新規な芳香族化合物およびその製造方法
【課題】高耐熱性、高屈折率などの特性を有する新規な芳香族化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される新規な芳香族化合物は、酸触媒の存在下、下記式（２）で表される化合物と下記式（３）で表される化合物とを反応させることにより得られる。
（式中、環Ｘは、ｏ−キノンから２つのオキソ基を除いた環、Ｒ１は置換基、ｐは０以上の整数、環Ｚは芳香族炭化水素環、Ｒ２はアルキレン基、ｑは０以上の整数、ｒは１以上の整数、Ｒ３は置換基、ｓは０以上の整数を示す。）
【解決手段】下記式（１）で表される新規な芳香族化合物は、酸触媒の存在下、下記式（２）で表される化合物と下記式（３）で表される化合物とを反応させることにより得られる。
（式中、環Ｘは、ｏ−キノンから２つのオキソ基を除いた環、Ｒ１は置換基、ｐは０以上の整数、環Ｚは芳香族炭化水素環、Ｒ２はアルキレン基、ｑは０以上の整数、ｒは１以上の整数、Ｒ３は置換基、ｓは０以上の整数を示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ｏ−キノン類（アセナフテンキノン類、フェナントレンキノン類など）の一方のオキソ基が２つの特定の芳香環基に置換した構造を有する新規な芳香族化合物およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
芳香族ポリオール（ジオールなど）は、耐熱性などの優れた特性を有しているため、各種ポリマーのモノマーなどとして使用されている。例えば、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレンなどのフルオレン骨格を有するジオールは、耐熱性が高い、高屈折率である、複屈折が小さいといった特徴を有しており、光学材料の原料などとして有用である。なお、フルオレン骨格を有するジオールが芳香族ジオールの中でも、特にこのような優れた特性を有する理由は、フルオレン化合物の所謂カルド型構造と呼ばれる特異的な化学構造に起因するためであると考えられている。しかしながら、このような芳香族ジオールの中でも特に、各種特性に優れたフルオレン骨格を有するジオールであっても、耐熱温度や屈折率向上などの点で、さらなる改善が望まれている。
【０００３】
このように、モノマー用途などとして、新規な芳香族ポリオールの開発が期待されている。
【０００４】
なお、特開２００５−３２６８３８号公報（特許文献１）には、特定のポリフェノール化合物と、特定の酸発生剤と、酸架橋剤とを含む感放射線レジスト組成物が開示されており、前記ポリフェノール化合物の例として、下記式で表される化合物などを開示している。
【０００５】
【化１】
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−３２６８３８号公報（特許請求の範囲、段落番号［０２６９］、［０２８１］）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有する新規な芳香族化合物、およびその製造方法を提供することにある。
【０００８】
本発明の他の目的は、上記のような新規な芳香族化合物を効率よく製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、ｏ−キノン類の一方のオキソ基が、ヒドロキシル基を有する特定の芳香族炭化水素類（ヒドロキシアレーン類、ヒドロキシアルコキシアレーン類など）に２つ置換した新規な芳香族化合物（環集合芳香族化合物）は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有していることを見出し、本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明の新規な芳香族化合物は、下記式（１）で表される化合物である。
【００１１】
【化２】
【００１２】
（式中、環Ｘは、ｏ−キノンから２つのオキソ基を除いた環、Ｒ１は置換基、ｐは０以上の整数、環Ｚは芳香族炭化水素環、Ｒ２はアルキレン基、ｑは０以上の整数、ｒは１以上の整数、Ｒ３は置換基、ｓは０以上の整数を示す。ただし、Ｘがアセナフテンキノン又はｏ−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環であり、かつＺがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。）
前記式（１）において、ｏ−キノンは、縮合多環式芳香族炭化水素のｏ−キノン（例えば、アセナフテンキノン、ｏ−アセアントレンキノン、ｏ−フェナントレンキノンなど）であってもよく、特に、前記式（１）で表される化合物は、下記式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物であってもよい。
【００１３】
【化３】
【００１４】
（式中、ｐ１は０〜３の整数、ｐ２は０〜４の整数を示し、Ｒ１、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
前記式（１）（前記式（１Ａ）および（１Ｂ）を含む。以下同じ）において、ｑは、特に、１以上の整数であってもよい。このようなｑが１以上である化合物は、代表的には、前記式（１）において、環Ｚがベンゼン環又はナフタレン環であり、ｑが１〜４であり、ｒが１〜３である化合物などが含まれる。
【００１５】
本発明には、前記新規な芳香族化合物の製造方法も含まれる。このような製造方法は、例えば、酸触媒の存在下、下記式（２）で表される化合物と下記式（３）で表される化合物とを反応させて、前記化合物（前記式（１）で表される化合物）を製造する方法であってもよい。
【００１６】
【化４】
【００１７】
（式中、Ｘ、Ｒ１、ｐ、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
前記方法において、特に、ｑは１以上の整数であってもよい。また、前記方法において、酸触媒は、スルホン酸で構成してもよい。スルホン酸で酸触媒を構成すると、前記式（２）で表される化合物と前記式（３）で表される化合物（特に、前記式（３）においてｑが１以上である化合物）との反応をより一層効率よく進行させることができる。
【００１８】
前記方法では、酸触媒に加えて、さらに、チオール類の存在下で反応させてもよい。このようなチオール類を併用する方法では、代表的には、酸触媒が、アルカンスルホン酸およびハロアルカンスルホン酸から選択された少なくとも１種で構成されており、かつチオール類が、アルキルメルカプタンで構成されていてもよい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の新規な芳香族化合物は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有している。このような芳香族化合物は、樹脂原料、酸化防止剤、硬化剤などの用途に適用可能である。例えば、本発明の芳香族化合物は、複数のヒドロキシル基を有しているため、樹脂（例えば、ポリエステル樹脂など）のポリオール成分（例えば、ジオール成分）として使用でき、樹脂に前記のような高耐熱性や高屈折率を付与する効果が期待できる。また、本発明の方法では、上記のような新規な芳香族化合物を効率よく製造できる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
［芳香族化合物］
本発明の新規な芳香族化合物は、下記式（１）で表される。
【００２１】
【化５】
【００２２】
（式中、環Ｘは、ｏ−キノンから２つのオキソ基を除いた環（ｏ−キノンに対応する環）、Ｒ１は置換基、ｐは０以上の整数、環Ｚは芳香族炭化水素環、Ｒ２はアルキレン基、ｑは０以上の整数、ｒは１以上の整数、Ｒ３は置換基、ｓは０以上の整数を示す。ただし、Ｘがアセナフテンキノン又はｏ−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環であり、かつＺがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。）
上記式（１）において、ｏ−キノンとしては、芳香族複素環（フェナントロリンなど）のｏ−キノンであってもよいが、通常、芳香族炭化水素のｏ−キノンが挙げられる。芳香族炭化水素（環）のｏ−キノンとしては、例えば、ベンゼン環のｏ−キノン（すなわち、ｏ−ベンゾキノン）、縮合多環式芳香族炭化水素（環）（例えば、インデン、ナフタレン、インダセン、アセナフチレン、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン、アセアントリレン、アセフェナントリレン、ピレン、トリフェニレン、ナフタセン、クリセン、ペリレン、ペンタフェン、ジベンゾフェナントレン、ヘキサフェンなどの縮合２乃至１０環式芳香族炭化水素（環）、好ましくは縮合２乃至６環式芳香族炭化水素、さらに好ましくは縮合３又は４環式芳香族炭化水素など）のｏ−キノン［例えば、ｏ−ナフトキノン（１，２−ナフトキノンなど）、アセナフテンキノン、ｏ−アントラキノン（１，２−アントラキノンなど）、ｏ−アセアントレンキノン（１，２−アセアントレンキノンなど）、ｏ−フェナントレンキノン（９，１０−フェナントレンキノンなど）、ｏ−クリセンキノン（５，６−クリセンキノンなど）など］などが挙げられる。
【００２３】
これらのうち、好ましいｏ−キノンは、縮合多環式芳香族炭化水素のｏ−キノン（例えば、アセナフテンキノン、ｏ−アセアントレンキノン、ｏ−フェナントレンキノンなどの縮合２乃至６環式芳香族炭化水素のｏ−キノン）であり、特に、アセナフテンキノン、ｏ−フェナントレンキノンなどの縮合３又は４環式芳香族炭化水素のｏ−キノンが好ましい。
【００２４】
環Ｘの置換基Ｒ１としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、アミノ基、カルバモイル基、ニトロ基、シアノ基、スルホニル基、炭化水素基｛例えば、アルキル基（メチル、エチル、ブチル、ｔ−ブチル基、ペンチル基などのＣ１−２０アルキル基、好ましくはＣ１−１０アルキル基、さらに好ましくはＣ１−６アルキル基、特にＣ１−４アルキル基）、シクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロへキシル基などのＣ５−１０シクロアルキル基、好ましくはＣ５−８シクロアルキル基、さらに好ましくはＣ５−６シクロアルキル基など）、アリール基［フェニル基、アルキルフェニル基（メチルフェニル基（又はトリル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基など）、ジメチルフェニル基（キシリル基）など）、ナフチル基などのＣ６−１４アリール基、好ましくはＣ６−１０アリール基、さらに好ましくはＣ６−８アリール基］、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基などのＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキル基など）など｝、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１−６アルコキシ基、好ましくはＣ１−４アルコキシ基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基などのＣ１−６アルキルチオ基など）、アシル基［ホルミル基、アルキルカルボニル基（例えば、アセチル、プロピオニル基などのＣ１−６アルキル−カルボニル基）、アロイル基（例えば、ベンゾイル基など）など］、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル基などのＣ１−６アルコキシ−カルボニル基）、これらの置換基同士が結合した置換基［例えば、アルコキシアリール基（例えば、メトキシフェニル基などのＣ１−４アルコキシＣ６−１０アリール基）、アルコキシカルボニルアリール基（例えば、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基などのＣ１−４アルコキシ−カルボニルＣ６−１０アリール基など）］などが挙げられる。環Ｘは、これらの置換基を単独又は組み合わせて有していてもよい。
【００２５】
代表的なＲ１には、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子など）、炭化水素基［例えば、アルキル基、アリール基（フェニル基などのＣ６−１０アリール基）など］などが挙げられ、特に、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基（Ｃ１−４アルキル基など）、アルコキシ基（Ｃ１−４アルコキシ基など）、アリール基（Ｃ６−８アリール基など）であってもよい。
【００２６】
置換基Ｒ１の置換数ｐは、０以上の整数であればよく、環Ｘの種類にもよるが、例えば、０〜８、好ましくは０〜６、さらに好ましくは０〜３程度であってもよく、特に０であってもよい。
【００２７】
芳香族炭化水素環Ｚとしては、前記ｏ−キノンの項で例示の芳香族炭化水素環が挙げられる。代表的な芳香族炭化水素環は、ベンゼン環、縮合多環式炭化水素環［例えば、縮合二環式炭化水素環（例えば、インデン、ナフタレンなどのＣ８−２０縮合二環式炭化水素環、好ましくはＣ１０−１６縮合二環式炭化水素環）、縮合三環式炭化水素環（例えば、アントラセン、フェナントレンなど）などの縮合２乃至４環式炭化水素環］などであり、ベンゼン環又はナフタレン環（特に、ベンゼン環）であるのが好ましい。なお、２つの環Ｚは同一の又は異なる環であってもよく、通常、同一の環であってもよい。
【００２８】
また、前記式（１）において、基Ｒ２で表されるアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基（１，２−プロパンジイル基）、トリメチレン基、１，２−ブタンジイル基、テトラメチレン基などのＣ２−１０アルキレン基（例えば、Ｃ２−６アルキレン基）、好ましくはＣ２−４アルキレン基、さらに好ましくはＣ２−３アルキレン基（特にエチレン基）が挙げられる。なお、ｑが２以上であるとき、アルキレン基は異なるアルキレン基で構成されていてもよく、通常、同一のアルキレン基で構成されていてもよい。また、２つの芳香族炭化水素環Ｚにおいて、基Ｒ２は同一であっても、異なっていてもよく、通常同一であってもよい。
【００２９】
オキシアルキレン基（ＯＲ２）の数（付加モル数）ｑは、０以上（例えば、０〜１０）であればよく、例えば、０〜８（例えば、１〜８）、好ましくは０〜４（例えば、１〜４）、さらに好ましくは０〜３（例えば、１〜３）、特に０〜１であってもよい。ｑは、異なる環Ｚに対して、同一であっても、異なっていてもよい。なお、前記のように、Ｘがアセナフテンキノンから２つのオキソ基を除いた環（すなわち、アセナフテン環）又はｏ−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環であり、かつＺがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。
【００３０】
また、前記式（１）において、ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基［すなわち、−（Ｒ２Ｏ）ｑ−ＯＨ］の環Ｚに対する置換数ｒは、１以上であればよく、環Ｚに種類にもよるが、例えば、１〜６（例えば、１〜４）、好ましくは１〜３、さらに好ましくは１〜２、特に１であってもよい。なお、ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基の置換位置は、特に限定されず、環Ｚの適当な置換位置に置換していればよい。例えば、ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基は、環Ｚがベンゼン環である場合、フェニル基の２〜６位（例えば、フェニル基の３位、４位など）に置換していればよく、好ましくは４位に置換していてもよい。また、ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基は、環Ｚが縮合多環式炭化水素環である場合、縮合多環式炭化水素環において、環Ｘに結合した炭化水素環とは別の炭化水素環（例えば、ナフタレン環の５位、６位など）に少なくとも置換している場合が多い。
【００３１】
環Ｚの置換基Ｒ３としては、前記Ｒ１の項で例示の置換基などが挙げられる。代表的には、基Ｒ３は、炭化水素基（例えば、アルキル基、アリール基など）、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などであってもよい。好ましいＲ３としては、炭化水素基［例えば、アルキル基（例えば、Ｃ１−６アルキル基）、シクロアルキル基（例えば、Ｃ５−８シクロアルキル基）、アリール基（例えば、Ｃ６−１０アリール基）、アラルキル基（例えば、Ｃ６−８アリール−Ｃ１−２アルキル基）など］、アルコキシ基（Ｃ１−４アルコキシ基など）などが挙げられる。特に、Ｒ３は、アルキル基［Ｃ１−４アルキル基（特にメチル基）など］、アリール基［例えば、Ｃ６−１０アリール基（特にフェニル基）など］などであるのが好ましい。
【００３２】
なお、同一の環Ｚにおいて、ｓが複数（２以上）である場合、基Ｒ３は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、２つの環Ｚにおいて、基Ｒ３は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、好ましい置換数ｓは、０〜８、好ましくは０〜４（例えば、０〜３）、さらに好ましくは０〜２であってもよい。なお、異なる環Ｚにおいて、置換数ｓは、互いに同一又は異なっていてもよく、通常同一であってもよい。
【００３３】
代表的な前記式（１）で表される化合物には、例えば、下記式（１Ａ）で表される化合物（前記式（１）において、Ｘがアセナフテンキノンから２つのオキソ基を除いた環である化合物）、下記式（１Ｂ）で表される化合物（前記式（１）において、Ｘが９，１０−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環である化合物）などが含まれる。
【００３４】
【化６】
【００３５】
（式中、ｐ１は０〜３の整数、ｐ２は０〜４の整数を示し、Ｒ１、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
上記式において、ｐ１は、好ましくは０〜１、さらに好ましくは０であってもよい。２つのｐ１は同一又は異なっていてもよい。また、ｐ２は、好ましくは０〜２、さらに好ましくは０〜１、特に０であってもよい。２つのｐ２は同一又は異なっていてもよい。なお、上記式（１）において、Ｒ１、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じである。そのため、Ｚがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。なお、前記式（１Ａ）において、Ｒ１の置換位置は、３〜８位のいずれであってもよいが、好ましくは３又は５位、特に５位であってもよい。また、前記式（１Ｂ）において、Ｒ１の置換位置は、１〜８位のいずれであってもよいが、好ましくは２又は５位であってもよい。
【００３６】
具体的な前記式（１Ａ）で表される化合物には、例えば、２，２−ビス［（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝、２，２−ビス［アルキル−（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、好ましくは２，２−ビス［Ｃ１−６アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、さらに好ましくは２，２−ビス［Ｃ１−４アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝、２，２−ビス［アリール−（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、好ましくは２，２−ビス［Ｃ６−１０アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、さらに好ましくは２，２−ビス［Ｃ６−８アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝、２，２−ビス［ジ又はトリ（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス［３，４−ジ（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［ジ又はトリ（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝などの前記式（１Ａ）において、環Ｚがベンゼン環、ｓ＝０〜４、ｑが１以上（例えば、１〜４）およびｒ＝１〜３（ただし、ｓ＋ｒ≦５）である化合物；２，２−ビス（ヒドロキシナフチル）アセナフテン−１（２Ｈ）−オン［例えば、２，２−ビス［１−（５−ヒドロキシナフチル）］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、２，２−ビス［２−（６−ヒドロキシナフチル）］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなど］、２，２−ビス［（ヒドロキシアルコキシ）ナフチル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス｛１−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフチル］｝アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、２，２−ビス｛２−［６−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフチル］｝アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）ナフチル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝などの前記式（１Ａ）において、環Ｚがナフタレン環、ｓ＝０〜４、ｑが０以上（例えば、０〜４）およびｒ＝１〜３である化合物などが含まれる。
【００３７】
また、具体的な前記式（１Ｂ）で表される化合物には、例えば、１０，１０−ビス［（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝、１０，１０−ビス［アルキル−（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、好ましくは１０，１０−ビス［Ｃ１−６アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、さらに好ましくは１０，１０−ビス［Ｃ１−４アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝、１０，１０−ビス［アリール−（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、好ましくは１０，１０−ビス［Ｃ６−１０アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、さらに好ましくは１０，１０−ビス［Ｃ６−８アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝、１０，１０−ビス［ジ又はトリ（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス［３，４−ジ（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［ジ又はトリ（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝などの前記式（１Ｂ）において、環Ｚがベンゼン環、ｓ＝０〜４、ｑが１以上（例えば、１〜４）およびｒ＝１〜３（ただし、ｓ＋ｒ≦５）である化合物；１０，１０−ビス（ヒドロキシナフチル）フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン［例えば、１０，１０−ビス［１−（５−ヒドロキシナフチル）］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、１０，１０−ビス［２−（６−ヒドロキシナフチル）］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなど］、１０，１０−ビス［（ヒドロキシアルコキシ）ナフチル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス｛１−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフチル］｝フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、１０，１０−ビス｛２−［６−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフチル］｝フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）ナフチル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝などの前記式（１Ｂ）において、環Ｚがナフタレン環、ｓ＝０〜４、ｑが０以上（例えば、０〜４）およびｒ＝１〜３である化合物などが含まれる。
【００３８】
［製造方法］
本発明の新規な芳香族化合物の製造方法としては、特に限定されないが、通常、下記式（２）で表される化合物（ｏ−キノン化合物）と、下記式（３）で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
【００３９】
【化７】
【００４０】
（式中、Ｘ、Ｒ１、ｐ、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
上記式（２）で表される化合物としては、前記式（１）で表される化合物の項において記載のｏ−キノン［例えば、ｏ−ベンゾキノン、縮合多環式芳香族炭化水素のｏ−キノン（例えば、ｏ−ナフトキノン、アセナフテンキノン、ｏ−アセアントレンキノン（１，２−アセアントレンキノンなど）、ｏ−フェナントレンキノン（９，１０−フェナントレンキノンなど）などの縮合２乃至１０環式芳香族炭化水素のｏ−キノン、好ましくは縮合２乃至６環式芳香族炭化水素のｏ−キノン、さらに好ましくは縮合３又は４環式芳香族炭化水素のｏ−キノン）など］の他、これらのｏ−キノンに対応し、ｐが１以上である化合物（例えば、５−ブロモアセナフテンキノンなど）などのｏ−キノン化合物が挙げられる。
【００４１】
なお、前記式（１Ａ）で表される化合物を製造する場合には、前記式（２）で表される化合物として、下記式（２Ａ）で表される化合物（アセナフテンキノン化合物）、前記式（１Ｂ）で表される化合物を製造する場合には、下記式（２Ｂ）で表される化合物（９，１０−フェナントレンキノン化合物）を使用すればよい。
【００４２】
【化８】
【００４３】
（式中、Ｒ１、ｐ１、ｐ２は前記と同じ。）
使用するｏ−キノン化合物の純度は、特に限定されないが、通常、９５重量％以上、好ましくは９９重量％以上であってもよい。
【００４４】
前記式（３）で表される化合物（ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物）は、前記式（１）において、ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素環に対応している。すなわち、式（３）において、環Ｚは前記式（１）における環Ｚに対応しており、前記例示の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環）が挙げられる。また、前記式（３）において、Ｒ２、Ｒ３、ｑ、ｒおよびｓは前記と同じであり、好ましい態様なども同じである。
【００４５】
前記式（３）で表される化合物としては、（ｉ）ｑが０である化合物と、（ｉｉ）ｑが１以上である化合物とに大別できる。
【００４６】
（ｉ）ｑが０である化合物
前記式（３）においてｑが０である代表的な化合物としては、環Ｚがベンゼン環である化合物、環Ｚがナフタレン環である化合物が挙げられる。
【００４７】
環Ｚがベンゼン環である化合物としては、フェノール類｛例えば、フェノール、置換基を有するフェノール［例えば、アルキルフェノール（例えば、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，３−ジメチルフェノール、２，５−ジメチルフェノール、２，６−ジメチルフェノールなどのモノ又はジＣ１−４アルキル−フェノールなど）、シクロアルキルフェノール（例えば、２−シクロヘキシルフェノールなどのＣ５−８シクロアルキル−フェノール）、アリールフェノール（例えば、ｏ−フェニルフェノールなどのＣ６−１０アリール−フェノール）、アルコキシフェノール（ｏ−メトキシフェノールなどのＣ１−４アルコキシ−フェノールなど）など］、ポリヒドロキシベンゼン類｛例えば、ジヒドロキシベンゼン（カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン）、アルキル−ジヒドロキシベンゼン［ジヒドロキシトルエン、ジヒドロキシキシレンなどのモノ又はジＣ１−４アルキル−ジヒドロキシベンゼンなど］などのジヒドロキシベンゼン類；トリヒドロキシベンゼン（ヒドロキシヒドロキノン、フロログルシノールなど）などのトリヒドロキシベンゼン類などのジ又はトリヒドロキシベンゼン類｝などが挙げられる。
【００４８】
また、環Ｚがナフタレン環である化合物としては、ナフトール類｛すなわち、式（３）において環Ｚがナフタレン環、ｒが１である化合物、例えば、ナフトール（１−ナフトール、２−ナフトール）、置換基を有するナフトール［例えば、メチルナフトール、エチルナフトール、ジメチルナフトールなどのアルキルナフトール（例えば、Ｃ１−４アルキルナフトールなど）など］、アルコキシナフトール（例えば、エトキシナフトールなどのＣ１−４アルコキシナフトール）など｝、これらのナフトール類（又はモノヒドロキシナフタレン類）に対応するポリヒドロキシナフタレン類（すなわち、式（３）において環Ｚがナフタレン環、ｒが２以上である化合物、例えば、１，３−ジヒドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレン、１，８−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、１，２，４−トリヒドロキシナフタレン、１，３，８−トリヒドロキシナフタレンなどのジ又はトリヒドロキシナフタレン類）などが挙げられる。
【００４９】
（ｉｉ）ｑが１以上である化合物
前記式（３）においてｑが１以上である代表的な化合物としては、アルキレングリコールモノフェニルエーテル類［例えば、アルキレングリコールモノフェニルエーテル（例えば、２−フェノキシエタノール（エチレングリコールモノフェニルエーテル）、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルなどのＣ２−４アルキレングリコールモノフェニルエーテル）、アルキレングリコールモノアルキルフェニルエーテル（例えば、２−（２−メチルフェノキシ）エタノール、２−（２，６−ジメチルフェノキシ）エタノールなどのＣ２−４アルキレングリコールモノ（モノ又はジＣ１−４アルキルフェニル）エーテル）、アルキレングリコールモノ（アリールフェニル）エーテル（例えば、エチレングリコールモノビフェニリルエーテル（エチレングリコールモノ（２−ビフェニリル）エーテルなど）などのＣ２−４アルキレングリコールモノ（モノ又はジＣ６−１０アリールフェニル）エーテル）、アルキレングリコールモノ（アルキル−アリールフェニル）エーテル（例えば、エチレングリコールモノ（３−メチル−２−ビフェニリル）エーテルなどのＣ２−４アルキレングリコールモノ（モノ又はジＣ１−４アルキル−モノ又はジＣ６−１０アリール−フェニル）エーテル）など］などの前記式（３）において、ｑおよびｒがいずれも１であるアルコール類；ジアルキレングリコールモノフェニルエーテル類［例えば、ジアルキレングリコールモノフェニルエーテル（例えば、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテルなどのジＣ２−４アルキレングリコールモノフェニルエーテル）など］などのｑが１、ｒが２以上であるアルコール類；これらに対応し、ｑが３以上であるアルコール類；これらに対応し、環Ｚがナフタレン環であるアルコール類（例えば、１−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフタレン、２−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフタレンなどのアルキレングリコールモノナフチルエーテル類など）などが挙げられる。
【００５０】
これらの前記式（３）で表される化合物は単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００５１】
原料として使用する前記式（３）で表される化合物（例えば、フェノール類、ナフトール類、アルキレングリコールモノフェニルエーテル類など）の純度は特に限定されないが、通常、９５重量％以上であり、好ましくは９９重量％以上である。
【００５２】
反応において、前記式（３）で表される化合物の割合（使用割合）は、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、２〜１００モル（例えば、２〜８０モル）程度の範囲から選択でき、例えば、２〜５０モル（例えば、２．１〜４０モル）、好ましくは２〜３０モル（例えば、２．２〜２５モル）、さらに好ましくは２〜２０モル（例えば、２．３〜１５モル）、特に２〜１０モル（例えば、２．５〜８モル）程度であってもよい。
【００５３】
前記式（２）で表される化合物と前記式（３）で表される化合物との反応は、特に限定されないが、通常、酸触媒の存在下で行うことができる。酸触媒としては、無機酸｛例えば、硫酸、ハロゲン化水素（塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素など）、ハロゲン化水素酸［例えば、塩酸（例えば、５〜３６重量％、好ましくは２０〜３６重量％程度の塩化水素の水溶液など）、臭化水素酸、ヨウ化水素酸など］、リン酸など｝、有機酸｛例えば、カルボン酸、スルホン酸［例えば、アルカンスルホン酸（例えば、メタンスルホン酸などのＣ１−４アルカンスルホン酸など）、アレーンスルホン酸（例えば、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸（ｐ−トルエンスルホン酸など）などのＣ６−１０アレーンスルホン酸）、ハロアルカンスルホン酸（例えば、トリフルオロメタンスルホン酸などのハロＣ１−４アルカンスルホン酸など）など］など］などが挙げられる。前記硫酸には、希硫酸（例えば、濃度３０〜９０重量％程度の硫酸）、濃硫酸（例えば、濃度９０重量％以上の硫酸）、発煙硫酸などが含まれ、反応系において硫酸に転化可能であれば、硫酸前駆体として、三酸化硫黄を使用してもよい。通常、硫酸として、Ｈ２ＳＯ４換算で、８０〜９９重量％（例えば、８５〜９８重量％）、好ましくは９０〜９７．５重量％程度の硫酸（濃硫酸）を使用してもよい。
【００５４】
また、酸触媒として固体酸を使用することもできる。固体酸としては、無機固体酸［金属化合物（ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｖ２Ｏ５などの酸化物、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２、ＳｉＯ２−ＺｒＯ２などの複合酸化物、ＺｎＳなどの硫化物、ＣａＳＯ４、Ｆｅ２（ＳＯ４）３、ＣｕＳＯ４、ＮｉＳＯ４、Ａｌ２（ＳＯ４）３、ＭｎＳＯ４、ＢａＳＯ４、ＣｏＳＯ４、ＺｎＳＯ４などの硫酸塩、Ｐ、Ｍｏ、Ｖ、Ｗ、Ｓｉなどの元素を含有するポリ酸（ＡｌＰＯ４、Ｔｉのリン酸塩などのリン酸塩など）など）；（ＮＨ４）２ＳＯ４などの非金属硫酸塩；粘土鉱物（酸性白土、モンモリロナイトなど）；ゼオライト（酸性ＯＨ基を有するＹ型、Ｘ型、Ａ型、ＺＳＭ５、モルデナイト、ＶＩＰＩ５、ＡｌＰＯ４−５、ＡｌＰＯ４−１１など）；カオリンなど］、有機固体酸（イオン交換樹脂など）などを例示できる。固体酸は、固体酸の種類に応じて多孔性又は非多孔性であってもよい。
【００５５】
イオン交換樹脂としては、主に、強酸性陽イオン交換樹脂［例えば、スルホン酸基を有するイオン交換樹脂［スチレン−ジビニルベンゼンコポリマーなどの架橋ポリスチレンのスルホン化物、スルホン酸基（又は−ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｈ基）を有する含フッ素樹脂（例えば、［２−（２−スルホテトラフルオロエトキシ）ヘキサフルオロプロポキシ］トリフルオロエチレンとテトラフルオロエチレンとのブロック共重合体（デュポン社製のナフィオン）などの含フッ素イオン交換樹脂など］など］、弱酸性陽イオン交換樹脂［例えば、カルボン酸基を有するイオン交換樹脂（メタクリル酸−ジビニルベンゼンコポリマーなど）など］などの陽イオン交換樹脂（酸型イオン交換樹脂）などを使用できる。また、分子内に臭素を導入した耐熱性のイオン交換樹脂も使用できる。これらの固体酸の中でも、陽イオン交換樹脂が好ましい。
【００５６】
イオン交換樹脂は、ゲル型イオン交換樹脂であってもよいが、通常、触媒活性の点より、ポーラス型イオン交換樹脂［ミクロポアーの他にマクロポアー（例えば、孔径が５０〜１０００Å程度の細孔）を有するイオン交換樹脂］が好ましい。ポーラス型イオン交換樹脂のうち、例えば、ジビニルベンゼンの比率（架橋度）の高いスチレン−ジビニルベンゼンコポリマーを基体としたイオン交換樹脂は、ハイポーラス樹脂と呼ばれる。ポーラス型イオン交換樹脂の多孔度は、通常、０．０３〜０．６ｃｍ３／ｇ程度であり、例えば、０．０５〜０．５５ｃｍ３／ｇ、好ましくは０．１〜０．５ｃｍ３／ｇ、さらに好ましくは０．１５〜０．４５ｃｍ３／ｇ（特に０．２〜０．４ｃｍ３／ｇ）程度であってもよい。イオン交換樹脂の窒素吸着比表面積は、通常、１０〜９０ｍ２／ｇ程度であり、例えば、１５〜８０ｍ２／ｇ、好ましくは２０〜７０ｍ２／ｇ、さらに好ましくは２５〜６０ｍ２／ｇ（特に３０〜５０ｍ２／ｇ）程度であってもよい。固体酸として、例えば、バイエル社製の「レバチットＫ２６４９」；オルガノ社製の「アンバーリスト３１」、「アンバーリスト１３１」、「アンバーリスト１２１」；デュポン社製の「ナフィオン」などの市販のイオン交換樹脂を使用してもよい。
【００５７】
固体酸の形態は、特に制限はなく、膜状であってもよいが、通常、粒状であり、微粒状であってもよい。
【００５８】
好ましい酸触媒には、前記式（３）で表される化合物の種類などにもよるが、ハロゲン化水素酸（塩酸など）、硫酸、スルホン酸などが含まれる。
【００５９】
なお、通常、前記式（３）で表される化合物は、ｑ＝０である化合物（すなわち、フェノール性水酸基を有する化合物）と、ｑが１以上である化合物（すなわち、アルコール性ヒドロキシル基を有する化合物）とで、前記式（２）で表される化合物に対する反応性が大きく相違する場合が多い。例えば、前記式（３）においてｑ＝０である化合物（例えば、フェノール、クレゾール、ナフトールなど）は、硫酸や塩酸を酸触媒として使用しても、前記式（２）で表される化合物との反応が進行する。一方、前記式（３）においてｑが１以上である化合物（例えば、フェノキシエタノールなど）は、硫酸や塩酸を酸触媒として使用すると、前記式（２）で表される化合物との反応が全く進行しないか又は進行しても著しく反応性が低くなるが、酸触媒としてスルホン酸などを使用すると、前記式（２）で表される化合物との反応が効率よく進行する場合が多い。
【００６０】
そのため、前記式（３）で表される化合物のうち、特に、ｑが１以上である化合物を使用する場合には、酸触媒は、スルホン酸（例えば、メタンスルホン酸などのアルカンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのハロアルカンスルホン酸）で構成してもよい。なお、スルホン酸の使用により触媒活性が向上する理由は定かではないが、スルホン酸に対する前記式（３）で表される化合物の溶解性の高さなども影響しているものと考えられる。
【００６１】
酸触媒は単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００６２】
酸触媒（例えば、前記無機酸又は前記有機酸）の使用量は、酸触媒の種類に応じて選択できるが、例えば、前記式（２）で表される化合物１００重量部に対して、０．００１〜１５０重量部、好ましくは０．０１〜１００重量部、さらに好ましくは０．５〜２５重量部程度であってもよい。また、酸触媒の使用量は、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、０．１〜１００モル（例えば、０．５〜５０モル）、好ましくは１〜３０モル、さらに好ましくは１．５〜２０モル（例えば、２〜１５モル）程度であってもよい。特に、前記式（２）においてｑが１以上である化合物を使用する場合、酸触媒（スルホン酸）の割合は、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、比較的多い割合［例えば、１〜１００モル、好ましくは１．５〜５０モル、さらに好ましくは２〜３０モル、特に２．５〜２０モル（例えば、３〜２０モル）程度であってもよく、通常１．５〜２０モル（例えば、２〜１０モル）程度］であってもよい。
【００６３】
縮合反応は、通常、酸触媒に加えて、助触媒としてのチオール類を併用して行ってもよい。酸触媒とチオール類とを組み合わせると、縮合反応を有効に進行できる。また、このような組合せにより、簡便にかつ効率よく、残留硫黄分が少ない高純度の生成物を高収率で得ることができる。そのため、これらの組み合わせにより、本発明の化合物を工業的に安価に量産可能である。
【００６４】
チオール類としては、助触媒として機能する慣用のチオール類、例えば、メルカプトカルボン酸（チオ酢酸、β−メルカプトプロピオン酸、α−メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸、チオシュウ酸、メルカプトコハク酸、メルカプト安息香酸など）、アルキルメルカプタン（例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、イソプロピルメルカプタン、ｎ−ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのＣ１−２０アルキルメルカプタン、好ましくはＣ１−１６アルキルメルカプタンなど）、アラルキルメルカプタン（ベンジルメルカプタンなど）などが挙げられる。これらのチオール類のうち、メルカプトＣ２−６カルボン酸（例えば、β−メルカプトプロピオン酸）、アルキルメルカプタン（例えば、Ｃ１−１６アルキルメルカプタン）が好ましく、特に、炭素数４以上のアルキルメルカプタン（例えば、ドデカンチオールなどのＣ６−２０アルキルメルカプタン、好ましくはＣ８−１８アルキルメルカプタン、さらに好ましくはＣ１０−１６アルキルメルカプタン）などのアルキルメルカプタンが好ましい。チオール類は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００６５】
チオール類を使用する場合、チオール類の使用量は、前記式（２）で表される化合物１重量部に対して、０．１〜１重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．００５〜０．８重量部、好ましくは０．０１〜０．７重量部、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量部程度であってもよい。また、チオール類の使用量は、前記式（２）で表される化合物１００モルに対して、例えば、０．１〜５０モル、好ましくは０．５〜３０モル、さらに好ましくは１〜２０モル（例えば、１．５〜１０モル）程度であってもよい。
【００６６】
また、チオール類の使用量は、酸触媒１重量部に対して、０．０５〜５０重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．１〜４０重量部、好ましくは０．５〜３０重量部、さらに好ましくは１〜２０重量部程度であってもよい。さらに、チオール類の使用量は、酸触媒１００モルに対して、０．００１〜２０モル程度の範囲から選択でき、例えば、０．０５〜１５モル、好ましくは０．１〜１０モル、さらに好ましくは０．２〜８モル、特に０．３〜５モル（例えば、０．４〜３モル）程度であってもよい。
【００６７】
縮合反応は、溶媒の非存在下で行ってもよく、溶媒中で行ってもよい。本発明では、溶媒を使用しなくても（又は実質的に使用しなくても）、効率よく前記式（２）で表される化合物と前記式（３）で表される化合物との反応を効率よく進行させることができる。必要に応じて溶媒を使用する場合、溶媒としては、前記酸触媒に対して非反応性で、かつ前記式（２）で表される化合物および前記式（３）で表される化合物を溶解可能であれば特に限定されず、幅広い範囲で使用できる。代表的な有機溶媒としては、エーテル系溶媒（ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類など）、ハロゲン系溶媒（塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類など）、芳香族系溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、アニソールなど）などが挙げられる。溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００６８】
溶媒の使用量は、前記式（２）で表される化合物１重量部に対して、０．１〜２５重量部程度の範囲から選択でき、例えば、１〜１５重量部、好ましくは３〜１０重量部程度であってもよい。
【００６９】
反応温度は、使用する前記式（２）で表される化合物、前記式（３）で表される化合物、酸触媒、チオール類などの種類に応じて選択できるが、通常、０〜１５０℃、好ましくは１０〜１２０℃、好ましくは２０〜１００℃程度で行う場合が多い。特に、本発明では、比較的低温［例えば、７０℃以下（例えば、０〜６０℃程度）、好ましくは５０℃以下（例えば、１０〜４０℃程度）、さらに好ましくは常温又は室温（例えば、２０〜３５℃程度）］であっても、反応を進行させることができる。なお、高温で反応させると、多量体の生成などにより目的生成物の収率や純度が低下する場合がある。また、反応時間は、原料の種類、反応温度や溶媒中の濃度などに応じて調整でき、例えば、３０分〜４８時間、好ましくは１〜３６時間、さらに好ましくは２〜２４時間程度であってもよい。
【００７０】
また、反応は、攪拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性雰囲気（窒素、希ガスなど）中で行ってもよく、常圧又は加圧下でおこなってもよい。なお、反応の進行は、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）などにより確認（又は追跡）できる。
【００７１】
反応終了後の反応混合物には、通常、生成した前記式（１）で表される化合物以外に、未反応の前記式（２）で表される化合物、未反応の前記式（３）で表される化合物、触媒（酸触媒、チオール類）、副反応生成物などが含まれている。そのため、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。
【００７２】
前記晶析溶媒としては、炭化水素類［脂肪族炭化水素（ヘキサン、ヘプタンなど）、脂環族炭化水素（シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素（トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化炭化水素（ジクロロメタンなど）など］、水、アルコール類［メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノールなどの低級脂肪族アルコール（Ｃ１−３アルカノールなど）］、ケトン類［アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、エチルプロピルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソプロピルケトンなどの低級脂肪族ケトン（Ｃ３−７ジアルキルケトンなど）、シクロヘキサノンなど］、エーテル類（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどのジアルキルエーテルなど）などが挙げられる。晶析溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００７３】
晶析溶媒の使用量は、特に限定されず、反応混合物（固形分換算）１重量部に対して、０．５〜５０重量部、好ましくは１〜１０重量部、さらに好ましくは１〜５重量部程度であってもよい。このような晶析操作は一回行ってもよく、複数回繰り返して行ってもよい。
【００７４】
以上のような工程により、前記式（１）で表される化合物を得ることができる。なお、前記式（１）において、ｑが１以上である化合物は、効率よく反応させるためには、前記方法により製造するのが好ましいが、前記式（３）で表される化合物として、ｑが０である化合物を用いて、前記式（１）においてｑが０である化合物を生成した後、生成した化合物（前記式（１）において、ｑが０である化合物）と、アルキレン基Ｒ２（又はオキシアルキレン基ＯＲ２）に対応する化合物とを反応させて製造することもできる。
【００７５】
アルキレン基Ｒ４に対応する化合物としては、アルキレンオキシド（エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなどのＣ２−４アルキレンオキシド、特にＣ２−３アルキレンオキシドなど）、アルキレンカーボネート（エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネートなどのＣ２−４アルキレンカーボネート、特にＣ２−３アルキレンカーボネートなど）、ハロアルカノール（例えば、３−クロロプロパノールなどのハロＣ２−６アルカノールなど）などとの反応（又は付加）生成物などが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。なお、アルキレンオキシド又はアルキレンカーボネートを反応させると、前記式（１）で表される化合物（ｑが０である化合物）のヒドロキシル基を介して（ポリ）オキシアルキレン単位を導入できる。アルキレンカーボネートを使用する場合、アルキレンカーボネートが付加したのち、脱炭酸反応が生じることにより、オキシアルキレン単位（アルコキシ単位）が導入される。
【実施例】
【００７６】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００７７】
なお、実施例において、化合物の特性は以下の方法により測定した。
【００７８】
（１）熱重量分析
熱重量分析は、エスアイアイナノテクノロジー（株）製、「ＥＸＳＴＡＲ ＴＧ／ＤＴＡ ６２００」を用いて、窒素雰囲気下（流量２０ｍｌ／分）中、加熱速度１０℃／分で行い、重量が５％減少する熱分解温度（Ｔｄ（５％））を測定した。
【００７９】
（２）屈折率測定
それぞれ、対称物の１０％、２０％、３０％のジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）溶液を作成し、各濃度の屈折率を測定した。そして、得られた値の近似曲線によって、１００％品（純品）の屈折率を計算式から推測した。
【００８０】
屈折率測定装置 ：（株）アタゴ アッベ屈折計 ＤＲ−Ｍ２。
【００８１】
（実施例１）
窒素で膨らませた風船を付けた３方コックを装着したナスフラスコに、攪拌子、アセナフテンキノン０．８７ｇ（４．８ｍｍｏｌ）、２−フェノキシエタノール１．８７ｇ（１３．５ｍｍｏｌ）、１−ドデカンチオール０．０５ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸２ｍＬ（３１ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌し、反応させた。反応混合液に、蒸留水３０ｍＬ、メタノール１０ｍＬ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を飽和重曹水３０ｍＬ、飽和食塩水１０ｍＬで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過し、エバポレーターで濃縮した。濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン〜トルエン：酢酸エチル＝４：６）で精製した後に少量のトルエンを加えて結晶化させ、濾過・乾燥して１．２９ｇの生成物（オレンジ色結晶）を得た。収率は６１％であった。また、生成物の融点は１３２．６℃、Ｔｄ（５％）は３７６．０℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率は１．６３０３であった。
【００８２】
以下に、生成物である２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンの化学式、1Ｈ−ＮＭＲ、および１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータを示す。
【００８３】
【化９】
【００８４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｐｐｍ；８．１５（ｄ，１Ｈ），８．０２（ｄ，１Ｈ），７．８７（ｄ，１Ｈ），７．７６（ｄｄ，１Ｈ），７．６６（ｄｄ，１Ｈ），７．４４（ｄ，１Ｈ），７．１６（ｄ，４Ｈ），６．８０（ｄ，４Ｈ），４．０２（ｔ，４Ｈ），３．９１（ｍ，４Ｈ），２．１５（ｂｒｓ，２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｐｐｍ；２０４．１，１５７．４，１４３．２，１４０．９，１３５．１，１３２．２，１３１．８，１３０．８，１２９．７，１２８．７，１２８．４，１２４．１，１２２．８，１２２．５，１１４．２，６９．１，６８．２，６１．４。
【００８５】
（実施例２）
窒素で膨らませた風船を付けた３方コックを装着したナスフラスコに、攪拌子、９，１０−フェナントレンキノン１．０５ｇ（５．０４ｍｍｏｌ）、２−フェノキシエタノール１．７７ｇ（１２．８ｍｍｏｌ）、１−ドデカンチオール０．０４ｇ（０．２ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸２ｍＬ（３１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌し、反応させた。反応混合液に、蒸留水３０ｍＬ、メタノール１０ｍＬ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を飽和重曹水３０ｍＬ、飽和食塩水１０ｍＬで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過し、エバポレーターで濃縮した。濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン〜トルエン：酢酸エチル＝４：６）で精製した後に少量のトルエンを加えて結晶化させ、濾過・乾燥して１．３７ｇの生成物（オレンジ色結晶）を得た。収率は５８％であった。また、生成物の融点は１６０．６℃、Ｔｄ（５％）は３９０．５℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率は１．６４５２であった。
【００８６】
以下に、生成物である１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンの化学式、１Ｈ−ＮＭＲ、および１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータを示す。
【００８７】
【化１０】
【００８８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｐｐｍ；７．９４（ｍ，３Ｈ），７．５６（ｍ，１Ｈ），７．４１（ｍ，１Ｈ），７．３２（ｍ，３Ｈ），６．８０（ｍ，５Ｈ），４．０２（ｍ，４Ｈ），３．９１（ｍ，４Ｈ），２．１１（ｍ，２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｐｐｍ；２００．３，１５７．５，１４１．４，１３４．２，１３３．９，１３１．７，１３１．１，１３０．１，１２８．５，１２８．２，１２７．９，１２７．７，１２４．１，１２２．７，１１３．９，６９．０，６７．０，６１．４。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明の新規な芳香族化合物は、高屈折率、高耐熱性などの特性を有しており、樹脂のモノマー、酸化防止剤、硬化剤などとして利用可能である。例えば、本発明の芳香族化合物は、複数のヒドロキシル基を有しているため、樹脂（例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、熱又は光硬化性（メタ）アクリル系樹脂など）のポリオール成分（例えば、ジオール成分）として使用できる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ｏ−キノン類（アセナフテンキノン類、フェナントレンキノン類など）の一方のオキソ基が２つの特定の芳香環基に置換した構造を有する新規な芳香族化合物およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
芳香族ポリオール（ジオールなど）は、耐熱性などの優れた特性を有しているため、各種ポリマーのモノマーなどとして使用されている。例えば、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレンなどのフルオレン骨格を有するジオールは、耐熱性が高い、高屈折率である、複屈折が小さいといった特徴を有しており、光学材料の原料などとして有用である。なお、フルオレン骨格を有するジオールが芳香族ジオールの中でも、特にこのような優れた特性を有する理由は、フルオレン化合物の所謂カルド型構造と呼ばれる特異的な化学構造に起因するためであると考えられている。しかしながら、このような芳香族ジオールの中でも特に、各種特性に優れたフルオレン骨格を有するジオールであっても、耐熱温度や屈折率向上などの点で、さらなる改善が望まれている。
【０００３】
このように、モノマー用途などとして、新規な芳香族ポリオールの開発が期待されている。
【０００４】
なお、特開２００５−３２６８３８号公報（特許文献１）には、特定のポリフェノール化合物と、特定の酸発生剤と、酸架橋剤とを含む感放射線レジスト組成物が開示されており、前記ポリフェノール化合物の例として、下記式で表される化合物などを開示している。
【０００５】
【化１】
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−３２６８３８号公報（特許請求の範囲、段落番号［０２６９］、［０２８１］）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有する新規な芳香族化合物、およびその製造方法を提供することにある。
【０００８】
本発明の他の目的は、上記のような新規な芳香族化合物を効率よく製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、ｏ−キノン類の一方のオキソ基が、ヒドロキシル基を有する特定の芳香族炭化水素類（ヒドロキシアレーン類、ヒドロキシアルコキシアレーン類など）に２つ置換した新規な芳香族化合物（環集合芳香族化合物）は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有していることを見出し、本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明の新規な芳香族化合物は、下記式（１）で表される化合物である。
【００１１】
【化２】
【００１２】
（式中、環Ｘは、ｏ−キノンから２つのオキソ基を除いた環、Ｒ１は置換基、ｐは０以上の整数、環Ｚは芳香族炭化水素環、Ｒ２はアルキレン基、ｑは０以上の整数、ｒは１以上の整数、Ｒ３は置換基、ｓは０以上の整数を示す。ただし、Ｘがアセナフテンキノン又はｏ−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環であり、かつＺがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。）
前記式（１）において、ｏ−キノンは、縮合多環式芳香族炭化水素のｏ−キノン（例えば、アセナフテンキノン、ｏ−アセアントレンキノン、ｏ−フェナントレンキノンなど）であってもよく、特に、前記式（１）で表される化合物は、下記式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物であってもよい。
【００１３】
【化３】
【００１４】
（式中、ｐ１は０〜３の整数、ｐ２は０〜４の整数を示し、Ｒ１、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
前記式（１）（前記式（１Ａ）および（１Ｂ）を含む。以下同じ）において、ｑは、特に、１以上の整数であってもよい。このようなｑが１以上である化合物は、代表的には、前記式（１）において、環Ｚがベンゼン環又はナフタレン環であり、ｑが１〜４であり、ｒが１〜３である化合物などが含まれる。
【００１５】
本発明には、前記新規な芳香族化合物の製造方法も含まれる。このような製造方法は、例えば、酸触媒の存在下、下記式（２）で表される化合物と下記式（３）で表される化合物とを反応させて、前記化合物（前記式（１）で表される化合物）を製造する方法であってもよい。
【００１６】
【化４】
【００１７】
（式中、Ｘ、Ｒ１、ｐ、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
前記方法において、特に、ｑは１以上の整数であってもよい。また、前記方法において、酸触媒は、スルホン酸で構成してもよい。スルホン酸で酸触媒を構成すると、前記式（２）で表される化合物と前記式（３）で表される化合物（特に、前記式（３）においてｑが１以上である化合物）との反応をより一層効率よく進行させることができる。
【００１８】
前記方法では、酸触媒に加えて、さらに、チオール類の存在下で反応させてもよい。このようなチオール類を併用する方法では、代表的には、酸触媒が、アルカンスルホン酸およびハロアルカンスルホン酸から選択された少なくとも１種で構成されており、かつチオール類が、アルキルメルカプタンで構成されていてもよい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の新規な芳香族化合物は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有している。このような芳香族化合物は、樹脂原料、酸化防止剤、硬化剤などの用途に適用可能である。例えば、本発明の芳香族化合物は、複数のヒドロキシル基を有しているため、樹脂（例えば、ポリエステル樹脂など）のポリオール成分（例えば、ジオール成分）として使用でき、樹脂に前記のような高耐熱性や高屈折率を付与する効果が期待できる。また、本発明の方法では、上記のような新規な芳香族化合物を効率よく製造できる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
［芳香族化合物］
本発明の新規な芳香族化合物は、下記式（１）で表される。
【００２１】
【化５】
【００２２】
（式中、環Ｘは、ｏ−キノンから２つのオキソ基を除いた環（ｏ−キノンに対応する環）、Ｒ１は置換基、ｐは０以上の整数、環Ｚは芳香族炭化水素環、Ｒ２はアルキレン基、ｑは０以上の整数、ｒは１以上の整数、Ｒ３は置換基、ｓは０以上の整数を示す。ただし、Ｘがアセナフテンキノン又はｏ−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環であり、かつＺがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。）
上記式（１）において、ｏ−キノンとしては、芳香族複素環（フェナントロリンなど）のｏ−キノンであってもよいが、通常、芳香族炭化水素のｏ−キノンが挙げられる。芳香族炭化水素（環）のｏ−キノンとしては、例えば、ベンゼン環のｏ−キノン（すなわち、ｏ−ベンゾキノン）、縮合多環式芳香族炭化水素（環）（例えば、インデン、ナフタレン、インダセン、アセナフチレン、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン、アセアントリレン、アセフェナントリレン、ピレン、トリフェニレン、ナフタセン、クリセン、ペリレン、ペンタフェン、ジベンゾフェナントレン、ヘキサフェンなどの縮合２乃至１０環式芳香族炭化水素（環）、好ましくは縮合２乃至６環式芳香族炭化水素、さらに好ましくは縮合３又は４環式芳香族炭化水素など）のｏ−キノン［例えば、ｏ−ナフトキノン（１，２−ナフトキノンなど）、アセナフテンキノン、ｏ−アントラキノン（１，２−アントラキノンなど）、ｏ−アセアントレンキノン（１，２−アセアントレンキノンなど）、ｏ−フェナントレンキノン（９，１０−フェナントレンキノンなど）、ｏ−クリセンキノン（５，６−クリセンキノンなど）など］などが挙げられる。
【００２３】
これらのうち、好ましいｏ−キノンは、縮合多環式芳香族炭化水素のｏ−キノン（例えば、アセナフテンキノン、ｏ−アセアントレンキノン、ｏ−フェナントレンキノンなどの縮合２乃至６環式芳香族炭化水素のｏ−キノン）であり、特に、アセナフテンキノン、ｏ−フェナントレンキノンなどの縮合３又は４環式芳香族炭化水素のｏ−キノンが好ましい。
【００２４】
環Ｘの置換基Ｒ１としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、アミノ基、カルバモイル基、ニトロ基、シアノ基、スルホニル基、炭化水素基｛例えば、アルキル基（メチル、エチル、ブチル、ｔ−ブチル基、ペンチル基などのＣ１−２０アルキル基、好ましくはＣ１−１０アルキル基、さらに好ましくはＣ１−６アルキル基、特にＣ１−４アルキル基）、シクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロへキシル基などのＣ５−１０シクロアルキル基、好ましくはＣ５−８シクロアルキル基、さらに好ましくはＣ５−６シクロアルキル基など）、アリール基［フェニル基、アルキルフェニル基（メチルフェニル基（又はトリル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基など）、ジメチルフェニル基（キシリル基）など）、ナフチル基などのＣ６−１４アリール基、好ましくはＣ６−１０アリール基、さらに好ましくはＣ６−８アリール基］、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基などのＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキル基など）など｝、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１−６アルコキシ基、好ましくはＣ１−４アルコキシ基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基などのＣ１−６アルキルチオ基など）、アシル基［ホルミル基、アルキルカルボニル基（例えば、アセチル、プロピオニル基などのＣ１−６アルキル−カルボニル基）、アロイル基（例えば、ベンゾイル基など）など］、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル基などのＣ１−６アルコキシ−カルボニル基）、これらの置換基同士が結合した置換基［例えば、アルコキシアリール基（例えば、メトキシフェニル基などのＣ１−４アルコキシＣ６−１０アリール基）、アルコキシカルボニルアリール基（例えば、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基などのＣ１−４アルコキシ−カルボニルＣ６−１０アリール基など）］などが挙げられる。環Ｘは、これらの置換基を単独又は組み合わせて有していてもよい。
【００２５】
代表的なＲ１には、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子など）、炭化水素基［例えば、アルキル基、アリール基（フェニル基などのＣ６−１０アリール基）など］などが挙げられ、特に、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基（Ｃ１−４アルキル基など）、アルコキシ基（Ｃ１−４アルコキシ基など）、アリール基（Ｃ６−８アリール基など）であってもよい。
【００２６】
置換基Ｒ１の置換数ｐは、０以上の整数であればよく、環Ｘの種類にもよるが、例えば、０〜８、好ましくは０〜６、さらに好ましくは０〜３程度であってもよく、特に０であってもよい。
【００２７】
芳香族炭化水素環Ｚとしては、前記ｏ−キノンの項で例示の芳香族炭化水素環が挙げられる。代表的な芳香族炭化水素環は、ベンゼン環、縮合多環式炭化水素環［例えば、縮合二環式炭化水素環（例えば、インデン、ナフタレンなどのＣ８−２０縮合二環式炭化水素環、好ましくはＣ１０−１６縮合二環式炭化水素環）、縮合三環式炭化水素環（例えば、アントラセン、フェナントレンなど）などの縮合２乃至４環式炭化水素環］などであり、ベンゼン環又はナフタレン環（特に、ベンゼン環）であるのが好ましい。なお、２つの環Ｚは同一の又は異なる環であってもよく、通常、同一の環であってもよい。
【００２８】
また、前記式（１）において、基Ｒ２で表されるアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基（１，２−プロパンジイル基）、トリメチレン基、１，２−ブタンジイル基、テトラメチレン基などのＣ２−１０アルキレン基（例えば、Ｃ２−６アルキレン基）、好ましくはＣ２−４アルキレン基、さらに好ましくはＣ２−３アルキレン基（特にエチレン基）が挙げられる。なお、ｑが２以上であるとき、アルキレン基は異なるアルキレン基で構成されていてもよく、通常、同一のアルキレン基で構成されていてもよい。また、２つの芳香族炭化水素環Ｚにおいて、基Ｒ２は同一であっても、異なっていてもよく、通常同一であってもよい。
【００２９】
オキシアルキレン基（ＯＲ２）の数（付加モル数）ｑは、０以上（例えば、０〜１０）であればよく、例えば、０〜８（例えば、１〜８）、好ましくは０〜４（例えば、１〜４）、さらに好ましくは０〜３（例えば、１〜３）、特に０〜１であってもよい。ｑは、異なる環Ｚに対して、同一であっても、異なっていてもよい。なお、前記のように、Ｘがアセナフテンキノンから２つのオキソ基を除いた環（すなわち、アセナフテン環）又はｏ−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環であり、かつＺがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。
【００３０】
また、前記式（１）において、ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基［すなわち、−（Ｒ２Ｏ）ｑ−ＯＨ］の環Ｚに対する置換数ｒは、１以上であればよく、環Ｚに種類にもよるが、例えば、１〜６（例えば、１〜４）、好ましくは１〜３、さらに好ましくは１〜２、特に１であってもよい。なお、ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基の置換位置は、特に限定されず、環Ｚの適当な置換位置に置換していればよい。例えば、ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基は、環Ｚがベンゼン環である場合、フェニル基の２〜６位（例えば、フェニル基の３位、４位など）に置換していればよく、好ましくは４位に置換していてもよい。また、ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基は、環Ｚが縮合多環式炭化水素環である場合、縮合多環式炭化水素環において、環Ｘに結合した炭化水素環とは別の炭化水素環（例えば、ナフタレン環の５位、６位など）に少なくとも置換している場合が多い。
【００３１】
環Ｚの置換基Ｒ３としては、前記Ｒ１の項で例示の置換基などが挙げられる。代表的には、基Ｒ３は、炭化水素基（例えば、アルキル基、アリール基など）、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などであってもよい。好ましいＲ３としては、炭化水素基［例えば、アルキル基（例えば、Ｃ１−６アルキル基）、シクロアルキル基（例えば、Ｃ５−８シクロアルキル基）、アリール基（例えば、Ｃ６−１０アリール基）、アラルキル基（例えば、Ｃ６−８アリール−Ｃ１−２アルキル基）など］、アルコキシ基（Ｃ１−４アルコキシ基など）などが挙げられる。特に、Ｒ３は、アルキル基［Ｃ１−４アルキル基（特にメチル基）など］、アリール基［例えば、Ｃ６−１０アリール基（特にフェニル基）など］などであるのが好ましい。
【００３２】
なお、同一の環Ｚにおいて、ｓが複数（２以上）である場合、基Ｒ３は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、２つの環Ｚにおいて、基Ｒ３は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、好ましい置換数ｓは、０〜８、好ましくは０〜４（例えば、０〜３）、さらに好ましくは０〜２であってもよい。なお、異なる環Ｚにおいて、置換数ｓは、互いに同一又は異なっていてもよく、通常同一であってもよい。
【００３３】
代表的な前記式（１）で表される化合物には、例えば、下記式（１Ａ）で表される化合物（前記式（１）において、Ｘがアセナフテンキノンから２つのオキソ基を除いた環である化合物）、下記式（１Ｂ）で表される化合物（前記式（１）において、Ｘが９，１０−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環である化合物）などが含まれる。
【００３４】
【化６】
【００３５】
（式中、ｐ１は０〜３の整数、ｐ２は０〜４の整数を示し、Ｒ１、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
上記式において、ｐ１は、好ましくは０〜１、さらに好ましくは０であってもよい。２つのｐ１は同一又は異なっていてもよい。また、ｐ２は、好ましくは０〜２、さらに好ましくは０〜１、特に０であってもよい。２つのｐ２は同一又は異なっていてもよい。なお、上記式（１）において、Ｒ１、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じである。そのため、Ｚがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。なお、前記式（１Ａ）において、Ｒ１の置換位置は、３〜８位のいずれであってもよいが、好ましくは３又は５位、特に５位であってもよい。また、前記式（１Ｂ）において、Ｒ１の置換位置は、１〜８位のいずれであってもよいが、好ましくは２又は５位であってもよい。
【００３６】
具体的な前記式（１Ａ）で表される化合物には、例えば、２，２−ビス［（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝、２，２−ビス［アルキル−（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、好ましくは２，２−ビス［Ｃ１−６アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、さらに好ましくは２，２−ビス［Ｃ１−４アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝、２，２−ビス［アリール−（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、好ましくは２，２−ビス［Ｃ６−１０アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、さらに好ましくは２，２−ビス［Ｃ６−８アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝、２，２−ビス［ジ又はトリ（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス［３，４−ジ（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［ジ又はトリ（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝などの前記式（１Ａ）において、環Ｚがベンゼン環、ｓ＝０〜４、ｑが１以上（例えば、１〜４）およびｒ＝１〜３（ただし、ｓ＋ｒ≦５）である化合物；２，２−ビス（ヒドロキシナフチル）アセナフテン−１（２Ｈ）−オン［例えば、２，２−ビス［１−（５−ヒドロキシナフチル）］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、２，２−ビス［２−（６−ヒドロキシナフチル）］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなど］、２，２−ビス［（ヒドロキシアルコキシ）ナフチル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｛例えば、２，２−ビス｛１−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフチル］｝アセナフテン−１（２Ｈ）−オン、２，２−ビス｛２−［６−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフチル］｝アセナフテン−１（２Ｈ）−オンなどの２，２−ビス［（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）ナフチル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オン｝などの前記式（１Ａ）において、環Ｚがナフタレン環、ｓ＝０〜４、ｑが０以上（例えば、０〜４）およびｒ＝１〜３である化合物などが含まれる。
【００３７】
また、具体的な前記式（１Ｂ）で表される化合物には、例えば、１０，１０−ビス［（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝、１０，１０−ビス［アルキル−（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、好ましくは１０，１０−ビス［Ｃ１−６アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、さらに好ましくは１０，１０−ビス［Ｃ１−４アルキル−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝、１０，１０−ビス［アリール−（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、好ましくは１０，１０−ビス［Ｃ６−１０アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、さらに好ましくは１０，１０−ビス［Ｃ６−８アリール−（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝、１０，１０−ビス［ジ又はトリ（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス［３，４−ジ（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［ジ又はトリ（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝などの前記式（１Ｂ）において、環Ｚがベンゼン環、ｓ＝０〜４、ｑが１以上（例えば、１〜４）およびｒ＝１〜３（ただし、ｓ＋ｒ≦５）である化合物；１０，１０−ビス（ヒドロキシナフチル）フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン［例えば、１０，１０−ビス［１−（５−ヒドロキシナフチル）］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、１０，１０−ビス［２−（６−ヒドロキシナフチル）］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなど］、１０，１０−ビス［（ヒドロキシアルコキシ）ナフチル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｛例えば、１０，１０−ビス｛１−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフチル］｝フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン、１０，１０−ビス｛２−［６−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフチル］｝フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンなどの１０，１０−ビス［（ヒドロキシＣ２−４アルコキシ）ナフチル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オン｝などの前記式（１Ｂ）において、環Ｚがナフタレン環、ｓ＝０〜４、ｑが０以上（例えば、０〜４）およびｒ＝１〜３である化合物などが含まれる。
【００３８】
［製造方法］
本発明の新規な芳香族化合物の製造方法としては、特に限定されないが、通常、下記式（２）で表される化合物（ｏ−キノン化合物）と、下記式（３）で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
【００３９】
【化７】
【００４０】
（式中、Ｘ、Ｒ１、ｐ、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
上記式（２）で表される化合物としては、前記式（１）で表される化合物の項において記載のｏ−キノン［例えば、ｏ−ベンゾキノン、縮合多環式芳香族炭化水素のｏ−キノン（例えば、ｏ−ナフトキノン、アセナフテンキノン、ｏ−アセアントレンキノン（１，２−アセアントレンキノンなど）、ｏ−フェナントレンキノン（９，１０−フェナントレンキノンなど）などの縮合２乃至１０環式芳香族炭化水素のｏ−キノン、好ましくは縮合２乃至６環式芳香族炭化水素のｏ−キノン、さらに好ましくは縮合３又は４環式芳香族炭化水素のｏ−キノン）など］の他、これらのｏ−キノンに対応し、ｐが１以上である化合物（例えば、５−ブロモアセナフテンキノンなど）などのｏ−キノン化合物が挙げられる。
【００４１】
なお、前記式（１Ａ）で表される化合物を製造する場合には、前記式（２）で表される化合物として、下記式（２Ａ）で表される化合物（アセナフテンキノン化合物）、前記式（１Ｂ）で表される化合物を製造する場合には、下記式（２Ｂ）で表される化合物（９，１０−フェナントレンキノン化合物）を使用すればよい。
【００４２】
【化８】
【００４３】
（式中、Ｒ１、ｐ１、ｐ２は前記と同じ。）
使用するｏ−キノン化合物の純度は、特に限定されないが、通常、９５重量％以上、好ましくは９９重量％以上であってもよい。
【００４４】
前記式（３）で表される化合物（ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物）は、前記式（１）において、ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素環に対応している。すなわち、式（３）において、環Ｚは前記式（１）における環Ｚに対応しており、前記例示の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環）が挙げられる。また、前記式（３）において、Ｒ２、Ｒ３、ｑ、ｒおよびｓは前記と同じであり、好ましい態様なども同じである。
【００４５】
前記式（３）で表される化合物としては、（ｉ）ｑが０である化合物と、（ｉｉ）ｑが１以上である化合物とに大別できる。
【００４６】
（ｉ）ｑが０である化合物
前記式（３）においてｑが０である代表的な化合物としては、環Ｚがベンゼン環である化合物、環Ｚがナフタレン環である化合物が挙げられる。
【００４７】
環Ｚがベンゼン環である化合物としては、フェノール類｛例えば、フェノール、置換基を有するフェノール［例えば、アルキルフェノール（例えば、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，３−ジメチルフェノール、２，５−ジメチルフェノール、２，６−ジメチルフェノールなどのモノ又はジＣ１−４アルキル−フェノールなど）、シクロアルキルフェノール（例えば、２−シクロヘキシルフェノールなどのＣ５−８シクロアルキル−フェノール）、アリールフェノール（例えば、ｏ−フェニルフェノールなどのＣ６−１０アリール−フェノール）、アルコキシフェノール（ｏ−メトキシフェノールなどのＣ１−４アルコキシ−フェノールなど）など］、ポリヒドロキシベンゼン類｛例えば、ジヒドロキシベンゼン（カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン）、アルキル−ジヒドロキシベンゼン［ジヒドロキシトルエン、ジヒドロキシキシレンなどのモノ又はジＣ１−４アルキル−ジヒドロキシベンゼンなど］などのジヒドロキシベンゼン類；トリヒドロキシベンゼン（ヒドロキシヒドロキノン、フロログルシノールなど）などのトリヒドロキシベンゼン類などのジ又はトリヒドロキシベンゼン類｝などが挙げられる。
【００４８】
また、環Ｚがナフタレン環である化合物としては、ナフトール類｛すなわち、式（３）において環Ｚがナフタレン環、ｒが１である化合物、例えば、ナフトール（１−ナフトール、２−ナフトール）、置換基を有するナフトール［例えば、メチルナフトール、エチルナフトール、ジメチルナフトールなどのアルキルナフトール（例えば、Ｃ１−４アルキルナフトールなど）など］、アルコキシナフトール（例えば、エトキシナフトールなどのＣ１−４アルコキシナフトール）など｝、これらのナフトール類（又はモノヒドロキシナフタレン類）に対応するポリヒドロキシナフタレン類（すなわち、式（３）において環Ｚがナフタレン環、ｒが２以上である化合物、例えば、１，３−ジヒドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレン、１，８−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、１，２，４−トリヒドロキシナフタレン、１，３，８−トリヒドロキシナフタレンなどのジ又はトリヒドロキシナフタレン類）などが挙げられる。
【００４９】
（ｉｉ）ｑが１以上である化合物
前記式（３）においてｑが１以上である代表的な化合物としては、アルキレングリコールモノフェニルエーテル類［例えば、アルキレングリコールモノフェニルエーテル（例えば、２−フェノキシエタノール（エチレングリコールモノフェニルエーテル）、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルなどのＣ２−４アルキレングリコールモノフェニルエーテル）、アルキレングリコールモノアルキルフェニルエーテル（例えば、２−（２−メチルフェノキシ）エタノール、２−（２，６−ジメチルフェノキシ）エタノールなどのＣ２−４アルキレングリコールモノ（モノ又はジＣ１−４アルキルフェニル）エーテル）、アルキレングリコールモノ（アリールフェニル）エーテル（例えば、エチレングリコールモノビフェニリルエーテル（エチレングリコールモノ（２−ビフェニリル）エーテルなど）などのＣ２−４アルキレングリコールモノ（モノ又はジＣ６−１０アリールフェニル）エーテル）、アルキレングリコールモノ（アルキル−アリールフェニル）エーテル（例えば、エチレングリコールモノ（３−メチル−２−ビフェニリル）エーテルなどのＣ２−４アルキレングリコールモノ（モノ又はジＣ１−４アルキル−モノ又はジＣ６−１０アリール−フェニル）エーテル）など］などの前記式（３）において、ｑおよびｒがいずれも１であるアルコール類；ジアルキレングリコールモノフェニルエーテル類［例えば、ジアルキレングリコールモノフェニルエーテル（例えば、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテルなどのジＣ２−４アルキレングリコールモノフェニルエーテル）など］などのｑが１、ｒが２以上であるアルコール類；これらに対応し、ｑが３以上であるアルコール類；これらに対応し、環Ｚがナフタレン環であるアルコール類（例えば、１−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフタレン、２−（２−ヒドロキシエトキシ）ナフタレンなどのアルキレングリコールモノナフチルエーテル類など）などが挙げられる。
【００５０】
これらの前記式（３）で表される化合物は単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００５１】
原料として使用する前記式（３）で表される化合物（例えば、フェノール類、ナフトール類、アルキレングリコールモノフェニルエーテル類など）の純度は特に限定されないが、通常、９５重量％以上であり、好ましくは９９重量％以上である。
【００５２】
反応において、前記式（３）で表される化合物の割合（使用割合）は、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、２〜１００モル（例えば、２〜８０モル）程度の範囲から選択でき、例えば、２〜５０モル（例えば、２．１〜４０モル）、好ましくは２〜３０モル（例えば、２．２〜２５モル）、さらに好ましくは２〜２０モル（例えば、２．３〜１５モル）、特に２〜１０モル（例えば、２．５〜８モル）程度であってもよい。
【００５３】
前記式（２）で表される化合物と前記式（３）で表される化合物との反応は、特に限定されないが、通常、酸触媒の存在下で行うことができる。酸触媒としては、無機酸｛例えば、硫酸、ハロゲン化水素（塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素など）、ハロゲン化水素酸［例えば、塩酸（例えば、５〜３６重量％、好ましくは２０〜３６重量％程度の塩化水素の水溶液など）、臭化水素酸、ヨウ化水素酸など］、リン酸など｝、有機酸｛例えば、カルボン酸、スルホン酸［例えば、アルカンスルホン酸（例えば、メタンスルホン酸などのＣ１−４アルカンスルホン酸など）、アレーンスルホン酸（例えば、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸（ｐ−トルエンスルホン酸など）などのＣ６−１０アレーンスルホン酸）、ハロアルカンスルホン酸（例えば、トリフルオロメタンスルホン酸などのハロＣ１−４アルカンスルホン酸など）など］など］などが挙げられる。前記硫酸には、希硫酸（例えば、濃度３０〜９０重量％程度の硫酸）、濃硫酸（例えば、濃度９０重量％以上の硫酸）、発煙硫酸などが含まれ、反応系において硫酸に転化可能であれば、硫酸前駆体として、三酸化硫黄を使用してもよい。通常、硫酸として、Ｈ２ＳＯ４換算で、８０〜９９重量％（例えば、８５〜９８重量％）、好ましくは９０〜９７．５重量％程度の硫酸（濃硫酸）を使用してもよい。
【００５４】
また、酸触媒として固体酸を使用することもできる。固体酸としては、無機固体酸［金属化合物（ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｖ２Ｏ５などの酸化物、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２、ＳｉＯ２−ＺｒＯ２などの複合酸化物、ＺｎＳなどの硫化物、ＣａＳＯ４、Ｆｅ２（ＳＯ４）３、ＣｕＳＯ４、ＮｉＳＯ４、Ａｌ２（ＳＯ４）３、ＭｎＳＯ４、ＢａＳＯ４、ＣｏＳＯ４、ＺｎＳＯ４などの硫酸塩、Ｐ、Ｍｏ、Ｖ、Ｗ、Ｓｉなどの元素を含有するポリ酸（ＡｌＰＯ４、Ｔｉのリン酸塩などのリン酸塩など）など）；（ＮＨ４）２ＳＯ４などの非金属硫酸塩；粘土鉱物（酸性白土、モンモリロナイトなど）；ゼオライト（酸性ＯＨ基を有するＹ型、Ｘ型、Ａ型、ＺＳＭ５、モルデナイト、ＶＩＰＩ５、ＡｌＰＯ４−５、ＡｌＰＯ４−１１など）；カオリンなど］、有機固体酸（イオン交換樹脂など）などを例示できる。固体酸は、固体酸の種類に応じて多孔性又は非多孔性であってもよい。
【００５５】
イオン交換樹脂としては、主に、強酸性陽イオン交換樹脂［例えば、スルホン酸基を有するイオン交換樹脂［スチレン−ジビニルベンゼンコポリマーなどの架橋ポリスチレンのスルホン化物、スルホン酸基（又は−ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｈ基）を有する含フッ素樹脂（例えば、［２−（２−スルホテトラフルオロエトキシ）ヘキサフルオロプロポキシ］トリフルオロエチレンとテトラフルオロエチレンとのブロック共重合体（デュポン社製のナフィオン）などの含フッ素イオン交換樹脂など］など］、弱酸性陽イオン交換樹脂［例えば、カルボン酸基を有するイオン交換樹脂（メタクリル酸−ジビニルベンゼンコポリマーなど）など］などの陽イオン交換樹脂（酸型イオン交換樹脂）などを使用できる。また、分子内に臭素を導入した耐熱性のイオン交換樹脂も使用できる。これらの固体酸の中でも、陽イオン交換樹脂が好ましい。
【００５６】
イオン交換樹脂は、ゲル型イオン交換樹脂であってもよいが、通常、触媒活性の点より、ポーラス型イオン交換樹脂［ミクロポアーの他にマクロポアー（例えば、孔径が５０〜１０００Å程度の細孔）を有するイオン交換樹脂］が好ましい。ポーラス型イオン交換樹脂のうち、例えば、ジビニルベンゼンの比率（架橋度）の高いスチレン−ジビニルベンゼンコポリマーを基体としたイオン交換樹脂は、ハイポーラス樹脂と呼ばれる。ポーラス型イオン交換樹脂の多孔度は、通常、０．０３〜０．６ｃｍ３／ｇ程度であり、例えば、０．０５〜０．５５ｃｍ３／ｇ、好ましくは０．１〜０．５ｃｍ３／ｇ、さらに好ましくは０．１５〜０．４５ｃｍ３／ｇ（特に０．２〜０．４ｃｍ３／ｇ）程度であってもよい。イオン交換樹脂の窒素吸着比表面積は、通常、１０〜９０ｍ２／ｇ程度であり、例えば、１５〜８０ｍ２／ｇ、好ましくは２０〜７０ｍ２／ｇ、さらに好ましくは２５〜６０ｍ２／ｇ（特に３０〜５０ｍ２／ｇ）程度であってもよい。固体酸として、例えば、バイエル社製の「レバチットＫ２６４９」；オルガノ社製の「アンバーリスト３１」、「アンバーリスト１３１」、「アンバーリスト１２１」；デュポン社製の「ナフィオン」などの市販のイオン交換樹脂を使用してもよい。
【００５７】
固体酸の形態は、特に制限はなく、膜状であってもよいが、通常、粒状であり、微粒状であってもよい。
【００５８】
好ましい酸触媒には、前記式（３）で表される化合物の種類などにもよるが、ハロゲン化水素酸（塩酸など）、硫酸、スルホン酸などが含まれる。
【００５９】
なお、通常、前記式（３）で表される化合物は、ｑ＝０である化合物（すなわち、フェノール性水酸基を有する化合物）と、ｑが１以上である化合物（すなわち、アルコール性ヒドロキシル基を有する化合物）とで、前記式（２）で表される化合物に対する反応性が大きく相違する場合が多い。例えば、前記式（３）においてｑ＝０である化合物（例えば、フェノール、クレゾール、ナフトールなど）は、硫酸や塩酸を酸触媒として使用しても、前記式（２）で表される化合物との反応が進行する。一方、前記式（３）においてｑが１以上である化合物（例えば、フェノキシエタノールなど）は、硫酸や塩酸を酸触媒として使用すると、前記式（２）で表される化合物との反応が全く進行しないか又は進行しても著しく反応性が低くなるが、酸触媒としてスルホン酸などを使用すると、前記式（２）で表される化合物との反応が効率よく進行する場合が多い。
【００６０】
そのため、前記式（３）で表される化合物のうち、特に、ｑが１以上である化合物を使用する場合には、酸触媒は、スルホン酸（例えば、メタンスルホン酸などのアルカンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのハロアルカンスルホン酸）で構成してもよい。なお、スルホン酸の使用により触媒活性が向上する理由は定かではないが、スルホン酸に対する前記式（３）で表される化合物の溶解性の高さなども影響しているものと考えられる。
【００６１】
酸触媒は単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００６２】
酸触媒（例えば、前記無機酸又は前記有機酸）の使用量は、酸触媒の種類に応じて選択できるが、例えば、前記式（２）で表される化合物１００重量部に対して、０．００１〜１５０重量部、好ましくは０．０１〜１００重量部、さらに好ましくは０．５〜２５重量部程度であってもよい。また、酸触媒の使用量は、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、０．１〜１００モル（例えば、０．５〜５０モル）、好ましくは１〜３０モル、さらに好ましくは１．５〜２０モル（例えば、２〜１５モル）程度であってもよい。特に、前記式（２）においてｑが１以上である化合物を使用する場合、酸触媒（スルホン酸）の割合は、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、比較的多い割合［例えば、１〜１００モル、好ましくは１．５〜５０モル、さらに好ましくは２〜３０モル、特に２．５〜２０モル（例えば、３〜２０モル）程度であってもよく、通常１．５〜２０モル（例えば、２〜１０モル）程度］であってもよい。
【００６３】
縮合反応は、通常、酸触媒に加えて、助触媒としてのチオール類を併用して行ってもよい。酸触媒とチオール類とを組み合わせると、縮合反応を有効に進行できる。また、このような組合せにより、簡便にかつ効率よく、残留硫黄分が少ない高純度の生成物を高収率で得ることができる。そのため、これらの組み合わせにより、本発明の化合物を工業的に安価に量産可能である。
【００６４】
チオール類としては、助触媒として機能する慣用のチオール類、例えば、メルカプトカルボン酸（チオ酢酸、β−メルカプトプロピオン酸、α−メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸、チオシュウ酸、メルカプトコハク酸、メルカプト安息香酸など）、アルキルメルカプタン（例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、イソプロピルメルカプタン、ｎ−ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのＣ１−２０アルキルメルカプタン、好ましくはＣ１−１６アルキルメルカプタンなど）、アラルキルメルカプタン（ベンジルメルカプタンなど）などが挙げられる。これらのチオール類のうち、メルカプトＣ２−６カルボン酸（例えば、β−メルカプトプロピオン酸）、アルキルメルカプタン（例えば、Ｃ１−１６アルキルメルカプタン）が好ましく、特に、炭素数４以上のアルキルメルカプタン（例えば、ドデカンチオールなどのＣ６−２０アルキルメルカプタン、好ましくはＣ８−１８アルキルメルカプタン、さらに好ましくはＣ１０−１６アルキルメルカプタン）などのアルキルメルカプタンが好ましい。チオール類は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００６５】
チオール類を使用する場合、チオール類の使用量は、前記式（２）で表される化合物１重量部に対して、０．１〜１重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．００５〜０．８重量部、好ましくは０．０１〜０．７重量部、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量部程度であってもよい。また、チオール類の使用量は、前記式（２）で表される化合物１００モルに対して、例えば、０．１〜５０モル、好ましくは０．５〜３０モル、さらに好ましくは１〜２０モル（例えば、１．５〜１０モル）程度であってもよい。
【００６６】
また、チオール類の使用量は、酸触媒１重量部に対して、０．０５〜５０重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．１〜４０重量部、好ましくは０．５〜３０重量部、さらに好ましくは１〜２０重量部程度であってもよい。さらに、チオール類の使用量は、酸触媒１００モルに対して、０．００１〜２０モル程度の範囲から選択でき、例えば、０．０５〜１５モル、好ましくは０．１〜１０モル、さらに好ましくは０．２〜８モル、特に０．３〜５モル（例えば、０．４〜３モル）程度であってもよい。
【００６７】
縮合反応は、溶媒の非存在下で行ってもよく、溶媒中で行ってもよい。本発明では、溶媒を使用しなくても（又は実質的に使用しなくても）、効率よく前記式（２）で表される化合物と前記式（３）で表される化合物との反応を効率よく進行させることができる。必要に応じて溶媒を使用する場合、溶媒としては、前記酸触媒に対して非反応性で、かつ前記式（２）で表される化合物および前記式（３）で表される化合物を溶解可能であれば特に限定されず、幅広い範囲で使用できる。代表的な有機溶媒としては、エーテル系溶媒（ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類など）、ハロゲン系溶媒（塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類など）、芳香族系溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、アニソールなど）などが挙げられる。溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００６８】
溶媒の使用量は、前記式（２）で表される化合物１重量部に対して、０．１〜２５重量部程度の範囲から選択でき、例えば、１〜１５重量部、好ましくは３〜１０重量部程度であってもよい。
【００６９】
反応温度は、使用する前記式（２）で表される化合物、前記式（３）で表される化合物、酸触媒、チオール類などの種類に応じて選択できるが、通常、０〜１５０℃、好ましくは１０〜１２０℃、好ましくは２０〜１００℃程度で行う場合が多い。特に、本発明では、比較的低温［例えば、７０℃以下（例えば、０〜６０℃程度）、好ましくは５０℃以下（例えば、１０〜４０℃程度）、さらに好ましくは常温又は室温（例えば、２０〜３５℃程度）］であっても、反応を進行させることができる。なお、高温で反応させると、多量体の生成などにより目的生成物の収率や純度が低下する場合がある。また、反応時間は、原料の種類、反応温度や溶媒中の濃度などに応じて調整でき、例えば、３０分〜４８時間、好ましくは１〜３６時間、さらに好ましくは２〜２４時間程度であってもよい。
【００７０】
また、反応は、攪拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性雰囲気（窒素、希ガスなど）中で行ってもよく、常圧又は加圧下でおこなってもよい。なお、反応の進行は、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）などにより確認（又は追跡）できる。
【００７１】
反応終了後の反応混合物には、通常、生成した前記式（１）で表される化合物以外に、未反応の前記式（２）で表される化合物、未反応の前記式（３）で表される化合物、触媒（酸触媒、チオール類）、副反応生成物などが含まれている。そのため、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。
【００７２】
前記晶析溶媒としては、炭化水素類［脂肪族炭化水素（ヘキサン、ヘプタンなど）、脂環族炭化水素（シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素（トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化炭化水素（ジクロロメタンなど）など］、水、アルコール類［メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノールなどの低級脂肪族アルコール（Ｃ１−３アルカノールなど）］、ケトン類［アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、エチルプロピルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソプロピルケトンなどの低級脂肪族ケトン（Ｃ３−７ジアルキルケトンなど）、シクロヘキサノンなど］、エーテル類（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどのジアルキルエーテルなど）などが挙げられる。晶析溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００７３】
晶析溶媒の使用量は、特に限定されず、反応混合物（固形分換算）１重量部に対して、０．５〜５０重量部、好ましくは１〜１０重量部、さらに好ましくは１〜５重量部程度であってもよい。このような晶析操作は一回行ってもよく、複数回繰り返して行ってもよい。
【００７４】
以上のような工程により、前記式（１）で表される化合物を得ることができる。なお、前記式（１）において、ｑが１以上である化合物は、効率よく反応させるためには、前記方法により製造するのが好ましいが、前記式（３）で表される化合物として、ｑが０である化合物を用いて、前記式（１）においてｑが０である化合物を生成した後、生成した化合物（前記式（１）において、ｑが０である化合物）と、アルキレン基Ｒ２（又はオキシアルキレン基ＯＲ２）に対応する化合物とを反応させて製造することもできる。
【００７５】
アルキレン基Ｒ４に対応する化合物としては、アルキレンオキシド（エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなどのＣ２−４アルキレンオキシド、特にＣ２−３アルキレンオキシドなど）、アルキレンカーボネート（エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネートなどのＣ２−４アルキレンカーボネート、特にＣ２−３アルキレンカーボネートなど）、ハロアルカノール（例えば、３−クロロプロパノールなどのハロＣ２−６アルカノールなど）などとの反応（又は付加）生成物などが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。なお、アルキレンオキシド又はアルキレンカーボネートを反応させると、前記式（１）で表される化合物（ｑが０である化合物）のヒドロキシル基を介して（ポリ）オキシアルキレン単位を導入できる。アルキレンカーボネートを使用する場合、アルキレンカーボネートが付加したのち、脱炭酸反応が生じることにより、オキシアルキレン単位（アルコキシ単位）が導入される。
【実施例】
【００７６】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００７７】
なお、実施例において、化合物の特性は以下の方法により測定した。
【００７８】
（１）熱重量分析
熱重量分析は、エスアイアイナノテクノロジー（株）製、「ＥＸＳＴＡＲ ＴＧ／ＤＴＡ ６２００」を用いて、窒素雰囲気下（流量２０ｍｌ／分）中、加熱速度１０℃／分で行い、重量が５％減少する熱分解温度（Ｔｄ（５％））を測定した。
【００７９】
（２）屈折率測定
それぞれ、対称物の１０％、２０％、３０％のジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）溶液を作成し、各濃度の屈折率を測定した。そして、得られた値の近似曲線によって、１００％品（純品）の屈折率を計算式から推測した。
【００８０】
屈折率測定装置 ：（株）アタゴ アッベ屈折計 ＤＲ−Ｍ２。
【００８１】
（実施例１）
窒素で膨らませた風船を付けた３方コックを装着したナスフラスコに、攪拌子、アセナフテンキノン０．８７ｇ（４．８ｍｍｏｌ）、２−フェノキシエタノール１．８７ｇ（１３．５ｍｍｏｌ）、１−ドデカンチオール０．０５ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸２ｍＬ（３１ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌し、反応させた。反応混合液に、蒸留水３０ｍＬ、メタノール１０ｍＬ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を飽和重曹水３０ｍＬ、飽和食塩水１０ｍＬで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過し、エバポレーターで濃縮した。濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン〜トルエン：酢酸エチル＝４：６）で精製した後に少量のトルエンを加えて結晶化させ、濾過・乾燥して１．２９ｇの生成物（オレンジ色結晶）を得た。収率は６１％であった。また、生成物の融点は１３２．６℃、Ｔｄ（５％）は３７６．０℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率は１．６３０３であった。
【００８２】
以下に、生成物である２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］アセナフテン−１（２Ｈ）−オンの化学式、1Ｈ−ＮＭＲ、および１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータを示す。
【００８３】
【化９】
【００８４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｐｐｍ；８．１５（ｄ，１Ｈ），８．０２（ｄ，１Ｈ），７．８７（ｄ，１Ｈ），７．７６（ｄｄ，１Ｈ），７．６６（ｄｄ，１Ｈ），７．４４（ｄ，１Ｈ），７．１６（ｄ，４Ｈ），６．８０（ｄ，４Ｈ），４．０２（ｔ，４Ｈ），３．９１（ｍ，４Ｈ），２．１５（ｂｒｓ，２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｐｐｍ；２０４．１，１５７．４，１４３．２，１４０．９，１３５．１，１３２．２，１３１．８，１３０．８，１２９．７，１２８．７，１２８．４，１２４．１，１２２．８，１２２．５，１１４．２，６９．１，６８．２，６１．４。
【００８５】
（実施例２）
窒素で膨らませた風船を付けた３方コックを装着したナスフラスコに、攪拌子、９，１０−フェナントレンキノン１．０５ｇ（５．０４ｍｍｏｌ）、２−フェノキシエタノール１．７７ｇ（１２．８ｍｍｏｌ）、１−ドデカンチオール０．０４ｇ（０．２ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸２ｍＬ（３１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌し、反応させた。反応混合液に、蒸留水３０ｍＬ、メタノール１０ｍＬ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を飽和重曹水３０ｍＬ、飽和食塩水１０ｍＬで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過し、エバポレーターで濃縮した。濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン〜トルエン：酢酸エチル＝４：６）で精製した後に少量のトルエンを加えて結晶化させ、濾過・乾燥して１．３７ｇの生成物（オレンジ色結晶）を得た。収率は５８％であった。また、生成物の融点は１６０．６℃、Ｔｄ（５％）は３９０．５℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率は１．６４５２であった。
【００８６】
以下に、生成物である１０，１０−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フェナントレン−９（１０Ｈ）−オンの化学式、１Ｈ−ＮＭＲ、および１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータを示す。
【００８７】
【化１０】
【００８８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｐｐｍ；７．９４（ｍ，３Ｈ），７．５６（ｍ，１Ｈ），７．４１（ｍ，１Ｈ），７．３２（ｍ，３Ｈ），６．８０（ｍ，５Ｈ），４．０２（ｍ，４Ｈ），３．９１（ｍ，４Ｈ），２．１１（ｍ，２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｐｐｍ；２００．３，１５７．５，１４１．４，１３４．２，１３３．９，１３１．７，１３１．１，１３０．１，１２８．５，１２８．２，１２７．９，１２７．７，１２４．１，１２２．７，１１３．９，６９．０，６７．０，６１．４。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明の新規な芳香族化合物は、高屈折率、高耐熱性などの特性を有しており、樹脂のモノマー、酸化防止剤、硬化剤などとして利用可能である。例えば、本発明の芳香族化合物は、複数のヒドロキシル基を有しているため、樹脂（例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、熱又は光硬化性（メタ）アクリル系樹脂など）のポリオール成分（例えば、ジオール成分）として使用できる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される化合物。
【化１】
（式中、環Ｘは、ｏ−キノンから２つのオキソ基を除いた環、Ｒ１は置換基、ｐは０以上の整数、環Ｚは芳香族炭化水素環、Ｒ２はアルキレン基、ｑは０以上の整数、ｒは１以上の整数、Ｒ３は置換基、ｓは０以上の整数を示す。ただし、Ｘがアセナフテンキノン又はｏ−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環であり、かつＺがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。）
【請求項２】
ｏ−キノンが、縮合多環式芳香族炭化水素のｏ−キノンである請求項１記載の化合物。
【請求項３】
下記式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物である請求項１又は２記載の化合物。
【化２】
（式中、ｐ１は０〜３の整数、ｐ２は０〜４の整数を示し、Ｒ１、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
【請求項４】
ｑが１以上の整数である請求項１〜３のいずれかに記載の化合物。
【請求項５】
環Ｚがベンゼン環又はナフタレン環であり、ｑが１〜４であり、ｒが１〜３である請求項１〜４のいずれかに記載の化合物。
【請求項６】
酸触媒の存在下、下記式（２）で表される化合物と下記式（３）で表される化合物とを反応させて、請求項１〜５のいずれかに記載の化合物を製造する方法。
【化３】
（式中、Ｘ、Ｒ１、ｐ、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
【請求項７】
ｑが１以上の整数である請求項６記載の製造方法。
【請求項８】
酸触媒が、スルホン酸で構成されている請求項６又は７記載の製造方法。
【請求項９】
酸触媒に加えて、さらに、チオール類の存在下で反応させる請求項６〜８のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１０】
酸触媒が、アルカンスルホン酸およびハロアルカンスルホン酸から選択された少なくとも１種で構成されており、かつチオール類が、アルキルメルカプタンで構成されている請求項９記載の製造方法。
【請求項１】
下記式（１）で表される化合物。
【化１】
（式中、環Ｘは、ｏ−キノンから２つのオキソ基を除いた環、Ｒ１は置換基、ｐは０以上の整数、環Ｚは芳香族炭化水素環、Ｒ２はアルキレン基、ｑは０以上の整数、ｒは１以上の整数、Ｒ３は置換基、ｓは０以上の整数を示す。ただし、Ｘがアセナフテンキノン又はｏ−フェナントレンキノンから２つのオキソ基を除いた環であり、かつＺがベンゼン環であるとき、ｑは１以上の整数である。）
【請求項２】
ｏ−キノンが、縮合多環式芳香族炭化水素のｏ−キノンである請求項１記載の化合物。
【請求項３】
下記式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物である請求項１又は２記載の化合物。
【化２】
（式中、ｐ１は０〜３の整数、ｐ２は０〜４の整数を示し、Ｒ１、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
【請求項４】
ｑが１以上の整数である請求項１〜３のいずれかに記載の化合物。
【請求項５】
環Ｚがベンゼン環又はナフタレン環であり、ｑが１〜４であり、ｒが１〜３である請求項１〜４のいずれかに記載の化合物。
【請求項６】
酸触媒の存在下、下記式（２）で表される化合物と下記式（３）で表される化合物とを反応させて、請求項１〜５のいずれかに記載の化合物を製造する方法。
【化３】
（式中、Ｘ、Ｒ１、ｐ、Ｚ、Ｒ２、ｑ、ｒ、Ｒ３、ｓは前記と同じ。）
【請求項７】
ｑが１以上の整数である請求項６記載の製造方法。
【請求項８】
酸触媒が、スルホン酸で構成されている請求項６又は７記載の製造方法。
【請求項９】
酸触媒に加えて、さらに、チオール類の存在下で反応させる請求項６〜８のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１０】
酸触媒が、アルカンスルホン酸およびハロアルカンスルホン酸から選択された少なくとも１種で構成されており、かつチオール類が、アルキルメルカプタンで構成されている請求項９記載の製造方法。
【公開番号】特開２０１１−７４０１３（Ｐ２０１１−７４０１３Ａ）
【公開日】平成２３年４月１４日（２０１１．４．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２２７１０２（Ｐ２００９−２２７１０２）
【出願日】平成２１年９月３０日（２００９．９．３０）
【出願人】（５９１１４７６９４）大阪ガスケミカル株式会社 (85)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年４月１４日（２０１１．４．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月３０日（２００９．９．３０）
【出願人】（５９１１４７６９４）大阪ガスケミカル株式会社 (85)
【Ｆターム（参考）】
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