発光素子、および発光素子の製造方法
【課題】有機ＥＬ素子において、光取り出し効率の向上等を図る。
【解決手段】有機ＥＬ素子である発光素子４は、第１電極層４３と第２電極層４５との間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層４４３を含む有機化合物層４４を含み、第２電極層４５が発光機能層４４３で発せられた光の一部を該発光機能層４４３に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層として機能する。これに加えて、第２電極層（半透明半反射層）４５を中心として反射層４１が位置するのとは反対側に、かつ、第２電極層（半透明半反射層）４５に接するように配置される反射増強層４６を備え、反射増強層４６は酸化モリブデンまたは酸化タングステンから構成される。
【解決手段】有機ＥＬ素子である発光素子４は、第１電極層４３と第２電極層４５との間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層４４３を含む有機化合物層４４を含み、第２電極層４５が発光機能層４４３で発せられた光の一部を該発光機能層４４３に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層として機能する。これに加えて、第２電極層（半透明半反射層）４５を中心として反射層４１が位置するのとは反対側に、かつ、第２電極層（半透明半反射層）４５に接するように配置される反射増強層４６を備え、反射増強層４６は酸化モリブデンまたは酸化タングステンから構成される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Electro Luminescent）素子等を含む、発光素子および発光素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型で軽量な発光源として、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）、つまり有機ＥＬ素子が注目を集めており、多数の有機ＥＬ素子を備える画像表示装置が開発されている。有機ＥＬ素子は、有機材料で形成された少なくとも１層の有機薄膜を画素電極と対向電極とで挟んだ構造を有する。
有機ＥＬ素子の分野において、増幅的干渉すなわち共振を利用して、発光した光のうち特定の波長を強める技術が知られている。この技術では、発光色の色純度を高めたり、発光に対する放出される光の効率を高めたりすることができる。
このような有機ＥＬ素子としては、例えば特許文献１に開示されているようなものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２１８０８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１の技術においては、次のような課題がある。
特許文献１の技術では、有機薄膜に接して透明電極を成膜することが前提とされており、製造プロセス上、透明カソ−ド電極成膜時に有機薄膜へ、例えばプラズマや成膜粒子などに起因したダメージを与えるおそれが大きいという問題がある。また、透明カソード電極と光路長調整層との界面における光反射量は限定的であると考えられ、光共振器による共振作用をより効果的に利用できるとは言えない。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例に係る発光素子は、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層および前記第２電極層の間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層を有する有機化合物層と、前記発光機能層で発せられた光を前記発光機能層に向けて反射する反射層と、前記発光機能層を挟んで前記反射層の反対側に配置され、前記発光機能層で発せられた光の一部を前記発光機能層に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層と、前記半透明半反射層を挟んで前記反射層の反対側に、前記半透明半反射層と接するように配置された反射増強層と、を備え、前記反射増強層は、酸化モリブデン又は酸化タングステンにより形成されていることを特徴とする。
【０００７】
本適用例によれば、半透明半反射層に接して、反射増強層が存在しており、反射増強層がない場合に比べて、これら両層間の界面においては強い光の反射が生じ得る。したがって、発光機能層で発生した光のうち、半透明半反射層と反射層とによって構成される光共振器の中に戻っていく光の絶対量が多くなるため、当該光共振器の作用をより強めること、言い換えると、光共振器による共振作用をより効果的に利用することができる。
また、酸化モリブデンまたは酸化タングステンを用いれば、簡便な抵抗加熱等による真空蒸着法で、高い屈折率、低い消衰係数を持つ良好な反射増強層としての光学薄膜を形成できるので、光共振器による共振作用を効果的に利用できる。同時に製造コストの低減を図ることができ、かつ、製造容易性が向上する。
【０００８】
［適用例２］上記適用例の発光素子において、前記第１電極層、前記第２電極層、前記有機化合物層、前記反射層、前記半透明半反射層、および前記反射増強層は、基板上に積層構造をなすように構成され、前記第１電極層は、前記基板と前記有機化合物層との間に設けられており、前記半透明半反射層は、前記第２電極層を兼ねる、ことが好ましい。
【０００９】
本適用例によれば、半透明半反射層が、第２電極層を兼ねる、言い換えれば第２電極層の全部又は一部を含む。半透明半反射層と第２電極層の全部又は一部とが、共用ないし兼用されているので、装置構造の効率化・単純化が図られ、製造容易性が向上する。
また、上記各層を基板上に順次積層させていく製造方法をとれば、従来技術のように、発光機能層に接して透明カソード電極を製造する必要がないので、製造プロセス上、当該発光機能層に、例えばプラズマや成膜粒子などに起因したダメージを与えるおそれがほとんどない。
【００１０】
［適用例３］上記適用例の発光素子において、前記反射増強層の可視光領域（３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下）における屈折率が１．８以上３．０以下であることが好ましい。
【００１１】
本適用例によれば、半透明半反射層に接して、反射増強層に含まれる第１層の屈折率を高くできるため、これら両層間の界面においては強い光の反射が生じ得る。したがって、発光機能層で発生した光のうち、半透明半反射層と反射層とによって構成される光共振器の中に戻っていく光の絶対量が多くなるため、当該光共振器の作用をより強めること、言い換えると、光共振器による共振作用をより効果的に利用することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例の発光素子において、前記反射増強層の膜厚が３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００１３】
本適用例によれば、半透明半反射層と反射増強層に含まれる第１層との界面の反射に加え、反射増強層と、半透明半反射層と対向する層との界面での反射が生じ、反射増強層内での共振効果を利用できるようになる。よって、光共振器による共振作用をより効果的に利用することができる。
【００１４】
［適用例５］上記適用例の発光素子において、前記反射増強層は、酸化モリブデンまたは酸化タングステンからなる第１の層と、前記第１の層の屈折率よりも低い屈折率を有する第２の層と、を有し、前記第１の層と前記第２の層とは互いに接していることが好ましい。
【００１５】
本適用例によれば、半透明半反射層と反射増強層に含まれる第１の層との界面の反射に加え、反射増強層と、半透明半反射層と対向する低い第２の層との界面での反射が生じ、反射増強層内での共振効果を利用できるようになる。よって、光共振器による共振作用をより効果的に利用することができる。
また、第１の層よりも低い屈折率を有する第２の層は、第１の層よりも簡便な方法で形成できる場合が多く、製造プロセス上、当該発光機能層に例えばプラズマや成膜粒子などに起因したダメージを与えるおそれがほとんどない。
【００１６】
［適用例６］本適用例に係る発光素子の製造方法は、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層および第２電極層の間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層を有する有機化合物層と、前記発光機能層で発せられた光を前記発光機能層に向けて反射する反射層と、前記発光機能層を挟んで前記反射層の反対側に配置され、前記発光機能層で発せられた光の一部を前記発光機能層に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層と、前記半透明半反射層を挟んで前記反射層の反対側に、前記半透明半反射層と接するように配置された反射増強層と、を備えた発光素子の製造方法であって、前記反射増強層は、酸化モリブデン又は酸化タングステンを用いて、真空蒸着法により形成することを特徴とする。
【００１７】
本適用例によれば、半透明半反射層に接して、反射増強層が存在しており、反射増強層がない場合に比べて、これら両層間の界面においては強い光の反射が生じ得る。したがって、発光機能層で発生した光のうち、半透明半反射層と反射層とによって構成される光共振器の中に戻っていく光の絶対量が多くなるため、当該光共振器の作用をより強めること、言い換えると、光共振器による共振作用をより効果的に利用することが可能な発光素子を製造することができる。
また、酸化モリブデンまたは酸化タングステンを用いることにより、簡便な抵抗加熱等による真空蒸着法で、高い屈折率、低い消衰係数をもつ良好な反射増強層としての光学薄膜を形成できるので、光共振器による共振作用を効果的に利用でき、同時に製造コストの低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】単膜評価結果に係わる蒸着材料と蒸着可否の図。
【図２】単膜評価結果に係わる屈折率の波長依存性の図。
【図３】単膜評価結果に係わる消衰係数の波長依存性の図。
【図４】実施例１の発光素子の構成を示す模式断面図。
【図５】実施例１と比較例１の発光素子に係わる発光スペクトルを示すグラフ。
【図６】実施例１と比較例１の発光素子に係わるＣＩＥ色度を示すグラフ。
【図７】実施例２の発光素子の構成を示す模式断面図。
【図８】実施例２と比較例２の発光素子に係わる発光スペクトルを示すグラフ。
【図９】実施例２と比較例２の発光素子に係わるＣＩＥ色度を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際とは異ならせしめている。
【００２０】
（単膜評価結果）
まず、本実施形態の発光素子の反射増強層に用いられる単膜について図１〜図３を参照して説明する。
図１は、蒸着機にて成膜を試みた単膜の材料（蒸着材料）と、蒸着の可否と、可視光領域の透過率を示した表である。図２は、蒸着が可能で可視光領域の透過率が６０％以上だった単膜の材料の屈折率を示すグラフ、図３は、同じく蒸着が可能で可視光領域の透過率が６０％以上だった単膜の材料の消衰係数を示すグラフである。
【００２１】
成膜方法と蒸着可否の判断について説明する。蒸着はモリブデンボートを用いた抵抗加熱方式を採用した。ここで電源容量は１０Ｖ、２５０Ａとし、水晶振動子を用いた膜厚モニターで成膜速度を観察した。水晶振動子による成膜速度が１．０Å／ｓになるように電流値を調整し、電源容量の問題から２５０Ａで１．０Å／ｓが得られなかった場合、蒸着不可と判断した。
【００２２】
透過率の評価方法について説明する。０．５ｍｍのガラス基板（ＯＡ−１０；日本電気硝子製）に１００ｎｍ狙いで各種材料を成膜した。このサンプルを透過率測定し、波長５００ｎｍにおける透過率が６０％以上の場合は透明と定義し、詳細な光学定数評価を行った。これによって、簡単な方法で光損失が小さく、反射増強層に適した材料の選別を行なえる。
【００２３】
前述した方法で材料を選別し、蒸着可能かつ透明な酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化錫の光学定数を評価した。装置は分光エリプソメーターを用い、解析した結果が図２と図３である。また、比較のため代表的な有機ＥＬ用材料であるＡｌｑ３も記載した。結果、酸化モリブデンと酸化タングステンはＡｌｑ３と比較して、可視光領域で高い屈折率を有し、かつ消衰係数が小さいことがわかる。酸化錫は屈折率が高いものの、消衰係数が大きく、光吸収が大きいことがわかる。
【００２４】
なお、一酸化シリコン、酸化タンタル、酸化チタンは、上記の抵抗加熱方式による蒸着方法では蒸発せず、成膜できなかった。酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化亜鉛は成膜できるものの、透過率が低く、光吸収の大きな薄膜になった。
以上の評価結果から、酸化モリブデン、酸化タングステンが、以下の効果を得ることができる。
すなわち、簡便な抵抗加熱法で成膜できるため、有機層上に成膜する際に有機層へ与えるダメージを軽減できるため、有機ＥＬ素子特性を劣化させる可能性が低いこと、可視光領域の透過率が高く、光透過性に優れていること、可視光領域での屈折率が高く、後述する反射増強層としての機能を発揮できること、などの効果が得られる。
【００２５】
（実施形態１）
図４は、実施形態１の発光素子の構成を示す模式断面図である。図５は、比較例１と実施例１の同一電流時における発光スペクトルの比較結果を示すグラフである。図６は、比較例１と実施例１のＣＩＥ色度の比較結果を示すグラフである。なお、有機ＥＬ素子（発光素子）は青色発光素子のみを作製した。原理的には緑色、赤色の領域の屈折率も高くなっており、同様の効果が得られるため、ここでは記載しない。
【００２６】
図４に示すように、実施形態１の発光素子４は、第１電極層４３が透明導電層、第２電極層４５が半透明半反射層からなり、第１電極層４３と第２電極層４５との間に発光機能層としての有機化合物層４４を有し、基板４０側に反射層４１を有し、第２電極層４５（半透明半反射層）を中心として、反射層４１とは反対側に反射増強層４６を有している、トップエミッション構造の有機ＥＬ素子である。
【００２７】
反射層４１はＡｌ合金から作られ、その膜厚は１００ｎｍである。なお、Ａｌ合金はＮｄを１ｗｔ％添加したものである。
反射層４１と第１電極層４３との間に設けられた透明層４２はＳｉＮから作られ、その膜厚は６０ｎｍである。
第１電極層４３はＩＴＯから作られ、その膜厚は２０ｎｍである。
有機化合物層４４は１２０ｎｍ〜１６０ｎｍである。この中には正孔注入層４４１（２０ｎｍ）、正孔輸送層４４２、発光機能層４４３（１０ｎｍ）、電子輸送層４４４（４０ｎｍ）、が含まれる。反射増強層４６の種類によって有機化合物層４４の最適膜厚が異なるため、正孔輸送層４４２の膜厚を変化させ、後述する比較例１と実施例１のピーク波長が同じになるよう調整した。なお、上記のように、青色発光素子を作製したので、発光機能層４４３のホスト材料は出光興産株式会社製ＢＨ２１５、発光ドーパントは出光興産株式会社製ＢＤ１０２を用いた。
第２電極層４５はＭｇＡｇから作られる。膜厚は１０ｎｍである。
反射増強層４６の厚さは６０ｎｍ〜８０ｎｍであり、材料の屈折率によって膜厚の最適値が変化する。比較例１として反射増強層４６をＡｌｑ３とした場合の素子を作製した。その膜厚は８０ｎｍである。実施例１は反射増強層４６を酸化モリブデンとした場合の素子を作製した。その膜厚は７０ｎｍである。
なお、Ａｌｑ３を反射増強層４６に用いる技術は、公知技術（特開２０１０−１７１０１２）に開示されている。
【００２８】
図５は、実施例１の発光素子の発光スペクトル測定結果を示すグラフ、図６は実施例１の発光素子のＣＩＥ色度の比較結果を示すグラフである。
図５に示すように、実施例１の方が比較例１よりもピーク波長を高くすることができ、光取り出し効率が向上していることがわかる。実施例１では比較例１よりもピーク強度が１．２倍、外部量子効率が１．０６となっている。また、図６に示すように、色度が比較例１（０．１１４、０．１５６）に対して実施例１（０．１１６、０．１４２）に改善しており、より深い青色になっていることがわかる。よって、比較例１よりも実施例１の方が良好な光取り出し効率を実現できることがわかる。
【００２９】
図２に示すように、酸化モリブデンと酸化タングステンの可視光領域における屈折率は２．０〜２．４程度である。反射増強層４６の可視光領域における屈折率が、有機材料（屈折率≒１．８）よりも大きい材料を用いることで、良好な光取り出し効率を実現できることがわかる。よって、反射増強層の屈折率は１．８以上であることが好ましく、２．０以上であるとなお良い。また、酸化物の屈折率は大きいもので２．７程度であり、およそ３．０以下と見積もることができる。一方、図２に示すように、今回評価した蒸着材料の最大屈折率は２．４程度であった。
以上より、反射増強層の屈折率は１．８以上３．０以下であることが好ましく、２．０以上２．４以下であればなお良い。
【００３０】
なお、反射増強層４６の膜厚は今回の発光ドーパントでは７０ｎｍで最適膜厚となったが、より短波長の発光ドーパントでは、より薄くしたほうが取り出し効率を高くできる場合がある。また、用いる半透過半反射膜の種類によって最適膜厚が変化する。また、膜厚が薄すぎると成膜時の制御が困難になる場合がある。以上のことを考慮すると、３０ｎｍ以上であることが好ましい。
また、膜厚が厚くなりすぎると、徐々に光が干渉しにくくなる。有機ＥＬのような自然放出光では、その厚さが数μｍ程度と言われている。また、膜厚が厚くなりすぎると成膜時間が長くなって生産性が低下する。さらに、膜厚が厚くなると複数のピーク波長が表れ、色純度が低下することがある。これは膜厚が５００nｍ程度から顕著になる。以上のことから、反射増強層４６の膜厚は数μｍ以下であることが良く、５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３１】
上記実施形態１の発光素子において、反射層４１から、第２電極層（半透明半反射層）４５における反射層４１に対向する界面までの光学的距離ｄが、以下の数式（１）で定められることが好ましい。
ｄ＝（（２πｍ＋φＤ＋φＵ）／４π）・λ・・・・（１）
ここで、λは共振対象として設定される波長であり、φＤは、発光機能層４４３側から反射層４１に進行する波長λの光が、当該反射層４１で反射するときの位相変化であり、φＵは、発光機能層４４３側から第２電極層（半透明半反射層）４５に進行する波長λの光が、当該第２電極層（半透明半反射層）４５で反射するときの位相変化であり、ｍは、正の整数である。
実施形態１では発光ドーパントのピーク波長が４７０ｎｍ程度であるので、λ＝４７０ｎｍとすると、φＤはＡｌとＳｉＮ界面での４７０ｎｍにおける反射での位相シフト、φＵは電子輸送層と半透過半反射層との界面での４７０ｎｍにおける反射での位相シフトになる。また、実施形態１ではｍ＝１で設計している。よって、光学的距離ｄはおよそ３８０ｎｍとなる。
【００３２】
（実施形態２）
図７は実施形態２の発光素子の構成を示す模式断面図である。図８は比較例２と実施例２の発光素子の同一電流時における発光スペクトルの比較結果を示すグラフである。図９は比較例２と実施例２の発光素子のＣＩＥ色度の比較結果を示すグラフである。なお、有機ＥＬ素子は青色発光素子のみを作製した。原理的には緑色、赤色の領域の屈折率も高くなっており、同様の効果が得られるため、ここでは記載しない。
【００３３】
図７に示すように、実施形態２の発光素子７は、第１電極層７３が透明導電層、第２電極層７５が半透明半反射層からなり、第１電極層７３と第２電極層７５の間に発光機能層７４３を含む有機化合物層７４を有し、基板７０側に反射層７１を有し、第２電極層７５（半透明半反射層）を中心として、反射層７１とは反対側に屈折率が異なる第１の層としての第１反射増強層７６、第２の層としての第２反射増強層７７、第３反射増強層７８を有している。つまり、反射増強層が屈折率の異なる複数層から成る、トップエミッション構造の有機ＥＬ素子である。
反射層７１はＡｌ合金から作られ、その膜厚は１００ｎｍである。なお、Ａｌ合金はＮｄを１％添加したものである。
透明膜７２はＳｉＮから作られ、その膜厚は６０ｎｍである。
第１電極層７３はＩＴＯから作られ、その膜厚は２０ｎｍである。
有機化合物層７４は１２０ｎｍ〜１６０ｎｍである。この中には正孔注入層７４１（２０ｎｍ）、正孔輸送層７４２、発光機能層７４３（１０ｎｍ）、電子輸送層７４４（４０ｎｍ）、が含まれる。反射増強層の種類によって最適膜厚が異なるため、正孔輸送層７４２の膜厚を変化させ、ピーク波長が同じになるよう調整した。なお、上記のように、青色発光素子を作製したので、発光機能層７４３のホスト材料は出光興産株式会社製ＢＨ２１５、発光ドーパントは出光興産株式会社製ＢＤ１０２を用いた。
第２電極層７５はＭｇＡｇから作られる。膜厚は１０ｎｍである。
第１反射増強層７６の厚さは６０ｎｍ〜８０ｎｍであり、材料の屈折率によって最適値が変化する。比較例２として第１反射増強層７６をＡｌｑ３とした場合の素子を作製した。その膜厚は８０ｎｍである。実施例２は第１反射増強層７６を酸化モリブデンとした場合の素子を作製した。その膜厚は７０ｎｍである。
第２反射増強層７７は第１反射増強層７６よりも低屈折率の材料から選ばれ、ここではＬｉＦを用いた。膜厚は８０ｎｍである。
第３反射増強層７８は第２反射増強層７７よりも高い屈折率を持つ材料から選ばれ、第１反射増強層７６と同一材料とした。膜厚は７０ｎｍである。なお、必ずしも第１反射増強層７６と同じである必要はなく、この層が外部からの水分侵入を防ぐための封止層を兼ねても良い。例えばＳｉＮ、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ等が挙げられる。
なお、第１反射増強層７６は、酸化タングステンで形成してもよい。
【００３４】
上記実施形態２の発光素子において、反射層７１から、第２電極（半透明半反射層）７５における反射層７１に対抗する界面までの光学的距離ｄは、先の実施形態１と同様に数式（１）を用いて定めることができる。実施形態１と同様に光学的距離ｄを算出すると、およそ３８０ｎｍとなる。
【００３５】
図８は実施例２と比較例２の発光素子の発光スペクトル測定結果を示すグラフ、図９は実施例２と比較例２の発光素子のＣＩＥ色度の比較結果を示すグラフである。
図８に示すように、実施例２の方が比較例２よりもピーク波長を高くすることができ、光取り出し効率が向上していることがわかる。実施例２では比較例２よりもピーク強度が１．２５倍、外部量子効率が０．９７となっている。また、図９に示すように、色度が比較例２（０．１１７、０．１３８）に対して実施例２（０．１１７、０．１１８）に改善しており、より深い青色になっていることがわかる。よって、比較例１よりも実施例１の方が良好な光取り出し効率を実現できることがわかる。
【００３６】
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【００３７】
（変形例１）上記実施形態では、第２電極層４５，７５が半透明反射層を兼ねているとしたが、これに限定されない。例えば、第２電極層４５，７５をＩＴＯなどの透明導電層としてもよい。
【００３８】
（変形例２）上記実施形態では反射増強層４６または第３反射増強層７８と、観測者の間には光学的な機能層が無い場合で述べたが、例えば、カラーフィルター層やマイクロレンズなどの２次元構造を持つ、光学的な機能を有する層をさらに設けてもよい。
【符号の説明】
【００３９】
４…発光素子、４０…基板、４１…反射層、４２…透明層、４３…第１電極層、４４有機化合物層，４４１…正孔注入層、４４２…正孔輸送層、４４３…発光機能層、４４４…電子輸送層、４５…第２電極層、４６…反射増強層、７…発光素子、７０…基板、７１…反射層、７２…透明層、７３…第１電極層、７４有機化合物層，７４１…正孔注入層、７４２…正孔輸送層、７４３…発光機能層、７４４…電子輸送層、７５…第２電極層、７６…第１反射増強層、７７…第２反射増強層、７８…第３反射増強層。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Electro Luminescent）素子等を含む、発光素子および発光素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型で軽量な発光源として、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）、つまり有機ＥＬ素子が注目を集めており、多数の有機ＥＬ素子を備える画像表示装置が開発されている。有機ＥＬ素子は、有機材料で形成された少なくとも１層の有機薄膜を画素電極と対向電極とで挟んだ構造を有する。
有機ＥＬ素子の分野において、増幅的干渉すなわち共振を利用して、発光した光のうち特定の波長を強める技術が知られている。この技術では、発光色の色純度を高めたり、発光に対する放出される光の効率を高めたりすることができる。
このような有機ＥＬ素子としては、例えば特許文献１に開示されているようなものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２１８０８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１の技術においては、次のような課題がある。
特許文献１の技術では、有機薄膜に接して透明電極を成膜することが前提とされており、製造プロセス上、透明カソ−ド電極成膜時に有機薄膜へ、例えばプラズマや成膜粒子などに起因したダメージを与えるおそれが大きいという問題がある。また、透明カソード電極と光路長調整層との界面における光反射量は限定的であると考えられ、光共振器による共振作用をより効果的に利用できるとは言えない。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例に係る発光素子は、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層および前記第２電極層の間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層を有する有機化合物層と、前記発光機能層で発せられた光を前記発光機能層に向けて反射する反射層と、前記発光機能層を挟んで前記反射層の反対側に配置され、前記発光機能層で発せられた光の一部を前記発光機能層に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層と、前記半透明半反射層を挟んで前記反射層の反対側に、前記半透明半反射層と接するように配置された反射増強層と、を備え、前記反射増強層は、酸化モリブデン又は酸化タングステンにより形成されていることを特徴とする。
【０００７】
本適用例によれば、半透明半反射層に接して、反射増強層が存在しており、反射増強層がない場合に比べて、これら両層間の界面においては強い光の反射が生じ得る。したがって、発光機能層で発生した光のうち、半透明半反射層と反射層とによって構成される光共振器の中に戻っていく光の絶対量が多くなるため、当該光共振器の作用をより強めること、言い換えると、光共振器による共振作用をより効果的に利用することができる。
また、酸化モリブデンまたは酸化タングステンを用いれば、簡便な抵抗加熱等による真空蒸着法で、高い屈折率、低い消衰係数を持つ良好な反射増強層としての光学薄膜を形成できるので、光共振器による共振作用を効果的に利用できる。同時に製造コストの低減を図ることができ、かつ、製造容易性が向上する。
【０００８】
［適用例２］上記適用例の発光素子において、前記第１電極層、前記第２電極層、前記有機化合物層、前記反射層、前記半透明半反射層、および前記反射増強層は、基板上に積層構造をなすように構成され、前記第１電極層は、前記基板と前記有機化合物層との間に設けられており、前記半透明半反射層は、前記第２電極層を兼ねる、ことが好ましい。
【０００９】
本適用例によれば、半透明半反射層が、第２電極層を兼ねる、言い換えれば第２電極層の全部又は一部を含む。半透明半反射層と第２電極層の全部又は一部とが、共用ないし兼用されているので、装置構造の効率化・単純化が図られ、製造容易性が向上する。
また、上記各層を基板上に順次積層させていく製造方法をとれば、従来技術のように、発光機能層に接して透明カソード電極を製造する必要がないので、製造プロセス上、当該発光機能層に、例えばプラズマや成膜粒子などに起因したダメージを与えるおそれがほとんどない。
【００１０】
［適用例３］上記適用例の発光素子において、前記反射増強層の可視光領域（３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下）における屈折率が１．８以上３．０以下であることが好ましい。
【００１１】
本適用例によれば、半透明半反射層に接して、反射増強層に含まれる第１層の屈折率を高くできるため、これら両層間の界面においては強い光の反射が生じ得る。したがって、発光機能層で発生した光のうち、半透明半反射層と反射層とによって構成される光共振器の中に戻っていく光の絶対量が多くなるため、当該光共振器の作用をより強めること、言い換えると、光共振器による共振作用をより効果的に利用することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例の発光素子において、前記反射増強層の膜厚が３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００１３】
本適用例によれば、半透明半反射層と反射増強層に含まれる第１層との界面の反射に加え、反射増強層と、半透明半反射層と対向する層との界面での反射が生じ、反射増強層内での共振効果を利用できるようになる。よって、光共振器による共振作用をより効果的に利用することができる。
【００１４】
［適用例５］上記適用例の発光素子において、前記反射増強層は、酸化モリブデンまたは酸化タングステンからなる第１の層と、前記第１の層の屈折率よりも低い屈折率を有する第２の層と、を有し、前記第１の層と前記第２の層とは互いに接していることが好ましい。
【００１５】
本適用例によれば、半透明半反射層と反射増強層に含まれる第１の層との界面の反射に加え、反射増強層と、半透明半反射層と対向する低い第２の層との界面での反射が生じ、反射増強層内での共振効果を利用できるようになる。よって、光共振器による共振作用をより効果的に利用することができる。
また、第１の層よりも低い屈折率を有する第２の層は、第１の層よりも簡便な方法で形成できる場合が多く、製造プロセス上、当該発光機能層に例えばプラズマや成膜粒子などに起因したダメージを与えるおそれがほとんどない。
【００１６】
［適用例６］本適用例に係る発光素子の製造方法は、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層および第２電極層の間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層を有する有機化合物層と、前記発光機能層で発せられた光を前記発光機能層に向けて反射する反射層と、前記発光機能層を挟んで前記反射層の反対側に配置され、前記発光機能層で発せられた光の一部を前記発光機能層に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層と、前記半透明半反射層を挟んで前記反射層の反対側に、前記半透明半反射層と接するように配置された反射増強層と、を備えた発光素子の製造方法であって、前記反射増強層は、酸化モリブデン又は酸化タングステンを用いて、真空蒸着法により形成することを特徴とする。
【００１７】
本適用例によれば、半透明半反射層に接して、反射増強層が存在しており、反射増強層がない場合に比べて、これら両層間の界面においては強い光の反射が生じ得る。したがって、発光機能層で発生した光のうち、半透明半反射層と反射層とによって構成される光共振器の中に戻っていく光の絶対量が多くなるため、当該光共振器の作用をより強めること、言い換えると、光共振器による共振作用をより効果的に利用することが可能な発光素子を製造することができる。
また、酸化モリブデンまたは酸化タングステンを用いることにより、簡便な抵抗加熱等による真空蒸着法で、高い屈折率、低い消衰係数をもつ良好な反射増強層としての光学薄膜を形成できるので、光共振器による共振作用を効果的に利用でき、同時に製造コストの低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】単膜評価結果に係わる蒸着材料と蒸着可否の図。
【図２】単膜評価結果に係わる屈折率の波長依存性の図。
【図３】単膜評価結果に係わる消衰係数の波長依存性の図。
【図４】実施例１の発光素子の構成を示す模式断面図。
【図５】実施例１と比較例１の発光素子に係わる発光スペクトルを示すグラフ。
【図６】実施例１と比較例１の発光素子に係わるＣＩＥ色度を示すグラフ。
【図７】実施例２の発光素子の構成を示す模式断面図。
【図８】実施例２と比較例２の発光素子に係わる発光スペクトルを示すグラフ。
【図９】実施例２と比較例２の発光素子に係わるＣＩＥ色度を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際とは異ならせしめている。
【００２０】
（単膜評価結果）
まず、本実施形態の発光素子の反射増強層に用いられる単膜について図１〜図３を参照して説明する。
図１は、蒸着機にて成膜を試みた単膜の材料（蒸着材料）と、蒸着の可否と、可視光領域の透過率を示した表である。図２は、蒸着が可能で可視光領域の透過率が６０％以上だった単膜の材料の屈折率を示すグラフ、図３は、同じく蒸着が可能で可視光領域の透過率が６０％以上だった単膜の材料の消衰係数を示すグラフである。
【００２１】
成膜方法と蒸着可否の判断について説明する。蒸着はモリブデンボートを用いた抵抗加熱方式を採用した。ここで電源容量は１０Ｖ、２５０Ａとし、水晶振動子を用いた膜厚モニターで成膜速度を観察した。水晶振動子による成膜速度が１．０Å／ｓになるように電流値を調整し、電源容量の問題から２５０Ａで１．０Å／ｓが得られなかった場合、蒸着不可と判断した。
【００２２】
透過率の評価方法について説明する。０．５ｍｍのガラス基板（ＯＡ−１０；日本電気硝子製）に１００ｎｍ狙いで各種材料を成膜した。このサンプルを透過率測定し、波長５００ｎｍにおける透過率が６０％以上の場合は透明と定義し、詳細な光学定数評価を行った。これによって、簡単な方法で光損失が小さく、反射増強層に適した材料の選別を行なえる。
【００２３】
前述した方法で材料を選別し、蒸着可能かつ透明な酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化錫の光学定数を評価した。装置は分光エリプソメーターを用い、解析した結果が図２と図３である。また、比較のため代表的な有機ＥＬ用材料であるＡｌｑ３も記載した。結果、酸化モリブデンと酸化タングステンはＡｌｑ３と比較して、可視光領域で高い屈折率を有し、かつ消衰係数が小さいことがわかる。酸化錫は屈折率が高いものの、消衰係数が大きく、光吸収が大きいことがわかる。
【００２４】
なお、一酸化シリコン、酸化タンタル、酸化チタンは、上記の抵抗加熱方式による蒸着方法では蒸発せず、成膜できなかった。酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化亜鉛は成膜できるものの、透過率が低く、光吸収の大きな薄膜になった。
以上の評価結果から、酸化モリブデン、酸化タングステンが、以下の効果を得ることができる。
すなわち、簡便な抵抗加熱法で成膜できるため、有機層上に成膜する際に有機層へ与えるダメージを軽減できるため、有機ＥＬ素子特性を劣化させる可能性が低いこと、可視光領域の透過率が高く、光透過性に優れていること、可視光領域での屈折率が高く、後述する反射増強層としての機能を発揮できること、などの効果が得られる。
【００２５】
（実施形態１）
図４は、実施形態１の発光素子の構成を示す模式断面図である。図５は、比較例１と実施例１の同一電流時における発光スペクトルの比較結果を示すグラフである。図６は、比較例１と実施例１のＣＩＥ色度の比較結果を示すグラフである。なお、有機ＥＬ素子（発光素子）は青色発光素子のみを作製した。原理的には緑色、赤色の領域の屈折率も高くなっており、同様の効果が得られるため、ここでは記載しない。
【００２６】
図４に示すように、実施形態１の発光素子４は、第１電極層４３が透明導電層、第２電極層４５が半透明半反射層からなり、第１電極層４３と第２電極層４５との間に発光機能層としての有機化合物層４４を有し、基板４０側に反射層４１を有し、第２電極層４５（半透明半反射層）を中心として、反射層４１とは反対側に反射増強層４６を有している、トップエミッション構造の有機ＥＬ素子である。
【００２７】
反射層４１はＡｌ合金から作られ、その膜厚は１００ｎｍである。なお、Ａｌ合金はＮｄを１ｗｔ％添加したものである。
反射層４１と第１電極層４３との間に設けられた透明層４２はＳｉＮから作られ、その膜厚は６０ｎｍである。
第１電極層４３はＩＴＯから作られ、その膜厚は２０ｎｍである。
有機化合物層４４は１２０ｎｍ〜１６０ｎｍである。この中には正孔注入層４４１（２０ｎｍ）、正孔輸送層４４２、発光機能層４４３（１０ｎｍ）、電子輸送層４４４（４０ｎｍ）、が含まれる。反射増強層４６の種類によって有機化合物層４４の最適膜厚が異なるため、正孔輸送層４４２の膜厚を変化させ、後述する比較例１と実施例１のピーク波長が同じになるよう調整した。なお、上記のように、青色発光素子を作製したので、発光機能層４４３のホスト材料は出光興産株式会社製ＢＨ２１５、発光ドーパントは出光興産株式会社製ＢＤ１０２を用いた。
第２電極層４５はＭｇＡｇから作られる。膜厚は１０ｎｍである。
反射増強層４６の厚さは６０ｎｍ〜８０ｎｍであり、材料の屈折率によって膜厚の最適値が変化する。比較例１として反射増強層４６をＡｌｑ３とした場合の素子を作製した。その膜厚は８０ｎｍである。実施例１は反射増強層４６を酸化モリブデンとした場合の素子を作製した。その膜厚は７０ｎｍである。
なお、Ａｌｑ３を反射増強層４６に用いる技術は、公知技術（特開２０１０−１７１０１２）に開示されている。
【００２８】
図５は、実施例１の発光素子の発光スペクトル測定結果を示すグラフ、図６は実施例１の発光素子のＣＩＥ色度の比較結果を示すグラフである。
図５に示すように、実施例１の方が比較例１よりもピーク波長を高くすることができ、光取り出し効率が向上していることがわかる。実施例１では比較例１よりもピーク強度が１．２倍、外部量子効率が１．０６となっている。また、図６に示すように、色度が比較例１（０．１１４、０．１５６）に対して実施例１（０．１１６、０．１４２）に改善しており、より深い青色になっていることがわかる。よって、比較例１よりも実施例１の方が良好な光取り出し効率を実現できることがわかる。
【００２９】
図２に示すように、酸化モリブデンと酸化タングステンの可視光領域における屈折率は２．０〜２．４程度である。反射増強層４６の可視光領域における屈折率が、有機材料（屈折率≒１．８）よりも大きい材料を用いることで、良好な光取り出し効率を実現できることがわかる。よって、反射増強層の屈折率は１．８以上であることが好ましく、２．０以上であるとなお良い。また、酸化物の屈折率は大きいもので２．７程度であり、およそ３．０以下と見積もることができる。一方、図２に示すように、今回評価した蒸着材料の最大屈折率は２．４程度であった。
以上より、反射増強層の屈折率は１．８以上３．０以下であることが好ましく、２．０以上２．４以下であればなお良い。
【００３０】
なお、反射増強層４６の膜厚は今回の発光ドーパントでは７０ｎｍで最適膜厚となったが、より短波長の発光ドーパントでは、より薄くしたほうが取り出し効率を高くできる場合がある。また、用いる半透過半反射膜の種類によって最適膜厚が変化する。また、膜厚が薄すぎると成膜時の制御が困難になる場合がある。以上のことを考慮すると、３０ｎｍ以上であることが好ましい。
また、膜厚が厚くなりすぎると、徐々に光が干渉しにくくなる。有機ＥＬのような自然放出光では、その厚さが数μｍ程度と言われている。また、膜厚が厚くなりすぎると成膜時間が長くなって生産性が低下する。さらに、膜厚が厚くなると複数のピーク波長が表れ、色純度が低下することがある。これは膜厚が５００nｍ程度から顕著になる。以上のことから、反射増強層４６の膜厚は数μｍ以下であることが良く、５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３１】
上記実施形態１の発光素子において、反射層４１から、第２電極層（半透明半反射層）４５における反射層４１に対向する界面までの光学的距離ｄが、以下の数式（１）で定められることが好ましい。
ｄ＝（（２πｍ＋φＤ＋φＵ）／４π）・λ・・・・（１）
ここで、λは共振対象として設定される波長であり、φＤは、発光機能層４４３側から反射層４１に進行する波長λの光が、当該反射層４１で反射するときの位相変化であり、φＵは、発光機能層４４３側から第２電極層（半透明半反射層）４５に進行する波長λの光が、当該第２電極層（半透明半反射層）４５で反射するときの位相変化であり、ｍは、正の整数である。
実施形態１では発光ドーパントのピーク波長が４７０ｎｍ程度であるので、λ＝４７０ｎｍとすると、φＤはＡｌとＳｉＮ界面での４７０ｎｍにおける反射での位相シフト、φＵは電子輸送層と半透過半反射層との界面での４７０ｎｍにおける反射での位相シフトになる。また、実施形態１ではｍ＝１で設計している。よって、光学的距離ｄはおよそ３８０ｎｍとなる。
【００３２】
（実施形態２）
図７は実施形態２の発光素子の構成を示す模式断面図である。図８は比較例２と実施例２の発光素子の同一電流時における発光スペクトルの比較結果を示すグラフである。図９は比較例２と実施例２の発光素子のＣＩＥ色度の比較結果を示すグラフである。なお、有機ＥＬ素子は青色発光素子のみを作製した。原理的には緑色、赤色の領域の屈折率も高くなっており、同様の効果が得られるため、ここでは記載しない。
【００３３】
図７に示すように、実施形態２の発光素子７は、第１電極層７３が透明導電層、第２電極層７５が半透明半反射層からなり、第１電極層７３と第２電極層７５の間に発光機能層７４３を含む有機化合物層７４を有し、基板７０側に反射層７１を有し、第２電極層７５（半透明半反射層）を中心として、反射層７１とは反対側に屈折率が異なる第１の層としての第１反射増強層７６、第２の層としての第２反射増強層７７、第３反射増強層７８を有している。つまり、反射増強層が屈折率の異なる複数層から成る、トップエミッション構造の有機ＥＬ素子である。
反射層７１はＡｌ合金から作られ、その膜厚は１００ｎｍである。なお、Ａｌ合金はＮｄを１％添加したものである。
透明膜７２はＳｉＮから作られ、その膜厚は６０ｎｍである。
第１電極層７３はＩＴＯから作られ、その膜厚は２０ｎｍである。
有機化合物層７４は１２０ｎｍ〜１６０ｎｍである。この中には正孔注入層７４１（２０ｎｍ）、正孔輸送層７４２、発光機能層７４３（１０ｎｍ）、電子輸送層７４４（４０ｎｍ）、が含まれる。反射増強層の種類によって最適膜厚が異なるため、正孔輸送層７４２の膜厚を変化させ、ピーク波長が同じになるよう調整した。なお、上記のように、青色発光素子を作製したので、発光機能層７４３のホスト材料は出光興産株式会社製ＢＨ２１５、発光ドーパントは出光興産株式会社製ＢＤ１０２を用いた。
第２電極層７５はＭｇＡｇから作られる。膜厚は１０ｎｍである。
第１反射増強層７６の厚さは６０ｎｍ〜８０ｎｍであり、材料の屈折率によって最適値が変化する。比較例２として第１反射増強層７６をＡｌｑ３とした場合の素子を作製した。その膜厚は８０ｎｍである。実施例２は第１反射増強層７６を酸化モリブデンとした場合の素子を作製した。その膜厚は７０ｎｍである。
第２反射増強層７７は第１反射増強層７６よりも低屈折率の材料から選ばれ、ここではＬｉＦを用いた。膜厚は８０ｎｍである。
第３反射増強層７８は第２反射増強層７７よりも高い屈折率を持つ材料から選ばれ、第１反射増強層７６と同一材料とした。膜厚は７０ｎｍである。なお、必ずしも第１反射増強層７６と同じである必要はなく、この層が外部からの水分侵入を防ぐための封止層を兼ねても良い。例えばＳｉＮ、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ等が挙げられる。
なお、第１反射増強層７６は、酸化タングステンで形成してもよい。
【００３４】
上記実施形態２の発光素子において、反射層７１から、第２電極（半透明半反射層）７５における反射層７１に対抗する界面までの光学的距離ｄは、先の実施形態１と同様に数式（１）を用いて定めることができる。実施形態１と同様に光学的距離ｄを算出すると、およそ３８０ｎｍとなる。
【００３５】
図８は実施例２と比較例２の発光素子の発光スペクトル測定結果を示すグラフ、図９は実施例２と比較例２の発光素子のＣＩＥ色度の比較結果を示すグラフである。
図８に示すように、実施例２の方が比較例２よりもピーク波長を高くすることができ、光取り出し効率が向上していることがわかる。実施例２では比較例２よりもピーク強度が１．２５倍、外部量子効率が０．９７となっている。また、図９に示すように、色度が比較例２（０．１１７、０．１３８）に対して実施例２（０．１１７、０．１１８）に改善しており、より深い青色になっていることがわかる。よって、比較例１よりも実施例１の方が良好な光取り出し効率を実現できることがわかる。
【００３６】
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【００３７】
（変形例１）上記実施形態では、第２電極層４５，７５が半透明反射層を兼ねているとしたが、これに限定されない。例えば、第２電極層４５，７５をＩＴＯなどの透明導電層としてもよい。
【００３８】
（変形例２）上記実施形態では反射増強層４６または第３反射増強層７８と、観測者の間には光学的な機能層が無い場合で述べたが、例えば、カラーフィルター層やマイクロレンズなどの２次元構造を持つ、光学的な機能を有する層をさらに設けてもよい。
【符号の説明】
【００３９】
４…発光素子、４０…基板、４１…反射層、４２…透明層、４３…第１電極層、４４有機化合物層，４４１…正孔注入層、４４２…正孔輸送層、４４３…発光機能層、４４４…電子輸送層、４５…第２電極層、４６…反射増強層、７…発光素子、７０…基板、７１…反射層、７２…透明層、７３…第１電極層、７４有機化合物層，７４１…正孔注入層、７４２…正孔輸送層、７４３…発光機能層、７４４…電子輸送層、７５…第２電極層、７６…第１反射増強層、７７…第２反射増強層、７８…第３反射増強層。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極層と、
第２電極層と、
前記第１電極層および前記第２電極層の間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層を有する有機化合物層と、
前記発光機能層で発せられた光を前記発光機能層に向けて反射する反射層と、
前記発光機能層を挟んで前記反射層の反対側に配置され、前記発光機能層で発せられた光の一部を前記発光機能層に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層と、
前記半透明半反射層を挟んで前記反射層の反対側に、前記半透明半反射層と接するように配置された反射増強層と、を備え、
前記反射増強層は、酸化モリブデン又は酸化タングステンにより形成されていることを特徴とする発光素子。
【請求項２】
前記第１電極層、前記第２電極層、前記有機化合物層、前記反射層、前記半透明半反射層、および前記反射増強層は、基板上に積層構造をなすように構成され、
前記第１電極層は、前記基板と前記有機化合物層との間に設けられており、
前記半透明半反射層は、前記第２電極層を兼ねる、ことを特徴とする請求項１に記載の発光素子。
【請求項３】
前記反射増強層の可視光領域（３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下）における屈折率が１．８以上３．０以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記反射増強層の膜厚が３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項５】
前記反射増強層は、酸化モリブデンまたは酸化タングステンからなる第１の層と、前記第１の層の屈折率よりも低い屈折率を有する第２の層と、を有し、
前記第１の層と前記第２の層とは互いに接していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項６】
第１電極層と、
第２電極層と、
前記第１電極層および第２電極層の間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層を有する有機化合物層と、
前記発光機能層で発せられた光を前記発光機能層に向けて反射する反射層と、
前記発光機能層を挟んで前記反射層の反対側に配置され、前記発光機能層で発せられた光の一部を前記発光機能層に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層と、
前記半透明半反射層を挟んで前記反射層の反対側に、前記半透明半反射層と接するように配置された反射増強層と、を備えた発光素子の製造方法であって、
前記反射増強層は、酸化モリブデン又は酸化タングステンを用いて、真空蒸着法により形成することを特徴とする発光素子の製造方法。
【請求項１】
第１電極層と、
第２電極層と、
前記第１電極層および前記第２電極層の間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層を有する有機化合物層と、
前記発光機能層で発せられた光を前記発光機能層に向けて反射する反射層と、
前記発光機能層を挟んで前記反射層の反対側に配置され、前記発光機能層で発せられた光の一部を前記発光機能層に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層と、
前記半透明半反射層を挟んで前記反射層の反対側に、前記半透明半反射層と接するように配置された反射増強層と、を備え、
前記反射増強層は、酸化モリブデン又は酸化タングステンにより形成されていることを特徴とする発光素子。
【請求項２】
前記第１電極層、前記第２電極層、前記有機化合物層、前記反射層、前記半透明半反射層、および前記反射増強層は、基板上に積層構造をなすように構成され、
前記第１電極層は、前記基板と前記有機化合物層との間に設けられており、
前記半透明半反射層は、前記第２電極層を兼ねる、ことを特徴とする請求項１に記載の発光素子。
【請求項３】
前記反射増強層の可視光領域（３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下）における屈折率が１．８以上３．０以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記反射増強層の膜厚が３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項５】
前記反射増強層は、酸化モリブデンまたは酸化タングステンからなる第１の層と、前記第１の層の屈折率よりも低い屈折率を有する第２の層と、を有し、
前記第１の層と前記第２の層とは互いに接していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項６】
第１電極層と、
第２電極層と、
前記第１電極層および第２電極層の間に配置された、少なくとも１層以上の発光機能層を有する有機化合物層と、
前記発光機能層で発せられた光を前記発光機能層に向けて反射する反射層と、
前記発光機能層を挟んで前記反射層の反対側に配置され、前記発光機能層で発せられた光の一部を前記発光機能層に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層と、
前記半透明半反射層を挟んで前記反射層の反対側に、前記半透明半反射層と接するように配置された反射増強層と、を備えた発光素子の製造方法であって、
前記反射増強層は、酸化モリブデン又は酸化タングステンを用いて、真空蒸着法により形成することを特徴とする発光素子の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１２−１６４６００（Ｐ２０１２−１６４６００Ａ）
【公開日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２５９２２（Ｐ２０１１−２５９２２）
【出願日】平成２３年２月９日（２０１１．２．９）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月９日（２０１１．２．９）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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