情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
【課題】耐候性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の提供。
【解決手段】アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、β‐ＯＨ値が０．２０ｍｍ−１以上である情報記録媒体用ガラス基板。アルカリアルミノシリケート系ガラスが下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を６４〜６７％、Ａｌ２Ｏ３を８〜１０％、Ｌｉ２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ２Ｏを９〜１２％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ２を２〜４％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が２１〜２５％である前記情報記録媒体用ガラス基板。
【解決手段】アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、β‐ＯＨ値が０．２０ｍｍ−１以上である情報記録媒体用ガラス基板。アルカリアルミノシリケート系ガラスが下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を６４〜６７％、Ａｌ２Ｏ３を８〜１０％、Ｌｉ２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ２Ｏを９〜１２％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ２を２〜４％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が２１〜２５％である前記情報記録媒体用ガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク（ハードディスク）など情報記録媒体に用いられるガラス基板および磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
情報記録媒体用基板、特に磁気ディスク用基板としてガラス基板が広く用いられており、たとえば質量％で、４７〜６０％のＳｉＯ２、８〜２０％のＡｌ２Ｏ３、２〜８％のＮａ２Ｏ、１〜１５％のＫ２Ｏ、１〜６％のＴｉＯ２、１〜５％のＺｒＯ２、などを含有するガラスが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２００８／１１７７５８号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
磁気ディスク用ガラス基板としては、膨張係数やヤング率などが適切なものであることが求められる他に、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくならないこと、すなわち耐候性が求められる。
本発明は耐候性が改善された磁気ディスク用ガラス基板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、β‐ＯＨ値が０．２０ｍｍ−１以上である情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
また、アルカリアルミノシリケート系ガラスのアルカリ金属酸化物含有量が１５〜２６モル％である前記情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【０００６】
また、アルカリアルミノシリケート系ガラスが下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を６４〜６７％、Ａｌ２Ｏ３を８〜１０％、Ｌｉ２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ２Ｏを９〜１２％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ２を２〜４％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が２１〜２５％である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。なお、たとえばＫ２Ｏを０〜２％含有するとは、Ｋ２Ｏは必須ではないが２％以下の範囲で含有してもよい、の意である。
【０００７】
また、前記情報記録媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスクを提供する。
情報記録媒体用ガラス基板の耐候性は主にそのガラスの組成によって支配されるが、本発明者は同一のガラス組成であってもβ‐ＯＨ値を高めることによって耐候性が向上することを見出し、本発明に至った。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれにくくなる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板（以下、本発明のガラス基板という。）のガラス（以下、本発明のガラスという。）の密度ｄは２．６０ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましい。２．６０ｇ／ｃｍ３超ではドライブ回転時にモーター負荷がかかって消費電力が大きくなる、またはドライブ回転が不安定になるおそれがある。好ましくは２．５４ｇ／ｃｍ３以下である。
【００１０】
本発明のガラスはヤング率Ｅが７６ＧＰａ以上であることが好ましい。７６ＧＰａ未満であるとドライブ回転中に反りやたわみが発生しやすく、高記録密度の情報記録媒体を得ることが困難になるおそれがある。Ｅは７７ＧＰａ以上であることがより好ましい。
【００１１】
本発明のガラスは比弾性率Ｅ／ｄが２８ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが好ましい。Ｅ／ｄが２８ＭＮｍ／ｋｇ未満であるとドライブ回転中に反りやたわみが発生しやすく、高記録密度の情報記録媒体を得ることが困難になるおそれがある。Ｅ／ｄは３０ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより好ましい。
【００１２】
本発明のガラスのガラス転移点Ｔｇは４５０℃以上であることが好ましい。４５０℃未満では磁性層形成熱処理温度を充分高くすることができず、磁性層の保磁力増加が困難になるおそれがある。より好ましくは４６０℃以上である。
【００１３】
本発明のガラスの−５０〜７０℃における平均線膨張係数αは５６×１０−７／℃以上であることが好ましい。５６×１０−７／℃未満では、金属製のドライブなど他の部材の熱膨張係数との差が大きくなり、温度変動時の応力発生による基板の割れなどが起こりやすくなるおそれがある。より好ましくは５８×１０−７／℃以上である。αは典型的には１００×１０−７／℃以下である。
【００１４】
本発明のガラス基板のβ‐ＯＨ値は、耐候性を向上させるために０．２０ｍｍ−１以上とされる。０．２０ｍｍ−１未満では耐候性向上効果を得にくくなる。β‐ＯＨ値は好ましくは０．２４ｍｍ−１以上であるが、０．３０ｍｍ−１以上であればこの効果がより顕著になる。β‐ＯＨ値は典型的には０．３４ｍｍ−１以上である。
【００１５】
なお、本発明でいうβ‐ＯＨ値とはガラス中の水酸基含有量の尺度であり、ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光法）により測定される透過率をもとに次式により算出される。
β‐ＯＨ値＝（１／Ｘ）ｌｏｇ１０（Ｔ１／Ｔ２）。
ここで、Ｘはサンプルの厚さ（ｍｍ）、Ｔ１は参照波数４０００ｃｍ−１における透過率（％）、Ｔ２は水酸基吸収波数３５００ｃｍ−１付近（３３００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲）における透過率の最小値（％）である。
β‐ＯＨ値が高いほどガラス中の水酸基含有量が高い。
【００１６】
次に、本発明のガラスについてモル百分率表示含有量を用いて説明する。
本発明のガラスはアルカリアルミノシリケート系ガラスであり、典型的には、ＳｉＯ２含有量は６１〜７１％、Ａｌ２Ｏ３は含有量は７〜１７％、アルカリ金属酸化物含有量は１５〜２６％である。
【００１７】
ＳｉＯ２が６１％未満では、耐酸性が低下する、ｄが大きくなる、または液相温度が上昇しガラスが不安定になる。７１％超では、粘度が１０２ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ２および粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはαが小さくなる。
Ａｌ２Ｏ３が７％未満では耐候性が低下する、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはＴｇが低くなる。１７％超では耐酸性が低下する、Ｔ２およびＴ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、αが小さくなる、または液相温度が高くなりすぎる。
【００１８】
アルカリ金属酸化物としてはＬｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯまたはＫ２Ｏが一般的であるが、アルカリ金属酸化物含有量の合計が１５％未満ではαが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下する。２６％超では耐候性が低下する。
【００１９】
Ｌｉ２Ｏが６〜１６％、Ｎａ２Ｏが２〜１３％、Ｋ２Ｏが０〜８％であることが好ましい。
Ｌｉ２Ｏが６％未満ではαが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下するおそれがある。１６％超では耐候性またはＴｇが低下するおそれがある。
Ｎａ２Ｏが２％未満ではαが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下するおそれがある。１３％超では耐候性またはＴｇが低下するおそれがある。
Ｋ２Ｏは必須ではないが、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために８％まで含有してもよい。８％超では耐候性が低下する、またはＥもしくはＥ／ｄが低下するおそれがある。
【００２０】
このアルカリアルミノシリケート系ガラスはＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、アルカリ金属酸化物以外の成分を情報記録媒体用基板としての特性を損なわない範囲で含有してもよいが、そのような成分の含有量は合計で８％以下であることが典型的である。
【００２１】
本発明のガラスの好ましい態様の一つとして、ＳｉＯ２を６４〜６７％、Ａｌ２Ｏ３を８〜１０％、Ｌｉ２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ２Ｏを９〜１２％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ２を２〜４％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが２１〜２５％であるものが挙げられる（このガラスを以下、本発明のガラスＡという）。
【００２２】
次に、本発明のガラスＡの組成について説明する。
ＳｉＯ２はガラスの骨格を形成する成分であり、必須である。６４％未満では、耐酸性が低下する、ｄが大きくなる、または液相温度が上昇しガラスが不安定になる。６７％超では、Ｔ２およびＴ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはαが小さくなる。
【００２３】
Ａｌ２Ｏ３は耐候性を高める効果を有し、必須である。８％未満では前記効果が小さい、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはＴｇが低くなる。１０％超では耐酸性が低下する、Ｔ２およびＴ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、αが小さくなる、または液相温度が高くなりすぎる。
【００２４】
Ｌｉ２Ｏは、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、必須である。１０％未満では前記効果が小さい。１３％超では、耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。
【００２５】
Ｎａ２Ｏは、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、必須である。９％未満では前記効果が小さい。１２％超では、耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。
【００２６】
Ｋ２Ｏは必須ではないが、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり２％まで含有してもよい。２％超では耐候性が低下する、またはＥもしくはＥ／ｄが低下する。Ｋ２Ｏを含有する場合その含有量は、好ましくは０．１％以上である。
【００２７】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ（以下、Ｒ２Ｏと記す。）が２１％未満では、αが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下する。Ｒ２Ｏが２５％超では耐候性が低下する。
【００２８】
ＺｒＯ２は、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはＴｇを高くする、耐候性を高くする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があるため、必須である。２％未満では前記効果が小さい。４％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。
【００２９】
本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合、当該他の成分の含有量の合計は好ましくは２％以下、より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。
以下、上記成分以外の成分について例示的に説明する。
【００３０】
ＭｇＯは必須ではないが、耐候性を維持したままＥ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、ガラスを傷つきにくくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、２％まで含有してもよい。２％超では液相温度が高くなりすぎる。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＭｇＯを含有しない。
【００３１】
ＣａＯは必須ではないが、耐候性を維持したままαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、２％まで含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、Ｅが低下する、または液相温度が高くなり過ぎるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＣａＯを含有しない。
【００３２】
ＳｒＯはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、またはガラスに傷つきやすくなるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＳｒＯを含有しない。
ＢａＯはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、またはガラスに傷つきやすくなるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＢａＯを含有しない。
【００３３】
ＴｉＯ２は、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはＴｇを高くする、耐候性を高くするなどを目的として、２％未満の範囲で含有してもよい。２％以上ではＴＬが高くなりすぎるおそれがある、または分相現象が起りやすくなるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＴｉＯ２を含有しない。
【００３４】
Ｂ２Ｏ３は、ＥもしくはＥ／ｄを大きくする、耐候性を高くする、ガラスの溶解性を向上させるなどを目的として、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超では分相現象が起こりやすくなる。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＢ２Ｏ３を含有しない。
【００３５】
Ｌａ２Ｏ３は耐候性を維持したままＥを向上させるなどを目的として含有してもよいが、その場合２％以下であることが好ましい。２％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＬａ２Ｏ３を含有しない。
【００３６】
Ｎｂ２Ｏ５は耐候性を維持したままＥを向上させるなどを目的として含有してもよいが、その場合２％以下であることが好ましい。２％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＮｂ２Ｏ５を含有しない。
【００３７】
ＲＥ２Ｏ３すなわち、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕからなる群から選ばれる１種以上の希土類の酸化物を合計で１％未満まで含有してもよい。
【００３８】
ＳＯ３、Ｃｌ、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２等の清澄剤を合計で２％まで含有してもよい。
Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ３Ｏ４、ＮｉＯなどの着色剤を合計で２％まで含有してもよい。
【００３９】
本発明のガラスの別の好ましい態様として、ＳｉＯ２を６４〜６９％、Ａｌ２Ｏ３を９〜１１％、ＬｉＯ２を６〜９％、Ｎａ２Ｏを９〜１３％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＭｇＯを０〜４％、ＣａＯを１〜５％、ＺｒＯ２を０〜２％含有し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１６〜２０％であるもの、ＳｉＯ２を６６〜７１％、Ａｌ２Ｏ３を７〜９％、Ｂ２Ｏ３を０〜３％、ＬｉＯ２を１２〜１６％、Ｎａ２Ｏを２〜５％、Ｋ２Ｏを０〜３％、ＭｇＯを０〜５％、ＴｉＯ２を０〜３％、ＺｒＯ２を０〜２％、Ｌａ２Ｏ３を０〜２％、Ｎｂ２Ｏ５を０〜２％含有し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１６〜２１％であるもの、ＳｉＯ２を６１〜６６％、Ａｌ２Ｏ３を１１．５〜１７％、Ｌｉ２Ｏを８〜１６％、Ｎａ２Ｏを２〜８％、Ｋ２Ｏを２．５〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＴｉＯ２を０〜４％、ＺｒＯ２を０〜３％含有し、Ａｌ２Ｏ３＋ＭｇＯ＋ＴｉＯ２が１２％以上、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１６〜２３％であり、Ｂ２Ｏ３を含有する場合その含有量が１％未満であるもの、などが挙げられる。
【００４０】
本発明のガラス基板は通常は円形のガラス板である。
【００４１】
本発明のガラス基板の耐候性は、１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気下に２０時間保持した時そのガラス表面に析出しているＬｉ量、Ｎａ量、Ｋ量をそれぞれＣＬｉ、ＣＮａ、ＣＫとしてＣＲ＝ＣＬｉ＋ＣＮａ＋ＣＫによって評価される。
【００４２】
本発明のガラスが前記ガラスＡである場合本発明のガラス基板のＣＲは８．３ｎｍｏｌ／ｃｍ２以下であることが好ましい。ＣＲが８．３ｎｍｏｌ／ｃｍ２超では、基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくなる。
【００４３】
本発明のガラス基板は典型的には磁気ディスク用ガラス基板として用いられる。
磁気ディスク用ガラス基板はノートブックパソコン等に用いられる２．５インチ基板（ガラス基板外径：６５ｍｍ）やポータブルＭＰ３プレーヤなどに用いられる１．８インチ基板（ガラス基板外径：４８ｍｍ）などに広く使用され、その市場は年々拡大しており、一方で低価格での供給が求められている。このようなガラス基板に使用されるガラスは、大量生産に適したものであることが好ましい。
板ガラスの大量生産はフロート法、フュージョン法、ダウンドロー法などの連続成形法により広く行われており、本発明のガラスはたとえばフロート成形が可能なガラスを含むので大量生産に好適である。
【００４４】
本発明のガラス基板を製造するための溶解方法はたとえば次のようなものである。すなわち、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化する。
【００４５】
溶解に際しては、ガラスのβ‐ＯＨ値が高くなる方法を用いる。たとえば、原料中の水分量を多くする、溶解雰囲気中の水蒸気濃度を高くする、溶解温度を高くする、溶解時間を長くする。原料中の水分量を多くする場合、たとえば水酸化物を原料として用いることが効果的である。溶解雰囲気中の水蒸気濃度を高くする場合、バーナー加熱によってガラスを溶融するのであれば酸素燃焼方式を採用することが効果的である。また、電気溶融方式は用いないことが好ましい。
【００４６】
本発明のガラス基板を製造するための成形・加工方法は特に限定されず、周知のフュージョン法等のダウンドロー法、フロート法、プレス法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適である。また、フロート法以外の連続成形法、すなわち、フュージョン法、ダウンドロー法にも好適である。
【実施例】
【００４７】
各成分の原料を、モル％表示でＳｉＯ２ ６５．７％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５％、Ｌｉ２Ｏ １２．４％、Ｎａ２Ｏ １０．９％、ＺｒＯ２ ２．５％である組成Ｂのガラスが得られるように調合し、白金るつぼを用いて１５７０℃の温度で４時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、通常の空気雰囲気中で２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、毎分１℃の冷却速度で室温まで徐冷した。こうして得られた板状ガラスを例１とする。
【００４８】
また、組成Ｂのガラスが得られるように同様にして調合し、白金るつぼを用いて１５７０℃の温度で４時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、６０℃に加熱した水の中を２．５Ｎｌ／分の流量の窒素ガスでバブリングさせたガスからなる雰囲気中で２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、毎分１℃の冷却速度で室温まで徐冷した。こうして得られた板状ガラスを例２とする。
【００４９】
また、組成Ｂのガラスが得られるように同様にして調合し、白金るつぼを用いて１５７０℃の温度で４時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、８０℃に加熱した水の中を２．５Ｎｌ／分の流量の窒素ガスでバブリングさせたガスからなる雰囲気中で２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、毎分１℃の冷却速度で室温まで徐冷した。こうして得られた板状ガラスを例３とする。
【００５０】
例１、例２および例３の板状ガラスの密度ｄ、平均線膨張係数α、ヤング率Ｅ、比弾性率Ｅ／ｄ、ガラス転移点Ｔｇ、β‐ＯＨ値および耐候性指標ＣＲを表１に示す。なお、これらの測定は以下に示す方法によって行った。
【００５１】
ｄ：泡のないガラス２０〜５０ｇを用い、アルキメデス法にて測定した。
α：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率をガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線から−５０〜７０℃における平均線膨張係数を算出した。
Ｅ：厚さが５〜１０ｍｍ、大きさが３ｃｍ角のガラス板について、超音波パルス法により測定した。
Ｔｇ：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。
【００５２】
β−ＯＨ値：厚さが１．５〜２ｍｍ、大きさが２ｃｍ×２ｃｍのガラス板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨した後、ＦＴ−ＩＲを用いて透過スペクトルを測定した。その後、前記式を用いてβ−ＯＨ値を算出した。
【００５３】
ＣＲ：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、高度加速寿命試験装置（エスペック社製不飽和型プレッシャークッカーＥＨＳ−４１１Ｍ）に入れて１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気に２０時間静置した。洗浄済みチャック付ポリ袋に試験後試料と超純水２０ｍｌを入れ超音波洗浄機で１０分間表面析出物を溶解し、ＩＣＰ−ＭＳを使用して各アルカリ成分（Ｌｉ、Ｎａ）の溶出物を定量した。各アルカリ成分の溶出量はモル換算し、試料表面積で規格化し、これらの合計をＣＲとした。
【００５４】
表１から、β−ＯＨ値を０．２０ｍｍ−１以上とすることにより組成が同じガラスであっても耐候性が向上することがわかる。
【００５５】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【００５６】
磁気ディスクなどの情報記録媒体の製造に利用できる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク（ハードディスク）など情報記録媒体に用いられるガラス基板および磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
情報記録媒体用基板、特に磁気ディスク用基板としてガラス基板が広く用いられており、たとえば質量％で、４７〜６０％のＳｉＯ２、８〜２０％のＡｌ２Ｏ３、２〜８％のＮａ２Ｏ、１〜１５％のＫ２Ｏ、１〜６％のＴｉＯ２、１〜５％のＺｒＯ２、などを含有するガラスが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２００８／１１７７５８号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
磁気ディスク用ガラス基板としては、膨張係数やヤング率などが適切なものであることが求められる他に、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくならないこと、すなわち耐候性が求められる。
本発明は耐候性が改善された磁気ディスク用ガラス基板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、β‐ＯＨ値が０．２０ｍｍ−１以上である情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
また、アルカリアルミノシリケート系ガラスのアルカリ金属酸化物含有量が１５〜２６モル％である前記情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【０００６】
また、アルカリアルミノシリケート系ガラスが下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を６４〜６７％、Ａｌ２Ｏ３を８〜１０％、Ｌｉ２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ２Ｏを９〜１２％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ２を２〜４％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が２１〜２５％である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。なお、たとえばＫ２Ｏを０〜２％含有するとは、Ｋ２Ｏは必須ではないが２％以下の範囲で含有してもよい、の意である。
【０００７】
また、前記情報記録媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスクを提供する。
情報記録媒体用ガラス基板の耐候性は主にそのガラスの組成によって支配されるが、本発明者は同一のガラス組成であってもβ‐ＯＨ値を高めることによって耐候性が向上することを見出し、本発明に至った。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれにくくなる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板（以下、本発明のガラス基板という。）のガラス（以下、本発明のガラスという。）の密度ｄは２．６０ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましい。２．６０ｇ／ｃｍ３超ではドライブ回転時にモーター負荷がかかって消費電力が大きくなる、またはドライブ回転が不安定になるおそれがある。好ましくは２．５４ｇ／ｃｍ３以下である。
【００１０】
本発明のガラスはヤング率Ｅが７６ＧＰａ以上であることが好ましい。７６ＧＰａ未満であるとドライブ回転中に反りやたわみが発生しやすく、高記録密度の情報記録媒体を得ることが困難になるおそれがある。Ｅは７７ＧＰａ以上であることがより好ましい。
【００１１】
本発明のガラスは比弾性率Ｅ／ｄが２８ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが好ましい。Ｅ／ｄが２８ＭＮｍ／ｋｇ未満であるとドライブ回転中に反りやたわみが発生しやすく、高記録密度の情報記録媒体を得ることが困難になるおそれがある。Ｅ／ｄは３０ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより好ましい。
【００１２】
本発明のガラスのガラス転移点Ｔｇは４５０℃以上であることが好ましい。４５０℃未満では磁性層形成熱処理温度を充分高くすることができず、磁性層の保磁力増加が困難になるおそれがある。より好ましくは４６０℃以上である。
【００１３】
本発明のガラスの−５０〜７０℃における平均線膨張係数αは５６×１０−７／℃以上であることが好ましい。５６×１０−７／℃未満では、金属製のドライブなど他の部材の熱膨張係数との差が大きくなり、温度変動時の応力発生による基板の割れなどが起こりやすくなるおそれがある。より好ましくは５８×１０−７／℃以上である。αは典型的には１００×１０−７／℃以下である。
【００１４】
本発明のガラス基板のβ‐ＯＨ値は、耐候性を向上させるために０．２０ｍｍ−１以上とされる。０．２０ｍｍ−１未満では耐候性向上効果を得にくくなる。β‐ＯＨ値は好ましくは０．２４ｍｍ−１以上であるが、０．３０ｍｍ−１以上であればこの効果がより顕著になる。β‐ＯＨ値は典型的には０．３４ｍｍ−１以上である。
【００１５】
なお、本発明でいうβ‐ＯＨ値とはガラス中の水酸基含有量の尺度であり、ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光法）により測定される透過率をもとに次式により算出される。
β‐ＯＨ値＝（１／Ｘ）ｌｏｇ１０（Ｔ１／Ｔ２）。
ここで、Ｘはサンプルの厚さ（ｍｍ）、Ｔ１は参照波数４０００ｃｍ−１における透過率（％）、Ｔ２は水酸基吸収波数３５００ｃｍ−１付近（３３００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲）における透過率の最小値（％）である。
β‐ＯＨ値が高いほどガラス中の水酸基含有量が高い。
【００１６】
次に、本発明のガラスについてモル百分率表示含有量を用いて説明する。
本発明のガラスはアルカリアルミノシリケート系ガラスであり、典型的には、ＳｉＯ２含有量は６１〜７１％、Ａｌ２Ｏ３は含有量は７〜１７％、アルカリ金属酸化物含有量は１５〜２６％である。
【００１７】
ＳｉＯ２が６１％未満では、耐酸性が低下する、ｄが大きくなる、または液相温度が上昇しガラスが不安定になる。７１％超では、粘度が１０２ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ２および粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはαが小さくなる。
Ａｌ２Ｏ３が７％未満では耐候性が低下する、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはＴｇが低くなる。１７％超では耐酸性が低下する、Ｔ２およびＴ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、αが小さくなる、または液相温度が高くなりすぎる。
【００１８】
アルカリ金属酸化物としてはＬｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯまたはＫ２Ｏが一般的であるが、アルカリ金属酸化物含有量の合計が１５％未満ではαが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下する。２６％超では耐候性が低下する。
【００１９】
Ｌｉ２Ｏが６〜１６％、Ｎａ２Ｏが２〜１３％、Ｋ２Ｏが０〜８％であることが好ましい。
Ｌｉ２Ｏが６％未満ではαが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下するおそれがある。１６％超では耐候性またはＴｇが低下するおそれがある。
Ｎａ２Ｏが２％未満ではαが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下するおそれがある。１３％超では耐候性またはＴｇが低下するおそれがある。
Ｋ２Ｏは必須ではないが、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために８％まで含有してもよい。８％超では耐候性が低下する、またはＥもしくはＥ／ｄが低下するおそれがある。
【００２０】
このアルカリアルミノシリケート系ガラスはＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、アルカリ金属酸化物以外の成分を情報記録媒体用基板としての特性を損なわない範囲で含有してもよいが、そのような成分の含有量は合計で８％以下であることが典型的である。
【００２１】
本発明のガラスの好ましい態様の一つとして、ＳｉＯ２を６４〜６７％、Ａｌ２Ｏ３を８〜１０％、Ｌｉ２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ２Ｏを９〜１２％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ２を２〜４％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが２１〜２５％であるものが挙げられる（このガラスを以下、本発明のガラスＡという）。
【００２２】
次に、本発明のガラスＡの組成について説明する。
ＳｉＯ２はガラスの骨格を形成する成分であり、必須である。６４％未満では、耐酸性が低下する、ｄが大きくなる、または液相温度が上昇しガラスが不安定になる。６７％超では、Ｔ２およびＴ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはαが小さくなる。
【００２３】
Ａｌ２Ｏ３は耐候性を高める効果を有し、必須である。８％未満では前記効果が小さい、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはＴｇが低くなる。１０％超では耐酸性が低下する、Ｔ２およびＴ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、αが小さくなる、または液相温度が高くなりすぎる。
【００２４】
Ｌｉ２Ｏは、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、必須である。１０％未満では前記効果が小さい。１３％超では、耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。
【００２５】
Ｎａ２Ｏは、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、必須である。９％未満では前記効果が小さい。１２％超では、耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。
【００２６】
Ｋ２Ｏは必須ではないが、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり２％まで含有してもよい。２％超では耐候性が低下する、またはＥもしくはＥ／ｄが低下する。Ｋ２Ｏを含有する場合その含有量は、好ましくは０．１％以上である。
【００２７】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ（以下、Ｒ２Ｏと記す。）が２１％未満では、αが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下する。Ｒ２Ｏが２５％超では耐候性が低下する。
【００２８】
ＺｒＯ２は、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはＴｇを高くする、耐候性を高くする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があるため、必須である。２％未満では前記効果が小さい。４％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。
【００２９】
本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合、当該他の成分の含有量の合計は好ましくは２％以下、より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。
以下、上記成分以外の成分について例示的に説明する。
【００３０】
ＭｇＯは必須ではないが、耐候性を維持したままＥ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、ガラスを傷つきにくくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、２％まで含有してもよい。２％超では液相温度が高くなりすぎる。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＭｇＯを含有しない。
【００３１】
ＣａＯは必須ではないが、耐候性を維持したままαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、２％まで含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、Ｅが低下する、または液相温度が高くなり過ぎるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＣａＯを含有しない。
【００３２】
ＳｒＯはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、またはガラスに傷つきやすくなるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＳｒＯを含有しない。
ＢａＯはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、またはガラスに傷つきやすくなるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＢａＯを含有しない。
【００３３】
ＴｉＯ２は、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはＴｇを高くする、耐候性を高くするなどを目的として、２％未満の範囲で含有してもよい。２％以上ではＴＬが高くなりすぎるおそれがある、または分相現象が起りやすくなるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＴｉＯ２を含有しない。
【００３４】
Ｂ２Ｏ３は、ＥもしくはＥ／ｄを大きくする、耐候性を高くする、ガラスの溶解性を向上させるなどを目的として、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超では分相現象が起こりやすくなる。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＢ２Ｏ３を含有しない。
【００３５】
Ｌａ２Ｏ３は耐候性を維持したままＥを向上させるなどを目的として含有してもよいが、その場合２％以下であることが好ましい。２％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＬａ２Ｏ３を含有しない。
【００３６】
Ｎｂ２Ｏ５は耐候性を維持したままＥを向上させるなどを目的として含有してもよいが、その場合２％以下であることが好ましい。２％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。典型的にはＮｂ２Ｏ５を含有しない。
【００３７】
ＲＥ２Ｏ３すなわち、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕからなる群から選ばれる１種以上の希土類の酸化物を合計で１％未満まで含有してもよい。
【００３８】
ＳＯ３、Ｃｌ、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２等の清澄剤を合計で２％まで含有してもよい。
Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ３Ｏ４、ＮｉＯなどの着色剤を合計で２％まで含有してもよい。
【００３９】
本発明のガラスの別の好ましい態様として、ＳｉＯ２を６４〜６９％、Ａｌ２Ｏ３を９〜１１％、ＬｉＯ２を６〜９％、Ｎａ２Ｏを９〜１３％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＭｇＯを０〜４％、ＣａＯを１〜５％、ＺｒＯ２を０〜２％含有し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１６〜２０％であるもの、ＳｉＯ２を６６〜７１％、Ａｌ２Ｏ３を７〜９％、Ｂ２Ｏ３を０〜３％、ＬｉＯ２を１２〜１６％、Ｎａ２Ｏを２〜５％、Ｋ２Ｏを０〜３％、ＭｇＯを０〜５％、ＴｉＯ２を０〜３％、ＺｒＯ２を０〜２％、Ｌａ２Ｏ３を０〜２％、Ｎｂ２Ｏ５を０〜２％含有し、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１６〜２１％であるもの、ＳｉＯ２を６１〜６６％、Ａｌ２Ｏ３を１１．５〜１７％、Ｌｉ２Ｏを８〜１６％、Ｎａ２Ｏを２〜８％、Ｋ２Ｏを２．５〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＴｉＯ２を０〜４％、ＺｒＯ２を０〜３％含有し、Ａｌ２Ｏ３＋ＭｇＯ＋ＴｉＯ２が１２％以上、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１６〜２３％であり、Ｂ２Ｏ３を含有する場合その含有量が１％未満であるもの、などが挙げられる。
【００４０】
本発明のガラス基板は通常は円形のガラス板である。
【００４１】
本発明のガラス基板の耐候性は、１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気下に２０時間保持した時そのガラス表面に析出しているＬｉ量、Ｎａ量、Ｋ量をそれぞれＣＬｉ、ＣＮａ、ＣＫとしてＣＲ＝ＣＬｉ＋ＣＮａ＋ＣＫによって評価される。
【００４２】
本発明のガラスが前記ガラスＡである場合本発明のガラス基板のＣＲは８．３ｎｍｏｌ／ｃｍ２以下であることが好ましい。ＣＲが８．３ｎｍｏｌ／ｃｍ２超では、基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくなる。
【００４３】
本発明のガラス基板は典型的には磁気ディスク用ガラス基板として用いられる。
磁気ディスク用ガラス基板はノートブックパソコン等に用いられる２．５インチ基板（ガラス基板外径：６５ｍｍ）やポータブルＭＰ３プレーヤなどに用いられる１．８インチ基板（ガラス基板外径：４８ｍｍ）などに広く使用され、その市場は年々拡大しており、一方で低価格での供給が求められている。このようなガラス基板に使用されるガラスは、大量生産に適したものであることが好ましい。
板ガラスの大量生産はフロート法、フュージョン法、ダウンドロー法などの連続成形法により広く行われており、本発明のガラスはたとえばフロート成形が可能なガラスを含むので大量生産に好適である。
【００４４】
本発明のガラス基板を製造するための溶解方法はたとえば次のようなものである。すなわち、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化する。
【００４５】
溶解に際しては、ガラスのβ‐ＯＨ値が高くなる方法を用いる。たとえば、原料中の水分量を多くする、溶解雰囲気中の水蒸気濃度を高くする、溶解温度を高くする、溶解時間を長くする。原料中の水分量を多くする場合、たとえば水酸化物を原料として用いることが効果的である。溶解雰囲気中の水蒸気濃度を高くする場合、バーナー加熱によってガラスを溶融するのであれば酸素燃焼方式を採用することが効果的である。また、電気溶融方式は用いないことが好ましい。
【００４６】
本発明のガラス基板を製造するための成形・加工方法は特に限定されず、周知のフュージョン法等のダウンドロー法、フロート法、プレス法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適である。また、フロート法以外の連続成形法、すなわち、フュージョン法、ダウンドロー法にも好適である。
【実施例】
【００４７】
各成分の原料を、モル％表示でＳｉＯ２ ６５．７％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５％、Ｌｉ２Ｏ １２．４％、Ｎａ２Ｏ １０．９％、ＺｒＯ２ ２．５％である組成Ｂのガラスが得られるように調合し、白金るつぼを用いて１５７０℃の温度で４時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、通常の空気雰囲気中で２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、毎分１℃の冷却速度で室温まで徐冷した。こうして得られた板状ガラスを例１とする。
【００４８】
また、組成Ｂのガラスが得られるように同様にして調合し、白金るつぼを用いて１５７０℃の温度で４時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、６０℃に加熱した水の中を２．５Ｎｌ／分の流量の窒素ガスでバブリングさせたガスからなる雰囲気中で２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、毎分１℃の冷却速度で室温まで徐冷した。こうして得られた板状ガラスを例２とする。
【００４９】
また、組成Ｂのガラスが得られるように同様にして調合し、白金るつぼを用いて１５７０℃の温度で４時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、８０℃に加熱した水の中を２．５Ｎｌ／分の流量の窒素ガスでバブリングさせたガスからなる雰囲気中で２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、毎分１℃の冷却速度で室温まで徐冷した。こうして得られた板状ガラスを例３とする。
【００５０】
例１、例２および例３の板状ガラスの密度ｄ、平均線膨張係数α、ヤング率Ｅ、比弾性率Ｅ／ｄ、ガラス転移点Ｔｇ、β‐ＯＨ値および耐候性指標ＣＲを表１に示す。なお、これらの測定は以下に示す方法によって行った。
【００５１】
ｄ：泡のないガラス２０〜５０ｇを用い、アルキメデス法にて測定した。
α：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率をガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線から−５０〜７０℃における平均線膨張係数を算出した。
Ｅ：厚さが５〜１０ｍｍ、大きさが３ｃｍ角のガラス板について、超音波パルス法により測定した。
Ｔｇ：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。
【００５２】
β−ＯＨ値：厚さが１．５〜２ｍｍ、大きさが２ｃｍ×２ｃｍのガラス板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨した後、ＦＴ−ＩＲを用いて透過スペクトルを測定した。その後、前記式を用いてβ−ＯＨ値を算出した。
【００５３】
ＣＲ：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、高度加速寿命試験装置（エスペック社製不飽和型プレッシャークッカーＥＨＳ−４１１Ｍ）に入れて１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気に２０時間静置した。洗浄済みチャック付ポリ袋に試験後試料と超純水２０ｍｌを入れ超音波洗浄機で１０分間表面析出物を溶解し、ＩＣＰ−ＭＳを使用して各アルカリ成分（Ｌｉ、Ｎａ）の溶出物を定量した。各アルカリ成分の溶出量はモル換算し、試料表面積で規格化し、これらの合計をＣＲとした。
【００５４】
表１から、β−ＯＨ値を０．２０ｍｍ−１以上とすることにより組成が同じガラスであっても耐候性が向上することがわかる。
【００５５】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【００５６】
磁気ディスクなどの情報記録媒体の製造に利用できる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、β‐ＯＨ値が０．２０ｍｍ−１以上である情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
アルカリアルミノシリケート系ガラスのアルカリ金属酸化物含有量が１５〜２６モル％である請求項１の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項３】
アルカリアルミノシリケート系ガラスが下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を６４〜６７％、Ａｌ２Ｏ３を８〜１０％、Ｌｉ２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ２Ｏを９〜１２％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ２を２〜４％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が２１〜２５％である請求項１の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項４】
β‐ＯＨ値が０．３０ｍｍ−１以上である請求項１、２または３の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板の上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。
【請求項１】
アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、β‐ＯＨ値が０．２０ｍｍ−１以上である情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
アルカリアルミノシリケート系ガラスのアルカリ金属酸化物含有量が１５〜２６モル％である請求項１の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項３】
アルカリアルミノシリケート系ガラスが下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を６４〜６７％、Ａｌ２Ｏ３を８〜１０％、Ｌｉ２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ２Ｏを９〜１２％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ２を２〜４％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が２１〜２５％である請求項１の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項４】
β‐ＯＨ値が０．３０ｍｍ−１以上である請求項１、２または３の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板の上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。
【公開番号】特開２０１１−１３２０６１（Ｐ２０１１−１３２０６１Ａ）
【公開日】平成２３年７月７日（２０１１．７．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２９２５７５（Ｐ２００９−２９２５７５）
【出願日】平成２１年１２月２４日（２００９．１２．２４）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年７月７日（２０１１．７．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月２４日（２００９．１２．２４）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]