導電膜、タッチパネル及び太陽電池
【課題】長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有し、耐光性及び耐マイグレーション性が向上した導電膜、並びにタッチパネル、及び太陽電池の提供。
【解決手段】導電性繊維を含有する導電膜であって、前記導電膜中の前記導電性繊維を構成する元素の含有量Ａと、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）が、次式、０．０１＜Ｘ／Ａ＜０．９を満たす導電膜である。０．１≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす態様、０．４≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす態様、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量が４００，０００質量ｐｐｍ以下である態様などが好ましい。
【解決手段】導電性繊維を含有する導電膜であって、前記導電膜中の前記導電性繊維を構成する元素の含有量Ａと、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）が、次式、０．０１＜Ｘ／Ａ＜０．９を満たす導電膜である。０．１≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす態様、０．４≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす態様、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量が４００，０００質量ｐｐｍ以下である態様などが好ましい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電膜、並びに該導電膜を用いたタッチパネル及び太陽電池に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯ゲーム機、携帯電話等にタッチパネルの需要が急速に拡大している。このタッチパネルには、透明導電材料としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）が広く利用されており、銀ナノワイヤーを用いた透明導電膜の開発も報告されている。銀ナノワイヤーは、有機溶剤を用いた高温中での合成が一般的であり、また、合成された銀ナノワイヤーの太さに起因して、ヘイズが高く、コントラストの低下が著しいこと、最表層に光硬化樹脂等のコーティングを施さないと実用的な耐久性が得られないこと、及び最表層へのコーティングにより抵抗が上がり、面内抵抗の均一性が低下してしまうという課題がある。
【０００３】
前記課題を解決するため、例えば金属ナノワイヤーに金属微粒子を混合し、該金属微粒子に外部エネルギーを印加することにより溶解し、金属ナノワイヤー同士の接触を向上させ、低抵抗化を図ることが提案されている（特許文献１参照）。
しかし、この提案では、製造工程において微粒子と金属ナノワイヤーを共に安定分散させることが困難であり、金属ナノワイヤーとは別に、金属微粒子を合成する工程、洗浄工程、濃縮工程などが必要である。また、金属ナノワイヤーの直径が比較的細い領域では、該金属ナノワイヤー自体が光により溶解してしまい、電気的に断線して抵抗が上昇してしまうという新たな課題が見出され、特に、屋外用途においては、耐光性が高いレベルで要求されるため、抜本的な対策が必要である。
【０００４】
一方、低コストで環境負荷の少ないプロセスとして、ナノ粒子を含むインクを印刷、インクジェット等の手法で塗設し、配線を形成する技術の開発が試みられている。例えば、銅微粒子と該銅微粒子の表面の少なくとも一部を被覆している銅とからなる銀被覆銅微粒子中のハロゲン元素の含有量が銅に対して２０質量ｐｐｍ以下である銀被覆銅微粒子が提案されている（特許文献２参照）。この提案には、金属粒子に対するハロゲン元素の含有量を低減することで、マイグレーション及び電子材料の腐食などを抑制する効果があることが開示されている。
しかし、この提案は、金属ナノワイヤーを用いるものではなく、導電膜中のハロゲン元素の含有量を低く抑えることにより、耐光性が向上することについては何ら記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−９４０３３号公報
【特許文献２】特開２０１０−７７４９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有し、耐光性及び耐マイグレーション性が向上した導電膜、並びに該導電膜を用いたタッチパネル及び太陽電池を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため本発明者が鋭意検討を重ねた結果、導電性繊維として金属ナノワイヤーを含む導電膜中のハロゲン元素の含有量を調整して低く抑えることにより、前記導電性繊維として水系合成による細径金属ナノワイヤーを用いた場合でも、長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有し、耐光性及び耐マイグレーション性が向上することを知見した。
【０００８】
本発明は、本発明者による前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞ 導電性繊維を含有する導電膜であって、
前記導電膜中の前記導電性繊維を構成する元素の含有量Ａと、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）が、次式、０．０１＜Ｘ／Ａ＜０．９を満たすことを特徴とする導電膜である。
＜２＞ ０．１≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす前記＜１＞に記載の導電膜である。
＜３＞ ０．４≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜４＞ 導電膜中のハロゲン元素の含有量が４００，０００質量ｐｐｍ以下である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜５＞ 導電膜中のハロゲン元素の含有量が４，０００質量ｐｐｍ〜３００，０００質量ｐｐｍである前記＜４＞に記載の導電膜である。
＜６＞ 表面抵抗が５００Ω／□以下である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜７＞ 導電性繊維が、金属ナノワイヤーである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜８＞ 金属ナノワイヤーが、銀、及び銀と銀以外の金属との合金のいずれかからなる前記＜７＞に記載の導電膜である。
＜９＞ 導電性繊維の平均短軸長さが５０ｎｍ以下であり、かつ平均長軸長さが１μｍ以上である前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜１０＞ 導電性繊維の含有量が、０．００５ｇ／ｍ２〜０．５ｇ／ｍ２である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜１１＞ 更にポリマーを含有し、導電性繊維の含有量（Ａ）と、前記ポリマーの含有量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）が、０．２〜３である前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜１２＞ 前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の導電膜を用いたタッチパネルである。
＜１３＞ 前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の導電膜を用いた太陽電池である。
＜１４＞ 前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の導電膜を支持体上に有してなることを特徴とする導電体である。
＜１５＞ 支持体上に、導電性繊維及びポリマーを含有する導電層組成物からなる導電層を形成する導電層形成工程と、
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液をパターン状に付与する溶解液付与工程と、を少なくとも含むことを特徴とする導電体の製造方法である。
＜１６＞ パターン状に付与された部分が非導電部となる前記＜１５＞に記載の導電体の製造方法である。
＜１７＞ 導電層における導電性繊維の含有量（Ａ）と、導電層におけるポリマーの含有量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）が、０．２〜３である前記＜１５＞から＜１６＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜１８＞ 溶解液の粘度が、２５℃で、５ｍＰａ・ｓ〜３００，０００ｍＰａ・ｓである前記＜１５＞から＜１７＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜１９＞ 溶解液のパターン状の付与をスクリーン印刷で行う前記＜１５＞から＜１８＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜２０＞ 溶解液のパターン状の付与をインクジェット印刷で行う前記＜１５＞から＜１８＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜２１＞ 溶解液のパターン状の付与を溶解槽内に浸漬することで行う前記＜１５＞から＜１８＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜２２＞ 溶解液が、導電性繊維を酸化する作用を有する前記＜１５＞から＜２１＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜２３＞ 支持体上に導電性繊維及びポリマーを含有する導電層組成物からなる導電層を形成する導電層形成工程と、パターン状露光工程と、現像工程とを少なくとも含むことを特徴とする導電体の製造方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有し、耐光性及び耐マイグレーション性が向上した導電膜、並びに該導電膜を用いたタッチパネル及び太陽電池を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、タッチパネルの一例を示す概略断面図である。
【図２】図２は、タッチパネルの他の一例を示す概略説明図である。
【図３】図３は、図２に示すタッチパネルにおける導電体の配置例を示す概略平面図である。
【図４】図４は、タッチパネルの更に他の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（導電膜）
本発明の導電膜は、導電性繊維を含有し、ポリマーを含有することが好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００１２】
前記導電膜の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記形状としては、膜状、シート状などが挙げられ、また、その平面形状としては、四角形、円形などが挙げられ、前記構造としては、単層構造、積層構造などが挙げられ、前記大きさとしては、用途等に応じて適宜選択することができる。
前記導電膜は、可撓性を有し、透明が好ましく、前記透明には、無色透明のほか、有色透明、半透明、有色半透明などが含まれる。
【００１３】
前記導電膜は、パターニングされていてもパターニングされていなくてもよいが、パターニングされている場合には、後述する導電体の製造方法で詳細に説明するように、導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液を、前記導電膜にパターン状に付与し、該付与された部分が非導電部を形成し、付与されていない部分が導電部を形成して、導電性の有無により二次元の平面状パターンが形成されていることが好ましい。また、感光性樹脂と導電性繊維を混合して、フォトリソグラフィによりパターンを形成することも好ましい。
【００１４】
本発明においては、前記導電膜中の前記導電性繊維を構成する元素の含有量Ａと、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）は、次式、０．０１＜Ｘ／Ａ＜０．９を満たす。上限値は、０．８９以下がより好ましく、０．８５以下が更に好ましく、０．６５以下がより更に好ましい。一方、下限値は、０．１以上がより好ましい。また好ましい範囲としては、０．１≦Ｘ／Ａ＜０．９（より厳密には、０．１０≦Ｘ／Ａ＜０．９０）が好ましく、０．４≦Ｘ／Ａ＜０．９（より厳密には、０．４０≦Ｘ／Ａ＜０．９０）がより好ましく、０．４０≦Ｘ／Ａ≦０．８５が更に好ましい。
前記原子比（Ｘ／Ａ）が、０．９以上であると、耐光性及び耐マイグレーション性が低下してしまうことがあり、０．０１以下であると、プロセスに長時間を要する場合がある。例えば、前記導電性繊維が銀ナノワイヤーであり、ハロゲン元素が塩素、臭素、フッ素、又はヨウ素の場合には、導電膜中の銀の含有量Ａと、導電膜中の塩素、臭素、フッ素、及びヨウ素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）を求める。
前記原子比（Ｘ／Ａ）は、例えば、蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）、イオンクロマトグラフィーなどで測定することにより求めることができる。
【００１５】
前記導電膜中のハロゲン元素の含有量は、４００，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、３００，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、２７０，０００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限値は、４，０００質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０，０００質量ｐｐｍ以上がより好ましく、３０，０００質量ｐｐｍ以上が更に好ましい。好ましい範囲としては、４，０００質量ｐｐｍ〜３００，０００質量ｐｐｍがより好ましく、１０，０００質量ｐｐｍ〜２７０，０００質量ｐｐｍが更に好ましい。前記含有量が、４００，０００質量ｐｐｍを超えると、耐光性及び耐マイグレーション性が低下してしまうことがある。また、超音波洗浄などにより導電膜中のハロゲン元素の含有量を少なくすることが可能であるが、この場合には導電性繊維が劣化して導電膜の表面抵抗が上昇してしまい、導電性が低下してしまうことがある。
ここで、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量は、例えば、蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）、イオンクロマトグラフィーなどにより測定することができる。
前記ハロゲン元素としては、例えば、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素などの導電性繊維の製造に由来する元素が挙げられる。これらの中でも、製造工程中、様々な薬品中に不純物として含まれる可能性の高い、塩素、臭素、ヨウ素の含有量を制御することが特に好ましい。
【００１６】
前記導電膜中のハロゲン元素の含有量を調整する方法としては、例えば、（１）導電層形成用塗布液を限外濾過する方法、（２）導電層形成用塗布液に純水等の溶媒を添加して遠心分離後、上澄みを除去する洗浄を繰り返して行う方法、（３）導電膜形成後に該導電膜を洗浄（例えば、純水等の洗浄溶媒中に浸漬）する方法、などが挙げられる。これらの中でも、前記（３）の導電膜を洗浄する方法が特に好ましい。
【００１７】
前記（１）の限外濾過は、限外濾過膜を用いて導電層形成用塗布液を限外濾過し、該限外濾過した導電層形成用塗布液を用いて導電膜を形成するものである。前記限外濾過膜としては、分画分子量は５，０００〜２００，０００が好ましい。前記限外濾過は、デッドエンド方式でもクロスフロー方式でもよいが、クロスフロー方式で行うことが好ましい。
【００１８】
前記（２）の導電層形成用塗布液に純水等の溶媒を添加して遠心分離後、上澄みを除去する洗浄を繰り返して行う方法としては、導電層形成用塗布液に純水等の溶媒を添加して遠心分離後、上澄みを除去する洗浄工程を１回以上行うことが好ましく、２回以上行うことがより好ましく、２〜５回行うことが更に好ましい。前記純水等の溶媒の添加量は、体積比で、導電層形成用塗布液１に対し１０〜５００が好ましい。
【００１９】
前記（３）の導電膜を洗浄する方法では、洗浄溶媒としては、例えば水、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、アセトン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、水が特に好ましい。前記水としては、例えば、イオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、蒸留水等の精製後の水、又は純水、超純水などが挙げられる。これらの中でも、純水が特に好ましい。
前記洗浄溶媒を用いて導電膜を浸漬処理する。また、前記浸漬と同じ効果を達成する方法として、前記洗浄溶媒を前記導電膜に対しスプレー、シャワー、リンスすることも好ましく、これらを組み合わせて行うことがより好ましい。
前記浸漬の条件としては、例えば、洗浄溶媒が純水の場合には、５℃〜４０℃で１秒間〜３０分間が好ましく、１０℃〜３０℃で３秒間〜３分間がより好ましい。
【００２０】
＜導電性繊維＞
前記導電性繊維の構造としては、中実構造及び中空構造のいずれかが好ましい。
ここで、中実構造の繊維をワイヤーと呼ぶことがあり、中空構造の繊維をチューブと呼ぶことがある。
平均短軸長さが１ｎｍ〜１，０００ｎｍであって、平均長軸長さが１μｍ〜１００μｍの導電性繊維をナノワイヤーと呼ぶことがある。
また、平均短軸長さが１ｎｍ〜１，０００ｎｍ、平均長軸長さが０．１μｍ〜１，０００μｍであって、中空構造を持つ導電性繊維をナノチューブと呼ぶことがある。
前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していればよく、金属及びカーボンの少なくともいずれかが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかが好ましい。
【００２１】
＜＜金属ナノワイヤー＞＞
−金属−
前記金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、長周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、及び第６周期からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、第２族〜第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属がより好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、及び第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
【００２２】
前記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、及び銀との合金が好ましい。
前記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２３】
−形状−
前記金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状、断面の多角形の角が丸まっている断面形状が好ましい。
前記金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより調べることができる。
【００２４】
−平均短軸長さ及び平均長軸長さ−
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある）としては、５０ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ〜５０ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜４０ｎｍが更に好ましく、１５ｎｍ〜３５ｎｍが特に好ましい。
前記平均短軸長さが、１ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、５０ｎｍを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
【００２５】
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さ（「平均長さ」と称することがある）としては、１μｍ以上が好ましく、１μｍ〜４０μｍがより好ましく、３μｍ〜３５μｍが更に好ましく、５μｍ〜３０μｍが特に好ましい。
前記平均長軸長さが、１μｍ未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、４０μｍを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、及び曲率から算出される値を長軸長さとした。
【００２６】
−製造方法−
前記金属ナノワイヤーの製造方法としてはいかなる方法で製造してもよいが、以下のようにハロゲン化合物と分散添加剤とを溶解した溶媒中で加熱しながら金属イオンを還元することによって製造することが好ましい。なお、ハロゲン化合物を用いる方法では、導電膜中にハロゲン元素が含まれるが、上述したようにハロゲン元素の含有量を調整することで、導電膜として好ましい特性が得られる。
また、金属ナノワイヤーの製造方法としては、特開２００９−２１５５９４号公報、特開２００９−２４２８８０号公報、特開２００９−２９９１６２号公報、特開２０１０−８４１７３号公報、特開２０１０−８６７１４号公報などに記載の方法を用いることができる。
【００２７】
前記溶媒としては、親水性溶媒が好ましく、例えば、水、アルコール類、エーテル類、ケトン類などが挙げられ、これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコールなどが挙げられる。
前記エーテル類としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。
前記ケトン類としては、例えば、アセトンなどが挙げられる。
【００２８】
前記加熱時の加熱温度としては、２５０℃以下が好ましく、２０℃〜２００℃がより好ましく、３０℃〜１８０℃がより好ましく、４０℃〜１７０℃が更に好ましい。
前記加熱温度が、２０℃未満であると、前記加熱温度が低くなる程、核形成確率が下がり金属ナノワイヤーが長くなりすぎるので金属ナノワイヤーが絡みやすく、分散安定性が悪くなることがあり、２５０℃を超えると、金属ナノワイヤーの断面の角が急峻になり、塗布膜評価での透過率が低くなることがある。
必要に応じて、金属ナノワイヤーの形成過程で温度を変更してもよく、途中での温度変更により、金属ナノワイヤーの核形成の制御、再核発生の抑制、選択成長の促進による単分散性向上の効果を向上させることができる。
【００２９】
前記加熱の際には、還元剤を添加して行うことが好ましい。
前記還元剤としては、特に制限はなく、通常使用されるものの中から適宜選択することができ、例えば、水素化ホウ素金属塩、水素化アルミニウム塩、アルカノールアミン、脂肪族アミン、ヘテロ環式アミン、芳香族アミン、アラルキルアミン、アルコール、有機酸類、還元糖類、糖アルコール類、亜硫酸ナトリウム、ヒドラジン化合物、デキストリン、ハイドロキノン、ヒドロキシルアミン、エチレングリコール、グルタチオンなどが挙げられる。これらの中でも、還元糖類、その誘導体としての糖アルコール類、エチレングリコールが特に好ましい。
前記水素化ホウ素金属塩としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムなどが挙げられる。
前記水素化アルミニウム塩としては、例えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムカリウム、水素化アルミニウムセシウム、水素化アルミニウムベリリウム、水素化アルミニウムマグネシウム、水素化アルミニウムカルシウムなどが挙げられる。
前記アルカノールアミンとしては、例えば、ジエチルアミノエタノール、エタノールアミン、プロパノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノプロパノールなどが挙げられる。
前記脂肪族アミンとしては、例えば、プロピルアミン、ブチルアミン、ジプロピレンアミン、エチレンジアミン、トリエチレンペンタミンなどが挙げられる。
前記ヘテロ環式アミンとしては、例えば、ピペリジン、ピロリジン、Ｎ−メチルピロリジン、モルホリンなどが挙げられる。
前記芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、トルイジン、アニシジン、フェネチジンなどが挙げられる。
前記アラルキルアミンとしては、例えば、ベンジルアミン、キシレンジアミン、Ｎ−メチルベンジルアミンなどが挙げられる。
前記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノールなどが挙げられる。
前記有機酸類としては、例えば、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、コハク酸、アスコルビン酸又はそれらの塩などが挙げられる。
前記還元糖類としては、例えば、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、スクロース、マルトース、ラフィノース、スタキオースなどが挙げられる。
前記糖アルコール類としては、例えば、ソルビトールなどが挙げられる。
【００３０】
前記還元剤によっては、機能として分散添加剤、溶媒としても働く場合があり、同様に好ましく用いることができる。
【００３１】
前記金属ナノワイヤー製造の際には、分散添加剤と、ハロゲン化合物又はハロゲン化金属微粒子とを添加して行うことが好ましい。
前記分散添加剤と、ハロゲン化合物との添加のタイミングとしては、還元剤の添加前でも添加後でもよく、金属イオンあるいはハロゲン化金属微粒子の添加前でも添加後でもよいが、単分散性のよりよい金属ナノワイヤーを得るためには、ハロゲン化合物の添加を２段階以上に分けることが好ましい。
【００３２】
前記分散添加剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アミノ基含有化合物、チオール基含有化合物、スルフィド基含有化合物、アミノ酸又はその誘導体、ペプチド化合物、多糖類、合成高分子、これらに由来するゲルなどが挙げられる。これらの中でも、ゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリアルキレンアミン、ポリアクリル酸の部分アルキルエステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体が好ましい。
前記分散添加剤として使用可能な構造については、例えば、「顔料の事典」（伊藤征司郎編、株式会社朝倉書院発行、２０００年）の記載を参照できる。
また、使用する分散添加剤の種類によって、得られる金属ナノワイヤーの形状を変化させることもできる。
【００３３】
前記ハロゲン化合物としては、臭素、塩素、ヨウ素を含有する化合物であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、臭化ナトリウム、塩化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム、塩化カリウム、ヨウ化カリウムなどのアルカリハライド、下記の分散添加剤と併用できる化合物が好ましい。
前記ハロゲン化合物によっては、分散添加剤として機能するものがありうるが、同様に好ましく用いることができる。
【００３４】
前記ハロゲン化合物の代替としてハロゲン化銀微粒子を使用してもよいし、ハロゲン化合物とハロゲン化銀微粒子を共に使用してもよい。
【００３５】
前記分散添加剤と、ハロゲン化合物又はハロゲン化銀微粒子とは、同一物質で併用してもよい。前記分散添加剤と、ハロゲン化合物とを併用した化合物としては、例えば、アミノ基と臭化物イオンを含むＨＴＡＢ（ヘキサデシル−トリメチルアンモニウムブロミド）、アミノ基と塩化物イオンを含むＨＴＡＣ（ヘキサデシル−トリメチルアンモニウムクロライド）などが挙げられる。
【００３６】
前記脱塩処理は、金属ナノワイヤーを形成した後、限外濾過、透析、ゲル濾過、デカンテーション、遠心分離などの手法により行うことができる。
【００３７】
＜＜金属ナノチューブ＞＞
−金属−
前記金属ナノチューブの材料としては、特に制限はなく、いかなる金属であってもよく、例えば、前記した金属ナノワイヤーの材料などを使用することができる。
【００３８】
−形状−
前記金属ナノチューブの形状としては、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
【００３９】
−平均短軸長さ、平均長軸長さ、厚み−
前記金属ナノチューブの厚み（外径と内径との差）としては、３ｎｍ〜８０ｎｍが好ましく、３ｎｍ〜３０ｎｍがより好ましい。
前記厚みが、３ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、８０ｎｍを超えると、金属ナノチューブ起因の散乱が生じることがある。
前記金属ナノチューブの平均長軸長さは、１μｍ〜４０μｍが好ましく、３μｍ〜３５μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍが更に好ましい。
【００４０】
−製造方法−
前記金属ナノチューブの製造方法としては、特に制限はなく、いかなる方法で製造してもよく、例えば、米国出願公開２００５／００５６１１８号明細書等に記載の公知の方法などを用いることができる。
【００４１】
＜＜カーボンナノチューブ＞＞
前記カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）は、グラファイト状炭素原子面（グラフェンシート）が、単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。単層のカーボンナノチューブはシングルウォールナノチューブ（ＳＷＮＴ）、多層のカーボンナノチューブはマルチウォールナノチューブ（ＭＷＮＴ）と呼ばれ、特に、２層のカーボンナノチューブはダブルウォールナノチューブ（ＤＷＮＴ）とも呼ばれる。本発明で用いられる導電性繊維において、前記カーボンナノチューブは、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
【００４２】
−製造方法−
前記カーボンナノチューブの製造方法としては、特に制限はなく、いかなる方法で製造してもよく、例えば、二酸化炭素の接触水素還元、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、気相成長法、一酸化炭素を高温高圧化で鉄触媒と共に反応させて気相で成長させるＨｉＰｃｏ法等の公知の手段を用いることができる。
また、これらの方法で得られたカーボンナノチューブは、洗浄、遠心分離、濾過、酸化、クロマトグラフ等の方法により、副生成物、触媒金属等の残留物を除去することが、高純度化されたカーボンナノチューブを得ることができる点で好ましい。
【００４３】
＜＜アスペクト比＞＞
前記導電性繊維のアスペクト比としては、１０以上が好ましい。前記アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長辺と短辺との比（平均長軸長さ／平均短軸長さ）を意味する。
前記アスペクト比の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子顕微鏡等により測定する方法などが挙げられる。
前記導電性繊維のアスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、前記導電性繊維のアスペクト比が１０以上であるか否かは、電子顕微鏡の１視野で確認できればよい。また、前記導電性繊維の長軸長さと短軸長さとを各々別に測定することによって、前記導電性繊維全体のアスペクト比を見積もることができる。
なお、前記導電性繊維がチューブ状の場合には、前記アスペクト比を算出するための直径としては、該チューブの外径を用いる。
【００４４】
前記導電性繊維のアスペクト比としては、１０以上であればよく、５０〜１，０００，０００が好ましく、１００〜１，０００，０００がより好ましい。
前記アスペクト比が、１０未満であると、前記導電性繊維によるネットワーク形成がなされず導電性が十分取れないことがあり、１，０００，０００を超えると、導電性繊維の形成時、その後の取り扱いにおいて、成膜前に導電性繊維が絡まり凝集するため、安定な液が得られないことがある。
【００４５】
＜＜アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率＞＞
前記アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率としては、全導電性組成物中に体積比で、５０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましく、７５％以上が特に好ましい。これらの導電性繊維の割合を、以下、「導電性繊維の比率」と呼ぶことがある。
前記導電性繊維の比率が、５０％未満であると、導電性に寄与する導電性物質が減少し導電性が低下してしまうことがあり、同時に密なネットワークを形成できないために電圧集中が生じ、耐久性が低下してしまうことがある。また、導電性繊維以外の形状の粒子は、導電性に大きく寄与しない上に吸収を持つため好ましくない。特に金属の場合で、球形などのプラズモン吸収が強い場合には透明度が悪化してしまうことがある。
【００４６】
ここで、前記導電性繊維の比率は、例えば、導電性繊維が銀ナノワイヤーである場合には、銀ナノワイヤー水分散液を濾過して、銀ナノワイヤーと、それ以外の粒子とを分離し、ＩＣＰ発光分析装置を用いて濾紙に残っている銀の量と、濾紙を透過した銀の量とを各々測定することで、導電性繊維の比率を求めることができる。濾紙に残っている導電性繊維をＴＥＭで観察し、３００個の導電性繊維の短軸長さを観察し、その分布を調べることにより、短軸長さが２００ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが１μｍ以上である導電性繊維であることを確認する。なお、濾紙は、ＴＥＭ像で短軸長さが２００ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが１μｍ以上である導電性繊維以外の粒子の最長軸を計測し、その最長軸の２倍以上であり、かつ導電性繊維の長軸の最短長以下の長さのものを用いることが好ましい。
【００４７】
ここで、前記導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は光学顕微鏡を用い、ＴＥＭ像又は光学顕微鏡像を観察することにより求めることができ、本発明においては、導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により３００個の導電性繊維を観察し、その平均値から求めたものである。
【００４８】
＜ポリマー＞
前記ポリマーとしては、水溶性ポリマー、及び非水溶性ポリマーのいずれも好適に用いることができるが、これらの中でも、湿度耐久性の点で、非水溶性ポリマーが特に好ましい。
【００４９】
＜＜水溶性ポリマー＞＞
前記水溶性ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体、ガゼイン、寒天、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドン、デキストラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記導電性繊維の含有量（Ａ）と前記水溶性ポリマーの含有量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）は、０．２〜３が好ましく、０．５〜２．５がより好ましい。
前記質量比（Ａ／Ｂ）が、０．２未満であると、前記導電性繊維に対して前記ポリマーが多くなりすぎ、僅かな塗布量変動により抵抗が上がってしまう懸念があり、３を超えると、ポリマーが少ないため、膜強度が実用上十分にならない場合がある。
【００５０】
＜＜非水溶性ポリマー＞＞
前記非水溶性ポリマーは、バインダーとしての機能を有しており、中性付近の水に実質的に溶解しないポリマーである。前記非水溶性ポリマーとは、本明細書においては、ＳＰ値（沖津法により算出）が、１８ＭＰａ１／２〜３０ＭＰａ１／２のポリマーを意味する。
【００５１】
前記ＳＰ値としては、１８ＭＰａ１／２〜３０ＭＰａ１／２が好ましく、１９ＭＰａ１／２〜２８ＭＰａ１／２がより好ましく、１９．５ＭＰａ１／２〜２７ＭＰａ１／２が更に好ましい。
前記ＳＰ値が、１８ＭＰａ１／２未満であると、付着した有機汚れを洗浄するのが困難になる場合があり、３０ＭＰａ１／２を超えると、水との親和性が高くなり、塗布膜の含水率上昇に起因し、赤外線領域の吸収が高くなるためか、例えば太陽電池を作製したときに変換効率が減少してしまうことがある。
【００５２】
ここで、前記ＳＰ値は、沖津法（沖津俊直著「日本接着学会誌」２９（３）（１９９３））によって算出したものである。具体的には、ＳＰ値は以下の式で計算されるものである。なお、ΔＦは文献記載の値である。
ＳＰ値（δ）＝ΣΔＦ（Ｍｏｌａｒ Ａｔｔｒａｃｔｉｏｎ Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ）／Ｖ（モル容積）
複数の非水溶性ポリマーを用いた場合のＳＰ値（σ）及びＳＰ値の水素結合項（σｈ）は次の式により算出する。
【００５３】
【数１】
ただし、σｎは、非水溶性ポリマーと水のＳＰ値又はＳＰ値の水素結合項を、Ｍｎは、混合液中における非水溶性ポリマーと水のモル分率を、Ｖｎは、溶媒のモル体積を、ｎは、溶媒の種類を表す２以上の整数をそれぞれ表す。
【００５４】
前記非水溶性ポリマーとしては、特に制限されないが、塗膜の基板への密着性、摺りなどに対する耐久性という点で、エチレン性不飽和基を有するポリマーが好ましい。これらの中でも、主鎖に連結する側鎖に、エチレン性不飽和結合の少なくとも１種を含むことが好ましい。前記エチレン性不飽和結合は、側鎖中に複数含まれていてもよい。また、前記エチレン性不飽和結合は、非水溶性ポリマーの側鎖中に、前記分岐及び／又は脂環構造、並びに／又は前記酸性基とともに含まれていてもよい。
【００５５】
前記非水溶性ポリマーとしては、下記ポリマーラテックスの中から適宜使用することができる。
【００５６】
アクリル系ポリマーとしては、例えば、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ８５５、８５７ｘ２（以上、日本ゼオン社製）；Ｖｏｎｃｏａｔ Ｒ３３７０（大日本インキ化学工業社製）；ジュリマーＥＴ−４１０（日本純薬社製）；ＡＥ１１６、ＡＥ１１９、ＡＥ１２１、ＡＥ１２５、ＡＥ１３４、ＡＥ１３７、ＡＥ１４０、ＡＥ１７３（以上、ＪＳＲ社製）；アロンＡ−１０４（東亞合成社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００５７】
ポリエステル類としては、例えば、ＦＩＮＥＴＥＸ ＥＳ６５０、６１１、６７５、８５０（以上、大日本インキ化学工業社製）；ＷＤ−ｓｉｚｅ、ＷＭＳ（以上、イーストマンケミカル社製）；Ａ−１１０、Ａ−１１５ＧＥ、Ａ−１２０、Ａ−１２１、Ａ−１２４ＧＰ、Ａ−１２４Ｓ、Ａ−１６０Ｐ、Ａ−２１０、Ａ−２１５ＧＥ、Ａ−５１０、Ａ−５１３Ｅ、Ａ−５１５ＧＥ、Ａ−５２０、Ａ−６１０、Ａ−６１３、Ａ−６１５ＧＥ、Ａ−６２０、ＷＡＣ−１０、ＷＡＣ−１５、ＷＡＣ−１７ＸＣ、ＷＡＣ−２０、Ｓ−１１０、Ｓ−１１０ＥＡ、Ｓ−１１１ＳＬ、Ｓ−１２０、Ｓ−１４０、Ｓ−１４０Ａ、Ｓ−２５０、Ｓ−２５２Ｇ、Ｓ−２５０Ｓ、Ｓ−３２０、Ｓ−６８０、ＤＮＳ−６３Ｐ、ＮＳ−１２２Ｌ、ＮＳ−１２２ＬＸ、ＮＳ−２４４ＬＸ、ＮＳ−１４０Ｌ、ＮＳ−１４１ＬＸ、ＮＳ−２８２ＬＸ（以上、高松油脂社製）；アロンメルトＰＥＳ−１０００シリーズ、ＰＥＳ−２０００シリーズ（以上、東亞合成社製）；バイロナールＭＤ−１１００、ＭＤ−１２００、ＭＤ−１２２０、ＭＤ−１２４５、ＭＤ−１２５０、ＭＤ−１３３５、ＭＤ−１４００、ＭＤ−１４８０、ＭＤ−１５００、ＭＤ−１９３０、ＭＤ−１９８５（以上、東洋紡社製）；セポルジョンＥＳ（住友精化社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００５８】
ポリウレタン類としては、例えば、ＨＹＤＲＡＮ ＡＰ１０、ＡＰ２０、ＡＰ３０、ＡＰ４０、１０１Ｈ、Ｖｏｎｄｉｃ １３２０ＮＳ、１６１０ＮＳ（以上、大日本インキ化学工業社製）；Ｄ−１０００、Ｄ−２０００、Ｄ−６０００、Ｄ−４０００、Ｄ−９０００（以上、大日精化社製）；ＮＳ−１５５Ｘ、ＮＳ−３１０Ａ、ＮＳ−３１０Ｘ、ＮＳ−３１１Ｘ（以上、高松油脂社製）；エラストロン（第一工業製薬社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００５９】
ゴム類としては、例えば、ＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上、大日本インキ化学工業社製）、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１６、ＬＸ４１０、ＬＸ４３０、ＬＸ４３５、ＬＸ１１０、ＬＸ４１５Ａ、ＬＸ４１５Ｍ、ＬＸ４３８Ｃ、２５０７Ｈ、ＬＸ３０３Ａ、ＬＸ４０７ＢＰシリーズ、Ｖ１００４、ＭＨ５０５５（以上、日本ゼオン社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６０】
ポリ塩化ビニル類としては、例えば、Ｇ３５１、Ｇ５７６（以上、日本ゼオン社製）；ビニブラン ２４０、２７０、２７７、３７５、３８６、６０９、５５０、６０１、６０２、６３０、６６０、６７１、６８３、６８０、６８０Ｓ、６８１Ｎ、６８５Ｒ、２７７、３８０、３８１、４１０、４３０、４３２、８６０、８６３、８６５、８６７、９００、９００ＧＴ、９３８、９５０、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＬ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＨ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＮ、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ５、ＳＯＬＢＩＮ Ｍ、ＳＯＬＢＩＮ ＭＦ、ＳＯＬＢＩＮ Ａ、ＳＯＬＢＩＮ ＡＬ（以上、日信化学工業社製）；エスレックＡ、エスレックＣ、エスレックＭ（以上、積水化学工業社製）；デンカビニル１０００ＧＫＴ、デンカビニル１０００Ｌ、デンカビニル１０００ＣＫ、デンカビニル１０００Ａ、デンカビニル１０００ＬＫ２、デンカビニル１０００ＡＳ、デンカビニル１０００ＧＳ、デンカビニル１０００ＬＴ３、デンカビニル１０００Ｄ、デンカビニル１０００Ｗ（以上、電気化学工業社製）、など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６１】
ポリ塩化ビニリデン類としては、例えば、Ｌ５０２、Ｌ５１３（以上、旭化成工業社製）；Ｄ−５０７１（大日本インキ化学工業社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６２】
ポリオレフィン類としては、例えば、ケミパール Ｓ１２０、ＳＡ１００、Ｖ３００（以上、三井石油化学社製）；Ｖｏｎｃｏａｔ ２８３０、２２１０、２９６０（以上、大日本インキ化学工業社製）、ザイクセン、セポルジョンＧ（以上、住友精化社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６３】
共重合ナイロン類としては、例えば、セポルジョンＰＡ（住友精化社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６４】
ポリ酢酸ビニル類としては、例えば、ビニブラン １０８０、１０８２、１０８５Ｗ、１１０８Ｗ、１１０８Ｓ、１５６３Ｍ、１５６６、１５７０、１５８８Ｃ、Ａ２２Ｊ７−Ｆ２、１１２８Ｃ、１１３７、１１３８、Ａ２０Ｊ２、Ａ２３Ｊ１、Ａ２３Ｊ１、Ａ２３Ｋ１、Ａ２３Ｐ２Ｅ、Ａ６８Ｊ１Ｎ、１０８６Ａ、１０８６、１０８６Ｄ、１１０８Ｓ、１１８７、１２４１ＬＴ、１５８０Ｎ、１０８３、１５７１、１５７２、１５８１、４４６５、４４６６、４４６８Ｗ、４４６８Ｓ、４４７０、４４８５ＬＬ、４４９５ＬＬ、１０２３、１０４２、１０６０、１０６０Ｓ、１０８０Ｍ、１０８４Ｗ、１０８４Ｓ、１０９６、１５７０Ｋ、１０５０、１０５０Ｓ、３２９０、１０１７ＡＤ、１００２、１００６、１００８、１１０７Ｌ、１２２５、１２４５Ｌ、ＧＶ−６１７０、ＧＶ−６１８１、４４６８Ｗ、４４６８Ｓ（以上、日信化学工業社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６５】
更に、ポリマーラテックスとしては、例えば、ポリアクリル類、ポリ乳酸エステル類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアセタール類、ＳＢＲ類、ポリ塩化ビニル類などが挙げられる。これらのポリマーラテックスは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリアクリル類、ポリウレタン類、ポリ塩化ビニル類、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ＳＢＲ類が好ましく、ポリアクリル類、ポリウレタン類、ポリ塩化ビニル類、ポリエステル類、ＳＢＲ類がより好ましく、ポリアクリル類が特に好ましい。
【００６６】
前記エチレン性不飽和結合としては、非水溶性ポリマーの主鎖との間に少なくとも１つのエステル基（−ＣＯＯ−）を介して結合し、エチレン性不飽和結合とエステル基のみで非水溶性ポリマーの側鎖を構成していてもよい。また、非水溶性ポリマーの主鎖とエステル基との間、及び／又は、エステル基とエチレン性不飽和結合との間に、更に２価の有機連結基を有してもよく、エチレン性不飽和結合は「エチレン性不飽和結合を有する基」として非水溶性ポリマーの側鎖を構成していてもよい。
前記２価の有機連結基としては、例えば、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類が好ましく、（メタ）アクリレート類が好ましい。
【００６７】
前記エチレン性不飽和結合としては、（メタ）アクリロイル基を導入して配されることが好ましい。
前記非水溶性ポリマーの側鎖に（メタ）アクリロイル基を導入する方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ繰り返し単位にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、イソシアネート基を持つ繰り返し単位にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
これらの中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
【００６８】
前記エチレン性不飽和結合及びエポキシ基を有する（メタ）アクリレートとしては、これらを有すれば特に制限はないが、例えば、下記構造式（１）で表される化合物及び下記構造式（２）で表される化合物が好ましい。
【００６９】
【化１】
ただし、前記構造式（１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｌ１は、有機基を表す。
【００７０】
【化２】
ただし、前記構造式（２）中、Ｒ２は、水素原子又はメチル基を表す。Ｌ２は、有機基を表す。Ｗは、４〜７員環の脂肪族炭化水素基を表す。
【００７１】
前記構造式（１）及び構造式（２）で表される化合物の中でも、光硬化樹脂と組み合わせ、ネガ型、ポジ型のレジストとして使用した場合、良現像性、及び膜強度という点で、前記構造式（１）で表される化合物が好ましい。前記構造式（１）及び（２）においては、Ｌ１及びＬ２がそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基がより好ましい。
【００７２】
前記構造式（１）及び構造式（２）で表される化合物としては、特に制限はないが、例えば、以下の化合物（１）〜（１０）が挙げられる。
【化３】
【００７３】
前記非水溶性ポリマーとしては、下記一般式（Ｉ）で表されるものが含まれる。
【化４】
【００７４】
前記一般式（Ｉ）において、Ｘ１、Ｙ１及びＺ１は、各々独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｘ２は、分枝構造又は脂環構造を有する有機基を表し、Ｚ２は、単結合又は二価の有機基を表し、Ｚ３は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表し、ｘ、ｙ及びｚは、それらの合計を１００モルとした場合における各繰り返し単位のモル比を表し、各々０より大きく１００より少ない数値を表す。
前記ｘは１０〜７５、ｙは５〜７０、及びｚは１０〜７０が好ましい。
【００７５】
前記Ｘ２に係る分枝構造を有する有機基としては、例えば、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｉ−アミル基、ｔ−アミル基、２−オクチル基等の炭素数３〜８の分枝アルキル基などが挙げられる。これらの中でも、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基が特に好ましい。
前記Ｘ２に係る脂環構造を有する有機基としては、炭素原子数５〜２０個の脂環式炭化水素基を示し、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基等が挙げられ、これらの基は、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−基を介して、前記一般式（Ｉ）におけるＣＯＯ−と結合していてもよい。これらの中でも、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基が好ましく、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロペンテニル基が特に好ましい。
前記Ｚ２に係る二価の有機基としては、例えば、２−ヒドロキシ−１，３−プロピレン基等のようなヒドロキシ基を有する炭素数３〜７のアルキレン基、２−ヒドロキシ−１，４−シクロヘキシレン基等のようなヒドロキシ基を有する炭素数６〜９の二価の脂環式炭化水素基などが挙げられる。
【００７６】
前記一般式（Ｉ）で表される非水溶性ポリマーの具体例としては、例えば、下記構造で表される化合物（例示化合物Ｐ−１〜Ｐ−３５）が挙げられる。これらの例示化合物Ｐ−１〜Ｐ−３５は、いずれも５，０００〜３００，０００の範囲の重量平均分子量を有する。また、例示化合物中のｘ、ｙ、及びｚは、各繰り返し単位の組成比（モル比）を表す。
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】
【化１１】
【００７７】
−合成法−
前記非水溶性ポリマーは、モノマーの（共）重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から合成することができる。
前記（共）重合反応は種々のモノマーの（共）重合反応によって作られ、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などが挙げられる。これらの中でも、合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などが挙げられる。これらの中でも、溶液重合法がより好ましい。
【００７８】
前記非水溶性ポリマーは、１０，０００〜１００，０００の重量平均分子量を有するものが、製造が容易であり、かつ導電性、耐久性、及び長波長の透過率に優れる導電膜が得られるので好ましい。前記重量平均分子量は、１２，０００〜６０，０００がより好ましく、１５，０００〜４５，０００が更に好ましい。
【００７９】
前記非水溶性ポリマーは、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の酸価を有していることが好ましい。これにより、前記導電性組成物を含むネガ型感光性樹脂組成物を調製し、これを基板上に形成したのちに、所望のパターン露光及び現像して導電性パターンを形成する場合に、良好な現像性が確保されると共に、得られた導電性パターンは、導電性、耐久性、及び長波長の透過率に優れたものとなる。
前記酸価は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
【００８０】
前記導電性繊維の含有量（Ａ）と前記非水溶性ポリマーの含有量（Ｃ）との質量比（Ａ／Ｃ）は、０．２〜３が好ましく、０．５〜２．５がより好ましい。
前記質量比（Ａ／Ｃ）が、０．２未満であると、塗布量変動による抵抗値のバラツキが問題になる場合、本発明における溶解液の作用が低下することがあり、３を超えると、塗布膜に実用上の十分な強度が得られないことがある。
前記導電性繊維の含有量（塗布量）は、０．００５ｇ／ｍ２〜０．５ｇ／ｍ２が好ましく、０．０１ｇ／ｍ２〜０．４５ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０１５ｇ／ｍ２〜０．４ｇ／ｍ２が更に好ましい。
【００８１】
＜その他の成分＞
前記その他の成分としては、必要に応じて、例えば、分散剤、界面活性剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤等の各種添加剤などが挙げられる。
【００８２】
−分散剤−
前記分散剤は、前記導電性繊維の凝集を防ぎ、分散させるために用いる。前記分散剤としては、前記導電性繊維を分散させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適否選択することができ、例えば、市販の低分子顔料分散剤、高分子顔料分散剤を利用でき、特に高分子分散剤で導電性繊維に吸着する性質を持つものが好ましく用いられ、ポリビニルピロリドン、ＢＹＫシリーズ（ビックケミー社製）、ソルスパースシリーズ（日本ルーブリゾール社製など）、アジスパーシリーズ（味の素株式会社製）などが挙げられる。
【００８３】
前記分散剤の含有量としては、前記ポリマー１００質量部に対し、０．１質量部〜５０質量部が好ましく、０．５質量部〜４０質量部がより好ましく、１質量部〜３０質量部が更に好ましい。前記含有量が、０．１質量部未満であると、分散液中で導電性繊維が凝集してしまうことがあり、５０質量部を超えると、塗布工程において安定な塗布膜が形成できず、塗布ムラが発生してしまうことがある。
【００８４】
＜導電体＞
前記導電体は、本発明の前記導電膜を支持体上に有してなる。
前記導電体は、支持体と、該支持体上に導電層とを有し、更に必要に応じてその他の部材等を有してなる。
前記導電層としては、本発明の前記導電膜を用いることが必要である。
前記導電体は、可撓性を有し、透明が好ましく、前記透明には、無色透明のほか、有色透明、半透明、有色半透明などが含まれる。
【００８５】
前記導電体は、少なくとも一の最表面に、例えばＰＥＴ等のプラスチックフィルム、紫外線（ＵＶ）吸収もしくは反射剤を含有又はコーティングさせたＵＶ吸収又は反射ＰＥＴフィルム（ＵＶ-ＰＥＴ）、酸素、水の透過性を減少させたバリア機能付きＰＥＴフィルム（バリアフィルム）、バリアフィルムにＵＶ吸収もしくは反射機能を持たせたＵＶバリアフィルム、又は、ＵＶ−ＰＥＴとバリアフィルムなどを張り合わせて複合化させたフィルムなどを張り合わせることにより、耐光性を更に向上させることができる。
【００８６】
−支持体−
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、透明ガラス基板、合成樹脂製シート、フィルム、金属基板、セラミック板、光電変換素子を有する半導体基板などが挙げられる。これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等の薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法等の前処理を行うことができる。
前記透明ガラス基板としては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラスなどが挙げられる。
前記合成樹脂製シート、フィルムとしては、例えば、ＰＥＴ、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミドなどが挙げられる。
前記金属基板としては、例えば、アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板などが挙げられる。
【００８７】
前記支持体の全可視光透過率としては、７０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上が特に好ましい。
前記全可視光透過率が、７０％未満であると、透過率が低く実用上問題となることがある。
なお、本発明では、支持体として本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
【００８８】
前記支持体の厚みとしては、１μｍ〜５，０００μｍが好ましく、３μｍ〜４，０００μｍがより好ましく、５μｍ〜３，０００μｍが特に好ましい。
前記厚みが、１μｍ未満であると、塗布工程においてのハンドリングの困難さに起因し、歩留まりが低下することがあり、５，０００μｍを超えると、ポータブルなアプリケーションにおいてその支持体の厚み及び質量が問題となることがある。
【００８９】
＜導電体の製造方法＞
前記導電体の製造方法は、導電層形成工程と、溶解液付与工程とを少なくとも含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【００９０】
＜導電層形成工程＞
前記導電層形成工程は、支持体上に導電性繊維及びポリマーを含有する導電層組成物を塗布して導電層を形成する工程である。
前記支持体、前記導電性繊維、及び前記ポリマーとしては、上述したものの中から適宜選択することができる。
【００９１】
前記導電層組成物の塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばスピンコート、ロールコート、スリットコート等の公知の方法により、基材上に塗布する。
【００９２】
前記導電性繊維の塗布量（含有量）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．００５ｇ／ｍ２〜０．５ｇ／ｍ２が好ましく、０．０１ｇ／ｍ２〜０．４５ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０１５ｇ／ｍ２〜０．４ｇ／ｍ２が更に好ましい。
前記塗布量が、０．００５ｇ／ｍ２未満であると、局所的に抵抗が高くなってしまう箇所ができ、面内の抵抗分布が悪化することがあり、０．５g／ｍ２を超えると、塗布後の乾燥中に導電性繊維同士の凝集により、ヘイズが悪化することがある。
【００９３】
前記導電層の厚みとしては、２０ｎｍ〜５，０００ｎｍが好ましく、２５ｎｍ〜４，０００ｎｍがより好ましく、３０ｎｍ〜３，５００ｎｍが更に好ましい。
前記厚みが、２０ｎｍ未満であると、導電性繊維の平均短軸長さと変わらない範囲となってしまい、膜強度が低下することがあり、５，０００ｎｍを超えると、導電層のヒビ割れ、透過率及びヘイズが悪化することがある。
【００９４】
前記導電層形成工程において、前記ハロゲン元素の含有量を調整することができる。例えば、（１）導電層形成用塗布液を限外濾過する方法、（２）導電層形成用塗布液に純水などを添加して遠心分離後、上澄みを除去する洗浄を繰り返して行う方法、（３）導電膜形成後に該導電膜を洗浄（純水などの洗浄溶媒中に浸漬）する方法、などが挙げられる。
【００９５】
＜溶解液付与工程＞
前記溶解液付与工程は、前記導電層表面に導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液をパターン状に付与する工程である。
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液を、前記導電層にパターン状に付与し、該付与された部分が非導電部となる。
【００９６】
−導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液−
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液としては、導電性繊維を溶解し、非導電部を形成することができる液であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば導電性繊維が銀ナノワイヤーの場合には、所謂写真科学業界において、主にハロゲン化銀カラー感光材料の印画紙の漂白、定着工程に使用される漂白定着液、希硝酸等の強酸、酸化剤を含む溶液、過酸化水素水などが挙げられる。これらの中でも、漂白定着液、希硝酸を含む溶液、過酸化水素水が好ましく、漂白定着液が特に好ましい。なお、前記溶解液による導電性繊維（好ましくは銀ナノワイヤー）の溶解乃至切断は、該溶解液を付与した部分の導電性繊維（好ましくは銀ナノワイヤー）を完全に溶解乃至切断しなくてもよく、導電性が消失していれば一部が残存していてもよい。
【００９７】
前記希硝酸を含む溶液における希硝酸の濃度は、１質量％〜２０質量％が好ましい。
前記過酸化水素水における過酸化水素の濃度は、３質量％〜３０質量％が好ましい。
【００９８】
前記漂白定着液は、漂白剤、定着剤を含み、漂白促進剤、再ハロゲン化剤、保恒剤、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記漂白定着液で用いられる漂白剤としては、特に制限はなく、いかなる漂白剤も用いることができ、例えば、鉄（ＩＩＩ）の有機錯塩（例えばエチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸等のアミノポリカルボン酸類；アミノポリホスホン酸、ホスホノカルボン酸、有機ホスホン酸等の錯塩）、又はクエン酸、酒石酸、リンゴ酸等の有機酸；過硫酸塩；過酸化水素などが挙げられる。
これらの中でも、鉄（ＩＩＩ）の有機錯塩が迅速なパターニング処理と環境汚染防止の観点から特に好ましい。１Ｌ当りの鉄（ＩＩＩ）の有機錯塩の含有量は、０．０５モル〜３モルが好ましく、０．１モル〜１．５モルがより好ましい。
前記鉄（ＩＩＩ）の有機錯塩を形成するために有用なアミノポリカルボン酸、アミノポリホスホン酸、もしくは有機ホスホン酸又はそれらの塩としては、例えばエチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、１，３−ジアミノプロパン四酢酸、プロピレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、シクロヘキサンジアミン四酢酸、メチルイミノ二酢酸、イミノ二酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、などが挙げられる。これらの化合物はナトリウム、カリウム、チリウム又はアンモニウム塩のいずれでもよい。これらの中でも、エチレンジアミン四酢酸、アエチレントリアミン五酢酸、シクロヘキサンジアミン四酢酸、１，３−ジアミノプロパン四酢酸、メチルイミノ二酢酸の鉄（ＩＩＩ）錯塩が漂白力が高い点から好ましい。
これらの第２鉄イオン錯塩は錯塩の形で使用してもよいし、第２鉄塩、例えば硫酸第２鉄、塩化第２鉄、硝酸第２鉄、硫酸第２鉄アンモニウム、燐酸第２鉄などとアミノポリカルボン酸、アミノポリホスホン酸、ホスホノカルボン酸などのキレート剤とを用いて溶液中で第２鉄イオン錯塩を形成させてもよい。また、キレート剤を第２鉄イオン錯塩を形成する以上に過剰に用いてもよい。鉄錯体のなかでもアミノポリカルボン酸鉄錯体が好ましく、その添加量は０．０１モル／Ｌ〜１．０モル／Ｌが好ましく、０．００５モル／Ｌ〜０．５０モル／Ｌがより好ましい。
【００９９】
前記漂白定着液に使用される定着剤としては、特に制限はなく、公知の定着剤の中から適宜選択することができ、例えばチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩；チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩；エチレンビスチオグリコール酸、３．６−ジチア−１，８−オクタンジオール等のチオエーテル化合物及びチオ尿素類などの水溶性のハロゲン化銀溶解剤などが挙げられる。これらは１種又は２種以上混合して使用することができる。また、特開昭５５−１５５３５４号公報に記載された定着剤と多量の沃化カリウム等のハロゲン化物などの組み合わせからなる特殊な漂白定着液なども用いることができる。これらの中でも、チオ硫酸塩が好ましく、チオ硫酸アンモニウム塩が特に好ましい。１Ｌ当りの定着剤の量は、０．３モル〜２モルが好ましく、０．５モル〜１．０モルがより好ましい。
【０１００】
前記漂白定着液には、漂白促進剤として種々の化合物を用いることができる。例えば、米国特許第３．８９３，８５８号明細書、ドイツ特許第１，２９０，８１２号明細書、特開昭５３−９５６３０号公報、リサーチディスクロージャー第１７１２９号（１９７８年７月号）に記載のメルカプト基又はジスルフィド結合を有する化合物、特公昭４５−８５０６号公報、特開昭５２−２０８３２号公報、特開昭５３−３２７３５号公報、米国特許第３，７０６，５６１号明細書等に記載のチオ尿素化合物、あるいは沃素、臭素イオンのハロゲン化物などが挙げられる。
前記漂白定着液には、必要に応じて臭化物（例えば、臭化カリウム、臭化ナトリウム、臭化アンモニウム）、又は塩化物、（例えば、塩化カリウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム）、又は沃化物（例えば、沃化アンモニウム）等の再ハロゲン化剤を含むことができる。
【０１０１】
前記漂白定着液には、保恒剤として亜硫酸塩（例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウムなど）、重亜硫酸塩（例えば、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、重亜硫酸カリウムなど）、メタ重亜硫酸塩（例えば、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウムなど）等の亜硫酸イオン放出化合物を含有することができる。これらの化合物は亜硫酸イオン換算して約０．０２モル／Ｌ〜０．５０モル／Ｌ含有することが好ましく、０．０４モル／Ｌ〜０．４０モル／Ｌ含有することがより好ましい。これらの中でも、亜硫酸アンモニウムの添加が特に好ましい。
前記保恒剤としては、亜硫酸塩の添加が一般的であるが、アスコルビン酸、カルボニル重亜硫酸付加物、スルフィン酸類、カルボニル化合物、スルフィン酸類等を添加してもよい。
【０１０２】
前記漂白定着液のｐＨは、８以下が好ましく、３〜８がより好ましく、４〜７が更に好ましく、５．７〜６．５が特に好ましい。前記ｐＨがこれより低いと、導電性繊維の溶解性は向上するが、溶解液の劣化促進されることがある。一方、ｐＨがこれより高いと、溶解時間が長くなり、パターニング時の解像度が悪化する場合がある。
ｐＨを調整するため、必要に応じて塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、重炭酸塩、アンモニア、苛性カリ、苛性ソーダ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等を添加することができる。
【０１０３】
前記漂白定着液には、更に必要に応じて、硼酸、硼砂、メタ硼酸ナトリウム、酢酸、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、亜燐酸、燐酸、燐酸ナトリウム、クエン酸、クエン酸ナトリウム、酒石酸等のｐＨ緩衝能を有する１種類以上の無機酸、有機酸及びこれらのアルカリ金属又はアンモニウム塩、硝酸アンモニウム、グアニジン等の腐食防止剤、緩衝剤、蛍光増白剤、キレート剤、防カビ剤、各種の蛍光増白剤、消泡剤、界面活性剤、ポリビニルピロリドン、メタノール等の有機溶媒などのその他の成分を含有することができる。
【０１０４】
前記漂白定着液としては、適宜調製したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。該市販品としては、例えば、富士フイルム株式会社製ＣＰ−４８Ｓ、ＣＰ−４９Ｅ（カラーペーパー用漂白定着剤）、コダック社製エクタカラーＲＡ漂白定着液、大日本印刷株式会社製漂白定着液Ｄ−Ｊ２Ｐ−０２−Ｐ２、Ｄ−３０Ｐ２Ｒ−０１、Ｄ−２２Ｐ２Ｒ−０１などが挙げられる。これらの中でも、ＣＰ−４８Ｓ、ＣＰ−４９Ｅが特に好ましい。
漂白定着時間は、１８０秒間以下が好ましく、１２０秒間以下１秒間以上がより好ましく、９０秒間以下５秒間以上が更に好ましい。また、水洗又は安定化時間は、１８０秒間以下が好ましく、１２０秒間以下１秒間以上がより好ましい。
このとき、水洗又は安定化処理は水又は安定化液に浸漬する方法でもよいが、導電性繊維を含有する層が非常に薄く、膜強度が比較的弱いものであることを考慮すると、水又は安定化液をシャワーする方法が洗浄効率がよいので、より好ましい。
【０１０５】
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液の粘度は、後述するパターニング方法に応じて異なるが、２５℃で、５ｍＰａ・ｓ〜３００，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０ｍＰａ・ｓ〜１５０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましい。前記粘度が、５ｍＰａ・ｓ未満であると、印刷法によっては、不必要なところにまで溶解液が拡散してしまい、明瞭なパターニングが困難になる場合があり、３００，０００ｍＰａ・ｓを超えると、印刷法によっては、工程に負荷がかかり、長時間のプロセスタイムを要する場合がある。
前記粘度は、例えば、ブルックフィールド粘度計などにより測定することができる。
前記溶解液に増粘剤を添加することにより上記粘度範囲に調整することができる。前記増粘剤としては、例えばアロンＡ−２０Ｌ（東亞合成株式会社製）、ゼラチン、水溶性セルロース、グリセリンなどが挙げられる。
【０１０６】
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液のパターン状の付与（パターニング方法）としては、前記溶解液をパターン状に付与できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばスクリーン印刷、インクジェット印刷、予めレジスト剤などによりエッチングマスクを形成しておきその上に溶解液をコーター塗布、ローラー塗布、ディッピング塗布、スプレー塗布する方法、などが挙げられる。これらの中でも、スクリーン印刷、インクジェット印刷、コーター塗布、ディップ（浸漬）塗布が好ましく、スクリーン印刷、インクジェット印刷が特に好ましい。
【０１０７】
前記スクリーン印刷は、所望形状に多数の細孔が形成されたスクリーン版を介して被印刷物としての導電膜上にパターンを形成する方法であり、導電膜上にスクリーン版をクリアランスを空けてセットし、スクリーン版上に導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液を供給し、スクリーン版と導電膜とが接触するようにスキージでスクリーン版を押さえて変形させながらスキージを移動させる。それにつれてスクリーン版開口部に充填された溶解液は、導電膜と接触して、導電膜へ転写される。
前記スクリーン印刷では、前記溶解液の粘度は、２５℃で、１０，０００ｍＰａ・ｓ〜３００，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１５，０００ｍＰａ・ｓ〜１５０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、２０，０００ｍＰａ・ｓ〜７０，０００ｍＰａ・ｓが更に好ましい。
前記溶解液の粘度が、１０，０００ｍＰａ・ｓ未満であると、溶解液を載せたくない箇所にも溶解液が広がってしまい、パターンが不明瞭になることがあり、３００，０００ｍＰａ・ｓを超えると、水洗又は安定化処理時に溶解液が残ってしまうことがある。
【０１０８】
前記インクジェット印刷は、導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液を導電膜上にパターン状に吐出させるものであり、ピエゾ方式及びサーマル方式のいずれも使用可能である。
前記インクジェット印刷では、前記溶解液の粘度は、２５℃で、１ｍＰａ・ｓ〜２００ｍＰａ・ｓが好ましく、５ｍＰａ・ｓ〜１００ｍＰａ・ｓがより好ましく、１０ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓが更に好ましい。
前記溶解液の粘度が、１ｍＰａ・ｓ未満であると、インク着弾後に導電膜上で濡れ広がってしまいパターンが不明瞭となることがあり、２００ｍＰａ・ｓを超えると、インク吐出に必要なエネルギーが高くなること、また、インクジェットヘッドの汚れにより、吐出が安定しなくなることがある。
【０１０９】
前記パターンの種類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、文字、記号、模様、図形、配線パターン、などが挙げられる。
前記パターンの大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することがで
きるが、ナノサイズからミリサイズのいずれの大きさであっても構わない。
【０１１０】
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液が付与された非導電部の表面抵抗は、５ｋΩ／□以上が好ましく、１００ｋΩ／□以上がより好ましく、１ＭΩ／□以上が更に好ましい。上限値は、１０９Ω／□以下が好ましい。
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液が付与されていない部分である導電部（導電膜）の表面抵抗は、５ｋΩ／□未満が好ましく、５００Ω／□以下がより好ましい。下限値は、１Ω／□以上が好ましい。
ここで、前記表面抵抗は、例えば、表面抵抗計（三菱化学株式会社製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて、測定することができる。
本発明の導電膜の全光線透過率は、７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。
ここで、前記全光線透過率は、例えば、ガードナー社製ヘイズガードプラスにより測定することができる。
【０１１１】
本発明の導電膜は、絶縁性が著しく改善でき、高透過性、低抵抗であり、耐久性及び可撓性が向上し、簡易にパターニングが可能であるので、例えばタッチパネル、ディスプレイ用電極、電磁波シールド、有機ＥＬディスプレイ用電極、無機ＥＬディスプレイ用電極、電子パーパー用電極、フレキシブルディスプレイ用電極、太陽電池用電極、表示素子用電極、その他の各種デバイスなどに幅広く適用される。これらの中でも、タッチパネル、表示素子用電極、太陽電池用電極が特に好ましい。
【０１１２】
＜表示素子＞
本発明で用いられる表示素子としての液晶表示素子は、上記のようにして基板上にパターニングされた前記導電体が設けられた素子基板と、対向基板であるカラーフィルター基板とを、位置を合わせて圧着後、熱処理して組み合わせ、液晶を注入し、注入口を封止することによって製作される。このとき、カラーフィルター上に形成される導電体も、前記導電体を用いることが好ましい。
また、前記素子基板上に液晶を散布した後、基板を重ね合わせ、液晶が漏れないように密封して液晶表示素子が製作されてもよい。
なお、前記液晶表示素子に用いられる液晶、即ち液晶化合物及び液晶組成物については特に制限はなく、いずれの液晶化合物及び液晶組成物をも使用することができる。
【０１１３】
（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、本発明の前記導電膜からなる導電体を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量方式タッチパネル、投影型静電容量方式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサ及びタッチパッドを含むものとする。
前記タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成が、２枚の透明電極を貼合する貼合方式、１枚の基材の両面に透明電極を具備する方式、片面ジャンパーあるいはスルーホール方式あるいは片面積層方式のいずれかが好ましい。
【０１１４】
前記表面型静電容量方式タッチパネルの一例について、図１を参照して説明する。この図１において、タッチパネル１０は、透明基板１１の表面を一様に覆うように透明導電体１２を配してなり、透明基板１１の端部の透明導電体１２上に、図示しない外部検知回路との電気接続のための電極端子１８が形成されている。
なお、図中、１３は、シールド電極となる透明導電体を示し、１４、１７は、保護膜を示し、１５は、中間保護膜を示し、１６は、グレア防止膜を示す。
透明導電体１２上の任意の点を指でタッチ等すると、前記透明導電体１２は、タッチされた点で人体を介して接地され、各電極端子１８と接地ラインとの間の抵抗値に変化が生じる。この抵抗値の変化を前記外部検知回路によって検知し、タッチした点の座標が特定される。
【０１１５】
前記表面型静電容量方式タッチパネルの他の一例について図２を用いて説明する。該図２においてタッチパネル２０は、透明基板２１の表面を覆うように配された透明導電体２２と透明導電体２３と、該透明導電体２２と該透明導電体２３とを絶縁する絶縁層２４と、指等の接触対象と透明導電体２２又は透明導電体２３の間に静電容量を生じる絶縁カバー層２５からなり、指等の接触対象に対して位置検知する。構成によっては、透明導電体２２，２３を一体として構成することもでき、また、絶縁層２４又は絶縁カバー層２５を空気層として構成してもよい。
絶縁カバー層２５を指等でタッチすると、指等と透明導電体２２又は透明導電体２３の間の静電容量の値に変化が生じる。この静電容量値の変化を前記外部検知回路によって検知し、タッチした点の座標が特定される。
また、図３により、投影型静電容量方式タッチパネルとしてのタッチパネル２０を透明導電体２２と透明導電体２３とを平面から視た配置を通じて模式的に説明する。
タッチパネル２０は、Ｘ軸方向の位置を検出可能とする複数の透明導電体２２と、Ｙ軸方向の複数の透明導電体２３とが、外部端子に接続可能に配されている。透明導電体２２と透明導電体２３とは、指先等の接触対象に対し複数接触して、接触情報が多点で入力されることを可能とされる。
このタッチパネル２０上の任意の点を指でタッチ等すると、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の座標が位置精度よく特定される。
なお、透明基板、保護層等のその他の構成としては、前記表面型静電容量方式タッチパネルの構成を適宜選択して適用することができる。また、タッチパネル２０において、複数の透明導電体２２と、複数の透明導電体２３とによる透明導電体のパターンの例を示したが、その形状、配置等としては、これらに限られない。
【０１１６】
前記抵抗膜式タッチパネルの一例について、図４を用いて説明する。該図４において、タッチパネル３０は、透明導電体３２が配された基板３１と、該透明導電体３２上に複数配されたスペーサ３６と、空気層３４を介して、透明導電体３２と接触可能な透明導電体３３と、該透明導電体３３上に配される透明フィルム３５とが支持されて構成される。
このタッチパネル３０に対して、透明フィルム３５側からタッチすると、透明フィルム３５が押圧され、押し込まれた透明導電体３２と透明導電体３３とが接触し、この位置での電位変化を図示しない外部検知回路で検出することで、タッチした点の座標が特定される。
【０１１７】
（太陽電池）
本発明の太陽電池は、本発明の前記導電膜を用いている。
前記太陽電池（以下、太陽電池デバイスと称することもある）としては、特に制限はなく、太陽電池デバイスとして一般的に用いられるものを使用することができる。例えば、単結晶シリコン系太陽電池デバイス、多結晶シリコン系太陽電池デバイス、シングル接合型、又はタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイス、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）、インジウム燐（ＩｎＰ）等のＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体太陽電池デバイス、カドミウムテルル（ＣｄＴｅ）等のＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池デバイス、銅／インジウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン／硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池デバイス、色素増感型太陽電池デバイス、有機太陽電池デバイスなどが挙げられる。これらの中でも、本発明においては、前記太陽電池デバイスが、タンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイス、及び銅／インジウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン／硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池デバイスが好ましい。
【０１１８】
タンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイスの場合、アモルファスシリコン、微結晶シリコン薄膜層、また、これらにゲルマニウムを含んだ薄膜、更に、これらの２層以上のタンデム構造が光電変換層として用いられる。成膜はプラズマＣＶＤ等を用いる。
【実施例】
【０１１９】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１２０】
（調製例１）
−非水溶性ポリマー（１）の調製−
反応容器中に、１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＭＰＧＡＣ、ダイセル化学工業株式会社製）８．５７質量部を予め加え９０℃に昇温し、モノマーとしてシクロヘキシルメタクリレート、メチルメタクリレート、メタクリル酸（添加質量比は順に４５．５ｍｏｌ％：２ｍｏｌ％：１９ｍｏｌ％：３３．５ｍｏｌ％となるように、シクロヘキシルメタクリレート、メチルメタクリレート、メタクリル酸、及び後述のグリシジルメタクリレートを調整した）、アゾ系重合開始剤（和光純薬工業株式会社製、Ｖ−６０１）１質量部、及び１−メトキシ−２−プロパノール８．５７質量部からなる混合溶液を窒素ガス雰囲気下、９０℃の反応容器中に２時間かけて滴下した。滴下後４時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
次いで、前記アクリル樹脂溶液に、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２５質量部、及びテトラエチルアンモニウムブロマイド０．０８４質量部を加えた後、グリシジルメタクリレートを２時間かけて滴下した。滴下後、空気を吹き込みながら９０℃で４時間反応させた後、固形分濃度が４５質量％になるように溶媒を添加することにより調製し、不飽和基を有する非水溶性ポリマー（１）の溶液（重量平均分子量（Ｍｗ）；３０，０００、１−メトキシ−２−プロパノールの４５質量％溶液）を得た。
なお、前記重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて測定した。
得られた非水溶性ポリマー（１）のＳＰ値は、沖津法により算出し、２２ＭＰａ１／２であった。
【０１２１】
（調製例２）
−銀ナノワイヤー分散物（１）の調製−
硝酸銀粉末０．５１ｇを純水５０ｍＬに溶解した硝酸銀溶液を調製した。その後、前記硝酸銀溶液に１Ｎのアンモニア水を透明になるまで添加し、全量が１００ｍＬになるように、純水を添加して、添加液Ａを調製した。
グルコース粉末０．５ｇを１４０ｍＬの純水で溶解して、添加液Ｇを調製した。
ＨＴＡＢ（ヘキサデシル−トリメチルアンモニウムブロミド）粉末０．５ｇを２７．５
ｍＬの純水で溶解して、添加液Ｈを調製した。
添加液Ａ ２０．６ｍＬを三口フラスコ内に入れ室温にて攪拌した。この液に純水４１ｍＬ、添加液Ｈ ２０．６ｍＬ、及び溶液Ｂ １６．５ｍＬの順でロートにて添加し、９０℃で５時間、２００ｒｐｍで攪拌しながら加熱することで、分散物を得た。
得られた分散物を冷却した後、ポリビニルピロリドン（Ｋ−３０、和光純薬工業株式会社製）を銀の質量１に対し０．０５となるように撹拌しながら添加し、その後遠心分離し、伝導度が１５０μＳ／ｃｍ以下になるまで精製し、プロピレングリコールモノメチルエーテルで更に遠心分離を行い水を除去し、最終的にプロピレングリコールモノメチルエーテルを添加し、銀ナノワイヤー分散物（１）を調製した。
得られた銀ナノワイヤー分散物（１）の平均短軸長さ、平均長軸長さ、短軸長さの変動係数、アスペクト比が１０以上の導電性繊維（銀ナノワイヤー）の比率は、以下に示すように測定した。結果を表１に示す。
【０１２２】
＜金属ナノワイヤーの平均短軸長さ及び平均長軸長さ＞
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さ及び平均長軸長さを求めた。
【０１２３】
＜金属ナノワイヤー短軸長さの変動係数＞
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、金属ナノワイヤーの短軸長さを３００個観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの短軸長さを計測し、その標準偏差と平均値を計算することにより変動係数を求めた。
【０１２４】
＜アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率＞
各銀ナノワイヤー分散物を濾過して銀ナノワイヤーとそれ以外の粒子を分離し、ＩＣＰ発光分析装置（株式会社島津製作所製、ＩＣＰＳ−８０００）を用いて濾紙に残っている銀の量と、濾紙を透過した銀の量を各々測定し、短軸長さが５０ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが５μｍ以上である金属ナノワイヤーをアスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率（％）として求めた。
なお、導電性繊維の比率を求める際の金属ナノワイヤーの分離は、メンブレンフィルター（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ社製、ＦＡＬＰ ０２５００、孔径１．０μｍ）を用いて行った。
【０１２５】
（調製例３）
−銀ナノワイヤー分散物（２）の調製−
エチレングリコール３０ｍＬを三口フラスコに入れ１６０℃に加熱した。その後、３６ｍＭのポリビニルピロリドン（ＰＶＰ Ｋ−５５、アルドリッチ社製）、３μＭのアセチルアセトナート鉄、６０μＭの塩化ナトリウムエチレングリコール溶液１８ｍＬと、２４ｍＭの硝酸銀エチレングリコール溶液１８ｍＬを毎分１ｍＬの速度で添加した。１６０℃で６０分間加熱後室温まで冷却した。水を加えて遠心分離し、伝導度が１５０μＳ／ｃｍ以下になるまで精製し、プロピレングリコールモノメチルエーテルで更に遠心分離を行い水を除去し、最終的にプロピレングリコールモノメチルエーテルを添加し、銀ナノワイヤー分散物（２）を調製した。
得られた銀ナノワイヤー分散物（２）中の銀ナノワイヤーの平均短軸長さ、平均長軸長さ、短軸長さの変動係数、アスペクト比が１０以上の導電性繊維（銀ナノワイヤー）の比率は、前記銀ナノワイヤー分散物（１）と同様に測定した。結果を表１に示す。
【０１２６】
【表１】
＊表１中、「導電性繊維の比率」とは、アスペクト比が１０以上の導電性繊維（銀ナノワイヤー）の比率を表す。
【０１２７】
（実施例１）
＜透明導電体の作製＞
以下に示すようにして、表２に示す試料Ｎｏ．１０１〜１１１の透明導電体を作製した。
【０１２８】
＜試料Ｎｏ．１０１の作製＞
−下引き層の形成−
市販の二軸延伸熱固定済の厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板に８Ｗ／ｍ２・分のコロナ放電処理を施し、下記組成の下引き層用塗布液を塗布して、乾燥厚み０．８μｍの下引き層を形成した。
【０１２９】
−下引き層用塗布液の組成−
・ブチルアクリレート・・・４０質量％
・スチレン・・・２０質量％
・グリシジルアクリレート・・・・４０質量％
上記組成からなる共重合体ラテックスに、ヘキサメチレン−１,６−ビス（エチレンウレア）を０．５質量％含有させて、下引き層用塗布液を調製した。
【０１３０】
次に、下引き層の表面に８Ｗ／ｍ２・分のコロナ放電処理を施して、ヒドロキシエチルセルロースを親水性ポリマー層として０．１２ｇ／ｍ２になるように塗設した。
【０１３１】
次に、ドクターコーターを用いて、前記銀ナノワイヤー分散物（１）を親水性ポリマー層上に塗布し、乾燥した。塗布銀量を蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）にて測定し、０．０６ｇ／ｍ２となるように塗布量を調節し、導電層を形成した。得られた塗布膜を２５℃の純水に５分間浸漬し、２分間純水中で超音波洗浄器（ＡＳＵ−２Ｍ、アズワン社製）で超音波洗浄を行い、更に純水で２回リンスを行った。以上により、試料Ｎｏ．１０１の透明導電体を作製した。
【０１３２】
得られた試料Ｎｏ．１０１の透明導電体の導電層（導電膜）について、蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）により、ハロゲン元素の含有量を測定したところ、３，０００質量ｐｐｍであった。このとき、予め、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）を、前記親水性ポリマー上に塗布膜厚を変えて塗布を行い、塗布量と検出ピークの強度から、ハロゲン含有量測定用の検量線を作成しておき、試料Ｎｏ．１０１のピーク強度を測定し、検量線から、ハロゲン元素の含有量を求めた。
また、得られた試料Ｎｏ．１０１の透明導電体について、導電層中の銀ナノワイヤーを構成する銀の含有量Ａと、導電層中のハロゲン元素のＸとの原子比（Ｘ／Ａ）を、塗布銀量、ハロゲン元素の含有量から算出したところ、原子比（Ｘ／Ａ）は＜０．０１であった。
また、試料Ｎｏ．１０１の透明導電体の導電層を削り取り、その乾固粉末を、自動試料燃焼型イオンクロマトグラフ（ダイアインスツルメンツ社製、ＡＱＦ−１００型）にて原子比（Ｘ／Ａ）を測定したところ、原子比（Ｘ／Ａ）は＜０．０１であり、上記と同じ値が得られた。
【０１３３】
＜試料Ｎｏ．１０２の作製＞
試料Ｎｏ．１０１において、純水の浸漬時間を２分間に変え、超音波洗浄を行わなかった以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０２の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０２の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、５０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０２の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．１５であった。
【０１３４】
＜試料Ｎｏ．１０３の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、純水の浸漬時間を３０秒間に変えた以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０３の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０３の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１６０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０３の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．４８であった。
【０１３５】
＜試料Ｎｏ．１０４の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、純水による浸漬、及び純水での２回リンスを行わなかった以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０４の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０４の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、２６０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０４の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．７８であった。
【０１３６】
＜試料Ｎｏ．１０５の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を４５秒間に変更した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０５の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０５の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、４２０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０５の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、１．２５であった。
【０１３７】
＜試料Ｎｏ．１０６の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、純水による浸漬中で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（１質量％）に代え、浸漬時間を１分間に変え、純水でのリンスを１回に変更した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０６の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０６の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１，２００，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０６の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、３．４であった。
【０１３８】
＜試料Ｎｏ．１０７の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、銀ナノワイヤー分散物（１）の代わりに銀ナノワイヤー分散物（２）を用い、塗布銀量を蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）にて測定し、０．０７ｇ／ｍ２となるように塗布量を調節し、純水の浸漬時間を３分間に変更した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０７の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０７の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、６０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０７の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．１８であった。
【０１３９】
＜試料Ｎｏ．１０８の作製＞
試料Ｎｏ．１０７において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を１分３０秒間に変更した以外は、試料Ｎｏ．１０７と同様にして、試料Ｎｏ．１０８の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０８の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、７３０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０８の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、２．２であった。
【０１４０】
＜試料Ｎｏ．１０９の作製＞
試料Ｎｏ．１０４において、乾燥後の塗布膜に、塗布用基板として使用したＰＥＴフィルムを、光学粘着剤（パナック社製、ＰＤ−Ｓ１）により、２５℃、湿度５５％ＲＨ環境下、ハンドローラ（一進産業株式会社製、Ｗ−１３０）を用いて貼り合せた以外は、試料Ｎｏ．１０４と同様にして、試料Ｎｏ．１０９の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０９の透明導電体の導電層は、試料Ｎｏ．１０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．１０４の値を代用した。
【０１４１】
＜試料Ｎｏ．１１０の作製＞
試料Ｎｏ．１０９において、貼り合せるＰＥＴフィルムを、下記のＵＶ剤含有高分子フィルムに代えた以外は、試料Ｎｏ．１０９と同様にして、試料Ｎｏ．１１０の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１１０の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．１０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．１０４の値を代用した。
【０１４２】
＜＜ＵＶ剤含有高分子フィルムの調製＞＞
ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）５ｇに対し、下記構造式で表される化合物（１）を厚み５０μｍのフィルム作製時に極大吸収波長における吸光度が１．０となるように１５ｍｇ添加し、２６５℃で溶融混練後、冷却することでＵＶ剤含有ポリエチレンテレフタラートを得た。このＵＶ剤含有ポリエチレンテレフタラートを２８０℃で延伸することによりＵＶ剤含有高分子フィルムを作製した。
【０１４３】
−化合物（１）の調製−
１−（４，７−ジヒドロキシベンゾ［１，３］ジチオール−２−イリデン）ピペリジニウムアセテート１．６４ｇ（０．００５モル）にＮ−メチルピロリドン５ｍＬ、１，２−ジメチル−３，５−ピラゾリジンジオン０．６４ｇ（０．００５モル）を加え、これを窒素フロー条件下、１００℃で３０分間撹拌した後に冷却し、希塩酸５０ｍＬに加えて析出した固体１．６３ｇをろ別した。得られた化合物０．３１０ｇ（０．００１モル）をジメチルアセトアミド５ｍＬに溶解させた後、トリエチルアミン０．３０４ｇ（０．００３モル）を加え０℃に冷却した。その後、２−エチルヘキサノイルクロリド０．３９０ｇ（０．００２４モル）を加え、室温に戻して２時間撹拌した。酢酸エチル、希塩酸で処理後、シリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）にて単離することにより、目的生成物である化合物（１）を得た（収量０．３０ｇ、収率５３％）。
下記構造式で表される化合物（１）の酢酸エチル溶液中における極大吸収波長は３７１ｎｍであり、長波紫外線吸収能を有することが分かった。
１Ｈ ＮＭＲ（重クロロホルム）δ０．９５（６Ｈ），１．０６（６Ｈ），１．４〜１．９（１６Ｈ），２．６（２Ｈ），３．２５（６Ｈ），７．３ｐｐｍ（２Ｈ）．
ＦＡＢ ＭＳ（マトリクス：３−ニトロベンジルアルコール）ｍ／ｚ ５６３（［Ｍ＋Ｈ］＋），５６２（［Ｍ］＋，１００％）．
Ａｎａｌ．ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ２８Ｈ３８Ｎ２Ｏ６Ｓ２：Ｃ５９．７６％，Ｈ６．８１％，Ｎ４．９８％．
Ｆｏｕｎｄ：Ｃ５９．５５％，Ｈ７．１０％，Ｎ４．９０％．
【化１２】
ただし、前記式中、Ｒ１及びＲ２はメチル基、Ｒ３及びＲ６は２−エチルヘキサノイルオキシ、Ｒ４及びＲ５は水素原子をそれぞれ表す。
【０１４４】
＜試料Ｎｏ．１１１の作製＞
試料Ｎｏ．１０９において、貼り合せるＰＥＴフィルムを、下記のガスバリアフィルムに代えた以外は、試料Ｎｏ．１０９と同様にして、試料Ｎｏ．１１１の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１１１の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．１０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．１０４の値を代用した。
【０１４５】
−ガスバリアフィルムの作製−
プラスチックフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、ＰＥＮフィルム、ガラス転移温度（Ｔｇ）：１２０℃）上に、無機層と有機層を下記の手順にしたがって作製した。
［１］有機層製膜工程
下記のポリスチレンＡ１を２２．５ｇ秤量し、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）２７７．５ｇに溶解して、塗布液を作製した。この塗布液を、プラスチックフィルム上にバー塗布により塗布し、乾燥することにより成膜した。有機層の厚みは５００ｎｍであった。
・ポリスチレンＡ１：重量平均分子量（Ｍｗ）２３０，０００、分子量分布２．１、ガラス転移温度（Ｔｇ）９４℃、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ社製
【０１４６】
［２］加熱処理工程
製膜した有機層に対して、大気圧又は１００Ｐａの減圧下、１１０℃で２時間加熱処理を行った。
【０１４７】
［３］無機層製膜工程
加熱処理工程後、以下の手順にしたがって、リアクティブスパッタリング装置を用いて、スパッタ法により酸化アルミニウム（ＡｌＯ）の無機層を形成した。
リアクティブスパッタリング装置の真空チャンバーを、油回転ポンプとターボ分子ポンプとで到達圧力５×１０−４Ｐａまで減圧した。次に、プラズマガスとしてアルゴンを導入し、プラズマ電源から電力２，０００Ｗを印加した。チャンバー内に高純度の酸素ガスを導入し、成膜圧力を０．３Ｐａになるように調整して一定時間成膜し、膜厚４０ｎｍの酸化アルミニウム（ＡｌＯ）の無機層を形成した。
【０１４８】
次に、作製した試料Ｎｏ．１０１〜Ｎｏ．１１１の透明導電体について、以下のようにして、諸特性を評価した。結果を表２に示す。
【０１４９】
＜透過率、及びヘイズの測定＞
得られた各透明導電体の導電層について、ガードナー社製ヘイズガードプラスを用い、全光線透過率、及びヘイズを測定した。
【０１５０】
＜表面抵抗の測定＞
得られた各透明導電体の導電層について、表面抵抗計（三菱化学株式会社製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）を用い、表面抵抗を測定した。
また、張り合わせを行ったサンプルにおいては、非接触表面抵抗計（ＤＥＬＣＯＭ社製、７１７Ｂ（Ｈ））を用いて、表面抵抗を測定した。
【０１５１】
＜耐光性の評価＞
得られた各透明導電体について、耐光性加速試験前後の表面抵抗（導電性）を、上記表面抵抗の測定に従い測定し、その比（試験後表面抵抗／試験前表面抵抗＝Ｍ１／Ｍ０）で耐光性の評価を行った。耐光性加速試験はキセノンウェザメーター（スガ試験機株式会社製）で１８０Ｗ／ｍ２、バックプレート温度６０℃、２５％ＲＨに設定し、７２時間行った。評価基準は、以下の通りである。なお、耐光性は数字が大きいほど優れていることを示す。
〔評価基準〕
「１」：Ｍ１／Ｍ０が、０．５未満、又は、５以上で、導電性の変化が著しく、実用上問題あるレベルである
「２」：Ｍ１／Ｍ０が、０．５以上０．６５未満、又は、１．３以上５未満で、導電性が変化し、実用上問題あるレベルである
「３」：Ｍ１／Ｍ０が、０．６５以上０．７５未満、又は、１．２以上１．３未満で、導電性の変化が確認できるが、実用上問題ないレベルである
「４」：Ｍ１／Ｍ０が、０．７５以上０．９未満、又は、１．１以上１．２未満で、導電性の変化が確認できるが、実用上問題ないレベルである
「５」：Ｍ１／Ｍ０が、０．９以上１．１未満で、導電性の変化がほぼ確認できず、実用上問題ないレベルである
【０１５２】
【表２−１】
＊試料Ｎｏ．１０１では、超音波洗浄によりハロゲン含有量が少なくなるが、銀ナノワイヤーが劣化して導電膜の表面抵抗が上がってしまった。
【表２−２】
＊試料Ｎｏ．１０１は、超音波処理により銀ナノワイヤーが切断されてしまい、接点数が減少しているため、耐久性が低下した。
【０１５３】
（実施例２）
−パターン状透明導電体の作製−
以下に示すようにして、表３に示す試料Ｎｏ．２０１〜Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体を作製した。また、各々表面抵抗、光透過率、ヘイズ評価用に、同じ処理工程を通るが、パターンを施さない箇所を作製した。
【０１５４】
＜試料Ｎｏ．２０１の作製＞
前記銀ナノワイヤー分散物（１）と、下記のネガ型フォトレジストとの含有質量比（銀ナノワイヤー／ネガ型フォトレジストの固形分）が１／１となるように混合させて、導電性組成物（１）を調製した。
【０１５５】
＜＜ネガ型フォトレジストの調製＞＞
−バインダー（Ａ−１）の合成−
共重合体を構成するモノマー成分として、メタクリル酸（ＭＡＡ）７．７９ｇ、ベンジルメタクリレート（ＢｚＭＡ）３７．２１ｇを使用し、ラジカル重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．５ｇを使用し、これらを溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）５５．００ｇ中において重合反応させることにより、下記式で表されるバインダー（Ａ−１）のＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：４５質量％）を得た。なお、重合温度は、温度６０℃乃至１００℃に調整した。
分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィ法（ＧＰＣ）を用いて測定した結果、ポリスチレン換算による重量平均分子量（Ｍｗ）は３０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．２１であった。
【化１３】
−ネガ型フォトレジストの調製−
前記バインダー（Ａ−１）３．８０質量部（固形分４０．０質量％、ＰＧＭＥＡ溶液）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）１．５９質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）０．１５９質量部、ＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学株式会社製）０．１５０質量部、メガファックＦ７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）０．００２質量部、及びＰＧＭＥＡ １９．３質量部を加え、攪拌し、最終銀濃度が１．０質量％となるように、前記銀ナノワイヤー分散物（１）と混合し、ネガ型フォトレジスト組成物を調製した。
【０１５６】
次に、市販の二軸延伸熱固定済の厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体の表面にドクターコーターを用いて、前記ネガ型フォトレジスト組成物を塗布し、乾燥させることで、導電層を形成した。銀ナノワイヤー塗布量を蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）にて測定したところ、０．０６ｇ／ｍ２であった。
【０１５７】
−パターニング処理−
作製した導電層について、以下の方法により、ラインアンドスペース(以下、Ｌ／Ｓという)＝１００μｍ／２０μｍのストライプ状パターニング処理を行った。以上により、試料Ｎｏ．２０１のパターン状透明導電体を作製した。
−パターニング条件−
マスク上から、高圧水銀灯ｉ線（３６５ｎｍ）を１００ｍＪ／ｃｍ２（照度２０ｍＷ／ｃｍ２）露光を行った。露光後の基板を、純水５，０００ｇに炭酸水素ナトリウム５ｇと炭酸ナトリウム２．５ｇを溶解した現像液でシャワー現像３０秒間を行った。シャワー圧は０．０４ＭＰａ、ストライプパターンが出現するまでの時間は１５秒間であった。
次に、作製したパターン状透明導電体を、２５℃の純水のシャワーで１分間リンスした後、２５℃の純水中に５分間浸漬し、更に試料Ｎｏ．１０１と同様にして超音波処理を２分間行い、純水にて２回のリンスを行った。
【０１５８】
作製した試料Ｎｏ．２０１のパターン状透明導電体の導電層（導電膜）について、実施例１と同様の測定法により、ハロゲン元素の含有量を測定したところ、２，９００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０１のパターン状透明導電体について、導電層中の銀ナノワイヤーを構成する銀の含有量Ａと、導電層中のハロゲン元素のＸとの原子比（Ｘ／Ａ）を、実施例１と同様の方法により求めたところ、原子比（Ｘ／Ａ）が＜０．０１であった。
【０１５９】
＜試料Ｎｏ．２０２の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水での浸漬時間を２分間に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０２のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０２のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、４７，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０２のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．１４であった。
【０１６０】
＜試料Ｎｏ．２０３の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水での浸漬時間を３０秒に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０３のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０３のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１６０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０３のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．４６であった。
【０１６１】
＜試料Ｎｏ．２０４の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水による浸漬、及び純水による２回リンスを行わなかった以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０４のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０４のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、２８０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０４のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．８５であった。
【０１６２】
＜試料Ｎｏ．２０５の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を４５秒に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０５のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０５のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、４２０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０５のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、１．２７であった。
【０１６３】
＜試料Ｎｏ．２０６の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を１分３０秒に変更し、リンスを１回に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０６のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０６のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１，０２０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０６のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、３．１であった。
【０１６４】
＜試料Ｎｏ．２０７の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、銀ナノワイヤー分散物（１）の代わりに銀ナノワイヤー分散物（２）を用い、塗布銀量を蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）にて測定し、０．０７ｇ／ｍ２となるように塗布量を調節し、純水の浸漬時間を８分に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０７のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０７のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、５３，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０７のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．１６であった。
【０１６５】
＜試料Ｎｏ．２０８の作製＞
試料Ｎｏ．２０７において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を２分３０秒に変更し、純水でのリンスを１回に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０７と同様にして、試料Ｎｏ．２０８のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０８のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、６３０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０８のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、１．９であった。
【０１６６】
＜試料Ｎｏ．２０９の作製＞
試料Ｎｏ．２０４において、パターン形成後の膜に、塗布用基板として使用したＰＥＴを、光学粘着剤（パナック社製、ＰＤ−Ｓ１）により、２５℃、湿度５５％ＲＨ環境下、ハンドローラ（一進産業株式会社製、Ｗ−１３０）を用いて貼り合わせた以外は、試料Ｎｏ．２０４と同様にして、試料Ｎｏ．２０９のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０９の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．２０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．２０４の値を代用した。
【０１６７】
＜試料Ｎｏ．２１０の作製＞
試料Ｎｏ．２０９において、貼り合せるＰＥＴフィルムを、試料Ｎｏ．１１０で作製したＵＶ剤含有高分子フィルムに代えた以外は、試料Ｎｏ．２０９と同様にして、試料Ｎｏ．２１０のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２１０の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．２０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．２０４の値を代用した。
【０１６８】
＜試料Ｎｏ．２１１の作製＞
試料Ｎｏ．２０９において、貼り合せるＰＥＴフィルムを、試料Ｎｏ．１１１で作製したガスバリアフィルムに代えた以外は、試料Ｎｏ．２０９と同様にして、試料Ｎｏ．２１１のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２１１の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．２０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．２０４の値を代用した。
【０１６９】
＜試料Ｎｏ．２１２の作製＞
試料Ｎｏ．１０４で作製した導電膜を用いて、以下のスクリーン印刷法により、パターニング処理を行い、試料Ｎｏ．２１２のパターン状透明導電体を作製した。
−スクリーン印刷法−
スクリーン印刷は、ミノグループ社製ＷＨＴ−３型とスキージＮｏ．４イエローを使用した。溶解液は、ＣＰ−４８Ｓ−Ａ液と、ＣＰ−４８Ｓ−Ｂ液と（いずれも、富士フイルム株式会社製）、純水とを、質量比で１：１：１となるように混合し、アロンＡ−２０Ｌ（東亞合成株式会社製）により増粘させ、溶解液とした。
銀ナノワイヤーを溶解する溶解液の粘度は、２５℃で、３１，０００ｍＰａ・ｓであった。なお、粘度の測定は、ブルックフィールド粘度計により行った。
【０１７０】
得られた試料Ｎｏ．２１２のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１９５，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２１２のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．５８であった。
【０１７１】
＜試料Ｎｏ．２１３の作製＞
試料Ｎｏ．１０４で作製した導電膜を用いて、以下のインクジェット法により、パターニング処理を行い、試料Ｎｏ．２１３のパターン状透明導電体を作製した。
−インクジェット法−
インクジェット法は、富士フイルム株式会社製マテリアルプリンターＤＭＰ−２８３１を用いて行った。溶解液は、ＣＰ−４８Ｓ−Ａ液と、ＣＰ−４８Ｓ−Ｂ液（いずれも、富士フイルム株式会社製）と、純水とを質量比で１：１：６となるように混合し、アロンＡ−２０Ｌ（東亞合成株式会社製）により増粘させ、溶解液を作製した。
銀ナノワイヤーを溶解する溶解液の粘度は、２５℃で、１０ｍＰａ・ｓであった。なお、粘度の測定は、ブルックフィールド粘度計により行った。
【０１７２】
得られた試料Ｎｏ．２１３のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、２１０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２１３のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．６２であった。
【０１７３】
＜試料Ｎｏ．２１４の作製＞
試料Ｎｏ．１０４で作製した導電膜を用いて、以下のレジストエッチング法により、パターニング処理を行い、試料Ｎｏ．２１４のパターン状透明導電体を作製した。
−レジストエッチング法−
試料Ｎｏ．１０４と同様にして作製した導電膜上に、Ｎｏ．２０１で作製したネガ型フォトレジスト液を用いた以外は、同様にして、フォトレジストパターン膜を形成した。
溶解液は、ＣＰ−４８Ｓ−Ａ液と、ＣＰ−４８Ｓ−Ｂ液（いずれも、富士フイルム株式会社製）と、純水とを、質量比で１：１：６となるように混合し、アロンＡ−２０Ｌ（東亞合成株式会社製）により増粘させて、作製した。
銀ナノワイヤーを溶解する溶解液の粘度は、２５℃で、１０ｍＰａ・ｓであった。なお、粘度の測定は、ブルックフィールド粘度計により行った。
次に、作製した導電膜上にフォトレジストパターン膜がある状態で、２５℃の溶解液槽へ１分間浸漬した。その後、２分間純水にて溶解液成分を洗浄した。更に、１０質量％水酸化カリウム溶液に浸漬させて、フォトレジストを除去し、試料Ｎｏ．２１４のパターン状導電膜を得た。
【０１７４】
得られた試料Ｎｏ．２１４のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１８６，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２１４のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．５６であった。
【０１７５】
＜試料Ｎｏ．２１５の作製＞
試料Ｎｏ．２１４において、ネガ型フォトレジストの代わりに、富士フイルム株式会社製トランサーフイルム黒（ブラックマトリックス用）を用いた以外は、試料Ｎｏ．２１４同様にして、試料Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体を得た。
得られた試料Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、２００，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．５９であった。
【０１７６】
次に、作製した試料Ｎｏ．２０１〜Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１〜Ｎｏ．１１１と同様にして、諸特性を評価した。更に、以下のようにして、絶縁性、及び解像度の評価を行った。結果を表３に示す。
【０１７７】
＜絶縁性（耐マイグレーション性）＞
得られた各透明導電体について、パターニング箇所における非導電部の表面抵抗を、抵抗器（三菱化学株式会社製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて測定した。実際の測定は、プローブ先端部に銅線を付け、パターン細部においても表面抵抗が測定可能となるよう装置を改造して測定を行った。評価基準は、以下の通りである。なお、解像度は数字が大きいほど優れていることを示す。
〔評価基準〕
「１」：表面抵抗が１０４未満で、非導電部として作製した箇所の導電性が高く、実用上問題あるレベルである
「２」：表面抵抗が１０４Ω／□以上、１０５Ω／□未満で、非導電部として作製した箇所の導電性が高く、実用上問題あるレベルである
「３」：表面抵抗が１０５Ω／□以上、１０６Ω／□未満で、非導電部として作製した箇所の導電性が確認できるが、実用上問題ないレベルである
「４」：表面抵抗が１０６Ω／□以上、１０７Ω／□未満で、非導電部として作製した箇所の導電性が確認できるが、実用上問題ないレベルである
「５」：表面抵抗が１０７Ω／□以上（装置上Ｏ．Ｌ．と表示）で、非導電部として作製した箇所の導電性がほぼ確認できず、実用上問題ないレベルである
【０１７８】
＜解像度の評価＞
得られた各透明導電体と同様の方法により、Ｌ（ライン）／Ｓ（スペース）＝１００μｍ／３０μｍのパターンを作製し、パターニング箇所における導電部の太さを、光学顕微鏡にて観察した。評価基準は、以下の通りである。なお、解像度は、数字が大きいほど優れていることを示す。
〔評価基準〕
「１」：導電部が６０μｍ未満、又は１１５μｍ以上（実質隣接ラインと区別がつかない）で、実用上問題あるレベルである
「２」：導電部が７０μｍ未満、又は１１２μｍ以上で、実用上問題あるレベルである
「３」：導電部が８０μｍ未満、又は１１０μｍ以上で、実用上問題ないレベルである
「４」：導電部が９０μｍ未満、又は１０８μｍ以上で、実用上問題ないレベルである
「５」：導電部が９４μｍ未満、又は１０６μｍ以上で、実用上問題ないレベルである
【０１７９】
【表３−１】
【表３−２】
＊試料Ｎｏ．２０１は、超音波処理により銀ナノワイヤーが切断されてしまい、接点数が減少しているため、表面抵抗が上がり、耐久性が低下した。
【０１８０】
（実施例３）
−タッチパネルの作製−
試料Ｎｏ．２０２のパターン状透明導電体を用いて、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行、株式会社テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４年１２月発行）、ＦＰＤ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ２００９ Ｆｏｒｕｍ Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ アプリケーションノートＡＮ２２９２等に記載の方法により、タッチパネルを作製した。
作製したタッチパネルを使用した場合、透過率の向上により視認性に優れ、かつ導電性の向上により素手、手袋を嵌めた手、指示具のうち少なくとも一つによる文字等の入力又は画面操作に対し応答性に優れるタッチパネルを製作できることが分かった。なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサ及びタッチパッドを含むものとする。
【０１８１】
（実施例４）
＜集積型太陽電池の作製＞
−アモルファス太陽電池（スーパーストレート型）の作製−
ガラス基板上に、試料Ｎｏ．１０２の透明導電体を形成した。該透明導電体の上部にプラズマＣＶＤ法により厚みが１５ｎｍのｐ型、前記ｐ型の上部に厚みが３５０ｎｍのｉ型、前記ｉ型の上部に厚みが３０ｎｍのｎ型アモルファスシリコンを形成した。前記ｎ型アモルファスシリコンの上部に裏面反射電極として厚み２０ｎｍのガリウム添加酸化亜鉛層、該ガリウム添加酸化亜鉛層の上部に厚み２００ｎｍの銀層を形成し、光電変換素子を作製した。
【０１８２】
（実施例５）
＜集積型太陽電池の作製＞
−ＣＩＧＳ太陽電池（サブストレート型）の作製−
ガラス基板上に、直流マグネトロンスパッタ法により厚みが５００ｎｍ程度のモリブデン電極、前記電極の上部に真空蒸着法により厚みが２．５μｍのカルコパイライト系半導体材料であるＣｕ（Ｉｎ０．６Ｇａ０．４）Ｓｅ２薄膜、前記Ｃｕ（Ｉｎ０．６Ｇａ０．４）Ｓｅ２薄膜の上部に溶液析出法により厚みが５０ｎｍの硫化カドミニウム薄膜を形成した。前記硫化カドミニウム薄膜の上部に、試料Ｎｏ．１０２の透明導電体を形成し、光電変換素子を作製した。
【０１８３】
＜太陽電池特性（変換効率）の評価＞
作製した実施例４及び５の太陽電池について、ＡＭ１．５、１００ｍＷ／ｃｍ２の疑似太陽光を照射することで太陽電池特性（変換効率）を測定した。結果を表４に示す。
【０１８４】
【表４】
【産業上の利用可能性】
【０１８５】
本発明の導電膜は、長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有し、耐光性及び耐マイグレーション性が向上しているので、例えば、タッチパネル、ディスプレイ用帯電防止膜、電磁波シールド、有機ＥＬ又は無機ＥＬディスプレイ用電極、電子ペーパー用電極、フレキシブルディスプレイ用電極、フレキシブルディスプレイ用帯電防止膜、太陽電池用電極、その他の各種デバイスなどに幅広く利用可能である。
【符号の説明】
【０１８６】
１０、２０、３０ タッチパネル
１１、２１、３１ 透明基板
１２、１３、２２、２３、３２、３３ 透明導電体
２４ 絶縁層
２５ 絶縁カバー層
１４、１７ 保護膜
１５ 中間保護膜
１６ グレア防止膜
１８ 電極端子
３４ 空気層
３５ 透明フィルム
３６ スペーサ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電膜、並びに該導電膜を用いたタッチパネル及び太陽電池に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯ゲーム機、携帯電話等にタッチパネルの需要が急速に拡大している。このタッチパネルには、透明導電材料としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）が広く利用されており、銀ナノワイヤーを用いた透明導電膜の開発も報告されている。銀ナノワイヤーは、有機溶剤を用いた高温中での合成が一般的であり、また、合成された銀ナノワイヤーの太さに起因して、ヘイズが高く、コントラストの低下が著しいこと、最表層に光硬化樹脂等のコーティングを施さないと実用的な耐久性が得られないこと、及び最表層へのコーティングにより抵抗が上がり、面内抵抗の均一性が低下してしまうという課題がある。
【０００３】
前記課題を解決するため、例えば金属ナノワイヤーに金属微粒子を混合し、該金属微粒子に外部エネルギーを印加することにより溶解し、金属ナノワイヤー同士の接触を向上させ、低抵抗化を図ることが提案されている（特許文献１参照）。
しかし、この提案では、製造工程において微粒子と金属ナノワイヤーを共に安定分散させることが困難であり、金属ナノワイヤーとは別に、金属微粒子を合成する工程、洗浄工程、濃縮工程などが必要である。また、金属ナノワイヤーの直径が比較的細い領域では、該金属ナノワイヤー自体が光により溶解してしまい、電気的に断線して抵抗が上昇してしまうという新たな課題が見出され、特に、屋外用途においては、耐光性が高いレベルで要求されるため、抜本的な対策が必要である。
【０００４】
一方、低コストで環境負荷の少ないプロセスとして、ナノ粒子を含むインクを印刷、インクジェット等の手法で塗設し、配線を形成する技術の開発が試みられている。例えば、銅微粒子と該銅微粒子の表面の少なくとも一部を被覆している銅とからなる銀被覆銅微粒子中のハロゲン元素の含有量が銅に対して２０質量ｐｐｍ以下である銀被覆銅微粒子が提案されている（特許文献２参照）。この提案には、金属粒子に対するハロゲン元素の含有量を低減することで、マイグレーション及び電子材料の腐食などを抑制する効果があることが開示されている。
しかし、この提案は、金属ナノワイヤーを用いるものではなく、導電膜中のハロゲン元素の含有量を低く抑えることにより、耐光性が向上することについては何ら記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−９４０３３号公報
【特許文献２】特開２０１０−７７４９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有し、耐光性及び耐マイグレーション性が向上した導電膜、並びに該導電膜を用いたタッチパネル及び太陽電池を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため本発明者が鋭意検討を重ねた結果、導電性繊維として金属ナノワイヤーを含む導電膜中のハロゲン元素の含有量を調整して低く抑えることにより、前記導電性繊維として水系合成による細径金属ナノワイヤーを用いた場合でも、長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有し、耐光性及び耐マイグレーション性が向上することを知見した。
【０００８】
本発明は、本発明者による前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞ 導電性繊維を含有する導電膜であって、
前記導電膜中の前記導電性繊維を構成する元素の含有量Ａと、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）が、次式、０．０１＜Ｘ／Ａ＜０．９を満たすことを特徴とする導電膜である。
＜２＞ ０．１≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす前記＜１＞に記載の導電膜である。
＜３＞ ０．４≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜４＞ 導電膜中のハロゲン元素の含有量が４００，０００質量ｐｐｍ以下である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜５＞ 導電膜中のハロゲン元素の含有量が４，０００質量ｐｐｍ〜３００，０００質量ｐｐｍである前記＜４＞に記載の導電膜である。
＜６＞ 表面抵抗が５００Ω／□以下である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜７＞ 導電性繊維が、金属ナノワイヤーである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜８＞ 金属ナノワイヤーが、銀、及び銀と銀以外の金属との合金のいずれかからなる前記＜７＞に記載の導電膜である。
＜９＞ 導電性繊維の平均短軸長さが５０ｎｍ以下であり、かつ平均長軸長さが１μｍ以上である前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜１０＞ 導電性繊維の含有量が、０．００５ｇ／ｍ２〜０．５ｇ／ｍ２である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜１１＞ 更にポリマーを含有し、導電性繊維の含有量（Ａ）と、前記ポリマーの含有量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）が、０．２〜３である前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の導電膜である。
＜１２＞ 前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の導電膜を用いたタッチパネルである。
＜１３＞ 前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の導電膜を用いた太陽電池である。
＜１４＞ 前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の導電膜を支持体上に有してなることを特徴とする導電体である。
＜１５＞ 支持体上に、導電性繊維及びポリマーを含有する導電層組成物からなる導電層を形成する導電層形成工程と、
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液をパターン状に付与する溶解液付与工程と、を少なくとも含むことを特徴とする導電体の製造方法である。
＜１６＞ パターン状に付与された部分が非導電部となる前記＜１５＞に記載の導電体の製造方法である。
＜１７＞ 導電層における導電性繊維の含有量（Ａ）と、導電層におけるポリマーの含有量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）が、０．２〜３である前記＜１５＞から＜１６＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜１８＞ 溶解液の粘度が、２５℃で、５ｍＰａ・ｓ〜３００，０００ｍＰａ・ｓである前記＜１５＞から＜１７＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜１９＞ 溶解液のパターン状の付与をスクリーン印刷で行う前記＜１５＞から＜１８＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜２０＞ 溶解液のパターン状の付与をインクジェット印刷で行う前記＜１５＞から＜１８＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜２１＞ 溶解液のパターン状の付与を溶解槽内に浸漬することで行う前記＜１５＞から＜１８＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜２２＞ 溶解液が、導電性繊維を酸化する作用を有する前記＜１５＞から＜２１＞のいずれかに記載の導電体の製造方法である。
＜２３＞ 支持体上に導電性繊維及びポリマーを含有する導電層組成物からなる導電層を形成する導電層形成工程と、パターン状露光工程と、現像工程とを少なくとも含むことを特徴とする導電体の製造方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有し、耐光性及び耐マイグレーション性が向上した導電膜、並びに該導電膜を用いたタッチパネル及び太陽電池を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、タッチパネルの一例を示す概略断面図である。
【図２】図２は、タッチパネルの他の一例を示す概略説明図である。
【図３】図３は、図２に示すタッチパネルにおける導電体の配置例を示す概略平面図である。
【図４】図４は、タッチパネルの更に他の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（導電膜）
本発明の導電膜は、導電性繊維を含有し、ポリマーを含有することが好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００１２】
前記導電膜の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記形状としては、膜状、シート状などが挙げられ、また、その平面形状としては、四角形、円形などが挙げられ、前記構造としては、単層構造、積層構造などが挙げられ、前記大きさとしては、用途等に応じて適宜選択することができる。
前記導電膜は、可撓性を有し、透明が好ましく、前記透明には、無色透明のほか、有色透明、半透明、有色半透明などが含まれる。
【００１３】
前記導電膜は、パターニングされていてもパターニングされていなくてもよいが、パターニングされている場合には、後述する導電体の製造方法で詳細に説明するように、導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液を、前記導電膜にパターン状に付与し、該付与された部分が非導電部を形成し、付与されていない部分が導電部を形成して、導電性の有無により二次元の平面状パターンが形成されていることが好ましい。また、感光性樹脂と導電性繊維を混合して、フォトリソグラフィによりパターンを形成することも好ましい。
【００１４】
本発明においては、前記導電膜中の前記導電性繊維を構成する元素の含有量Ａと、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）は、次式、０．０１＜Ｘ／Ａ＜０．９を満たす。上限値は、０．８９以下がより好ましく、０．８５以下が更に好ましく、０．６５以下がより更に好ましい。一方、下限値は、０．１以上がより好ましい。また好ましい範囲としては、０．１≦Ｘ／Ａ＜０．９（より厳密には、０．１０≦Ｘ／Ａ＜０．９０）が好ましく、０．４≦Ｘ／Ａ＜０．９（より厳密には、０．４０≦Ｘ／Ａ＜０．９０）がより好ましく、０．４０≦Ｘ／Ａ≦０．８５が更に好ましい。
前記原子比（Ｘ／Ａ）が、０．９以上であると、耐光性及び耐マイグレーション性が低下してしまうことがあり、０．０１以下であると、プロセスに長時間を要する場合がある。例えば、前記導電性繊維が銀ナノワイヤーであり、ハロゲン元素が塩素、臭素、フッ素、又はヨウ素の場合には、導電膜中の銀の含有量Ａと、導電膜中の塩素、臭素、フッ素、及びヨウ素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）を求める。
前記原子比（Ｘ／Ａ）は、例えば、蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）、イオンクロマトグラフィーなどで測定することにより求めることができる。
【００１５】
前記導電膜中のハロゲン元素の含有量は、４００，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、３００，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、２７０，０００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限値は、４，０００質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０，０００質量ｐｐｍ以上がより好ましく、３０，０００質量ｐｐｍ以上が更に好ましい。好ましい範囲としては、４，０００質量ｐｐｍ〜３００，０００質量ｐｐｍがより好ましく、１０，０００質量ｐｐｍ〜２７０，０００質量ｐｐｍが更に好ましい。前記含有量が、４００，０００質量ｐｐｍを超えると、耐光性及び耐マイグレーション性が低下してしまうことがある。また、超音波洗浄などにより導電膜中のハロゲン元素の含有量を少なくすることが可能であるが、この場合には導電性繊維が劣化して導電膜の表面抵抗が上昇してしまい、導電性が低下してしまうことがある。
ここで、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量は、例えば、蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）、イオンクロマトグラフィーなどにより測定することができる。
前記ハロゲン元素としては、例えば、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素などの導電性繊維の製造に由来する元素が挙げられる。これらの中でも、製造工程中、様々な薬品中に不純物として含まれる可能性の高い、塩素、臭素、ヨウ素の含有量を制御することが特に好ましい。
【００１６】
前記導電膜中のハロゲン元素の含有量を調整する方法としては、例えば、（１）導電層形成用塗布液を限外濾過する方法、（２）導電層形成用塗布液に純水等の溶媒を添加して遠心分離後、上澄みを除去する洗浄を繰り返して行う方法、（３）導電膜形成後に該導電膜を洗浄（例えば、純水等の洗浄溶媒中に浸漬）する方法、などが挙げられる。これらの中でも、前記（３）の導電膜を洗浄する方法が特に好ましい。
【００１７】
前記（１）の限外濾過は、限外濾過膜を用いて導電層形成用塗布液を限外濾過し、該限外濾過した導電層形成用塗布液を用いて導電膜を形成するものである。前記限外濾過膜としては、分画分子量は５，０００〜２００，０００が好ましい。前記限外濾過は、デッドエンド方式でもクロスフロー方式でもよいが、クロスフロー方式で行うことが好ましい。
【００１８】
前記（２）の導電層形成用塗布液に純水等の溶媒を添加して遠心分離後、上澄みを除去する洗浄を繰り返して行う方法としては、導電層形成用塗布液に純水等の溶媒を添加して遠心分離後、上澄みを除去する洗浄工程を１回以上行うことが好ましく、２回以上行うことがより好ましく、２〜５回行うことが更に好ましい。前記純水等の溶媒の添加量は、体積比で、導電層形成用塗布液１に対し１０〜５００が好ましい。
【００１９】
前記（３）の導電膜を洗浄する方法では、洗浄溶媒としては、例えば水、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、アセトン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、水が特に好ましい。前記水としては、例えば、イオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、蒸留水等の精製後の水、又は純水、超純水などが挙げられる。これらの中でも、純水が特に好ましい。
前記洗浄溶媒を用いて導電膜を浸漬処理する。また、前記浸漬と同じ効果を達成する方法として、前記洗浄溶媒を前記導電膜に対しスプレー、シャワー、リンスすることも好ましく、これらを組み合わせて行うことがより好ましい。
前記浸漬の条件としては、例えば、洗浄溶媒が純水の場合には、５℃〜４０℃で１秒間〜３０分間が好ましく、１０℃〜３０℃で３秒間〜３分間がより好ましい。
【００２０】
＜導電性繊維＞
前記導電性繊維の構造としては、中実構造及び中空構造のいずれかが好ましい。
ここで、中実構造の繊維をワイヤーと呼ぶことがあり、中空構造の繊維をチューブと呼ぶことがある。
平均短軸長さが１ｎｍ〜１，０００ｎｍであって、平均長軸長さが１μｍ〜１００μｍの導電性繊維をナノワイヤーと呼ぶことがある。
また、平均短軸長さが１ｎｍ〜１，０００ｎｍ、平均長軸長さが０．１μｍ〜１，０００μｍであって、中空構造を持つ導電性繊維をナノチューブと呼ぶことがある。
前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していればよく、金属及びカーボンの少なくともいずれかが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかが好ましい。
【００２１】
＜＜金属ナノワイヤー＞＞
−金属−
前記金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、長周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、及び第６周期からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、第２族〜第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属がより好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、及び第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
【００２２】
前記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、及び銀との合金が好ましい。
前記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２３】
−形状−
前記金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状、断面の多角形の角が丸まっている断面形状が好ましい。
前記金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより調べることができる。
【００２４】
−平均短軸長さ及び平均長軸長さ−
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある）としては、５０ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ〜５０ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜４０ｎｍが更に好ましく、１５ｎｍ〜３５ｎｍが特に好ましい。
前記平均短軸長さが、１ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、５０ｎｍを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
【００２５】
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さ（「平均長さ」と称することがある）としては、１μｍ以上が好ましく、１μｍ〜４０μｍがより好ましく、３μｍ〜３５μｍが更に好ましく、５μｍ〜３０μｍが特に好ましい。
前記平均長軸長さが、１μｍ未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、４０μｍを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、及び曲率から算出される値を長軸長さとした。
【００２６】
−製造方法−
前記金属ナノワイヤーの製造方法としてはいかなる方法で製造してもよいが、以下のようにハロゲン化合物と分散添加剤とを溶解した溶媒中で加熱しながら金属イオンを還元することによって製造することが好ましい。なお、ハロゲン化合物を用いる方法では、導電膜中にハロゲン元素が含まれるが、上述したようにハロゲン元素の含有量を調整することで、導電膜として好ましい特性が得られる。
また、金属ナノワイヤーの製造方法としては、特開２００９−２１５５９４号公報、特開２００９−２４２８８０号公報、特開２００９−２９９１６２号公報、特開２０１０−８４１７３号公報、特開２０１０−８６７１４号公報などに記載の方法を用いることができる。
【００２７】
前記溶媒としては、親水性溶媒が好ましく、例えば、水、アルコール類、エーテル類、ケトン類などが挙げられ、これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコールなどが挙げられる。
前記エーテル類としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。
前記ケトン類としては、例えば、アセトンなどが挙げられる。
【００２８】
前記加熱時の加熱温度としては、２５０℃以下が好ましく、２０℃〜２００℃がより好ましく、３０℃〜１８０℃がより好ましく、４０℃〜１７０℃が更に好ましい。
前記加熱温度が、２０℃未満であると、前記加熱温度が低くなる程、核形成確率が下がり金属ナノワイヤーが長くなりすぎるので金属ナノワイヤーが絡みやすく、分散安定性が悪くなることがあり、２５０℃を超えると、金属ナノワイヤーの断面の角が急峻になり、塗布膜評価での透過率が低くなることがある。
必要に応じて、金属ナノワイヤーの形成過程で温度を変更してもよく、途中での温度変更により、金属ナノワイヤーの核形成の制御、再核発生の抑制、選択成長の促進による単分散性向上の効果を向上させることができる。
【００２９】
前記加熱の際には、還元剤を添加して行うことが好ましい。
前記還元剤としては、特に制限はなく、通常使用されるものの中から適宜選択することができ、例えば、水素化ホウ素金属塩、水素化アルミニウム塩、アルカノールアミン、脂肪族アミン、ヘテロ環式アミン、芳香族アミン、アラルキルアミン、アルコール、有機酸類、還元糖類、糖アルコール類、亜硫酸ナトリウム、ヒドラジン化合物、デキストリン、ハイドロキノン、ヒドロキシルアミン、エチレングリコール、グルタチオンなどが挙げられる。これらの中でも、還元糖類、その誘導体としての糖アルコール類、エチレングリコールが特に好ましい。
前記水素化ホウ素金属塩としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムなどが挙げられる。
前記水素化アルミニウム塩としては、例えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムカリウム、水素化アルミニウムセシウム、水素化アルミニウムベリリウム、水素化アルミニウムマグネシウム、水素化アルミニウムカルシウムなどが挙げられる。
前記アルカノールアミンとしては、例えば、ジエチルアミノエタノール、エタノールアミン、プロパノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノプロパノールなどが挙げられる。
前記脂肪族アミンとしては、例えば、プロピルアミン、ブチルアミン、ジプロピレンアミン、エチレンジアミン、トリエチレンペンタミンなどが挙げられる。
前記ヘテロ環式アミンとしては、例えば、ピペリジン、ピロリジン、Ｎ−メチルピロリジン、モルホリンなどが挙げられる。
前記芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、トルイジン、アニシジン、フェネチジンなどが挙げられる。
前記アラルキルアミンとしては、例えば、ベンジルアミン、キシレンジアミン、Ｎ−メチルベンジルアミンなどが挙げられる。
前記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノールなどが挙げられる。
前記有機酸類としては、例えば、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、コハク酸、アスコルビン酸又はそれらの塩などが挙げられる。
前記還元糖類としては、例えば、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、スクロース、マルトース、ラフィノース、スタキオースなどが挙げられる。
前記糖アルコール類としては、例えば、ソルビトールなどが挙げられる。
【００３０】
前記還元剤によっては、機能として分散添加剤、溶媒としても働く場合があり、同様に好ましく用いることができる。
【００３１】
前記金属ナノワイヤー製造の際には、分散添加剤と、ハロゲン化合物又はハロゲン化金属微粒子とを添加して行うことが好ましい。
前記分散添加剤と、ハロゲン化合物との添加のタイミングとしては、還元剤の添加前でも添加後でもよく、金属イオンあるいはハロゲン化金属微粒子の添加前でも添加後でもよいが、単分散性のよりよい金属ナノワイヤーを得るためには、ハロゲン化合物の添加を２段階以上に分けることが好ましい。
【００３２】
前記分散添加剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アミノ基含有化合物、チオール基含有化合物、スルフィド基含有化合物、アミノ酸又はその誘導体、ペプチド化合物、多糖類、合成高分子、これらに由来するゲルなどが挙げられる。これらの中でも、ゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリアルキレンアミン、ポリアクリル酸の部分アルキルエステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体が好ましい。
前記分散添加剤として使用可能な構造については、例えば、「顔料の事典」（伊藤征司郎編、株式会社朝倉書院発行、２０００年）の記載を参照できる。
また、使用する分散添加剤の種類によって、得られる金属ナノワイヤーの形状を変化させることもできる。
【００３３】
前記ハロゲン化合物としては、臭素、塩素、ヨウ素を含有する化合物であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、臭化ナトリウム、塩化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム、塩化カリウム、ヨウ化カリウムなどのアルカリハライド、下記の分散添加剤と併用できる化合物が好ましい。
前記ハロゲン化合物によっては、分散添加剤として機能するものがありうるが、同様に好ましく用いることができる。
【００３４】
前記ハロゲン化合物の代替としてハロゲン化銀微粒子を使用してもよいし、ハロゲン化合物とハロゲン化銀微粒子を共に使用してもよい。
【００３５】
前記分散添加剤と、ハロゲン化合物又はハロゲン化銀微粒子とは、同一物質で併用してもよい。前記分散添加剤と、ハロゲン化合物とを併用した化合物としては、例えば、アミノ基と臭化物イオンを含むＨＴＡＢ（ヘキサデシル−トリメチルアンモニウムブロミド）、アミノ基と塩化物イオンを含むＨＴＡＣ（ヘキサデシル−トリメチルアンモニウムクロライド）などが挙げられる。
【００３６】
前記脱塩処理は、金属ナノワイヤーを形成した後、限外濾過、透析、ゲル濾過、デカンテーション、遠心分離などの手法により行うことができる。
【００３７】
＜＜金属ナノチューブ＞＞
−金属−
前記金属ナノチューブの材料としては、特に制限はなく、いかなる金属であってもよく、例えば、前記した金属ナノワイヤーの材料などを使用することができる。
【００３８】
−形状−
前記金属ナノチューブの形状としては、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
【００３９】
−平均短軸長さ、平均長軸長さ、厚み−
前記金属ナノチューブの厚み（外径と内径との差）としては、３ｎｍ〜８０ｎｍが好ましく、３ｎｍ〜３０ｎｍがより好ましい。
前記厚みが、３ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、８０ｎｍを超えると、金属ナノチューブ起因の散乱が生じることがある。
前記金属ナノチューブの平均長軸長さは、１μｍ〜４０μｍが好ましく、３μｍ〜３５μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍが更に好ましい。
【００４０】
−製造方法−
前記金属ナノチューブの製造方法としては、特に制限はなく、いかなる方法で製造してもよく、例えば、米国出願公開２００５／００５６１１８号明細書等に記載の公知の方法などを用いることができる。
【００４１】
＜＜カーボンナノチューブ＞＞
前記カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）は、グラファイト状炭素原子面（グラフェンシート）が、単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。単層のカーボンナノチューブはシングルウォールナノチューブ（ＳＷＮＴ）、多層のカーボンナノチューブはマルチウォールナノチューブ（ＭＷＮＴ）と呼ばれ、特に、２層のカーボンナノチューブはダブルウォールナノチューブ（ＤＷＮＴ）とも呼ばれる。本発明で用いられる導電性繊維において、前記カーボンナノチューブは、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
【００４２】
−製造方法−
前記カーボンナノチューブの製造方法としては、特に制限はなく、いかなる方法で製造してもよく、例えば、二酸化炭素の接触水素還元、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、気相成長法、一酸化炭素を高温高圧化で鉄触媒と共に反応させて気相で成長させるＨｉＰｃｏ法等の公知の手段を用いることができる。
また、これらの方法で得られたカーボンナノチューブは、洗浄、遠心分離、濾過、酸化、クロマトグラフ等の方法により、副生成物、触媒金属等の残留物を除去することが、高純度化されたカーボンナノチューブを得ることができる点で好ましい。
【００４３】
＜＜アスペクト比＞＞
前記導電性繊維のアスペクト比としては、１０以上が好ましい。前記アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長辺と短辺との比（平均長軸長さ／平均短軸長さ）を意味する。
前記アスペクト比の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子顕微鏡等により測定する方法などが挙げられる。
前記導電性繊維のアスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、前記導電性繊維のアスペクト比が１０以上であるか否かは、電子顕微鏡の１視野で確認できればよい。また、前記導電性繊維の長軸長さと短軸長さとを各々別に測定することによって、前記導電性繊維全体のアスペクト比を見積もることができる。
なお、前記導電性繊維がチューブ状の場合には、前記アスペクト比を算出するための直径としては、該チューブの外径を用いる。
【００４４】
前記導電性繊維のアスペクト比としては、１０以上であればよく、５０〜１，０００，０００が好ましく、１００〜１，０００，０００がより好ましい。
前記アスペクト比が、１０未満であると、前記導電性繊維によるネットワーク形成がなされず導電性が十分取れないことがあり、１，０００，０００を超えると、導電性繊維の形成時、その後の取り扱いにおいて、成膜前に導電性繊維が絡まり凝集するため、安定な液が得られないことがある。
【００４５】
＜＜アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率＞＞
前記アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率としては、全導電性組成物中に体積比で、５０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましく、７５％以上が特に好ましい。これらの導電性繊維の割合を、以下、「導電性繊維の比率」と呼ぶことがある。
前記導電性繊維の比率が、５０％未満であると、導電性に寄与する導電性物質が減少し導電性が低下してしまうことがあり、同時に密なネットワークを形成できないために電圧集中が生じ、耐久性が低下してしまうことがある。また、導電性繊維以外の形状の粒子は、導電性に大きく寄与しない上に吸収を持つため好ましくない。特に金属の場合で、球形などのプラズモン吸収が強い場合には透明度が悪化してしまうことがある。
【００４６】
ここで、前記導電性繊維の比率は、例えば、導電性繊維が銀ナノワイヤーである場合には、銀ナノワイヤー水分散液を濾過して、銀ナノワイヤーと、それ以外の粒子とを分離し、ＩＣＰ発光分析装置を用いて濾紙に残っている銀の量と、濾紙を透過した銀の量とを各々測定することで、導電性繊維の比率を求めることができる。濾紙に残っている導電性繊維をＴＥＭで観察し、３００個の導電性繊維の短軸長さを観察し、その分布を調べることにより、短軸長さが２００ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが１μｍ以上である導電性繊維であることを確認する。なお、濾紙は、ＴＥＭ像で短軸長さが２００ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが１μｍ以上である導電性繊維以外の粒子の最長軸を計測し、その最長軸の２倍以上であり、かつ導電性繊維の長軸の最短長以下の長さのものを用いることが好ましい。
【００４７】
ここで、前記導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は光学顕微鏡を用い、ＴＥＭ像又は光学顕微鏡像を観察することにより求めることができ、本発明においては、導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により３００個の導電性繊維を観察し、その平均値から求めたものである。
【００４８】
＜ポリマー＞
前記ポリマーとしては、水溶性ポリマー、及び非水溶性ポリマーのいずれも好適に用いることができるが、これらの中でも、湿度耐久性の点で、非水溶性ポリマーが特に好ましい。
【００４９】
＜＜水溶性ポリマー＞＞
前記水溶性ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体、ガゼイン、寒天、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドン、デキストラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記導電性繊維の含有量（Ａ）と前記水溶性ポリマーの含有量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）は、０．２〜３が好ましく、０．５〜２．５がより好ましい。
前記質量比（Ａ／Ｂ）が、０．２未満であると、前記導電性繊維に対して前記ポリマーが多くなりすぎ、僅かな塗布量変動により抵抗が上がってしまう懸念があり、３を超えると、ポリマーが少ないため、膜強度が実用上十分にならない場合がある。
【００５０】
＜＜非水溶性ポリマー＞＞
前記非水溶性ポリマーは、バインダーとしての機能を有しており、中性付近の水に実質的に溶解しないポリマーである。前記非水溶性ポリマーとは、本明細書においては、ＳＰ値（沖津法により算出）が、１８ＭＰａ１／２〜３０ＭＰａ１／２のポリマーを意味する。
【００５１】
前記ＳＰ値としては、１８ＭＰａ１／２〜３０ＭＰａ１／２が好ましく、１９ＭＰａ１／２〜２８ＭＰａ１／２がより好ましく、１９．５ＭＰａ１／２〜２７ＭＰａ１／２が更に好ましい。
前記ＳＰ値が、１８ＭＰａ１／２未満であると、付着した有機汚れを洗浄するのが困難になる場合があり、３０ＭＰａ１／２を超えると、水との親和性が高くなり、塗布膜の含水率上昇に起因し、赤外線領域の吸収が高くなるためか、例えば太陽電池を作製したときに変換効率が減少してしまうことがある。
【００５２】
ここで、前記ＳＰ値は、沖津法（沖津俊直著「日本接着学会誌」２９（３）（１９９３））によって算出したものである。具体的には、ＳＰ値は以下の式で計算されるものである。なお、ΔＦは文献記載の値である。
ＳＰ値（δ）＝ΣΔＦ（Ｍｏｌａｒ Ａｔｔｒａｃｔｉｏｎ Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ）／Ｖ（モル容積）
複数の非水溶性ポリマーを用いた場合のＳＰ値（σ）及びＳＰ値の水素結合項（σｈ）は次の式により算出する。
【００５３】
【数１】
ただし、σｎは、非水溶性ポリマーと水のＳＰ値又はＳＰ値の水素結合項を、Ｍｎは、混合液中における非水溶性ポリマーと水のモル分率を、Ｖｎは、溶媒のモル体積を、ｎは、溶媒の種類を表す２以上の整数をそれぞれ表す。
【００５４】
前記非水溶性ポリマーとしては、特に制限されないが、塗膜の基板への密着性、摺りなどに対する耐久性という点で、エチレン性不飽和基を有するポリマーが好ましい。これらの中でも、主鎖に連結する側鎖に、エチレン性不飽和結合の少なくとも１種を含むことが好ましい。前記エチレン性不飽和結合は、側鎖中に複数含まれていてもよい。また、前記エチレン性不飽和結合は、非水溶性ポリマーの側鎖中に、前記分岐及び／又は脂環構造、並びに／又は前記酸性基とともに含まれていてもよい。
【００５５】
前記非水溶性ポリマーとしては、下記ポリマーラテックスの中から適宜使用することができる。
【００５６】
アクリル系ポリマーとしては、例えば、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ８５５、８５７ｘ２（以上、日本ゼオン社製）；Ｖｏｎｃｏａｔ Ｒ３３７０（大日本インキ化学工業社製）；ジュリマーＥＴ−４１０（日本純薬社製）；ＡＥ１１６、ＡＥ１１９、ＡＥ１２１、ＡＥ１２５、ＡＥ１３４、ＡＥ１３７、ＡＥ１４０、ＡＥ１７３（以上、ＪＳＲ社製）；アロンＡ−１０４（東亞合成社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００５７】
ポリエステル類としては、例えば、ＦＩＮＥＴＥＸ ＥＳ６５０、６１１、６７５、８５０（以上、大日本インキ化学工業社製）；ＷＤ−ｓｉｚｅ、ＷＭＳ（以上、イーストマンケミカル社製）；Ａ−１１０、Ａ−１１５ＧＥ、Ａ−１２０、Ａ−１２１、Ａ−１２４ＧＰ、Ａ−１２４Ｓ、Ａ−１６０Ｐ、Ａ−２１０、Ａ−２１５ＧＥ、Ａ−５１０、Ａ−５１３Ｅ、Ａ−５１５ＧＥ、Ａ−５２０、Ａ−６１０、Ａ−６１３、Ａ−６１５ＧＥ、Ａ−６２０、ＷＡＣ−１０、ＷＡＣ−１５、ＷＡＣ−１７ＸＣ、ＷＡＣ−２０、Ｓ−１１０、Ｓ−１１０ＥＡ、Ｓ−１１１ＳＬ、Ｓ−１２０、Ｓ−１４０、Ｓ−１４０Ａ、Ｓ−２５０、Ｓ−２５２Ｇ、Ｓ−２５０Ｓ、Ｓ−３２０、Ｓ−６８０、ＤＮＳ−６３Ｐ、ＮＳ−１２２Ｌ、ＮＳ−１２２ＬＸ、ＮＳ−２４４ＬＸ、ＮＳ−１４０Ｌ、ＮＳ−１４１ＬＸ、ＮＳ−２８２ＬＸ（以上、高松油脂社製）；アロンメルトＰＥＳ−１０００シリーズ、ＰＥＳ−２０００シリーズ（以上、東亞合成社製）；バイロナールＭＤ−１１００、ＭＤ−１２００、ＭＤ−１２２０、ＭＤ−１２４５、ＭＤ−１２５０、ＭＤ−１３３５、ＭＤ−１４００、ＭＤ−１４８０、ＭＤ−１５００、ＭＤ−１９３０、ＭＤ−１９８５（以上、東洋紡社製）；セポルジョンＥＳ（住友精化社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００５８】
ポリウレタン類としては、例えば、ＨＹＤＲＡＮ ＡＰ１０、ＡＰ２０、ＡＰ３０、ＡＰ４０、１０１Ｈ、Ｖｏｎｄｉｃ １３２０ＮＳ、１６１０ＮＳ（以上、大日本インキ化学工業社製）；Ｄ−１０００、Ｄ−２０００、Ｄ−６０００、Ｄ−４０００、Ｄ−９０００（以上、大日精化社製）；ＮＳ−１５５Ｘ、ＮＳ−３１０Ａ、ＮＳ−３１０Ｘ、ＮＳ−３１１Ｘ（以上、高松油脂社製）；エラストロン（第一工業製薬社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００５９】
ゴム類としては、例えば、ＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上、大日本インキ化学工業社製）、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１６、ＬＸ４１０、ＬＸ４３０、ＬＸ４３５、ＬＸ１１０、ＬＸ４１５Ａ、ＬＸ４１５Ｍ、ＬＸ４３８Ｃ、２５０７Ｈ、ＬＸ３０３Ａ、ＬＸ４０７ＢＰシリーズ、Ｖ１００４、ＭＨ５０５５（以上、日本ゼオン社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６０】
ポリ塩化ビニル類としては、例えば、Ｇ３５１、Ｇ５７６（以上、日本ゼオン社製）；ビニブラン ２４０、２７０、２７７、３７５、３８６、６０９、５５０、６０１、６０２、６３０、６６０、６７１、６８３、６８０、６８０Ｓ、６８１Ｎ、６８５Ｒ、２７７、３８０、３８１、４１０、４３０、４３２、８６０、８６３、８６５、８６７、９００、９００ＧＴ、９３８、９５０、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＬ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＨ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＮ、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ５、ＳＯＬＢＩＮ Ｍ、ＳＯＬＢＩＮ ＭＦ、ＳＯＬＢＩＮ Ａ、ＳＯＬＢＩＮ ＡＬ（以上、日信化学工業社製）；エスレックＡ、エスレックＣ、エスレックＭ（以上、積水化学工業社製）；デンカビニル１０００ＧＫＴ、デンカビニル１０００Ｌ、デンカビニル１０００ＣＫ、デンカビニル１０００Ａ、デンカビニル１０００ＬＫ２、デンカビニル１０００ＡＳ、デンカビニル１０００ＧＳ、デンカビニル１０００ＬＴ３、デンカビニル１０００Ｄ、デンカビニル１０００Ｗ（以上、電気化学工業社製）、など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６１】
ポリ塩化ビニリデン類としては、例えば、Ｌ５０２、Ｌ５１３（以上、旭化成工業社製）；Ｄ−５０７１（大日本インキ化学工業社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６２】
ポリオレフィン類としては、例えば、ケミパール Ｓ１２０、ＳＡ１００、Ｖ３００（以上、三井石油化学社製）；Ｖｏｎｃｏａｔ ２８３０、２２１０、２９６０（以上、大日本インキ化学工業社製）、ザイクセン、セポルジョンＧ（以上、住友精化社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６３】
共重合ナイロン類としては、例えば、セポルジョンＰＡ（住友精化社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６４】
ポリ酢酸ビニル類としては、例えば、ビニブラン １０８０、１０８２、１０８５Ｗ、１１０８Ｗ、１１０８Ｓ、１５６３Ｍ、１５６６、１５７０、１５８８Ｃ、Ａ２２Ｊ７−Ｆ２、１１２８Ｃ、１１３７、１１３８、Ａ２０Ｊ２、Ａ２３Ｊ１、Ａ２３Ｊ１、Ａ２３Ｋ１、Ａ２３Ｐ２Ｅ、Ａ６８Ｊ１Ｎ、１０８６Ａ、１０８６、１０８６Ｄ、１１０８Ｓ、１１８７、１２４１ＬＴ、１５８０Ｎ、１０８３、１５７１、１５７２、１５８１、４４６５、４４６６、４４６８Ｗ、４４６８Ｓ、４４７０、４４８５ＬＬ、４４９５ＬＬ、１０２３、１０４２、１０６０、１０６０Ｓ、１０８０Ｍ、１０８４Ｗ、１０８４Ｓ、１０９６、１５７０Ｋ、１０５０、１０５０Ｓ、３２９０、１０１７ＡＤ、１００２、１００６、１００８、１１０７Ｌ、１２２５、１２４５Ｌ、ＧＶ−６１７０、ＧＶ−６１８１、４４６８Ｗ、４４６８Ｓ（以上、日信化学工業社製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
【００６５】
更に、ポリマーラテックスとしては、例えば、ポリアクリル類、ポリ乳酸エステル類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアセタール類、ＳＢＲ類、ポリ塩化ビニル類などが挙げられる。これらのポリマーラテックスは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリアクリル類、ポリウレタン類、ポリ塩化ビニル類、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ＳＢＲ類が好ましく、ポリアクリル類、ポリウレタン類、ポリ塩化ビニル類、ポリエステル類、ＳＢＲ類がより好ましく、ポリアクリル類が特に好ましい。
【００６６】
前記エチレン性不飽和結合としては、非水溶性ポリマーの主鎖との間に少なくとも１つのエステル基（−ＣＯＯ−）を介して結合し、エチレン性不飽和結合とエステル基のみで非水溶性ポリマーの側鎖を構成していてもよい。また、非水溶性ポリマーの主鎖とエステル基との間、及び／又は、エステル基とエチレン性不飽和結合との間に、更に２価の有機連結基を有してもよく、エチレン性不飽和結合は「エチレン性不飽和結合を有する基」として非水溶性ポリマーの側鎖を構成していてもよい。
前記２価の有機連結基としては、例えば、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類が好ましく、（メタ）アクリレート類が好ましい。
【００６７】
前記エチレン性不飽和結合としては、（メタ）アクリロイル基を導入して配されることが好ましい。
前記非水溶性ポリマーの側鎖に（メタ）アクリロイル基を導入する方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ繰り返し単位にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、イソシアネート基を持つ繰り返し単位にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
これらの中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
【００６８】
前記エチレン性不飽和結合及びエポキシ基を有する（メタ）アクリレートとしては、これらを有すれば特に制限はないが、例えば、下記構造式（１）で表される化合物及び下記構造式（２）で表される化合物が好ましい。
【００６９】
【化１】
ただし、前記構造式（１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｌ１は、有機基を表す。
【００７０】
【化２】
ただし、前記構造式（２）中、Ｒ２は、水素原子又はメチル基を表す。Ｌ２は、有機基を表す。Ｗは、４〜７員環の脂肪族炭化水素基を表す。
【００７１】
前記構造式（１）及び構造式（２）で表される化合物の中でも、光硬化樹脂と組み合わせ、ネガ型、ポジ型のレジストとして使用した場合、良現像性、及び膜強度という点で、前記構造式（１）で表される化合物が好ましい。前記構造式（１）及び（２）においては、Ｌ１及びＬ２がそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基がより好ましい。
【００７２】
前記構造式（１）及び構造式（２）で表される化合物としては、特に制限はないが、例えば、以下の化合物（１）〜（１０）が挙げられる。
【化３】
【００７３】
前記非水溶性ポリマーとしては、下記一般式（Ｉ）で表されるものが含まれる。
【化４】
【００７４】
前記一般式（Ｉ）において、Ｘ１、Ｙ１及びＺ１は、各々独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｘ２は、分枝構造又は脂環構造を有する有機基を表し、Ｚ２は、単結合又は二価の有機基を表し、Ｚ３は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表し、ｘ、ｙ及びｚは、それらの合計を１００モルとした場合における各繰り返し単位のモル比を表し、各々０より大きく１００より少ない数値を表す。
前記ｘは１０〜７５、ｙは５〜７０、及びｚは１０〜７０が好ましい。
【００７５】
前記Ｘ２に係る分枝構造を有する有機基としては、例えば、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｉ−アミル基、ｔ−アミル基、２−オクチル基等の炭素数３〜８の分枝アルキル基などが挙げられる。これらの中でも、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基が特に好ましい。
前記Ｘ２に係る脂環構造を有する有機基としては、炭素原子数５〜２０個の脂環式炭化水素基を示し、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基等が挙げられ、これらの基は、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−基を介して、前記一般式（Ｉ）におけるＣＯＯ−と結合していてもよい。これらの中でも、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基が好ましく、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロペンテニル基が特に好ましい。
前記Ｚ２に係る二価の有機基としては、例えば、２−ヒドロキシ−１，３−プロピレン基等のようなヒドロキシ基を有する炭素数３〜７のアルキレン基、２−ヒドロキシ−１，４−シクロヘキシレン基等のようなヒドロキシ基を有する炭素数６〜９の二価の脂環式炭化水素基などが挙げられる。
【００７６】
前記一般式（Ｉ）で表される非水溶性ポリマーの具体例としては、例えば、下記構造で表される化合物（例示化合物Ｐ−１〜Ｐ−３５）が挙げられる。これらの例示化合物Ｐ−１〜Ｐ−３５は、いずれも５，０００〜３００，０００の範囲の重量平均分子量を有する。また、例示化合物中のｘ、ｙ、及びｚは、各繰り返し単位の組成比（モル比）を表す。
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】
【化１１】
【００７７】
−合成法−
前記非水溶性ポリマーは、モノマーの（共）重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から合成することができる。
前記（共）重合反応は種々のモノマーの（共）重合反応によって作られ、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などが挙げられる。これらの中でも、合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などが挙げられる。これらの中でも、溶液重合法がより好ましい。
【００７８】
前記非水溶性ポリマーは、１０，０００〜１００，０００の重量平均分子量を有するものが、製造が容易であり、かつ導電性、耐久性、及び長波長の透過率に優れる導電膜が得られるので好ましい。前記重量平均分子量は、１２，０００〜６０，０００がより好ましく、１５，０００〜４５，０００が更に好ましい。
【００７９】
前記非水溶性ポリマーは、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の酸価を有していることが好ましい。これにより、前記導電性組成物を含むネガ型感光性樹脂組成物を調製し、これを基板上に形成したのちに、所望のパターン露光及び現像して導電性パターンを形成する場合に、良好な現像性が確保されると共に、得られた導電性パターンは、導電性、耐久性、及び長波長の透過率に優れたものとなる。
前記酸価は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
【００８０】
前記導電性繊維の含有量（Ａ）と前記非水溶性ポリマーの含有量（Ｃ）との質量比（Ａ／Ｃ）は、０．２〜３が好ましく、０．５〜２．５がより好ましい。
前記質量比（Ａ／Ｃ）が、０．２未満であると、塗布量変動による抵抗値のバラツキが問題になる場合、本発明における溶解液の作用が低下することがあり、３を超えると、塗布膜に実用上の十分な強度が得られないことがある。
前記導電性繊維の含有量（塗布量）は、０．００５ｇ／ｍ２〜０．５ｇ／ｍ２が好ましく、０．０１ｇ／ｍ２〜０．４５ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０１５ｇ／ｍ２〜０．４ｇ／ｍ２が更に好ましい。
【００８１】
＜その他の成分＞
前記その他の成分としては、必要に応じて、例えば、分散剤、界面活性剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤等の各種添加剤などが挙げられる。
【００８２】
−分散剤−
前記分散剤は、前記導電性繊維の凝集を防ぎ、分散させるために用いる。前記分散剤としては、前記導電性繊維を分散させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適否選択することができ、例えば、市販の低分子顔料分散剤、高分子顔料分散剤を利用でき、特に高分子分散剤で導電性繊維に吸着する性質を持つものが好ましく用いられ、ポリビニルピロリドン、ＢＹＫシリーズ（ビックケミー社製）、ソルスパースシリーズ（日本ルーブリゾール社製など）、アジスパーシリーズ（味の素株式会社製）などが挙げられる。
【００８３】
前記分散剤の含有量としては、前記ポリマー１００質量部に対し、０．１質量部〜５０質量部が好ましく、０．５質量部〜４０質量部がより好ましく、１質量部〜３０質量部が更に好ましい。前記含有量が、０．１質量部未満であると、分散液中で導電性繊維が凝集してしまうことがあり、５０質量部を超えると、塗布工程において安定な塗布膜が形成できず、塗布ムラが発生してしまうことがある。
【００８４】
＜導電体＞
前記導電体は、本発明の前記導電膜を支持体上に有してなる。
前記導電体は、支持体と、該支持体上に導電層とを有し、更に必要に応じてその他の部材等を有してなる。
前記導電層としては、本発明の前記導電膜を用いることが必要である。
前記導電体は、可撓性を有し、透明が好ましく、前記透明には、無色透明のほか、有色透明、半透明、有色半透明などが含まれる。
【００８５】
前記導電体は、少なくとも一の最表面に、例えばＰＥＴ等のプラスチックフィルム、紫外線（ＵＶ）吸収もしくは反射剤を含有又はコーティングさせたＵＶ吸収又は反射ＰＥＴフィルム（ＵＶ-ＰＥＴ）、酸素、水の透過性を減少させたバリア機能付きＰＥＴフィルム（バリアフィルム）、バリアフィルムにＵＶ吸収もしくは反射機能を持たせたＵＶバリアフィルム、又は、ＵＶ−ＰＥＴとバリアフィルムなどを張り合わせて複合化させたフィルムなどを張り合わせることにより、耐光性を更に向上させることができる。
【００８６】
−支持体−
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、透明ガラス基板、合成樹脂製シート、フィルム、金属基板、セラミック板、光電変換素子を有する半導体基板などが挙げられる。これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等の薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法等の前処理を行うことができる。
前記透明ガラス基板としては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラスなどが挙げられる。
前記合成樹脂製シート、フィルムとしては、例えば、ＰＥＴ、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミドなどが挙げられる。
前記金属基板としては、例えば、アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板などが挙げられる。
【００８７】
前記支持体の全可視光透過率としては、７０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上が特に好ましい。
前記全可視光透過率が、７０％未満であると、透過率が低く実用上問題となることがある。
なお、本発明では、支持体として本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
【００８８】
前記支持体の厚みとしては、１μｍ〜５，０００μｍが好ましく、３μｍ〜４，０００μｍがより好ましく、５μｍ〜３，０００μｍが特に好ましい。
前記厚みが、１μｍ未満であると、塗布工程においてのハンドリングの困難さに起因し、歩留まりが低下することがあり、５，０００μｍを超えると、ポータブルなアプリケーションにおいてその支持体の厚み及び質量が問題となることがある。
【００８９】
＜導電体の製造方法＞
前記導電体の製造方法は、導電層形成工程と、溶解液付与工程とを少なくとも含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【００９０】
＜導電層形成工程＞
前記導電層形成工程は、支持体上に導電性繊維及びポリマーを含有する導電層組成物を塗布して導電層を形成する工程である。
前記支持体、前記導電性繊維、及び前記ポリマーとしては、上述したものの中から適宜選択することができる。
【００９１】
前記導電層組成物の塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばスピンコート、ロールコート、スリットコート等の公知の方法により、基材上に塗布する。
【００９２】
前記導電性繊維の塗布量（含有量）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．００５ｇ／ｍ２〜０．５ｇ／ｍ２が好ましく、０．０１ｇ／ｍ２〜０．４５ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０１５ｇ／ｍ２〜０．４ｇ／ｍ２が更に好ましい。
前記塗布量が、０．００５ｇ／ｍ２未満であると、局所的に抵抗が高くなってしまう箇所ができ、面内の抵抗分布が悪化することがあり、０．５g／ｍ２を超えると、塗布後の乾燥中に導電性繊維同士の凝集により、ヘイズが悪化することがある。
【００９３】
前記導電層の厚みとしては、２０ｎｍ〜５，０００ｎｍが好ましく、２５ｎｍ〜４，０００ｎｍがより好ましく、３０ｎｍ〜３，５００ｎｍが更に好ましい。
前記厚みが、２０ｎｍ未満であると、導電性繊維の平均短軸長さと変わらない範囲となってしまい、膜強度が低下することがあり、５，０００ｎｍを超えると、導電層のヒビ割れ、透過率及びヘイズが悪化することがある。
【００９４】
前記導電層形成工程において、前記ハロゲン元素の含有量を調整することができる。例えば、（１）導電層形成用塗布液を限外濾過する方法、（２）導電層形成用塗布液に純水などを添加して遠心分離後、上澄みを除去する洗浄を繰り返して行う方法、（３）導電膜形成後に該導電膜を洗浄（純水などの洗浄溶媒中に浸漬）する方法、などが挙げられる。
【００９５】
＜溶解液付与工程＞
前記溶解液付与工程は、前記導電層表面に導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液をパターン状に付与する工程である。
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液を、前記導電層にパターン状に付与し、該付与された部分が非導電部となる。
【００９６】
−導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液−
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液としては、導電性繊維を溶解し、非導電部を形成することができる液であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば導電性繊維が銀ナノワイヤーの場合には、所謂写真科学業界において、主にハロゲン化銀カラー感光材料の印画紙の漂白、定着工程に使用される漂白定着液、希硝酸等の強酸、酸化剤を含む溶液、過酸化水素水などが挙げられる。これらの中でも、漂白定着液、希硝酸を含む溶液、過酸化水素水が好ましく、漂白定着液が特に好ましい。なお、前記溶解液による導電性繊維（好ましくは銀ナノワイヤー）の溶解乃至切断は、該溶解液を付与した部分の導電性繊維（好ましくは銀ナノワイヤー）を完全に溶解乃至切断しなくてもよく、導電性が消失していれば一部が残存していてもよい。
【００９７】
前記希硝酸を含む溶液における希硝酸の濃度は、１質量％〜２０質量％が好ましい。
前記過酸化水素水における過酸化水素の濃度は、３質量％〜３０質量％が好ましい。
【００９８】
前記漂白定着液は、漂白剤、定着剤を含み、漂白促進剤、再ハロゲン化剤、保恒剤、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記漂白定着液で用いられる漂白剤としては、特に制限はなく、いかなる漂白剤も用いることができ、例えば、鉄（ＩＩＩ）の有機錯塩（例えばエチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸等のアミノポリカルボン酸類；アミノポリホスホン酸、ホスホノカルボン酸、有機ホスホン酸等の錯塩）、又はクエン酸、酒石酸、リンゴ酸等の有機酸；過硫酸塩；過酸化水素などが挙げられる。
これらの中でも、鉄（ＩＩＩ）の有機錯塩が迅速なパターニング処理と環境汚染防止の観点から特に好ましい。１Ｌ当りの鉄（ＩＩＩ）の有機錯塩の含有量は、０．０５モル〜３モルが好ましく、０．１モル〜１．５モルがより好ましい。
前記鉄（ＩＩＩ）の有機錯塩を形成するために有用なアミノポリカルボン酸、アミノポリホスホン酸、もしくは有機ホスホン酸又はそれらの塩としては、例えばエチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、１，３−ジアミノプロパン四酢酸、プロピレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、シクロヘキサンジアミン四酢酸、メチルイミノ二酢酸、イミノ二酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、などが挙げられる。これらの化合物はナトリウム、カリウム、チリウム又はアンモニウム塩のいずれでもよい。これらの中でも、エチレンジアミン四酢酸、アエチレントリアミン五酢酸、シクロヘキサンジアミン四酢酸、１，３−ジアミノプロパン四酢酸、メチルイミノ二酢酸の鉄（ＩＩＩ）錯塩が漂白力が高い点から好ましい。
これらの第２鉄イオン錯塩は錯塩の形で使用してもよいし、第２鉄塩、例えば硫酸第２鉄、塩化第２鉄、硝酸第２鉄、硫酸第２鉄アンモニウム、燐酸第２鉄などとアミノポリカルボン酸、アミノポリホスホン酸、ホスホノカルボン酸などのキレート剤とを用いて溶液中で第２鉄イオン錯塩を形成させてもよい。また、キレート剤を第２鉄イオン錯塩を形成する以上に過剰に用いてもよい。鉄錯体のなかでもアミノポリカルボン酸鉄錯体が好ましく、その添加量は０．０１モル／Ｌ〜１．０モル／Ｌが好ましく、０．００５モル／Ｌ〜０．５０モル／Ｌがより好ましい。
【００９９】
前記漂白定着液に使用される定着剤としては、特に制限はなく、公知の定着剤の中から適宜選択することができ、例えばチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩；チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩；エチレンビスチオグリコール酸、３．６−ジチア−１，８−オクタンジオール等のチオエーテル化合物及びチオ尿素類などの水溶性のハロゲン化銀溶解剤などが挙げられる。これらは１種又は２種以上混合して使用することができる。また、特開昭５５−１５５３５４号公報に記載された定着剤と多量の沃化カリウム等のハロゲン化物などの組み合わせからなる特殊な漂白定着液なども用いることができる。これらの中でも、チオ硫酸塩が好ましく、チオ硫酸アンモニウム塩が特に好ましい。１Ｌ当りの定着剤の量は、０．３モル〜２モルが好ましく、０．５モル〜１．０モルがより好ましい。
【０１００】
前記漂白定着液には、漂白促進剤として種々の化合物を用いることができる。例えば、米国特許第３．８９３，８５８号明細書、ドイツ特許第１，２９０，８１２号明細書、特開昭５３−９５６３０号公報、リサーチディスクロージャー第１７１２９号（１９７８年７月号）に記載のメルカプト基又はジスルフィド結合を有する化合物、特公昭４５−８５０６号公報、特開昭５２−２０８３２号公報、特開昭５３−３２７３５号公報、米国特許第３，７０６，５６１号明細書等に記載のチオ尿素化合物、あるいは沃素、臭素イオンのハロゲン化物などが挙げられる。
前記漂白定着液には、必要に応じて臭化物（例えば、臭化カリウム、臭化ナトリウム、臭化アンモニウム）、又は塩化物、（例えば、塩化カリウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム）、又は沃化物（例えば、沃化アンモニウム）等の再ハロゲン化剤を含むことができる。
【０１０１】
前記漂白定着液には、保恒剤として亜硫酸塩（例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウムなど）、重亜硫酸塩（例えば、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、重亜硫酸カリウムなど）、メタ重亜硫酸塩（例えば、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウムなど）等の亜硫酸イオン放出化合物を含有することができる。これらの化合物は亜硫酸イオン換算して約０．０２モル／Ｌ〜０．５０モル／Ｌ含有することが好ましく、０．０４モル／Ｌ〜０．４０モル／Ｌ含有することがより好ましい。これらの中でも、亜硫酸アンモニウムの添加が特に好ましい。
前記保恒剤としては、亜硫酸塩の添加が一般的であるが、アスコルビン酸、カルボニル重亜硫酸付加物、スルフィン酸類、カルボニル化合物、スルフィン酸類等を添加してもよい。
【０１０２】
前記漂白定着液のｐＨは、８以下が好ましく、３〜８がより好ましく、４〜７が更に好ましく、５．７〜６．５が特に好ましい。前記ｐＨがこれより低いと、導電性繊維の溶解性は向上するが、溶解液の劣化促進されることがある。一方、ｐＨがこれより高いと、溶解時間が長くなり、パターニング時の解像度が悪化する場合がある。
ｐＨを調整するため、必要に応じて塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、重炭酸塩、アンモニア、苛性カリ、苛性ソーダ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等を添加することができる。
【０１０３】
前記漂白定着液には、更に必要に応じて、硼酸、硼砂、メタ硼酸ナトリウム、酢酸、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、亜燐酸、燐酸、燐酸ナトリウム、クエン酸、クエン酸ナトリウム、酒石酸等のｐＨ緩衝能を有する１種類以上の無機酸、有機酸及びこれらのアルカリ金属又はアンモニウム塩、硝酸アンモニウム、グアニジン等の腐食防止剤、緩衝剤、蛍光増白剤、キレート剤、防カビ剤、各種の蛍光増白剤、消泡剤、界面活性剤、ポリビニルピロリドン、メタノール等の有機溶媒などのその他の成分を含有することができる。
【０１０４】
前記漂白定着液としては、適宜調製したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。該市販品としては、例えば、富士フイルム株式会社製ＣＰ−４８Ｓ、ＣＰ−４９Ｅ（カラーペーパー用漂白定着剤）、コダック社製エクタカラーＲＡ漂白定着液、大日本印刷株式会社製漂白定着液Ｄ−Ｊ２Ｐ−０２−Ｐ２、Ｄ−３０Ｐ２Ｒ−０１、Ｄ−２２Ｐ２Ｒ−０１などが挙げられる。これらの中でも、ＣＰ−４８Ｓ、ＣＰ−４９Ｅが特に好ましい。
漂白定着時間は、１８０秒間以下が好ましく、１２０秒間以下１秒間以上がより好ましく、９０秒間以下５秒間以上が更に好ましい。また、水洗又は安定化時間は、１８０秒間以下が好ましく、１２０秒間以下１秒間以上がより好ましい。
このとき、水洗又は安定化処理は水又は安定化液に浸漬する方法でもよいが、導電性繊維を含有する層が非常に薄く、膜強度が比較的弱いものであることを考慮すると、水又は安定化液をシャワーする方法が洗浄効率がよいので、より好ましい。
【０１０５】
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液の粘度は、後述するパターニング方法に応じて異なるが、２５℃で、５ｍＰａ・ｓ〜３００，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０ｍＰａ・ｓ〜１５０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましい。前記粘度が、５ｍＰａ・ｓ未満であると、印刷法によっては、不必要なところにまで溶解液が拡散してしまい、明瞭なパターニングが困難になる場合があり、３００，０００ｍＰａ・ｓを超えると、印刷法によっては、工程に負荷がかかり、長時間のプロセスタイムを要する場合がある。
前記粘度は、例えば、ブルックフィールド粘度計などにより測定することができる。
前記溶解液に増粘剤を添加することにより上記粘度範囲に調整することができる。前記増粘剤としては、例えばアロンＡ−２０Ｌ（東亞合成株式会社製）、ゼラチン、水溶性セルロース、グリセリンなどが挙げられる。
【０１０６】
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液のパターン状の付与（パターニング方法）としては、前記溶解液をパターン状に付与できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばスクリーン印刷、インクジェット印刷、予めレジスト剤などによりエッチングマスクを形成しておきその上に溶解液をコーター塗布、ローラー塗布、ディッピング塗布、スプレー塗布する方法、などが挙げられる。これらの中でも、スクリーン印刷、インクジェット印刷、コーター塗布、ディップ（浸漬）塗布が好ましく、スクリーン印刷、インクジェット印刷が特に好ましい。
【０１０７】
前記スクリーン印刷は、所望形状に多数の細孔が形成されたスクリーン版を介して被印刷物としての導電膜上にパターンを形成する方法であり、導電膜上にスクリーン版をクリアランスを空けてセットし、スクリーン版上に導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液を供給し、スクリーン版と導電膜とが接触するようにスキージでスクリーン版を押さえて変形させながらスキージを移動させる。それにつれてスクリーン版開口部に充填された溶解液は、導電膜と接触して、導電膜へ転写される。
前記スクリーン印刷では、前記溶解液の粘度は、２５℃で、１０，０００ｍＰａ・ｓ〜３００，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１５，０００ｍＰａ・ｓ〜１５０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、２０，０００ｍＰａ・ｓ〜７０，０００ｍＰａ・ｓが更に好ましい。
前記溶解液の粘度が、１０，０００ｍＰａ・ｓ未満であると、溶解液を載せたくない箇所にも溶解液が広がってしまい、パターンが不明瞭になることがあり、３００，０００ｍＰａ・ｓを超えると、水洗又は安定化処理時に溶解液が残ってしまうことがある。
【０１０８】
前記インクジェット印刷は、導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液を導電膜上にパターン状に吐出させるものであり、ピエゾ方式及びサーマル方式のいずれも使用可能である。
前記インクジェット印刷では、前記溶解液の粘度は、２５℃で、１ｍＰａ・ｓ〜２００ｍＰａ・ｓが好ましく、５ｍＰａ・ｓ〜１００ｍＰａ・ｓがより好ましく、１０ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓが更に好ましい。
前記溶解液の粘度が、１ｍＰａ・ｓ未満であると、インク着弾後に導電膜上で濡れ広がってしまいパターンが不明瞭となることがあり、２００ｍＰａ・ｓを超えると、インク吐出に必要なエネルギーが高くなること、また、インクジェットヘッドの汚れにより、吐出が安定しなくなることがある。
【０１０９】
前記パターンの種類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、文字、記号、模様、図形、配線パターン、などが挙げられる。
前記パターンの大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することがで
きるが、ナノサイズからミリサイズのいずれの大きさであっても構わない。
【０１１０】
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液が付与された非導電部の表面抵抗は、５ｋΩ／□以上が好ましく、１００ｋΩ／□以上がより好ましく、１ＭΩ／□以上が更に好ましい。上限値は、１０９Ω／□以下が好ましい。
前記導電性繊維を溶解乃至切断する溶解液が付与されていない部分である導電部（導電膜）の表面抵抗は、５ｋΩ／□未満が好ましく、５００Ω／□以下がより好ましい。下限値は、１Ω／□以上が好ましい。
ここで、前記表面抵抗は、例えば、表面抵抗計（三菱化学株式会社製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて、測定することができる。
本発明の導電膜の全光線透過率は、７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。
ここで、前記全光線透過率は、例えば、ガードナー社製ヘイズガードプラスにより測定することができる。
【０１１１】
本発明の導電膜は、絶縁性が著しく改善でき、高透過性、低抵抗であり、耐久性及び可撓性が向上し、簡易にパターニングが可能であるので、例えばタッチパネル、ディスプレイ用電極、電磁波シールド、有機ＥＬディスプレイ用電極、無機ＥＬディスプレイ用電極、電子パーパー用電極、フレキシブルディスプレイ用電極、太陽電池用電極、表示素子用電極、その他の各種デバイスなどに幅広く適用される。これらの中でも、タッチパネル、表示素子用電極、太陽電池用電極が特に好ましい。
【０１１２】
＜表示素子＞
本発明で用いられる表示素子としての液晶表示素子は、上記のようにして基板上にパターニングされた前記導電体が設けられた素子基板と、対向基板であるカラーフィルター基板とを、位置を合わせて圧着後、熱処理して組み合わせ、液晶を注入し、注入口を封止することによって製作される。このとき、カラーフィルター上に形成される導電体も、前記導電体を用いることが好ましい。
また、前記素子基板上に液晶を散布した後、基板を重ね合わせ、液晶が漏れないように密封して液晶表示素子が製作されてもよい。
なお、前記液晶表示素子に用いられる液晶、即ち液晶化合物及び液晶組成物については特に制限はなく、いずれの液晶化合物及び液晶組成物をも使用することができる。
【０１１３】
（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、本発明の前記導電膜からなる導電体を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量方式タッチパネル、投影型静電容量方式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサ及びタッチパッドを含むものとする。
前記タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成が、２枚の透明電極を貼合する貼合方式、１枚の基材の両面に透明電極を具備する方式、片面ジャンパーあるいはスルーホール方式あるいは片面積層方式のいずれかが好ましい。
【０１１４】
前記表面型静電容量方式タッチパネルの一例について、図１を参照して説明する。この図１において、タッチパネル１０は、透明基板１１の表面を一様に覆うように透明導電体１２を配してなり、透明基板１１の端部の透明導電体１２上に、図示しない外部検知回路との電気接続のための電極端子１８が形成されている。
なお、図中、１３は、シールド電極となる透明導電体を示し、１４、１７は、保護膜を示し、１５は、中間保護膜を示し、１６は、グレア防止膜を示す。
透明導電体１２上の任意の点を指でタッチ等すると、前記透明導電体１２は、タッチされた点で人体を介して接地され、各電極端子１８と接地ラインとの間の抵抗値に変化が生じる。この抵抗値の変化を前記外部検知回路によって検知し、タッチした点の座標が特定される。
【０１１５】
前記表面型静電容量方式タッチパネルの他の一例について図２を用いて説明する。該図２においてタッチパネル２０は、透明基板２１の表面を覆うように配された透明導電体２２と透明導電体２３と、該透明導電体２２と該透明導電体２３とを絶縁する絶縁層２４と、指等の接触対象と透明導電体２２又は透明導電体２３の間に静電容量を生じる絶縁カバー層２５からなり、指等の接触対象に対して位置検知する。構成によっては、透明導電体２２，２３を一体として構成することもでき、また、絶縁層２４又は絶縁カバー層２５を空気層として構成してもよい。
絶縁カバー層２５を指等でタッチすると、指等と透明導電体２２又は透明導電体２３の間の静電容量の値に変化が生じる。この静電容量値の変化を前記外部検知回路によって検知し、タッチした点の座標が特定される。
また、図３により、投影型静電容量方式タッチパネルとしてのタッチパネル２０を透明導電体２２と透明導電体２３とを平面から視た配置を通じて模式的に説明する。
タッチパネル２０は、Ｘ軸方向の位置を検出可能とする複数の透明導電体２２と、Ｙ軸方向の複数の透明導電体２３とが、外部端子に接続可能に配されている。透明導電体２２と透明導電体２３とは、指先等の接触対象に対し複数接触して、接触情報が多点で入力されることを可能とされる。
このタッチパネル２０上の任意の点を指でタッチ等すると、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の座標が位置精度よく特定される。
なお、透明基板、保護層等のその他の構成としては、前記表面型静電容量方式タッチパネルの構成を適宜選択して適用することができる。また、タッチパネル２０において、複数の透明導電体２２と、複数の透明導電体２３とによる透明導電体のパターンの例を示したが、その形状、配置等としては、これらに限られない。
【０１１６】
前記抵抗膜式タッチパネルの一例について、図４を用いて説明する。該図４において、タッチパネル３０は、透明導電体３２が配された基板３１と、該透明導電体３２上に複数配されたスペーサ３６と、空気層３４を介して、透明導電体３２と接触可能な透明導電体３３と、該透明導電体３３上に配される透明フィルム３５とが支持されて構成される。
このタッチパネル３０に対して、透明フィルム３５側からタッチすると、透明フィルム３５が押圧され、押し込まれた透明導電体３２と透明導電体３３とが接触し、この位置での電位変化を図示しない外部検知回路で検出することで、タッチした点の座標が特定される。
【０１１７】
（太陽電池）
本発明の太陽電池は、本発明の前記導電膜を用いている。
前記太陽電池（以下、太陽電池デバイスと称することもある）としては、特に制限はなく、太陽電池デバイスとして一般的に用いられるものを使用することができる。例えば、単結晶シリコン系太陽電池デバイス、多結晶シリコン系太陽電池デバイス、シングル接合型、又はタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイス、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）、インジウム燐（ＩｎＰ）等のＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体太陽電池デバイス、カドミウムテルル（ＣｄＴｅ）等のＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池デバイス、銅／インジウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン／硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池デバイス、色素増感型太陽電池デバイス、有機太陽電池デバイスなどが挙げられる。これらの中でも、本発明においては、前記太陽電池デバイスが、タンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイス、及び銅／インジウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン／硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池デバイスが好ましい。
【０１１８】
タンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイスの場合、アモルファスシリコン、微結晶シリコン薄膜層、また、これらにゲルマニウムを含んだ薄膜、更に、これらの２層以上のタンデム構造が光電変換層として用いられる。成膜はプラズマＣＶＤ等を用いる。
【実施例】
【０１１９】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１２０】
（調製例１）
−非水溶性ポリマー（１）の調製−
反応容器中に、１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＭＰＧＡＣ、ダイセル化学工業株式会社製）８．５７質量部を予め加え９０℃に昇温し、モノマーとしてシクロヘキシルメタクリレート、メチルメタクリレート、メタクリル酸（添加質量比は順に４５．５ｍｏｌ％：２ｍｏｌ％：１９ｍｏｌ％：３３．５ｍｏｌ％となるように、シクロヘキシルメタクリレート、メチルメタクリレート、メタクリル酸、及び後述のグリシジルメタクリレートを調整した）、アゾ系重合開始剤（和光純薬工業株式会社製、Ｖ−６０１）１質量部、及び１−メトキシ−２−プロパノール８．５７質量部からなる混合溶液を窒素ガス雰囲気下、９０℃の反応容器中に２時間かけて滴下した。滴下後４時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
次いで、前記アクリル樹脂溶液に、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２５質量部、及びテトラエチルアンモニウムブロマイド０．０８４質量部を加えた後、グリシジルメタクリレートを２時間かけて滴下した。滴下後、空気を吹き込みながら９０℃で４時間反応させた後、固形分濃度が４５質量％になるように溶媒を添加することにより調製し、不飽和基を有する非水溶性ポリマー（１）の溶液（重量平均分子量（Ｍｗ）；３０，０００、１−メトキシ−２−プロパノールの４５質量％溶液）を得た。
なお、前記重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて測定した。
得られた非水溶性ポリマー（１）のＳＰ値は、沖津法により算出し、２２ＭＰａ１／２であった。
【０１２１】
（調製例２）
−銀ナノワイヤー分散物（１）の調製−
硝酸銀粉末０．５１ｇを純水５０ｍＬに溶解した硝酸銀溶液を調製した。その後、前記硝酸銀溶液に１Ｎのアンモニア水を透明になるまで添加し、全量が１００ｍＬになるように、純水を添加して、添加液Ａを調製した。
グルコース粉末０．５ｇを１４０ｍＬの純水で溶解して、添加液Ｇを調製した。
ＨＴＡＢ（ヘキサデシル−トリメチルアンモニウムブロミド）粉末０．５ｇを２７．５
ｍＬの純水で溶解して、添加液Ｈを調製した。
添加液Ａ ２０．６ｍＬを三口フラスコ内に入れ室温にて攪拌した。この液に純水４１ｍＬ、添加液Ｈ ２０．６ｍＬ、及び溶液Ｂ １６．５ｍＬの順でロートにて添加し、９０℃で５時間、２００ｒｐｍで攪拌しながら加熱することで、分散物を得た。
得られた分散物を冷却した後、ポリビニルピロリドン（Ｋ−３０、和光純薬工業株式会社製）を銀の質量１に対し０．０５となるように撹拌しながら添加し、その後遠心分離し、伝導度が１５０μＳ／ｃｍ以下になるまで精製し、プロピレングリコールモノメチルエーテルで更に遠心分離を行い水を除去し、最終的にプロピレングリコールモノメチルエーテルを添加し、銀ナノワイヤー分散物（１）を調製した。
得られた銀ナノワイヤー分散物（１）の平均短軸長さ、平均長軸長さ、短軸長さの変動係数、アスペクト比が１０以上の導電性繊維（銀ナノワイヤー）の比率は、以下に示すように測定した。結果を表１に示す。
【０１２２】
＜金属ナノワイヤーの平均短軸長さ及び平均長軸長さ＞
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さ及び平均長軸長さを求めた。
【０１２３】
＜金属ナノワイヤー短軸長さの変動係数＞
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、金属ナノワイヤーの短軸長さを３００個観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの短軸長さを計測し、その標準偏差と平均値を計算することにより変動係数を求めた。
【０１２４】
＜アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率＞
各銀ナノワイヤー分散物を濾過して銀ナノワイヤーとそれ以外の粒子を分離し、ＩＣＰ発光分析装置（株式会社島津製作所製、ＩＣＰＳ−８０００）を用いて濾紙に残っている銀の量と、濾紙を透過した銀の量を各々測定し、短軸長さが５０ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが５μｍ以上である金属ナノワイヤーをアスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率（％）として求めた。
なお、導電性繊維の比率を求める際の金属ナノワイヤーの分離は、メンブレンフィルター（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ社製、ＦＡＬＰ ０２５００、孔径１．０μｍ）を用いて行った。
【０１２５】
（調製例３）
−銀ナノワイヤー分散物（２）の調製−
エチレングリコール３０ｍＬを三口フラスコに入れ１６０℃に加熱した。その後、３６ｍＭのポリビニルピロリドン（ＰＶＰ Ｋ−５５、アルドリッチ社製）、３μＭのアセチルアセトナート鉄、６０μＭの塩化ナトリウムエチレングリコール溶液１８ｍＬと、２４ｍＭの硝酸銀エチレングリコール溶液１８ｍＬを毎分１ｍＬの速度で添加した。１６０℃で６０分間加熱後室温まで冷却した。水を加えて遠心分離し、伝導度が１５０μＳ／ｃｍ以下になるまで精製し、プロピレングリコールモノメチルエーテルで更に遠心分離を行い水を除去し、最終的にプロピレングリコールモノメチルエーテルを添加し、銀ナノワイヤー分散物（２）を調製した。
得られた銀ナノワイヤー分散物（２）中の銀ナノワイヤーの平均短軸長さ、平均長軸長さ、短軸長さの変動係数、アスペクト比が１０以上の導電性繊維（銀ナノワイヤー）の比率は、前記銀ナノワイヤー分散物（１）と同様に測定した。結果を表１に示す。
【０１２６】
【表１】
＊表１中、「導電性繊維の比率」とは、アスペクト比が１０以上の導電性繊維（銀ナノワイヤー）の比率を表す。
【０１２７】
（実施例１）
＜透明導電体の作製＞
以下に示すようにして、表２に示す試料Ｎｏ．１０１〜１１１の透明導電体を作製した。
【０１２８】
＜試料Ｎｏ．１０１の作製＞
−下引き層の形成−
市販の二軸延伸熱固定済の厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板に８Ｗ／ｍ２・分のコロナ放電処理を施し、下記組成の下引き層用塗布液を塗布して、乾燥厚み０．８μｍの下引き層を形成した。
【０１２９】
−下引き層用塗布液の組成−
・ブチルアクリレート・・・４０質量％
・スチレン・・・２０質量％
・グリシジルアクリレート・・・・４０質量％
上記組成からなる共重合体ラテックスに、ヘキサメチレン−１,６−ビス（エチレンウレア）を０．５質量％含有させて、下引き層用塗布液を調製した。
【０１３０】
次に、下引き層の表面に８Ｗ／ｍ２・分のコロナ放電処理を施して、ヒドロキシエチルセルロースを親水性ポリマー層として０．１２ｇ／ｍ２になるように塗設した。
【０１３１】
次に、ドクターコーターを用いて、前記銀ナノワイヤー分散物（１）を親水性ポリマー層上に塗布し、乾燥した。塗布銀量を蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）にて測定し、０．０６ｇ／ｍ２となるように塗布量を調節し、導電層を形成した。得られた塗布膜を２５℃の純水に５分間浸漬し、２分間純水中で超音波洗浄器（ＡＳＵ−２Ｍ、アズワン社製）で超音波洗浄を行い、更に純水で２回リンスを行った。以上により、試料Ｎｏ．１０１の透明導電体を作製した。
【０１３２】
得られた試料Ｎｏ．１０１の透明導電体の導電層（導電膜）について、蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）により、ハロゲン元素の含有量を測定したところ、３，０００質量ｐｐｍであった。このとき、予め、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）を、前記親水性ポリマー上に塗布膜厚を変えて塗布を行い、塗布量と検出ピークの強度から、ハロゲン含有量測定用の検量線を作成しておき、試料Ｎｏ．１０１のピーク強度を測定し、検量線から、ハロゲン元素の含有量を求めた。
また、得られた試料Ｎｏ．１０１の透明導電体について、導電層中の銀ナノワイヤーを構成する銀の含有量Ａと、導電層中のハロゲン元素のＸとの原子比（Ｘ／Ａ）を、塗布銀量、ハロゲン元素の含有量から算出したところ、原子比（Ｘ／Ａ）は＜０．０１であった。
また、試料Ｎｏ．１０１の透明導電体の導電層を削り取り、その乾固粉末を、自動試料燃焼型イオンクロマトグラフ（ダイアインスツルメンツ社製、ＡＱＦ−１００型）にて原子比（Ｘ／Ａ）を測定したところ、原子比（Ｘ／Ａ）は＜０．０１であり、上記と同じ値が得られた。
【０１３３】
＜試料Ｎｏ．１０２の作製＞
試料Ｎｏ．１０１において、純水の浸漬時間を２分間に変え、超音波洗浄を行わなかった以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０２の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０２の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、５０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０２の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．１５であった。
【０１３４】
＜試料Ｎｏ．１０３の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、純水の浸漬時間を３０秒間に変えた以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０３の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０３の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１６０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０３の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．４８であった。
【０１３５】
＜試料Ｎｏ．１０４の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、純水による浸漬、及び純水での２回リンスを行わなかった以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０４の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０４の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、２６０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０４の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．７８であった。
【０１３６】
＜試料Ｎｏ．１０５の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を４５秒間に変更した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０５の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０５の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、４２０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０５の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、１．２５であった。
【０１３７】
＜試料Ｎｏ．１０６の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、純水による浸漬中で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（１質量％）に代え、浸漬時間を１分間に変え、純水でのリンスを１回に変更した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０６の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０６の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１，２００，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０６の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、３．４であった。
【０１３８】
＜試料Ｎｏ．１０７の作製＞
試料Ｎｏ．１０２において、銀ナノワイヤー分散物（１）の代わりに銀ナノワイヤー分散物（２）を用い、塗布銀量を蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）にて測定し、０．０７ｇ／ｍ２となるように塗布量を調節し、純水の浸漬時間を３分間に変更した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０７の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０７の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、６０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０７の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．１８であった。
【０１３９】
＜試料Ｎｏ．１０８の作製＞
試料Ｎｏ．１０７において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を１分３０秒間に変更した以外は、試料Ｎｏ．１０７と同様にして、試料Ｎｏ．１０８の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０８の透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、７３０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．１０８の透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、２．２であった。
【０１４０】
＜試料Ｎｏ．１０９の作製＞
試料Ｎｏ．１０４において、乾燥後の塗布膜に、塗布用基板として使用したＰＥＴフィルムを、光学粘着剤（パナック社製、ＰＤ−Ｓ１）により、２５℃、湿度５５％ＲＨ環境下、ハンドローラ（一進産業株式会社製、Ｗ−１３０）を用いて貼り合せた以外は、試料Ｎｏ．１０４と同様にして、試料Ｎｏ．１０９の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１０９の透明導電体の導電層は、試料Ｎｏ．１０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．１０４の値を代用した。
【０１４１】
＜試料Ｎｏ．１１０の作製＞
試料Ｎｏ．１０９において、貼り合せるＰＥＴフィルムを、下記のＵＶ剤含有高分子フィルムに代えた以外は、試料Ｎｏ．１０９と同様にして、試料Ｎｏ．１１０の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１１０の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．１０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．１０４の値を代用した。
【０１４２】
＜＜ＵＶ剤含有高分子フィルムの調製＞＞
ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）５ｇに対し、下記構造式で表される化合物（１）を厚み５０μｍのフィルム作製時に極大吸収波長における吸光度が１．０となるように１５ｍｇ添加し、２６５℃で溶融混練後、冷却することでＵＶ剤含有ポリエチレンテレフタラートを得た。このＵＶ剤含有ポリエチレンテレフタラートを２８０℃で延伸することによりＵＶ剤含有高分子フィルムを作製した。
【０１４３】
−化合物（１）の調製−
１−（４，７−ジヒドロキシベンゾ［１，３］ジチオール−２−イリデン）ピペリジニウムアセテート１．６４ｇ（０．００５モル）にＮ−メチルピロリドン５ｍＬ、１，２−ジメチル−３，５−ピラゾリジンジオン０．６４ｇ（０．００５モル）を加え、これを窒素フロー条件下、１００℃で３０分間撹拌した後に冷却し、希塩酸５０ｍＬに加えて析出した固体１．６３ｇをろ別した。得られた化合物０．３１０ｇ（０．００１モル）をジメチルアセトアミド５ｍＬに溶解させた後、トリエチルアミン０．３０４ｇ（０．００３モル）を加え０℃に冷却した。その後、２−エチルヘキサノイルクロリド０．３９０ｇ（０．００２４モル）を加え、室温に戻して２時間撹拌した。酢酸エチル、希塩酸で処理後、シリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）にて単離することにより、目的生成物である化合物（１）を得た（収量０．３０ｇ、収率５３％）。
下記構造式で表される化合物（１）の酢酸エチル溶液中における極大吸収波長は３７１ｎｍであり、長波紫外線吸収能を有することが分かった。
１Ｈ ＮＭＲ（重クロロホルム）δ０．９５（６Ｈ），１．０６（６Ｈ），１．４〜１．９（１６Ｈ），２．６（２Ｈ），３．２５（６Ｈ），７．３ｐｐｍ（２Ｈ）．
ＦＡＢ ＭＳ（マトリクス：３−ニトロベンジルアルコール）ｍ／ｚ ５６３（［Ｍ＋Ｈ］＋），５６２（［Ｍ］＋，１００％）．
Ａｎａｌ．ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ２８Ｈ３８Ｎ２Ｏ６Ｓ２：Ｃ５９．７６％，Ｈ６．８１％，Ｎ４．９８％．
Ｆｏｕｎｄ：Ｃ５９．５５％，Ｈ７．１０％，Ｎ４．９０％．
【化１２】
ただし、前記式中、Ｒ１及びＲ２はメチル基、Ｒ３及びＲ６は２−エチルヘキサノイルオキシ、Ｒ４及びＲ５は水素原子をそれぞれ表す。
【０１４４】
＜試料Ｎｏ．１１１の作製＞
試料Ｎｏ．１０９において、貼り合せるＰＥＴフィルムを、下記のガスバリアフィルムに代えた以外は、試料Ｎｏ．１０９と同様にして、試料Ｎｏ．１１１の透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．１１１の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．１０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．１０４の値を代用した。
【０１４５】
−ガスバリアフィルムの作製−
プラスチックフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、ＰＥＮフィルム、ガラス転移温度（Ｔｇ）：１２０℃）上に、無機層と有機層を下記の手順にしたがって作製した。
［１］有機層製膜工程
下記のポリスチレンＡ１を２２．５ｇ秤量し、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）２７７．５ｇに溶解して、塗布液を作製した。この塗布液を、プラスチックフィルム上にバー塗布により塗布し、乾燥することにより成膜した。有機層の厚みは５００ｎｍであった。
・ポリスチレンＡ１：重量平均分子量（Ｍｗ）２３０，０００、分子量分布２．１、ガラス転移温度（Ｔｇ）９４℃、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ社製
【０１４６】
［２］加熱処理工程
製膜した有機層に対して、大気圧又は１００Ｐａの減圧下、１１０℃で２時間加熱処理を行った。
【０１４７】
［３］無機層製膜工程
加熱処理工程後、以下の手順にしたがって、リアクティブスパッタリング装置を用いて、スパッタ法により酸化アルミニウム（ＡｌＯ）の無機層を形成した。
リアクティブスパッタリング装置の真空チャンバーを、油回転ポンプとターボ分子ポンプとで到達圧力５×１０−４Ｐａまで減圧した。次に、プラズマガスとしてアルゴンを導入し、プラズマ電源から電力２，０００Ｗを印加した。チャンバー内に高純度の酸素ガスを導入し、成膜圧力を０．３Ｐａになるように調整して一定時間成膜し、膜厚４０ｎｍの酸化アルミニウム（ＡｌＯ）の無機層を形成した。
【０１４８】
次に、作製した試料Ｎｏ．１０１〜Ｎｏ．１１１の透明導電体について、以下のようにして、諸特性を評価した。結果を表２に示す。
【０１４９】
＜透過率、及びヘイズの測定＞
得られた各透明導電体の導電層について、ガードナー社製ヘイズガードプラスを用い、全光線透過率、及びヘイズを測定した。
【０１５０】
＜表面抵抗の測定＞
得られた各透明導電体の導電層について、表面抵抗計（三菱化学株式会社製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）を用い、表面抵抗を測定した。
また、張り合わせを行ったサンプルにおいては、非接触表面抵抗計（ＤＥＬＣＯＭ社製、７１７Ｂ（Ｈ））を用いて、表面抵抗を測定した。
【０１５１】
＜耐光性の評価＞
得られた各透明導電体について、耐光性加速試験前後の表面抵抗（導電性）を、上記表面抵抗の測定に従い測定し、その比（試験後表面抵抗／試験前表面抵抗＝Ｍ１／Ｍ０）で耐光性の評価を行った。耐光性加速試験はキセノンウェザメーター（スガ試験機株式会社製）で１８０Ｗ／ｍ２、バックプレート温度６０℃、２５％ＲＨに設定し、７２時間行った。評価基準は、以下の通りである。なお、耐光性は数字が大きいほど優れていることを示す。
〔評価基準〕
「１」：Ｍ１／Ｍ０が、０．５未満、又は、５以上で、導電性の変化が著しく、実用上問題あるレベルである
「２」：Ｍ１／Ｍ０が、０．５以上０．６５未満、又は、１．３以上５未満で、導電性が変化し、実用上問題あるレベルである
「３」：Ｍ１／Ｍ０が、０．６５以上０．７５未満、又は、１．２以上１．３未満で、導電性の変化が確認できるが、実用上問題ないレベルである
「４」：Ｍ１／Ｍ０が、０．７５以上０．９未満、又は、１．１以上１．２未満で、導電性の変化が確認できるが、実用上問題ないレベルである
「５」：Ｍ１／Ｍ０が、０．９以上１．１未満で、導電性の変化がほぼ確認できず、実用上問題ないレベルである
【０１５２】
【表２−１】
＊試料Ｎｏ．１０１では、超音波洗浄によりハロゲン含有量が少なくなるが、銀ナノワイヤーが劣化して導電膜の表面抵抗が上がってしまった。
【表２−２】
＊試料Ｎｏ．１０１は、超音波処理により銀ナノワイヤーが切断されてしまい、接点数が減少しているため、耐久性が低下した。
【０１５３】
（実施例２）
−パターン状透明導電体の作製−
以下に示すようにして、表３に示す試料Ｎｏ．２０１〜Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体を作製した。また、各々表面抵抗、光透過率、ヘイズ評価用に、同じ処理工程を通るが、パターンを施さない箇所を作製した。
【０１５４】
＜試料Ｎｏ．２０１の作製＞
前記銀ナノワイヤー分散物（１）と、下記のネガ型フォトレジストとの含有質量比（銀ナノワイヤー／ネガ型フォトレジストの固形分）が１／１となるように混合させて、導電性組成物（１）を調製した。
【０１５５】
＜＜ネガ型フォトレジストの調製＞＞
−バインダー（Ａ−１）の合成−
共重合体を構成するモノマー成分として、メタクリル酸（ＭＡＡ）７．７９ｇ、ベンジルメタクリレート（ＢｚＭＡ）３７．２１ｇを使用し、ラジカル重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．５ｇを使用し、これらを溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）５５．００ｇ中において重合反応させることにより、下記式で表されるバインダー（Ａ−１）のＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：４５質量％）を得た。なお、重合温度は、温度６０℃乃至１００℃に調整した。
分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィ法（ＧＰＣ）を用いて測定した結果、ポリスチレン換算による重量平均分子量（Ｍｗ）は３０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．２１であった。
【化１３】
−ネガ型フォトレジストの調製−
前記バインダー（Ａ−１）３．８０質量部（固形分４０．０質量％、ＰＧＭＥＡ溶液）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）１．５９質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）０．１５９質量部、ＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学株式会社製）０．１５０質量部、メガファックＦ７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）０．００２質量部、及びＰＧＭＥＡ １９．３質量部を加え、攪拌し、最終銀濃度が１．０質量％となるように、前記銀ナノワイヤー分散物（１）と混合し、ネガ型フォトレジスト組成物を調製した。
【０１５６】
次に、市販の二軸延伸熱固定済の厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体の表面にドクターコーターを用いて、前記ネガ型フォトレジスト組成物を塗布し、乾燥させることで、導電層を形成した。銀ナノワイヤー塗布量を蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）にて測定したところ、０．０６ｇ／ｍ２であった。
【０１５７】
−パターニング処理−
作製した導電層について、以下の方法により、ラインアンドスペース(以下、Ｌ／Ｓという)＝１００μｍ／２０μｍのストライプ状パターニング処理を行った。以上により、試料Ｎｏ．２０１のパターン状透明導電体を作製した。
−パターニング条件−
マスク上から、高圧水銀灯ｉ線（３６５ｎｍ）を１００ｍＪ／ｃｍ２（照度２０ｍＷ／ｃｍ２）露光を行った。露光後の基板を、純水５，０００ｇに炭酸水素ナトリウム５ｇと炭酸ナトリウム２．５ｇを溶解した現像液でシャワー現像３０秒間を行った。シャワー圧は０．０４ＭＰａ、ストライプパターンが出現するまでの時間は１５秒間であった。
次に、作製したパターン状透明導電体を、２５℃の純水のシャワーで１分間リンスした後、２５℃の純水中に５分間浸漬し、更に試料Ｎｏ．１０１と同様にして超音波処理を２分間行い、純水にて２回のリンスを行った。
【０１５８】
作製した試料Ｎｏ．２０１のパターン状透明導電体の導電層（導電膜）について、実施例１と同様の測定法により、ハロゲン元素の含有量を測定したところ、２，９００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０１のパターン状透明導電体について、導電層中の銀ナノワイヤーを構成する銀の含有量Ａと、導電層中のハロゲン元素のＸとの原子比（Ｘ／Ａ）を、実施例１と同様の方法により求めたところ、原子比（Ｘ／Ａ）が＜０．０１であった。
【０１５９】
＜試料Ｎｏ．２０２の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水での浸漬時間を２分間に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０２のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０２のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、４７，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０２のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．１４であった。
【０１６０】
＜試料Ｎｏ．２０３の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水での浸漬時間を３０秒に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０３のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０３のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１６０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０３のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．４６であった。
【０１６１】
＜試料Ｎｏ．２０４の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水による浸漬、及び純水による２回リンスを行わなかった以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０４のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０４のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、２８０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０４のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．８５であった。
【０１６２】
＜試料Ｎｏ．２０５の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を４５秒に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０５のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０５のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、４２０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０５のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、１．２７であった。
【０１６３】
＜試料Ｎｏ．２０６の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を１分３０秒に変更し、リンスを１回に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０６のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０６のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１，０２０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０６のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、３．１であった。
【０１６４】
＜試料Ｎｏ．２０７の作製＞
試料Ｎｏ．２０１において、銀ナノワイヤー分散物（１）の代わりに銀ナノワイヤー分散物（２）を用い、塗布銀量を蛍光Ｘ線分析装置（ＳＩＩ社製、ＳＥＡ１１００）にて測定し、０．０７ｇ／ｍ２となるように塗布量を調節し、純水の浸漬時間を８分に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、試料Ｎｏ．２０７のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０７のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、５３，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０７のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．１６であった。
【０１６５】
＜試料Ｎｏ．２０８の作製＞
試料Ｎｏ．２０７において、純水による浸漬で、純水を、塩化カリウム、臭化カリウム、及びヨウ化カリウムの混合水溶液（０．１質量％）に代え、浸漬時間を２分３０秒に変更し、純水でのリンスを１回に変更した以外は、試料Ｎｏ．２０７と同様にして、試料Ｎｏ．２０８のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０８のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、６３０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２０８のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、１．９であった。
【０１６６】
＜試料Ｎｏ．２０９の作製＞
試料Ｎｏ．２０４において、パターン形成後の膜に、塗布用基板として使用したＰＥＴを、光学粘着剤（パナック社製、ＰＤ−Ｓ１）により、２５℃、湿度５５％ＲＨ環境下、ハンドローラ（一進産業株式会社製、Ｗ−１３０）を用いて貼り合わせた以外は、試料Ｎｏ．２０４と同様にして、試料Ｎｏ．２０９のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２０９の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．２０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．２０４の値を代用した。
【０１６７】
＜試料Ｎｏ．２１０の作製＞
試料Ｎｏ．２０９において、貼り合せるＰＥＴフィルムを、試料Ｎｏ．１１０で作製したＵＶ剤含有高分子フィルムに代えた以外は、試料Ｎｏ．２０９と同様にして、試料Ｎｏ．２１０のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２１０の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．２０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．２０４の値を代用した。
【０１６８】
＜試料Ｎｏ．２１１の作製＞
試料Ｎｏ．２０９において、貼り合せるＰＥＴフィルムを、試料Ｎｏ．１１１で作製したガスバリアフィルムに代えた以外は、試料Ｎｏ．２０９と同様にして、試料Ｎｏ．２１１のパターン状透明導電体を作製した。
得られた試料Ｎｏ．２１１の透明導電体の導電層は試料Ｎｏ．２０４と同等であるため、ハロゲン元素の含有量、及び原子比（Ｘ／Ａ）は試料Ｎｏ．２０４の値を代用した。
【０１６９】
＜試料Ｎｏ．２１２の作製＞
試料Ｎｏ．１０４で作製した導電膜を用いて、以下のスクリーン印刷法により、パターニング処理を行い、試料Ｎｏ．２１２のパターン状透明導電体を作製した。
−スクリーン印刷法−
スクリーン印刷は、ミノグループ社製ＷＨＴ−３型とスキージＮｏ．４イエローを使用した。溶解液は、ＣＰ−４８Ｓ−Ａ液と、ＣＰ−４８Ｓ−Ｂ液と（いずれも、富士フイルム株式会社製）、純水とを、質量比で１：１：１となるように混合し、アロンＡ−２０Ｌ（東亞合成株式会社製）により増粘させ、溶解液とした。
銀ナノワイヤーを溶解する溶解液の粘度は、２５℃で、３１，０００ｍＰａ・ｓであった。なお、粘度の測定は、ブルックフィールド粘度計により行った。
【０１７０】
得られた試料Ｎｏ．２１２のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１９５，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２１２のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．５８であった。
【０１７１】
＜試料Ｎｏ．２１３の作製＞
試料Ｎｏ．１０４で作製した導電膜を用いて、以下のインクジェット法により、パターニング処理を行い、試料Ｎｏ．２１３のパターン状透明導電体を作製した。
−インクジェット法−
インクジェット法は、富士フイルム株式会社製マテリアルプリンターＤＭＰ−２８３１を用いて行った。溶解液は、ＣＰ−４８Ｓ−Ａ液と、ＣＰ−４８Ｓ−Ｂ液（いずれも、富士フイルム株式会社製）と、純水とを質量比で１：１：６となるように混合し、アロンＡ−２０Ｌ（東亞合成株式会社製）により増粘させ、溶解液を作製した。
銀ナノワイヤーを溶解する溶解液の粘度は、２５℃で、１０ｍＰａ・ｓであった。なお、粘度の測定は、ブルックフィールド粘度計により行った。
【０１７２】
得られた試料Ｎｏ．２１３のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、２１０，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２１３のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．６２であった。
【０１７３】
＜試料Ｎｏ．２１４の作製＞
試料Ｎｏ．１０４で作製した導電膜を用いて、以下のレジストエッチング法により、パターニング処理を行い、試料Ｎｏ．２１４のパターン状透明導電体を作製した。
−レジストエッチング法−
試料Ｎｏ．１０４と同様にして作製した導電膜上に、Ｎｏ．２０１で作製したネガ型フォトレジスト液を用いた以外は、同様にして、フォトレジストパターン膜を形成した。
溶解液は、ＣＰ−４８Ｓ−Ａ液と、ＣＰ−４８Ｓ−Ｂ液（いずれも、富士フイルム株式会社製）と、純水とを、質量比で１：１：６となるように混合し、アロンＡ−２０Ｌ（東亞合成株式会社製）により増粘させて、作製した。
銀ナノワイヤーを溶解する溶解液の粘度は、２５℃で、１０ｍＰａ・ｓであった。なお、粘度の測定は、ブルックフィールド粘度計により行った。
次に、作製した導電膜上にフォトレジストパターン膜がある状態で、２５℃の溶解液槽へ１分間浸漬した。その後、２分間純水にて溶解液成分を洗浄した。更に、１０質量％水酸化カリウム溶液に浸漬させて、フォトレジストを除去し、試料Ｎｏ．２１４のパターン状導電膜を得た。
【０１７４】
得られた試料Ｎｏ．２１４のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、１８６，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２１４のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．５６であった。
【０１７５】
＜試料Ｎｏ．２１５の作製＞
試料Ｎｏ．２１４において、ネガ型フォトレジストの代わりに、富士フイルム株式会社製トランサーフイルム黒（ブラックマトリックス用）を用いた以外は、試料Ｎｏ．２１４同様にして、試料Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体を得た。
得られた試料Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体の導電層について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、測定したハロゲン元素の含有量は、２００，０００質量ｐｐｍであった。
また、得られた試料Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．２０１と同様にして、求めた原子比（Ｘ／Ａ）は、０．５９であった。
【０１７６】
次に、作製した試料Ｎｏ．２０１〜Ｎｏ．２１５のパターン状透明導電体について、試料Ｎｏ．１０１〜Ｎｏ．１１１と同様にして、諸特性を評価した。更に、以下のようにして、絶縁性、及び解像度の評価を行った。結果を表３に示す。
【０１７７】
＜絶縁性（耐マイグレーション性）＞
得られた各透明導電体について、パターニング箇所における非導電部の表面抵抗を、抵抗器（三菱化学株式会社製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて測定した。実際の測定は、プローブ先端部に銅線を付け、パターン細部においても表面抵抗が測定可能となるよう装置を改造して測定を行った。評価基準は、以下の通りである。なお、解像度は数字が大きいほど優れていることを示す。
〔評価基準〕
「１」：表面抵抗が１０４未満で、非導電部として作製した箇所の導電性が高く、実用上問題あるレベルである
「２」：表面抵抗が１０４Ω／□以上、１０５Ω／□未満で、非導電部として作製した箇所の導電性が高く、実用上問題あるレベルである
「３」：表面抵抗が１０５Ω／□以上、１０６Ω／□未満で、非導電部として作製した箇所の導電性が確認できるが、実用上問題ないレベルである
「４」：表面抵抗が１０６Ω／□以上、１０７Ω／□未満で、非導電部として作製した箇所の導電性が確認できるが、実用上問題ないレベルである
「５」：表面抵抗が１０７Ω／□以上（装置上Ｏ．Ｌ．と表示）で、非導電部として作製した箇所の導電性がほぼ確認できず、実用上問題ないレベルである
【０１７８】
＜解像度の評価＞
得られた各透明導電体と同様の方法により、Ｌ（ライン）／Ｓ（スペース）＝１００μｍ／３０μｍのパターンを作製し、パターニング箇所における導電部の太さを、光学顕微鏡にて観察した。評価基準は、以下の通りである。なお、解像度は、数字が大きいほど優れていることを示す。
〔評価基準〕
「１」：導電部が６０μｍ未満、又は１１５μｍ以上（実質隣接ラインと区別がつかない）で、実用上問題あるレベルである
「２」：導電部が７０μｍ未満、又は１１２μｍ以上で、実用上問題あるレベルである
「３」：導電部が８０μｍ未満、又は１１０μｍ以上で、実用上問題ないレベルである
「４」：導電部が９０μｍ未満、又は１０８μｍ以上で、実用上問題ないレベルである
「５」：導電部が９４μｍ未満、又は１０６μｍ以上で、実用上問題ないレベルである
【０１７９】
【表３−１】
【表３−２】
＊試料Ｎｏ．２０１は、超音波処理により銀ナノワイヤーが切断されてしまい、接点数が減少しているため、表面抵抗が上がり、耐久性が低下した。
【０１８０】
（実施例３）
−タッチパネルの作製−
試料Ｎｏ．２０２のパターン状透明導電体を用いて、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行、株式会社テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４年１２月発行）、ＦＰＤ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ２００９ Ｆｏｒｕｍ Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ アプリケーションノートＡＮ２２９２等に記載の方法により、タッチパネルを作製した。
作製したタッチパネルを使用した場合、透過率の向上により視認性に優れ、かつ導電性の向上により素手、手袋を嵌めた手、指示具のうち少なくとも一つによる文字等の入力又は画面操作に対し応答性に優れるタッチパネルを製作できることが分かった。なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサ及びタッチパッドを含むものとする。
【０１８１】
（実施例４）
＜集積型太陽電池の作製＞
−アモルファス太陽電池（スーパーストレート型）の作製−
ガラス基板上に、試料Ｎｏ．１０２の透明導電体を形成した。該透明導電体の上部にプラズマＣＶＤ法により厚みが１５ｎｍのｐ型、前記ｐ型の上部に厚みが３５０ｎｍのｉ型、前記ｉ型の上部に厚みが３０ｎｍのｎ型アモルファスシリコンを形成した。前記ｎ型アモルファスシリコンの上部に裏面反射電極として厚み２０ｎｍのガリウム添加酸化亜鉛層、該ガリウム添加酸化亜鉛層の上部に厚み２００ｎｍの銀層を形成し、光電変換素子を作製した。
【０１８２】
（実施例５）
＜集積型太陽電池の作製＞
−ＣＩＧＳ太陽電池（サブストレート型）の作製−
ガラス基板上に、直流マグネトロンスパッタ法により厚みが５００ｎｍ程度のモリブデン電極、前記電極の上部に真空蒸着法により厚みが２．５μｍのカルコパイライト系半導体材料であるＣｕ（Ｉｎ０．６Ｇａ０．４）Ｓｅ２薄膜、前記Ｃｕ（Ｉｎ０．６Ｇａ０．４）Ｓｅ２薄膜の上部に溶液析出法により厚みが５０ｎｍの硫化カドミニウム薄膜を形成した。前記硫化カドミニウム薄膜の上部に、試料Ｎｏ．１０２の透明導電体を形成し、光電変換素子を作製した。
【０１８３】
＜太陽電池特性（変換効率）の評価＞
作製した実施例４及び５の太陽電池について、ＡＭ１．５、１００ｍＷ／ｃｍ２の疑似太陽光を照射することで太陽電池特性（変換効率）を測定した。結果を表４に示す。
【０１８４】
【表４】
【産業上の利用可能性】
【０１８５】
本発明の導電膜は、長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有し、耐光性及び耐マイグレーション性が向上しているので、例えば、タッチパネル、ディスプレイ用帯電防止膜、電磁波シールド、有機ＥＬ又は無機ＥＬディスプレイ用電極、電子ペーパー用電極、フレキシブルディスプレイ用電極、フレキシブルディスプレイ用帯電防止膜、太陽電池用電極、その他の各種デバイスなどに幅広く利用可能である。
【符号の説明】
【０１８６】
１０、２０、３０ タッチパネル
１１、２１、３１ 透明基板
１２、１３、２２、２３、３２、３３ 透明導電体
２４ 絶縁層
２５ 絶縁カバー層
１４、１７ 保護膜
１５ 中間保護膜
１６ グレア防止膜
１８ 電極端子
３４ 空気層
３５ 透明フィルム
３６ スペーサ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性繊維を含有する導電膜であって、
前記導電膜中の前記導電性繊維を構成する元素の含有量Ａと、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）が、次式、０．０１＜Ｘ／Ａ＜０．９を満たすことを特徴とする導電膜。
【請求項２】
０．１≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす請求項１に記載の導電膜。
【請求項３】
０．４≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす請求項１から２のいずれかに記載の導電膜。
【請求項４】
導電膜中のハロゲン元素の含有量が４００，０００質量ｐｐｍ以下である請求項１から３のいずれかに記載の導電膜。
【請求項５】
導電膜中のハロゲン元素の含有量が４，０００質量ｐｐｍ〜３００，０００質量ｐｐｍである請求項４に記載の導電膜。
【請求項６】
表面抵抗が５００Ω／□以下である請求項１から５のいずれかに記載の導電膜。
【請求項７】
導電性繊維が、金属ナノワイヤーである請求項１から６のいずれかに記載の導電膜。
【請求項８】
金属ナノワイヤーが、銀、及び銀と銀以外の金属との合金のいずれかからなる請求項７に記載の導電膜。
【請求項９】
導電性繊維の平均短軸長さが５０ｎｍ以下であり、かつ平均長軸長さが１μｍ以上である請求項１から８のいずれかに記載の導電膜。
【請求項１０】
導電性繊維の含有量が、０．００５ｇ／ｍ２〜０．５ｇ／ｍ２である請求項１から９のいずれかに記載の導電膜。
【請求項１１】
更にポリマーを含有し、導電性繊維の含有量（Ａ）と、前記ポリマーの含有量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）が、０．２〜３である請求項１から１０のいずれかに記載の導電膜。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載の導電膜を用いたタッチパネル。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれかに記載の導電膜を用いた太陽電池。
【請求項１】
導電性繊維を含有する導電膜であって、
前記導電膜中の前記導電性繊維を構成する元素の含有量Ａと、前記導電膜中のハロゲン元素の含有量Ｘとの原子比（Ｘ／Ａ）が、次式、０．０１＜Ｘ／Ａ＜０．９を満たすことを特徴とする導電膜。
【請求項２】
０．１≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす請求項１に記載の導電膜。
【請求項３】
０．４≦Ｘ／Ａ＜０．９を満たす請求項１から２のいずれかに記載の導電膜。
【請求項４】
導電膜中のハロゲン元素の含有量が４００，０００質量ｐｐｍ以下である請求項１から３のいずれかに記載の導電膜。
【請求項５】
導電膜中のハロゲン元素の含有量が４，０００質量ｐｐｍ〜３００，０００質量ｐｐｍである請求項４に記載の導電膜。
【請求項６】
表面抵抗が５００Ω／□以下である請求項１から５のいずれかに記載の導電膜。
【請求項７】
導電性繊維が、金属ナノワイヤーである請求項１から６のいずれかに記載の導電膜。
【請求項８】
金属ナノワイヤーが、銀、及び銀と銀以外の金属との合金のいずれかからなる請求項７に記載の導電膜。
【請求項９】
導電性繊維の平均短軸長さが５０ｎｍ以下であり、かつ平均長軸長さが１μｍ以上である請求項１から８のいずれかに記載の導電膜。
【請求項１０】
導電性繊維の含有量が、０．００５ｇ／ｍ２〜０．５ｇ／ｍ２である請求項１から９のいずれかに記載の導電膜。
【請求項１１】
更にポリマーを含有し、導電性繊維の含有量（Ａ）と、前記ポリマーの含有量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）が、０．２〜３である請求項１から１０のいずれかに記載の導電膜。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載の導電膜を用いたタッチパネル。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれかに記載の導電膜を用いた太陽電池。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１２−２３０８８１（Ｐ２０１２−２３０８８１Ａ）
【公開日】平成２４年１１月２２日（２０１２．１１．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１３７４５４（Ｐ２０１１−１３７４５４）
【出願日】平成２３年６月２１日（２０１１．６．２１）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月２２日（２０１２．１１．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年６月２１日（２０１１．６．２１）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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