導電性積層体、その製造方法、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板
【課題】透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板を提供する。
【解決手段】基体１１と、基体１１上に形成された導電膜１２とを有し、導電膜１２が、基体１１側から、酸化物層１２ａと金属層１２ｂとが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体であり、酸化物層１２ａが、酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、酸化物層１２ａにおけるチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％であり、金属層１２ｂが、銀または銀合金を主成分として含有し、導電膜の抵抗値が、０．５〜１．５Ωであり、導電性積層体の視感透過率が、６７．７％以上である導電性積層体１０。
【解決手段】基体１１と、基体１１上に形成された導電膜１２とを有し、導電膜１２が、基体１１側から、酸化物層１２ａと金属層１２ｂとが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体であり、酸化物層１２ａが、酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、酸化物層１２ａにおけるチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％であり、金属層１２ｂが、銀または銀合金を主成分として含有し、導電膜の抵抗値が、０．５〜１．５Ωであり、導電性積層体の視感透過率が、６７．７％以上である導電性積層体１０。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性積層体、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す。）本体を保護するためにＰＤＰの観察者側に設置され、ＰＤＰから発生する電磁ノイズを遮蔽する電磁波遮蔽能を有するプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明性を有する導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラス等として用いられている。たとえば、特許文献１には、透明基板上に酸化亜鉛からなる透明酸化物層と銀層とを交互に積層した合計（２ｎ＋１）層（ｎ≧２）のコーティングが施された導電性積層体が開示されている。該導電性積層体は、充分な導電性（電磁波遮蔽性）および可視光透過性を有するとされている。しかし、導電性積層体の導電性（電磁波遮蔽性）をさらに向上させようと、積層数ｎを増やして銀層の数を増やした場合、可視光透過性が低下する問題がある。
【０００３】
また、導電性積層体は、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとしても用いられている。ＰＤＰの前面からは電磁波が放出されているため、その電磁波を遮蔽することを目的として、ＰＤＰの観察者側には、プラスチックフィルム等の基体上に導電膜が形成された電磁波遮蔽フィルムが配置されている。
たとえば、特許文献２には、導電膜として、酸化物層と金属層とが交互に積層された積層体を有するプラズマディスプレイ用保護板が記載されている。
【０００４】
電磁波遮蔽フィルムにおいては、可視光領域全体にわたって透過率が高く、かつ反射率が低いこと、すなわち透過・反射バンドが広いこと、また、近赤外領域においては遮蔽性が高いことが求められる。透過・反射バンドを広くするためには、酸化物層と金属層との積層数を増やせばよい。しかし、積層数を増やすと、電磁波遮蔽フィルムにおける内部応力が増加し、該フィルムがカールしたり、導電膜が破断して抵抗値が高くなったりするなどの問題が生じた。また、積層数を増やすと可視光透過性が低下することがあった。したがって、従来、導電膜における酸化物層と金属層との積層数には限界があり、積層数を少なくしても、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）および可視光透過性に優れた電磁波遮蔽フィルムは知られていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特公平８−３２４３６号公報
【特許文献２】国際公開第９８／１３８５０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、積層数を少なくしても、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の導電性積層体は、基体と、基体上に形成された導電膜とを有する導電性積層体であって、導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体であり、酸化物層が、酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、酸化物層におけるチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％であり、金属層が、銀または銀合金を主成分として含有し、導電膜の抵抗値が、０．５〜１．５Ωであり、導電性積層体の視感透過率が、６７．７％以上であることを特徴とする。
金属層は、２〜８層設けられていることが好ましい。
金属層は、純銀、または金および／またはビスマスを含有する銀合金であることが好ましい。
【０００８】
本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムは、本発明の導電性積層体からなることを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、支持基体と、該支持基体上に設けられた本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムと、該プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムの導電膜に電気的に接している電極とを有することを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、導電性メッシュフィルムをさらに有していてもよい。
本発明の導電性積層体の製造方法は、（Ａ）酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末を用いて製造されたターゲットを用い、スパッタ法によってチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％である酸化物層を形成する工程と、Ｂ）銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用い、スパッタ法によって金属層を形成する工程とを繰り返し、最後に工程（Ａ）で酸化物層を形成することによって、基体上に、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体である抵抗値が０．５〜１．５Ωの導電膜が形成された、視感透過率が６７．７％以上の導電性積層体を得ることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の導電性積層体は、積層数を少なくしても、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れている。
本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムは、積層数を少なくしても、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れている。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、電磁波遮蔽能に優れ、透過・反射バンドが広く、可視光透過率が高く、近赤外線遮蔽性に優れている。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る導電性積層体の一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明に係る導電性積層体の他の実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明に係る保護板の第１の実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明に係る保護板の第２の実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明に係る保護板の第３の実施形態を示す断面図である。
【図６】実施例１，２、比較例１，２の保護板における反射スペクトルを示すグラフである。
【図７】実施例１，２、比較例１，２の保護板における透過スペクトルを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
「導電性積層体」
本発明の導電性積層体の一実施形態について説明する。
図１に、本実施形態の導電性積層体１０を示す。この導電性積層体１０は、基体１１と、導電膜１２とを有するものである。
【００１２】
＜基体＞
基体１１の材料としては、ガラス板（風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む）、およびポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の透明プラスチック材料等が挙げられる。
【００１３】
＜導電膜＞
導電膜１２は、基体１１側から酸化物層１２ａと金属層１２ｂとが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体である。
導電膜１２において、金属層が２〜８層設けられていることが好ましく、２〜６層設けられていることがより好ましい。金属層が２層以上であれば、抵抗値を充分に低くすることができ、８層以下であれば、導電性積層体１０の内部応力増加をより抑制できる。
導電膜１２は、電磁波遮蔽能を充分に確保するためには、抵抗値が０．４〜３．５Ωであることが好ましく、０．５〜２．５Ωであることがより好ましく、０．５〜１．５Ωであることが特に好ましい。
【００１４】
［酸化物層］
導電膜１２における酸化物層１２ａは、屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物と酸化亜鉛とを主成分として含有する層である。酸化物層１２ａは、屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物と酸化亜鉛とを合計で９０質量％以上含有することが好ましく、９５質量％以上含有することがより好ましく、９９質量％以上含有することが特に好ましい。
屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物の中でも、反射バンドをより広くできることから、酸化チタン（屈折率２．５）および／または酸化ニオブ（屈折率２．４）が好ましい。本発明において「屈折率」とは、波長５５０ｎｍにおける屈折率をいう。
【００１５】
高屈折率金属酸化物の存在により酸化物層１２ａの屈折率を高くすることができ、導電膜１２の透過・反射バンドを広くすることができる。酸化物層１２ａにおいて、高屈折率金属酸化物の金属の、該金属と亜鉛の合計に対する割合は、１〜５０原子％であることが好ましく、５〜２０原子％であることが特に好ましい。この範囲内にすることで、透過・反射バンドを広く保つことができると同時に、耐湿性が良好な導電膜を得ることができる。この理由は必ずしも明確にはなっていないが、この範囲にすることにより、酸化亜鉛の良好な物性を保ったまま、酸化物層１２ａと金属層１２ｂとの応力を緩和することができるためと考えられる。
酸化物層１２ａには、物性を損なわない範囲で、酸化亜鉛、酸化チタンおよび酸化ニオブ以外の金属酸化物が含まれていても構わない。例えば、導電性を付与する目的で、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化スズなどを混合しても構わない。
【００１６】
酸化物層１２ａの幾何学的膜厚（以下、単に膜厚という）は、最も基体に近い酸化物層および最も基体から遠い酸化物層は２０〜６０ｎｍ（特に３０〜５０ｎｍ）、それ以外の酸化物層は４０〜１２０ｎｍ（特に４０〜１００ｎｍ）とすることが好ましい。
【００１７】
［金属層］
金属層１２ｂは、銀または銀合金を主成分として含有する層である。銀または銀合金により金属層１２ｂが形成されていることにより導電膜１２の抵抗値を低くできる。
金属層１２ｂは、導電膜１２の抵抗値を低くする観点からは、純銀からなる層であることが好ましい。本発明における「純銀」は、金属層１２ｂ（１００質量％）中に銀を９９．９質量％以上含有することを意味する。
金属層１２ｂは、銀の拡散を抑制し、結果として耐湿性を高くできる観点からは、金および／またはビスマスを含有する銀合金からなる層が好ましい。金およびビスマスの合計は、比抵抗を４．５μΩｃｍ以下にするために、金属層１２ｂ（１００質量％）中、０．２〜１．５質量％が好ましい。
【００１８】
金属層１２ｂの合計膜厚は、たとえば、得られる導電性積層体１０の抵抗値の目標を１．５Ωとした場合は２５〜６０ｎｍ（特に２５〜５０ｎｍ）、抵抗値の目標を０．９Ωとした場合は３５〜８０ｎｍ（特に３５〜７０ｎｍ）とすることが好ましい。各金属層の膜厚は、前記の合計膜厚を金属層数で適宜配分する。なお、金属層の数が多くなると各金属層の比抵抗が上がるので、抵抗を下げるために合計膜厚は大きくなる傾向にある。
【００１９】
［導電膜の形成方法］
基体１１上への導電膜１２（酸化物層１２ａ、金属層１２ｂ）の形成方法は限定されず、たとえば、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学的気相成長法などが利用できる。中でも、品質、特性の安定性が良好であることから、スパッタ法が好適である。スパッタ法としては、パルススパッタ法、ＡＣスパッタ法等が挙げられる。
【００２０】
スパッタ法による導電膜１２の形成は、たとえば、以下のようにして行うことができる。まず、基体１１表面に、酸化亜鉛と高屈折率金属酸化物とからなるターゲット（以下、ＺｎＯ混合ターゲットという。）を用いて、酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入し、パルススパッタを行い、酸化物層１２ａを形成する。
ついで、銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、パルススパッタを行い、金属層１２ｂを形成する。この操作を繰り返し、最後に前記と同様の方法で酸化物層１２ａを形成することにより、多層構造体の導電膜１２を形成する。
【００２１】
ＺｎＯ混合ターゲットは、それぞれの成分の高純度（通常９９．９％）粉末を混合し、ホットプレス法またはＨＩＰ（ホットアイソスタティックプレス）法を用いて焼結することにより製造できる。ホットプレス法の場合、具体的には、高屈折率金属酸化物を含む酸化亜鉛粉末を真空または不活性ガス雰囲気中で最高温度１０００〜１２００℃でホットプレスすることによって製造される。該ＺｎＯ混合ターゲットは、気孔率が５．０％以下で、比抵抗が１Ωｃｍ未満のものが好ましい。
【００２２】
［保護膜］
本実施形態の導電膜１２においては、最上の酸化物層１２ａの上に保護膜１２ｄが設けられている。保護膜１２ｄは、酸化物層１２ａおよび金属層１２ｂを水分から保護し、表面の酸化物層１２ａ上に任意の樹脂フィルム（防湿フィルム、飛散防止フィルム、反射防止フィルム、近赤外線遮蔽用等の保護フィルム、近赤外線吸収フィルム等の機能性フィルム等）を接着する際の接着剤（特にアルカリ性の接着剤）から酸化物層１２ａを保護できる。なお、この保護膜１２ｄは、本発明において任意の構成要素であり、省略されていても構わないものである。
保護膜１２ｄとして、具体的には、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｓｉなどの金属の酸化物膜や窒化物膜等が挙げられ、特に、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）膜が好ましい。
保護膜１２ｄの膜厚は２〜３０ｎｍであることが好ましく、３〜２０ｎｍであることがより好ましい。
【００２３】
［バリア層］
図２に示すように、導電膜１２においては、酸化物層１２ａと金属層１２ｂが交互に積層した上で、金属層１２ｂ上にバリア層１２ｃが設けられていても構わない。金属層１２ｂの上にバリア層１２ｃが設ければ、上述したように、酸化物層１２ａを酸素雰囲気下で形成する場合に、金属層１２ｂの酸化を防ぐことができる。バリア層１２ｃとしては、酸素非存在下で形成できるものが挙げられ、材質として、たとえば、アルミニウムドープ酸化亜鉛、スズドープ酸化インジウム等を使用できる。
【００２４】
本発明の導電性積層体は、視感透過率が５５％以上のものが好ましく、６０％以上のものがより好ましい。また、本発明の導電性積層体は、波長８５０ｎｍでの透過率が５％以下のものが好ましく、２％以下のものが特に好ましい。
【００２５】
［用途］
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかもガラス等の支持基体に積層した場合、透過・反射バンドが広くなることから、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとして有用である。
また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極として用いることができる。該透明電極は、表面抵抗が低いため応答性がよく、反射率がガラス並みに抑えられるため視認性がよい。
また、本発明の導電性積層体は、自動車風防ガラスとして用いることができる。該自動車風防ガラスは、導電膜に通電することにより、防曇または融氷の機能を発揮でき、かつ低抵抗であるので通電に要する電圧が低く済み、また、反射率がガラス並みに抑えられるためドライバーの視認性を損なうことがない。
また、本発明の導電性積層体は、赤外線領域での反射率が非常に高いため、建物の窓等に設けられるヒートミラーとして用いることができる。
また、本発明の導電性積層体は、電磁波遮蔽効果が高いため、電気・電子機器から放射される電磁波が室外に漏れることを防止し、かつ電気・電子機器に影響する電磁波が室外から室内へ侵入することを防止する電磁波遮蔽窓ガラスに用いることができる。
【００２６】
「プラズマディスプレイ用保護板」
以下、本発明の導電性積層体を、プラズマディスプレイ用保護板（以下、保護板と記す。）の電磁波遮蔽フィルムとして用いた例について説明する。
（第１の実施形態）
図３に、第１の実施形態の保護板を示す。この保護板１は、支持基体２０と、支持基体２０上に設けられた上記導電性積層体１０と、支持基体２０における導電性積層体１０側の面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、支持基体２０における導電性積層体１０側と反対側の面に貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０の導電膜１２の周縁部にて電気的に接している電極５０と、導電性積層体１０上に設けられた保護フィルム６０とを有するものである。
導電性積層体１０と支持基体２０との間、導電性積層体１０と保護フィルム６０の間、支持基体２０と飛散防止フィルム４０との間には粘着剤層７０が設けられている。
また、この保護板１は、導電性積層体１０が、支持基体２０のＰＤＰ側に設けられたものである。
【００２７】
＜支持基体＞
保護板１における支持基体２０は、導電性積層体１０の基体１１よりも剛性の高い、透明な基体である。支持基体２０を設けることにより、導電性積層体１０の基体１１の材料がＰＥＴ等のプラスチックであっても、ＰＤＰ側の表面と反対側で生じる温度差により反りが発生することがない。
支持基体２０の材料としては、上述した導電性積層体１０の基体１１の材料と同様の材料等が挙げられる。
【００２８】
＜着色セラミックス層＞
着色セラミックス層３０は、電極５０が観察者側から直接見えないように隠蔽するための層である。着色セラミックス層３０は、例えば支持基体２０上に印刷したり、着色テープを貼ることにより形成できる。
【００２９】
＜飛散防止フィルム＞
飛散防止フィルム４０は、支持基体２０の損傷時における支持基体２０の破片の飛散を防止するためのフィルムである。飛散防止フィルム４０としては、特に制限はなく、一般的に保護板に用いられているものを使用できる。
【００３０】
飛散防止フィルム４０には、反射防止機能を持たせてもよい。飛散防止機能と反射防止機能を兼ね備えたフィルムはいろいろと知られており、かかるフィルムであればどのようなフィルムでも用いることができる。例えば、旭硝子社製のＡＲＣＴＯＰ（商品名）が挙げられる。ＡＲＣＴＯＰ（商品名）は、自己修復性と飛散防止特性とを有するポリウレタン系軟質樹脂フィルムの片面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率の反射防止層を形成して反射防止処理を施したものである。また、ＰＥＴ等のプラスチックからなるフィルム上に、低屈折率の反射防止層を湿式または乾式で形成したフィルムなども挙げられる。
【００３１】
＜電極＞
電極５０は、導電性積層体１０の導電膜１２の電磁波遮蔽効果が発揮されるように、導電膜１２と電気的に接するように設けられる。
電極５０は、導電膜１２の周縁部の全体に設けられていることが、導電膜１２の電磁波遮蔽効果を確保するために好ましい。
電極５０の材質としては、抵抗が低い方が電磁波遮蔽能の点では優位となる。たとえば、銀（Ａｇ）ペースト（Ａｇとガラスフリットを含むペースト）や銅（Ｃｕ）ペースト（Ｃｕとガラスフリットを含むペースト）を塗布、焼成したものが好適に用いられる。
【００３２】
＜保護フィルム＞
保護フィルム６０は、導電性積層体１０の導電膜１２を保護するフィルムである。具体的には、導電膜１２を水分から保護する場合には、防湿フィルムが設けられる。防湿フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に保護板に用いられているものを使用でき、たとえばＰＥＴ、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック製のフィルムが挙げられる。
また、保護フィルム６０として、上述した飛散防止フィルムを用いてもよい。
【００３３】
＜粘着剤層＞
粘着剤層７０の粘着剤としては、市販されている粘着剤を使用することができ、好ましい具体例としては、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、シリコーン樹脂等の粘着剤が挙げられる。特に、良好な耐湿性が得られることからアクリル系の粘着剤が好ましい。
また、この粘着剤層７０には、紫外線吸収剤等の種々の機能を有する添加剤が配合されてもよい。
【００３４】
（第２の実施形態）
図４に、第２の実施形態の保護板を示す。この保護板２は、支持基体２０と、支持基体２０の片面に設けられた導電性積層体１０と、導電性積層体１０上に設けられた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０の導電膜１２に周縁部にて電気的に接している電極５０と、支持基体２０における導電性積層体１０側と反対側の面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０とを有するものである。また、飛散防止フィルム４０は、電極５０の内側に設けられている。
なお、本実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図３と同じ符号を付して説明を省略する。
この第２の実施形態の保護板２は、導電性積層体１０が、支持基体２０の観察者側に設けられたものである。
【００３５】
（第３の実施形態）
図５に、第３の実施形態の保護板を示す。保護板３は、支持基体２０と、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性積層体１０と、導電性積層体１０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０とは反対側の支持基体２０表面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、導電性メッシュフィルム８０の周縁部が着色セラミックス層３０と重なるように、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性メッシュフィルム８０と、導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層（図示略）とを電気的に接続するように保護板３の周側部に設けられた電極９０とを有するものである。保護板３は、導電性積層体１０が支持基体２０の観察者側に設けられ、導電性メッシュフィルム８０が支持基体２０のＰＤＰ側に設けられている例である。
なお、第３の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図３と同じ符号を付して説明を省略する。
【００３６】
導電性メッシュフィルム８０は、透明フィルム上に銅からなる導電性メッシュ層を形成したものである。通常は、透明フィルム上に銅箔を貼り合わせた後、メッシュ状に加工することにより製造される。
銅箔は、圧延銅、電界銅のどちらでもよく、適宜必要に応じて公知のものを用いればよい。銅箔は、各種表面処理をされていてよい。表面処理としては、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等が挙げられる。銅箔の厚さは、３〜３０μｍが好ましく、５〜２０μｍがより好ましく、７〜１０μｍが特に好ましい。銅箔の厚さを３０μｍ以下とすることにより、エッチング時間を短くすることができ、３μｍ以上とすることにより、電磁波遮蔽性が高くなる。
【００３７】
導電性メッシュ層の開口率は、６０〜９５％が好ましく、６５〜９０％がより好ましく、７０〜８５％が特に好ましい。
導電性メッシュ層の開口部の形状は、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等である。開口部は、形状が揃っていて、かつ面内に並んでいることが好ましい。
開口部のサイズは、１辺または直径が５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１５０μｍであることがより好ましい。開口部の１辺または直径を２００μｍ以下とすることにより、電磁波遮蔽性が向上し、５μｍ以上とすることにより、ＰＤＰの画像への影響が少ない。
開口部以外の金属部の幅は、５〜５０μｍが好ましい。すなわち、開口部の配列ピッチは、１０〜２５０μｍが好ましい。金属部の幅を５μｍ以上とすることにより、加工が容易となり、５０μｍ以下とすることにより、ＰＤＰの画像への影響が少ない。
【００３８】
導電性メッシュ層の面抵抗を必要以上に低くすると、膜が厚くなり、開口部を充分確保できなくなる等、保護板３の光学性能等に悪影響を及ぼす。一方、導電性メッシュ層の面抵抗を必要以上に高くすると、充分な電磁波遮蔽性を得ることができなくなる。したがって、導電性メッシュ層の面抵抗は、０．０１〜１０Ω／□が好ましく、０．０１〜２Ω／□がより好ましく、０．０５〜１Ω／□が特に好ましい。
【００３９】
導電性メッシュ層の面抵抗は、開口部の１辺または直径よりも５倍以上大きな電極を用い、開口部の配列ピッチよりも５倍以上の電極間隔で、４端子法より測定すればよい。たとえば、開口部が１辺１００μｍの正方形で、金属部の幅２０μｍを介して規則的に並べられたものであれば、直径１ｍｍの電極を１ｍｍ間隔で並べて測定すればよい。または、導電性メッシュフィルムを短冊状に加工し、その長手方向の両端に電極を設けて、その抵抗Ｒを測り、長手方向の長さａ、短手方向の長さｂから、下式から求めてもよい。
面抵抗＝Ｒ×ｂ／ａ
【００４０】
銅箔を透明フィルムにラミネートする際には、透明な接着剤を用いる。接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤、ポリエステル系接着剤等が挙げられる。接着剤のタイプとしては、２液型または熱硬化タイプが好ましい。また、接着剤としては、耐薬品性に優れたものが好ましい。
【００４１】
銅箔をメッシュ状に加工する方法としては、フォトレジスト法が挙げられる。印刷法では、スクリーン印刷によって開口部のパターン形成をする。フォトレジスト法では、ロールコーティング法、スピンコーティング法、全面印刷法、転写法等により、銅箔上にフォトレジスト材料を形成し、露光、現像、エッチングによって開口部のパターンを形成する。導電性メッシュ層を形成する他の方法としては、スクリーン印刷等の印刷法によって、開口部のパターンを形成する方法が挙げられる。
【００４２】
電極９０は、導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層とを電気的に接続するものである。電極９０としては、導電性テープ等が挙げられる。導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層とを電気的に接続することによって、全体の面抵抗値をさらに下げることができるため、電磁波遮蔽効果をさらに向上させることができる。
【００４３】
保護板１〜３は、ＰＤＰの前面に配置されるものであるため、ＰＤＰの画像が見にくくならないように、可視光透過率は４０％以上であることが好ましい。また、可視光反射率は６％未満が好ましく、３％未満が特に好ましい。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、５％以下が好ましく、２％以下が特に好ましい。
【００４４】
以上説明した第１の実施形態および第２の実施形態の保護板１〜３は、支持基体２０と、支持基体２０上に設けられた導電性積層体１０と、導電性積層体１０の導電膜１２に電気的に接している電極５０または電極９０とを有するものである。そして、上述したように、導電性積層体１０の導電膜１２は、基体１１側から、酸化物層１２ａと金属層１２ｂとが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体であり、酸化物層１２ａが、屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物と酸化亜鉛とを主成分として含有し、金属層１２ｂが、銀または銀合金を主成分として含有する。このような導電性積層体１０では、導電膜１２の酸化物層１２ａが高屈折率金属酸化物を含有するから、透過・反射バンドを広くすることができる。したがって、積層数を増やさなくても、透過・反射バンドの広い保護板を得ることができる。そして、積層数を増やさないことにより、可視光透過性を高くすることができる。しかも、酸化物層１２ａに含まれる酸化亜鉛は結晶性を有するため、酸化物層１２ａの上に形成された金属層１２ｂ中の金属も結晶化しやすく、マイグレーションしにくい。その結果、保護板は、導電性が高く、電磁波遮蔽能が高い。
【００４５】
なお、本発明の保護板は、上述した実施形態に限定されない。たとえば、上述した実施形態では、粘着剤層７０を設けてフィルムを積層したが、粘着剤または接着剤を用いずに、熱による貼り合わせが可能な場合もある。
また、本発明の保護板においては、必要に応じて、反射防止フィルムまたは低屈折率薄膜である反射防止層を有してもよい。反射防止フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に保護板に用いられているものが使用できる。特に、フッ素樹脂系のフィルムを用いると反射防止性がより優れる。
反射防止層は、得られる保護板の反射率が低くなり好ましい反射色が得られることから、その反射防止層自身について、可視域での反射率が最低となる波長が５００〜６００ｎｍ、特に５３０〜５９０ｎｍであることが好ましい。
また、保護板に近赤外線遮蔽機能を持たせてもよい。近赤外線遮蔽機能を持たせる方法としては、近赤外線遮蔽フィルムを用いる方法、近赤外線吸収基体を用いる方法、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に使用する方法、反射防止樹脂フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる方法、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる方法等が挙げられる。
【実施例】
【００４６】
（実施例１）
高純度の酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末を、酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）となるように、ボールミルで混合し、混合粉末を調製した。該混合粉末をカーボン製のホットプレス用型に充填し、アルゴンガス雰囲気中１１００℃で１時間保持の条件で、ホットプレスを実施し、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲットを得た。ホットプレスの圧力は１００ｋｇ／ｃｍ2 とした。
【００４７】
図２に示す導電性積層体を以下のように作製した。
まず、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００４８】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面に、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。ラザフォード後方散乱法により測定したところ、酸化物層１２ａにおいて、全原子合計（１００原子％）中、亜鉛は３４．３原子％、チタンは８．０原子％、酸素は５７．７原子％であった。これをＺｎＯとＴｉＯ2 に換算すると、酸化物の合計は９６．７質量％であった。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．４５Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの酸化亜鉛膜（バリア層１２ｃ）を形成した。
【００４９】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ６５ｎｍの酸化亜鉛・酸化チタン混合膜を形成した。このようにして得た酸化亜鉛膜と酸化亜鉛・酸化チタン混合膜とで酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．４５Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの酸化亜鉛膜（バリア層１２ｃ）を形成した。
【００５０】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ６５ｎｍの酸化亜鉛・酸化チタン混合膜を形成した。このようにして得た酸化亜鉛膜と酸化亜鉛・酸化チタン混合膜とで酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．４５Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの酸化亜鉛膜（バリア層１２ｃ）を形成した。
【００５１】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ６５ｎｍの酸化亜鉛・酸化チタン混合膜を形成した。このようにして得た酸化亜鉛膜と酸化亜鉛・酸化チタン混合膜とで酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．４５Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの酸化亜鉛膜（バリア層１２ｃ）１２ｃを形成した。
【００５２】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３０ｎｍの酸化亜鉛・酸化チタン混合膜を形成した。このようにして得た酸化亜鉛膜と酸化亜鉛・酸化チタン混合膜とで酸化物層１２ａを形成した。
ついで、最上の酸化物層１２ａ上に、ＩＴＯターゲット［インジウム：スズ＝９０：１０（質量比）］を用いて、アルゴンに５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜１２ｄである厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体１１上に、酸化チタンと酸化亜鉛とを主成分として含有する酸化物層１２ａと、金−銀合金からなる金属層１２ｂとが交互に積層された導電性積層体１０であって、酸化物層１２ａが５層、金属層１２ｂが４層のものを得た。
【００５３】
実施例１の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は７１．４０％、視感反射率は６．５０％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．９６％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９４２Ωであった。結果を表１に示す。
その後、この導電性積層体１０の基体１１側表面には、粘着剤層を設けた。
【００５４】
この導電性積層体１０を用いて図３に示す保護板１を以下のようにして作製した。
支持基体２０であるガラス板を所定の大きさに切断、面取りし、洗浄した後、着色セラミックス層用のインクをガラス板周辺にスクリーン印刷し、充分に乾燥して着色セラミックス層３０を形成した。次いで、ガラス強化処理として、このガラス板を６６０℃まで加熱し、その後風冷してガラス強化処理を施した。
【００５５】
このガラス板の着色セラミックス層３０側に、粘着剤層７０を介して、上記導電性積層体１０を貼り付けた。ついで、導電性積層体１０を保護する目的で、導電性積層体１０上に保護フィルム６０（旭硝子社製、商品名：ＡＲＣＴＯＰ ＣＰ２１）を、粘着剤層７０を介して貼り合わせた。ただし、電極取り出しの目的から、周縁部には保護フィルムを貼り合わせない部分（電極形成部）を残しておいた。
そして、電極形成部に、銀ペースト（太陽インキ製造社製、ＡＦ４８１０）をナイロンメッシュ＃１８０、乳剤厚み２０μｍにてスクリーン印刷し、熱風循環炉で８５℃、３５分間乾燥させて電極５０を形成した。
ついで、ガラス板の裏面（導電性積層体１０を貼り合わせた側の反対側の面）に、飛散防止フィルム４０であるポリウレタン系軟質樹脂フィルム（旭硝子社製、商品名：ＡＲＣＴＯＰ ＵＲＰ２１９９）に粘着剤層７０を介して貼り合わせた。このポリウレタン系軟質樹脂フィルムは反射防止機能も有する。なお、通常、このポリウレタン系軟質樹脂フィルムに着色剤を添加して、色調補正、Ｎｅカットをして色再現性の向上を図るが、本実施例では色調補正、Ｎｅカットを評価しないため無着色とした。
【００５６】
実施例１の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は７１．５％、視感反射率は１．９２％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．７６％であった。結果を表２に示す。この保護板における反射スペクトルを図６に、透過スペクトルを図７に示す。
【００５７】
（比較例３）
酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲットとして、いずれも、酸化亜鉛：酸化チタン＝５０：５０（質量比）のものを用いた以外は実施例１と同様にして導電性積層体および保護板を作製した。比較例１の酸化物層１２ａにおいて、全原子合計（１００原子％）中、亜鉛は２３．６原子％、チタンは１６．７原子％、酸素は５９．７原子％であった。これをＺｎＯとＴｉＯ2 に換算すると、酸化物の合計は９７．７質量％であった。
【００５８】
比較例３の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６２．９４％、視感反射率は４．９６％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．６９％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９６５Ωであった。結果を表１に示す。
【００５９】
比較例３の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６２．６％、視感反射率は１．９２％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．５１％であった。結果を表２に示す。この保護板における反射スペクトルを図６に、透過スペクトルを図７に示す。
【００６０】
（比較例１）
導電性積層体を以下のように作製したこと以外は実施例１と同様にして導電性積層体および保護板を得た。
まず、基体である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まず、アルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入し、イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００６１】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面にアルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ４０ｎｍの酸化物層ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ９ｎｍの金属層を形成した。
【００６２】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．９Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１１ｎｍの金属層を形成した。
【００６３】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１３ｎｍの金属層を形成した。
【００６４】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１３ｎｍの金属層を形成した。
【００６５】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．９Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１１ｎｍの金属層を形成した。
【００６６】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ９ｎｍの金属層を形成した。
【００６７】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．２Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層を形成した。
【００６８】
ついで、最上の酸化物層上に、ＩＴＯターゲット（インジウム：スズ＝９０：１０、質量比）を用いて、アルゴンに５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜である厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体上に、ＡＺＯからなる酸化物層と、金−銀合金からなる金属層とが交互に積層された導電性積層体であって、酸化物層が７層、金属層が６層のものを得た。
【００６９】
比較例１の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は５９．７５％、視感反射率は５．７９％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．５％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９５７Ωであった。結果を表１に示す。
【００７０】
比較例１の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６０．３％、視感反射率は１．９８％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．２８％であった。結果を表２に示す。反射スペクトルを図６に、透過スペクトルを図７に示す。
【００７１】
（比較例２）
導電性積層体を以下のように作製したこと以外は実施例１と同様にして導電性積層体および保護板を得た。
まず、基体であるＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００７２】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面にアルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ４０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１３ｎｍの金属層を形成した。
【００７３】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．９Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１６ｎｍの金属層を形成した。
【００７４】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１６ｎｍの金属層を形成した。
【００７５】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１３ｎｍの金属層を形成した。
【００７６】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．２Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、最上の酸化物層上に、ＩＴＯターゲット（インジウム：スズ＝９０：１０）を用いて、アルゴンに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜である厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体上に、ＡＺＯからなる酸化物層と、金−銀合金からなる金属層とが交互に積層された導電性積層体であって、酸化物層が５層、金属層が４層のものを得た。
【００７７】
比較例２の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６０．９％、視感反射率は６．８５％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．４０％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９８１Ωであった。結果を表１に示す。
【００７８】
比較例２の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６１．８％、視感反射率は４．２２％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．２７％であった。結果を表２に示す。この保護板における反射スペクトルを図６に、透過スペクトルを図７に示す。
【００７９】
酸化物層が酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、金属層が銀合金を主成分として含有する実施例１の保護板は、金属層の数が４層であるにもかかわらず、透過・反射バンドが広く、しかも導電性および可視光透過性に優れていた。
これに対し、酸化物層がＡＺＯを主成分として含有し、金属層の数が６層の比較例１の保護板は、可視光透過率が低かった。
酸化物層がＡＺＯを主成分として含有し、金属層の数が４層の比較例２の保護板は、透過・反射バンドが狭かった。
【００８０】
（実施例３）
図１に示す導電性積層体を以下のように作製した。
まず、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００８１】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面に、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ４０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。ラザフォード後方散乱法により測定したところ、酸化物層１２ａにおいて、全原子合計（１００原子％）中、亜鉛は３７．０原子％、チタンは６．２原子％、酸素は５６．８原子％であった。これをＺｎＯとＴｉＯ2 に換算すると、酸化物の合計は９６．７質量％であった。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００８２】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００８３】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００８４】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、最上の酸化物層１２ａ上に、ＩＴＯターゲット［インジウム：スズ＝９０：１０（質量比）］を用いて、アルゴンに５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜１２ｄである厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体１１上に、酸化チタンと酸化亜鉛とを主成分として含有する酸化物層１２ａと、金−銀合金からなる金属層１２ｂとが交互に積層された導電性積層体であって、酸化物層が４層、金属層が３層のものを得た。
【００８５】
実施例３の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は７７．２５％、視感反射率は５．０７％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、１２．３％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は１．８１５Ωであった。結果を表１に示す。
【００８６】
この導電性積層体１０を用いて、実施例１と同様にして図３に示す保護板１を作製した。
実施例３の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は７６．９９％、視感反射率は３．４５％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、９．６％であった。結果を表２に示す。
【００８７】
（実施例４）
図１に示す導電性積層体を以下のように作製した。
まず、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００８８】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面に、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ４０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。ラザフォード後方散乱法により測定したところ、酸化物層１２ａにおいて、全原子合計（１００原子％）中、亜鉛は３７．０原子％、チタンは６．２原子％、酸素は５６．８原子％であった。これをＺｎＯとＴｉＯ2 に換算すると、酸化物の合計は９６．７質量％であった。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００８９】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００９０】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００９１】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００９２】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、最上の酸化物層１２ａ上に、ＩＴＯターゲット［インジウム：スズ＝９０：１０（質量比）］を用いて、アルゴンに５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜１２ｄである厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体１１上に、酸化チタンと酸化亜鉛とを主成分として含有する酸化物層１２ａと、金―銀合金からなる金属層１２ｂとが交互に積層された導電性積層体であって、酸化物層が５層、金属層が４層のものを得た。
【００９３】
実施例４の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６７．７％、視感反射率は５．８８％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．７８％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９６８Ωであった。結果を表１に示す。
【００９４】
この導電性積層体１０を用いて、実施例１と同様にして図３に示す保護板１を作製した。
実施例４の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６８．０％、視感反射率は２．５２％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．６８％であった。結果を表２に示す。
【００９５】
【表１】
【００９６】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【００９７】
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかも支持基体に積層した場合、透過・反射バンドが広くなることから、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム、保護板として有用である。また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラスとして用いることができる。
【符号の説明】
【００９８】
１，２，３ 保護板（プラズマディスプレイ用保護板）、１０ 導電性積層体、１１ 基体、１２ 導電膜、１２ａ 酸化物層、１２ｂ 金属層、１２ｃ バリア層、１２ｄ 保護膜、２０ 支持基体、３０ 着色セラミックス層、４０ 飛散防止フィルム、７０ 粘着剤層、５０ 電極、８０ 導電性メッシュフィルム、９０ 電極
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性積層体、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す。）本体を保護するためにＰＤＰの観察者側に設置され、ＰＤＰから発生する電磁ノイズを遮蔽する電磁波遮蔽能を有するプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明性を有する導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラス等として用いられている。たとえば、特許文献１には、透明基板上に酸化亜鉛からなる透明酸化物層と銀層とを交互に積層した合計（２ｎ＋１）層（ｎ≧２）のコーティングが施された導電性積層体が開示されている。該導電性積層体は、充分な導電性（電磁波遮蔽性）および可視光透過性を有するとされている。しかし、導電性積層体の導電性（電磁波遮蔽性）をさらに向上させようと、積層数ｎを増やして銀層の数を増やした場合、可視光透過性が低下する問題がある。
【０００３】
また、導電性積層体は、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとしても用いられている。ＰＤＰの前面からは電磁波が放出されているため、その電磁波を遮蔽することを目的として、ＰＤＰの観察者側には、プラスチックフィルム等の基体上に導電膜が形成された電磁波遮蔽フィルムが配置されている。
たとえば、特許文献２には、導電膜として、酸化物層と金属層とが交互に積層された積層体を有するプラズマディスプレイ用保護板が記載されている。
【０００４】
電磁波遮蔽フィルムにおいては、可視光領域全体にわたって透過率が高く、かつ反射率が低いこと、すなわち透過・反射バンドが広いこと、また、近赤外領域においては遮蔽性が高いことが求められる。透過・反射バンドを広くするためには、酸化物層と金属層との積層数を増やせばよい。しかし、積層数を増やすと、電磁波遮蔽フィルムにおける内部応力が増加し、該フィルムがカールしたり、導電膜が破断して抵抗値が高くなったりするなどの問題が生じた。また、積層数を増やすと可視光透過性が低下することがあった。したがって、従来、導電膜における酸化物層と金属層との積層数には限界があり、積層数を少なくしても、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）および可視光透過性に優れた電磁波遮蔽フィルムは知られていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特公平８−３２４３６号公報
【特許文献２】国際公開第９８／１３８５０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、積層数を少なくしても、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の導電性積層体は、基体と、基体上に形成された導電膜とを有する導電性積層体であって、導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体であり、酸化物層が、酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、酸化物層におけるチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％であり、金属層が、銀または銀合金を主成分として含有し、導電膜の抵抗値が、０．５〜１．５Ωであり、導電性積層体の視感透過率が、６７．７％以上であることを特徴とする。
金属層は、２〜８層設けられていることが好ましい。
金属層は、純銀、または金および／またはビスマスを含有する銀合金であることが好ましい。
【０００８】
本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムは、本発明の導電性積層体からなることを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、支持基体と、該支持基体上に設けられた本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムと、該プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムの導電膜に電気的に接している電極とを有することを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、導電性メッシュフィルムをさらに有していてもよい。
本発明の導電性積層体の製造方法は、（Ａ）酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末を用いて製造されたターゲットを用い、スパッタ法によってチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％である酸化物層を形成する工程と、Ｂ）銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用い、スパッタ法によって金属層を形成する工程とを繰り返し、最後に工程（Ａ）で酸化物層を形成することによって、基体上に、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体である抵抗値が０．５〜１．５Ωの導電膜が形成された、視感透過率が６７．７％以上の導電性積層体を得ることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の導電性積層体は、積層数を少なくしても、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れている。
本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムは、積層数を少なくしても、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れている。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、電磁波遮蔽能に優れ、透過・反射バンドが広く、可視光透過率が高く、近赤外線遮蔽性に優れている。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る導電性積層体の一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明に係る導電性積層体の他の実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明に係る保護板の第１の実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明に係る保護板の第２の実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明に係る保護板の第３の実施形態を示す断面図である。
【図６】実施例１，２、比較例１，２の保護板における反射スペクトルを示すグラフである。
【図７】実施例１，２、比較例１，２の保護板における透過スペクトルを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
「導電性積層体」
本発明の導電性積層体の一実施形態について説明する。
図１に、本実施形態の導電性積層体１０を示す。この導電性積層体１０は、基体１１と、導電膜１２とを有するものである。
【００１２】
＜基体＞
基体１１の材料としては、ガラス板（風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む）、およびポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の透明プラスチック材料等が挙げられる。
【００１３】
＜導電膜＞
導電膜１２は、基体１１側から酸化物層１２ａと金属層１２ｂとが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体である。
導電膜１２において、金属層が２〜８層設けられていることが好ましく、２〜６層設けられていることがより好ましい。金属層が２層以上であれば、抵抗値を充分に低くすることができ、８層以下であれば、導電性積層体１０の内部応力増加をより抑制できる。
導電膜１２は、電磁波遮蔽能を充分に確保するためには、抵抗値が０．４〜３．５Ωであることが好ましく、０．５〜２．５Ωであることがより好ましく、０．５〜１．５Ωであることが特に好ましい。
【００１４】
［酸化物層］
導電膜１２における酸化物層１２ａは、屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物と酸化亜鉛とを主成分として含有する層である。酸化物層１２ａは、屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物と酸化亜鉛とを合計で９０質量％以上含有することが好ましく、９５質量％以上含有することがより好ましく、９９質量％以上含有することが特に好ましい。
屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物の中でも、反射バンドをより広くできることから、酸化チタン（屈折率２．５）および／または酸化ニオブ（屈折率２．４）が好ましい。本発明において「屈折率」とは、波長５５０ｎｍにおける屈折率をいう。
【００１５】
高屈折率金属酸化物の存在により酸化物層１２ａの屈折率を高くすることができ、導電膜１２の透過・反射バンドを広くすることができる。酸化物層１２ａにおいて、高屈折率金属酸化物の金属の、該金属と亜鉛の合計に対する割合は、１〜５０原子％であることが好ましく、５〜２０原子％であることが特に好ましい。この範囲内にすることで、透過・反射バンドを広く保つことができると同時に、耐湿性が良好な導電膜を得ることができる。この理由は必ずしも明確にはなっていないが、この範囲にすることにより、酸化亜鉛の良好な物性を保ったまま、酸化物層１２ａと金属層１２ｂとの応力を緩和することができるためと考えられる。
酸化物層１２ａには、物性を損なわない範囲で、酸化亜鉛、酸化チタンおよび酸化ニオブ以外の金属酸化物が含まれていても構わない。例えば、導電性を付与する目的で、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化スズなどを混合しても構わない。
【００１６】
酸化物層１２ａの幾何学的膜厚（以下、単に膜厚という）は、最も基体に近い酸化物層および最も基体から遠い酸化物層は２０〜６０ｎｍ（特に３０〜５０ｎｍ）、それ以外の酸化物層は４０〜１２０ｎｍ（特に４０〜１００ｎｍ）とすることが好ましい。
【００１７】
［金属層］
金属層１２ｂは、銀または銀合金を主成分として含有する層である。銀または銀合金により金属層１２ｂが形成されていることにより導電膜１２の抵抗値を低くできる。
金属層１２ｂは、導電膜１２の抵抗値を低くする観点からは、純銀からなる層であることが好ましい。本発明における「純銀」は、金属層１２ｂ（１００質量％）中に銀を９９．９質量％以上含有することを意味する。
金属層１２ｂは、銀の拡散を抑制し、結果として耐湿性を高くできる観点からは、金および／またはビスマスを含有する銀合金からなる層が好ましい。金およびビスマスの合計は、比抵抗を４．５μΩｃｍ以下にするために、金属層１２ｂ（１００質量％）中、０．２〜１．５質量％が好ましい。
【００１８】
金属層１２ｂの合計膜厚は、たとえば、得られる導電性積層体１０の抵抗値の目標を１．５Ωとした場合は２５〜６０ｎｍ（特に２５〜５０ｎｍ）、抵抗値の目標を０．９Ωとした場合は３５〜８０ｎｍ（特に３５〜７０ｎｍ）とすることが好ましい。各金属層の膜厚は、前記の合計膜厚を金属層数で適宜配分する。なお、金属層の数が多くなると各金属層の比抵抗が上がるので、抵抗を下げるために合計膜厚は大きくなる傾向にある。
【００１９】
［導電膜の形成方法］
基体１１上への導電膜１２（酸化物層１２ａ、金属層１２ｂ）の形成方法は限定されず、たとえば、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学的気相成長法などが利用できる。中でも、品質、特性の安定性が良好であることから、スパッタ法が好適である。スパッタ法としては、パルススパッタ法、ＡＣスパッタ法等が挙げられる。
【００２０】
スパッタ法による導電膜１２の形成は、たとえば、以下のようにして行うことができる。まず、基体１１表面に、酸化亜鉛と高屈折率金属酸化物とからなるターゲット（以下、ＺｎＯ混合ターゲットという。）を用いて、酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入し、パルススパッタを行い、酸化物層１２ａを形成する。
ついで、銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、パルススパッタを行い、金属層１２ｂを形成する。この操作を繰り返し、最後に前記と同様の方法で酸化物層１２ａを形成することにより、多層構造体の導電膜１２を形成する。
【００２１】
ＺｎＯ混合ターゲットは、それぞれの成分の高純度（通常９９．９％）粉末を混合し、ホットプレス法またはＨＩＰ（ホットアイソスタティックプレス）法を用いて焼結することにより製造できる。ホットプレス法の場合、具体的には、高屈折率金属酸化物を含む酸化亜鉛粉末を真空または不活性ガス雰囲気中で最高温度１０００〜１２００℃でホットプレスすることによって製造される。該ＺｎＯ混合ターゲットは、気孔率が５．０％以下で、比抵抗が１Ωｃｍ未満のものが好ましい。
【００２２】
［保護膜］
本実施形態の導電膜１２においては、最上の酸化物層１２ａの上に保護膜１２ｄが設けられている。保護膜１２ｄは、酸化物層１２ａおよび金属層１２ｂを水分から保護し、表面の酸化物層１２ａ上に任意の樹脂フィルム（防湿フィルム、飛散防止フィルム、反射防止フィルム、近赤外線遮蔽用等の保護フィルム、近赤外線吸収フィルム等の機能性フィルム等）を接着する際の接着剤（特にアルカリ性の接着剤）から酸化物層１２ａを保護できる。なお、この保護膜１２ｄは、本発明において任意の構成要素であり、省略されていても構わないものである。
保護膜１２ｄとして、具体的には、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｓｉなどの金属の酸化物膜や窒化物膜等が挙げられ、特に、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）膜が好ましい。
保護膜１２ｄの膜厚は２〜３０ｎｍであることが好ましく、３〜２０ｎｍであることがより好ましい。
【００２３】
［バリア層］
図２に示すように、導電膜１２においては、酸化物層１２ａと金属層１２ｂが交互に積層した上で、金属層１２ｂ上にバリア層１２ｃが設けられていても構わない。金属層１２ｂの上にバリア層１２ｃが設ければ、上述したように、酸化物層１２ａを酸素雰囲気下で形成する場合に、金属層１２ｂの酸化を防ぐことができる。バリア層１２ｃとしては、酸素非存在下で形成できるものが挙げられ、材質として、たとえば、アルミニウムドープ酸化亜鉛、スズドープ酸化インジウム等を使用できる。
【００２４】
本発明の導電性積層体は、視感透過率が５５％以上のものが好ましく、６０％以上のものがより好ましい。また、本発明の導電性積層体は、波長８５０ｎｍでの透過率が５％以下のものが好ましく、２％以下のものが特に好ましい。
【００２５】
［用途］
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかもガラス等の支持基体に積層した場合、透過・反射バンドが広くなることから、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとして有用である。
また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極として用いることができる。該透明電極は、表面抵抗が低いため応答性がよく、反射率がガラス並みに抑えられるため視認性がよい。
また、本発明の導電性積層体は、自動車風防ガラスとして用いることができる。該自動車風防ガラスは、導電膜に通電することにより、防曇または融氷の機能を発揮でき、かつ低抵抗であるので通電に要する電圧が低く済み、また、反射率がガラス並みに抑えられるためドライバーの視認性を損なうことがない。
また、本発明の導電性積層体は、赤外線領域での反射率が非常に高いため、建物の窓等に設けられるヒートミラーとして用いることができる。
また、本発明の導電性積層体は、電磁波遮蔽効果が高いため、電気・電子機器から放射される電磁波が室外に漏れることを防止し、かつ電気・電子機器に影響する電磁波が室外から室内へ侵入することを防止する電磁波遮蔽窓ガラスに用いることができる。
【００２６】
「プラズマディスプレイ用保護板」
以下、本発明の導電性積層体を、プラズマディスプレイ用保護板（以下、保護板と記す。）の電磁波遮蔽フィルムとして用いた例について説明する。
（第１の実施形態）
図３に、第１の実施形態の保護板を示す。この保護板１は、支持基体２０と、支持基体２０上に設けられた上記導電性積層体１０と、支持基体２０における導電性積層体１０側の面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、支持基体２０における導電性積層体１０側と反対側の面に貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０の導電膜１２の周縁部にて電気的に接している電極５０と、導電性積層体１０上に設けられた保護フィルム６０とを有するものである。
導電性積層体１０と支持基体２０との間、導電性積層体１０と保護フィルム６０の間、支持基体２０と飛散防止フィルム４０との間には粘着剤層７０が設けられている。
また、この保護板１は、導電性積層体１０が、支持基体２０のＰＤＰ側に設けられたものである。
【００２７】
＜支持基体＞
保護板１における支持基体２０は、導電性積層体１０の基体１１よりも剛性の高い、透明な基体である。支持基体２０を設けることにより、導電性積層体１０の基体１１の材料がＰＥＴ等のプラスチックであっても、ＰＤＰ側の表面と反対側で生じる温度差により反りが発生することがない。
支持基体２０の材料としては、上述した導電性積層体１０の基体１１の材料と同様の材料等が挙げられる。
【００２８】
＜着色セラミックス層＞
着色セラミックス層３０は、電極５０が観察者側から直接見えないように隠蔽するための層である。着色セラミックス層３０は、例えば支持基体２０上に印刷したり、着色テープを貼ることにより形成できる。
【００２９】
＜飛散防止フィルム＞
飛散防止フィルム４０は、支持基体２０の損傷時における支持基体２０の破片の飛散を防止するためのフィルムである。飛散防止フィルム４０としては、特に制限はなく、一般的に保護板に用いられているものを使用できる。
【００３０】
飛散防止フィルム４０には、反射防止機能を持たせてもよい。飛散防止機能と反射防止機能を兼ね備えたフィルムはいろいろと知られており、かかるフィルムであればどのようなフィルムでも用いることができる。例えば、旭硝子社製のＡＲＣＴＯＰ（商品名）が挙げられる。ＡＲＣＴＯＰ（商品名）は、自己修復性と飛散防止特性とを有するポリウレタン系軟質樹脂フィルムの片面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率の反射防止層を形成して反射防止処理を施したものである。また、ＰＥＴ等のプラスチックからなるフィルム上に、低屈折率の反射防止層を湿式または乾式で形成したフィルムなども挙げられる。
【００３１】
＜電極＞
電極５０は、導電性積層体１０の導電膜１２の電磁波遮蔽効果が発揮されるように、導電膜１２と電気的に接するように設けられる。
電極５０は、導電膜１２の周縁部の全体に設けられていることが、導電膜１２の電磁波遮蔽効果を確保するために好ましい。
電極５０の材質としては、抵抗が低い方が電磁波遮蔽能の点では優位となる。たとえば、銀（Ａｇ）ペースト（Ａｇとガラスフリットを含むペースト）や銅（Ｃｕ）ペースト（Ｃｕとガラスフリットを含むペースト）を塗布、焼成したものが好適に用いられる。
【００３２】
＜保護フィルム＞
保護フィルム６０は、導電性積層体１０の導電膜１２を保護するフィルムである。具体的には、導電膜１２を水分から保護する場合には、防湿フィルムが設けられる。防湿フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に保護板に用いられているものを使用でき、たとえばＰＥＴ、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック製のフィルムが挙げられる。
また、保護フィルム６０として、上述した飛散防止フィルムを用いてもよい。
【００３３】
＜粘着剤層＞
粘着剤層７０の粘着剤としては、市販されている粘着剤を使用することができ、好ましい具体例としては、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、シリコーン樹脂等の粘着剤が挙げられる。特に、良好な耐湿性が得られることからアクリル系の粘着剤が好ましい。
また、この粘着剤層７０には、紫外線吸収剤等の種々の機能を有する添加剤が配合されてもよい。
【００３４】
（第２の実施形態）
図４に、第２の実施形態の保護板を示す。この保護板２は、支持基体２０と、支持基体２０の片面に設けられた導電性積層体１０と、導電性積層体１０上に設けられた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０の導電膜１２に周縁部にて電気的に接している電極５０と、支持基体２０における導電性積層体１０側と反対側の面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０とを有するものである。また、飛散防止フィルム４０は、電極５０の内側に設けられている。
なお、本実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図３と同じ符号を付して説明を省略する。
この第２の実施形態の保護板２は、導電性積層体１０が、支持基体２０の観察者側に設けられたものである。
【００３５】
（第３の実施形態）
図５に、第３の実施形態の保護板を示す。保護板３は、支持基体２０と、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性積層体１０と、導電性積層体１０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０とは反対側の支持基体２０表面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、導電性メッシュフィルム８０の周縁部が着色セラミックス層３０と重なるように、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性メッシュフィルム８０と、導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層（図示略）とを電気的に接続するように保護板３の周側部に設けられた電極９０とを有するものである。保護板３は、導電性積層体１０が支持基体２０の観察者側に設けられ、導電性メッシュフィルム８０が支持基体２０のＰＤＰ側に設けられている例である。
なお、第３の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図３と同じ符号を付して説明を省略する。
【００３６】
導電性メッシュフィルム８０は、透明フィルム上に銅からなる導電性メッシュ層を形成したものである。通常は、透明フィルム上に銅箔を貼り合わせた後、メッシュ状に加工することにより製造される。
銅箔は、圧延銅、電界銅のどちらでもよく、適宜必要に応じて公知のものを用いればよい。銅箔は、各種表面処理をされていてよい。表面処理としては、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等が挙げられる。銅箔の厚さは、３〜３０μｍが好ましく、５〜２０μｍがより好ましく、７〜１０μｍが特に好ましい。銅箔の厚さを３０μｍ以下とすることにより、エッチング時間を短くすることができ、３μｍ以上とすることにより、電磁波遮蔽性が高くなる。
【００３７】
導電性メッシュ層の開口率は、６０〜９５％が好ましく、６５〜９０％がより好ましく、７０〜８５％が特に好ましい。
導電性メッシュ層の開口部の形状は、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等である。開口部は、形状が揃っていて、かつ面内に並んでいることが好ましい。
開口部のサイズは、１辺または直径が５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１５０μｍであることがより好ましい。開口部の１辺または直径を２００μｍ以下とすることにより、電磁波遮蔽性が向上し、５μｍ以上とすることにより、ＰＤＰの画像への影響が少ない。
開口部以外の金属部の幅は、５〜５０μｍが好ましい。すなわち、開口部の配列ピッチは、１０〜２５０μｍが好ましい。金属部の幅を５μｍ以上とすることにより、加工が容易となり、５０μｍ以下とすることにより、ＰＤＰの画像への影響が少ない。
【００３８】
導電性メッシュ層の面抵抗を必要以上に低くすると、膜が厚くなり、開口部を充分確保できなくなる等、保護板３の光学性能等に悪影響を及ぼす。一方、導電性メッシュ層の面抵抗を必要以上に高くすると、充分な電磁波遮蔽性を得ることができなくなる。したがって、導電性メッシュ層の面抵抗は、０．０１〜１０Ω／□が好ましく、０．０１〜２Ω／□がより好ましく、０．０５〜１Ω／□が特に好ましい。
【００３９】
導電性メッシュ層の面抵抗は、開口部の１辺または直径よりも５倍以上大きな電極を用い、開口部の配列ピッチよりも５倍以上の電極間隔で、４端子法より測定すればよい。たとえば、開口部が１辺１００μｍの正方形で、金属部の幅２０μｍを介して規則的に並べられたものであれば、直径１ｍｍの電極を１ｍｍ間隔で並べて測定すればよい。または、導電性メッシュフィルムを短冊状に加工し、その長手方向の両端に電極を設けて、その抵抗Ｒを測り、長手方向の長さａ、短手方向の長さｂから、下式から求めてもよい。
面抵抗＝Ｒ×ｂ／ａ
【００４０】
銅箔を透明フィルムにラミネートする際には、透明な接着剤を用いる。接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤、ポリエステル系接着剤等が挙げられる。接着剤のタイプとしては、２液型または熱硬化タイプが好ましい。また、接着剤としては、耐薬品性に優れたものが好ましい。
【００４１】
銅箔をメッシュ状に加工する方法としては、フォトレジスト法が挙げられる。印刷法では、スクリーン印刷によって開口部のパターン形成をする。フォトレジスト法では、ロールコーティング法、スピンコーティング法、全面印刷法、転写法等により、銅箔上にフォトレジスト材料を形成し、露光、現像、エッチングによって開口部のパターンを形成する。導電性メッシュ層を形成する他の方法としては、スクリーン印刷等の印刷法によって、開口部のパターンを形成する方法が挙げられる。
【００４２】
電極９０は、導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層とを電気的に接続するものである。電極９０としては、導電性テープ等が挙げられる。導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層とを電気的に接続することによって、全体の面抵抗値をさらに下げることができるため、電磁波遮蔽効果をさらに向上させることができる。
【００４３】
保護板１〜３は、ＰＤＰの前面に配置されるものであるため、ＰＤＰの画像が見にくくならないように、可視光透過率は４０％以上であることが好ましい。また、可視光反射率は６％未満が好ましく、３％未満が特に好ましい。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、５％以下が好ましく、２％以下が特に好ましい。
【００４４】
以上説明した第１の実施形態および第２の実施形態の保護板１〜３は、支持基体２０と、支持基体２０上に設けられた導電性積層体１０と、導電性積層体１０の導電膜１２に電気的に接している電極５０または電極９０とを有するものである。そして、上述したように、導電性積層体１０の導電膜１２は、基体１１側から、酸化物層１２ａと金属層１２ｂとが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体であり、酸化物層１２ａが、屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物と酸化亜鉛とを主成分として含有し、金属層１２ｂが、銀または銀合金を主成分として含有する。このような導電性積層体１０では、導電膜１２の酸化物層１２ａが高屈折率金属酸化物を含有するから、透過・反射バンドを広くすることができる。したがって、積層数を増やさなくても、透過・反射バンドの広い保護板を得ることができる。そして、積層数を増やさないことにより、可視光透過性を高くすることができる。しかも、酸化物層１２ａに含まれる酸化亜鉛は結晶性を有するため、酸化物層１２ａの上に形成された金属層１２ｂ中の金属も結晶化しやすく、マイグレーションしにくい。その結果、保護板は、導電性が高く、電磁波遮蔽能が高い。
【００４５】
なお、本発明の保護板は、上述した実施形態に限定されない。たとえば、上述した実施形態では、粘着剤層７０を設けてフィルムを積層したが、粘着剤または接着剤を用いずに、熱による貼り合わせが可能な場合もある。
また、本発明の保護板においては、必要に応じて、反射防止フィルムまたは低屈折率薄膜である反射防止層を有してもよい。反射防止フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に保護板に用いられているものが使用できる。特に、フッ素樹脂系のフィルムを用いると反射防止性がより優れる。
反射防止層は、得られる保護板の反射率が低くなり好ましい反射色が得られることから、その反射防止層自身について、可視域での反射率が最低となる波長が５００〜６００ｎｍ、特に５３０〜５９０ｎｍであることが好ましい。
また、保護板に近赤外線遮蔽機能を持たせてもよい。近赤外線遮蔽機能を持たせる方法としては、近赤外線遮蔽フィルムを用いる方法、近赤外線吸収基体を用いる方法、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に使用する方法、反射防止樹脂フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる方法、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる方法等が挙げられる。
【実施例】
【００４６】
（実施例１）
高純度の酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末を、酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）となるように、ボールミルで混合し、混合粉末を調製した。該混合粉末をカーボン製のホットプレス用型に充填し、アルゴンガス雰囲気中１１００℃で１時間保持の条件で、ホットプレスを実施し、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲットを得た。ホットプレスの圧力は１００ｋｇ／ｃｍ2 とした。
【００４７】
図２に示す導電性積層体を以下のように作製した。
まず、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００４８】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面に、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。ラザフォード後方散乱法により測定したところ、酸化物層１２ａにおいて、全原子合計（１００原子％）中、亜鉛は３４．３原子％、チタンは８．０原子％、酸素は５７．７原子％であった。これをＺｎＯとＴｉＯ2 に換算すると、酸化物の合計は９６．７質量％であった。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．４５Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの酸化亜鉛膜（バリア層１２ｃ）を形成した。
【００４９】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ６５ｎｍの酸化亜鉛・酸化チタン混合膜を形成した。このようにして得た酸化亜鉛膜と酸化亜鉛・酸化チタン混合膜とで酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．４５Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの酸化亜鉛膜（バリア層１２ｃ）を形成した。
【００５０】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ６５ｎｍの酸化亜鉛・酸化チタン混合膜を形成した。このようにして得た酸化亜鉛膜と酸化亜鉛・酸化チタン混合膜とで酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．４５Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの酸化亜鉛膜（バリア層１２ｃ）を形成した。
【００５１】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ６５ｎｍの酸化亜鉛・酸化チタン混合膜を形成した。このようにして得た酸化亜鉛膜と酸化亜鉛・酸化チタン混合膜とで酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．４５Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの酸化亜鉛膜（バリア層１２ｃ）１２ｃを形成した。
【００５２】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３０ｎｍの酸化亜鉛・酸化チタン混合膜を形成した。このようにして得た酸化亜鉛膜と酸化亜鉛・酸化チタン混合膜とで酸化物層１２ａを形成した。
ついで、最上の酸化物層１２ａ上に、ＩＴＯターゲット［インジウム：スズ＝９０：１０（質量比）］を用いて、アルゴンに５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜１２ｄである厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体１１上に、酸化チタンと酸化亜鉛とを主成分として含有する酸化物層１２ａと、金−銀合金からなる金属層１２ｂとが交互に積層された導電性積層体１０であって、酸化物層１２ａが５層、金属層１２ｂが４層のものを得た。
【００５３】
実施例１の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は７１．４０％、視感反射率は６．５０％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．９６％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９４２Ωであった。結果を表１に示す。
その後、この導電性積層体１０の基体１１側表面には、粘着剤層を設けた。
【００５４】
この導電性積層体１０を用いて図３に示す保護板１を以下のようにして作製した。
支持基体２０であるガラス板を所定の大きさに切断、面取りし、洗浄した後、着色セラミックス層用のインクをガラス板周辺にスクリーン印刷し、充分に乾燥して着色セラミックス層３０を形成した。次いで、ガラス強化処理として、このガラス板を６６０℃まで加熱し、その後風冷してガラス強化処理を施した。
【００５５】
このガラス板の着色セラミックス層３０側に、粘着剤層７０を介して、上記導電性積層体１０を貼り付けた。ついで、導電性積層体１０を保護する目的で、導電性積層体１０上に保護フィルム６０（旭硝子社製、商品名：ＡＲＣＴＯＰ ＣＰ２１）を、粘着剤層７０を介して貼り合わせた。ただし、電極取り出しの目的から、周縁部には保護フィルムを貼り合わせない部分（電極形成部）を残しておいた。
そして、電極形成部に、銀ペースト（太陽インキ製造社製、ＡＦ４８１０）をナイロンメッシュ＃１８０、乳剤厚み２０μｍにてスクリーン印刷し、熱風循環炉で８５℃、３５分間乾燥させて電極５０を形成した。
ついで、ガラス板の裏面（導電性積層体１０を貼り合わせた側の反対側の面）に、飛散防止フィルム４０であるポリウレタン系軟質樹脂フィルム（旭硝子社製、商品名：ＡＲＣＴＯＰ ＵＲＰ２１９９）に粘着剤層７０を介して貼り合わせた。このポリウレタン系軟質樹脂フィルムは反射防止機能も有する。なお、通常、このポリウレタン系軟質樹脂フィルムに着色剤を添加して、色調補正、Ｎｅカットをして色再現性の向上を図るが、本実施例では色調補正、Ｎｅカットを評価しないため無着色とした。
【００５６】
実施例１の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は７１．５％、視感反射率は１．９２％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．７６％であった。結果を表２に示す。この保護板における反射スペクトルを図６に、透過スペクトルを図７に示す。
【００５７】
（比較例３）
酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲットとして、いずれも、酸化亜鉛：酸化チタン＝５０：５０（質量比）のものを用いた以外は実施例１と同様にして導電性積層体および保護板を作製した。比較例１の酸化物層１２ａにおいて、全原子合計（１００原子％）中、亜鉛は２３．６原子％、チタンは１６．７原子％、酸素は５９．７原子％であった。これをＺｎＯとＴｉＯ2 に換算すると、酸化物の合計は９７．７質量％であった。
【００５８】
比較例３の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６２．９４％、視感反射率は４．９６％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．６９％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９６５Ωであった。結果を表１に示す。
【００５９】
比較例３の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６２．６％、視感反射率は１．９２％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．５１％であった。結果を表２に示す。この保護板における反射スペクトルを図６に、透過スペクトルを図７に示す。
【００６０】
（比較例１）
導電性積層体を以下のように作製したこと以外は実施例１と同様にして導電性積層体および保護板を得た。
まず、基体である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まず、アルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入し、イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００６１】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面にアルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ４０ｎｍの酸化物層ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ９ｎｍの金属層を形成した。
【００６２】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．９Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１１ｎｍの金属層を形成した。
【００６３】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１３ｎｍの金属層を形成した。
【００６４】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１３ｎｍの金属層を形成した。
【００６５】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．９Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１１ｎｍの金属層を形成した。
【００６６】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．８Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ９ｎｍの金属層を形成した。
【００６７】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．２Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層を形成した。
【００６８】
ついで、最上の酸化物層上に、ＩＴＯターゲット（インジウム：スズ＝９０：１０、質量比）を用いて、アルゴンに５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜である厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体上に、ＡＺＯからなる酸化物層と、金−銀合金からなる金属層とが交互に積層された導電性積層体であって、酸化物層が７層、金属層が６層のものを得た。
【００６９】
比較例１の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は５９．７５％、視感反射率は５．７９％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．５％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９５７Ωであった。結果を表１に示す。
【００７０】
比較例１の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６０．３％、視感反射率は１．９８％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．２８％であった。結果を表２に示す。反射スペクトルを図６に、透過スペクトルを図７に示す。
【００７１】
（比較例２）
導電性積層体を以下のように作製したこと以外は実施例１と同様にして導電性積層体および保護板を得た。
まず、基体であるＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００７２】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面にアルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ４０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１３ｎｍの金属層を形成した。
【００７３】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンガスに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．９Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１６ｎｍの金属層を形成した。
【００７４】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１６ｎｍの金属層を形成した。
【００７５】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅５μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１３ｎｍの金属層を形成した。
【００７６】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．２Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層を形成した。
ついで、最上の酸化物層上に、ＩＴＯターゲット（インジウム：スズ＝９０：１０）を用いて、アルゴンに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜である厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体上に、ＡＺＯからなる酸化物層と、金−銀合金からなる金属層とが交互に積層された導電性積層体であって、酸化物層が５層、金属層が４層のものを得た。
【００７７】
比較例２の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６０．９％、視感反射率は６．８５％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．４０％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９８１Ωであった。結果を表１に示す。
【００７８】
比較例２の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６１．８％、視感反射率は４．２２％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．２７％であった。結果を表２に示す。この保護板における反射スペクトルを図６に、透過スペクトルを図７に示す。
【００７９】
酸化物層が酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、金属層が銀合金を主成分として含有する実施例１の保護板は、金属層の数が４層であるにもかかわらず、透過・反射バンドが広く、しかも導電性および可視光透過性に優れていた。
これに対し、酸化物層がＡＺＯを主成分として含有し、金属層の数が６層の比較例１の保護板は、可視光透過率が低かった。
酸化物層がＡＺＯを主成分として含有し、金属層の数が４層の比較例２の保護板は、透過・反射バンドが狭かった。
【００８０】
（実施例３）
図１に示す導電性積層体を以下のように作製した。
まず、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００８１】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面に、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ４０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。ラザフォード後方散乱法により測定したところ、酸化物層１２ａにおいて、全原子合計（１００原子％）中、亜鉛は３７．０原子％、チタンは６．２原子％、酸素は５６．８原子％であった。これをＺｎＯとＴｉＯ2 に換算すると、酸化物の合計は９６．７質量％であった。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００８２】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００８３】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００８４】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、最上の酸化物層１２ａ上に、ＩＴＯターゲット［インジウム：スズ＝９０：１０（質量比）］を用いて、アルゴンに５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜１２ｄである厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体１１上に、酸化チタンと酸化亜鉛とを主成分として含有する酸化物層１２ａと、金−銀合金からなる金属層１２ｂとが交互に積層された導電性積層体であって、酸化物層が４層、金属層が３層のものを得た。
【００８５】
実施例３の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は７７．２５％、視感反射率は５．０７％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、１２．３％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は１．８１５Ωであった。結果を表１に示す。
【００８６】
この導電性積層体１０を用いて、実施例１と同様にして図３に示す保護板１を作製した。
実施例３の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は７６．９９％、視感反射率は３．４５％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、９．６％であった。結果を表２に示す。
【００８７】
（実施例４）
図１に示す導電性積層体を以下のように作製した。
まず、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。
【００８８】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面に、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ４０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。ラザフォード後方散乱法により測定したところ、酸化物層１２ａにおいて、全原子合計（１００原子％）中、亜鉛は３７．０原子％、チタンは６．２原子％、酸素は５６．８原子％であった。これをＺｎＯとＴｉＯ2 に換算すると、酸化物の合計は９６．７質量％であった。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００８９】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００９０】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００９１】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ８０ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒のパルススパッタを行い、厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００９２】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用いてアルゴンガスに１５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒のパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍの酸化物層１２ａを形成した。
ついで、最上の酸化物層１２ａ上に、ＩＴＯターゲット［インジウム：スズ＝９０：１０（質量比）］を用いて、アルゴンに５体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒のパルススパッタを行い、保護膜１２ｄである厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
このようにして、基体１１上に、酸化チタンと酸化亜鉛とを主成分として含有する酸化物層１２ａと、金―銀合金からなる金属層１２ｂとが交互に積層された導電性積層体であって、酸化物層が５層、金属層が４層のものを得た。
【００９３】
実施例４の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６７．７％、視感反射率は５．８８％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．７８％であった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９６８Ωであった。結果を表１に示す。
【００９４】
この導電性積層体１０を用いて、実施例１と同様にして図３に示す保護板１を作製した。
実施例４の保護板について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ Ｚ ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６８．０％、視感反射率は２．５２％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．６８％であった。結果を表２に示す。
【００９５】
【表１】
【００９６】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【００９７】
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかも支持基体に積層した場合、透過・反射バンドが広くなることから、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム、保護板として有用である。また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラスとして用いることができる。
【符号の説明】
【００９８】
１，２，３ 保護板（プラズマディスプレイ用保護板）、１０ 導電性積層体、１１ 基体、１２ 導電膜、１２ａ 酸化物層、１２ｂ 金属層、１２ｃ バリア層、１２ｄ 保護膜、２０ 支持基体、３０ 着色セラミックス層、４０ 飛散防止フィルム、７０ 粘着剤層、５０ 電極、８０ 導電性メッシュフィルム、９０ 電極
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、基体上に形成された導電膜とを有する導電性積層体であって、
導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体であり、
酸化物層が、酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、
酸化物層におけるチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％であり、
金属層が、銀または銀合金を主成分として含有し、
導電膜の抵抗値が、０．５〜１．５Ωであり、
導電性積層体の視感透過率が、６７．７％以上であることを特徴とする導電性積層体。
【請求項２】
金属層が２〜８層設けられている請求項１に記載の導電性積層体。
【請求項３】
金属層が、純銀、または金および／またはビスマスを含有する銀合金である請求項１または２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の導電性積層体からなる、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム。
【請求項５】
支持基体と、
該支持基体上に設けられた請求項４に記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムと、
該プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムの導電膜に電気的に接している電極とを有することを特徴とするプラズマディスプレイ用保護板。
【請求項６】
導電性メッシュフィルムをさらに有する、請求項５に記載のプラズマディスプレイ用保護板。
【請求項７】
（Ａ）酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末を用いて製造されたターゲットを用い、スパッタ法によってチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％である酸化物層を形成する工程と、
（Ｂ）銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用い、スパッタ法によって金属層を形成する工程と
を繰り返し、最後に工程（Ａ）で酸化物層を形成することによって、
基体上に、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体である抵抗値が０．５〜１．５Ωの導電膜が形成された、視感透過率が６７．７％以上の導電性積層体を得る、導電性積層体の製造方法。
【請求項１】
基体と、基体上に形成された導電膜とを有する導電性積層体であって、
導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体であり、
酸化物層が、酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、
酸化物層におけるチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％であり、
金属層が、銀または銀合金を主成分として含有し、
導電膜の抵抗値が、０．５〜１．５Ωであり、
導電性積層体の視感透過率が、６７．７％以上であることを特徴とする導電性積層体。
【請求項２】
金属層が２〜８層設けられている請求項１に記載の導電性積層体。
【請求項３】
金属層が、純銀、または金および／またはビスマスを含有する銀合金である請求項１または２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の導電性積層体からなる、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム。
【請求項５】
支持基体と、
該支持基体上に設けられた請求項４に記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムと、
該プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムの導電膜に電気的に接している電極とを有することを特徴とするプラズマディスプレイ用保護板。
【請求項６】
導電性メッシュフィルムをさらに有する、請求項５に記載のプラズマディスプレイ用保護板。
【請求項７】
（Ａ）酸化亜鉛粉末および酸化チタン粉末を用いて製造されたターゲットを用い、スパッタ法によってチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％である酸化物層を形成する工程と、
（Ｂ）銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用い、スパッタ法によって金属層を形成する工程と
を繰り返し、最後に工程（Ａ）で酸化物層を形成することによって、
基体上に、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体である抵抗値が０．５〜１．５Ωの導電膜が形成された、視感透過率が６７．７％以上の導電性積層体を得る、導電性積層体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１２−９８７３（Ｐ２０１２−９８７３Ａ）
【公開日】平成２４年１月１２日（２０１２．１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１５４０２８（Ｐ２０１１−１５４０２８）
【出願日】平成２３年７月１２日（２０１１．７．１２）
【分割の表示】特願２００５−２５４９０７（Ｐ２００５−２５４９０７）の分割
【原出願日】平成１７年９月２日（２００５．９．２）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【出願人】（３９１０４０７１１）ＡＧＣセラミックス株式会社 (23)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月１２日（２０１２．１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月１２日（２０１１．７．１２）
【分割の表示】特願２００５−２５４９０７（Ｐ２００５−２５４９０７）の分割
【原出願日】平成１７年９月２日（２００５．９．２）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【出願人】（３９１０４０７１１）ＡＧＣセラミックス株式会社 (23)
【Ｆターム（参考）】
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