液状トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットを用いたポリオレフィンの安定化
【課題】液状トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットを用いたポリオレフィンの安定化の提供。
【解決手段】本発明は、溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対してポリオレフィン組成物を安定化するための方法であって、該方法は、有効安定化量の式（Ｉ）
【化１】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）を前記ポリオレフィン中に配合すること又は前記ポリオレフィンに適用すること、を含む方法を開示する。また、開示されるものは、ポリオレフィン及び本発明のホスフィットエステル又はホスフィットエステル混合物並びに特定のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットの混合物を含む安定化された組成物である。本発明の液状ホスフィットエステル安定剤は、特に低密度ポリエチレンと相溶性である。
【解決手段】本発明は、溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対してポリオレフィン組成物を安定化するための方法であって、該方法は、有効安定化量の式（Ｉ）
【化１】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）を前記ポリオレフィン中に配合すること又は前記ポリオレフィンに適用すること、を含む方法を開示する。また、開示されるものは、ポリオレフィン及び本発明のホスフィットエステル又はホスフィットエステル混合物並びに特定のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットの混合物を含む安定化された組成物である。本発明の液状ホスフィットエステル安定剤は、特に低密度ポリエチレンと相溶性である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の液状トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又はトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルの液状混合物を用いたポリオレフィンを安定化するための方法を目的とする。
【背景技術】
【０００２】
有機リン化合物は、よく知られたポリマー加工安定剤である。例えば、Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，第４版，Ｒ．Ｇａｅｃｈｔｅｒ，Ｈ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，Ｅｄｓ．，１９９３，４０−７１頁はポリプロピレン（ＰＰ）及びポリエチレン（ＰＥ）の安定化を討論している。
【０００３】
既知のホスフィット及びホスホナイト安定剤は、例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ビス（２，４−ジ−α−クミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（Ｄ）、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（Ｅ）、ビスイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト（Ｈ）、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（Ｃ）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（Ａ）、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット（Ｇ）、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］（Ｂ）、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）オクチルホスフィット、ポリ（４，４’−｛２，２’−ジメチル−５，５’−ジ−第三ブチルフェニルスルフィド｝オクチルホスフィット）、ポリ（４，４’−｛イソプロピリデンジフェノール｝−オクチルホスフィット）、ポリ（４，４’−｛イソプロピリデンビス［２，６−ジブロモフェノール］｝−オクチルホスフィット）、ポリ（４，４’−｛２，２’−ジメチル−５，５’−ジ−第三ブチルフェニルスルフィド｝−ペンタエリトリチルジホスフィット）、
【化１】
【化２】
を含む。
【０００４】
米国特許第３，４５６，９０６号明細書は、ポリエステル強化ゴムのための安定剤としてホスフィットエステルを開示している。
【０００５】
米国特許第５，２０８，３６８号明細書及び米国特許第６，５７６，７８８号明細書は、ジフェニルメタンジイソシアネートとポリフェニルポリメチレンポリイソシアネートの混合物の製造方法に関する。アリールホスフィットが安定剤として示唆されている。
【０００６】
英国特許出願公開第２２２７４９０号明細書は、三塩化リン、ビフェニル及びフェノールから製造された加工安定剤混合物を開示している。
【０００７】
英国特許出願公開第１２９８２４８号明細書は、トリス−ペルオキシドの製造方法を教示している。トリアリールホスフィットは、２成分触媒の一部である。
【０００８】
米国特許第３，６４４，５３６号明細書は同様に、トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼンの製造方法を教示している。トリ−アリールホスフィットは、２成分触媒系の一部である。
【０００９】
独国特許出願公開第２９４０６２０号明細書は、トリアリールホスフィットの製造方法を教示している。アリール基は、１つ以上の枝分かれしたアルキル基によって、又は、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基によって置換され得る。トリアリールホスフィットは、ポリマー安定剤として有用である。
【００１０】
米国特許第５，２５４，７０９号明細書は、立体障害性アリールホスフィットの製造方法を開示している。
【００１１】
特開平７−３０９８８４号公報は、トリ−アルキルフェニルホスフィットの製造方法を開示している。
【非特許文献１】Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，第４版，Ｒ．Ｇａｅｃｈｔｅｒ，Ｈ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，Ｅｄｓ．，１９９３，４０−７１頁
【特許文献１】米国特許第３，４５６，９０６号明細書
【特許文献２】米国特許第５，２０８，３６８号明細書
【特許文献３】米国特許第６，５７６，７８８号明細書
【特許文献４】英国特許出願公開第２２２７４９０号明細書
【特許文献５】英国特許出願公開第１２９８２４８号明細書
【特許文献６】米国特許第３，６４４，５３６号明細書
【特許文献７】独国特許出願公開第２９４０６２０号明細書
【特許文献８】米国特許第５，２５４，７０９号明細書
【特許文献９】特開平７−３０９８８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
当業界においては、市販で入手可能な従来のものよりも、ポリオレフィンとより相溶性のホスフィット安定剤がまだ求められている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
周囲条件において液状である、特定のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィット又はトリス−（モノ）−アルキルフェニルホスフィットの混合物は、ポリオレフィンと非常に相溶性であることが発見された。トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィット又は該ホスフィットの混合物は優れた加工安定剤である。
【００１４】
溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対してポリオレフィンを安定化するための方法であって、該方法は、有効安定化量の式（Ｉ）
【化３】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、
前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）を前記ポリオレフィン中に配合すること又は前記ポリオレフィンに適用すること、を含む方法を開示する。
【００１５】
溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対して安定化されたポリオレフィン組成物であって、
ａ）ポリオレフィン、及び
ｂ）有効安定化量の式（Ｉ）
【化４】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）
を含む組成物もまた開示する。
【００１６】
ノニルフェノールの製造は、例えばＦａｉｔｈ，Ｋｅｙｅｓ ａｎｄ Ｃｌａｒｋ，Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｆ．Ａ．Ｌｏｗｅｎｈｅｉｍ，Ｍ．Ｋ．Ｍｏｒａｎ，Ｅｄｓ．，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，第４版．，１９７５，５７５−５７８頁に開示されている。Ｍｅｒｃｋ Ｉｎｄｅｘ １１，６５９９参照。これは、アルキルフェノールの製造の典型である。
【００１７】
トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットは、酸素の不存在下において、例えば、窒素雰囲気下及びトリエチルアミン等の酸掃去剤の存在下において、３当量のモノ−アルキルフェノールと三塩化リンを反応させることによって製造される。
【００１８】
アルキル基は、直鎖であるか又は枝分かれしており、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソピロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、第三アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基又は第三オクチル基である。
【００１９】
アルキル基は、例えば、１ないし６個の炭素原子又は１ないし４個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基である。例えば、アルキル基は、メチル基、エチル基、第二ブチル基、第三アミル基又はヘキシル基である。
【００２０】
好ましくは、各Ｒは、同じであるか又は異なり、かつ１ないし６個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わす。
【００２１】
興味深いものは、各Ｒが、同じであるか又は異なり、かつ１ないし４個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わすところの方法である。
【００２２】
また、興味深いものは、各Ｒがオルト位又はパラ位を置換し、かつ、独立して、メチル基、エチル基、第二ブチル基、第三アミル基又はヘキシル基を表わすところの方法である
。
【００２３】
本発明の式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、周囲条件、２５℃及び１気圧の圧力において必ず液状である。その他の制限は、各Ｒが１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わすことのみである。
【００２４】
特に興味深いのは、各Ｒが同等なものを表わし、かつオルト位又はパラ位を置換するところの方法である。
【００２５】
非常に特に興味深いものは、各Ｒが第二ブチル基を表わし、かつオルト位又はパラ位を置換するところの方法である。
【００２６】
本発明の式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物において、個々の成分は、純粋な（単離した）状態の液体である必要はない。
【００２７】
個々のホスフィットエステルとして、例えば、純粋なトリス−２−第三ブチルフェニルホスフィット（融点：６６−６８℃）及びトリス−４−第三ブチルフェニル−ホスフィット（融点：７３−７５℃）は、本発明から除かれる。これらの化合物は、本発明の液状ホスフィットエステルの混合物からは除かれない。
【００２８】
個々のホスフィットエステルとして、トリス−３−第三ブチルフェニルホスフィット（沸点：０．２ｍｍにおいて１９３−１９８℃）及びトリス−２−第二ブチルフェニル−ホスフィット（沸点：０．０１ｍｍにおいて１６０−１６５℃）は本発明に含まれる。
【００２９】
ホスフィットエステルの液状混合物は、２種以上の純粋なホスフィットエステルを混合することによって調製され得るか、又は２種以上の異なるモノ−アルキルフェノールの混合物を使用して三塩化リンから直接調製され得る。
【００３０】
本発明のホスフィットエステルの混合物において、式（Ｉ）で表わされる少なくとも２種の異なるホスフィットエステルが存在する。２種のホスフィットエステルは、少なくとも１つのフェニル基上に異なるアルキル基又は異なる置換アルキル基を有することで異なる。
【００３１】
異なるアルキル基とは、異なる鎖の長さ又は異なる鎖の枝分かれ（例えば、ｎ−ブチル基、第三ブチル基、第二ブチル基）を意味する。異なる置換とは、フェノール性ヒドロキシル基に対する異なる位置（例えば、メタ位、パラ位）を意味する。
【００３２】
もちろん、２種の異なるモノ−アルキルフェノールは、鎖の長さが異なり、かつ位置も異なるアルキル基を有し得るか、又は枝分かれが異なり、かつ位置も異なるアルキル基を有し得るか、又は鎖の長さが異なり、かつ枝分かれも異なるアルキル基を有し得るか、又は鎖の長さが異なり、枝分かれが異なり、かつ位置も異なるアルキル基を有し得る。
【００３３】
都合よくは、本発明の液状ホスフィットの混合物は、フェノール基が約６０％以上オルト位で置換されているものである。例えば、フェノール基が約７０％以上オルト位で置換されているか、又はフェノール基が約８０％以上オルト位で置換されている。残りのものは、例えばパラ位で置換されている。
【００３４】
興味深いのは、Ｒ基がオルト位又はパラ位にあり、独立して、メチル基、エチル基、第二ブチル基、第三アミル基又はヘキシル基を表わし、かつフェノール基は約６０％以上オ
ルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む方法である。
【００３５】
例えば、Ｒ基の各々は、同等なものを表わし、例えば、第二ブチル基を表わし、かつオルト位及びパラ位にある。
【００３６】
例えば、ホスフィットエステルの混合物は、以下の式
【化５】
（式中、Ｒ基は、同等なものを表わす。）で表わされる化合物の混合物である。
【００３７】
興味深いものは、各Ｒが同等なものを表わし、オルト位又はパラ位を置換し、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む方法である。
【００３８】
例えば、本発明のホスフィットエステルの混合物において、各Ｒは同等なものを表わし、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されている。例えば、フェノール基は約７０％以上オルト位で置換されているか、又はフェノール基は約８０％以上オルト位で置換されている。残りのものは、例えばパラ位で置換されている。
【００３９】
特に興味深いのは、各Ｒが第二ブチル基を表わし、オルト位又はパラ位を置換し、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む方法である。
【００４０】
本発明の液状ホスフィットエステルの混合物もまた、本発明の対象である。
【００４１】
従って、本発明の対象はまた、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である、式（Ｉ）
【化６】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルの混合物である。
【００４２】
興味深いものは、各Ｒは、同じであるか又は異なり、かつ１ないし６個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わすところの混合物である。
【００４３】
特に興味深いものは、各Ｒは、同じであるか又は異なり、かつ１ないし４個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わすところの混合物である。
【００４４】
ポリオレフィンの例は、以下に示す通りである：
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）である。
【００４５】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、例えばポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ｉ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｉｉ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一つ又はそれ以上を通常含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはｐ−又はｓ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用され得る。活性化剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は大抵、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【００４６】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００４７】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及び一酸化炭素とのそれらのコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００４８】
４．１．）で言及したポリマーと衝撃改質剤、例えばエチレン−プロピレン−ジエンモノマーコポリマー（ＥＰＤＭ）、エチレンと高級α−オレフィンのコポリマー（例えば、エチレン−オクテンコポリマー）、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエンコポリマー、水素化スチレン−ブタジエンコポリマー、スチレン−イソプレンコポリマー、水素化スチレン−イソプレンコポリマーのブレンド。これらのブレンドは、一般に、ＴＰＯ’ｓ（熱可塑性ポリオレフィン）として業界において言及される。
【００４９】
本発明のポリオレフィンは、例えばポリプロピレンホモ−及びコポリマー及びポリエチレンホモ−及びコポリマーである。例えば、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びポリプロピレンランダム及び衝撃（異相）コポリマー。本発明の好ましいポリオレフィンは、ポリプロピレンホモポリマー、ポリプロピレン衝撃（異相）コポリマー、それらのブレンド、及びＴＰＯ’ｓ、例えばポリプロピレンホモポリマー及び衝撃コポリマーとＥＰＤＭ又はエチレン−α−オレフィンコポリマーのブレンドを含む。
【００５０】
好ましくは、ポリオレフィンは、ポリエチレン、特に低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）である。
【００５１】
溶融加工技術は既知であり、例えば押出し、共混練、引抜成形、射出成形、共押出し、繊維押出し、紡糸、フィルム押出し（キャスト、吹込み、吹込み成形）、回転成形等を含む。
【００５２】
本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルは、例えば、ポリオレフィンの質量に基づき、０．０１質量％ないし５質量％、安定化するポリオレフィンの質量に基づき、０．０２５質量％ないし１質量％、０．０５質量％ないし０．５質量％、０．０１質量％ないし１質量％、０．０１質量％ないし０．５質量％、０．０２５質量％ないし５質量％又は０．０５質量％ないし５質量％の量で使用される。例えば、本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルは、ポリオレフィンの質量に基づき、３質量％未満の量で、又はポリオレフィンの質量に基づき、０．０１質量％ないし２．５質量％の量で、又は０．０１質量％ないし２質量％の量で存在する。
【００５３】
興味深いものは、ホスフィットエステル又はエステルの混合物が、ポリオレフィンの質
量に基づき、約３質量％未満の量において配合又は適用されるところの方法である。
【００５４】
ポリオレフィン中への本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤の配合は、既知の方法によって、例えば、成形の前又は後に、もしくは、溶解又は分散した安定剤又は安定剤混合物をポリオレフィンに適用し、その後、所望により溶媒を蒸発させることによって行われる。安定剤又は安定剤混合物はまた、例えば２．５質量％ないし６０質量％の濃度で本発明のホスフィットエステル及び任意の添加剤を含むマスターバッチの形態で、安定化されるポリオレフィンに添加され得る。
【００５５】
トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤はまた、重合前又は重合中もしくは架橋前に添加され得る。
【００５６】
本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤は、純粋な形態でもしくはワックス、オイル又はポリマー中にカプセル化されて安定化するポリオレフィン中に配合され得る。
【００５７】
本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤はまた、安定化するポリオレフィン上に噴霧され得る。本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤はまた、他の添加剤（例えば、更に討論される他の慣用の添加剤）又はそれらの溶融物を希釈することができるので、それは、これらの添加剤と一緒に安定化するポリオレフィン上に噴霧することもできる。重合触媒の失活の間の噴霧による添加は特に有利であり、例えば、失活のために使用されたスチームを用いて噴霧を行うことができる。
【００５８】
球形に重合されたポリオレフィンの場合においては、例えば、所望により、他の添加剤と一緒に本発明の安定剤を噴霧により適用することが有利であり得る。
【００５９】
本発明に従ったポリオレフィン組成物は、ポリオレフィン製品の製造において有用である。前記製品は、例えば織布、不織布、フィルム、シート又は成形品である。
【００６０】
更なる安定剤は、例えばヒンダードフェノール系抗酸化剤、ヒドロキシルアミン、ベンゾフラノン、他の有機リン安定剤、立体障害性アミン光安定剤及びヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、トリス−アリール−ｓ−トリアジン又はヒドロキシフェニルベンゾフェノン紫外線安定剤を含む。
【００６１】
ヒンダードフェノール系抗酸化剤は、例えばトリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエステルのカルシウム塩、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］又はオクタデシル３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを含む。
【００６２】
ヒンダードアミン光安定剤は、例えば１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン及び琥珀酸の縮合物
【化７】
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物
【化８】
２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物
【化９】
４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）と２−クロロ−４，６−ビス（ジブチルアミノ）−ｓ−トリアジンで末端をキャップ化された２，４−ジクロロ−６−［（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）ブチルアミノ］−ｓ−トリアジンの縮合生成物であるオリゴマー状化合物
【化１０】
１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）−エタンと塩化シアヌルの反応によって得られた生成物と（２，２，６，６−トリメチルピペリジニ−４−イル）ブチルアミンとの反応によって得られた生成物
【化１１】
Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物
【化１２】
Ｎ，Ｎ’−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物
【化１３】
７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物
【化１４】
無水マレイン酸−炭素原子数１８ないし２２−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンの反応生成物
【化１５】
２，４−ビス［（１−シクロヘキシルオキシ−２、２，６，６−ピペリジニ−４−イル）ブチルアミノ］−６−クロロ−ｓ−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミンの反応生成物
【化１６】
４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−１−プロポキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）と２−クロロ−４，６−ビス（ジブチルアミノ）−ｓ−トリアジンで末端をキャップ化された２，４−ジクロロ−６−［（１−プロポキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）ブチルアミノ］−ｓ−トリアジンの縮合生成物であるオリゴマー状化合物
【化１７】
４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン）と２−クロロ−４，６−ビス（ジブチルアミノ）−ｓ−トリアジンで末端をキャップ化された２，４−ジクロロ−６−［（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４−イル）ブチルアミノ］−ｓ−トリアジンの縮合生成物であるオリゴマー状化合物
【化１８】
（式中、ｎは、総分子量が約１０００ｇ／モルを越えるような整数を表わす。）
を含む。
【００６３】
ヒドロキシルアミン安定剤は、例えばＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジドデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−テトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−ヘプタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−
オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン又はＮ，Ｎ−ジ（水素化牛脂）ヒドロキシルアミンである。
【００６４】
アミンオキシド安定剤は、例えばゲノックス ＥＰ（登録商標：Ｇｅｎｏｘ ＥＰ）、ジ（炭素原子数１６ないし１８）アルキルメチルアミンオキシド（ＣＡＳ登録番号：２０４９３３−９３−７）である。
【００６５】
ベンゾフラノン安定剤は、例えば３−（４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス（５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ベンゾフラノ−２−オン）、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン又は３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オンである。
【００６６】
更なる有機リン安定剤は、例えば、以前に開示されたものである。更なる有機リン安定剤はまた、例えば米国特許第６，５４１，５４９号明細書に開示されたものである。
【００６７】
任意の安定剤は、本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルと同量で使用される。
【００６８】
トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び上記の任意の安定剤の他に、以下の更なる添加剤も使用され得る。これらの更なる添加剤は、例えば、ポリオレフィンの質量に基づき０．０１質量％ないし５質量％の使用量で使用される。
【００６９】
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、線状又は側鎖において分岐したノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルヘプタデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルトリデシ−１−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００７０】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００７１】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチル
ヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００７２】
１．４．トコフェロール、
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００７３】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００７４】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００７５】
１．７．ベンジル化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、１，３，５−トリ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト−酢酸イソオクチルエステル、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメ
チルベンジル）ジチオールテレフタレート、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸ジオクタデシルエステル及び３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸モノエチルエステル、カルシウム塩。
【００７６】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００７７】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００７８】
１．１０．トリアジン化合物、例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００７９】
１．１１．ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００８０】
１．１２．アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン及びオクチル−Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００８１】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペン
タエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８２】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８３】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８４】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８５】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤル社製ナウガードＸＬ−１（登録商標：Ｎａｕｇａｒｄ））。
【００８６】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００８７】
１．１９．アミン系抗酸化剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１
−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イル）−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【００８８】
２．紫外線吸収剤および光安定剤
２．１．２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
例えば、既知の市販のヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び米国特許第３，００４，８９６号明細書、米国特許第３，０５５，８９６号明細書、米国特許第３，０７２，５８５号明細書、米国特許第３，０７４，９１０号明細書、米国特許第３，１８９，６１５号明細書、米国特許第３，２１８，３３２号明細書、米国特許第３，２３０，１９４号明細書、米国特許第４，１２７，５８６号明細書、米国特許第４，２２６，７６３号明細書、米国特許第４，２７５，００４号明細書、米国特許第４，２７８，５８９号明細書、米国特許第４，３１５，８４８号明細書、米国特許第４，３４７，１８０号明細書、米国特許第４，３８３，８６３号明細書、米国特許第４，６７５，３５２号明細書、米国特許第４，６８１，９０５号明細書、米国特許第４，８５３，４７１号明細書、米国特許第５，２６８，４５０号明細書、米国特許第５，２７８，３１４号明細書、米国特許第５，２８０，１２４号明細書、米国特許第５，３１９，０９１号明細書、米国特許第５，４１０，０７１号明細書、米国特許第５，４３６，３４９号明細書、米国特許第５，５１６，９１４号明細書、米国特許第５，５５４，７６０号明細書、米国特許第５，５６３，２４２号明細書、米国特許第５，５７４，１６６号明細書、米国特許第５，６０７，９８７号明細書、米国特許第５，９７７，２１９号明細書及び米国特許第６，１６６，２１８号明細書に開示されたようなベンゾトリアゾール、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−
ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第二ブチル−５−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ビス−α−クミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ドデシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（４−第三オクチル−（６−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三オクチル−５−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−フルオロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオルメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル３−（５−トリフルオロメチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び ５−フェニルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール。
【００８９】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４
−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００９０】
２．３．置換された及び非置換の安息香酸のエステル、
例えば、４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００９１】
２．４．アクリレート及びマロネート、
例えば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリン、サンデュボアー（登録商標：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）ＰＲ２５、ジメチルｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ登録番号：７４４３−２５−６）、及びサンデュボアー（登録商標：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）ＰＲ３１、ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ登録番号：１４７７８３−６９−５）。
【００９２】
２．５．ニッケル化合物、
例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うか又は伴わない１：１又は１：２錯体のような２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル又はエチルエステル、ケトキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、他の配位子を伴うか又は伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００９３】
２．６．立体障害性アミン安定剤、
例えば、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００９４】
立体障害性アミンはまた、米国特許第５，９８０，７８３号明細書に記載される化合物の１つ、即ち、成分式Ｉ−ａ）、Ｉ−ｂ）、Ｉ−ｃ）、Ｉ−ｄ）、Ｉ−ｅ）、Ｉ−ｆ）、Ｉ−ｇ）、Ｉ−ｈ）、Ｉ−ｉ）、Ｉ−ｊ）、Ｉ−ｋ）又はＩ−ｌ）の化合物、特に、前記米国特許第５，９８０，７８３号明細書の６４−７２欄に列挙された光安定剤１−ａ−１、１−ａ−２、１−ｂ−１、１−ｃ−１、１−ｃ−２、１−ｄ−１、１−ｄ−２、１−ｄ−３、１−ｅ−１、１−ｆ−１、１−ｇ−１、１−ｇ−２又は１−ｋ−１でもあり得る。
【００９５】
立体障害性アミンはまた、米国特許第６，０４６，３０４号明細書及び米国特許第６，２９７，２９９号明細書に記載された化合物の１つ、例えば、請求項１０又は３８、又は実施例１ないし１２、又はＤ−１ないしＤ−５に記載された化合物でもあり得る。
【００９６】
２．７．ヒドロキシ置換アルコキシ基でＮ原子を置換された立体障害性アミン、
例えば、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヘキサデカノイルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、１−オ
キシル−４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジンとｔ−アミルアルコールからの炭素基の反応生成物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オキソ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）セバケート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）アジペート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）スクシネート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）グルタレート及び２,４−ビス｛Ｎ−[１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル]−Ｎ−ブチルアミノ｝−６−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−ｓ−トリアジン等の化合物。
【００９７】
２．８．オキサミド、
例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００９８】
２．９．トリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、
既知の市販のトリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン及び例えば、米国特許第３，８４３，３７１号明細書、米国特許第４，６１９，９５６号明細書、米国特許第４，７４０，５４２号明細書、米国特許第５，０９６，４８９号明細書、米国特許第５，１０６，８９１号明細書、米国特許第５，２９８，０６７号明細書、米国特許第５，３００，４１４号明細書、米国特許第５，３５４，７９４号明細書、米国特許第５，４６１，１５１号明細書、米国特許第５，４７６，９３７号明細書、米国特許第５，４８９，５０３号明細書、米国特許第５，５４３，５１８号明細書、米国特許第５，５５６，９７３号明細書、米国特許第５，５９７，８５４号明細書、米国特許第５，６８１，９５５号明細書、米国特許第５，７２６，３０９号明細書、米国特許第５，７３６，５９７号明細書、米国特許第５，９４２，６２６号明細書、米国特許第５，９５９，００８号明細書、米国特許第５，９９８，１１６号明細書、米国特許第６，０１３，７０４号明細書、米国特許第６，０６０，５４３号明細書、米国特許第６，１８７，９１９号明細書、米国特許第６，２４２，５９８号明細書及び米国特許第６，４６８，９５８号明細書に開示されているようなトリアジン、例えば、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、シアソルブ（登録商標：Ｃｙａｓｏｒｂ）１１６４，サイテック社、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）］−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（４−ビフェニリル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−フ
ェニル−４−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二アミルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ｎ−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ−ｎ−ブチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ*−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン（*は、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基及びデシルオキシ基の混合物を表わす）、メチレンビス−｛２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン｝、５：４：１の比において、３：５’、５：５’及び３：３’位を架橋されたメチレン架橋二量体混合物、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−５−α−クミルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンと４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンの混合物、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジン及び４，６−ジフェニル−２−（４−ヘキシルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン。
【００９９】
３．金属奪活剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１００】
４．ホスフィット及びホスホナイト、
例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（ｄｉｏｘａｐｈｏｓｐｈｅｐｉｎ）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ
−第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
【０１０１】
特に好ましいのは、以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化１９】
。
【０１０２】
５．ヒドロキシルアミン、
例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン及び水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１０３】
６．ニトロン、
例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、Ｎ−メチル−α−ヘプタデシルニトロン、及び水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【０１０４】
７．アミンオキシド、
例えば、米国特許第５，８４４，０２９号明細書及び米国特許第５，８８０，１９１号明細書に開示されているようなアミンオキシド誘導体、ジデシルメチルアミンオキシド、トリデシルアミンオキシド、トリドデシルアミンオキシド及びトリヘキサデシルアミンオキシド。
【０１０５】
８．ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書、米国特許第４，３３８，２４４号明細書、米国特許第５，１７５，３１２号明細書、米国特許第５，２１６，０５２号明細書、米国特許第５，２５２，６４３号明細書、米国特許第５，３６９，１５９号明細書、米国特許第５，３５６，９６６号明細書、米国特許第５，３６７，００８号明細書、米国特許第５，４２８，１１７号明細書又は米国特許第５，４２８，１６２号明細書に開示されるもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、イルガノックス（登録商標：Ｉｒｇａｎｏｘ）ＨＰ−１３６（チバ スペシャルティ ケミカルズ コーポレーション）及び３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【０１０６】
９．チオ相乗剤、
例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【０１０７】
１０．過酸化物捕捉剤、
例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１０８】
１１．塩基性補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテコレート。
【０１０９】
１２．核剤、
例えば、タルクのような無機物質、二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のホスフェート、炭酸塩又は硫酸塩；モノ−又はポリカルボン酸のような有機化合物及びそれらの塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオンコポリマー（アイオノマー）のようなポリマー化合物。
【０１１０】
１３．充填剤及び強化剤、
例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【０１１１】
１４．分散剤、
例えば、ポリエチレンオキシドワックス又は鉱油。
【０１１２】
１５．他の添加剤、
例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光増白剤、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、スリップ剤、架橋剤、架橋増進剤、ハロゲン掃去剤、防煙剤、防炎加工剤、静電防止剤、置換及び非置換ビスベンジリデンソルビトール等の透明剤、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（３，１−ベンズオキサジノ−４−オン）等のベンズオキサジノン紫外線吸収剤、シアソルブ（登録商標：Ｃｙａｓｏｒｂ）３６３８（ＣＡＳ登録番号：１８６００−５９−４）、及び発泡剤。
【０１１３】
充填剤及び強化剤（リストの項目１３）、例えばタルク、炭酸カルシウム、雲母又はカオリンは、安定化するポリオレフィンの総質量に基づき約０．０１質量％ないし約４０質量％の濃度でポリオレフィンに添加される。
【０１１４】
充填剤及び強化剤（リストの項目１３）、例えば金属水酸化物、特に水酸化アルミニウム又は水酸化マグネシウムは、安定化するポリオレフィンの総質量に基づき約０．０１質量％ないし約６０質量％の濃度でポリオレフィンに添加される。
【０１１５】
充填剤としてのカーボンブラックは、安定化するポリオレフィンの総質量に基づき約０．０１質量％ないし約５質量％の賢明な濃度でポリオレフィンに添加される。
【０１１６】
強化剤としてのガラス繊維は、安定化するポリオレフィンの総質量に基づき約０．０１質量％ないし約２０質量％の賢明な濃度でポリオレフィンに添加される。
【０１１７】
以下の実施例で本発明をより詳細に説明する。部及びパーセント（％）は、特に記載がない限りは質量に基づくものである。
【実施例】
【０１１８】
実施例１：ＨＣｌ掃去剤としてトリエチルアミン（ＴＥＡ）を用いたトリス（第二ブチ
ルフェニル）ホスフィット混合物の製造
窒素雰囲気下において、キシレン ３００ｍＬ中ｏ−第二ブチルフェノールとｐ−第二ブチルフェノールの混合物（オルト ７０％及びパラ ３０％：スケネクタディ インターナショナル） ４５．０ｇ（０．３０モル）及びＴＥＡ ３５．７ｇ（０．３５モル）の溶液（異性体混合物）に、三塩化リン １４．５ｇ（０．１０モル）を、２５℃において２時間かけて添加した。反応の完了を確実にするため、反応塊を６５℃まで加熱し、冷却し、濾過し、そして減圧下でキシレンを除去した。残りの淡黄色液体（収率 ９５％）をＨＰＬＣで分析したところ、わずかに出発フェノールが存在する第二ブチルフェニルホスフィットの混合物であった。これを、Ｐ３１−ＮＭＲで確認した。
【０１１９】
実施例２：トリス（第二ブチルフェニル）ホスフィット混合物の製造
三塩化リン（９８．１ｇ、０．７１モル）を、触媒量（１．５ｇ、０．０１５モル）のＴＥＡを含む第二ブチルフェノール（オルト ７０％及びパラ ３０％：スケネクタディ
インターナショナル） ３０４．９ｇ（２．０３モル）に、４０ないし４５℃において９０分かけて添加した。窒素パージを用いてＨＣｌを除去し、反応塊を８０℃まで加熱し、温度を４時間維持した。その後、ＴＥＡを用いてｐＨ≧８に調整し、冷却し、濾過して、９７％の第二ブチルホスフィット（ＨＰＬＣ）である透明でほぼ無色の液体を得た（収率 ９８％）。
【０１２０】
実施例の配合物は、以下の化合物を使用する：
【化２０】
【０１２１】
実施例３：ポリエチレンの安定化
基本的にいかなる安定化添加剤も含まないフィルム等級の線状低密度ポリエチレン（ＬＬ １０１８：エクソンモービル）を基本の安定化剤及び試験添加剤とドライブレンドした。基本の安定化剤は、５００ｐｐｍのフェノール系抗酸化剤、イルガノックス（登録商標：Ｉｒｇａｎｏｘ） １０７６及び８００ｐｐｍのポリマー加工助剤、ダイナマー ＦＸ−５９２０Ａを含む。試験添加剤は、モル当量で添加した（リン ４２．５ｐｐｍ）。配合物は、最初に、２軸スクリュー押出機中で１９０℃、窒素下において溶融配合される；ゼロパス押出し（ｚｅｒｏ ｐａｓｓ ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）に相当する。その後、結果として得られた押出物を、マドック混合セクション（Ｍａｄｄｏｃｋ ｍｉｘｉｎｇ ｓｅｃｔｉｏｎ）を備えた１軸スクリュー押出機で、２６０℃においてマルチパス押出しした（ｍｕｌｔｉｐｌｅ ｐａｓｓ ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）。第一、第三及び第五パス押出物のサンプルを試験のために収集した。ゼロ、第一、第三及び第五パス押出物を１９３℃において３分間、まず低圧で、その後、高圧で圧縮成形して、その後、冷却することによって、プラック（０．３２ｍｍ）を製造した。試料を、溶融流量保持（ｍｅｌｔ ｆｌｏｗ ｒａｔｅ ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ）（ＡＳＴＭ−１２３８；１９０℃／２．１６ｋｇ；２１．６ｋｇに従って）、押出し中の着色及び６０℃における窒素酸化物への曝露中の着色（ＡＳＴＭ−１９２５に従って）について試験した。結果を以下に示す。添加剤は、ポリマーに基づく質量％で示す。
【表１】
この押出しパス対溶融流量保持の表から分かるように、液状の第二ブチル置換ホスフィットは、常に、それらの固体の第三ブチル対照物と比べて良好な性能を示した。濃度が各々の対照と等しく、かつ立体障害がほぼ同じであるため、該性能は、液状の第二ブチル置換ホスフィットによってもたらされたことは明らかである。
【０１２２】
【表２】
この押出しパス対黄色度指数保色性の表から分かるように、液状の第二ブチル置換ホスフィット、Ｐｈｏｓ １及びＰｈｏｓ ５は、それらの固体の第三ブチル対照物、Ｐｈｏｓ ２及びＰｈｏｓ ６より色指数が低かった。濃度が各々の対照と等しく、かつ立体障害がほぼ同じであるため、該性能は、液状の第二ブチル置換ホスフィットによってもたらされたことは明らかである。
【０１２３】
【表３】
この窒素酸化物への曝露中の黄色度指数保色性の表から分かるように、液状の第二ブチル置換ホスフィットは、常に、それらの固体の第三ブチル対照物より色指数が低かった。濃度が各々の対照と等しく、かつ立体障害がほぼ同じであるため、該性能は、液状の第二ブチル置換ホスフィットによってもたらされたことは明らかである。
【０１２４】
実施例４：粘度
粘度は、以下の通り測定した：ペルチェプレート、４０ｍｍ 鋼製コーン、２ °
角度 ２℃／分 ｒａｍｐ、せん断応力＝１０Ｐａ。
【表４】
Ｐ７は、トリス−ノニルフェニルホスフィットである。
Ｐ８は、７０％ Ｐｈｏｓ １／３０％ Ｐｈｏｓ ３である。
本発明のホスフィット Ｐ８及びＰｈｏｓ ３は、本発明のホスフィットではないＰ７より粘性が非常に低かった。粘性が低いほど、取扱いが容易である。
例えば、本発明の化合物は、ＴＡ装置 ＡＲ−２０００Ｎ コーン／プレートレオメータ：ペルチェプレートを備えた４０ｍｍ ２°鋼製コーン、定数 １０Ｐａ せん断応力、２℃／分、０℃ないし１００℃の温度ｒａｍｐで測定すると、２０℃において約１０００ｍＰａ・ｓｅｃ未満の又は２０℃において約７５０ｍＰａ・ｓｅｃ未満の、又は、４０℃において約１５０ｍＰａ・ｓ未満の又は４０℃において約１３５ｍＰａ・ｓ未満の粘度を示した。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の液状トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又はトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルの液状混合物を用いたポリオレフィンを安定化するための方法を目的とする。
【背景技術】
【０００２】
有機リン化合物は、よく知られたポリマー加工安定剤である。例えば、Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，第４版，Ｒ．Ｇａｅｃｈｔｅｒ，Ｈ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，Ｅｄｓ．，１９９３，４０−７１頁はポリプロピレン（ＰＰ）及びポリエチレン（ＰＥ）の安定化を討論している。
【０００３】
既知のホスフィット及びホスホナイト安定剤は、例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ビス（２，４−ジ−α−クミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（Ｄ）、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット（Ｅ）、ビスイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト（Ｈ）、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（Ｃ）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（Ａ）、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット（Ｇ）、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］（Ｂ）、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）オクチルホスフィット、ポリ（４，４’−｛２，２’−ジメチル−５，５’−ジ−第三ブチルフェニルスルフィド｝オクチルホスフィット）、ポリ（４，４’−｛イソプロピリデンジフェノール｝−オクチルホスフィット）、ポリ（４，４’−｛イソプロピリデンビス［２，６−ジブロモフェノール］｝−オクチルホスフィット）、ポリ（４，４’−｛２，２’−ジメチル−５，５’−ジ−第三ブチルフェニルスルフィド｝−ペンタエリトリチルジホスフィット）、
【化１】
【化２】
を含む。
【０００４】
米国特許第３，４５６，９０６号明細書は、ポリエステル強化ゴムのための安定剤としてホスフィットエステルを開示している。
【０００５】
米国特許第５，２０８，３６８号明細書及び米国特許第６，５７６，７８８号明細書は、ジフェニルメタンジイソシアネートとポリフェニルポリメチレンポリイソシアネートの混合物の製造方法に関する。アリールホスフィットが安定剤として示唆されている。
【０００６】
英国特許出願公開第２２２７４９０号明細書は、三塩化リン、ビフェニル及びフェノールから製造された加工安定剤混合物を開示している。
【０００７】
英国特許出願公開第１２９８２４８号明細書は、トリス−ペルオキシドの製造方法を教示している。トリアリールホスフィットは、２成分触媒の一部である。
【０００８】
米国特許第３，６４４，５３６号明細書は同様に、トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼンの製造方法を教示している。トリ−アリールホスフィットは、２成分触媒系の一部である。
【０００９】
独国特許出願公開第２９４０６２０号明細書は、トリアリールホスフィットの製造方法を教示している。アリール基は、１つ以上の枝分かれしたアルキル基によって、又は、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基によって置換され得る。トリアリールホスフィットは、ポリマー安定剤として有用である。
【００１０】
米国特許第５，２５４，７０９号明細書は、立体障害性アリールホスフィットの製造方法を開示している。
【００１１】
特開平７−３０９８８４号公報は、トリ−アルキルフェニルホスフィットの製造方法を開示している。
【非特許文献１】Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，第４版，Ｒ．Ｇａｅｃｈｔｅｒ，Ｈ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，Ｅｄｓ．，１９９３，４０−７１頁
【特許文献１】米国特許第３，４５６，９０６号明細書
【特許文献２】米国特許第５，２０８，３６８号明細書
【特許文献３】米国特許第６，５７６，７８８号明細書
【特許文献４】英国特許出願公開第２２２７４９０号明細書
【特許文献５】英国特許出願公開第１２９８２４８号明細書
【特許文献６】米国特許第３，６４４，５３６号明細書
【特許文献７】独国特許出願公開第２９４０６２０号明細書
【特許文献８】米国特許第５，２５４，７０９号明細書
【特許文献９】特開平７−３０９８８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
当業界においては、市販で入手可能な従来のものよりも、ポリオレフィンとより相溶性のホスフィット安定剤がまだ求められている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
周囲条件において液状である、特定のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィット又はトリス−（モノ）−アルキルフェニルホスフィットの混合物は、ポリオレフィンと非常に相溶性であることが発見された。トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィット又は該ホスフィットの混合物は優れた加工安定剤である。
【００１４】
溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対してポリオレフィンを安定化するための方法であって、該方法は、有効安定化量の式（Ｉ）
【化３】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、
前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）を前記ポリオレフィン中に配合すること又は前記ポリオレフィンに適用すること、を含む方法を開示する。
【００１５】
溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対して安定化されたポリオレフィン組成物であって、
ａ）ポリオレフィン、及び
ｂ）有効安定化量の式（Ｉ）
【化４】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）
を含む組成物もまた開示する。
【００１６】
ノニルフェノールの製造は、例えばＦａｉｔｈ，Ｋｅｙｅｓ ａｎｄ Ｃｌａｒｋ，Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｆ．Ａ．Ｌｏｗｅｎｈｅｉｍ，Ｍ．Ｋ．Ｍｏｒａｎ，Ｅｄｓ．，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，第４版．，１９７５，５７５−５７８頁に開示されている。Ｍｅｒｃｋ Ｉｎｄｅｘ １１，６５９９参照。これは、アルキルフェノールの製造の典型である。
【００１７】
トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットは、酸素の不存在下において、例えば、窒素雰囲気下及びトリエチルアミン等の酸掃去剤の存在下において、３当量のモノ−アルキルフェノールと三塩化リンを反応させることによって製造される。
【００１８】
アルキル基は、直鎖であるか又は枝分かれしており、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソピロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、第三アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基又は第三オクチル基である。
【００１９】
アルキル基は、例えば、１ないし６個の炭素原子又は１ないし４個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基である。例えば、アルキル基は、メチル基、エチル基、第二ブチル基、第三アミル基又はヘキシル基である。
【００２０】
好ましくは、各Ｒは、同じであるか又は異なり、かつ１ないし６個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わす。
【００２１】
興味深いものは、各Ｒが、同じであるか又は異なり、かつ１ないし４個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わすところの方法である。
【００２２】
また、興味深いものは、各Ｒがオルト位又はパラ位を置換し、かつ、独立して、メチル基、エチル基、第二ブチル基、第三アミル基又はヘキシル基を表わすところの方法である
。
【００２３】
本発明の式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、周囲条件、２５℃及び１気圧の圧力において必ず液状である。その他の制限は、各Ｒが１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わすことのみである。
【００２４】
特に興味深いのは、各Ｒが同等なものを表わし、かつオルト位又はパラ位を置換するところの方法である。
【００２５】
非常に特に興味深いものは、各Ｒが第二ブチル基を表わし、かつオルト位又はパラ位を置換するところの方法である。
【００２６】
本発明の式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物において、個々の成分は、純粋な（単離した）状態の液体である必要はない。
【００２７】
個々のホスフィットエステルとして、例えば、純粋なトリス−２−第三ブチルフェニルホスフィット（融点：６６−６８℃）及びトリス−４−第三ブチルフェニル−ホスフィット（融点：７３−７５℃）は、本発明から除かれる。これらの化合物は、本発明の液状ホスフィットエステルの混合物からは除かれない。
【００２８】
個々のホスフィットエステルとして、トリス−３−第三ブチルフェニルホスフィット（沸点：０．２ｍｍにおいて１９３−１９８℃）及びトリス−２−第二ブチルフェニル−ホスフィット（沸点：０．０１ｍｍにおいて１６０−１６５℃）は本発明に含まれる。
【００２９】
ホスフィットエステルの液状混合物は、２種以上の純粋なホスフィットエステルを混合することによって調製され得るか、又は２種以上の異なるモノ−アルキルフェノールの混合物を使用して三塩化リンから直接調製され得る。
【００３０】
本発明のホスフィットエステルの混合物において、式（Ｉ）で表わされる少なくとも２種の異なるホスフィットエステルが存在する。２種のホスフィットエステルは、少なくとも１つのフェニル基上に異なるアルキル基又は異なる置換アルキル基を有することで異なる。
【００３１】
異なるアルキル基とは、異なる鎖の長さ又は異なる鎖の枝分かれ（例えば、ｎ−ブチル基、第三ブチル基、第二ブチル基）を意味する。異なる置換とは、フェノール性ヒドロキシル基に対する異なる位置（例えば、メタ位、パラ位）を意味する。
【００３２】
もちろん、２種の異なるモノ−アルキルフェノールは、鎖の長さが異なり、かつ位置も異なるアルキル基を有し得るか、又は枝分かれが異なり、かつ位置も異なるアルキル基を有し得るか、又は鎖の長さが異なり、かつ枝分かれも異なるアルキル基を有し得るか、又は鎖の長さが異なり、枝分かれが異なり、かつ位置も異なるアルキル基を有し得る。
【００３３】
都合よくは、本発明の液状ホスフィットの混合物は、フェノール基が約６０％以上オルト位で置換されているものである。例えば、フェノール基が約７０％以上オルト位で置換されているか、又はフェノール基が約８０％以上オルト位で置換されている。残りのものは、例えばパラ位で置換されている。
【００３４】
興味深いのは、Ｒ基がオルト位又はパラ位にあり、独立して、メチル基、エチル基、第二ブチル基、第三アミル基又はヘキシル基を表わし、かつフェノール基は約６０％以上オ
ルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む方法である。
【００３５】
例えば、Ｒ基の各々は、同等なものを表わし、例えば、第二ブチル基を表わし、かつオルト位及びパラ位にある。
【００３６】
例えば、ホスフィットエステルの混合物は、以下の式
【化５】
（式中、Ｒ基は、同等なものを表わす。）で表わされる化合物の混合物である。
【００３７】
興味深いものは、各Ｒが同等なものを表わし、オルト位又はパラ位を置換し、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む方法である。
【００３８】
例えば、本発明のホスフィットエステルの混合物において、各Ｒは同等なものを表わし、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されている。例えば、フェノール基は約７０％以上オルト位で置換されているか、又はフェノール基は約８０％以上オルト位で置換されている。残りのものは、例えばパラ位で置換されている。
【００３９】
特に興味深いのは、各Ｒが第二ブチル基を表わし、オルト位又はパラ位を置換し、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む方法である。
【００４０】
本発明の液状ホスフィットエステルの混合物もまた、本発明の対象である。
【００４１】
従って、本発明の対象はまた、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である、式（Ｉ）
【化６】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルの混合物である。
【００４２】
興味深いものは、各Ｒは、同じであるか又は異なり、かつ１ないし６個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わすところの混合物である。
【００４３】
特に興味深いものは、各Ｒは、同じであるか又は異なり、かつ１ないし４個の炭素原子を有する直鎖又は枝分鎖のアルキル基を表わすところの混合物である。
【００４４】
ポリオレフィンの例は、以下に示す通りである：
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）である。
【００４５】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、例えばポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ｉ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｉｉ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一つ又はそれ以上を通常含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはｐ−又はｓ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用され得る。活性化剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は大抵、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【００４６】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００４７】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及び一酸化炭素とのそれらのコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００４８】
４．１．）で言及したポリマーと衝撃改質剤、例えばエチレン−プロピレン−ジエンモノマーコポリマー（ＥＰＤＭ）、エチレンと高級α−オレフィンのコポリマー（例えば、エチレン−オクテンコポリマー）、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエンコポリマー、水素化スチレン−ブタジエンコポリマー、スチレン−イソプレンコポリマー、水素化スチレン−イソプレンコポリマーのブレンド。これらのブレンドは、一般に、ＴＰＯ’ｓ（熱可塑性ポリオレフィン）として業界において言及される。
【００４９】
本発明のポリオレフィンは、例えばポリプロピレンホモ−及びコポリマー及びポリエチレンホモ−及びコポリマーである。例えば、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びポリプロピレンランダム及び衝撃（異相）コポリマー。本発明の好ましいポリオレフィンは、ポリプロピレンホモポリマー、ポリプロピレン衝撃（異相）コポリマー、それらのブレンド、及びＴＰＯ’ｓ、例えばポリプロピレンホモポリマー及び衝撃コポリマーとＥＰＤＭ又はエチレン−α−オレフィンコポリマーのブレンドを含む。
【００５０】
好ましくは、ポリオレフィンは、ポリエチレン、特に低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）である。
【００５１】
溶融加工技術は既知であり、例えば押出し、共混練、引抜成形、射出成形、共押出し、繊維押出し、紡糸、フィルム押出し（キャスト、吹込み、吹込み成形）、回転成形等を含む。
【００５２】
本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルは、例えば、ポリオレフィンの質量に基づき、０．０１質量％ないし５質量％、安定化するポリオレフィンの質量に基づき、０．０２５質量％ないし１質量％、０．０５質量％ないし０．５質量％、０．０１質量％ないし１質量％、０．０１質量％ないし０．５質量％、０．０２５質量％ないし５質量％又は０．０５質量％ないし５質量％の量で使用される。例えば、本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルは、ポリオレフィンの質量に基づき、３質量％未満の量で、又はポリオレフィンの質量に基づき、０．０１質量％ないし２．５質量％の量で、又は０．０１質量％ないし２質量％の量で存在する。
【００５３】
興味深いものは、ホスフィットエステル又はエステルの混合物が、ポリオレフィンの質
量に基づき、約３質量％未満の量において配合又は適用されるところの方法である。
【００５４】
ポリオレフィン中への本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤の配合は、既知の方法によって、例えば、成形の前又は後に、もしくは、溶解又は分散した安定剤又は安定剤混合物をポリオレフィンに適用し、その後、所望により溶媒を蒸発させることによって行われる。安定剤又は安定剤混合物はまた、例えば２．５質量％ないし６０質量％の濃度で本発明のホスフィットエステル及び任意の添加剤を含むマスターバッチの形態で、安定化されるポリオレフィンに添加され得る。
【００５５】
トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤はまた、重合前又は重合中もしくは架橋前に添加され得る。
【００５６】
本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤は、純粋な形態でもしくはワックス、オイル又はポリマー中にカプセル化されて安定化するポリオレフィン中に配合され得る。
【００５７】
本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤はまた、安定化するポリオレフィン上に噴霧され得る。本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び任意の更なる添加剤はまた、他の添加剤（例えば、更に討論される他の慣用の添加剤）又はそれらの溶融物を希釈することができるので、それは、これらの添加剤と一緒に安定化するポリオレフィン上に噴霧することもできる。重合触媒の失活の間の噴霧による添加は特に有利であり、例えば、失活のために使用されたスチームを用いて噴霧を行うことができる。
【００５８】
球形に重合されたポリオレフィンの場合においては、例えば、所望により、他の添加剤と一緒に本発明の安定剤を噴霧により適用することが有利であり得る。
【００５９】
本発明に従ったポリオレフィン組成物は、ポリオレフィン製品の製造において有用である。前記製品は、例えば織布、不織布、フィルム、シート又は成形品である。
【００６０】
更なる安定剤は、例えばヒンダードフェノール系抗酸化剤、ヒドロキシルアミン、ベンゾフラノン、他の有機リン安定剤、立体障害性アミン光安定剤及びヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、トリス−アリール−ｓ−トリアジン又はヒドロキシフェニルベンゾフェノン紫外線安定剤を含む。
【００６１】
ヒンダードフェノール系抗酸化剤は、例えばトリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエステルのカルシウム塩、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］又はオクタデシル３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを含む。
【００６２】
ヒンダードアミン光安定剤は、例えば１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン及び琥珀酸の縮合物
【化７】
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物
【化８】
２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物
【化９】
４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）と２−クロロ−４，６−ビス（ジブチルアミノ）−ｓ−トリアジンで末端をキャップ化された２，４−ジクロロ−６−［（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）ブチルアミノ］−ｓ−トリアジンの縮合生成物であるオリゴマー状化合物
【化１０】
１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）−エタンと塩化シアヌルの反応によって得られた生成物と（２，２，６，６−トリメチルピペリジニ−４−イル）ブチルアミンとの反応によって得られた生成物
【化１１】
Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物
【化１２】
Ｎ，Ｎ’−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物
【化１３】
７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物
【化１４】
無水マレイン酸−炭素原子数１８ないし２２−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンの反応生成物
【化１５】
２，４−ビス［（１−シクロヘキシルオキシ−２、２，６，６−ピペリジニ−４−イル）ブチルアミノ］−６−クロロ−ｓ−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミンの反応生成物
【化１６】
４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−１−プロポキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）と２−クロロ−４，６−ビス（ジブチルアミノ）−ｓ−トリアジンで末端をキャップ化された２，４−ジクロロ−６−［（１−プロポキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）ブチルアミノ］−ｓ−トリアジンの縮合生成物であるオリゴマー状化合物
【化１７】
４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン）と２−クロロ−４，６−ビス（ジブチルアミノ）−ｓ−トリアジンで末端をキャップ化された２，４−ジクロロ−６−［（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４−イル）ブチルアミノ］−ｓ−トリアジンの縮合生成物であるオリゴマー状化合物
【化１８】
（式中、ｎは、総分子量が約１０００ｇ／モルを越えるような整数を表わす。）
を含む。
【００６３】
ヒドロキシルアミン安定剤は、例えばＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジドデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−テトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−ヘプタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−
オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン又はＮ，Ｎ−ジ（水素化牛脂）ヒドロキシルアミンである。
【００６４】
アミンオキシド安定剤は、例えばゲノックス ＥＰ（登録商標：Ｇｅｎｏｘ ＥＰ）、ジ（炭素原子数１６ないし１８）アルキルメチルアミンオキシド（ＣＡＳ登録番号：２０４９３３−９３−７）である。
【００６５】
ベンゾフラノン安定剤は、例えば３−（４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス（５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ベンゾフラノ−２−オン）、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン又は３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オンである。
【００６６】
更なる有機リン安定剤は、例えば、以前に開示されたものである。更なる有機リン安定剤はまた、例えば米国特許第６，５４１，５４９号明細書に開示されたものである。
【００６７】
任意の安定剤は、本発明のトリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルと同量で使用される。
【００６８】
トリス−（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル及び上記の任意の安定剤の他に、以下の更なる添加剤も使用され得る。これらの更なる添加剤は、例えば、ポリオレフィンの質量に基づき０．０１質量％ないし５質量％の使用量で使用される。
【００６９】
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、線状又は側鎖において分岐したノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルヘプタデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルトリデシ−１−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００７０】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００７１】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチル
ヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００７２】
１．４．トコフェロール、
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００７３】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００７４】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００７５】
１．７．ベンジル化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、１，３，５−トリ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト−酢酸イソオクチルエステル、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメ
チルベンジル）ジチオールテレフタレート、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸ジオクタデシルエステル及び３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸モノエチルエステル、カルシウム塩。
【００７６】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００７７】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００７８】
１．１０．トリアジン化合物、例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００７９】
１．１１．ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００８０】
１．１２．アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン及びオクチル−Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００８１】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペン
タエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８２】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８３】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８４】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８５】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤル社製ナウガードＸＬ−１（登録商標：Ｎａｕｇａｒｄ））。
【００８６】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００８７】
１．１９．アミン系抗酸化剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１
−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イル）−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【００８８】
２．紫外線吸収剤および光安定剤
２．１．２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
例えば、既知の市販のヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び米国特許第３，００４，８９６号明細書、米国特許第３，０５５，８９６号明細書、米国特許第３，０７２，５８５号明細書、米国特許第３，０７４，９１０号明細書、米国特許第３，１８９，６１５号明細書、米国特許第３，２１８，３３２号明細書、米国特許第３，２３０，１９４号明細書、米国特許第４，１２７，５８６号明細書、米国特許第４，２２６，７６３号明細書、米国特許第４，２７５，００４号明細書、米国特許第４，２７８，５８９号明細書、米国特許第４，３１５，８４８号明細書、米国特許第４，３４７，１８０号明細書、米国特許第４，３８３，８６３号明細書、米国特許第４，６７５，３５２号明細書、米国特許第４，６８１，９０５号明細書、米国特許第４，８５３，４７１号明細書、米国特許第５，２６８，４５０号明細書、米国特許第５，２７８，３１４号明細書、米国特許第５，２８０，１２４号明細書、米国特許第５，３１９，０９１号明細書、米国特許第５，４１０，０７１号明細書、米国特許第５，４３６，３４９号明細書、米国特許第５，５１６，９１４号明細書、米国特許第５，５５４，７６０号明細書、米国特許第５，５６３，２４２号明細書、米国特許第５，５７４，１６６号明細書、米国特許第５，６０７，９８７号明細書、米国特許第５，９７７，２１９号明細書及び米国特許第６，１６６，２１８号明細書に開示されたようなベンゾトリアゾール、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−
ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第二ブチル−５−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ビス−α−クミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ドデシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（４−第三オクチル−（６−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三オクチル−５−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−フルオロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオルメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル３−（５−トリフルオロメチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び ５−フェニルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール。
【００８９】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４
−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００９０】
２．３．置換された及び非置換の安息香酸のエステル、
例えば、４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００９１】
２．４．アクリレート及びマロネート、
例えば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリン、サンデュボアー（登録商標：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）ＰＲ２５、ジメチルｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ登録番号：７４４３−２５−６）、及びサンデュボアー（登録商標：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）ＰＲ３１、ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ登録番号：１４７７８３−６９−５）。
【００９２】
２．５．ニッケル化合物、
例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うか又は伴わない１：１又は１：２錯体のような２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル又はエチルエステル、ケトキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、他の配位子を伴うか又は伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００９３】
２．６．立体障害性アミン安定剤、
例えば、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００９４】
立体障害性アミンはまた、米国特許第５，９８０，７８３号明細書に記載される化合物の１つ、即ち、成分式Ｉ−ａ）、Ｉ−ｂ）、Ｉ−ｃ）、Ｉ−ｄ）、Ｉ−ｅ）、Ｉ−ｆ）、Ｉ−ｇ）、Ｉ−ｈ）、Ｉ−ｉ）、Ｉ−ｊ）、Ｉ−ｋ）又はＩ−ｌ）の化合物、特に、前記米国特許第５，９８０，７８３号明細書の６４−７２欄に列挙された光安定剤１−ａ−１、１−ａ−２、１−ｂ−１、１−ｃ−１、１−ｃ−２、１−ｄ−１、１−ｄ−２、１−ｄ−３、１−ｅ−１、１−ｆ−１、１−ｇ−１、１−ｇ−２又は１−ｋ−１でもあり得る。
【００９５】
立体障害性アミンはまた、米国特許第６，０４６，３０４号明細書及び米国特許第６，２９７，２９９号明細書に記載された化合物の１つ、例えば、請求項１０又は３８、又は実施例１ないし１２、又はＤ−１ないしＤ−５に記載された化合物でもあり得る。
【００９６】
２．７．ヒドロキシ置換アルコキシ基でＮ原子を置換された立体障害性アミン、
例えば、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヘキサデカノイルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、１−オ
キシル−４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジンとｔ−アミルアルコールからの炭素基の反応生成物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オキソ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）セバケート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）アジペート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）スクシネート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）グルタレート及び２,４−ビス｛Ｎ−[１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジニ−４−イル]−Ｎ−ブチルアミノ｝−６−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−ｓ−トリアジン等の化合物。
【００９７】
２．８．オキサミド、
例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００９８】
２．９．トリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、
既知の市販のトリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン及び例えば、米国特許第３，８４３，３７１号明細書、米国特許第４，６１９，９５６号明細書、米国特許第４，７４０，５４２号明細書、米国特許第５，０９６，４８９号明細書、米国特許第５，１０６，８９１号明細書、米国特許第５，２９８，０６７号明細書、米国特許第５，３００，４１４号明細書、米国特許第５，３５４，７９４号明細書、米国特許第５，４６１，１５１号明細書、米国特許第５，４７６，９３７号明細書、米国特許第５，４８９，５０３号明細書、米国特許第５，５４３，５１８号明細書、米国特許第５，５５６，９７３号明細書、米国特許第５，５９７，８５４号明細書、米国特許第５，６８１，９５５号明細書、米国特許第５，７２６，３０９号明細書、米国特許第５，７３６，５９７号明細書、米国特許第５，９４２，６２６号明細書、米国特許第５，９５９，００８号明細書、米国特許第５，９９８，１１６号明細書、米国特許第６，０１３，７０４号明細書、米国特許第６，０６０，５４３号明細書、米国特許第６，１８７，９１９号明細書、米国特許第６，２４２，５９８号明細書及び米国特許第６，４６８，９５８号明細書に開示されているようなトリアジン、例えば、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、シアソルブ（登録商標：Ｃｙａｓｏｒｂ）１１６４，サイテック社、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）］−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（４−ビフェニリル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−フ
ェニル−４−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二アミルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ｎ−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ−ｎ−ブチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ*−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン（*は、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基及びデシルオキシ基の混合物を表わす）、メチレンビス−｛２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン｝、５：４：１の比において、３：５’、５：５’及び３：３’位を架橋されたメチレン架橋二量体混合物、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−５−α−クミルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンと４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンの混合物、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジン及び４，６−ジフェニル−２−（４−ヘキシルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン。
【００９９】
３．金属奪活剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１００】
４．ホスフィット及びホスホナイト、
例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（ｄｉｏｘａｐｈｏｓｐｈｅｐｉｎ）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ
−第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
【０１０１】
特に好ましいのは、以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化１９】
。
【０１０２】
５．ヒドロキシルアミン、
例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン及び水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１０３】
６．ニトロン、
例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、Ｎ−メチル−α−ヘプタデシルニトロン、及び水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【０１０４】
７．アミンオキシド、
例えば、米国特許第５，８４４，０２９号明細書及び米国特許第５，８８０，１９１号明細書に開示されているようなアミンオキシド誘導体、ジデシルメチルアミンオキシド、トリデシルアミンオキシド、トリドデシルアミンオキシド及びトリヘキサデシルアミンオキシド。
【０１０５】
８．ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書、米国特許第４，３３８，２４４号明細書、米国特許第５，１７５，３１２号明細書、米国特許第５，２１６，０５２号明細書、米国特許第５，２５２，６４３号明細書、米国特許第５，３６９，１５９号明細書、米国特許第５，３５６，９６６号明細書、米国特許第５，３６７，００８号明細書、米国特許第５，４２８，１１７号明細書又は米国特許第５，４２８，１６２号明細書に開示されるもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、イルガノックス（登録商標：Ｉｒｇａｎｏｘ）ＨＰ−１３６（チバ スペシャルティ ケミカルズ コーポレーション）及び３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【０１０６】
９．チオ相乗剤、
例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【０１０７】
１０．過酸化物捕捉剤、
例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１０８】
１１．塩基性補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテコレート。
【０１０９】
１２．核剤、
例えば、タルクのような無機物質、二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のホスフェート、炭酸塩又は硫酸塩；モノ−又はポリカルボン酸のような有機化合物及びそれらの塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオンコポリマー（アイオノマー）のようなポリマー化合物。
【０１１０】
１３．充填剤及び強化剤、
例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【０１１１】
１４．分散剤、
例えば、ポリエチレンオキシドワックス又は鉱油。
【０１１２】
１５．他の添加剤、
例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光増白剤、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、スリップ剤、架橋剤、架橋増進剤、ハロゲン掃去剤、防煙剤、防炎加工剤、静電防止剤、置換及び非置換ビスベンジリデンソルビトール等の透明剤、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（３，１−ベンズオキサジノ−４−オン）等のベンズオキサジノン紫外線吸収剤、シアソルブ（登録商標：Ｃｙａｓｏｒｂ）３６３８（ＣＡＳ登録番号：１８６００−５９−４）、及び発泡剤。
【０１１３】
充填剤及び強化剤（リストの項目１３）、例えばタルク、炭酸カルシウム、雲母又はカオリンは、安定化するポリオレフィンの総質量に基づき約０．０１質量％ないし約４０質量％の濃度でポリオレフィンに添加される。
【０１１４】
充填剤及び強化剤（リストの項目１３）、例えば金属水酸化物、特に水酸化アルミニウム又は水酸化マグネシウムは、安定化するポリオレフィンの総質量に基づき約０．０１質量％ないし約６０質量％の濃度でポリオレフィンに添加される。
【０１１５】
充填剤としてのカーボンブラックは、安定化するポリオレフィンの総質量に基づき約０．０１質量％ないし約５質量％の賢明な濃度でポリオレフィンに添加される。
【０１１６】
強化剤としてのガラス繊維は、安定化するポリオレフィンの総質量に基づき約０．０１質量％ないし約２０質量％の賢明な濃度でポリオレフィンに添加される。
【０１１７】
以下の実施例で本発明をより詳細に説明する。部及びパーセント（％）は、特に記載がない限りは質量に基づくものである。
【実施例】
【０１１８】
実施例１：ＨＣｌ掃去剤としてトリエチルアミン（ＴＥＡ）を用いたトリス（第二ブチ
ルフェニル）ホスフィット混合物の製造
窒素雰囲気下において、キシレン ３００ｍＬ中ｏ−第二ブチルフェノールとｐ−第二ブチルフェノールの混合物（オルト ７０％及びパラ ３０％：スケネクタディ インターナショナル） ４５．０ｇ（０．３０モル）及びＴＥＡ ３５．７ｇ（０．３５モル）の溶液（異性体混合物）に、三塩化リン １４．５ｇ（０．１０モル）を、２５℃において２時間かけて添加した。反応の完了を確実にするため、反応塊を６５℃まで加熱し、冷却し、濾過し、そして減圧下でキシレンを除去した。残りの淡黄色液体（収率 ９５％）をＨＰＬＣで分析したところ、わずかに出発フェノールが存在する第二ブチルフェニルホスフィットの混合物であった。これを、Ｐ３１−ＮＭＲで確認した。
【０１１９】
実施例２：トリス（第二ブチルフェニル）ホスフィット混合物の製造
三塩化リン（９８．１ｇ、０．７１モル）を、触媒量（１．５ｇ、０．０１５モル）のＴＥＡを含む第二ブチルフェノール（オルト ７０％及びパラ ３０％：スケネクタディ
インターナショナル） ３０４．９ｇ（２．０３モル）に、４０ないし４５℃において９０分かけて添加した。窒素パージを用いてＨＣｌを除去し、反応塊を８０℃まで加熱し、温度を４時間維持した。その後、ＴＥＡを用いてｐＨ≧８に調整し、冷却し、濾過して、９７％の第二ブチルホスフィット（ＨＰＬＣ）である透明でほぼ無色の液体を得た（収率 ９８％）。
【０１２０】
実施例の配合物は、以下の化合物を使用する：
【化２０】
【０１２１】
実施例３：ポリエチレンの安定化
基本的にいかなる安定化添加剤も含まないフィルム等級の線状低密度ポリエチレン（ＬＬ １０１８：エクソンモービル）を基本の安定化剤及び試験添加剤とドライブレンドした。基本の安定化剤は、５００ｐｐｍのフェノール系抗酸化剤、イルガノックス（登録商標：Ｉｒｇａｎｏｘ） １０７６及び８００ｐｐｍのポリマー加工助剤、ダイナマー ＦＸ−５９２０Ａを含む。試験添加剤は、モル当量で添加した（リン ４２．５ｐｐｍ）。配合物は、最初に、２軸スクリュー押出機中で１９０℃、窒素下において溶融配合される；ゼロパス押出し（ｚｅｒｏ ｐａｓｓ ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）に相当する。その後、結果として得られた押出物を、マドック混合セクション（Ｍａｄｄｏｃｋ ｍｉｘｉｎｇ ｓｅｃｔｉｏｎ）を備えた１軸スクリュー押出機で、２６０℃においてマルチパス押出しした（ｍｕｌｔｉｐｌｅ ｐａｓｓ ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）。第一、第三及び第五パス押出物のサンプルを試験のために収集した。ゼロ、第一、第三及び第五パス押出物を１９３℃において３分間、まず低圧で、その後、高圧で圧縮成形して、その後、冷却することによって、プラック（０．３２ｍｍ）を製造した。試料を、溶融流量保持（ｍｅｌｔ ｆｌｏｗ ｒａｔｅ ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ）（ＡＳＴＭ−１２３８；１９０℃／２．１６ｋｇ；２１．６ｋｇに従って）、押出し中の着色及び６０℃における窒素酸化物への曝露中の着色（ＡＳＴＭ−１９２５に従って）について試験した。結果を以下に示す。添加剤は、ポリマーに基づく質量％で示す。
【表１】
この押出しパス対溶融流量保持の表から分かるように、液状の第二ブチル置換ホスフィットは、常に、それらの固体の第三ブチル対照物と比べて良好な性能を示した。濃度が各々の対照と等しく、かつ立体障害がほぼ同じであるため、該性能は、液状の第二ブチル置換ホスフィットによってもたらされたことは明らかである。
【０１２２】
【表２】
この押出しパス対黄色度指数保色性の表から分かるように、液状の第二ブチル置換ホスフィット、Ｐｈｏｓ １及びＰｈｏｓ ５は、それらの固体の第三ブチル対照物、Ｐｈｏｓ ２及びＰｈｏｓ ６より色指数が低かった。濃度が各々の対照と等しく、かつ立体障害がほぼ同じであるため、該性能は、液状の第二ブチル置換ホスフィットによってもたらされたことは明らかである。
【０１２３】
【表３】
この窒素酸化物への曝露中の黄色度指数保色性の表から分かるように、液状の第二ブチル置換ホスフィットは、常に、それらの固体の第三ブチル対照物より色指数が低かった。濃度が各々の対照と等しく、かつ立体障害がほぼ同じであるため、該性能は、液状の第二ブチル置換ホスフィットによってもたらされたことは明らかである。
【０１２４】
実施例４：粘度
粘度は、以下の通り測定した：ペルチェプレート、４０ｍｍ 鋼製コーン、２ °
角度 ２℃／分 ｒａｍｐ、せん断応力＝１０Ｐａ。
【表４】
Ｐ７は、トリス−ノニルフェニルホスフィットである。
Ｐ８は、７０％ Ｐｈｏｓ １／３０％ Ｐｈｏｓ ３である。
本発明のホスフィット Ｐ８及びＰｈｏｓ ３は、本発明のホスフィットではないＰ７より粘性が非常に低かった。粘性が低いほど、取扱いが容易である。
例えば、本発明の化合物は、ＴＡ装置 ＡＲ−２０００Ｎ コーン／プレートレオメータ：ペルチェプレートを備えた４０ｍｍ ２°鋼製コーン、定数 １０Ｐａ せん断応力、２℃／分、０℃ないし１００℃の温度ｒａｍｐで測定すると、２０℃において約１０００ｍＰａ・ｓｅｃ未満の又は２０℃において約７５０ｍＰａ・ｓｅｃ未満の、又は、４０℃において約１５０ｍＰａ・ｓ未満の又は４０℃において約１３５ｍＰａ・ｓ未満の粘度を示した。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対してポリオレフィンを安定化するための方法であって、該方法は、有効安定化量の式（Ｉ）
【化１】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）を前記ポリオレフィン中に配合すること又は前記ポリオレフィンに適用すること、を含む方法。
【請求項２】
各Ｒが同等なものを表わし、かつオルト位又はパラ位を置換する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
各Ｒが第二ブチル基を表わし、かつオルト位又はパラ位を置換する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ基がオルト位又はパラ位にあり、独立して、メチル基、エチル基、第二ブチル基、第三アミル基又はヘキシル基を表わし、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
各Ｒが同等なものを表わし、オルト位又はパラ位を置換し、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ヒンダードフェノール系抗酸化剤、ヒドロキシルアミン、ベンゾフラノン、他の有機リン安定剤、立体障害性アミン光安定剤及びヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、トリス−アリール−ｓ−トリアジン又はヒドロキシフェニルベンゾフェノン紫外線安定剤からなる群から選択される更なる安定剤を配合又は適用することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項７】
溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対して安定化されたポリオレフィン組成物であって、
ａ）ポリオレフィン、及び
ｂ）有効安定化量の式（Ｉ）
【化２】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）
を含む組成物。
【請求項８】
２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である、式（Ｉ）
【化３】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルの混合物。
【請求項１】
溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対してポリオレフィンを安定化するための方法であって、該方法は、有効安定化量の式（Ｉ）
【化１】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）を前記ポリオレフィン中に配合すること又は前記ポリオレフィンに適用すること、を含む方法。
【請求項２】
各Ｒが同等なものを表わし、かつオルト位又はパラ位を置換する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
各Ｒが第二ブチル基を表わし、かつオルト位又はパラ位を置換する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ基がオルト位又はパラ位にあり、独立して、メチル基、エチル基、第二ブチル基、第三アミル基又はヘキシル基を表わし、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
各Ｒが同等なものを表わし、オルト位又はパラ位を置換し、かつフェノール基は約６０％以上オルト位で置換されているところの式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物を配合又は適用することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ヒンダードフェノール系抗酸化剤、ヒドロキシルアミン、ベンゾフラノン、他の有機リン安定剤、立体障害性アミン光安定剤及びヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、トリス−アリール−ｓ−トリアジン又はヒドロキシフェニルベンゾフェノン紫外線安定剤からなる群から選択される更なる安定剤を配合又は適用することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項７】
溶融加工の悪影響、熱老化及び天然ガスの燃焼生成物への曝露に対して安定化されたポリオレフィン組成物であって、
ａ）ポリオレフィン、及び
ｂ）有効安定化量の式（Ｉ）
【化２】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステル又は該式（Ｉ）で表わされるホスフィットエステルの混合物（ここで、前記ホスフィットエステル又はホスフィットエステルの混合物は、２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である。）
を含む組成物。
【請求項８】
２５℃及び１ａｔｍの圧力において液状である、式（Ｉ）
【化３】
（式中、各Ｒは、同じであるか又は異なり、１ないし８個の炭素原子を有する直鎖又は枝分かれ鎖のアルキル基を表わす。）で表わされるトリス（モノ−アルキル）フェニルホスフィットエステルの混合物。
【公表番号】特表２００９−５０３１３４（Ｐ２００９−５０３１３４Ａ）
【公表日】平成２１年１月２９日（２００９．１．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５２１９３６（Ｐ２００８−５２１９３６）
【出願日】平成１８年７月１２日（２００６．７．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６４１１８
【国際公開番号】ＷＯ２００７／００９９１６
【国際公開日】平成１９年１月２５日（２００７．１．２５）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年１月２９日（２００９．１．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年７月１２日（２００６．７．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６４１１８
【国際公開番号】ＷＯ２００７／００９９１６
【国際公開日】平成１９年１月２５日（２００７．１．２５）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
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