情報記録装置、及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法
【課題】必要に応じて種々のパターンのレリーフパターンを低コストで連続して転写、複製することが出来る情報記録方法を提供する。
【解決手段】アゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含むパターン記録層にレリーフパターンを形成し、そのパターンを熱硬化性または光硬化性樹脂に転写、硬化して複製を形成すると共に、パターン記録層を熱，光などで消去して、パターン原版を再利用する。
【解決手段】アゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含むパターン記録層にレリーフパターンを形成し、そのパターンを熱硬化性または光硬化性樹脂に転写、硬化して複製を形成すると共に、パターン記録層を熱，光などで消去して、パターン原版を再利用する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、免許証、クレジットカード、会員証などの個人認証用媒体として使用可能な情報記録媒体の製造方法、及び、製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
免許証、クレジットカード、会員証などの個人認証用媒体には、従来から各種偽変造防止手段が図られており、ホログラムも目視判定の真偽アイテムとして採用されている。ホログラム自体の偽変造防止手段として、構造を複雑にし偽造を困難にする場合が多いが、一般的にホログラムの確認は目視確認である事、また、媒体ごとに同一の紋様が採用されるため、出来のよくない偽造品でも偽物と見抜けない場合がある。対策として、個人認証媒体の個々の情報をホログラム入り媒体に搭載する方法があり、例えばアゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜を利用した情報記録方法があげられる。
【０００３】
アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に直線偏光を照射すると、光励起分子再配向現象により、照射光の電場ベクトルに垂直な向きに分子主軸が配向した複屈折性薄膜が得られる。この複屈折は、円偏光の照射によって消去することが可能である。このため、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜は、リライタブルホログラムメモリとして利用できることが注目されている（例えば、非特許文献１、２参照）。アゾベンゼン構造を含む高分子化合物を書き換え可能なホログラムとして偽変造防止手段に応用した場合、記録する情報を固定情報ではなく、可変にすることができるので、複製を困難にし得るが目視確認用の偽変造アイテムとしては適さない。
【０００４】
さらに、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物は、上述の複屈折とは別の性質を有している。アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に、上記複屈折を形成する時よりも強いエネルギー、または、長時間レーザービームを照射すると、レーザーの偏光状態に応じて表面の分子が移動し、薄膜表面に凹凸パターン（以降、レリーフパターンと称す）が形成される。このレリーフパターンはホログラムとして機能し得ることが知られている（例えば、特許文献１参照）。このアゾベンゼン構造を含む高分子化合物の別の性質を利用することで、目視に耐えうるオンデマンド情報を有する媒体を作製することが出来るが、上記レリーフパターン形成時とは波長の異なる一様な光を照射するか、あるいは加熱によって消去が可能であり、さらに、消去後の再書き込みを行うことが可能であるため、このままでは真偽アイテムとして利用することは出来ない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−７４６６５号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｏｐｔ．Ｃｏｍｍｕｎ．,Ｖｏｌ．４７,（１９８３）,Ｐ１２３
【非特許文献２】応用物理学会機関紙,応用物理 第７５巻 第１０号,（２００６）,第１２５２頁ないし第１２５４頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、複数の情報記録媒体に対し、必要に応じて種々のレリーフパターンを低コストで連続して転写、複製することが出来る情報記録方法及びこれに用いられる情報記録装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の情報記録方法は、支持体上にアゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用意し、該記録層上に第１の書き込み光を照射し、該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめ、記録層表面に第１のレリーフパターンを形成する工程、
該第１のレリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む第１の情報記録媒体を適用する工程、
該第１の情報記録媒体を硬化する工程、
硬化後、該書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該第１のレリーフパターンを該情報記録媒体上にパターン転写する工程、
該記録層に第１の消去光を照射し、該第１のレリーフパターンを消去する工程、
第１のレリーフパターンが消去された書換え可能なパターン原版を再利用して、その記録層上に第２の書き込み光を照射し、該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめ、記録層表面に第２のレリーフパターンを形成する工程、
該第２のレリーフパターン上に、未硬化の熱または光硬化性樹脂を含む第２の情報記録媒体を適用する工程、
該第２の情報記録媒体を硬化する工程、及び
硬化後、該書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該第２のレリーフパターンを該第２の情報記録媒体上にパターン転写する工程を具備する。
【０００９】
また、本発明の情報記録装置は、
支持体上にアゾベンゼン構造を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用いて、情報記録媒体へのパターン転写を行う情報記録装置であって、
該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめる書き込み光を該記録層上に照射して、該記録層表面にレリーフパターンを形成する書き込み部と、
該レリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む情報記録媒体を適用する情報記録媒体供給部と、
情報記録媒体を熱または光により硬化させる情報記録媒体硬化部と、
硬化された情報記録媒体から前記記録媒体を剥離する剥離部と、
該記録媒体を再利用するために、剥離された記録媒体から該レリーフパターンを消去するパターン消去部とを具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明を用いると、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の所望のレリーフパターンの転写を、連続して低コストで容易に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る情報記録方法を用いて作成されたＩＤカードの一例を表す正面図である。
【図２】本発明に用いられる書換可能なパターン原版の一例を表す概略図である。
【図３】本発明の実施の形態に係わるレリーフパターンを形成する装置の一例を表す概略図である。
【図４】本発明の情報記録装置の一例を表すブロック図である。
【図５】本発明に係る情報記録方法の一例を説明するための概略図である。
【図６】図５で表される方法のフロー図である。
【図７】紫外線硬化性樹脂の具体的な塗布機構の構成を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の情報記録方法は、ｉ）支持体上にアゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含むパターン記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用意し、パターン記録層上に書き込み光を照射し、アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、記録層を変形せしめ、パターン記録層表面にレリーフパターンを形成する工程、
ｉｉ）レリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む情報記録媒体
を適用する工程、
ｉｉｉ）情報記録媒体を硬化処理する工程、
ｉｖ）硬化後、書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該レリーフパターンを該情報記録媒体上にパターン転写する工程、及び
ｖ）パターン記録層に消去エネルギーを付与し、レリーフパターンを消去する工程を含み、
上記ｉ）ないしｉｖ）の工程の後、レリーフパターンが消去された書換え可能なパターン原版を再利用するために、上記ｖ）の工程を介して、上記ｉ）ないしｉｖ）の工程を繰り返し行う。
【００１３】
本発明によれば、書換え可能なパターン原版を再利用し、必要に応じてレリーフパターンを書き換えて、所望のレリーフパターンを、低コストで容易に、連続して、情報記録媒体上に転写し、レリーフパターンの複製版を得ることが出来る。このような複製版はホログラム原板として使用可能であり、この複製版を用いると、真偽判定が容易でかつ偽造が困難な個人認証媒体を作成することができる。
【００１４】
また、本発明の方法において、硬化工程を二段階に分け、予備硬化後、書換え可能なパターン原版を情報記録媒体から剥離し、その後再硬化に供し、情報記録媒体を強く硬化させることが出来る。
【００１５】
ここでいう予備硬化とは、上記ｉｉｉ）における硬化工程における硬化よりも弱い硬化であって、例えば上記ｉｉｉ）における硬化工程で付与されるエネルギー及び硬化時間等よりも、そのエネルギー及び硬化時間が少ないものをいう。
【００１６】
これにより、情報記録媒体は、ｉｉｉ）における硬化工程における硬化を行った場合よりも弱く硬化されているので、書換え可能なパターン原版が情報記録媒体から剥離しやすくなり、剥離時に損傷が発生しにくい。また、再硬化の工程で十分な硬化を行うことが出来るので情報記録媒体の強度等に問題はない。
【００１７】
本発明の情報記録装置は、上記方法を行うために使用される装置の一例であり、支持体上にアゾベンゼン構造を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用いて、情報記録媒体へのパターン転写を行う情報記録装置であって、
アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、パターン記録層を変形せしめる書き込み光をパターン記録層上に照射して、パターン記録層表面にレリーフパターンを形成する書き込み部と、
該レリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む情報記録媒体を適用する情報記録媒体供給部と、
情報記録媒体を熱または光により硬化させる情報記録媒体硬化部と、
硬化された情報記録媒体からパターン原版を剥離する剥離部と、
パターン原版を再利用するために、剥離されたパターン原版から該レリーフパターンを消去するパターン消去部とを具備することを特徴とする。
【００１８】
この装置を用いることにより、書換え可能なパターン原版を再利用し、必要に応じてレリーフパターンを書き換えて、任意のレリーフパターンを、低コストで容易に、連続して、情報記録媒体に転写、複製することが出来る。
【００１９】
また、上記装置において、例えば情報記録媒体硬化部を情報記録媒体予備硬化部に変更し、剥離部とパターン消去部との間に、情報記録媒体再硬化部を設けることにより、硬化工程を二段階に分け、予備硬化後、書換え可能なパターン原版を情報記録媒体から剥離し、再硬化に供し、情報記録媒体を強く硬化させることが出来る。
【００２０】
これにより、情報記録媒体は、情報記録媒体硬化部において硬化を行った場合よりも弱く硬化されているので、書換え可能なパターン原版が情報記録媒体から剥離しやすくなり、剥離時に損傷が発生しにくい。また、再硬化の工程で十分な硬化を行うことが出来るので情報記録媒体の強度等に問題はない。
【００２１】
以下、図面を参照し、本発明をより詳細に説明する。
【００２２】
図１は、本発明に係る情報記録方法を用いて作成されたＩＤカードの一例を表す正面図
を示す。
【００２３】
ＩＤカード１には、ＩＤカードの所持人のカラー顔画像２、所持人の氏名、生年月日、ＩＤ番号などの文字情報３が印刷されており、本発明の情報記録方法により作製されたレリーフパターンを持つ複製版４が貼付されている。この例では、情報記録媒体４はシールとしてカード基材に貼り付けた。レリーフパターン４には、目視可能なホログラム５として、所持人の顔画像を縮小した画像が形成されている。カラー顔画像２は、昇華型熱転写記録方式、インクジェット記録方式など種々の記録方式で形成可能である。本実施例では、昇華型熱転写記録方式で形成した。文字情報３は、溶融型熱転写記録方式、インクジェット記録方式など種々の記録方式で形成可能であり、この例では、溶融型熱転写記録方式で形成した。
【００２４】
図２は、本発明に用いられる書換可能なパターン原版の一例を表す概略図である。
【００２５】
パターン原版４は、支持体６の上にアゾベンゼン構造を含む高分子化合物薄膜７が形成されている。支持体６の材料としては、パイレックス（登録商標）ガラスなどの硼珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ソーダライムガラスなどのガラス基材、表面を酸化処理したシリコン基盤なども使用可能である。支持体表面粗さは、アゾベンゼンを含む高分子化合物薄膜で形成されるレリーフパターンの高さを考慮し、１ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましい。
【００２６】
薄膜７は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物をクロロホルム、ジクロロメタンなどの溶媒に、１〜３０％質量％の濃度で溶解し、グラビア印刷、ロール印刷、インクジェット記録方式などで薄膜状に形成できる。厚みは、レリーフパターンのホログラムの仕様にもよるが、１〜５μｍが望ましい。本実施例では、レリーフパターンの凹凸ピッチを１μｍとしており、屈折率変化パターンをその内部に形成する必要があることから、ピッチの３倍の厚みとして、３μｍとした。
【００２７】
アゾベンゼン構造を含む高分子は、下記式（１）で表される高分子化合物やメチルオレンジを分散させたＰＶＡ（ポリビニルアルコール）などを使うことができる。
【００２８】
記録層に使用されるアゾベンゼン構造を含む高分子として、例えば下記一般式（１）で表されるアゾベンゼン構造を有する高分子化合物があげられる。
【化１】
【００２９】
（式中、Ｒ１は電子供与性基、Ｒ３は電子吸引性基、Ｘ及びＹは、単結合若しくは高分子鎖を形成する他の構成単位、ｍ及びｎは１以上の整数である。）
アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の薄膜は、その表面に、その高分子化合物の吸収帯に相当する波長の光例えばアルゴンレーザーのような５１５ないし４５８ｎｍの波長の光を照射すると、アゾベンゼン構造の部分が異性体への転化を繰り返す。すなわち、下記構造式で表されるようなトランス体からシス体へ、シス体からトランス体への構造の変化を繰り返す。これにより、レーザービームの幾何形状と偏光状態に応じて、高分子鎖の移動が起こり、表面に凹凸パターンが形成されるという性質を有する。
【化２】
【００３０】
【化３】
【００３１】
この現象は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に対し、光のパターンを照射することによって、その表面部分が光の強弱に感応し、光の強い部分から弱い部分へと分子が移動する結果、凹凸が形成されることによる。このようにして形成された表面の凹凸は、さらに波長の異なる光を照射するか、あるいは加熱によって消去が可能であり、また、ビームの形状と偏光状態を正確に記録再生できる。
【００３２】
アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の具体例として例えば下記式（２）で表される化合物があげられる。
【化４】
【００３３】
図３は、本発明の実施の形態に係わるレリーフパターンを形成する装置の一例を表す概略図を示す。
【００３４】
光源１６は、アゾベンゼン構造を含む有機化合物に感度のある波長のコヒーレント光を発するものであれば良い。ここでは、アルゴンイオンレーザーの発振線５１５ｎｍを用いた。光源１６からのレーザー光を、ハーフミラー１７を透過させ、ミラー１８で反射させ、レンズ１９で平行光にして、空間光変調器２０に入射させる。空間光変調器２０としては、電圧アドレス方の液晶パネルなどを用いることができる。空間光変調器２０は、液晶層により、入射光の振幅ないし強度を変調することができる。レリーフホログラムに記録すべき情報は、コンピュータ２３で、白黒のドットで構成された２値画像とし、コンピュータ２３から空間光変調器２０に出力して、表示し、記録すべき情報に応じて、空間光変調器２０に入射する光の強度を２次元に変調する。ここでは、記録すべき情報をＩＤカードの所持人の顔画像を縮小した画像とした。ついで、記録すべき情報に応じて強度が２次元に変調された光を信号光としてレリーフパターン４に照射する。
【００３５】
一方、光源１６からのレーザー光を、ハーフミラー１７およびミラー２１で反射させ、レンズ２２で平行光にして、参照光として情報記録媒体４に入射させる。
【００３６】
これによって、信号光と参照光とが干渉し、顔画像データを保持する信号光がレリーフパターンのホログラム１０として記録される。この例では、画像情報を空間光変調器２０に表示し、その情報を使ってホログラムを形成したが、これに限定されるものではない。例えば、計算機合成ホログラムのように、光の干渉縞を計算機により計算し、その縞パターンを直接レーザービームで書き込んで行く方式も使用することができる。
【００３７】
図４は、本発明の情報記録装置の一例を表すブロック図を示す。
【００３８】
図示するように、この情報記録装置４０は、支持体上にアゾベンゼン構造を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用いて、情報記録媒体へのパターン転写を行う情報記録装置であって、書き込み部４１、情報記録媒体供給部４２、情報記録媒体硬化部４３、剥離部４４、消去部４６、及びこれらの各部と接続され、パターン情報の記録及び消去を制御する制御部４７を有し、必要に応じて、剥離部４４と消去部４６との間に、再硬化部４５をさらに設けることが出来る。
【００３９】
図５は、本発明に係る情報記録方法の一例を説明するための概略図、及び
図６は、図５で表される方法のフロー図を、各々示す。
【００４０】
図４ないし図６を用いて、本発明の情報記録装置の一例を用いた記録方法について説明する。
【００４１】
まず、図５（ａ）に示すように、支持体６と、その上に形成されたアゾベンゼン構造を含む高分子化合物を含む記録層７を有する書換可能なパターン原版４を用意し、書き込み部４１にて、例えば上述の信号光と参照光の組合せのような書き込み光を、記録層７に照射する。これにより、図５（ｂ）に示すように、高分子鎖の移動が起こし、記録層７表面に凹凸が形成されて、レリーフパターンが得られる（ＳＴ１）。
【００４２】
次に、図５（ｃ）に示すように、情報記録媒体供給部４２にて、原版に接するように、情報記録媒体８となる高分子化合物を塗布する（ＳＴ２）。塗布される高分子化合物は、例えば光、熱などの硬化要素により硬化可能なものが選択される。
【００４３】
塗布方法として、平版印刷、インクジェット印刷方式、ゴムローラによる印刷などが挙げられが、本実施形態ではインクジェット印刷方式を用いた。また、塗布する高分子化合物は硬化要素を有するものであればよく、例えば、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などが使用される。
【００４４】
光硬化性樹脂としては、光硬化性オリゴマー、モノマー、光反応開始剤、体質顔料、その他添加剤よりなり、光硬化により光硬化製オリゴマー、モノマーが反応を起こし、３次元網目構造を形成されるものを使用することができる。光硬化性樹脂としては、例えば紫外線硬化性樹脂を用いることができる。また、光硬化性樹脂は、アゾベンゼン構造を有する高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない波長で硬化する樹脂を用いることが出来る。
【００４５】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば３官能以上のアルコールの（メタ）アクリル酸エステルがあげられる。このような（メタ）アクリル酸エステルとして、例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ペンタエリスリトールポリアクリレート、及びジペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。
【００４６】
紫外線硬化性樹脂には光反応開始剤を添加することができる。光反応開始剤としては、例えばベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、チオキサントン類、アゾ化合物類、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルジメチルケタール、テトラメチルチウラムモノサルファイド等が挙げられる。
【００４７】
熱硬化性樹脂としては、アルキド樹脂、アミノ・アルキド樹脂、エポキシ樹脂・脂肪酸エステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン系、アクリル樹脂系、アクリル・ウレタン樹脂、ビニル樹脂系、フッ素樹脂系、ポリシロキサン系、アクリル・シロキサン系樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない温度で硬化する熱硬化性樹脂を用いることが出来る。
【００４８】
ここでは、紫外線硬化性樹脂を用いて説明を行う。
【００４９】
紫外線硬化性樹脂の具体的な塗布機構の構成を表す図を図７に示す。
【００５０】
インクジェット記録ヘッド３３には、インクタンク３４が接続されていて、インクタンク３４中には紫外線硬化性樹脂を溶媒中に分散した液体が入れられている。パターン原版のレリーフパターン上に、紫外線硬化性樹脂からなる液滴をインクジェット記録ヘッドにより噴射し、樹脂膜を形成する。この時、樹脂膜の厚みは、レリーフパターンを完全に埋めるほどの厚み以上であればよく、ここでは、２μｍとした。
【００５１】
次に、図５（ｄ）に示すように、紫外線硬化性樹脂液の膜を形成した面に、硬化要素の適用例えば紫外線ランプにより紫外線の照射を行い、紫外線硬化性樹脂液を硬化させる（ＳＴ３）。この時、紫外線出力と時間をコントロールすることで、塗布した紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させない程度にとどめるようにした。
【００５２】
次に、図５（ｅ）に示すように、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物で形成されたレリーフパターン表面から塗布した紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させない状態にとどめたものを、情報記録媒体８として分離する（ＳＴ４）。なお、ここでは、IDカード基材に接着剤を塗布したものを紫外線硬化性樹脂側に接触させ、接着剤硬化後、原版から分離することとした。
【００５３】
図５（ｆ）に示すように、分離された複製版の情報記録媒体８は、ID証基材に接着されたまま、硬化要素の適用例えば紫外線ランプによる紫外線の照射を行って硬化される（ＳＴ５）。この時点で紫外線硬化性樹脂の硬化は終了し、形状の変わらないレリーフパターンとして利用できるようになる。最終的にはこのレリーフパターンの上に保護層などを形成したあと、ID証明として発行されることになる。
【００５４】
さらに、図５（ｇ）に示すように、分離された原版は再利用する目的で、適切な消去要素により消去が行われる（ＳＴ６）。消去要素としては、レリーフパターン形成時とは異なる波長の一様な光か熱を利用できるが、この例では熱を採用した。図５（ｈ）に示すように、消去工程を経てレリーフパターンが消去されたパターン原版４は、図５（ａ）のパターン原版４として再利用し、別のレリーフパターンの形成に利用することができる。
【００５５】
このように、図５（ａ）ないし図５（ｈ）を繰り返すことにより、書換え可能なパターン原版を再利用し、必要に応じてレリーフパターンを書き換えて、所望のレリーフパターンを、低コストで容易に、情報記録媒体上に転写し、レリーフパターンの複製版を連続して得ることが出来る。このような複製版はホログラム原板として使用可能であり、この複製版を用いると、真偽判定が容易でかつ偽造が困難な個人認証媒体を作成することができる。
【００５６】
また、図５（ｄ）ないし図５（ｆ）に示すように、硬化工程を二段階に分け、予備硬化後、書換え可能なパターン原版を情報記録媒体から剥離し、その後再硬化に供し、情報記録媒体を強く硬化させることが出来る。
【００５７】
なお、説明の都合上、上記工程は順次工程が進行するものとして説明を行ったが、例えば原版部分を複数もち、各々別工程を進行するようにすれば時間短縮が可能となる。また、各々の工程を円状に配置することで、スペースの節約が見込める。
【符号の説明】
【００５８】
４…書換え可能なパターン原版、６…支持体、７…アゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含む記録層、８…情報記録媒体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、免許証、クレジットカード、会員証などの個人認証用媒体として使用可能な情報記録媒体の製造方法、及び、製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
免許証、クレジットカード、会員証などの個人認証用媒体には、従来から各種偽変造防止手段が図られており、ホログラムも目視判定の真偽アイテムとして採用されている。ホログラム自体の偽変造防止手段として、構造を複雑にし偽造を困難にする場合が多いが、一般的にホログラムの確認は目視確認である事、また、媒体ごとに同一の紋様が採用されるため、出来のよくない偽造品でも偽物と見抜けない場合がある。対策として、個人認証媒体の個々の情報をホログラム入り媒体に搭載する方法があり、例えばアゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜を利用した情報記録方法があげられる。
【０００３】
アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に直線偏光を照射すると、光励起分子再配向現象により、照射光の電場ベクトルに垂直な向きに分子主軸が配向した複屈折性薄膜が得られる。この複屈折は、円偏光の照射によって消去することが可能である。このため、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜は、リライタブルホログラムメモリとして利用できることが注目されている（例えば、非特許文献１、２参照）。アゾベンゼン構造を含む高分子化合物を書き換え可能なホログラムとして偽変造防止手段に応用した場合、記録する情報を固定情報ではなく、可変にすることができるので、複製を困難にし得るが目視確認用の偽変造アイテムとしては適さない。
【０００４】
さらに、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物は、上述の複屈折とは別の性質を有している。アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に、上記複屈折を形成する時よりも強いエネルギー、または、長時間レーザービームを照射すると、レーザーの偏光状態に応じて表面の分子が移動し、薄膜表面に凹凸パターン（以降、レリーフパターンと称す）が形成される。このレリーフパターンはホログラムとして機能し得ることが知られている（例えば、特許文献１参照）。このアゾベンゼン構造を含む高分子化合物の別の性質を利用することで、目視に耐えうるオンデマンド情報を有する媒体を作製することが出来るが、上記レリーフパターン形成時とは波長の異なる一様な光を照射するか、あるいは加熱によって消去が可能であり、さらに、消去後の再書き込みを行うことが可能であるため、このままでは真偽アイテムとして利用することは出来ない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−７４６６５号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｏｐｔ．Ｃｏｍｍｕｎ．,Ｖｏｌ．４７,（１９８３）,Ｐ１２３
【非特許文献２】応用物理学会機関紙,応用物理 第７５巻 第１０号,（２００６）,第１２５２頁ないし第１２５４頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、複数の情報記録媒体に対し、必要に応じて種々のレリーフパターンを低コストで連続して転写、複製することが出来る情報記録方法及びこれに用いられる情報記録装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の情報記録方法は、支持体上にアゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用意し、該記録層上に第１の書き込み光を照射し、該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめ、記録層表面に第１のレリーフパターンを形成する工程、
該第１のレリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む第１の情報記録媒体を適用する工程、
該第１の情報記録媒体を硬化する工程、
硬化後、該書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該第１のレリーフパターンを該情報記録媒体上にパターン転写する工程、
該記録層に第１の消去光を照射し、該第１のレリーフパターンを消去する工程、
第１のレリーフパターンが消去された書換え可能なパターン原版を再利用して、その記録層上に第２の書き込み光を照射し、該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめ、記録層表面に第２のレリーフパターンを形成する工程、
該第２のレリーフパターン上に、未硬化の熱または光硬化性樹脂を含む第２の情報記録媒体を適用する工程、
該第２の情報記録媒体を硬化する工程、及び
硬化後、該書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該第２のレリーフパターンを該第２の情報記録媒体上にパターン転写する工程を具備する。
【０００９】
また、本発明の情報記録装置は、
支持体上にアゾベンゼン構造を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用いて、情報記録媒体へのパターン転写を行う情報記録装置であって、
該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめる書き込み光を該記録層上に照射して、該記録層表面にレリーフパターンを形成する書き込み部と、
該レリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む情報記録媒体を適用する情報記録媒体供給部と、
情報記録媒体を熱または光により硬化させる情報記録媒体硬化部と、
硬化された情報記録媒体から前記記録媒体を剥離する剥離部と、
該記録媒体を再利用するために、剥離された記録媒体から該レリーフパターンを消去するパターン消去部とを具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明を用いると、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の所望のレリーフパターンの転写を、連続して低コストで容易に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る情報記録方法を用いて作成されたＩＤカードの一例を表す正面図である。
【図２】本発明に用いられる書換可能なパターン原版の一例を表す概略図である。
【図３】本発明の実施の形態に係わるレリーフパターンを形成する装置の一例を表す概略図である。
【図４】本発明の情報記録装置の一例を表すブロック図である。
【図５】本発明に係る情報記録方法の一例を説明するための概略図である。
【図６】図５で表される方法のフロー図である。
【図７】紫外線硬化性樹脂の具体的な塗布機構の構成を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の情報記録方法は、ｉ）支持体上にアゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含むパターン記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用意し、パターン記録層上に書き込み光を照射し、アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、記録層を変形せしめ、パターン記録層表面にレリーフパターンを形成する工程、
ｉｉ）レリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む情報記録媒体
を適用する工程、
ｉｉｉ）情報記録媒体を硬化処理する工程、
ｉｖ）硬化後、書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該レリーフパターンを該情報記録媒体上にパターン転写する工程、及び
ｖ）パターン記録層に消去エネルギーを付与し、レリーフパターンを消去する工程を含み、
上記ｉ）ないしｉｖ）の工程の後、レリーフパターンが消去された書換え可能なパターン原版を再利用するために、上記ｖ）の工程を介して、上記ｉ）ないしｉｖ）の工程を繰り返し行う。
【００１３】
本発明によれば、書換え可能なパターン原版を再利用し、必要に応じてレリーフパターンを書き換えて、所望のレリーフパターンを、低コストで容易に、連続して、情報記録媒体上に転写し、レリーフパターンの複製版を得ることが出来る。このような複製版はホログラム原板として使用可能であり、この複製版を用いると、真偽判定が容易でかつ偽造が困難な個人認証媒体を作成することができる。
【００１４】
また、本発明の方法において、硬化工程を二段階に分け、予備硬化後、書換え可能なパターン原版を情報記録媒体から剥離し、その後再硬化に供し、情報記録媒体を強く硬化させることが出来る。
【００１５】
ここでいう予備硬化とは、上記ｉｉｉ）における硬化工程における硬化よりも弱い硬化であって、例えば上記ｉｉｉ）における硬化工程で付与されるエネルギー及び硬化時間等よりも、そのエネルギー及び硬化時間が少ないものをいう。
【００１６】
これにより、情報記録媒体は、ｉｉｉ）における硬化工程における硬化を行った場合よりも弱く硬化されているので、書換え可能なパターン原版が情報記録媒体から剥離しやすくなり、剥離時に損傷が発生しにくい。また、再硬化の工程で十分な硬化を行うことが出来るので情報記録媒体の強度等に問題はない。
【００１７】
本発明の情報記録装置は、上記方法を行うために使用される装置の一例であり、支持体上にアゾベンゼン構造を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用いて、情報記録媒体へのパターン転写を行う情報記録装置であって、
アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、パターン記録層を変形せしめる書き込み光をパターン記録層上に照射して、パターン記録層表面にレリーフパターンを形成する書き込み部と、
該レリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む情報記録媒体を適用する情報記録媒体供給部と、
情報記録媒体を熱または光により硬化させる情報記録媒体硬化部と、
硬化された情報記録媒体からパターン原版を剥離する剥離部と、
パターン原版を再利用するために、剥離されたパターン原版から該レリーフパターンを消去するパターン消去部とを具備することを特徴とする。
【００１８】
この装置を用いることにより、書換え可能なパターン原版を再利用し、必要に応じてレリーフパターンを書き換えて、任意のレリーフパターンを、低コストで容易に、連続して、情報記録媒体に転写、複製することが出来る。
【００１９】
また、上記装置において、例えば情報記録媒体硬化部を情報記録媒体予備硬化部に変更し、剥離部とパターン消去部との間に、情報記録媒体再硬化部を設けることにより、硬化工程を二段階に分け、予備硬化後、書換え可能なパターン原版を情報記録媒体から剥離し、再硬化に供し、情報記録媒体を強く硬化させることが出来る。
【００２０】
これにより、情報記録媒体は、情報記録媒体硬化部において硬化を行った場合よりも弱く硬化されているので、書換え可能なパターン原版が情報記録媒体から剥離しやすくなり、剥離時に損傷が発生しにくい。また、再硬化の工程で十分な硬化を行うことが出来るので情報記録媒体の強度等に問題はない。
【００２１】
以下、図面を参照し、本発明をより詳細に説明する。
【００２２】
図１は、本発明に係る情報記録方法を用いて作成されたＩＤカードの一例を表す正面図
を示す。
【００２３】
ＩＤカード１には、ＩＤカードの所持人のカラー顔画像２、所持人の氏名、生年月日、ＩＤ番号などの文字情報３が印刷されており、本発明の情報記録方法により作製されたレリーフパターンを持つ複製版４が貼付されている。この例では、情報記録媒体４はシールとしてカード基材に貼り付けた。レリーフパターン４には、目視可能なホログラム５として、所持人の顔画像を縮小した画像が形成されている。カラー顔画像２は、昇華型熱転写記録方式、インクジェット記録方式など種々の記録方式で形成可能である。本実施例では、昇華型熱転写記録方式で形成した。文字情報３は、溶融型熱転写記録方式、インクジェット記録方式など種々の記録方式で形成可能であり、この例では、溶融型熱転写記録方式で形成した。
【００２４】
図２は、本発明に用いられる書換可能なパターン原版の一例を表す概略図である。
【００２５】
パターン原版４は、支持体６の上にアゾベンゼン構造を含む高分子化合物薄膜７が形成されている。支持体６の材料としては、パイレックス（登録商標）ガラスなどの硼珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ソーダライムガラスなどのガラス基材、表面を酸化処理したシリコン基盤なども使用可能である。支持体表面粗さは、アゾベンゼンを含む高分子化合物薄膜で形成されるレリーフパターンの高さを考慮し、１ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましい。
【００２６】
薄膜７は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物をクロロホルム、ジクロロメタンなどの溶媒に、１〜３０％質量％の濃度で溶解し、グラビア印刷、ロール印刷、インクジェット記録方式などで薄膜状に形成できる。厚みは、レリーフパターンのホログラムの仕様にもよるが、１〜５μｍが望ましい。本実施例では、レリーフパターンの凹凸ピッチを１μｍとしており、屈折率変化パターンをその内部に形成する必要があることから、ピッチの３倍の厚みとして、３μｍとした。
【００２７】
アゾベンゼン構造を含む高分子は、下記式（１）で表される高分子化合物やメチルオレンジを分散させたＰＶＡ（ポリビニルアルコール）などを使うことができる。
【００２８】
記録層に使用されるアゾベンゼン構造を含む高分子として、例えば下記一般式（１）で表されるアゾベンゼン構造を有する高分子化合物があげられる。
【化１】
【００２９】
（式中、Ｒ１は電子供与性基、Ｒ３は電子吸引性基、Ｘ及びＹは、単結合若しくは高分子鎖を形成する他の構成単位、ｍ及びｎは１以上の整数である。）
アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の薄膜は、その表面に、その高分子化合物の吸収帯に相当する波長の光例えばアルゴンレーザーのような５１５ないし４５８ｎｍの波長の光を照射すると、アゾベンゼン構造の部分が異性体への転化を繰り返す。すなわち、下記構造式で表されるようなトランス体からシス体へ、シス体からトランス体への構造の変化を繰り返す。これにより、レーザービームの幾何形状と偏光状態に応じて、高分子鎖の移動が起こり、表面に凹凸パターンが形成されるという性質を有する。
【化２】
【００３０】
【化３】
【００３１】
この現象は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に対し、光のパターンを照射することによって、その表面部分が光の強弱に感応し、光の強い部分から弱い部分へと分子が移動する結果、凹凸が形成されることによる。このようにして形成された表面の凹凸は、さらに波長の異なる光を照射するか、あるいは加熱によって消去が可能であり、また、ビームの形状と偏光状態を正確に記録再生できる。
【００３２】
アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の具体例として例えば下記式（２）で表される化合物があげられる。
【化４】
【００３３】
図３は、本発明の実施の形態に係わるレリーフパターンを形成する装置の一例を表す概略図を示す。
【００３４】
光源１６は、アゾベンゼン構造を含む有機化合物に感度のある波長のコヒーレント光を発するものであれば良い。ここでは、アルゴンイオンレーザーの発振線５１５ｎｍを用いた。光源１６からのレーザー光を、ハーフミラー１７を透過させ、ミラー１８で反射させ、レンズ１９で平行光にして、空間光変調器２０に入射させる。空間光変調器２０としては、電圧アドレス方の液晶パネルなどを用いることができる。空間光変調器２０は、液晶層により、入射光の振幅ないし強度を変調することができる。レリーフホログラムに記録すべき情報は、コンピュータ２３で、白黒のドットで構成された２値画像とし、コンピュータ２３から空間光変調器２０に出力して、表示し、記録すべき情報に応じて、空間光変調器２０に入射する光の強度を２次元に変調する。ここでは、記録すべき情報をＩＤカードの所持人の顔画像を縮小した画像とした。ついで、記録すべき情報に応じて強度が２次元に変調された光を信号光としてレリーフパターン４に照射する。
【００３５】
一方、光源１６からのレーザー光を、ハーフミラー１７およびミラー２１で反射させ、レンズ２２で平行光にして、参照光として情報記録媒体４に入射させる。
【００３６】
これによって、信号光と参照光とが干渉し、顔画像データを保持する信号光がレリーフパターンのホログラム１０として記録される。この例では、画像情報を空間光変調器２０に表示し、その情報を使ってホログラムを形成したが、これに限定されるものではない。例えば、計算機合成ホログラムのように、光の干渉縞を計算機により計算し、その縞パターンを直接レーザービームで書き込んで行く方式も使用することができる。
【００３７】
図４は、本発明の情報記録装置の一例を表すブロック図を示す。
【００３８】
図示するように、この情報記録装置４０は、支持体上にアゾベンゼン構造を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用いて、情報記録媒体へのパターン転写を行う情報記録装置であって、書き込み部４１、情報記録媒体供給部４２、情報記録媒体硬化部４３、剥離部４４、消去部４６、及びこれらの各部と接続され、パターン情報の記録及び消去を制御する制御部４７を有し、必要に応じて、剥離部４４と消去部４６との間に、再硬化部４５をさらに設けることが出来る。
【００３９】
図５は、本発明に係る情報記録方法の一例を説明するための概略図、及び
図６は、図５で表される方法のフロー図を、各々示す。
【００４０】
図４ないし図６を用いて、本発明の情報記録装置の一例を用いた記録方法について説明する。
【００４１】
まず、図５（ａ）に示すように、支持体６と、その上に形成されたアゾベンゼン構造を含む高分子化合物を含む記録層７を有する書換可能なパターン原版４を用意し、書き込み部４１にて、例えば上述の信号光と参照光の組合せのような書き込み光を、記録層７に照射する。これにより、図５（ｂ）に示すように、高分子鎖の移動が起こし、記録層７表面に凹凸が形成されて、レリーフパターンが得られる（ＳＴ１）。
【００４２】
次に、図５（ｃ）に示すように、情報記録媒体供給部４２にて、原版に接するように、情報記録媒体８となる高分子化合物を塗布する（ＳＴ２）。塗布される高分子化合物は、例えば光、熱などの硬化要素により硬化可能なものが選択される。
【００４３】
塗布方法として、平版印刷、インクジェット印刷方式、ゴムローラによる印刷などが挙げられが、本実施形態ではインクジェット印刷方式を用いた。また、塗布する高分子化合物は硬化要素を有するものであればよく、例えば、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などが使用される。
【００４４】
光硬化性樹脂としては、光硬化性オリゴマー、モノマー、光反応開始剤、体質顔料、その他添加剤よりなり、光硬化により光硬化製オリゴマー、モノマーが反応を起こし、３次元網目構造を形成されるものを使用することができる。光硬化性樹脂としては、例えば紫外線硬化性樹脂を用いることができる。また、光硬化性樹脂は、アゾベンゼン構造を有する高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない波長で硬化する樹脂を用いることが出来る。
【００４５】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば３官能以上のアルコールの（メタ）アクリル酸エステルがあげられる。このような（メタ）アクリル酸エステルとして、例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ペンタエリスリトールポリアクリレート、及びジペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。
【００４６】
紫外線硬化性樹脂には光反応開始剤を添加することができる。光反応開始剤としては、例えばベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、チオキサントン類、アゾ化合物類、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルジメチルケタール、テトラメチルチウラムモノサルファイド等が挙げられる。
【００４７】
熱硬化性樹脂としては、アルキド樹脂、アミノ・アルキド樹脂、エポキシ樹脂・脂肪酸エステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン系、アクリル樹脂系、アクリル・ウレタン樹脂、ビニル樹脂系、フッ素樹脂系、ポリシロキサン系、アクリル・シロキサン系樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない温度で硬化する熱硬化性樹脂を用いることが出来る。
【００４８】
ここでは、紫外線硬化性樹脂を用いて説明を行う。
【００４９】
紫外線硬化性樹脂の具体的な塗布機構の構成を表す図を図７に示す。
【００５０】
インクジェット記録ヘッド３３には、インクタンク３４が接続されていて、インクタンク３４中には紫外線硬化性樹脂を溶媒中に分散した液体が入れられている。パターン原版のレリーフパターン上に、紫外線硬化性樹脂からなる液滴をインクジェット記録ヘッドにより噴射し、樹脂膜を形成する。この時、樹脂膜の厚みは、レリーフパターンを完全に埋めるほどの厚み以上であればよく、ここでは、２μｍとした。
【００５１】
次に、図５（ｄ）に示すように、紫外線硬化性樹脂液の膜を形成した面に、硬化要素の適用例えば紫外線ランプにより紫外線の照射を行い、紫外線硬化性樹脂液を硬化させる（ＳＴ３）。この時、紫外線出力と時間をコントロールすることで、塗布した紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させない程度にとどめるようにした。
【００５２】
次に、図５（ｅ）に示すように、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物で形成されたレリーフパターン表面から塗布した紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させない状態にとどめたものを、情報記録媒体８として分離する（ＳＴ４）。なお、ここでは、IDカード基材に接着剤を塗布したものを紫外線硬化性樹脂側に接触させ、接着剤硬化後、原版から分離することとした。
【００５３】
図５（ｆ）に示すように、分離された複製版の情報記録媒体８は、ID証基材に接着されたまま、硬化要素の適用例えば紫外線ランプによる紫外線の照射を行って硬化される（ＳＴ５）。この時点で紫外線硬化性樹脂の硬化は終了し、形状の変わらないレリーフパターンとして利用できるようになる。最終的にはこのレリーフパターンの上に保護層などを形成したあと、ID証明として発行されることになる。
【００５４】
さらに、図５（ｇ）に示すように、分離された原版は再利用する目的で、適切な消去要素により消去が行われる（ＳＴ６）。消去要素としては、レリーフパターン形成時とは異なる波長の一様な光か熱を利用できるが、この例では熱を採用した。図５（ｈ）に示すように、消去工程を経てレリーフパターンが消去されたパターン原版４は、図５（ａ）のパターン原版４として再利用し、別のレリーフパターンの形成に利用することができる。
【００５５】
このように、図５（ａ）ないし図５（ｈ）を繰り返すことにより、書換え可能なパターン原版を再利用し、必要に応じてレリーフパターンを書き換えて、所望のレリーフパターンを、低コストで容易に、情報記録媒体上に転写し、レリーフパターンの複製版を連続して得ることが出来る。このような複製版はホログラム原板として使用可能であり、この複製版を用いると、真偽判定が容易でかつ偽造が困難な個人認証媒体を作成することができる。
【００５６】
また、図５（ｄ）ないし図５（ｆ）に示すように、硬化工程を二段階に分け、予備硬化後、書換え可能なパターン原版を情報記録媒体から剥離し、その後再硬化に供し、情報記録媒体を強く硬化させることが出来る。
【００５７】
なお、説明の都合上、上記工程は順次工程が進行するものとして説明を行ったが、例えば原版部分を複数もち、各々別工程を進行するようにすれば時間短縮が可能となる。また、各々の工程を円状に配置することで、スペースの節約が見込める。
【符号の説明】
【００５８】
４…書換え可能なパターン原版、６…支持体、７…アゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含む記録層、８…情報記録媒体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上にアゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用意し、該記録層上に第１の書き込み光を照射し、該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめ、記録層表面に第１のレリーフパターンを形成する工程、
該第１のレリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む第１の情報記録媒体を適用する工程、
該第１の情報記録媒体を硬化する工程、
硬化後、該書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該第１のレリーフパターンを該情報記録媒体上にパターン転写する工程、
該記録層に第１の消去光を照射し、該第１のレリーフパターンを消去する工程、
第１のレリーフパターンが消去された書換え可能なパターン原版を再利用して、その記録層上に第２の書き込み光を照射し、該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめ、記録層表面に第２のレリーフパターンを形成する工程、
該第２のレリーフパターン上に、未硬化の熱または光硬化性樹脂を含む第２の情報記録媒体を適用する工程、
該第２の情報記録媒体を硬化する工程、及び
硬化後、該書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該第２のレリーフパターンを該第２の情報記録媒体上にパターン転写する工程を具備する情報記録方法。
【請求項２】
前記第１及び第２の情報記録媒体は、アゾベンゼン構造を有する高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない波長で硬化する光硬化性樹脂を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１及び第２の情報記録媒体は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない温度で硬化する熱硬化性樹脂を含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
支持体上にアゾベンゼン構造を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用いて、情報記録媒体へのパターン転写を行う情報記録装置であって、
該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめる書き込み光を該記録層上に照射して、該記録層表面にレリーフパターンを形成する書き込み部と、
該レリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む情報記録媒体を適用する情報記録媒体供給部と、
情報記録媒体を熱または光により硬化させる情報記録媒体硬化部と、
硬化された情報記録媒体から前記記録媒体を剥離する剥離部と、
該記録媒体を再利用するために、剥離された記録媒体から該レリーフパターンを消去するパターン消去部とを具備することを特徴とする情報記録装置。
【請求項５】
前記第１及び第２の情報記録媒体は、アゾベンゼン構造を有する高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない波長で硬化する光硬化性樹脂を含む請求項４に記載の情報記録装置。
【請求項６】
前記第１及び第２の情報記録媒体は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない温度で硬化する熱硬化性樹脂を含む請求項４に記載の情報記録装置。
【請求項１】
支持体上にアゾベンゼン構造を有する高分子化合物を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用意し、該記録層上に第１の書き込み光を照射し、該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめ、記録層表面に第１のレリーフパターンを形成する工程、
該第１のレリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む第１の情報記録媒体を適用する工程、
該第１の情報記録媒体を硬化する工程、
硬化後、該書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該第１のレリーフパターンを該情報記録媒体上にパターン転写する工程、
該記録層に第１の消去光を照射し、該第１のレリーフパターンを消去する工程、
第１のレリーフパターンが消去された書換え可能なパターン原版を再利用して、その記録層上に第２の書き込み光を照射し、該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめ、記録層表面に第２のレリーフパターンを形成する工程、
該第２のレリーフパターン上に、未硬化の熱または光硬化性樹脂を含む第２の情報記録媒体を適用する工程、
該第２の情報記録媒体を硬化する工程、及び
硬化後、該書換え可能なパターン原版を剥離することにより、該第２のレリーフパターンを該第２の情報記録媒体上にパターン転写する工程を具備する情報記録方法。
【請求項２】
前記第１及び第２の情報記録媒体は、アゾベンゼン構造を有する高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない波長で硬化する光硬化性樹脂を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１及び第２の情報記録媒体は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない温度で硬化する熱硬化性樹脂を含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
支持体上にアゾベンゼン構造を含む記録層が設けられた書換え可能なパターン原版を用いて、情報記録媒体へのパターン転写を行う情報記録装置であって、
該アゾベンゼン構造を有する高分子化合物の分子を移動させて、該記録層を変形せしめる書き込み光を該記録層上に照射して、該記録層表面にレリーフパターンを形成する書き込み部と、
該レリーフパターン上に、未硬化の熱硬化性または光硬化性樹脂を含む情報記録媒体を適用する情報記録媒体供給部と、
情報記録媒体を熱または光により硬化させる情報記録媒体硬化部と、
硬化された情報記録媒体から前記記録媒体を剥離する剥離部と、
該記録媒体を再利用するために、剥離された記録媒体から該レリーフパターンを消去するパターン消去部とを具備することを特徴とする情報記録装置。
【請求項５】
前記第１及び第２の情報記録媒体は、アゾベンゼン構造を有する高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない波長で硬化する光硬化性樹脂を含む請求項４に記載の情報記録装置。
【請求項６】
前記第１及び第２の情報記録媒体は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物のレリーフ形成、消去に関係しない温度で硬化する熱硬化性樹脂を含む請求項４に記載の情報記録装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−２５６４８５（Ｐ２０１０−２５６４８５Ａ）
【公開日】平成２２年１１月１１日（２０１０．１１．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１０４１９５（Ｐ２００９−１０４１９５）
【出願日】平成２１年４月２２日（２００９．４．２２）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月１１日（２０１０．１１．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年４月２２日（２００９．４．２２）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【Ｆターム（参考）】
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