【課題】結合エネルギーが約０．８ｅＶより大きい水素化物イオンを含む新規な化合物を提供する。
【解決手段】対応する通常の水素種よりも大きい結合エネルギーを有するか、又は、結合エネルギーが不安定であるか或いは観察されない任意の水素種の結合エネルギーよりも大きい、１つ以上の中性、正、或は負の結合エネルギー増加水素種を有した化合物が提供される。この化合物は又、前記結合エネルギー増加水素種とは異なる、１つ以上のその他の元素、分子、或いはイオンを有する。この化合物の一つの群は、Ｈ_n、Ｈ_n^-及びＨ_n⁺から成る群から選択される結合エネルギー増加水素種を含み、ｎは１〜３の整数である。この化合物の用途としては、バッテリー、燃料電池、切断物質、熱電子カソード、光学フィルタ、光ファイバケーブル、マグネット、エッチング剤、半導体製造におけるドーパント、装薬、及びアイソトープ純化方法における使用などがある。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）結合エネルギーが、（ｉ）対応する通常の水素種の結合エネルギーよりも大きいか、或は(ii)対応する通常の水素種の結合エネルギーが熱エネルギー以下であるか又は負であるために、対応する通常の水素種が不安定であるか又は観察されない任意の水素種の結合エネルギーよりも大きい、１つ以上の中性、正、或は負の結合エネルギー増加水素種、及び
（ｂ）１つ以上のその他の元素、
を有する化合物の調製方法であって、
（ａ）原子状水素を、少なくともｍ／２・２７ｅＶ（ｍは整数）の正味の反応エンタルピーを有する触媒と反応させて、結合エネルギーが約１３．６ｅＶ／（１／ｐ）²（ｐは１より大きい整数）である原子状水素を産生する工程、
（ｂ）前記産生された原子状水素を電子と反応させて、結合エネルギーが０．８ｅＶより大きい水素化物イオンを生成する工程、及び、
（ｃ）前記生成された水素化物イオンを１種類以上のカチオンと反応させて、前記化合物を生成する工程、
を有することを特徴とする化合物の調製方法。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図９Ａ】

【図１０】

【図１１】

【図１２】

【図１３】

【図１４】

【図１５】

【図１６】

【図１７】

【図１８】

【図１９】

【図２０】

【図２１】

【図２２】

【図２３】

【図２４】

【図２５Ａ】

【図２５Ｂ】

【図２５Ｃ】

【図２５Ｄ】

【図２６Ａ】

【図２６Ｂ】

【図２６Ｃ】

【図２６Ｄ】

【図２７】

【図２８Ａ】

【図２８Ｂ】

【図２９】

【図３０Ａ】

【図３０Ｂ】

【図３１】

【図３２】

【図３３】

【図３４Ａ】

【図３４Ｂ】

【図３４Ｃ】

【図３５】

【図３６】

【図３７】

【図３８】

【図３９】

【図４０】

【図４１Ａ】

【図４１Ｂ】

【図４２】

【図４３】

【図４４】

【図４５】

【図４６】

【図４７】

【図４８】

【図４９】

【図５０】

【図５１】

【図５２】

【図５３】

【図５４】

【図５５】

【図５６】

【図５７】

【図５８】

【図５９】

【図６０】

【図６１Ａ】

【図６１Ｂ】

【図６２】

【図６３】

【図６４】

【図６５】

【図６６】

【図６７】

【図６８】

【図６９】

【図７０】

【図７１】

【図７２】

【図７３】

【図７４】

【図７５】

【図７６】

【公開番号】特開２００９−１６１４３７（Ｐ２００９−１６１４３７Ａ）
【公開日】平成２１年７月２３日（２００９．７．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−４８６６６（Ｐ２００９−４８６６６）
【出願日】平成２１年３月２日（２００９．３．２）
【分割の表示】特願２０００−５０４６１７（Ｐ２０００−５０４６１７）の分割
【原出願日】平成１０年７月７日（１９９８．７．７）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
２．ＰＹＲＥＸ
３．パイレックス
【出願人】（５０１３２８７５１）ブラックライト　パワー　インコーポレーティド (9)
【Ｆターム（参考）】