【課題】有機ＥＬ素子の各構成要素を陰極から順次形成する方法において、ロール・ツー・ロール法によって簡便に有機ＥＬ素子を作製する有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ロール・ツー・ロール法によって、支持基板上に有機ＥＬ素子を作製する有機ＥＬ素子の製造方法であって、陰極がそのうえに形成された支持基板上に、イオン性ポリマーを含むインキを塗布成膜することによって電子注入層を形成する工程と、電子注入層上に発光層を形成する工程と、前記発光層上に陽極を形成する工程とを含む、有機ＥＬ素子の製造方法。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロール・ツー・ロール法によって、支持基板上に有機ＥＬ素子を作製する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
陰極がそのうえに形成された支持基板上に、イオン性ポリマーを含むインキを塗布成膜することによって電子注入層を形成する工程と、
電子注入層上に発光層を形成する工程と、
前記発光層上に陽極を形成する工程とを含む、有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記支持基板が、金属薄板からなる、請求項１記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記電子注入層を形成する工程では、常圧の雰囲気中において前記インキを塗布成膜する、請求項１記載の有機ＥＬ素子の製造方法。

【図１】

【図２】

【公開番号】特開２０１２−４３７８１（Ｐ２０１２−４３７８１Ａ）
【公開日】平成２４年３月１日（２０１２．３．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１５８６５８（Ｐ２０１１−１５８６５８）
【出願日】平成２３年７月２０日（２０１１．７．２０）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】