説明

新規なチアジノインドール化合物およびその製造方法

【課題】 新規な複素環化合物及びその新規な製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物、及びスルフェンアミド化合物とアルデヒド化合物を反応させることによる前記(A)で表されるチアジノインドール化合物製造方法。
【化1】


(式中、Rは、鎖状若しくは環状のアルキル基、鎖状若しくは環状アルコキシル基、鎖状若しくは環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。nは0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに鎖状若しくは環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、芳香族基又は複素環基を示す。)

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、新規な複素環化合物である3,4−ジヒドロチアジノインドール−1−オン化合物及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
環内に窒素−硫黄(N−S)結合を有する複素環化合物である1,2−チアジン化合物は種々の機能性を持つことが報告されている(非特許文献1)。たとえば、1,2−ベンゾチアジン−1,1−ジオキシドには抗炎症作用(非特許文献2)や解熱作用(非特許文献3)、抗関節炎作用(非特許文献4)、あるいは炭酸脱水酵素阻害作用(特許文献1)等が知られている。またアゾ基を導入して染料として用いられている(非特許文献5)。
【0003】
複素環化合物であるチアジノインドール化合物は、その環内に1,2−チアジン骨格を有するために、1,2−チアジンン化合物のように、種々の機能性を示すことが期待できる。したがって、複素環化合物であるチアジノインドール化合物について合成研究は重要なことであるが、その合成例は知られていない。新規なチアジノインドール化合物を得ることは、当該技術の背景を考えると重要なことである。
【0004】
チアジノインドール化合物を合成するにあたり、従来から知られている1,2−チアジン化合物を形成する方法を用いることが考えられる。この方法では最初に窒素−硫黄(N−S)結合を形成して成環する方法が最もよく用いられている(非特許文献1)。窒素−硫黄(N−S)結合を有する化合物を得るには、ジスルフィド類に塩素を反応させて得られる塩化スルフェニル化合物にアミン類を反応させる方法が通常行われてきた。この方法では、塩素は有毒なガスであり、取り扱いに注意をはらうにしても、製造に際しては危険を伴い、そのために製造工程では危険を回避する種々の手段を講ずる必要が生じていた。したがって、チアジノインドール化合物を形成するにあたっても、ジスルフィド類に塩素を反応させて得られる塩化スルフェニル化合物にアミン類を反応させ、窒素−硫黄(N−S)結合を形成して成環する方法を適用することは好ましくなく、塩素を用いない新たな製造方法の開発が必要不可欠である。
また、スルフェンアミド化合物とアルデヒド化合物の脱水縮合反応により、N−スルフェニルイミン化合物が得られることは知られており(特許文献2)、この方法を用いることが手がかりになるのではないかと考えた。
【0005】
【特許文献1】米国特許第5240923号
【特許文献2】特公平5−87063号公報
【非特許文献1】A. R.Katritzky, C. W. Rees, and E. F. V. Scriven編 “ComprehensiveHeterocyclic Chemistry II,” 第6巻,349ページ.
【非特許文献2】I. G. Otternessand D. J. Gans, J. Pharm. Sci.,, 77, 790 (1988).
【非特許文献3】G. P. Agrawal等, Pharmazie,59, 191 (2004).
【非特許文献4】H. Zinnes等, J. Med.Chem., 25, 12 (1982).
【非特許文献5】R. Rajagopaland E. Bulka, Dyes Pigm., 13, 93, 161 (1990).
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の課題は、新規なチアジノインドール化合物及びその新規な方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、窒素−硫黄結合(N−S結合)を含む複素環化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、電子豊富なアシル基を有するS−アシルチオヒドロキシルアミン化合物(スルフェンアミド化合物)とアルデヒド化合物を脱水縮合させると、中間体として生じたイミン化合物が環化反応を起こすことに注目し、S−(2−インドールカルボニル)チオヒドロキシルアミン化合物(スルフェンアミド化合物)と、特定のアルデヒド化合物を反応させると、新規化合物であるチアジノインドール化合物を一段階で得ることを見出して、本発明を完成させたものである。又、S−アシルチオヒドロキシルアミン化合物(スルフェンアミド化合物)の合成の際には、有毒な塩素ガスを用いることがないので、その方法としても従来の製法に対する要望と合致するものである。
【0008】
本発明によれば、以下の発明が提供される。
(1)一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物。
【化1】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【0009】
(2)一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する方法において、一般式(B)で表されるスルフェンアミド化合物と一般式(C)で表されるアルデヒド化合物を反応させることを特徴とするチアジノインドール化合物の製造方法。
【化2】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【化3】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状及び炭素数3〜8の環状のアルキル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。)
【化4】

(式中、Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【0010】
(3)一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する方法において、一般式(B)で表されるスルフェンアミド化合物と、一般式(C)で表されるアルデヒド化合物を反応させて得られる一般式(D)で表されるイミン化合物を製造し、次に酸の存在下で環化反応を行うことを特徴とするチアジノインドール化合物の製造方法。
【化5】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【化6】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。)
【化7】

(式中、Rは、Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【化8】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【0011】
(4)一般式(D)で表されるイミン化合物。
【化9】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【0012】
(5)一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する方法において、一般式(D)で表されるイミン化合物に対して、酸の存在下で環化反応を行うことを特徴とするチアジノインドール化合物の製造方法。
【化10】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【化11】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【0013】
本発明の合成反応は、次のような反応機構によって表すことができる。
スルフェンアミド化合物とアルデヒド化合物に酸を触媒として脱水縮合反応を行うと、イミン化合物を与えることは知られている。今回の発明においては、電子豊富な置換基であるインドール基があるために、酸の存在下さらに環化反応が進行して目的のチアジノインドール化合物が得られる。別途に合成したイミン化合物に対して酸を加えて反応を行うことにより、同様にチアジノインドール化合物を得ることもできる。
【化12】

【発明の効果】
【0014】
本発明で得られる新規なチアジノインドール化合物は、その用途として、除草剤、及び殺菌剤として用いることができる。
本発明のチアジノインドール化合物は、スルフェンアミド化合物とアルデヒド化合物を反応させることにより、収率よく製造することができる。これは、スルフェンアミド化合物とアルデヒド化合物の脱水縮合反応によって生じたイミン結合に対して電子豊富なオレフィンを反応させる新規な製造方法である。この製法には、有毒とされる塩素や臭素を用いることないので、安全にかつ容易に窒素−硫黄結合を有する複素環化合物として製造することができる。従来知られている製造方法として比較して優れた方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0015】
本発明の目的化合物は、以下の一般式(A)により示されるチアジノインドール化合物である。
【化13】

式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。
【0016】
前記Rの炭素数1〜8の鎖状アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、イソブチル、n−ペンチル、ペンチル、イソペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、t−ヘキシル、n―ヘプチル、イソヘプチル、t−ヘプチル、n−オクチル、i−オクチル、t−オクチル基を挙げることができる。炭素数3〜8の環状アルキル基の具体例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基を挙げることができる。
前記Rの炭素数1〜8の鎖状アルコキシル基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、t−ブトキシ、n−ペンチロキシ、イソペンチロキシ、t−ペンチロキシ、n−ヘキシロキシ、i−ヘキシロキシ、t−ヘキシロキシ基、炭素数3〜8の環状アルキル基の具体例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基を挙げることができる。
前記Rの炭素数2〜9の鎖状アルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ペンチロキシカルボニル、イソペンチロキシカルボニル、t−ペンチロキシカルボニル、ヘキシロキシカルボニル、イソヘキシロキシカルボニル、t−ヘキシロキシカルボニル基、炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基としては、シクロプロポキシカルボニル、シクロヘキシロキシルカルボニル基を挙げることができる。
炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基としては、シクロプロポキシカルボニル、シクロブチトキシカルボニル、シクロペンチロキシカルボニル、シクロヘキシロキシルカルボニル、シクロヘプチロキシカルボニル、シクロオクチロキシカルボニル基を挙げることができる。
前記Rのハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素が挙げられる。
前記Rの炭素数1〜8の鎖状アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、t−ヘキシル、ヘプチル、i−ヘプチル、t−ヘプチル、オクチル、i−オクチル、t−オクチル基、炭素数3〜8の環状のアルキル基の具体例としてはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基を挙げることができる。
前記Rの芳香族基の具体例としては、フェニル、メチルフェニル、エチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリメトキシフェニル、メトキシエトキシフェニル、メトキシカルボニルフェニル、エトキシカルボニルフェニル、ヒドロキシフェニル、ヒドロキシメトキシフェニル、ニトロフェニル、ジニトロフェニル、シアノフェニル、フルオロフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニル、ナフチル、メチルナフチル、エチルナフチル、ジメチルナフチル、トリメチルナフチル、メトキシナフチル、エトキシナフチル、ジメトキシナフチル、トリメトキシナフチル、メトキシエトキシナフチル、メトキシカルボニルナフチル、エトキシカルボニルナフチル、ヒドロキシナフチル、ヒドロキシメトキシナフチル、ニトロナフチル、ジニトロナフチル、シアノナフチル、フルオロナフチル、クロロナフチル、ブロモナフチル基を挙げることができ、それぞれ位置異性体が存在する。
前記Rの複素環基の具体例としては、フリル、チエニル、ピリジル、キノリル、イソキノリル、ピリミジニル、ピロリル、ピペロニル、メチルフリル、メチルチエニル、メチルピリジル、ジメチルピリジル、メトキシフリル、メトキシフリル、メトキシチエニル、メトキシピリジル、ジメトキシピリジル、メトキシカルボニルフリル、メトキシカルボニルチエニル、メトキシカルボニルピリジル、ヒドロキシピリジル、ニトロフリル、ニトロチエニル、ニトロピリジル、シアノフリル、シアノチエニル、シアノピリジル、フルオロフリル、フルオロチエニル、フルオロピリジル、クロロフリル、クロロチエニル、クロロピリジル、ブロモフリル、ブロモチエニル、ブロモピリジル基をあげることができ、それぞれ位置異性体が存在する。
【0017】
前記一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する方法は、以下の通りである。
下記一般式(B)で表されるスルフェンアミド化合物に対し、下記一般式(C)で表されるアルデヒド化合物を反応させる。
【化14】

式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。
前記式中、RおよびRは、前記一般式(A)により示されるチアジノインドール化合物のRおよびRの場合と同じである。
【化15】

式中、Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。
【0018】
前記一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する方法は、一般式(B)で表されるスルフェンアミド化合物と、一般式(C)で表されるアルデヒド化合物を反応させて得られる一般式(D)で表されるイミン化合物を製造し、次に酸の存在下で環化反応を行うことにより目的とする一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造することができる。反応条件は、ほぼ前の方法と同じである。
一般式(D)で表されるイミン化合物は、一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する際の中間体である。
【化16】

式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。
【化17】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。)
【化18】

(式中、Rは、Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【化19】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【0019】
前記一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する方法については、
前記一般式(D)で表されるイミン化合物を原料とする場合の反応は以下の通りである。
下記一般式(D)で表されるイミン化合物を酸の存在下反応させる。
【化20】

式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。
前記式中、R、RおよびRは、前記一般式(A)により示されるチアジノインドール化合物のR、RおよびRの場合と同じである。
【0020】
この反応は、好ましくは反応溶媒の存在下で実施される。この場合の反応溶媒は、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等の有機溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
【0021】
この反応は触媒として酸を添加することにより実施される。この場合の酸としてベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、硫酸、三フッ化ホウ素等の強酸が挙げられる。
【0022】
反応温度は、0℃〜150℃の範囲の温度で行うことができる。この温度範囲以下の低温の場合には反応時間が遅くなり、この範囲を超えて高すぎる場合には、異常な分解反応や副反応が多い結果となる。このようなことから、前記温度範囲は、20℃〜120℃の範囲であることが好ましい。
反応時間は、反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は2〜10時間で十分である。
【0023】
前記反応の原料物質である(B)、(C)は公知物質である。
(B)の製法の一例を挙げれば、インドール−2−チオカルボン酸化合物のヒドロキシルアミン−O−スルホン酸によるアミノ化反応による製造方法を挙げることができる。
(C)は市販されている化合物を用いることができる。
【0024】
本発明で得られるチアジノインドール化合物の具体例について例示すると以下の化学式(1)〜(8)で示される化合物である。しかしながら、これらの化合物に限定されるものではない。
【化21】

【0025】
これら本発明の化合物は、除草剤、殺菌剤として用いられる。
【0026】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。
以下に述べる実施例は本発明の理解を容易にするために代表的な化合物の一例をあげたものであり、本発明はこれに限定されるものではない。
下記実施例に記載されているチアジノインドール化合物は、すべて新規化合物である。構造決定に際しては、各種スペクトルの結果により同定した。
また、製造された化合物(1)〜(8)は、前記で示した化合物(1)〜(8)に対応するもので、その物性値としては、融点、核磁気共鳴スペクトル(H−NMR,13C−NMR)、赤外吸収スペクトル(IR)の順にそれぞれ記した。
【実施例1】
【0027】
内容積20mlのガラス製容器中に2−スルフェナモイルカルボニルインドール(200mg,1.01mmol)とベンズアルデヒド(108mg,1.01mol)をクロロホルム(10ml)に溶解させ、少量のp−トルエンスルホン酸を加え、加熱環流下で3時間攪拌した。クロロホルムを減圧下留去させ、粗生成物を、シリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒、塩化メチレン:酢酸エチル=20:1)で精製することにより、目的生成物を得た(収率:41%)。
目的生成物の構造式は、化合物(1)のチアジノインドール化合物であることを以下の結果から確認した。

融点(℃):206.7-207.4 (酢酸エチル-ヘキサン).
1H-NMR(CDCl3):δ4.31 (1H, d, J=8.0 Hz), 5.7 (1H, d, J=8.0 Hz), 7.04 (2H, d, J=4.3 Hz), 7.26 (1H, s), 7.38 (5H, s), 7.48 (1H, d, J=8.5 Hz), 9.08 (1H, s);13C-NMR(CDCl3) :δ107.8, 112.1, 121.3, 122.9, 126.5, 128.3, 128.8, 130.5, 131.1, 131.2, 131.3, 131.5, 131.7, 163.4;IR (KBr) :νmax 469, 494, 1132, 1636, 3278 cm-1.
元素分析:C16H12N2OSとしての計算値;C: 68.55, H: 4.31, N: 9.99. 実測値;C: 68.67, H: 4.16, N: 9.91.

【実施例2】
【0028】
実施例1において、ベンズアルデヒドの代わりにp−クロロベンズアルデヒドを用いて同様な操作を行うことにより、目的生成物を得た(収率:27%)。
目的生成物の構造式は、化合物(2)のチアジノインドール化合物であることを以下の結果から確認した。

1H-NMR(CDCl3) :δ4.37 (1H, d, J=7.3 Hz), 5.71 (1H, d, J=7.3 Hz), 7.08-7.15 (2H, m), 7.32 (4H, dd, J=15.8, 8.8 Hz), 7.40 (1H, dt, J=10.6, 3.8 Hz), 7.49 (1H, d, J=8.5 Hz), 9.12 (1H,s);13C-NMR(CDCl3) :δ112.7, 121.6, 121.7, 126.1, 127.6, 128.3, 128.9, 129.1, 129.2, 129.5, 129.9, 130.1, 136.3, 162.8;IR(KBr) :νmax 747, 1327, 1607 cm-1

【実施例3】
【0029】
実施例1において、ベンズアルデヒドの代わりに2−ナフトアルデヒドを用いて同様な操作を行うことにより、目的生成物を得た(収率:22%)。
目的生成物の構造式は、化合物(3)のチアジノインドール化合物であることを以下の結果から確認した。

1H-NMR (CDCl3) :δ4.42 (1H, d, J=7.8 Hz), 5.89 (1H, d, J=7.8 Hz), 7.04 (2H, ddd, J=21.8, 14.8, 2.7 Hz), 7.37-7.40 (1H, m), 7.45-7.52 (3H, m), 7.60 (1H, dd, J=8.5, 1.8 Hz), 7.72 (2H, t, J=10.8 Hz), 7.87 (2H, t, J=8.7 Hz), 9.11 (1H, s);13C-NMR (CDCl3) :δ121.3, 121.7, 122.7, 126.1, 126.2, 126.3, 127.0, 127.6, 127.9, 128.0, 128.1, 129.0, 129.5, 131.3, 132.6, 133.0, 134.0, 134.5, 136.4, 192.3;IR (KBr) :νmax 751, 1031, 1236, 1615 cm-1

【実施例4】
【0030】
実施例1において、ベンズアルデヒドの代わりにチオフェン−2−アルデヒドを用いて同様な操作を行うことにより、目的生成物を得た(収率:25%)。
目的生成物の構造式は、化合物(4)のチアジノインドール化合物であることを以下の結果から確認した。

1H-NMR(CDCl3) :δ4.53 (1H, d, J=6.1 Hz), 5.99 (1H, d, J=6.1 Hz), 7.12-7.20 (2H, m), 7.33-7.49 (3H, m), 7.59 (1H, dd, J=6.1, 0.9 Hz), 7.72 (1H, d, J=7.9 Hz), 8.87 (1H, s);13C-NMR(CDCl3) :δ126.4, 127.7, 129.4, 129.5, 129.60, 129.62, 129.6, 129.7, 129.8, 130.2, 130.4, 131.3, 131.9, 172.0;IR (KBr) :νmax 700, 1023, 1132, 1637 cm-1

【実施例5】
【0031】
実施例1において、2−スルフェナモイルカルボニルインドールの代わりに1−メチル−2−スルフェナモイルカルボニルインドールを用いて同様な操作を行うことにより、目的生成物を得た(収率:53%)。
目的生成物の構造式は、化合物(5)のチアジノインドール化合物であることを以下の結果から確認した。

融点(℃):156.4-158.8 (酢酸エチル−ヘキサン).
1H-NMR(CDCl3) :δ4.14 (3H, s), 4.36 (1H, d, J=7.0 Hz), 5.77 (1H, d, J=7.0 Hz), 7.04-7.11 (2H, m), 7.26 (1H, s), 7.35 (4H, s), 7.42 (2H, d, J=3.4 Hz);13C-NMR(CDCl3) :δ32.37, 57.68, 110.70, 121.21, 121.83, 123.78, 126.46, 127.13, 128.55, 128.70, 130.39, 138.15, 138.22, 189.33;IR (KBr) :νmax 745, 960, 1631, 3257 cm-1.
元素分析:C17H14N2OSとしての計算値;C: 69.36, H: 4.79, N: 9.52. 実測値:C: 69.35, H: 4.74, N: 9.65.

【実施例6】
【0032】
実施例5において、ベンズアルデヒドの代わりにp−メチルベンズアルデヒドを用いて同様な操作を行うことにより、目的生成物を得た(収率:34%)。
目的生成物の構造式は、化合物(6)のチアジノインドール化合物であることを以下の結果から確認した。

融点(℃):182.1-184.0 (酢酸エチル−ヘキサン).
1H-NMR(CDCl3) :δ2.35 (3H, s), 4.11 (3H, s), 4.32 (1H, d, J=7.1 Hz), 5.71 (1H, d, J=7.1 Hz), 7.03-7.15 (3H, m), 7.22 (3H, d, J=8.2Hz), 7.40-7.41 (2H, m);13C-NMR (CDCl3) :δ32.2, 57.3, 110.5, 120.9, 121.7, 123.6, 126.9, 128.4, 129.2, 130.5, 130.7, 138.0, 138.2, 149.5, 151.1, 189.2;IR (KBr) :νmax 745, 1211, 1369, 1616, 3279 cm-1
元素分析:C18H16N2OSとしての計算値;C: 70.10, H: 5.23, N: 9.08. 実測値;C: 70.21, H: 5.22, N: 8.96.

【実施例7】
【0033】
実施例5において、ベンズアルデヒドの代わりにp−クロロベンズアルデヒドを用いて同様な操作を行うことにより、目的生成物を得た(収率:26%)。
目的生成物の構造式は、化合物(7)のチアジノインドール化合物であることを以下の結果から確認した。

融点(℃):228.1-230.5 (酢酸エチル−ヘキサン).
1H-NMR(CDCl3) :δ4.11 (3H, s), 4.41 (1H, d, J=6.2 Hz), 5.73 (1H, d, J=6.2 Hz), 7.08-7.12 (1H, m), 7.19 (1H, d, J=8.2 Hz), 7.27 (4H, dd, J=16.0, 9.0 Hz), 7.43 (2H, ddd, J=14.9, 8.7, 0.8 Hz);13C-NMR(CDCl3) :δ32.2, 56.2, 110.6, 121.2, 121.3, 123.4, 125.5, 126.0, 127.1, 128.6, 129.9, 134.1, 136.2, 138.0, 188.8;IR (KBr) :νmax 746, 962, 1631, 3250 cm-1
元素分析:C17H13ClN2OSとしての計算値;C: 62.10, H: 3.98, N: 8.52. 実測値;C: 61.69, H: 3.90, N: 8.46.

【実施例8】
【0034】
実施例5において、ベンズアルデヒドの代わりにピペロナールを用いて同様な操作を行うことにより、目的生成物を得た(収率:37%)。
目的生成物の構造式は、化合物(8)のチアジノインドール化合物であることを以下の結果から確認した。

融点(℃):197.8-199.5 (酢酸エチル−ヘキサン).
1H-NMR(CDCl3) :δ4.11 (3H, s), 4.33 (1H, d, J=6.7 Hz), 5.67 (1H, d, J=6.4 Hz), 5.95 (2H, s), 6.74 (2H, s), 6.86 (1H, s), 7.08 (1H, ddd, J=7.6, 5.8, 1.5 Hz), 7.19 (1H,d, J=8.2Hz), 7.39-7.43 (2H, m);13C-NMR(CDCl3) 32.2, 57.0, 101.2, 108.1, 109.0, 110.6, 121.1, 121.6, 122.2, 123.5, 126.2, 126.3, 127.0, 131.8, 138.1, 147.6, 147.9, 189.1;IR (KBr):νmax 747, 814, 903, 933, 964, 1211, 1504, 1632, 2896, 3248 cm-1
元素分析:C18H14N2O3Sとしての計算値;C: 63.89, H: 4.17, N: 8.28. 実測値;C: 63.79, H: 4.08, N: 7.95.

【実施例9】
【0035】
内容積50mlのガラス製容器中に2−(N−ベンジリデンスルフェナモイルカルボニル)インドール(200mg,1.01mmol)をクロロホルム(30ml)に溶解させ、少量のp−トルエンスルホン酸を加え、加熱環流下で3時間攪拌した。クロロホルムを減圧下留去させ、粗生成物を、シリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒、塩化メチレン:酢酸エチル=2:1)で精製することにより、目的生成物(1)のチアジノインドール化合物を得た(収率:31%)。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物。
【化1】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【請求項2】
一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する方法において、一般式(B)で表されるスルフェンアミド化合物と一般式(C)で表されるアルデヒド化合物を反応させることを特徴とするチアジノインドール化合物の製造方法。
【化2】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【化3】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状及び炭素数3〜8の環状のアルキル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。)
【化4】

(式中、Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【請求項3】
一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する方法において、一般式(B)で表されるスルフェンアミド化合物と、一般式(C)で表されるアルデヒド化合物を反応させて得られる一般式(D)で表されるイミン化合物を製造し、次に酸の存在下で環化反応を行うことを特徴とするチアジノインドール化合物の製造方法。
【化5】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【化6】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。)
【化7】

(式中、Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【化8】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【請求項4】
一般式(D)で表されるイミン化合物。
【化9】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【請求項5】
一般式(A)で表されるチアジノインドール化合物を製造する方法において、一般式(D)で表されるイミン化合物に対して、酸の存在下で環化反応を行うことを特徴とするチアジノインドール化合物の製造方法。
【化10】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)
【化11】

(式中、Rは、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、nは、0又は1〜4の整数である。Rは、水素原子、並びに炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基から選ばれる基又は原子を表す。Rは、炭素数6〜10の芳香族基又は炭素数2〜10の複素環基を示す。これらの芳香族基又は複素環基は、置換基として炭素数1〜8の鎖状若しくは炭素数3〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜8鎖状若しくは炭素数3〜8の環状アルコキシル基、炭素数2〜12の鎖状若しくは炭素数4〜9の環状アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、並びにハロゲン原子から選ばれる基又は原子を有していてもよい。)

【公開番号】特開2007−217335(P2007−217335A)
【公開日】平成19年8月30日(2007.8.30)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−39196(P2006−39196)
【出願日】平成18年2月16日(2006.2.16)
【出願人】(301021533)独立行政法人産業技術総合研究所 (6,529)
【Fターム(参考)】