストマスク形成工程の簡易化を図ることもできる。
【００５０】
特に、本実形態では、ｙ軸方向に隣り合う角部レジスト膜片（例えば第１、第２の角部レジスト膜片Ｌ１１、Ｌ１２）を、互いに重なり合うように形成するため、角部レジスト膜Ｌ１を、複数の角部レジスト膜片が重なり合った（積層された）構成とすることができる。そのため、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚をより厚くすることができる。
このような理由から、ノズル孔５０１からの吐出位置がｙ軸方向に隣り合う一対の角部用レジスト液Ｑの中心間距離（すなわち、前述した所定距離ｄ１）としては、これら一対の角部用レジスト液Ｑが圧電素子片２への着弾状態で、重なり合うことができる距離であるのが好ましい。
【００５１】
また、このような距離のうちでも、所定距離ｄ１としては、角部用レジスト液Ｑの着弾半径（インク滴が圧電素子上面に当たって広がった状態での半径）より小さい距離であるのが好ましい。これにより、より確実に、重なり領域を形成することができ、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚が、レジストマスクＭ３として機能させるのに十分な厚さとなる。これに対して、所定距離ｄ１が、角部用レジスト液Ｑの着弾半径より大きい場合には、角部用レジスト液Ｑの径や粘度等にもよるが、重なり領域が小さくなり過ぎたり、形成されなかったりし、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚が薄くなり過ぎる場合がある。
【００５２】
また、角部用レジスト液Ｑの直径としては、特に限定されないが、１０μｍ〜３０μｍ程度であるのが好ましい。角部用レジスト液Ｑの直径をこのような大きさとすることにより、角部用レジスト液Ｑを角部Ａに着弾させやすくなるとともに、角部用レジスト液Ｑを角部Ａに留めておくことが容易となる（すなわち、自重で角部用レジスト液Ｑが側面２８を流下するのを防止または抑制することができる）。
また、角部用レジスト液Ｑの粘度としては、特に限定されないが、１ｃＰ〜２０ｃＰ（０．００１Ｐａ・ｓ〜０．０２Ｐａ・ｓ）程度であるのが好ましい。これにより、より確実に、角部用レジスト液Ｑを角部Ａに留めておくことができる。
【００５３】
［側面レジスト膜形成工程］
次いで、圧電素子片２の側面２８に側面用レジスト液Ｒを塗布し、これを乾燥することにより、側面２８に、側面レジスト膜Ｌ２を形成する。以下、この側面レジスト膜形成工程について詳述する。なお、本実施形態では、ノズル孔５０１から吐出される複数の側面用レジスト液Ｒの径は、それぞれ、ほぼ等しく設定されている。また、図１０〜図１３では、説明の便宜上、角部レジスト膜Ｌ１の図示を簡略化している。
【００５４】
［第１の工程］
まず、インクジェットヘッド５００を、ノズル孔５０１が角部Ａ（角部レジスト膜Ｌ１）の上方にくるように位置させる。次いで、図１０（ａ）に示すように、ノズル孔５０１から、複数の第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２をｚ軸方向に連続して吐出する。吐出された第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２は、ともに、その中心が同一線分Ｔ１上を通過して角部レジスト膜Ｌ１に着弾する。
なお、前記「連続」とは、第１の側面用レジスト液Ｒ１１が圧電素子片２（角部レジスト膜Ｌ１）に着弾してから乾燥する前に、第１の側面用レジスト液Ｒ１２を、第１の側面用レジスト液Ｒ１２と重なるように圧電素子片２に着弾させることを意味する。
【００５５】
図１０（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１に着弾した第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２は、角部レジスト膜Ｌ１上で一体化し、側面２８に濡れ広がるのに十分な容積を有する１滴の側面用レジスト液集合体Ｒ１となって側面２８を流下する。なお、側面用レジスト液集合体Ｒ１の容積としては、側面用レジスト液集合体Ｒ１の粘度や、圧電素子片２の厚さ（側面２８のｚ軸方向での長さ）によっても異なるが、５ｐｌ〜１００ｐｌ程度であるのが好ましい。
【００５６】
図１０（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ１が側面２８を流下することにより、側面２８の厚さ方向の全域に側面用レジスト液集合体Ｒ１が塗布され、この側面用レジスト液集合体Ｒ１を乾燥することにより、側面２８に、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１を形成する。
このような第１の工程では、側面用レジスト液集合体Ｒ１を側面２８に流化させることにより、側面２８に側面用レジスト液集合体Ｒ１を塗布する。そのため、側面２８に塗布された側面用レジスト液集合体Ｒ１は、その膜厚が比較的厚くなり、かつ均一となる。
【００５７】
また、第１の工程では、側面用レジスト液集合体Ｒ１を、複数の第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２を角部レジスト膜Ｌ１上で一体化することにより形成する。そのため、側面２８のｚ軸方向全域に濡れ広がるのに十分な容積を有する側面用レジスト液集合体Ｒ１を簡単に得ることができる。また、ノズル孔５０１から吐出される第１の側面用レジスト液の数を適宜変更することにより、簡単に、側面用レジスト液集合体Ｒ１の容積を変更することができる。
【００５８】
さらに、第１の工程では、第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２の中心が、ともに線分Ｔ１上を通過するため、角部レジスト膜Ｌ１上にて、これら第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２を確実に接触（一体化）させ、側面用レジスト液集合体Ｒ１を得ることができる。なお、角部レジスト膜Ｌ１上にて、第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２を接触させることができれば、第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２の中心が、互いに異なる線分を通過してもよい。
【００５９】
［第２の工程］
次いで、図１１（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ２ずらし、ノズル孔５０１から、複数の第２の側面用レジスト液Ｒ２１、Ｒ２２をｚ軸方向に連続して吐出する。吐出された第２の側面用レジスト液Ｒ２１、２２は、ともに、その中心が同一線分Ｔ２上を通過して角部レジスト膜Ｌ１に着弾する。
【００６０】
図１１（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１に着弾した第２の側面用レジスト液Ｒ２１、Ｒ２２は、角部レジスト膜Ｌ１上で一体化し、側面２８のｚ軸方向全域に濡れ広がるのに十分な容積を有する１滴の側面用レジスト液集合体Ｒ２となる。この側面用レジスト液集合体Ｒ２は、その一部が、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１と重なり合うように位置している。
【００６１】
図１１（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ２が、側面２８を流下することにより、側面２８の厚さ方向の全域に側面用レジスト液集合体Ｒ２が塗布される。そして、この側面用レジスト液集合体Ｒ２を乾燥することにより、側面２８に、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２を形成する。
図１１（ｃ）に示すように、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２は、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１と重なり合う部分を有するように形成される。そのため、第１、第２の側面レジスト膜片Ｌ２１、Ｌ２２の間に、レジスト膜が形成されない領域が、不本意に発生するのを防止することができる。
【００６２】
［第３の工程］
次いで、図１２（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ２ずらし、ノズル孔５０１から、複数の第３の側面用レジスト液Ｒ３１、Ｒ３２をｚ軸方向に連続して吐出する。吐出された第３の側面用レジスト液Ｒ３１、３２は、ともに、その中心が同一線分Ｔ３上を通過して角部レジスト膜Ｌ１に着弾する。
図１２（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１に着弾した第３の側面用レジスト液Ｒ３１、Ｒ３２は、角部レジスト膜Ｌ１上で一体化し、側面２８に濡れ広がるのに十分な容積を有する１滴の側面用レジスト液集合体Ｒ３となる。この側面用レジスト液集合体Ｒ３は、その一部が第２の側面レジスト膜片Ｌ２２と重なり合うように位置している。
【００６３】
図１２（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ３が、側面２８を流下することにより、側面２８の厚さ方向の全域に側面用レジスト液集合体Ｒ３が塗布される。そして、この側面用レジスト液集合体Ｒ３を乾燥することにより、側面２８に、第３の側面レジスト膜片Ｌ２３を形成する。
図１２（ｃ）に示すように、第３の側面レジスト膜片Ｌ２３は、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２と重なり合う部分を有するように形成される。そのため、第２、第３の側面レジスト膜片Ｌ２２、Ｌ２３の間に、レジスト膜が形成されない領域が、不本意に発生するのを防止することができる。
【００６４】
［第４の工程〜第ｎの工程］
上述したような側面２８への第１の側面レジスト膜片Ｌ２１〜第３の側面レジスト膜片Ｌ２３の形成方法と同様にして、側面２８に、第４の側面レジスト膜片Ｌ２４〜第ｎの側面レジスト膜片Ｌ２ｎを形成する。これにより、図１３に示すように、側面２８の全域に形成された側面レジスト膜Ｌ２（第１の側面レジスト膜片Ｌ２１〜第ｎの側面レジスト膜片Ｌ２ｎの集合体）が得られる。
【００６５】
このような側面２８への側面レジスト膜Ｌ２の形成と同様に、その他の側面（又部２４に対応する部分は除く）にも、側面レジスト膜を形成する。以上により、側面レジスト膜形成工程が終了する。
このような側面２８への側面レジスト膜Ｌ２の形成方法（側面用レジスト液の塗布方法）によれば、各工程で形成される側面レジスト膜片Ｌ２１〜Ｌ２ｎの膜厚を、それぞれ、比較的厚くすることができる。そのため、側面レジスト膜片Ｌ２１〜Ｌ２ｎが結合してなる側面レジスト膜Ｌ２の膜厚を、レジストマスクＭ３として機能するのに十分な厚さとすることができる。したがって、前述の電極形成工程にて、レジストマスクＭ３を介して電極膜４をエッチングする際に、側面２８にて不本意に電極膜４が除去されるのを防止することができる。その結果、電極３の断線、短絡等が防止され、信頼性の高い圧電素子１を製造することができる。
【００６６】
また、このような側面２８への側面レジスト膜Ｌ２の形成方法によれば、角部レジスト膜形成工程でのインクジェットヘッド５００の姿勢を保ったままで、側面２８に側面レジスト膜Ｌ２を形成することができるため、角部レジスト膜形成工程から側面レジスト膜形成工程へスムーズに移行することができるとともに、側面レジスト膜Ｌ２の形成が容易となる。
【００６７】
また、本実形態では、ｙ軸方向に隣り合う側面レジスト膜片（例えば第１、第２の側面レジスト膜片Ｌ２１、Ｌ２２）を、互いに重なり合うように形成するため、側面レジスト膜Ｌ２を、複数の側面レジスト膜片が重なり合った構成とすることができる。そのため、側面レジスト膜Ｌ２の膜厚をより厚くすることができる。
このような理由から、ノズル孔５０１からの吐出位置がｙ軸方向に隣り合う一対の側面用レジスト液Ｒの中心間距離（すなわち、前述した所定距離ｄ２）としては、これら一対の側面用レジスト液Ｒが圧電素子片２への着弾状態で、重なり合うことができる距離であるのが好ましい。
【００６８】
また、このような距離のうちでも、所定距離ｄ２としては、特に、側面用レジスト液Ｒの着弾半径（インク滴が圧電素子片２の上面に当たって広がった状態での半径）より小さい距離であるのが好ましい。これにより、側面レジスト膜Ｌ２の膜厚が厚くなり過ぎるのを防止でき、側面レジスト膜Ｌ２の膜厚が当該膜Ｌ２をレジストマスクＭ３として用いるのに適した厚さとなる。
【００６９】
ここで、側面用レジスト液Ｒの直径としては、特に限定されないが、２０μｍ〜６０μｍ程度であるのが好ましい。側面用レジスト液Ｒの直径をこのような大きさとすることにより、より確実に、角部レジスト膜Ｌ１上にて、複数の側壁用レジスト液Ｒを一体化させることとができるとともに、比較的少ない液滴数で、側面２８のｚ軸方向全域に濡れ広がるのに十分な容積を有する側面用レジスト液集合体を形成することができる。
【００７０】
また、側面用レジスト液Ｒの粘度としては、特に限定されないが、１ｃＰ〜２０ｃＰ（０．００１Ｐａ・ｓ〜０．０２Ｐａ・ｓ）程度であるのが好ましい。これにより、側面用レジスト液集合体（例えば、Ｒ１）が側面２８を流下し易くなるとともに、流下し過ぎることを防止することができる。そのため、側面２８に、比較的膜厚が厚く、かつ膜厚が均一な側面レジスト膜Ｌ２を形成することができる。
【００７１】
［第１面レジスト膜形成工程］
次いで、第１面２７にレジスト液Ｐを塗布し、これを乾燥して第１面レジスト膜Ｌ３を形成する。具体的には、図１４（ａ）に示すように、１つまたは複数のノズル孔からレジスト液Ｐを吐出させながら、インクジェットヘッド５００を第１面２７の上方にてｘ軸方向およびｙ軸方向に移動することにより、第１面２７の全域にレジスト液Ｐを着弾させる。このとき、インクジェットヘッド５００のノズルプレートが第１面２７と平行であるため、各ノズル孔と第１面２７との離間距離がそれぞれ等しく、その結果、レジスト液Ｐを圧電素子片２の第１面２７に粗密なく均一に塗布することができる。そして、着弾した複数のレジスト液Ｐを乾燥することにより、第１面２７上に第１面レジスト膜Ｌ３を形成する。
【００７２】
また、第１面２７への着弾状態で重なり合う複数のレジスト液Ｐを塗布する場合には、１滴目のレジスト液Ｐを第１面２７へ着弾させ、当該レジスト液Ｐを乾燥させた後に、２滴目のレジスト液Ｐを乾燥した１滴目のレジスト液Ｐと重なるように第１面２７へ着弾させてもよいし、１滴目のレジスト液Ｐが第１面２７上で乾燥しないうちに、２滴目のレジスト液Ｐを１滴目のレジスト液Ｐと重なるように第１面２７へ着弾させてもよい。また、複数のレジスト液Ｐを同時に第１面２７に着弾させてもよい。
【００７３】
ここで、当該工程（第１面２７にレジスト液Ｐを塗布する工程）では、第１面２７とともに、上側凹部２２１、２３１の内面にもレジスト液Ｐを塗布する必要があるが、この上側凹部２２１、２３１の内面へのレジスト液Ｐの塗布は、例えば、上側凹部２２１、２３１内をレジスト液Ｐで満たすことにより行ってもよいし、前述した角部レジスト膜形成工程および側面レジスト膜形成工程と同様の方法により行ってもよい。なお、図１４（ａ）では、前者の方法によるものが図示されている。
以上の工程により、第１面レジスト膜Ｌ３の形成を終えると、次いで、第２面２９と側面２８とが交差して形成された角部Ｂおよび第２面２９に、角部レジスト膜Ｌ４および第２面レジスト膜Ｌ５を形成する。
【００７４】
［角部レジスト膜形成工程］
具体的には、まず、圧電素子片２の上下を引っくり返す。次いで、複数の角部用レジスト液Ｑを角部Ｂに着弾させ、それを乾燥することにより、図１４（ｂ）に示すように、角部Ｂに角部レジスト膜Ｌ４を形成する。本工程は、角部Ａに角部レジスト膜Ｌ１を形成した、前述の角部レジスト膜形成工程と同様であるため、その説明を省略する。
【００７５】
［第２面レジスト膜形成工程］
次いで、図１４（ｃ）に示すように、第２面２９にレジスト液Ｐを塗布し、乾燥することで第２面レジスト膜Ｌ５を形成する。当該工程は、前述した第１面２７に第１面レジスト膜Ｌ３を形成する工程と同様であるため、その説明省略する。
以上の工程により、圧電素子片２の表面のうち、レジスト膜を形成する必要のある領域の全域（すなわち、圧電素子片２の又部２４を除く全域）に、レジスト膜を形成することができる。そして、このレジスト膜を前述したように第の電極３１および第２の電極３２のパターン形状に露光・現像することにより、第１、第２の電極３１、３２の外形パターンをしたレジストマスクＭ３を形成することができる。
【００７６】
なお、本実施形態では、圧電素子片２表面へのレジスト膜Ｌ１〜Ｌ５の形成（レジスト液Ｐ、Ｑ、Ｒの塗布）を、角部Ａへのレジスト膜Ｌ１の形成、側面２８へのレジスト膜Ｌ２の形成、第１面２７へのレジスト膜Ｌ３の形成、角部Ｂへのレジスト膜Ｌ４の形成、第２面２９へのレジスト膜Ｌ５の形成の順に行っているが、レジスト膜Ｌ１〜Ｌ５の形成順序は、これに限定さない。例えば、角部Ａおよび角部Ｂに、それぞれ、レジスト膜Ｌ１、Ｌ４の形成した後に、側面２８、第１面２７および第２面２９に、それぞれ、レジスト膜Ｌ２、Ｌ３およびＬ５を形成してもよい。また、第１面２７および第２面２９に、それぞれ、レジスト膜Ｌ３およびＬ５を形成した後、角部Ａおよび角部Ｂに、それぞれ、レジスト膜Ｌ１、Ｌ４の形成し、最後に、側面２８にレジスト膜Ｌ２を形成してもよい。
【００７７】
また、本実施形態では、角部用レジスト液Ｑおよび側面用レジスト液Ｒを、同一のインクジェットヘッド５００の同一のノズル孔５０１から吐出する構成について説明したが、これに限定されず、異なるインクジェットヘッドを用いて、角部用レジスト液Ｑおよび側面用レジスト液Ｒを吐出してもよいし、同一のインクジェットヘッドの異なるノズル孔から角部用レジスト液Ｑおよび側面用レジスト液Ｒを吐出してもよい。これにより、角部用レジスト液Ｑおよび側面用レジスト液Ｒとして異なるレジスト液を用いる場合に、利便性が向上する。
【００７８】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の塗膜形成方法を備えた圧電素子の製造方法（本願発明の圧電素子の製造方法）の第２実施形態について説明する。
図１５ないし図２０は、それぞれ、本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【００７９】
以下、第２実施形態の圧電素子の製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本発明の第２実施形態にかかる圧電素子の製造方法では、角部レジスト膜形成工程および側面レジスト膜形成工程が異なる以外は、前述した第１実施形態と同様である。なお、前述した第１実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
【００８０】
［角部レジスト膜形成工程］
［第１の工程］
まず、図１５（ａ）に示すように、互いにｙ軸方向に離間する２つのノズル孔５０１、５０２から第１の角部用レジスト液Ｑ１ａ、Ｑ１ｂをほぼ同時にｚ軸方向に吐出し、これら第１の角部用レジスト液Ｑ１ａ、Ｑ１ｂを角部Ａに着弾させる。図１５（ｂ）に示すように、第１の角部用レジスト液Ｑ１ａ、Ｑ１ｂは、圧電素子片２への着弾状態にて、互いに重ならないように十分に離間している。そして、図１５（ｃ）に示すように、第１の角部用レジスト液Ｑ１ａ、Ｑ１ｂを乾燥することにより、角部Ａに、互いに離間した第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ａ、Ｌ１１ｂを形成する。
【００８１】
［第２の工程］
次いで、図１６（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ１ずらし、ノズル孔５０１、５０２から第２の角部用レジスト液Ｑ２ａ、Ｑ２ｂをほぼ同時にｚ軸方向に吐出する。図１６（ｂ）に示すように、吐出された第２のレジスト液Ｑ２ａは、圧電素子片２への着弾状態にて、第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ａと重なり合う部分を有するように角部Ａに着弾し、これと同様に、第２の角部用レジスト液Ｑ２ｂは、圧電素子片２への着弾状態にて、第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ｂと重なり合う部分を有するように角部Ａに着弾する。そして、図１６（ｃ）に示すように、第２の角部用レジスト液Ｑ２ａ、Ｑ２ｂを乾燥することにより、角部Ａに、互いに離間した第２の角部レジスト膜片Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂを形成する。
【００８２】
［第３の工程〜第ｎの工程］
上述したような、角部Ａへの第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ａ、Ｌ１１ｂおよび第２の角部レジスト膜片Ｌ１２ａ、Ｌ１２ｂの形成と同様にして、角部Ａに、第３の角部レジスト膜片Ｌ１３ａ、Ｌ１３ｂ〜第ｎの角部レジスト膜片Ｌ１ｎａ、Ｌ１ｎｂを形成する。これにより、図１７に示すように、角部Ａ全域に形成された角部レジスト膜Ｌ１（第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ａ、Ｌ１１ｂ〜第ｎの角部レジスト膜片Ｌ１ｎａ、Ｌ１ｎｂの集合体）を得ることができる。
このような角部レジスト膜形成工程によれば、各工程（第１の工程〜第ｎの工程）にて、複数の角部レジスト膜片を同時に形成するため、例えば第１実施形態の角部レジスト膜形成工程に比べて、当該工程に要する時間（処理時間）を短縮することができる。
【００８３】
［側面レジスト膜形成工程］
［第１の工程］
まず、図１８（ａ）に示すように、互いにｙ軸方向に離間する２つのノズル孔５０１、５０２のうち、ノズル孔５０１から第１の側面用レジスト液Ｒ１１ａ、Ｒ１２ａを連続して吐出するとともに、ノズル孔５０２から第１の側面用レジスト液Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ｂを連続して吐出する。
【００８４】
図１８（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１上に着弾した第１の側面用レジスト液Ｒ１１ａ、Ｒ１２ａは、一体化し、側面用レジスト液集合体Ｒ１ａとなる。一方の第１の側面用レジスト液Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ｂも、角部レジスト膜Ｌ１上に着弾した後、一体化し側面用レジスト液集合体Ｒ１ｂとなる。図１８（ｂ）に示すように、これら側面用レジスト液集合体Ｒ１ａ、Ｒ１ｂは、圧電素子片２への着弾状態にて、互いに重ならないように十分に離間している。
図１８（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ１ａ、Ｒ１ｂは、それぞれ、側面２８を流下する。これにより、側面２８に側面用レジスト液集合体Ｒ１ａ、Ｒ１ｂが塗布され、これらを乾燥することにより、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂを形成する。
【００８５】
［第２の工程］
次いで、図１９（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ２ずらし、ノズル孔５０１から第２の側面用レジスト液Ｒ２１ａ、Ｒ２２ａを連続して吐出するとともに、ノズル孔５０２から第２の側面用レジスト液Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂを連続して吐出する。
【００８６】
図１９（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１上に着弾した第２の側面用レジスト液Ｒ２１ａ、Ｒ２２ａは、一体化し、側面用レジスト液集合体Ｒ２ａとなる。一方、角部レジスト膜Ｌ１上に着弾した第２の側面用レジスト液Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂも、一体化し、側面用レジスト液集合体Ｒ２ｂとなる。
側面用レジスト液集合体Ｒ２ａは、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａと重なり合う部分を有するように位置し、これと同様に、側面用レジスト液集合体Ｒ２ｂは、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ｂと重なり合う部分を有するように位置している。また、これら側面用レジスト液集合体Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは、圧電素子片２への着弾状態にて、互いに重ならない（接触しない）ように十分に離間している。
【００８７】
図１９（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは、それぞれ、側面２８を流下する。これにより、側面２８に側面用レジスト液集合体Ｒ２ａ、Ｒ２ｂが塗布され、これらを乾燥することにより、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２ａ、Ｌ２２ｂを形成する。このような第２の側面レジスト膜片Ｌ２２ａは、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａと重なり合うよう領域を有するように形成され、一方、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２ｂは、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ｂと重なり合うよう領域を有するように形成されている。
【００８８】
［第３の工程〜第ｎの工程］
上述したような、側面２８への第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂおよび第２の側面レジスト膜片Ｌ２２ａ、Ｌ２２ｂの形成と同様にして、側面２８に、第３の側面レジスト膜片Ｌ２３ａ、Ｌ２３ｂ〜第ｎの側面レジスト膜片Ｌ２ｎａ、Ｌ２ｎｂを形成する。これにより、図２０に示すように、側面２８全域に形成された側面レジスト膜Ｌ２（第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂ〜第ｎの側面レジスト膜片Ｌ２ｎａ、Ｌ２ｎｂの集合体）を得ることができる。
このような側面レジスト膜形成工程によれば、各工程（第１の工程〜第ｎの工程）にて、同時に複数の側面レジスト膜を形成するため、例えば第１実施形態の側面レジスト膜形成工程に比べて、当該工程に要する時間（処理時間）を短縮することができる。
以上のような第２実施形態によっても、第１実施形態と同様の効果を発揮することができる。
【００８９】
＜第３実施形態＞
次に、本発明の塗膜形成方法を備えた圧電素子の製造方法（本願発明の圧電素子の製造方法）の第３実施形態について説明する。
図２１および図２２は、それぞれ、本発明の第３実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【００９０】
以下、第３実施形態の圧電素子の製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本発明の第３実施形態にかかる圧電素子の製造方法では、側面レジスト膜形成工程が異なる以外は、前述した第１実施形態と同様である。なお、前述した第１実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
【００９１】
［側面レジスト膜形成工程］
まず、図２１に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に移動させながら、ノズル孔５０１から側面用レジスト液Ｒを連続して複数吐出する。この際、ｙ軸方向に隣り合う側面用レジスト液Ｒ（例えば図２１中、側面用レジスト液Ｒ’、Ｒ”）は、圧電素子片２（角部レジスト膜Ｌ１）への着弾状態にて重なり合うように、ノズル孔５０１から吐出される。
【００９２】
図２２（ａ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１に着弾した複数の側面用レジスト液Ｒは、隣り合う側面用レジスト液Ｒと接触し一体化することにより、全体で１つの側面用レジスト液集合体Ｒ１となる。
図２２（ｂ）、（ｃ）に示すように、側面２８を側面用レジスト液集合体Ｒ１が流下することにより、側面２８に側面用レジスト液集合体Ｒ１が塗布され、この側面用レジスト液集合体Ｒ１を乾燥することにより、側面２８に側面レジスト膜Ｌ２を形成する。
以上のような第３実施形態によっても、第１実施形態と同様の効果を発揮することができる。
【００９３】
以上、本発明の塗膜形成方法および圧電素子の製造方法を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、他の任意の構成物や、工程が付加されていてもよい。
また、前述した実施形態では、液滴としてレジスト膜を形成するためのレジスト液を用いた構成について説明したが、液滴としてはこれに限定されず、例えば、絶縁膜を形成するための絶縁性の液滴や、電極膜や配線膜を形成する導電性の液滴であってもよい。
【００９４】
また、前述した実施形態では、被塗布物として、圧電材料で構成された圧電体基板を用いた構成について説明したが、被塗布物としては、これに限定されず、例えば、各種樹脂材料で構成された樹脂基板（合成樹脂基板）や、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｆｅ等の各種金属材料で構成された金属基板や、各種セラミックスで構成されたセラミックス基板や、シリコン基板等の半導体基板や、石英ガラス等の各種ガラス材料で構成されたガラス基板、サファイア基板、ダイヤモンド基板等であってもよい。
また、圧電素子片の形状としては、２本の腕部を有する音叉型のものについて説明したが、これに限定されず、例えば、ジャイロセンサ等に用いられる６本の腕部を有する「王」型をなすものであってもよい。
【符号の説明】
【００９５】
１……圧電素子 ２……圧電素子片 ２１……基部 ２２、２３……腕部 ２２１、２３１……上側凹部 ２２２、２３２……下側凹部 ２４……又部 ２７……第１面 ２８……側面 ２９……第２面 ３……電極 ３１……第１の電極 ３１１、３２１……端子 ３１２、３２２……側面電極 ３１３、３２３……上側凹部電極 ３１４、３２４……下側凹部電極 ３２……第２の電極 ４……電極膜 ５００……インクジェットヘッド ５０１、５０２……ノズル孔 １００……水晶ウエハ Ｃｒ……クロム層 Ａｕ……金層 Ａ、Ｂ……角部 Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３……レジストマスク Ｌ１、Ｌ４……角部レジスト膜 Ｌ１１、Ｌ１１ａ、Ｌ１１ｂ……第１の角部レジスト膜片 Ｌ１２、Ｌ１２ａ、Ｌ１２ｂ……第２の角部レジスト膜片 Ｌ１３、Ｌ１３ａ、Ｌ１３ｂ……第３の角部レジスト膜片 Ｌ１４……第４の角部レジスト膜片 Ｌ１ｎ、Ｌ１ｎａ、Ｌ１ｎｂ……第ｎの角部レジスト膜片 Ｌ２……側面レジスト膜 Ｌ２１、Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂ……第１の側面レジスト膜片 Ｌ２２、Ｌ２２ａ、Ｌ２２ｂ……第２の側面レジスト膜片 Ｌ２３、Ｌ２３ａ、Ｌ２３ｂ……第３の側面レジスト膜片 Ｌ２４……第４の側面レジスト膜片 Ｌ２ｎ、Ｌ２ｎａ、Ｌ２ｎｂ……第ｎの側面レジスト膜片 Ｌ３……第１面レジスト膜 Ｌ５……第２面レジスト膜 Ｐ……レジスト液 Ｑ……角部用レジスト液 Ｑ１、Ｑ１ａ、Ｑ１ｂ……第１の角部用レジスト液 Ｑ２、Ｑ２ａ、Ｑ２ｂ……第２の角部用レジスト液 Ｑ３……第３の角部用レジスト液 Ｒ、Ｒ’、Ｒ”……側面用レジスト液 Ｒ１〜Ｒ３……側面用レジスト液集合体 Ｒ１１、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ……第１の側面用レジスト液 Ｒ２１、Ｒ２１ａ、Ｒ２１ｂ、Ｒ２２、Ｒ２２ａ、Ｒ２２ｂ……第２の側面用レジスト液 Ｒ３１、Ｒ３２……第３の側面用レジスト液 Ｓ１〜Ｓ３、Ｔ１〜Ｔ３……線分
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗膜形成方法および圧電素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、水晶等の圧電体材料で構成された圧電基板の表面に電極を形成する方法として次のような方法が知られている。すなわち、まず、圧電基板上に電極を形成するための金属膜をスパッタリング法により形成する。次いで、金属膜上にレジスト（フォトレジスト）を塗布し、電極の形状にパターニング（露光・現像）することによりレジストマスクを形成する。そして、レジストマスクを介して金属膜をエッチングした後、レジストマスクを除去することにより圧電基板上に電極を形成する。
【０００３】
また、金属膜上にレジストを塗布する方法（塗膜を形成する方法）として、スプレーコート法や（特許文献１参照）、ディッピング法などが知られている。これらのうち、スプレーコート法は、ミスト状にしたレジストを気流に乗せて圧電基板に吹き付けることにより金属膜の表面にレジストを塗布する方法である。一方のディッピング法は、容器に満たされたレジスト液中に圧電基板を浸漬させることにより、金属膜の表面にレジストを塗布する方法である。
【０００４】
しかしながら、このようなスプレーコート法およびディッピング法では、ともに、金属膜上に塗布されたレジストに、その表面積が最も小さくなるような力（表面張力）が働く。そのため、塗布されたレジストを乾燥して形成したレジスト膜では、圧電基板の角部に対応する部分の膜厚が、レジストマスクとしての機能を発揮するには薄くなり過ぎる。その結果、レジストマスクを介して金属膜をエッチングする際に、圧電基板の角部に対応する部分（すなわち、レジストマスクが薄い部分）にて、不本意な金属膜の除去が行われ、短絡や断線が発生するという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−８７９３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、被塗布物の角部に膜厚の厚い塗膜を形成することができるとともに、被塗布物の側面に簡単に塗膜を形成することができる塗膜形成方法、およびこの塗膜形成方法を用いることにより、信頼性の高い圧電素子を簡単に製造することのできる圧電素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の塗膜形成方法は、上面、側面およびこれらが交差する角部を有する被塗布物に対して、吐出法により液滴をノズルから吐出し、前記被塗布物に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
前記角部に角部用液滴を塗布し、角部塗付膜を形成する角部塗膜形成工程と、
前記側面に側面用液滴を塗布し、側面塗膜を形成する側面塗膜形成工程とを有し、
前記角部塗膜形成工程は、前記角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部用液滴を前記角部に着弾させ乾燥することにより前記角部塗膜を形成し、
前記側面塗膜形成工程は、前記側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、角部塗膜に着弾した前記側面用液滴を前記側面に流化させた後に乾燥することにより前記側面塗膜を形成するよう構成されていることを特徴とする。
これにより、被塗布物の角部に膜厚の厚い塗膜を形成することができる。また、液滴の吐出方向を一定（上面の法線方向）に保ったままで、法線方向の異なる全ての側面に対して液滴を塗布することができるため、側面に簡単に塗膜を形成することができ、液滴塗布の簡易化を図ることができる。
【０００８】
本発明の塗付膜形成方法では、前記角部塗膜形成工程は、第１の角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記第１の角部用液滴を前記角部に着弾させる第１の工程と、前記第１の角部用液滴が乾燥した後に、前記第１の角部用液滴の前記被塗布物の着弾位置に対して前記角部の延在方向にずれた位置から、第２の角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するとともに前記被塗布物への着弾状態にて前記第１の角部用液滴と重なるように前記ノズルから吐出し、前記第２の角部用液滴を前記角部に着弾させる第２の工程とを有することが好ましい。
これにより、角部塗膜の膜厚を、より厚くすることができる。
【０００９】
本発明の塗膜形成方法では、前記角部塗膜形成工程において、前記第１の工程では、前記角部から前記上面の法線方向に引いた線分上を前記第１の角部用液滴の中心が通過し、前記第２の工程では、前記角部から前記上面の法線方向に引いた線分上を前記第２の角部用液滴の中心が通過することが好ましい。
これにより、第１の角部用液滴が、角部付近に、角部を包み込むとともに上面および側面に跨がるように塗布される。そのため、より確実に、角部に第１の角部用液滴を塗布することができる。また、ノズルの位置が所定位置から若干ずれたり、第１の角部用液滴の吐出方向が上面の法線方向から若干ずれたりしても、そのずれを許容し、第１の角部用液滴を角部に着弾させることができる。第２の角部用液滴についても同様の効果が得られる。
【００１０】
本発明の塗膜形成方法では、前記角部塗膜形成工程において、前記第１の工程では、複数の前記第１の角部用液滴を前記被塗布物への着弾状態にて互いに重ならないように前記ノズルから吐出し、前記第２の工程では、複数の前記第２の角部用液滴を前記被塗布物への着弾状態にて互いに重ならないように前記ノズルから吐出することが好ましい。
これにより、角部塗膜形成工程および側面塗膜形成工程の処理時間を短くすることができる。
【００１１】
本発明の塗付膜形成方法では、前記側面塗膜形成工程は、複数の第１の側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部塗膜に着弾した前記複数の第１の側面用液滴を前記角部塗膜上で一体化させて前記側面に流化させる第１の工程と、前記第１の角部用液滴の前記被塗布物の着弾位置に対して前記角部の延在方向にずれた位置から、複数の第２の側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部塗膜に着弾した前記複数の第２の側面用液滴を前記角部塗膜上で一体化させて前記側面に流化させる第２の工程とを有することが好ましい。
【００１２】
これにより、角部レジスト膜上で一体化した液滴の容量を、側面の被塗布物厚さ方向の全域に濡れ広がるのに十分なものとすることができる。また、第１の工程に対して、第２の工程を角部の延在方向にずらして行うことにより、側面の角部延在方向全域に側面塗膜を形成することができる。その結果、側面の全域に、比較的膜厚の厚い側面塗膜を形成することができる。
【００１３】
本発明の塗付膜形成方法では、前記側面塗膜形成工程において、前記第１の工程では、前記複数の第１の側面用液滴の中心が同一線分上を通過し、前記第２の工程では、前記複数の第２の側面用液滴の中心が同一線分上を通過することが好ましい。
これにより、第１の工程では、角部塗膜上にて、第１の側面用液滴を確実に一体化させることができ、第２の工程でも、角部塗膜上にて、第２の側面用液滴を確実に一体化させることができる。
【００１４】
本発明の塗付膜形成方法では、前記側面塗膜形成工程において、前記第１の工程により前記側面に塗布された複数の第１の側面用液滴と、前記第２の工程により前記側面に塗布された複数の第２の側面用液滴とが、重なり合う領域を有していることが好ましい。
これにより、側面レジスト膜の膜厚をより厚くすることができる。
本発明の塗膜形成方法では、前記角部用液滴および前記側面用液滴の径は、それぞれ、１０μｍ〜３０μｍであることが好ましい。
角部用液滴の直径をこのような大きさとすることにより、角部用液滴を角部に着弾させやすくなるとともに、角部液滴を角部に留めておくことが容易となる（すなわち、自重で角部用液滴が側面を流下するのを防止または抑制することができる。また、側面用液滴の直径をこのような大きさとすることにより、より確実に、角部塗膜上にて、複数の側壁用液滴を一体化させることとができるとともに、比較的少ない液滴数で、一体化した液滴の容積を、側面の被塗布物厚さ方向全域に濡れ広がるのに十分な容積とすることができる。
【００１５】
本発明の塗付膜形成方法では、前記側面用液滴の粘度は、前記角部用液滴の粘度よりも低いことが好ましい。
これにより、角部用液滴については、角部に留まり易くなり、側面用液滴については、側面を流下し易くなる。すなわち、角部用液滴は、角部塗膜形成工程に適した液滴となり、側面用液滴は、側面塗膜形成工程に適した液滴となる。
【００１６】
本発明の塗膜形成方法では、前記角部用液滴の粘度は、１ｃＰ〜２０ｃＰであり、前記側面用液滴の粘度は、１ｃＰ〜２０ｃＰであることが好ましい。
これにより、複数の側面用液滴が一体化した液滴が側面を流下し易くなるとともに、その液滴が、側面を流下し過ぎることを防止することができる。そのため、側面に、比較的膜厚が厚く、かつ膜厚が均一な塗膜を形成することができる。
【００１７】
本発明の塗膜形成方法では、前記被塗布物は、圧電体材料で構成された圧電素子片であることが好ましい。
これにより、例えば、圧電素子片上に所望の形状の電極を形成する際に用いるレジストマスクを形成するためのレジスト膜を簡単に形成することができる。そのため、圧電素子片上に電極が形成されてなる圧電素子を簡単に製造することができる。
本発明の塗膜形成方法では、前記液滴は、レジスト液であることが好ましい。
これにより、例えば、圧電素子片上に所望の形状の電極を形成する際に用いるレジストマスクを形成するためのレジスト膜を簡単に形成することができる。そのため、圧電素子片上に電極が形成されてなる圧電素子を簡単に製造することができる。
【００１８】
本発明の圧電素子の製造方法は、上面、側面およびこれらが交差する角部を有する圧電素子片の表面に電極を形成することにより圧電素子を形成する圧電素子の製造方法であって、
前記圧電素子片の表面に前記電極形成用の金属膜を形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜の表面にレジストマスクを形成するレジストマスク形成工程と、
前記レジストマスクを用いて前記金属膜をパターニングし、前記電極を形成する電極形成工程とを有し、
前記レジストマスク形成工程は、前記角部に角部用レジスト液を塗布し、角部レジスト膜を形成する角部レジスト膜形成工程と、前記側面に側面用レジスト液を塗布し、側面レジスト膜を形成する側面レジスト膜形成工程とを有し、前記角部レジスト膜および前記側面レジスト膜に露光、現像を行うことにより前記レジストマスクを形成するよう構成され、
前記角部レジスト膜形成工程は、前記角部用レジスト液を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部用レジスト液を前記角部に着弾させ乾燥することにより前記角部レジスト膜を形成し、
前記側面レジスト膜形成工程は、前記側面レジスト液を前記上面の法線方向から前記角部レジスト膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部レジスト膜に着弾した前記側面用レジスト液を前記側面に流化させた後に乾燥することにより前記側面レジスト膜を形成することを特徴とする。
【００１９】
これにより、圧電素子片の表面に形成された金属膜上に形成されたレジスト膜の、圧電素子片の角部に対応する部分の膜厚を厚くすることができる。そのため、このようなレジスト膜をパターニングして形成されたレジストマスクを介して金属膜をエッチングすることにより、圧電素子片の角部付近における、不本意な、金属膜の除去を防止することができる。これにより、断線や短絡を防止することができ、信頼性の高い圧電素子を製造することができる。
また、このような側面レジスト膜形成工程によれば、角部レジスト膜形成工程でのノズルの姿勢を保ったままで、側面に側面レジスト膜を形成することができるため、角部レジスト膜形成工程から側面レジスト膜形成工程への移行がスムーズとなり、かつ、側面レジスト膜の形成が容易となる。
【００２０】
本発明の圧電素子の製造方法は、前記圧電素子片は、基部と、基部から互いに平行に突出した少なくとも一対の腕部を有し、前記レジストマスク形成工程では、前記圧電素子片の側面のうち前記一対の腕部の付け根部分の又部には、前記レジスト液を塗布しないことが好ましい。
これにより、レジスト液の使用量を低減することができる。また、又部にレジスト液を塗布しないため、又部に対する露光・現像等の工程を省略することができ、圧電素子の製造工程を簡易化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の圧電素子の製造方法により製造される圧電素子を示す斜視図である。
【図２】図１に示す圧電素子の断面図（Ａ−Ａ線断面図）である。
【図３】本発明の圧電素子の製造方法の第１実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明の圧電素子の製造方法の第１実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明の圧電素子の製造方法の第１実施形態を示す断面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図および平面図である。
【図７】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図および平面図である。
【図８】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図および平面図である。
【図９】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１０】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１１】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１２】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１３】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１４】本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図である。
【図１５】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１６】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１７】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１８】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図１９】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図２０】本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図２１】本発明の第３実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【図２２】本発明の第３実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の塗膜形成方法および圧電素子の製造方法を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜第１実施形態＞
まず、本発明の塗膜形成方法を備えた圧電素子の製造方法（本願発明の圧電素子の製造方法）の第１実施形態について説明する。
【００２３】
図１は、本発明の圧電素子の製造方法により製造される圧電素子を示す斜視図、図２は、図１に示す圧電素子の断面図（Ａ−Ａ線断面図）、図３ないし図５は、それぞれ、本発明の圧電素子の製造方法の第１実施形態を示す断面図、図６ないし図８は、それぞれ、本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図および平面図、図９〜図１３は、それぞれ、本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図、図１４は、本発明の第１実施形態に係る塗膜形成方法を示す断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図１〜図１４の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。また、以下では、図１に示すように、互いに直交する３つの軸をｘ軸、ｙ軸およびｚ軸とし、圧電素子片２の上面に平行な平面をｘｙ平面とする。
【００２４】
図１に示す圧電素子（振動子）１は、圧電素子片（振動片）２と、圧電素子片２上に形成された電極３とで構成されている。
圧電素子片２は、音叉型の平面視形状を有する薄板である。すなわち、圧電素子片２は、上面と、下面と、側面と、上面および側面が交差する上側角部と、下面および側面が交差する下側角部とを有している。
【００２５】
具体的には、圧電素子片２は、基部２１と、基部２１から突出し同一方向に延在する一対の腕部２２、２３を有している。また、図２に示すように、腕部２２には、上面に開放する上側凹部２２１と、下面に開放する下側凹部２２２とが形成されている。同様に、腕部２３にも、上面に開放する上側凹部２３１と、下面に開放する下側凹部２３２とが形成されている。これら凹部２２１〜２３２は、それぞれ、腕部２２、２３の延在方向に沿って延在している。また、凹部２２１〜２３２は、互いにほぼ等しい形状（長さ、幅、深さ、開口形状、横断面形状、縦断面形状等）を有している。
このような圧電素子片２の構成材料としては、例えば、水晶、酸化亜鉛、チタン酸ジルコン酸鉛、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、四硼酸リチウム等が挙げられ、これらの中でも水晶を用いることにより、振動特性および温度特性等の優れる圧電素子１が得られる。
【００２６】
図１に示すように、電極３は、互いに絶縁された第１の電極３１および第２の電極３２を有している。第１の電極３１は、基部２１の上面に形成された端子３１１と、腕部２２の側面にその側面を囲むように形成された側面電極３１２と、腕部２３の上側凹部２３１に形成された上側凹部電極３１３と、腕部２３の下側凹部２３２に形成された下側凹部電極３１４とを有している。側面電極３１２は、基部２１の側面に形成された配線を介して端子３１１に接続されており、上側凹部電極３１３は、基部２１の上面に形成された配線を介して側面電極３１２に接続されており、下側凹部電極３１４は、基部２１の下面に形成された配線を介して側面電極３１２に接続されている。
【００２７】
このような第１の電極３１とは対称的に、第２の電極３２は、基部２１の上面に形成された端子３２１と、腕部２３の側面にその側面を囲むように形成された側面電極３２２と、腕部２２の上側凹部２２１に設けられた上側凹部電極３２３と、腕部２２の下側凹部２２２に設けられた下側凹部電極３２４とを有している。また、側面電極３２２、上側凹部電極３２３および下側凹部電極３２４は、それぞれ、配線を介して端子３２１に接続されている。
このような構成の圧電素子１は、例えば、基部２１を固定した状態にて、第１の電極３１および第２の電極３２にそれぞれ交流電圧を印加することにより、腕部２２、２３を所定の周波数で振動させたり、反対に、腕部２２、２３の振動により発生する起電力を第１の電極３１および第２の電極３２により検知したりするのに使用する。
【００２８】
次いで、圧電素子１の製造方法（本発明の圧電素子の製造方法）について図３ないし図５に基づいて説明する。なお、図３〜図５は、それぞれ、図１のＡ−Ａ線断面図を示している。
圧電素子１の製造方法は、圧電素子片（被塗布物）２を用意する圧電素子片用意工程と、圧電素子片２の表面に電極３を形成するための金属膜を形成する金属膜形成工程と、金属膜の表面にレジストマスクを形成するレジストマスク形成工程と、レジストマスクを用いて金属膜をパターニングし、電極３を形成する電極形成工程とを有している。以下、これら各工程について詳細に説明する。
【００２９】
［圧電素子片用意工程］
まず、図３（ａ）に示すように、ソーワイヤー等により切り出した後、研磨加工および洗浄を行った薄板状（例えば、厚さが５０μｍ〜２００μｍ程度）の水晶ウエハ１００を用意し、この水晶ウエハ１００の上面に、クロム層Ｃｒおよび金層Ａｕをこの順で例えばスパッタ法により形成する。次いで、金層Ａｕ表面にレジストを塗布した後、このレジストを音叉形状のパターンに露光・現像し、音叉形状のレジストマスクＭ１を形成する。
【００３０】
次いで、図３（ｂ）に示すように、レジストマスクＭ１を介して金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをエッチング（ウェットエッチング、ドライエッチング等の各種エッチング。以下同様である）し、これら層をレジストマスクＭ１同様、音叉形状にパターニングする。次いで、図３（ｃ）に示すように、金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをマスクとして、水晶ウエハ１００をエッチングする。これにより、音叉型の平面視形状を有する、すなわち基部２１および一対の腕部２２、２３を有する水晶ウエハ１００が得られる。
【００３１】
次いで、図３（ｄ）に示すように、レジストマスクＭ１を除去した後、再度、金層Ａｕの表面にレジストを塗布し、このレジストを上側凹部２２１、２３１の開口パターンに露光・現像し、上側凹部２２１、２３１の形状に対応するレジストマスクＭ２を形成する。次いで、図４（ａ）に示すように、レジストマスクＭ２を介して金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをエッチングし、さらに、金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをマスクとして、水晶ウエハ１００をハーフエッチングする。これにより、水晶ウエハ１００の上面に開放する上側凹部２２１、２３１が形成される。
【００３２】
次いで、図４（ｂ）に示すように、上側凹部２２１、２３１の形成と同様の方法で、下側凹部２２２、２３２を形成する。すなわち、水晶ウエハ１００の下面にクロム層Ｃｒおよび金層Ａｕを形成した後、金層Ａｕの表面に下側凹部２２２、２３２に対応するパターンを有するレジストマスクを形成し、そのレジストマスクを介して水晶ウエハ１００をハーフエッチングする。これにより、水晶ウエハ１００の下面に開放する下側凹部２２２、２３２が形成される。なお、下側凹部２２２、２３２の形成は、上側凹部２２１、２３１の形成と同時に行ってもよいし、上側凹部２２１、２３１の形成に先立って行ってもよい。
次いで、図４（ｃ）に示すように、水晶ウエハ１００上に形成された全ての膜（レジストマスクＭ２、クロム層Ｃｒおよび金層Ａｕ）を除去する。以上の工程により、基部２１、腕部２２、２３、上側凹部２２１、２３１および下側凹部２２２、２３２を有する圧電素子片２が得られる。
【００３３】
［金属膜形成工程］
図５（ａ）に示すように、圧電素子片２の表面（上面、下面および側面）に、電極３（第１の電極３１および第２の電極３２）を形成するためのクロム層Ｃｒおよび金層Ａｕをスパッタ法により形成する。
［レジストマスク形成工程］
図５（ｂ）に示すように、後述する方法（本発明の塗付膜形成方法）により、金層Ａｕの表面にレジスト液を塗布し、これを乾燥することによりレジスト膜を形成する。その後、このレジスト膜を第１電極３１および第２電極３２のパターン形状に露光・現像することにより、第１の電極３１および第２の電極３２の外形パターンを有するレジストマスクＭ３を形成する。
【００３４】
なお、図５（ｂ）に示すように、本工程では、腕部２２、２３のつけ根部分に挟まれた又部２４にはレジスト液を塗布しない。ここで、図１に示すように、圧電素子１では、第１の電極３１の側面電極３１２と第２の電極３２の側面電極３２２とを絶縁（分離）するために、又部２４には電極が形成されていない。すなわち、前述の金属膜形成工程にて又部２４に形成されたクロム層Ｃｒおよび金層Ａｕを除去する必要がある。そのため、クロム層Ｃｒおよび金層Ａｕを除去する必要がある又部２４へのレジスト液の塗布を省略することにより、レジスト液の使用量を低減することができる。また、又部２４にレジスト液を塗布しないのであるから、又部２４に対する露光・現像等の工程を省略することができ、圧電素子１の製造工程を簡易化することができる。
【００３５】
［電極形成工程］
図５（ｃ）に示すように、レジストマスクＭ３を介して金層Ａｕおよびクロム層Ｃｒをエッチングし、これら層を第１、第２の電極３１、３２の形状にパターニングする。エッチング終了後、レジストマスクＭ３を除去する。これにより、クロム層Ｃｒと金層Ａｕが積層して構成された第１の電極３１および第２の電極３２が得られる。なお、第１の電極３１と第２の電極３２との短絡を防止するために、第１の電極３１および第２の電極３２を覆うように圧電素子片２の表面に表面保護膜を形成してもよい。
【００３６】
以上の工程により、圧電素子１が製造される。
なお、このようにして圧電素子１を製造した後、圧電素子１の周波数調整を行ってもよい。この調整方法としては、例えば、金属膜形成工程にて圧電素子片２の表面に形成したクロム層Ｃｒおよび金層Ａｕを用いて、腕部２２、２３の先端部分（第１、第２の電極３１、３２のパターン形状に重ならない領域）に形成した錘部材を、レーザートリミングにより除去して、腕部２２、２３の質量を減少させることにより（質量削減方式により）、圧電素子１の周波数調整を行う方法が挙げられる。
【００３７】
次いで、前述したレジストマスク形成工程における、金層Ａｕ表面へのレジストの塗布方法（本発明の塗膜形成方法）を図６ないし図１４に基づいて詳細に説明する。なお、図６〜図８では、説明の便宜上、クロム層Ｃｒおよび金層Ａｕの積層構造を、単に一層構造の「電極膜４」として図示する。また、以下では、説明の便宜上、圧電素子片２の表面に電極膜４が形成されているものを単に「圧電素子片２」とも言う。
【００３８】
［レジスト液の塗布方法（レジスト膜の形成方法）］
圧電素子片２表面へのレジストの塗布は、吐出法を用いて、インクジェットヘッド５００からレジスト液（液滴）Ｐ、Ｑ、Ｒを吐出し、圧電素子片２表面に着弾させることにより行われる。
インクジェットヘッド５００としては、インクジェットプリンター等で使用されるものとほぼ同様の構成のものを用いることができる。インクジェットヘッド５００の構成について簡単に説明すれば、インクジェットヘッド５００は、例えば、複数のノズル孔（例えば、２列５０行）が形成されたノズルプレートと、各ノズル孔に１対１の関係で連通する複数のインク室と、各インク室を収縮・膨張させる複数のピエゾ素子とを有しており、ピエゾ素子の駆動によりインク室が収縮・膨張すると、その内容量の変化に基づいて、そのインク室に充填されたレジスト液（角部用レジスト液Ｑ、側面用レジスト液Ｒおよびレジスト液Ｐ）がノズル孔から液滴として前記ノズルプレートの法線方向へ吐出するように構成されている。
【００３９】
まず、圧電素子片２を上側凹部２２１、２３１が開放する側の面（以下「第１面２７」とも言う）が上側に位置するように、図示しない載置台に載置する。この図示しない載置台は、例えばヒーター等の加熱手段を備えており、載置された圧電素子片２を加熱することが可能である。
このような載置台によって圧電素子片２を加熱しながら（所定温度に保ちながら）レジスト液を圧電素子片２表面に着弾させることにより、圧電素子片２に着弾したレジスト液を迅速に乾燥することができる。また、例えば、圧電素子片２の温度を適宜調節することにより、レジスト液が圧電素子片２に着弾してから乾燥するまでの時間を制御することもできる。
次いで、圧電素子１の第１面２７（上面）とインクジェットヘッド５００とを対向させるとともに、インクジェットヘッド５００の姿勢を、ノズルプレートと第１面２７とが略平行となるように設定する。これにより、インクジェットヘッド５００から吐出されるレジスト液の吐出方向が、第１面２７の法線方向、すなわちｚ軸方向と一致する。
【００４０】
このときのインクジェットヘッド５００のノズルプレート（ノズル孔）と第１面２７との離間距離は、特に限定されないが、０．５ｍｍ〜２ｍｍ程度であるのが好ましい。このような範囲とすることにより、インクジェットヘッド５００と圧電素子片２との接触を防止しつつ、ノズル孔から吐出したレジスト液を第１面２７や後述する角部Ａの所望位置に高精度に着弾させることができる。
なお、角部用レジスト液Ｑ、側面用レジスト液Ｒおよびレジスト液Ｐを、互いに同じレジスト液としてもよいし、これらのうち２つを同じレジスト液とし残りの１つを異なるレジスト液としてもよし、互いに異なるレジスト液としてもよい。
【００４１】
［角部レジスト膜形成工程］
次いで、第１面２７と側面２８が交差して形成された角部Ａに、角部用レジスト液Ｑを着弾させ、角部Ａに、角部レジスト膜Ｌ１を形成する。なお、本実施形態では、ノズル孔５０１から吐出される複数の角部用レジスト液Ｑの径は、それぞれ、ほぼ等しく設定されている。
【００４２】
［第１の工程］
まず、図６（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００を、所定のノズル孔５０１が角部Ａ上（直上）にくるように位置させる。次いで、ノズル孔５０１から第１の角部用レジスト液Ｑ１をｚ軸方向（圧電素子片２の上面の法線方向）に吐出する。吐出された第１の角部用レジスト液Ｑ１は、その中心Ｏ１が角部Ａからｚ軸方向に引いた線分Ｓ１上を通過して角部Ａに着弾する。
【００４３】
図６（ｂ）に示すように、角部Ａに着弾した第１の角部用レジスト液Ｑ１は、角部Ａ付近に留まる。そして、図６（ｃ）に示すように、第１の角部用レジスト液Ｑ１を乾燥することにより、角部Ａに第１の角部レジスト膜片Ｌ１１を形成する。
ここで、第１の角部用レジスト液Ｑ１の中心が通過する線分Ｓ１の位置は、第１の角部用レジスト液Ｑ１を角部Ａに着弾させることができれば特に限定されないが、上述のように、角部Ａからｚ軸方向に引いた線分と一致する位置であるのが好ましい。これにより、第１の角部用レジスト液Ｑ１が、角部Ａ付近に、角部Ａを包み込むとともに第１面２７および側面２８に跨がるように塗布される。そのため、角部Ａに、より確実に第１の角部レジスト膜片Ｌ１１を形成することができる。また、ノズル孔５０１の位置が所定位置から若干ずれたり、第１の角部用レジスト液Ｑ１の吐出方向がｚ軸方向から若干ずれたりしても、そのずれを許容し、第１の角部用レジスト液Ｑ１を角部Ａに着弾させることができる。後述する第２の角部用レジスト液Ｑ２〜第ｎの角部用レジスト液Ｑｎについても同様である。
【００４４】
［第２の工程］
次いで、図７（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００（ノズル孔５０１）をｙ軸方向（角部Ａの延在方向）に所定距離ｄ１ずらし、ノズル孔５０１から第２の角部用レジスト液Ｑ２をｚ軸方向に吐出する。吐出された第２の角部用レジスト液Ｑ２は、圧電素子片２への着弾状態にて、第１の角部レジスト膜片Ｌ１１と重なり合う部分を有するように、その中心が線分Ｓ２上を通過して角部Ａに着弾する。線分Ｓ２は、線分Ｓ１に対してｙ軸方向に所定距離ｄ１ずれている。
【００４５】
図７（ｂ）に示すように、角部Ａに着弾した第２の角部用レジスト液Ｑ２は、角部Ａ付近に留まる。そして、図７（ｃ）に示すように、第２の角部用レジスト液Ｑ２を乾燥することにより、角部Ａに、第２の角部レジスト膜片Ｌ１２を形成する。図７（ｃ）に示すように、第２の角部レジスト膜片Ｌ１２は、第１の角部レジスト膜片Ｌ１１と重なり合う領域を有している。
【００４６】
［第３の工程］
次いで、図８（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ１ずらし、ノズル孔５０１から第３の角部用レジスト液Ｑ３をｚ軸方向に吐出する。吐出された第３の角部用レジスト液Ｑ３は、圧電素子片２への着弾状態にて、第２の角部レジスト膜片Ｌ１２と重なり合う部分を有するように、その中心が線分Ｓ３上を通過して角部Ａに着弾する。線分Ｓ３は、線分Ｓ２に対してｙ軸方向に所定距離ｄ１ずれている。
【００４７】
図８（ｂ）に示すように、角部Ａに着弾した第３の角部用レジスト液Ｑ３は、角部Ａ付近に留まる。そして、図８（ｃ）に示すように、第３の角部用レジスト液Ｑ３を乾燥することにより、角部Ａに、第３の角部レジスト膜片Ｌ１３を形成する。図８（ｃ）に示すように、第３の角部レジスト膜片Ｌ１３は、第２の角部レジスト膜片Ｌ１２と重なり合う領域を有している。
【００４８】
［第４の工程〜第ｎの工程］
上述したような、角部Ａへの第１の角部レジスト膜片Ｌ１１〜第３の角部レジスト膜片Ｌ１３の形成方法と同様にして、角部Ａに、第４の角部レジスト膜片Ｌ１４〜第ｎの角部レジスト膜片Ｌ１ｎを形成する。これにより、図９に示すように、角部Ａの全域に形成された角部レジスト膜Ｌ１（第１の角部レジスト膜片Ｌ１１〜第ｎの角部レジスト膜片Ｌ１ｎの集合体）が得られる。
このような角部Ａへの角部レジスト膜Ｌ１の形成と同様に、その他の角部（第１面２７と側面とが交差して形成された角部であって、又部２４に対応する部分は除く）にも、角部レジスト膜を形成する。以上により、角部レジスト膜形成工程が終了する。
【００４９】
このような角部レジスト膜形成工程によれば、角部Ａに留まった角部用レジスト液Ｑを乾燥することにより、角部レジスト膜Ｌ１を形成するため、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚を比較的厚くすることができる。すなわち、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚が、レジストマスクＭ３としての機能を発揮するのに十分な膜厚となる。そのため、前述の電極形成工程にて、レジストマスクＭ３を介して電極膜４をエッチングする際に、角部Ａ付近にて、不本意に、電極膜４が除去されるのを防止することができる。その結果、電極３の断線、短絡等が防止され、信頼性の高い圧電素子１を製造することができる。
また、圧電素子片２に対するインクジェットヘッド５００の姿勢を一定に保ったまま（すなわち、角部用レジスト液Ｑの吐出方向をｚ軸方向に保ったまま）、延在方向の異なる全ての角部に角部用レジスト液Ｑを塗布することができるため、レジストマスク形成工程の簡易化を図ることもできる。
【００５０】
特に、本実形態では、ｙ軸方向に隣り合う角部レジスト膜片（例えば第１、第２の角部レジスト膜片Ｌ１１、Ｌ１２）を、互いに重なり合うように形成するため、角部レジスト膜Ｌ１を、複数の角部レジスト膜片が重なり合った（積層された）構成とすることができる。そのため、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚をより厚くすることができる。
このような理由から、ノズル孔５０１からの吐出位置がｙ軸方向に隣り合う一対の角部用レジスト液Ｑの中心間距離（すなわち、前述した所定距離ｄ１）としては、これら一対の角部用レジスト液Ｑが圧電素子片２への着弾状態で、重なり合うことができる距離であるのが好ましい。
【００５１】
また、このような距離のうちでも、所定距離ｄ１としては、角部用レジスト液Ｑの着弾半径（インク滴が圧電素子上面に当たって広がった状態での半径）より小さい距離であるのが好ましい。これにより、より確実に、重なり領域を形成することができ、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚が、レジストマスクＭ３として機能させるのに十分な厚さとなる。これに対して、所定距離ｄ１が、角部用レジスト液Ｑの着弾半径より大きい場合には、角部用レジスト液Ｑの径や粘度等にもよるが、重なり領域が小さくなり過ぎたり、形成されなかったりし、角部レジスト膜Ｌ１の膜厚が薄くなり過ぎる場合がある。
【００５２】
また、角部用レジスト液Ｑの直径としては、特に限定されないが、１０μｍ〜３０μｍ程度であるのが好ましい。角部用レジスト液Ｑの直径をこのような大きさとすることにより、角部用レジスト液Ｑを角部Ａに着弾させやすくなるとともに、角部用レジスト液Ｑを角部Ａに留めておくことが容易となる（すなわち、自重で角部用レジスト液Ｑが側面２８を流下するのを防止または抑制することができる）。
また、角部用レジスト液Ｑの粘度としては、特に限定されないが、１ｃＰ〜２０ｃＰ（０．００１Ｐａ・ｓ〜０．０２Ｐａ・ｓ）程度であるのが好ましい。これにより、より確実に、角部用レジスト液Ｑを角部Ａに留めておくことができる。
【００５３】
［側面レジスト膜形成工程］
次いで、圧電素子片２の側面２８に側面用レジスト液Ｒを塗布し、これを乾燥することにより、側面２８に、側面レジスト膜Ｌ２を形成する。以下、この側面レジスト膜形成工程について詳述する。なお、本実施形態では、ノズル孔５０１から吐出される複数の側面用レジスト液Ｒの径は、それぞれ、ほぼ等しく設定されている。また、図１０〜図１３では、説明の便宜上、角部レジスト膜Ｌ１の図示を簡略化している。
【００５４】
［第１の工程］
まず、インクジェットヘッド５００を、ノズル孔５０１が角部Ａ（角部レジスト膜Ｌ１）の上方にくるように位置させる。次いで、図１０（ａ）に示すように、ノズル孔５０１から、複数の第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２をｚ軸方向に連続して吐出する。吐出された第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２は、ともに、その中心が同一線分Ｔ１上を通過して角部レジスト膜Ｌ１に着弾する。
なお、前記「連続」とは、第１の側面用レジスト液Ｒ１１が圧電素子片２（角部レジスト膜Ｌ１）に着弾してから乾燥する前に、第１の側面用レジスト液Ｒ１２を、第１の側面用レジスト液Ｒ１２と重なるように圧電素子片２に着弾させることを意味する。
【００５５】
図１０（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１に着弾した第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２は、角部レジスト膜Ｌ１上で一体化し、側面２８に濡れ広がるのに十分な容積を有する１滴の側面用レジスト液集合体Ｒ１となって側面２８を流下する。なお、側面用レジスト液集合体Ｒ１の容積としては、側面用レジスト液集合体Ｒ１の粘度や、圧電素子片２の厚さ（側面２８のｚ軸方向での長さ）によっても異なるが、５ｐｌ〜１００ｐｌ程度であるのが好ましい。
【００５６】
図１０（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ１が側面２８を流下することにより、側面２８の厚さ方向の全域に側面用レジスト液集合体Ｒ１が塗布され、この側面用レジスト液集合体Ｒ１を乾燥することにより、側面２８に、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１を形成する。
このような第１の工程では、側面用レジスト液集合体Ｒ１を側面２８に流化させることにより、側面２８に側面用レジスト液集合体Ｒ１を塗布する。そのため、側面２８に塗布された側面用レジスト液集合体Ｒ１は、その膜厚が比較的厚くなり、かつ均一となる。
【００５７】
また、第１の工程では、側面用レジスト液集合体Ｒ１を、複数の第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２を角部レジスト膜Ｌ１上で一体化することにより形成する。そのため、側面２８のｚ軸方向全域に濡れ広がるのに十分な容積を有する側面用レジスト液集合体Ｒ１を簡単に得ることができる。また、ノズル孔５０１から吐出される第１の側面用レジスト液の数を適宜変更することにより、簡単に、側面用レジスト液集合体Ｒ１の容積を変更することができる。
【００５８】
さらに、第１の工程では、第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２の中心が、ともに線分Ｔ１上を通過するため、角部レジスト膜Ｌ１上にて、これら第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２を確実に接触（一体化）させ、側面用レジスト液集合体Ｒ１を得ることができる。なお、角部レジスト膜Ｌ１上にて、第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２を接触させることができれば、第１の側面用レジスト液Ｒ１１、Ｒ１２の中心が、互いに異なる線分を通過してもよい。
【００５９】
［第２の工程］
次いで、図１１（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ２ずらし、ノズル孔５０１から、複数の第２の側面用レジスト液Ｒ２１、Ｒ２２をｚ軸方向に連続して吐出する。吐出された第２の側面用レジスト液Ｒ２１、２２は、ともに、その中心が同一線分Ｔ２上を通過して角部レジスト膜Ｌ１に着弾する。
【００６０】
図１１（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１に着弾した第２の側面用レジスト液Ｒ２１、Ｒ２２は、角部レジスト膜Ｌ１上で一体化し、側面２８のｚ軸方向全域に濡れ広がるのに十分な容積を有する１滴の側面用レジスト液集合体Ｒ２となる。この側面用レジスト液集合体Ｒ２は、その一部が、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１と重なり合うように位置している。
【００６１】
図１１（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ２が、側面２８を流下することにより、側面２８の厚さ方向の全域に側面用レジスト液集合体Ｒ２が塗布される。そして、この側面用レジスト液集合体Ｒ２を乾燥することにより、側面２８に、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２を形成する。
図１１（ｃ）に示すように、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２は、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１と重なり合う部分を有するように形成される。そのため、第１、第２の側面レジスト膜片Ｌ２１、Ｌ２２の間に、レジスト膜が形成されない領域が、不本意に発生するのを防止することができる。
【００６２】
［第３の工程］
次いで、図１２（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ２ずらし、ノズル孔５０１から、複数の第３の側面用レジスト液Ｒ３１、Ｒ３２をｚ軸方向に連続して吐出する。吐出された第３の側面用レジスト液Ｒ３１、３２は、ともに、その中心が同一線分Ｔ３上を通過して角部レジスト膜Ｌ１に着弾する。
図１２（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１に着弾した第３の側面用レジスト液Ｒ３１、Ｒ３２は、角部レジスト膜Ｌ１上で一体化し、側面２８に濡れ広がるのに十分な容積を有する１滴の側面用レジスト液集合体Ｒ３となる。この側面用レジスト液集合体Ｒ３は、その一部が第２の側面レジスト膜片Ｌ２２と重なり合うように位置している。
【００６３】
図１２（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ３が、側面２８を流下することにより、側面２８の厚さ方向の全域に側面用レジスト液集合体Ｒ３が塗布される。そして、この側面用レジスト液集合体Ｒ３を乾燥することにより、側面２８に、第３の側面レジスト膜片Ｌ２３を形成する。
図１２（ｃ）に示すように、第３の側面レジスト膜片Ｌ２３は、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２と重なり合う部分を有するように形成される。そのため、第２、第３の側面レジスト膜片Ｌ２２、Ｌ２３の間に、レジスト膜が形成されない領域が、不本意に発生するのを防止することができる。
【００６４】
［第４の工程〜第ｎの工程］
上述したような側面２８への第１の側面レジスト膜片Ｌ２１〜第３の側面レジスト膜片Ｌ２３の形成方法と同様にして、側面２８に、第４の側面レジスト膜片Ｌ２４〜第ｎの側面レジスト膜片Ｌ２ｎを形成する。これにより、図１３に示すように、側面２８の全域に形成された側面レジスト膜Ｌ２（第１の側面レジスト膜片Ｌ２１〜第ｎの側面レジスト膜片Ｌ２ｎの集合体）が得られる。
【００６５】
このような側面２８への側面レジスト膜Ｌ２の形成と同様に、その他の側面（又部２４に対応する部分は除く）にも、側面レジスト膜を形成する。以上により、側面レジスト膜形成工程が終了する。
このような側面２８への側面レジスト膜Ｌ２の形成方法（側面用レジスト液の塗布方法）によれば、各工程で形成される側面レジスト膜片Ｌ２１〜Ｌ２ｎの膜厚を、それぞれ、比較的厚くすることができる。そのため、側面レジスト膜片Ｌ２１〜Ｌ２ｎが結合してなる側面レジスト膜Ｌ２の膜厚を、レジストマスクＭ３として機能するのに十分な厚さとすることができる。したがって、前述の電極形成工程にて、レジストマスクＭ３を介して電極膜４をエッチングする際に、側面２８にて不本意に電極膜４が除去されるのを防止することができる。その結果、電極３の断線、短絡等が防止され、信頼性の高い圧電素子１を製造することができる。
【００６６】
また、このような側面２８への側面レジスト膜Ｌ２の形成方法によれば、角部レジスト膜形成工程でのインクジェットヘッド５００の姿勢を保ったままで、側面２８に側面レジスト膜Ｌ２を形成することができるため、角部レジスト膜形成工程から側面レジスト膜形成工程へスムーズに移行することができるとともに、側面レジスト膜Ｌ２の形成が容易となる。
【００６７】
また、本実形態では、ｙ軸方向に隣り合う側面レジスト膜片（例えば第１、第２の側面レジスト膜片Ｌ２１、Ｌ２２）を、互いに重なり合うように形成するため、側面レジスト膜Ｌ２を、複数の側面レジスト膜片が重なり合った構成とすることができる。そのため、側面レジスト膜Ｌ２の膜厚をより厚くすることができる。
このような理由から、ノズル孔５０１からの吐出位置がｙ軸方向に隣り合う一対の側面用レジスト液Ｒの中心間距離（すなわち、前述した所定距離ｄ２）としては、これら一対の側面用レジスト液Ｒが圧電素子片２への着弾状態で、重なり合うことができる距離であるのが好ましい。
【００６８】
また、このような距離のうちでも、所定距離ｄ２としては、特に、側面用レジスト液Ｒの着弾半径（インク滴が圧電素子片２の上面に当たって広がった状態での半径）より小さい距離であるのが好ましい。これにより、側面レジスト膜Ｌ２の膜厚が厚くなり過ぎるのを防止でき、側面レジスト膜Ｌ２の膜厚が当該膜Ｌ２をレジストマスクＭ３として用いるのに適した厚さとなる。
【００６９】
ここで、側面用レジスト液Ｒの直径としては、特に限定されないが、２０μｍ〜６０μｍ程度であるのが好ましい。側面用レジスト液Ｒの直径をこのような大きさとすることにより、より確実に、角部レジスト膜Ｌ１上にて、複数の側壁用レジスト液Ｒを一体化させることとができるとともに、比較的少ない液滴数で、側面２８のｚ軸方向全域に濡れ広がるのに十分な容積を有する側面用レジスト液集合体を形成することができる。
【００７０】
また、側面用レジスト液Ｒの粘度としては、特に限定されないが、１ｃＰ〜２０ｃＰ（０．００１Ｐａ・ｓ〜０．０２Ｐａ・ｓ）程度であるのが好ましい。これにより、側面用レジスト液集合体（例えば、Ｒ１）が側面２８を流下し易くなるとともに、流下し過ぎることを防止することができる。そのため、側面２８に、比較的膜厚が厚く、かつ膜厚が均一な側面レジスト膜Ｌ２を形成することができる。
【００７１】
［第１面レジスト膜形成工程］
次いで、第１面２７にレジスト液Ｐを塗布し、これを乾燥して第１面レジスト膜Ｌ３を形成する。具体的には、図１４（ａ）に示すように、１つまたは複数のノズル孔からレジスト液Ｐを吐出させながら、インクジェットヘッド５００を第１面２７の上方にてｘ軸方向およびｙ軸方向に移動することにより、第１面２７の全域にレジスト液Ｐを着弾させる。このとき、インクジェットヘッド５００のノズルプレートが第１面２７と平行であるため、各ノズル孔と第１面２７との離間距離がそれぞれ等しく、その結果、レジスト液Ｐを圧電素子片２の第１面２７に粗密なく均一に塗布することができる。そして、着弾した複数のレジスト液Ｐを乾燥することにより、第１面２７上に第１面レジスト膜Ｌ３を形成する。
【００７２】
また、第１面２７への着弾状態で重なり合う複数のレジスト液Ｐを塗布する場合には、１滴目のレジスト液Ｐを第１面２７へ着弾させ、当該レジスト液Ｐを乾燥させた後に、２滴目のレジスト液Ｐを乾燥した１滴目のレジスト液Ｐと重なるように第１面２７へ着弾させてもよいし、１滴目のレジスト液Ｐが第１面２７上で乾燥しないうちに、２滴目のレジスト液Ｐを１滴目のレジスト液Ｐと重なるように第１面２７へ着弾させてもよい。また、複数のレジスト液Ｐを同時に第１面２７に着弾させてもよい。
【００７３】
ここで、当該工程（第１面２７にレジスト液Ｐを塗布する工程）では、第１面２７とともに、上側凹部２２１、２３１の内面にもレジスト液Ｐを塗布する必要があるが、この上側凹部２２１、２３１の内面へのレジスト液Ｐの塗布は、例えば、上側凹部２２１、２３１内をレジスト液Ｐで満たすことにより行ってもよいし、前述した角部レジスト膜形成工程および側面レジスト膜形成工程と同様の方法により行ってもよい。なお、図１４（ａ）では、前者の方法によるものが図示されている。
以上の工程により、第１面レジスト膜Ｌ３の形成を終えると、次いで、第２面２９と側面２８とが交差して形成された角部Ｂおよび第２面２９に、角部レジスト膜Ｌ４および第２面レジスト膜Ｌ５を形成する。
【００７４】
［角部レジスト膜形成工程］
具体的には、まず、圧電素子片２の上下を引っくり返す。次いで、複数の角部用レジスト液Ｑを角部Ｂに着弾させ、それを乾燥することにより、図１４（ｂ）に示すように、角部Ｂに角部レジスト膜Ｌ４を形成する。本工程は、角部Ａに角部レジスト膜Ｌ１を形成した、前述の角部レジスト膜形成工程と同様であるため、その説明を省略する。
【００７５】
［第２面レジスト膜形成工程］
次いで、図１４（ｃ）に示すように、第２面２９にレジスト液Ｐを塗布し、乾燥することで第２面レジスト膜Ｌ５を形成する。当該工程は、前述した第１面２７に第１面レジスト膜Ｌ３を形成する工程と同様であるため、その説明省略する。
以上の工程により、圧電素子片２の表面のうち、レジスト膜を形成する必要のある領域の全域（すなわち、圧電素子片２の又部２４を除く全域）に、レジスト膜を形成することができる。そして、このレジスト膜を前述したように第の電極３１および第２の電極３２のパターン形状に露光・現像することにより、第１、第２の電極３１、３２の外形パターンをしたレジストマスクＭ３を形成することができる。
【００７６】
なお、本実施形態では、圧電素子片２表面へのレジスト膜Ｌ１〜Ｌ５の形成（レジスト液Ｐ、Ｑ、Ｒの塗布）を、角部Ａへのレジスト膜Ｌ１の形成、側面２８へのレジスト膜Ｌ２の形成、第１面２７へのレジスト膜Ｌ３の形成、角部Ｂへのレジスト膜Ｌ４の形成、第２面２９へのレジスト膜Ｌ５の形成の順に行っているが、レジスト膜Ｌ１〜Ｌ５の形成順序は、これに限定さない。例えば、角部Ａおよび角部Ｂに、それぞれ、レジスト膜Ｌ１、Ｌ４の形成した後に、側面２８、第１面２７および第２面２９に、それぞれ、レジスト膜Ｌ２、Ｌ３およびＬ５を形成してもよい。また、第１面２７および第２面２９に、それぞれ、レジスト膜Ｌ３およびＬ５を形成した後、角部Ａおよび角部Ｂに、それぞれ、レジスト膜Ｌ１、Ｌ４の形成し、最後に、側面２８にレジスト膜Ｌ２を形成してもよい。
【００７７】
また、本実施形態では、角部用レジスト液Ｑおよび側面用レジスト液Ｒを、同一のインクジェットヘッド５００の同一のノズル孔５０１から吐出する構成について説明したが、これに限定されず、異なるインクジェットヘッドを用いて、角部用レジスト液Ｑおよび側面用レジスト液Ｒを吐出してもよいし、同一のインクジェットヘッドの異なるノズル孔から角部用レジスト液Ｑおよび側面用レジスト液Ｒを吐出してもよい。これにより、角部用レジスト液Ｑおよび側面用レジスト液Ｒとして異なるレジスト液を用いる場合に、利便性が向上する。
【００７８】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の塗膜形成方法を備えた圧電素子の製造方法（本願発明の圧電素子の製造方法）の第２実施形態について説明する。
図１５ないし図２０は、それぞれ、本発明の第２実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【００７９】
以下、第２実施形態の圧電素子の製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本発明の第２実施形態にかかる圧電素子の製造方法では、角部レジスト膜形成工程および側面レジスト膜形成工程が異なる以外は、前述した第１実施形態と同様である。なお、前述した第１実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
【００８０】
［角部レジスト膜形成工程］
［第１の工程］
まず、図１５（ａ）に示すように、互いにｙ軸方向に離間する２つのノズル孔５０１、５０２から第１の角部用レジスト液Ｑ１ａ、Ｑ１ｂをほぼ同時にｚ軸方向に吐出し、これら第１の角部用レジスト液Ｑ１ａ、Ｑ１ｂを角部Ａに着弾させる。図１５（ｂ）に示すように、第１の角部用レジスト液Ｑ１ａ、Ｑ１ｂは、圧電素子片２への着弾状態にて、互いに重ならないように十分に離間している。そして、図１５（ｃ）に示すように、第１の角部用レジスト液Ｑ１ａ、Ｑ１ｂを乾燥することにより、角部Ａに、互いに離間した第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ａ、Ｌ１１ｂを形成する。
【００８１】
［第２の工程］
次いで、図１６（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ１ずらし、ノズル孔５０１、５０２から第２の角部用レジスト液Ｑ２ａ、Ｑ２ｂをほぼ同時にｚ軸方向に吐出する。図１６（ｂ）に示すように、吐出された第２のレジスト液Ｑ２ａは、圧電素子片２への着弾状態にて、第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ａと重なり合う部分を有するように角部Ａに着弾し、これと同様に、第２の角部用レジスト液Ｑ２ｂは、圧電素子片２への着弾状態にて、第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ｂと重なり合う部分を有するように角部Ａに着弾する。そして、図１６（ｃ）に示すように、第２の角部用レジスト液Ｑ２ａ、Ｑ２ｂを乾燥することにより、角部Ａに、互いに離間した第２の角部レジスト膜片Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂを形成する。
【００８２】
［第３の工程〜第ｎの工程］
上述したような、角部Ａへの第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ａ、Ｌ１１ｂおよび第２の角部レジスト膜片Ｌ１２ａ、Ｌ１２ｂの形成と同様にして、角部Ａに、第３の角部レジスト膜片Ｌ１３ａ、Ｌ１３ｂ〜第ｎの角部レジスト膜片Ｌ１ｎａ、Ｌ１ｎｂを形成する。これにより、図１７に示すように、角部Ａ全域に形成された角部レジスト膜Ｌ１（第１の角部レジスト膜片Ｌ１１ａ、Ｌ１１ｂ〜第ｎの角部レジスト膜片Ｌ１ｎａ、Ｌ１ｎｂの集合体）を得ることができる。
このような角部レジスト膜形成工程によれば、各工程（第１の工程〜第ｎの工程）にて、複数の角部レジスト膜片を同時に形成するため、例えば第１実施形態の角部レジスト膜形成工程に比べて、当該工程に要する時間（処理時間）を短縮することができる。
【００８３】
［側面レジスト膜形成工程］
［第１の工程］
まず、図１８（ａ）に示すように、互いにｙ軸方向に離間する２つのノズル孔５０１、５０２のうち、ノズル孔５０１から第１の側面用レジスト液Ｒ１１ａ、Ｒ１２ａを連続して吐出するとともに、ノズル孔５０２から第１の側面用レジスト液Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ｂを連続して吐出する。
【００８４】
図１８（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１上に着弾した第１の側面用レジスト液Ｒ１１ａ、Ｒ１２ａは、一体化し、側面用レジスト液集合体Ｒ１ａとなる。一方の第１の側面用レジスト液Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ｂも、角部レジスト膜Ｌ１上に着弾した後、一体化し側面用レジスト液集合体Ｒ１ｂとなる。図１８（ｂ）に示すように、これら側面用レジスト液集合体Ｒ１ａ、Ｒ１ｂは、圧電素子片２への着弾状態にて、互いに重ならないように十分に離間している。
図１８（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ１ａ、Ｒ１ｂは、それぞれ、側面２８を流下する。これにより、側面２８に側面用レジスト液集合体Ｒ１ａ、Ｒ１ｂが塗布され、これらを乾燥することにより、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂを形成する。
【００８５】
［第２の工程］
次いで、図１９（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に所定距離ｄ２ずらし、ノズル孔５０１から第２の側面用レジスト液Ｒ２１ａ、Ｒ２２ａを連続して吐出するとともに、ノズル孔５０２から第２の側面用レジスト液Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂを連続して吐出する。
【００８６】
図１９（ｂ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１上に着弾した第２の側面用レジスト液Ｒ２１ａ、Ｒ２２ａは、一体化し、側面用レジスト液集合体Ｒ２ａとなる。一方、角部レジスト膜Ｌ１上に着弾した第２の側面用レジスト液Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂも、一体化し、側面用レジスト液集合体Ｒ２ｂとなる。
側面用レジスト液集合体Ｒ２ａは、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａと重なり合う部分を有するように位置し、これと同様に、側面用レジスト液集合体Ｒ２ｂは、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ｂと重なり合う部分を有するように位置している。また、これら側面用レジスト液集合体Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは、圧電素子片２への着弾状態にて、互いに重ならない（接触しない）ように十分に離間している。
【００８７】
図１９（ｃ）に示すように、側面用レジスト液集合体Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは、それぞれ、側面２８を流下する。これにより、側面２８に側面用レジスト液集合体Ｒ２ａ、Ｒ２ｂが塗布され、これらを乾燥することにより、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２ａ、Ｌ２２ｂを形成する。このような第２の側面レジスト膜片Ｌ２２ａは、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａと重なり合うよう領域を有するように形成され、一方、第２の側面レジスト膜片Ｌ２２ｂは、第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ｂと重なり合うよう領域を有するように形成されている。
【００８８】
［第３の工程〜第ｎの工程］
上述したような、側面２８への第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂおよび第２の側面レジスト膜片Ｌ２２ａ、Ｌ２２ｂの形成と同様にして、側面２８に、第３の側面レジスト膜片Ｌ２３ａ、Ｌ２３ｂ〜第ｎの側面レジスト膜片Ｌ２ｎａ、Ｌ２ｎｂを形成する。これにより、図２０に示すように、側面２８全域に形成された側面レジスト膜Ｌ２（第１の側面レジスト膜片Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂ〜第ｎの側面レジスト膜片Ｌ２ｎａ、Ｌ２ｎｂの集合体）を得ることができる。
このような側面レジスト膜形成工程によれば、各工程（第１の工程〜第ｎの工程）にて、同時に複数の側面レジスト膜を形成するため、例えば第１実施形態の側面レジスト膜形成工程に比べて、当該工程に要する時間（処理時間）を短縮することができる。
以上のような第２実施形態によっても、第１実施形態と同様の効果を発揮することができる。
【００８９】
＜第３実施形態＞
次に、本発明の塗膜形成方法を備えた圧電素子の製造方法（本願発明の圧電素子の製造方法）の第３実施形態について説明する。
図２１および図２２は、それぞれ、本発明の第３実施形態に係る塗膜形成方法を示す平面図である。
【００９０】
以下、第３実施形態の圧電素子の製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本発明の第３実施形態にかかる圧電素子の製造方法では、側面レジスト膜形成工程が異なる以外は、前述した第１実施形態と同様である。なお、前述した第１実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
【００９１】
［側面レジスト膜形成工程］
まず、図２１に示すように、インクジェットヘッド５００をｙ軸方向に移動させながら、ノズル孔５０１から側面用レジスト液Ｒを連続して複数吐出する。この際、ｙ軸方向に隣り合う側面用レジスト液Ｒ（例えば図２１中、側面用レジスト液Ｒ’、Ｒ”）は、圧電素子片２（角部レジスト膜Ｌ１）への着弾状態にて重なり合うように、ノズル孔５０１から吐出される。
【００９２】
図２２（ａ）に示すように、角部レジスト膜Ｌ１に着弾した複数の側面用レジスト液Ｒは、隣り合う側面用レジスト液Ｒと接触し一体化することにより、全体で１つの側面用レジスト液集合体Ｒ１となる。
図２２（ｂ）、（ｃ）に示すように、側面２８を側面用レジスト液集合体Ｒ１が流下することにより、側面２８に側面用レジスト液集合体Ｒ１が塗布され、この側面用レジスト液集合体Ｒ１を乾燥することにより、側面２８に側面レジスト膜Ｌ２を形成する。
以上のような第３実施形態によっても、第１実施形態と同様の効果を発揮することができる。
【００９３】
以上、本発明の塗膜形成方法および圧電素子の製造方法を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、他の任意の構成物や、工程が付加されていてもよい。
また、前述した実施形態では、液滴としてレジスト膜を形成するためのレジスト液を用いた構成について説明したが、液滴としてはこれに限定されず、例えば、絶縁膜を形成するための絶縁性の液滴や、電極膜や配線膜を形成する導電性の液滴であってもよい。
【００９４】
また、前述した実施形態では、被塗布物として、圧電材料で構成された圧電体基板を用いた構成について説明したが、被塗布物としては、これに限定されず、例えば、各種樹脂材料で構成された樹脂基板（合成樹脂基板）や、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｆｅ等の各種金属材料で構成された金属基板や、各種セラミックスで構成されたセラミックス基板や、シリコン基板等の半導体基板や、石英ガラス等の各種ガラス材料で構成されたガラス基板、サファイア基板、ダイヤモンド基板等であってもよい。
また、圧電素子片の形状としては、２本の腕部を有する音叉型のものについて説明したが、これに限定されず、例えば、ジャイロセンサ等に用いられる６本の腕部を有する「王」型をなすものであってもよい。
【符号の説明】
【００９５】
１……圧電素子 ２……圧電素子片 ２１……基部 ２２、２３……腕部 ２２１、２３１……上側凹部 ２２２、２３２……下側凹部 ２４……又部 ２７……第１面 ２８……側面 ２９……第２面 ３……電極 ３１……第１の電極 ３１１、３２１……端子 ３１２、３２２……側面電極 ３１３、３２３……上側凹部電極 ３１４、３２４……下側凹部電極 ３２……第２の電極 ４……電極膜 ５００……インクジェットヘッド ５０１、５０２……ノズル孔 １００……水晶ウエハ Ｃｒ……クロム層 Ａｕ……金層 Ａ、Ｂ……角部 Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３……レジストマスク Ｌ１、Ｌ４……角部レジスト膜 Ｌ１１、Ｌ１１ａ、Ｌ１１ｂ……第１の角部レジスト膜片 Ｌ１２、Ｌ１２ａ、Ｌ１２ｂ……第２の角部レジスト膜片 Ｌ１３、Ｌ１３ａ、Ｌ１３ｂ……第３の角部レジスト膜片 Ｌ１４……第４の角部レジスト膜片 Ｌ１ｎ、Ｌ１ｎａ、Ｌ１ｎｂ……第ｎの角部レジスト膜片 Ｌ２……側面レジスト膜 Ｌ２１、Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂ……第１の側面レジスト膜片 Ｌ２２、Ｌ２２ａ、Ｌ２２ｂ……第２の側面レジスト膜片 Ｌ２３、Ｌ２３ａ、Ｌ２３ｂ……第３の側面レジスト膜片 Ｌ２４……第４の側面レジスト膜片 Ｌ２ｎ、Ｌ２ｎａ、Ｌ２ｎｂ……第ｎの側面レジスト膜片 Ｌ３……第１面レジスト膜 Ｌ５……第２面レジスト膜 Ｐ……レジスト液 Ｑ……角部用レジスト液 Ｑ１、Ｑ１ａ、Ｑ１ｂ……第１の角部用レジスト液 Ｑ２、Ｑ２ａ、Ｑ２ｂ……第２の角部用レジスト液 Ｑ３……第３の角部用レジスト液 Ｒ、Ｒ’、Ｒ”……側面用レジスト液 Ｒ１〜Ｒ３……側面用レジスト液集合体 Ｒ１１、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ……第１の側面用レジスト液 Ｒ２１、Ｒ２１ａ、Ｒ２１ｂ、Ｒ２２、Ｒ２２ａ、Ｒ２２ｂ……第２の側面用レジスト液 Ｒ３１、Ｒ３２……第３の側面用レジスト液 Ｓ１〜Ｓ３、Ｔ１〜Ｔ３……線分
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面、側面およびこれらが交差する角部を有する被塗布物に対して、吐出法により液滴をノズルから吐出し、前記被塗布物に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
前記角部に角部用液滴を塗布し、角部塗膜を形成する角部塗膜形成工程と、
前記側面に側面用液滴を塗布し、側面塗膜を形成する側面塗膜形成工程とを有し、
前記角部塗膜形成工程は、前記角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部用液滴を前記角部に着弾させ乾燥することにより前記角部塗膜を形成し、
前記側面塗膜形成工程は、前記側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、角部塗膜に着弾した前記側面用液滴を前記側面に流化させた後に乾燥することにより前記側面塗膜を形成するよう構成されていることを特徴とする塗膜形成方法。
【請求項２】
前記角部塗膜形成工程は、第１の角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記第１の角部用液滴を前記角部に着弾させる第１の工程と、前記第１の角部用液滴が乾燥した後に、前記第１の角部用液滴の前記被塗布物の着弾位置に対して前記角部の延在方向にずれた位置から、第２の角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するとともに前記被塗布物への着弾状態にて前記第１の角部用液滴と重なるように前記ノズルから吐出し、前記第２の角部用液滴を前記角部に着弾させる第２の工程とを有する請求項１に記載の塗膜形成方法。
【請求項３】
前記角部塗膜形成工程において、前記第１の工程では、前記角部から前記上面の法線方向に引いた線分上を前記第１の角部用液滴の中心が通過し、前記第２の工程では、前記角部から前記上面の法線方向に引いた線分上を前記第２の角部用液滴の中心が通過する請求項２に記載の塗膜形成方法。
【請求項４】
前記角部塗膜形成工程において、前記第１の工程では、複数の前記第１の角部用液滴を前記被塗布物への着弾状態にて互いに重ならないように前記ノズルから吐出し、前記第２の工程では、複数の前記第２の角部用液滴を前記被塗布物への着弾状態にて互いに重ならないように前記ノズルから吐出する請求項２または３に記載の塗膜形成方法。
【請求項５】
前記側面塗膜形成工程は、複数の第１の側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部塗膜に着弾した前記複数の第１の側面用液滴を前記角部塗膜上で一体化させて前記側面に流化させる第１の工程と、前記第１の角部用液滴の前記被塗布物の着弾位置に対して前記角部の延在方向にずれた位置から、複数の第２の側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部塗膜に着弾した前記複数の第２の側面用液滴を前記角部塗膜上で一体化させて前記側面に流化させる第２の工程とを有する請求項１ないし４のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項６】
前記側面塗膜形成工程において、前記第１の工程では、前記複数の第１の側面用液滴の中心が同一線分上を通過し、前記第２の工程では、前記複数の第２の側面用液滴の中心が同一線分上を通過する請求項５に記載の塗膜形成方法。
【請求項７】
前記側面塗膜形成工程において、前記第１の工程により前記側面に塗布された複数の第１の側面用液滴と、前記第２の工程により前記側面に塗布された複数の第２の側面用液滴とが、重なり合う領域を有している請求項５または６に記載の塗膜形成方法。
【請求項８】
前記角部用液滴および前記側面用液滴の径は、それぞれ、１０μｍ〜３０μｍである請求項１ないし７のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項９】
前記側面用液滴の粘度は、前記角部用液滴の粘度よりも低い請求項１ないし８のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項１０】
前記角部用液滴の粘度は、１ｃＰ〜２０ｃＰであり、前記側面用液滴の粘度は、１ｃＰ〜２０ｃＰである請求項９に記載の塗膜形成方法。
【請求項１１】
前記被塗布物は、圧電体材料で構成された圧電素子片である請求項１ないし１０のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項１２】
前記液滴は、レジスト液である請求項１ないし１１のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項１３】
上面、側面およびこれらが交差する角部を有する圧電素子片の表面に電極を形成することにより圧電素子を形成する圧電素子の製造方法であって、
前記圧電素子片の表面に前記電極形成用の金属膜を形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜の表面にレジストマスクを形成するレジストマスク形成工程と、
前記レジストマスクを用いて前記金属膜をパターニングし、前記電極を形成する電極形成工程とを有し、
前記レジストマスク形成工程は、前記角部に角部用レジスト液を塗布し、角部レジスト膜を形成する角部レジスト膜形成工程と、前記側面に側面用レジスト液を塗布し、側面レジスト膜を形成する側面レジスト膜形成工程とを有し、前記角部レジスト膜および前記側面レジスト膜に露光、現像を行うことにより前記レジストマスクを形成するよう構成され、
前記角部レジスト膜形成工程は、前記角部用レジスト液を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部用レジスト液を前記角部に着弾させ乾燥することにより前記角部レジスト膜を形成し、
前記側面レジスト膜形成工程は、前記側面レジスト液を前記上面の法線方向から前記角部レジスト膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部レジスト膜に着弾した前記側面用レジスト液を前記側面に流化させた後に乾燥することにより前記側面レジスト膜を形成することを特徴とする圧電素子の製造方法。
【請求項１４】
前記圧電素子片は、基部と、基部から互いに平行に突出した少なくとも一対の腕部を有し、前記レジストマスク形成工程では、前記圧電素子片の側面のうち前記一対の腕部の付け根部分の又部には、前記レジスト液を塗布しない請求項１３に記載の圧電素子の製造方法。
【請求項１】
上面、側面およびこれらが交差する角部を有する被塗布物に対して、吐出法により液滴をノズルから吐出し、前記被塗布物に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
前記角部に角部用液滴を塗布し、角部塗膜を形成する角部塗膜形成工程と、
前記側面に側面用液滴を塗布し、側面塗膜を形成する側面塗膜形成工程とを有し、
前記角部塗膜形成工程は、前記角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部用液滴を前記角部に着弾させ乾燥することにより前記角部塗膜を形成し、
前記側面塗膜形成工程は、前記側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、角部塗膜に着弾した前記側面用液滴を前記側面に流化させた後に乾燥することにより前記側面塗膜を形成するよう構成されていることを特徴とする塗膜形成方法。
【請求項２】
前記角部塗膜形成工程は、第１の角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記第１の角部用液滴を前記角部に着弾させる第１の工程と、前記第１の角部用液滴が乾燥した後に、前記第１の角部用液滴の前記被塗布物の着弾位置に対して前記角部の延在方向にずれた位置から、第２の角部用液滴を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するとともに前記被塗布物への着弾状態にて前記第１の角部用液滴と重なるように前記ノズルから吐出し、前記第２の角部用液滴を前記角部に着弾させる第２の工程とを有する請求項１に記載の塗膜形成方法。
【請求項３】
前記角部塗膜形成工程において、前記第１の工程では、前記角部から前記上面の法線方向に引いた線分上を前記第１の角部用液滴の中心が通過し、前記第２の工程では、前記角部から前記上面の法線方向に引いた線分上を前記第２の角部用液滴の中心が通過する請求項２に記載の塗膜形成方法。
【請求項４】
前記角部塗膜形成工程において、前記第１の工程では、複数の前記第１の角部用液滴を前記被塗布物への着弾状態にて互いに重ならないように前記ノズルから吐出し、前記第２の工程では、複数の前記第２の角部用液滴を前記被塗布物への着弾状態にて互いに重ならないように前記ノズルから吐出する請求項２または３に記載の塗膜形成方法。
【請求項５】
前記側面塗膜形成工程は、複数の第１の側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部塗膜に着弾した前記複数の第１の側面用液滴を前記角部塗膜上で一体化させて前記側面に流化させる第１の工程と、前記第１の角部用液滴の前記被塗布物の着弾位置に対して前記角部の延在方向にずれた位置から、複数の第２の側面用液滴を前記上面の法線方向から前記角部塗膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部塗膜に着弾した前記複数の第２の側面用液滴を前記角部塗膜上で一体化させて前記側面に流化させる第２の工程とを有する請求項１ないし４のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項６】
前記側面塗膜形成工程において、前記第１の工程では、前記複数の第１の側面用液滴の中心が同一線分上を通過し、前記第２の工程では、前記複数の第２の側面用液滴の中心が同一線分上を通過する請求項５に記載の塗膜形成方法。
【請求項７】
前記側面塗膜形成工程において、前記第１の工程により前記側面に塗布された複数の第１の側面用液滴と、前記第２の工程により前記側面に塗布された複数の第２の側面用液滴とが、重なり合う領域を有している請求項５または６に記載の塗膜形成方法。
【請求項８】
前記角部用液滴および前記側面用液滴の径は、それぞれ、１０μｍ〜３０μｍである請求項１ないし７のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項９】
前記側面用液滴の粘度は、前記角部用液滴の粘度よりも低い請求項１ないし８のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項１０】
前記角部用液滴の粘度は、１ｃＰ〜２０ｃＰであり、前記側面用液滴の粘度は、１ｃＰ〜２０ｃＰである請求項９に記載の塗膜形成方法。
【請求項１１】
前記被塗布物は、圧電体材料で構成された圧電素子片である請求項１ないし１０のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項１２】
前記液滴は、レジスト液である請求項１ないし１１のいずれかに記載の塗膜形成方法。
【請求項１３】
上面、側面およびこれらが交差する角部を有する圧電素子片の表面に電極を形成することにより圧電素子を形成する圧電素子の製造方法であって、
前記圧電素子片の表面に前記電極形成用の金属膜を形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜の表面にレジストマスクを形成するレジストマスク形成工程と、
前記レジストマスクを用いて前記金属膜をパターニングし、前記電極を形成する電極形成工程とを有し、
前記レジストマスク形成工程は、前記角部に角部用レジスト液を塗布し、角部レジスト膜を形成する角部レジスト膜形成工程と、前記側面に側面用レジスト液を塗布し、側面レジスト膜を形成する側面レジスト膜形成工程とを有し、前記角部レジスト膜および前記側面レジスト膜に露光、現像を行うことにより前記レジストマスクを形成するよう構成され、
前記角部レジスト膜形成工程は、前記角部用レジスト液を前記上面の法線方向から前記角部に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部用レジスト液を前記角部に着弾させ乾燥することにより前記角部レジスト膜を形成し、
前記側面レジスト膜形成工程は、前記側面レジスト液を前記上面の法線方向から前記角部レジスト膜に衝突するように前記ノズルから吐出し、前記角部レジスト膜に着弾した前記側面用レジスト液を前記側面に流化させた後に乾燥することにより前記側面レジスト膜を形成することを特徴とする圧電素子の製造方法。
【請求項１４】
前記圧電素子片は、基部と、基部から互いに平行に突出した少なくとも一対の腕部を有し、前記レジストマスク形成工程では、前記圧電素子片の側面のうち前記一対の腕部の付け根部分の又部には、前記レジスト液を塗布しない請求項１３に記載の圧電素子の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【公開番号】特開２０１０−２２７８１５（Ｐ２０１０−２２７８１５Ａ）
【公開日】平成２２年１０月１４日（２０１０．１０．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−７７８１７（Ｐ２００９−７７８１７）
【出願日】平成２１年３月２６日（２００９．３．２６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月１４日（２０１０．１０．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月２６日（２００９．３．２６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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