発光装置、発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置、および発光装置の再生産方法
【課題】廃棄物の量と、発光装置が使用される際のコストとを抑制することができる発光装置、発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバー装置、および発光装置の再生産方法を提供する。
【解決手段】発光装置は、透光性の基材１と、透明電極層１２ｂと、有機物層ＯＬと、陰極層１２ｇと、封止部１１０とを有している。透明陽極層１２ｂは、基材１上に設けられている。有機物層ＯＬは、透明陽極層１２ｂ上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる。陰極層１２ｇは、有機物層ＯＬ上に設けられている。封止部１１０は、有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとを含む領域を気密に封止するように、基材１に着脱可能に固定されている。
【解決手段】発光装置は、透光性の基材１と、透明電極層１２ｂと、有機物層ＯＬと、陰極層１２ｇと、封止部１１０とを有している。透明陽極層１２ｂは、基材１上に設けられている。有機物層ＯＬは、透明陽極層１２ｂ上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる。陰極層１２ｇは、有機物層ＯＬ上に設けられている。封止部１１０は、有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとを含む領域を気密に封止するように、基材１に着脱可能に固定されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は発光装置、発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置、および発光装置の再生産方法に関し、特に、電界が印加されることにより発光することができる有機物層を有する発光装置、その発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置、およびその発光装置の再生産方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
照明器などの発光装置として、現在、電球および蛍光管が広く用いられている。これらの発光装置は、フィラメントの劣化やスパッタ現象に起因して、有限の寿命を有している。寿命に達した発光装置は全体が廃棄される。なお廃棄物の一部は、破砕された後に、ガラスカレットおよび金属材料として利用されることがある。すなわち廃棄物の一部は、原形をとどめない材料として再利用されることがある。
【０００３】
また複数のＬＥＤ(Light Emitting Diode)素子を有するＬＥＤ発光装置は、使用時間の経過とともに個々の素子の輝度が低下することに起因して、有限の寿命を有している。寿命に達したこのＬＥＤ発光装置も全体が廃棄される。ＬＥＤは資源として再利用することが困難であるため、通常、材料としての再利用も行なわれていない。
【０００４】
また近年、有機ＥＬ(Electro Luminescence)型の発光装置が提案されている。たとえば特開２００７−７３４０３号公報によれば、面発光デバイス（発光装置）は、有機ＥＬ層が形成された透明基材と、口金とを有している。主に有機ＥＬ層が徐々に劣化することで、有機ＥＬ型の発光装置の劣化が生じる。劣化した有機ＥＬ型発光装置は、複数の部分に分解された後、廃棄される。
【特許文献１】特開２００７−７３４０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の発光装置では、装置全体が廃棄されるため、廃棄物の量が多くなるという問題があった。このため、廃棄物が最終処分される場合、廃棄物の処理費用と環境負荷とが大きかった。特に蛍光管が廃棄される場合、水銀による環境汚染が生じることがあった。また廃棄物が材料として再利用される場合、分別、破砕および純化などを行なう必要があるため、大きなコストを要した。
【０００６】
また劣化した発光装置と交換されることになる別の発光装置は、装置全体が新たに形成される必要があった。このため、発光装置が形成される際のコストが高くなるという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の発光装置は、基材と、第１電極層と、有機物層と、第２電極層と、封止部とを有している。基材は、透光性を有している。第１電極層は、基材上に設けられ、透光性を有している。有機物層は、第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができるものである。第２電極層は、有機物層上に設けられている。封止部は、有機物層と第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、基材に着脱可能に固定されている。
【０００８】
本発明の発光装置によれば、封止部が基材に着脱可能に固定されているので、封止部は、取り外された後に再度取り付けられることができる。よって、有機物層が劣化した発光装置の封止部が取り外され、有機物層および第２電極層が新たにされ、そして封止部が再度取り付けられることで、発光装置を再生産することができる。これにより装置の一部が廃棄されずに部品として再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
【０００９】
上記の発光装置において好ましくは、第１電極層は導電性の酸化物層を含んでいるので、有機物用のエッチャントによりエッチングされにくい。このため有機物用のエッチャントによって有機物層がエッチングされる際に、第１電極層をエッチングストッパーとして用いることができる。
【００１０】
上記の発光装置において好ましくは、基材は管形状を有している。これにより、封止部が管形状の端部に取り付けられるだけで、有機物層と第２電極層とを含む領域を気密に封止することができる。よって、封止部が基材の広範囲に取り付けられる必要がないので、封止部の着脱を容易に行なうことができる。
【００１１】
上記の発光装置において好ましくは、基材は平板形状を有している。これにより、封止部が取り外されると、第２電極層および有機物層が平面状に広く露出される。よって、第２電極層および有機物層の各々の除去作業および再形成作業を容易に行なうことができる。
【００１２】
この発明の別の局面に従う複数種類の上記発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置は、少なくとも１つの端末装置とネットワークを介して接続可能な送受信部と、貸し出し単価を発光装置の種類に対応付けて格納する第１のデータベースと、端末装置からの発光装置の種類と貸し出し期間とを含む貸し出し要求を受け付けて、第１のデータベースを参照して貸し出し料金を算出し、貸し出し料金を端末装置へ返信する制御部とを備える。
【００１３】
好ましくは、サーバ装置は、発光装置の種類毎に、貸し出し可能総数と、貸し出し数と、貸し出し可能総数から貸し出し数を減じた在庫数と、所定の適正在庫数と、適正在庫数から在庫数を減じた不足数とを格納する第２のデータベースをさらに備える。制御部は、製造個数と貸し出し数と在庫数の少なくともいずれかの変更命令を受け付けて、当該変更命令に基づいて第２のデータベースを更新する。
【００１４】
好ましくは、第１のデータベースは、発光装置毎に貸し出し期間と発光装置の種類とを格納する。制御部は、第１のデータベースを参照して、発光装置毎の貸し出し合計期間を計算し、発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を計算する。サーバ装置は、発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を格納する第３のデータベースをさらに備える。
【００１５】
本発明の発光装置の再生産方法は、透光性を有する基材と、基材上に設けられ、透光性を有する第１電極層と、第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、有機物層上に設けられた第２電極層と、有機物層と第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた発光装置の再生産方法であって、以下の工程を有している。
【００１６】
封止部が取り外される。封止部が取り外された後に、第２電極層が除去される。第２電極層が除去された後に、有機物層が除去される。
【００１７】
本発明の発光装置の再生産方法によれば、有機物層および第２電極層が除去された基材と、基材に着脱可能であり、かつ基材から取り外された封止部とが得られるので、この基材上に有機物層および第２電極層を新たに形成した後に封止部が再度取り付けられることで、発光装置を再生産することができる。これにより、有機物層が劣化した発光装置の一部が廃棄されずに部品として再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
【００１８】
上記の発光装置の再生産方法において好ましくは、第２電極層は金属層を含み、第２電極層を除去する工程は、酸溶液で第２電極層をエッチングする工程と、有機ガス系プラズマおよびハロゲン系プラズマの少なくともいずれかで第２電極層をエッチングする工程との少なくともいずれかを含んでいる。これにより、第２電極層がエッチングされる際に有機物層をエッチングストッパーとして用いることができる。
【００１９】
上記の発光装置の再生産方法において好ましくは、第１電極層は酸化物層を含み、有機物層を除去する工程は、炭化水素系溶剤および高温純水の少なくともいずれかで有機物層をエッチングする工程と、酸素プラズマで有機物層をアッシングする工程との少なくともいずれかを含んでいる。これにより、有機物層がエッチングされる際に第１電極層をエッチングストッパーとして用いることができる。
【００２０】
上記の発光装置の再生産方法において好ましくは、有機物層を除去する工程の後に、第１電極層の表面が研磨される。これにより、有機物層が除去される際に生じた第１電極層の表面荒れが取り除かれる。よって発光装置の再生産において有機物層が新たに形成される面である第１電極層の表面を平滑にすることができる。
【発明の効果】
【００２１】
以上説明したように本発明によれば、発光装置の一部が廃棄されずに再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
（実施の形態１）
はじめに本実施の形態の発光装置の構成について説明する。図１および図２のそれぞれは、本発明の実施の形態１における発光装置の構成を概略的に示す外観図および断面図である。
【００２３】
図１および図２を参照して、本実施の形態の発光装置は、円筒管１（基材）と、有機ＥＬ素子１２と、封止部１１０と、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７、１２７と、バーコード１０３とを有している。
【００２４】
円筒管１は、長さ方向（図中ＬＤ方向）に延びる空洞部を有する管である。すなわち円筒管１は管形状を有している。また円筒管１は透光性を有している。具体的には円筒管１は、たとえばソーダ石灰ガラスにより形成された、直径５０ｍｍ、長さ５４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの管である。
【００２５】
有機ＥＬ素子１２は、円筒管１の内面上に順に、保護層１２ａと、透明陽極層１２ｂ（第１電極層）と、有機物層ＯＬと、陰極層１２ｇ（第２電極層）とを有している。保護層１２ａは、アルカリ金属イオンの移動を防止する機能を有している。よって円筒管１の材質にソーダ石灰ガラスなどのアルカリ金属イオンを含む材質が用いられても、円筒管１から透明陽極層１２ｂへアルカリ金属イオンが移動することが防止される。保護層１２ａは、たとえば酸化シリコン（ＳｉＯ2）により形成された厚さ１０ｎｍの層である。
【００２６】
透明陽極層１２ｂは、透光性を有しており、かつ有機ＥＬ素子１２の陽極としての機能を有している。透明陽極層１２ｂは、導電性の酸化物層であり、たとえば酸化インジウム錫（ＩＴＯ(Tin doped Indium Oxide)）により形成された厚さ１μｍの層である。
【００２７】
陰極層１２ｇは、有機ＥＬ素子１２の陰極としての機能を有している。陰極層１２ｇは、金属層であり、たとえばアルミニウムにより形成された厚さ０．５μｍの層である。なお有機物層ＯＬ上の領域のうち円筒管１の長さ方向の両端側の領域は、陰極層１２ｇが形成されていない領域であるショート防止用スペースＳＰとなっている。ショート防止用スペースＳＰが設けられていることにより、陰極層１２ｇと透明陽極層１２ｂとが有機ＥＬ素子１２の端部において短絡することが防止されている。
【００２８】
封止部１１０は、封止部品１１０ａ、１１０ｂ、およびＯリング１２４、１２４を有している。封止部品１１０ａおよび１１０ｂのそれぞれは、発光装置の外部に向かって突出した電極１１２ａおよび１１２ｂを有している。封止部品１１０ａおよび１１０ｂの各々は、円筒管１の両端に、Ｏリング１２４により着脱可能に固定されている。封止部１１０の材質は、たとえばガラスまたはアルミニウムである。各Ｏリング１２４は、エラストマーからなり、エラストマーの復元力により封止部品１１０ａおよび１１０ｂのいずれかと、円筒管１とに密着されている。これにより封止部１１０は、不活性ガスＩＧが充填された円筒管１内部を封止している。よって、有機ＥＬ素子１２が形成された領域、すなわち有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとを含む領域が、発光装置の外部から気密に封止されている。なおＯリング１２４による封止をより確実にするため、封止部１１０にＯリング１２４を締め付けるためのネジが取り付けられてもよい。
【００２９】
バーコード１０３は、封止部１１０の外面上に取り付けられており、個々の発光装置を識別するための識別情報を有している。この識別情報は、たとえば個々の発光装置に固有の数字情報である。なお個々の発光装置を識別するための識別情報を保持することができるものをバーコード１０３の代わりに用いることができる。たとえばＩＣタグが用いられてもよい。
【００３０】
有機物層ＯＬは第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆを有している。第１の層１２ｃは、たとえば下記の式（１）に示す有機材料（ＮＰＤ）から形成された厚さ４０ｎｍの層である。
【００３１】
【化１】
【００３２】
第２の層１２ｄは、たとえば、下記の式（２）に示す有機材料（Ｚｎｂｏｘ２）を主成分とし、かつ下記の式（３）に示すペリレン（Ｃ20Ｈ12）により１．５重量％のドーピングがなされた、厚さ７ｎｍの層である。
【００３３】
【化２】
【００３４】
【化３】
【００３５】
第３の層１２ｅは、たとえば、上記の式（２）に示す有機材料（Ｚｎｂｏｘ２）を主成分とし、かつ下記の式（４）に示す有機材料（ＤＣＭ１）により０．２５重量％のドーピングがなされた、厚さ２３ｎｍの層である。
【００３６】
【化４】
【００３７】
第４の層１２ｆは、たとえば、上記の式（２）に示す有機材料（Ｚｎｂｏｘ２）から形成された、厚さ３０ｎｍの層である。
【００３８】
なお上記の第１の層１２ｃはホール輸送層としての機能を有し、第４の層１２ｆは電子輸送層としての機能を有している。また第２の層１２ｄおよび第３の層１２ｅのそれぞれは、ドーパント色素としてペリレンおよびＤＣＭ１を含有することにより、発光層としての機能を有している。第２の層１２ｄおよび第３の層１２ｅのそれぞれにおいて青色およびオレンジ色の発光が生じ、これら２色の光が混合することで白色の光が得られる。
【００３９】
配線１１３ａの一端は透明陽極層１２ｂに電気的に接続されており、配線１１３ａの他端は電極１１２ａに電気的に接続されている。配線１１３ｂの一端は陰極層１２ｇに電気的に接続されており、配線１１３ｂの他端は電極１１２ｂに電気的に接続されている。また電極１１２ａ、１１２ｂの各々は封止部１１０を貫通して形成されている。この構成により、円筒管１の封止領域の外に露出した電極１１２ａと電極１１２ｂとの間に電圧を印加することで、透明陽極層１２ｂと陰極層１２ｇとの間の有機物層ＯＬに電界が印加される。この電界により有機物層ＯＬの発光層における発光が生じる。
【００４０】
次に、本実施の形態の発光装置の使用方法について説明する。
上述したように、発光装置の電極１１２ａと電極１１２ｂとの間に電圧が印加されることで、発光装置から発光が生じる。有機物層ＯＬは、発光時間の経過により徐々に劣化していく。この劣化にともない、発光装置の輝度が低下していく。輝度が初期値の７０％まで低下した時点を寿命時間と定義すると、この寿命時間は、たとえば４０００時間である。寿命に到達した発光装置は、回収された後、以下に説明する発光装置の再生産に供される。
【００４１】
続いて、本実施の形態の発光装置の再生産方法について説明する。図３〜図７は、本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第１〜第５工程を順に示す概略的な断面図である。
【００４２】
図３を参照して、まず、図中矢印で示すように、円筒管１から封止部品１１０ａ、１１０ｂおよびＯリング１２４、１２４が取り外される。封止部１１０、すなわち封止部品１１０ａ、１１０ｂおよびＯリング１２４、１２４は、Ｏリング１２４の部分で円筒管１に固定されている。よって、封止部１１０および円筒管１を破壊することなしに、円筒管１から封止部１１０を容易に取り外すことができる。Ｏリング１２４がネジで締め付けられている場合は、このネジを緩めてから封止部１１０が取り外される。また封止部品１１０ａ、１１０ｂとともに、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７とが取り外される。乾燥剤１２７は脱水処理される。取り外された封止部１１０と、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７とは、部品として再利用されるために、一時的に保管される。
【００４３】
図４を参照して、円筒管１の長さ方向ＬＤが重力方向に沿った方向とされる。円筒管１の上端および下端のそれぞれに、液体導入フランジ２２９および液体排出フランジ２３０が取り付けられる。液体導入フランジ２２９は、酸溶液導入口２３１と、純水導入口２３４と、攪拌器２３２とを有している。液体排出フランジ２３０は、排出口２３３を有している。
【００４４】
攪拌器２３２が回転される。排出口２３３が閉ざされる。酸溶液導入口２３１から円筒管１内へ酸溶液３１の導入が開始される。酸溶液３１は液面ＦＬが陰極層１２ｇを超えるまで供給される。この酸溶液は金属に対するウェットエッチング液であり、たとえばリン酸と硝酸と酢酸との混合液である。この酸溶液３１により、アルミニウムなどの金属からなる陰極層１２ｇが溶かされる。すなわち陰極層１２ｇがウェットエッチングにより除去される。陰極層１２ｇが除去されると有機物層ＯＬの陰極層１２ｇに被覆されていた部分が露出する。有機物層ＯＬは有機物であるため酸溶液には溶けない。すなわち有機物層ＯＬはこのウェットエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００４５】
なお、透明陽極層１２ｂの露出部は、必要に応じてマスキングテープで覆われることで、エッチングされないようにすることができる。
【００４６】
陰極層１２ｇの除去後、排出口２３３から酸溶液３１が排出される。純水導入口２３４から円筒管１内に純水が導入されることで、円筒管１内に付着している酸溶液が洗い流される。
【００４７】
図５を参照して、液体導入フランジ２２９の代わりに、液体導入フランジ３２９が取り付けられる。液体導入フランジ３２９は、炭化水素系洗浄溶剤導入口３３５と、非塩素系有機溶剤導入口３３６と、純水導入口３３４と、攪拌器２３２とを有している。炭化水素系洗浄溶剤導入口３３５から円筒管１内へ炭化水素系洗浄溶剤３５の導入が開始される。炭化水素系洗浄溶剤３５は液面ＦＬが有機物層ＯＬを超えるまで供給される。この炭化水素系洗浄溶剤３５は、有機物に対する非塩素系ウェットエッチング液であり、たとえば関東化学株式会社製の有機ＥＬ材料洗浄液「ＯＥＬ Ｃｌｅａｎシリーズ」（商標）である。この炭化水素系洗浄溶剤３５により、有機物層ＯＬが溶かされる。すなわち有機物層ＯＬがウェットエッチングにより除去される。有機物層ＯＬが除去されると透明陽極層１２ｂの有機物層ＯＬに被覆されていた部分が露出する。透明陽極層１２ｂは酸化物であるため、炭化水素系洗浄溶剤３５には溶けない。すなわち透明陽極層１２ｂはこのウェットエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００４８】
なお炭化水素系洗浄溶剤３５の代わりに、高温純水が用いられてもよい。
有機物層ＯＬの除去後、排出口２３３から炭化水素系洗浄溶剤３５が排出される。非塩素系有機溶剤導入口３３６から円筒管１内に非塩素系洗浄溶剤が導入されることで、円筒管１内に付着している炭化水素系洗浄溶剤３５が洗い流される。この非塩素系洗浄溶剤は、たとえば住友スリーエム株式会社製「ノベック」（商標）ＨＦＥ−７１００、または旭硝子株式会社製「アサヒクリン」（商標）ＡＥ−３０００である。次に純水導入口３３４から円筒管１内に純水が導入されることで、さらに洗浄が行なわれる。次に円筒管１内に加熱された窒素が導入されることで、円筒管１内が乾燥される。
【００４９】
図６を参照して、上記のウェットエッチングにより、保護層１２ａおよび透明陽極層１２ｂが内面に形成された円筒管１が得られる。次に透明陽極層１２ｂの表面が研磨される。
【００５０】
主に図７を参照して、成膜装置１００Ｖが用いられた真空蒸着法により、表面が研磨された透明陽極層１２ｂ（図６）上に、有機物層ＯＬおよび陰極層１２ｇ（図３）が成膜される。以下にこの工程について詳しく説明する。
【００５１】
まず成膜装置１００Ｖについて説明する。成膜装置１００Ｖは、主に、真空容器５と、固定冶具２と、坩堝９ｖと、冷却器７と、駆動部３、１１とを有している。真空容器５は、真空ポンプ６により真空蒸着に適した圧力まで減圧されることができる。固定冶具２は、真空容器５内に円筒管１を支持するための冶具である。固定冶具２は、図中の破線部Ｆで示すように、円筒管１の長さ方向ＬＤの一方端部（図中上側の端部）における縁部分を保持することで、円筒管１を支持することができる。坩堝９ｖは、ヒータ１０により加熱されることができる。これにより坩堝９ｖに入れられた固体原料８ｂを加熱することができる。また坩堝９ｖは、本体部分に加えてさらに上蓋９ｖＬを有している。上蓋９ｖＬは、本体部分との間に隙間ＧＰが設けられるように坩堝９ｖの本体部分に固定されている。坩堝９ｖの材質は、たとえば窒化ホウ素である。冷却器７は、円筒管１の外面部分から熱を奪うことにより円筒管１を冷却することができるように構成されている。駆動部は、回転導入器３と、直線駆動機構１１とを有している。回転導入器３は、固定冶具２が円筒管１の長さ方向ＬＤを中心に回転することができるように固定冶具２を支持している。また回転導入器３は回転モータ４ａの回転力を固定冶具２に伝達することができるように構成されている。これにより円筒管１を円筒管１の長さ方向ＬＤを中心として自転させることができる。円筒管１が自転する運動により、坩堝９ｖが原料を放出している際に、坩堝９ｖから見て円筒管１は円筒管１の長さ方向ＬＤを中心として自転する運動を行なうことができる。すなわち坩堝９ｖと円筒管１とが相対運動を行なうことができる。直線駆動機構１１は、円筒管１の中で坩堝９ｖを円筒管１の長さ方向ＬＤに沿って直線的に変位させることができるように構成されている。この変位により、円筒管１と円筒管１の中に配置された坩堝９ｖとを円筒管１の長さ方向ＬＤに相対的に変位させることができる。すなわち坩堝９ｖと円筒管１とが相対運動を行なうことができる。
【００５２】
次に成膜装置１００Ｖが用いられた、有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとの成膜方法について説明する。
【００５３】
まず有機物層ＯＬの成膜方法について説明する。第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆの真空蒸着に用いられる固体原料８ｂとして、粉体の原料が準備される。また各原料ごとに坩堝９ｖが準備される。そして第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆのそれぞれ対応する固体原料８ｂが収められた複数の坩堝９ｖのひとつが真空容器５内に取り付けられる。また円筒管１（図６）が固定冶具２により成膜装置１００Ｖに取り付けられる。真空ポンプ６により真空容器５内部が減圧される。冷却器７の内部に冷媒が流されることにより、円筒管１の温度が５０℃以下に保たれる。回転モータ４ａが駆動されることにより、円筒管１が長さ方向ＬＤを中心として自転する。この円筒管１が自転する運動により、坩堝９ｖから見て円筒管１は円筒管１の長さ方向ＬＤを中心として自転する運動を行なう。自転速度は、たとえば３０ｒｐｍである。また直線駆動機構１１が駆動されることにより、坩堝９ｖが円筒管１の長さ方向ＬＤに沿って円筒管１の中で往復するように変位する。変位速度は、たとえば２０ｍｍ／秒である。この変位により、円筒管１と円筒管１の中に配置された坩堝９ｖとが円筒管１の長さ方向ＬＤに相対的に変位する。すなわち坩堝９ｖと円筒管１とが相対運動を行なう。ヒータ１０に直流電流が流されることにより固体原料８ｂが加熱されることで、固体原料８ｂが坩堝９ｖから隙間ＧＰを介して蒸発する。すなわち円筒管１の内部に配置された固体原料８ｂが、坩堝９ｖからその周囲に飛散する。飛散された固体原料８ｂの少なくとも一部が透明陽極層１２ｂ（図６）上へ付着することで、円筒管１の内面に真空蒸着による層の形成が行なわれる。異なる材質の固体原料８ｂが収められた複数の坩堝９ｖが順次用いられて真空蒸着が行なわれることで、第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆからなる積層構造、すなわち有機物層ＯＬが得られる。
【００５４】
次に陰極層１２ｇの形成工程について説明する。固体原料８ｂとしてアルミニウム材が収められた坩堝９ｖが真空容器５内に取り付けられる。また有機物層ＯＬが形成された円筒管１が固定冶具２により成膜装置１００Ｖに取り付けられる。またショート防止用スペースＳＰ（図２）を覆うように、円筒状のマスクが円筒管１内に挿入される。次に第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆの形成工程と同様の真空蒸着が行なわれる。これにより陰極層１２ｇが形成される。
【００５５】
これにより有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとが成膜される。
再び図２を参照して、不活性ガス雰囲気中で、一時的に保管されていた封止部１１０と、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７とが、再び円筒管１に取り付けられる。封止部１１０は、Ｏリング１２４を有しているので、容易に円筒管１に取り付けることができる。
【００５６】
以上により発光装置が再生産される。
本実施の形態によれば、封止部１１０が円筒管１に着脱可能に固定されているので、封止部１１０は、取り外された後に再度取り付けられることができる。よって、有機物層ＯＬが劣化した発光装置の封止部１１０が取り外され、有機物層ＯＬおよび陰極層１２ｇが新たにされ、そして封止部１１０が再度取り付けられることで、発光装置を再生産することができる。これにより、装置の一部が廃棄されずに部品として再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
【００５７】
また陰極層１２ｇは金属層である。これにより、金属用のエッチャントを用いて陰極層１２ｇをエッチングすることができる。また金属用のエッチャントは有機物をエッチングしにくいので、陰極層１２ｇのエッチングの際に有機物層ＯＬをエッチングストッパーとして用いることができる。
【００５８】
また透明陽極層１２ｂは、酸化物層であるため、有機物用のエッチャントによりエッチングされにくい。このため有機物用のエッチャントによって有機物層ＯＬがエッチングされる際に、透明陽極層１２ｂをエッチングストッパーとして用いることができる。
【００５９】
また円筒管１は管形状を有する基材である。これにより、封止部１１０が基材の管形状の端部に取り付けられるだけで、有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとを含む領域を気密に封止することができる。よって、封止部１１０が基材の広範囲に取り付けられる必要がないので、封止部１１０の着脱を容易に行なうことができる。
【００６０】
また有機物層ＯＬが除去された後に、透明陽極層１２ｂの表面が研磨される。これにより、有機物層ＯＬが除去される際に生じた透明陽極層１２ｂの表面荒れが取り除かれる。よって発光装置の再生産において有機物層ＯＬが新たに形成される面である透明陽極層１２ｂの表面を平滑にすることができる。
【００６１】
また円筒管１、保護層１２ａ、および透明陽極層１２ｂは酸化物などの劣化の少ない材料からなり、封止部１１０はガラスまたはアルミニウムなどの劣化の少ない材料からなる。また発光装置は発光素子として有機ＥＬ素子１２、すなわち電流注入により発光する素子を用いているので、熱または放電により発光する素子に比して、発光素子以外の部分を劣化させる程度が少ない。よって発光装置の一部を長期にわたって再使用することができる。再使用できる期間は、たとえば発光時間として８００００時間程度（１日１２時間の使用で２０年程度）である。
【００６２】
また有機物層ＯＬが不活性ガスＩＧ中に封止されるので、有機物層ＯＬの劣化を抑制することができる。よって１回の再生産当たりの発光装置の寿命を長くすることができる。
【００６３】
なお本実施の形態においては封止部品１１０ａおよび１１０ｂの各々と円筒管１との間を封止するためにＯリング１２４が用いられたが、本発明はこれに限定されるものではない。たとえば封止部品１１０ａおよび１１０ｂの復元力により封止部品１１０ａおよび１１０ｂの各々と円筒管１とが密着されることで円筒管１内部が封止されてもよい。
【００６４】
（実施の形態２）
本実施の形態の発光装置の再生産方法では、実施の形態１における陰極層１２ｇのウェットエッチング工程（図４）および有機物層ＯＬのウェットエッチング工程（図５）のそれぞれに代わり、陰極層１２ｇのプラズマエッチング工程および有機物層ＯＬのプラズマアッシング工程が行なわれる。以下にこの工程について説明する。図８および図９は、本発明の実施の形態２における発光装置の再生産方法の第１および第２工程を順に示す概略的な断面図である。
【００６５】
図８を参照して、円筒管１の長さ方向ＬＤに沿って円筒管１を囲うように、高周波コイル３９が設置される。高周波コイル３９には１３．５６ＭＨｚの高周波を発生する電源が接続される。円筒管１の両端のそれぞれに、ガス導入フランジ４３７および真空排気フランジ４３８が取り付けられる。ガス導入フランジ４３７は、アルゴンガス導入口４４０と、反応性ガス導入口４４１とを有している。真空排気フランジ４３８は、排気口４３３を有している。排気口４３３を通じた排気により円筒管１内が減圧状態とされつつ、アルゴンガス導入口４４０および反応性ガス導入口４４１のそれぞれからアルゴンガスおよび塩素系ガスが円筒管１内に導入される。
【００６６】
高周波コイル３９に高周波が印加されることで、円筒管１内にプラズマ４２Ｃが発生する。これにより陰極層１２ｇが塩素系プラズマでエッチングされることにより除去される。陰極層１２ｇが除去されると有機物層ＯＬの陰極層１２ｇに被覆されていた部分が露出する。有機物からなる有機物層ＯＬは、このプラズマエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００６７】
なお、塩素系プラズマの代わりに、塩素系以外のハロゲン系プラズマ、またはＣＨ4やＣＨ3ＯＨなどの有機ガスによる有機ガス系プラズマが用いられてもよい。
【００６８】
また透明陽極層１２ｂの露出部は、必要に応じてマスキングテープで覆われることで、エッチングされないようにすることができる。
【００６９】
図９を参照して、アルゴンガス導入口４４０および反応性ガス導入口４４１のそれぞれからアルゴンガスおよび酸素ガスが円筒管１内に導入される。高周波コイル３９に高周波が印加されることで、円筒管１内にプラズマ４２Ｏが発生する。これにより有機物層ＯＬが酸素プラズマアッシングにより除去される。有機物層ＯＬが除去されると透明陽極層１２ｂの有機物層ＯＬに被覆されていた部分が露出する。酸化物からなる透明陽極層１２ｂは、このプラズマエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００７０】
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
【００７１】
本実施の形態によれば、実施の形態１と同様の効果を得ることができる。また実施の形態１と異なりウェットエッチングに伴う廃液が発生しないので、実施の形態１に比して環境負荷を低減することができる。
【００７２】
なお上記実施の形態１および２においては管として円筒管１、すなわち管の長さ方向に垂直な断面形状が円形となるような管が用いられたが、本発明はこれに限定されるものではない。管の長さ方向に垂直な断面形状は、たとえば楕円形または多角形であってもよい。
【００７３】
（実施の形態３）
はじめに本実施の形態の発光装置の構成について説明する。本実施の形態の発光装置の形状は、実施の形態１および２における管形状に代わり、平板形状を有している。図１０は、本発明の実施の形態３における発光装置の構成を概略的に示す断面図である。
【００７４】
図１０を参照して、本実施の形態の発光装置は、基板１Ｐ（基材）と、有機ＥＬ素子１２Ｐと、封止部１１０Ｐと、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７Ｐと、バーコード（図１０において図示せず）とを有している。
【００７５】
基板１Ｐは、平板形状を有している。また基板１Ｐは透光性を有している。基板１Ｐの材質は、たとえばソーダ石灰ガラスである。有機ＥＬ素子１２Ｐは、基板１Ｐの主面上に順に、保護層１２Ｐａと、透明陽極層１２Ｐｂ（第１電極層）と、有機物層ＯＬＰと、陰極層１２Ｐｇ（第２電極層）とを有している。有機物層ＯＬＰは第１〜第４の層１２Ｐｃ〜１２Ｐｆを有している。保護層１２Ｐａ、透明陽極層１２Ｐｂ、第１〜第４の層１２Ｐｃ〜１２Ｐｆ、および陰極層１２Ｐｇのそれぞれの機能は、実施の形態１における保護層１２ａ、透明陽極層１２ｂ、第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆ、および陰極層１２ｇの機能と同様である。
【００７６】
封止部１１０Ｐは、基板１Ｐの主面側の空間を被うように、基板１Ｐの主面の外周部に、接着剤部５０１で固定されている。封止部１１０Ｐの材質は、たとえばガラスまたはアルミニウムである。接着剤部５０１は、封止部１１０Ｐと、基板１Ｐとの間を封止するように設けられている。これにより封止部１１０Ｐは、不活性ガスＩＧが充填された基板１Ｐの主面上の空間を気密に封止している。よって、有機ＥＬ素子１２Ｐが形成された領域、すなわち有機物層ＯＬＰと陰極層１２Ｐｇとを含む領域が、発光装置の外部から気密に封止されている。
【００７７】
接着剤部５０１は、剥離溶剤に溶解する接着剤により形成されている。このため、剥離溶剤を用いることにより、基板１Ｐから封止部１１０Ｐを取り外すことができる。また取り外された封止部１１０Ｐは、接着剤を用いることにより、基板１Ｐに再度取り付けることができる。すなわち封止部１１０Ｐは基板１Ｐに着脱可能に固定されている。接着剤の材質としては、紫外線硬化型の材質が好ましい。
【００７８】
続いて、本実施の形態の発光装置の再生産方法について説明する。図１１および図１２は、本発明の実施の形態３における発光装置の再生産方法の第１および第２工程を順に示す概略的な断面図である。
【００７９】
図１０および図１１を参照して、まず、剥離溶剤を用いて接着剤部５０１が溶かされる。そして基板１Ｐから封止部１１０Ｐが取り外される。封止部１１０Ｐが取り外される前に接着剤部５０１が溶かされるので、封止部１１０Ｐおよび基板１Ｐが破壊されることなしに、基板１Ｐから封止部１１０Ｐが容易に取り外される。また封止部１１０Ｐとともに、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７Ｐとが取り外される。乾燥剤１２７Ｐは脱水処理される。取り外された封止部１１０Ｐと、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７Ｐとは、部品として再利用されるために、一時的に保管される。
【００８０】
基板１Ｐの有機ＥＬ素子１２Ｐが形成された面が下を向くように、基板１Ｐが容器５２９に取り付けられる。容器５２９は、酸溶液導入口２３１と、純水導入口２３４と、攪拌器２３２と、排出口２３３とを有している。攪拌器２３２が回転される。排出口２３３が閉ざされる。酸溶液導入口２３１から基板１Ｐ内へ酸溶液３１の導入が開始される。酸溶液３１は液面ＦＬが陰極層１２Ｐｇを超えるまで供給される。この酸溶液３１により、陰極層１２Ｐｇが溶かされる。すなわち陰極層１２Ｐｇがウェットエッチングにより除去される。陰極層１２Ｐｇが除去されると有機物層ＯＬＰの陰極層１２Ｐｇに被覆されていた部分が露出する。有機物層ＯＬＰは有機物であるため酸溶液には溶けない。すなわち有機物層ＯＬＰはこのウェットエッチングのエッチングストッパーとして機能する。陰極層１２Ｐｇの除去後、排出口２３３から酸溶液３１が排出される。純水導入口２３４から容器５２９内に純水が導入されることで、基板１Ｐ上に付着している酸溶液が洗い流される。
【００８１】
なお、透明陽極層１２Ｐｂの露出部は、必要に応じてマスキングテープで覆われることで、エッチングされないようにすることができる。
【００８２】
図１２を参照して、容器５２９の代わりに、容器６２９が取り付けられる。容器６２９は、炭化水素系洗浄溶剤導入口３３５と、非塩素系有機溶剤導入口３３６と、純水導入口３３４と、攪拌器２３２とを有している。炭化水素系洗浄溶剤導入口３３５から容器６２９内へ炭化水素系洗浄溶剤３５の導入が開始される。炭化水素系洗浄溶剤３５は液面ＦＬが有機物層ＯＬＰを超えるまで供給される。この炭化水素系洗浄溶剤３５により、有機物層ＯＬＰが溶かされる。すなわち有機物層ＯＬＰがウェットエッチングにより除去される。有機物層ＯＬＰが除去されると透明陽極層１２Ｐｂの有機物層ＯＬＰに被覆されていた部分が露出する。透明陽極層１２Ｐｂは酸化物であるため、炭化水素系洗浄溶剤３５には溶けない。すなわち透明陽極層１２Ｐｂはこのウェットエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００８３】
なお炭化水素系洗浄溶剤３５の代わりに、高温純水が用いられてもよい。
有機物層ＯＬＰの除去後、排出口２３３から炭化水素系洗浄溶剤３５が排出される。非塩素系有機溶剤導入口３３６から容器６２９内に非塩素系洗浄溶剤が導入されることで、基板１Ｐ内に付着している炭化水素系洗浄溶剤３５が洗い流される。次に純水導入口３３４から容器６２９内に純水が導入されることで、さらに洗浄が行なわれる。次に容器６２９内に加熱された窒素が導入されることで、基板１Ｐが乾燥される。
【００８４】
上記の２段階のウェットエッチングにより、保護層１２Ｐａおよび透明陽極層１２Ｐｂが形成された基板１Ｐが得られる。次に透明陽極層１２Ｐｂの表面が研磨される。次に真空蒸着法により、表面が研磨された透明陽極層１２Ｐｂ上に、有機物層ＯＬＰおよび陰極層１２Ｐｇ（図１０）が成膜される。
【００８５】
再び図１０を参照して、不活性ガス雰囲気中で、一時的に保管されていた封止部１１０Ｐと、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７Ｐとが、再び基板１Ｐに取り付けられる。封止部１１０Ｐの基板１Ｐへの取り付けは、接着剤の塗布および硬化による接着剤部５０１の形成により行なわれる。以上により発光装置が再生産される。
【００８６】
本実施の形態によれば、基板１Ｐは平板形状を有している。これにより、封止部１１０Ｐが取り外されると、基板１Ｐの主面上に形成された陰極層１２Ｐｇおよび有機物層ＯＬＰが平面状に広く露出される。よって、陰極層１２Ｐｇおよび有機物層ＯＬＰの各々の除去作業および再形成作業を容易に行なうことができる。
【００８７】
また実施の形態１と同様の効果が得られる。すなわち、廃棄物の量の抑制と、発光装置を生産するためのコストの抑制との効果が得られる。また有機物層ＯＬＰおよび透明陽極層１２Ｐｂの各々をエッチングストッパーとして用いることができる。また有機物層ＯＬＰが新たに形成される面である透明陽極層１２Ｐｂの表面を平滑にすることができる。また有機物層ＯＬＰが不活性ガスＩＧ中に封止されるので、有機物層ＯＬＰの劣化を抑制することができる。
【００８８】
また基板１Ｐ、保護層１２Ｐａ、および透明陽極層１２Ｐｂは酸化物などの劣化の少ない材料からなり、封止部１１０Ｐはガラスまたはアルミニウムなどの劣化の少ない材料からなる。また発光装置は発光素子として有機ＥＬ素子１２Ｐ、すなわち電流注入により発光する素子を用いているので、熱または放電により発光する素子に比して、発光素子以外の部分を劣化させる程度が少ない。よって発光装置の一部を長期にわたって再使用することができる。
【００８９】
また封止部１１０Ｐを基板１Ｐに固定するために、剥離溶剤に溶解する接着剤が用いられている。剥離溶剤を用いることで、封止部１１０Ｐおよび基板１Ｐを劣化させることなく、基板１Ｐから封止部１１０Ｐを容易に取り外すことができる。また接着剤部５０１は剥離溶剤により完全に除去することができるので、残存した接着剤部５０１が再度の封止部１１０Ｐの取り付けを阻害することを防ぐことができる。
【００９０】
なお接着剤による固定の代わりにロウ付けが用いられると、封止部１１０Ｐの着脱時に高い温度が必要となるので、封止部１１０Ｐまたは基板１Ｐが劣化しやすい。また封止部１１０Ｐの取り外しの際にロウ付け部分を完全に除去することが困難であるため、残存したロウ付け部分が再度の封止部１１０Ｐの取り付けを阻害することがある。
【００９１】
（実施の形態４）
本実施の形態の発光装置の再生産方法では、実施の形態３における陰極層１２Ｐｇのウェットエッチング工程（図１１）および有機物層ＯＬＰのウェットエッチング工程（図１２）のそれぞれに代わり、陰極層１２Ｐｇのプラズマエッチング工程および有機物層ＯＬＰのプラズマアッシング工程が行なわれる。以下にこの工程について説明する。図１３および図１４は、本発明の実施の形態４における発光装置の再生産方法の第１および第２工程を順に示す概略的な断面図である。
【００９２】
図１３を参照して、真空容器７３７内において、平行平板型高周波電極７０１ａと平行平板型アース電極７０１ｂとの間に基板１Ｐが置かれる。排気口４３３を通じた排気により真空容器７３７内が減圧状態とされつつ、アルゴンガス導入口４４０および反応性ガス導入口４４１のそれぞれからアルゴンガスおよび塩素系ガスが真空容器７３７内に導入される。平行平板型高周波電極７０１ａと平行平板型アース電極７０１ｂとの間に１３．５６ＭＨｚの高周波が印加されることでプラズマ４２Ｃが発生する。これにより陰極層１２Ｐｇが塩素系プラズマでエッチングされることにより除去される。陰極層１２Ｐｇが除去されると有機物層ＯＬＰの陰極層１２Ｐｇに被覆されていた部分が露出する。有機物からなる有機物層ＯＬＰは、このプラズマエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００９３】
なお、塩素系プラズマの代わりに、塩素系以外のハロゲン系プラズマ、またはＣＨ4やＣＨ3ＯＨなどの有機ガスによる有機ガス系プラズマが用いられてもよい。
【００９４】
また透明陽極層１２Ｐｂの露出部は、必要に応じてマスキングテープで覆われることで、エッチングされないようにすることができる。
【００９５】
図１４を参照して、アルゴンガス導入口４４０および反応性ガス導入口４４１のそれぞれからアルゴンガスおよび酸素ガスが真空容器７３７内に導入される。平行平板型高周波電極７０１ａと平行平板型アース電極７０１ｂとの間に高周波が印加されることで、真空容器７３７内にプラズマ４２Ｏが発生する。これにより有機物層ＯＬＰが酸素プラズマアッシングにより除去される。有機物層ＯＬＰが除去されると透明陽極層１２Ｐｂの有機物層ＯＬＰに被覆されていた部分が露出する。酸化物からなる透明陽極層１２Ｐｂは、このプラズマエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００９６】
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態３の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
【００９７】
本実施の形態によれば、実施の形態３と同様の効果を得ることができる。また実施の形態３と異なりウェットエッチングに伴う廃液が発生しないので、実施の形態３に比して環境負荷を低減することができる。
【００９８】
（実施の形態５）
＜全体構成＞
まず、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０の全体構成について説明する。図１５は、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０の全体構成を示す概略図である。本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０を利用すると、上記実施の形態１〜４に記載の発光装置の貸し出し状態を管理することができる。
【００９９】
具体的には、図１５に示すように、実施の形態１〜４に記載の発光装置を、貸し出し業者などがユーザに貸し出す。発光装置の一部が劣化すると、ユーザは発光装置を貸し出し業者に返却する。実施の形態１〜４に示したように、貸し出し業者は発光装置を再生産する。貸し出し業者は再生産された発光装置をそのユーザあるいは新たなユーザに再び貸し出す。貸し出し管理システム４０は、このようなサイクルに沿った発光装置の貸し出し状態を管理することができるものである。
【０１００】
図１５に示すように、貸し出し管理システム４０は、ワークステーションやパーソナルコンピュータなどのサーバ装置５０と、ネットワーク７０ａを介してサーバ装置５０と接続可能なワークステーションやパーソナルコンピュータなどの中継サーバ７１ａ，７１ｂと、ネットワーク７０ｂ，７０ｃを介して中継サーバ７１ａ，７１ｂに接続可能な複数のワークステーションやパーソナルコンピュータなどの端末装置８０ａ，８０ｂ・・・とを含む。ただし、貸し出し管理システム４０は、中継サーバ７１ａ，７１ｂやネットワーク７０ｂ，７０ｃを含まない構成であってもよい。以下では、端末装置８０ａ，８０ｂ・・・の各々の構成や機能を説明する際には、端末装置８０ａ，８０ｂ・・・の各々を端末装置８０と総称する。
【０１０１】
本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０においては、端末装置８０が、ユーザからの指令に基づいて、サーバ装置５０に対して発光装置の貸し出し要求を行なう。貸し出し要求は、ユーザが所望する発光装置の種類や貸し出し期間などを含む。サーバ装置５０は、発光装置毎の貸し出し料金や貸し出し状態を格納する貸し出しデータベース５７−１（図１７参照）を記憶する。
【０１０２】
サーバ装置５０は、端末装置８０からの貸し出し要求に応じて貸し出し料金を計算し、その端末装置８０に貸し出し料金を送信する。サーバ装置５０は、発光装置の貸し出しや返却に応じて、貸し出しデータベース５７−１を更新する。サーバ装置５０は、貸し出しデータベース５７−１を参照して、発光装置の種類（型式や製造方法）毎の在庫の多寡を示す在庫データベース５７−２（図１７参照）や、発光装置の種類（型式や製造方法）毎の寿命などを示す耐久データベース５７−３（図１７参照）を更新する。サーバ装置５０は、管理者からの指令に応じて、発光装置の種類毎の在庫の多寡や寿命などを示す情報を出力する。
【０１０３】
以下、このような機能を実現するための構成について詳述する。
＜サーバ装置５０＞
図１６は、本実施の形態に係るサーバ装置５０のハードウェア構成を示す制御ブロック図である。図１６に示すように、コンピュータ本体５１は、相互に内部バス５８で接続されたＣＰＵ（Central Processing Unit）５５と、メモリ５６と、固定ディスク５７と、通信インターフェイス５９と、ＦＤ（Flexible Disk）駆動装置６１と、ＣＤ−ＲＯＭ（Compact Disk-Read Only Memory）駆動装置６３とを含む。ＦＤ駆動装置６１にはＦＤ６２が装着される。ＣＤ−ＲＯＭ駆動装置６３にはＣＤ−ＲＯＭ６４が装着される。そして、コンピュータ本体５１には、モニタ５２、キーボード５３、マウス５４、バーコードリーダ６５などが接続されている。
【０１０４】
モニタ５２は、液晶パネルやＣＲＴから構成されるものであって、ＣＰＵ５５が出力した情報を表示する。キーボード５３は、キー入力により、ユーザから情報を受け付ける。マウス５４は、クリックされたりやスライドされることによって、ユーザから情報を受け付ける。メモリ５６は、各種の情報を記憶するものであって、たとえば、ＣＰＵ５５でのプログラムの実行に必要なデータを一時的に記憶する。固定ディスク５７は、ＣＰＵ５５が実行するプログラムやデータベースを記憶する。
【０１０５】
ＣＰＵ５５は、サーバ装置５０の各要素を制御するものであって、各種の演算を実施する装置である。また、ＣＰＵ５５は、後述するように、貸し出し受付処理や在庫管理処理や寿命表示処理等を行なうものであって、当該処理結果を内部バス５８を介してモニタ５２に出力する。
【０１０６】
通信インターフェイス５９は、ＣＰＵ５５が出力した情報をその他の装置が利用できる電気信号へと変換する。また、通信インターフェイス５９は、本実施の形態に係るコンピュータの外部から入力された電気信号を受信して、ＣＰＵ５５が利用できるデータに変換する。
【０１０７】
バーコードリーダ６５は、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラなどから構成されるものであって、上記実施の形態１〜４に記載の発光装置に付されたバーコード１０３を読み取って、その発光装置の型式や製造方法などを含む識別情報を取得する。また、サーバ装置５０には、必要に応じて、プリンタ６７などの他の出力装置が接続され得る。
【０１０８】
本実施の形態に係るサーバ装置５０の各機能やサーバ装置５０で実行される各処理は、コンピュータなどのハードウェアと制御プログラムなどのソフトウェアとによって実現される。一般的にこうしたソフトウェアは、ＦＤ６２やＣＤ−ＲＯＭ６４などの記録媒体に格納されて、もしくはネットワークなどを介して流通する。そして、ソフトウェアは、ＦＤ駆動装置６１やＣＤ−ＲＯＭ駆動装置６３などにより記録媒体から読み取られて、あるいは通信インターフェイス５９にて受信されて、固定ディスク５７に格納される。そして、ＣＰＵ５５が、ソフトウェアを固定ディスク５７からメモリ５６へと読み出して、実行する。
【０１０９】
端末装置８０のハードウェア構成は、サーバ装置５０のハードウェア構成と同様である。すなわち、端末装置８０は、コンピュータ本体８１と、コンピュータ本体８１に接続される、モニタ８２、キーボード８３、マウス８４、バーコードリーダ９５、プリンタ９７を含む。コンピュータ本体８１は、相互に内部バス８８で接続されたＣＰＵ８５と、メモリ８６と、固定ディスク８７と、通信インターフェイス８９と、ＦＤ駆動装置９１と、ＣＤ−ＲＯＭ駆動装置９３とを含む。ＦＤ駆動装置９１にはＦＤ９２が装着される。ＣＤ−ＲＯＭ駆動装置９３にはＣＤ−ＲＯＭ９４が装着される。各部の構成はサーバ装置５０のそれと同様であるので、ここは説明を繰り返さない。
【０１１０】
また、中継サーバ７１ａ，７１ｂの構成も、サーバ装置５０のそれと同様であるので、ここでは説明を繰り返さない。
【０１１１】
＜機能構成＞
次に、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０が有する各機能について説明する。図１７は、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０の機能構成を示す機能ブロック図である。
【０１１２】
本実施の形態においては、発光装置の貸し出し状態を管理するための機能がパーソナルコンピュータまたはワークステーションなどのコンピュータ上で実行されるソフトウェアによって実現される構成としているが、各ブロックの機能や各ステップの処理をソフトウェアによって実現する代わりに、その一部または全部を専用のハードウェア回路等によって実現してもよい。
【０１１３】
＜サーバ装置５０の機能構成＞
図１７に示すように、本実施の形態に係るサーバ装置５０は、貸し出しデータベース５７−１と、在庫データベース５７−２と、耐久データベース５７−３と、サーバ制御部５５−１と、サーバ送受信部５９−１と、サーバ表示部５２−１と、サーバ操作部５３−１と、サーバ読取部６５−１と、サーバ印刷部６７−１とを有する。
【０１１４】
貸し出しデータベース５７−１と、在庫データベース５７−２と、耐久データベース５７−３とは、たとえば固定ディスク５７やメモリ５６によって実現される。本実施の形態に係る貸し出しデータベース５７−１は、発光装置毎の詳細な貸し出し状態を格納する。本実施の形態に係る在庫データベース５７−２は、発光装置の種類（型式）毎の在庫情報を格納する。本実施の形態に係る耐久データベース５７−３は、発光装置の種類（製造方法）毎の貸し出し合計期間（使用可能期間）を格納する。
【０１１５】
図１８は、貸し出しデータベース５７−１に格納される貸し出し管理ファイル５７−１ａのデータ構造を示すイメージ図である。貸し出しデータベース５７−１は、発光装置毎に貸し出し管理ファイル５７−１ａ，５７−１ｂ・・・を格納する。図１８に示すように、貸し出し管理ファイル５７−１ａは、所定期間毎に、対象となる発光装置に関する使用者名、貸し出し日、返却日、貸し出し単価、貸し出し日数、貸し出し料金、型式、製造年月日、再生年月日、製造方法番号などを格納する。貸し出しデータベース５７−１に格納されている情報に基づいて、管理者は発光装置毎の詳細な貸し出し履歴や貸し出し状態を把握することができる。
【０１１６】
図１９は、在庫データベース５７−２に格納される在庫管理ファイル５７−２ａのデータ構造を示すイメージ図である。在庫データベース５７−２は、発光装置の型式毎に在庫管理ファイル５７−２ａ，５７−２ｂ・・・を格納する。図１９に示すように、在庫管理ファイル５７−２ａは、所定期間毎に、対象となる発光装置の型式毎の製造個数の累積、貸し出し数、在庫数、在庫率、適正在庫率、適正在庫数、不足数、不足数増減率などを格納する。在庫データベース５７−２に格納されている情報に基づいて、管理者は発光装置の種類（型式）毎の在庫状況を把握することができる。
【０１１７】
図２０は、耐久データベース５７−３に格納される耐久管理ファイル５７−３ａのデータ構造を示すイメージ図である。耐久データベース５７−３は、発光装置の型式毎に耐久管理ファイル５７−３ａ，５７−３ｂ・・・を格納する。図２０に示すように、耐久管理ファイル５７−３ａは、同一型式の発光装置の製造方法毎の貸し出し合計日数を格納する。より詳細には、耐久管理ファイル５７−３ａは、製造方法毎および貸し出し合計日数毎に、それらの製造方法と貸し出し合計日数に該当する発光装置の個数（度数）を格納する。
【０１１８】
ただし、耐久管理ファイル５７−３ａは、発光装置の型式毎の貸し出し合計日数を格納してもよい。より詳細には、耐久管理ファイル５７−３ａは、型式毎および貸し出し合計日数毎に、それらの型式と貸し出し合計日数に該当する発光装置の個数（度数）を格納してもよい。
【０１１９】
耐久データベース５７−３に格納されている情報に基づいて、管理者は発光装置の種類（製造方法あるいは型式）毎の予定使用可能期間（寿命）を把握することができる。
【０１２０】
図１７に戻って、サーバ送受信部５９−１は、たとえば、通信インターフェイス５９によって実現される。サーバ送受信部５９−１は、ネットワーク７０ａ，７０ｂ，７０ｃ・・・を介して端末装置８０との間でデータの送受信を行なう。サーバ表示部５２−１は、たとえば、モニタ５２などによって実現される。サーバ表示部５２−１は、サーバ制御部５５−１からのデータに基づいて、情報を表示する。サーバ操作部５３−１は、たとえば、キーボード５３やマウス５４などによって実現される。サーバ操作部５３−１は、ユーザからの情報の入力を受け付ける。
【０１２１】
サーバ読取部６５−１は、たとえば、バーコードリーダ６５などによって実現される。サーバ読取部６５−１は、発光装置に付された識別情報を読み取る。サーバ印刷部６７−１は、たとえば、サーバ装置５０に接続されたプリンタ６７などによって実現される。サーバ印刷部６７−１は、サーバ制御部５５−１が出力するデータに基づいて、画像やテキスト（たとえば請求書など）を印刷する。
【０１２２】
サーバ制御部５５−１は、ＣＰＵ５５などによって実現されるものであって、内部バス５８を介してサーバ装置５０の各部の動作を制御する。より詳細には、サーバ制御部５５−１は、たとえば、ＣＰＵ５５がメモリ５６や固定ディスク５７などに記憶されるプログラムを実行して図１６に示される各ハードウェアを制御することによって発揮される機能である。つまり、サーバ制御部５５−１が有する機能は、ＣＰＵ５５が、固定ディスク５７に記憶されたプログラムを一旦メモリ５６へと読み出して、メモリ５６からそのプログラムを読み出しながら順次実行することによって実現される。
【０１２３】
サーバ制御部５５−１は、端末装置８０からの発光装置の種類と貸し出し期間とを含む貸し出し要求を受け付けて、貸し出しデータベース５７−１を参照して貸し出し料金を算出する。サーバ制御部５５−１は、貸し出し料金をサーバ送受信部５９−１を介して送信する。サーバ制御部５５−１は、在庫数と適正在庫数と製造個数と貸し出し数の少なくともいずれかの変更命令を受け付けて、その変更命令に基づいて在庫データベース５７−２を更新する。より詳細には、サーバ制御部５５−１は、端末装置８０からの貸し出し要求もしくは貸し出し決定通知に応じて、またはサーバ操作部５３−１からの入力命令に応じて、貸し出しデータベース５７−１を更新し、在庫データベース５７−２を更新する。このとき、サーバ読取部６５−１が、貸し出される（あるいは返却された）発光装置に貼付されているバーコードなどから発光装置の識別番号を取得してもよい。
【０１２４】
サーバ制御部５５−１は、在庫データベース５７−２を参照して、在庫数および不足数の推移を示すグラフを生成し、そのグラフをサーバ表示部５２−１に表示させる。図２１は、在庫数および不足数の推移を示すグラフである。サーバ制御部５５−１は、図１９に示す在庫管理ファイル５７−１ａを参照して、図２１に示すような発光装置の型式毎の月末の在庫数や月末の不足数などの推移を示したグラフを生成して、当該グラフをサーバ表示部５２−１に表示する。これによって、サーバ装置５０の管理者などは、発光装置の型式毎の在庫の増減状態を容易に把握できる。
【０１２５】
サーバ制御部５５−１は、貸し出しデータベース５７−１を参照して発光装置毎の貸し出し合計期間を計算する。ここで、貸し出し合計期間とは、各発生装置における、製造されてから再生されるまでの期間の中で、ユーザに貸し出されていた期間を合計したものをいう。あるいは、貸し出し合計期間とは、各発生装置における、再生時から次の再生時までの期間の中で、ユーザに貸し出されていた期間を合計したものをいう。つまり、サーバ制御部５５−１は、貸し出しデータベース５７−１を参照して、発光装置毎に再生時までの貸し出し期間を合計することによって、発行装置毎の貸し出し合計期間を計算する。
【０１２６】
サーバ制御部５５−１は、発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、耐久データベース５７−３における発光装置の種類（製造方法あるいは型式）毎の貸し出し合計期間の度数分布を更新する。より詳細には、サーバ制御部５５−１は、発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、貸し出し合計期間毎の同一の型式および製造方法の発光装置の個数をカウントすることによって、貸し出し合計期間の度数分布を取得する。サーバ制御部５５−１は、貸し出し合計期間の度数分布情報の要求に応じて、発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布情報を、サーバ送受信部５９−１を介して端末装置８０へと送信する。これによって、端末装置８０において、ユーザが発光装置の種類毎の予定使用可能期間を確認することができる。
【０１２７】
サーバ制御部５５−１は、発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を示すグラフを生成し、そのグラフをサーバ表示部５２−１に表示させる。図２２は、製造方法別の貸し出し合計期間の分布を示すグラフである。サーバ制御部５５−１は、図２０に示す耐久管理ファイルを参照して、たとえば、図２２に示すような、発光装置の型式毎の、それぞれの製造方法の貸し出し合計期間の分布を示すグラフを生成して、当該グラフをサーバ表示部５２−１に表示する。これによって、サーバ装置５０の管理者などは、どのような製造方法（あるいは型式）の発光装置の寿命が長いのかを容易に把握できる。
【０１２８】
＜端末装置８０の機能構成＞
図１７に戻って、本実施の形態に係る端末装置８０は、端末送受信部８９−１と、端末制御部８５−１と、端末操作部８３−１と、端末表示部８２−１と、端末読取部９５−１と、端末印刷部９７−１とを含む。
【０１２９】
端末送受信部８９−１は、たとえば、通信インターフェイス８９によって実現される。端末送受信部８９−１は、ネットワーク７０ａ，７０ｂ，７０ｃ・・・を介してサーバ装置５０との間でデータの送受信を行なう。端末表示部８２−１は、たとえば、モニタ５２などによって実現される。端末表示部８２−１は、端末制御部８５−１からの情報を表示する。端末操作部８３−１は、たとえば、キーボード８３やマウス８４なによって実現される。端末操作部８３−１は、ユーザから情報の入力を受け付ける。端末操作部８３−１は、ユーザが所望する発光装置の種類や貸し出し期間を受け付ける。
【０１３０】
端末読取部９５−１は、たとえば、バーコードリーダ９５などによって実現される。端末読取部９５−１は、発光装置に付された識別情報を読み取る。端末印刷部９７−１は、たとえば、プリンタ９７などによって実現される。端末印刷部９７−１は、端末制御部８５−１が出力するデータに基づいて、画像やテキスト（たとえば請求書など）を印刷する。
【０１３１】
端末制御部８５−１は、ＣＰＵ８５などによって実現されるものであって、内部バス５８を介して端末装置８０の各部の動作を制御する。より詳細には、端末制御部８５−１は、たとえば、ＣＰＵ８５がメモリ８６や固定ディスク８７などに記憶されるプログラムを実行して図１６に示される各ハードウェアを制御することによって発揮される機能である。つまり、端末制御部８５−１が有する機能は、ＣＰＵ８５が、固定ディスク８７に記憶されたプログラムを一旦メモリ８６へと読み出して、メモリ８６からそのプログラムを読み出しながら順次実行することによって実現される。
【０１３２】
端末制御部８５−１は、端末操作部８３−１を介して入力される発光装置の種類や貸し出し期間に基づいて、それらを含む貸し出し命令を生成する。端末制御部８５−１は、その貸し出し命令を端末送受信部８９−１を介してサーバ装置５０へと送信する。端末制御部８５−１は、端末送受信部８９−１にて受信したサーバ装置５０からの貸出料金を端末表示部８２−１を介して表示する。端末制御部８５−１は、端末操作部８３−１を介して入力される発光装置の返却命令を端末送受信部８９−１を介してサーバ装置５０へと送信する。このとき、端末読取部９５−１が、貸し出されていた発光装置に貼付されているバーコードなどから発光装置の識別番号を取得してもよい。端末制御部８５は、返却命令に識別番号を格納した上で、当該返却命令を端末送受信部８９−１を介してサーバ装置５０へと送信する。
【０１３３】
＜貸し出し処理＞
次に、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０における貸し出し処理について説明する。図２３は、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０における貸し出し処理を示すシーケンス図である。
【０１３４】
図２３に示すように、ユーザが、発光装置の種類と貸し出し日数とを端末装置８０に入力する（ステップＳ１０２）。端末装置８０は、貸し出し要求をサーバ装置５０へと送信する（ステップＳ１０４）。サーバ装置５０は、貸し出し要求を受信して（ステップＳ１０６）、貸し出し料金を算出する（ステップＳ１０８）。サーバ装置５０は、貸し出し料金を端末装置８０へと送信する（ステップＳ１１０）。端末装置８０は、貸し出し料金を受信して（ステップＳ１１２）、貸し出し料金を表示する（ステップＳ１１４）。ユーザが、貸し出しを決定する旨を端末装置８０に入力する（ステップＳ１１６）。端末装置８０は、貸し出し決定通知をサーバ装置５０へ送信する（ステップＳ１１８）。サーバ装置５０は、貸し出し決定通知を受信して（ステップＳ１２０）、貸し出し料金に基づいた請求書を印刷する（ステップＳ１２２）。サーバ装置５０は、貸し出し決定通知を受信した際、あるいは管理者などが発光装置の貸し出しを実行した旨をサーバ装置５０に入力した際に、貸し出しデータベース５７−１や、在庫データベース５７−２などを更新する（ステップＳ１２４）。
【０１３５】
＜サーバ装置５０における貸し出し受付処理＞
次に、本実施の形態に係るサーバ装置５０における貸し出し受付処理について説明する。図２４は、本実施の形態に係るサーバ装置５０における貸し出し受付処理の処理手順を示すフローチャートである。
【０１３６】
図２４に示すように、端末装置８０からフォームデータの要求を受け取ると（ステップＳ２０２にてＹＥＳの場合）、ＣＰＵ５５はサーバ送受信部５９を介してフォームデータを端末装置８０へと送信する（ステップＳ２０４）。ＣＰＵ５５は、サーバ送受信部５９を介して端末装置８０から貸し出し要求を受け付けて（ステップＳ２０６）、貸し出し要求から発光装置の種類や貸し出し期間を取得する。ＣＰＵ５５は、発光装置の種類に基づいて貸し出しデータベース５７−１から貸し出し単価を読み出す（ステップＳ２０８）。このとき、たとえば、ＣＰＵ５５は、前回の支払日から今回の支払日までの日数を、貸し出し期間として計算する。そして、ＣＰＵ５５は、貸し出し単価と貸し出し期間とから貸し出し料金を算出し（ステップＳ２１０）、サーバ送受信部５９を介して貸し出し料金を端末装置８０へと送信する（ステップＳ２１２）。
【０１３７】
その後、ＣＰＵ５５は、サーバ送受信部５９を介して端末装置８０から貸し出し決定通知を受け付けて（ステップＳ２１４）、あるいは管理者などがサーバ操作部５３−１やサーバ読取部６５−１を介して貸し出しを実行した旨をサーバ装置５０に入力した際に、貸し出しデータベース５７−１や在庫データベース５７−２を更新する（ステップＳ２１６、以下このステップを在庫管理処理という。）。
【０１３８】
＜サーバ装置５０における在庫データベース更新処理＞
次に、本実施の形態に係るサーバ装置５０における在庫データベース更新処理について説明する。図２５は、本実施の形態に係るサーバ装置５０における在庫データベース更新処理の処理手順を示すフローチャートである。
【０１３９】
図２５に示すように、たとえば、新たな発光装置が製造されたり、古い発光装置が廃棄されたりした場合などのように、管理者などがサーバ操作部５３−１やサーバ読取部６５−１を介して在庫データベース５７−２の製造個数の累積数を更新する（増減させる）と（ステップＳ３０２にてＹＥＳの場合）、ＣＰＵ５５は、予め設定されている適正在庫率に基づいて在庫データベース５７−２の適正在庫数を更新する（ステップＳ３０４）。より詳細には、ＣＰＵ５５は、下記の式に基づいて適正在庫数を計算する。
適正在庫数＝製造個数の累積数×適正在庫率・・・（数１）
また、ＣＰＵ５５は、製造個数の累積数と在庫率に基づいて在庫データベース５７−２の在庫率を更新する（ステップＳ３０６）。より詳細には、ＣＰＵ５５は、下記の式に基づいて在庫率を更新する。
在庫率＝在庫数／製造個数の累積数・・・（数２）
また、ＣＰＵ５５は、適正在庫数と在庫数に基づいて在庫データベース５７−２の不足数を更新する（ステップＳ３０８）。より詳細には、ＣＰＵ５５は、下記の式に基づいて在庫率を更新する。
不足数＝適正在庫数−在庫数・・・（数３）
このように、本実施のサーバ装置５０は製造個数の累積数が変更された際に即座に不足数を計算するので、サーバ装置５０の管理者は製造個数の累積数が変更された際に即座に不足数を把握できる。なお、製造個数の累積数が変更された場合について説明を行ったが、サーバ装置５０のＣＰＵ５５は、貸し出し数や在庫数や適正在庫率などが変更された場合についても上記同様の処理を行なうため、ここでは説明を繰り返さない。
【０１４０】
＜サーバ装置５０における在庫管理処理＞
次に、本実施の形態に係るサーバ装置５０における在庫管理処理（ステップＳ２０６）について説明する。図２６は、本実施の形態に係るサーバ装置５０における在庫管理処理（ステップＳ２０６）の処理手順を示すフローチャートである。
【０１４１】
図２６に示すように、サーバ装置５０に、発光装置の識別情報を含む発光装置の貸し出し／返却に関する情報が入力されると（ステップＳ４０２）、貸し出しデータベース５７−１が更新される（ステップＳ４０４）。より詳細には、ＣＰＵ５５が、識別情報と貸出日／返却日とを受け付けて、貸し出しデータベース５７−１におけるその識別情報を有する発光装置に関する貸出日／返却日を更新する。
【０１４２】
ＣＰＵ５５は、在庫データベース５７−２の在庫数を更新する（増減させる）（ステップＳ４０６）。ＣＰＵ５５は、適正在庫率に基づいて在庫データベース５７−２の適正在庫数を更新する（ステップＳ４０８）。また、ＣＰＵ５５は、製造個数の累積数と在庫数とに基づいて在庫データベース５７−２の不足数を更新する（ステップＳ４１０）。そして、図２１に示すように、ＣＰＵ５５は、在庫データベースの在庫数や不足数の推移を示す在庫グラフを生成し（ステップＳ４１２）、サーバ表示部５２−１を介して在庫グラフを表示する（ステップＳ４１４）。
【０１４３】
＜サーバ装置５０における寿命表示処理＞
次に、本実施の形態に係るサーバ装置５０における寿命表示処理について説明する。図２７は、本実施の形態に係るサーバ装置５０における寿命表示処理の処理手順を示すフローチャートである。
【０１４４】
図２７に示すように、ＣＰＵ５５が、サーバ操作部５３−１を介して出力命令を受け付けると（ステップＳ５０２）、耐久データベース５７−３からユーザが所望している発光装置の型式に関する、発光装置の製造方法別の貸出合計期間の分布が読み出される（ステップＳ５０４）。ＣＰＵ５５は、発光装置の製造方法別の貸出合計期間の分布に基づいて、製造方法毎に貸出合計期間と発光装置の個数との関係を示すグラフを生成し（ステップＳ５０６）、図２２に示すように、サーバ表示部５２−１を介してそのグラフを表示する（ステップＳ５０８）。
【０１４５】
＜その他の実施の形態＞
本発明は、システム或いは装置にプログラムを供給することによって達成される場合にも適用できることはいうまでもない。そして、本発明を達成するためのソフトウェアによって表されるプログラムを格納した記憶媒体を、システム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ）が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読出し実行することによっても、本発明の効果を享受することが可能となる。
【０１４６】
この場合、記憶媒体から読出されたプログラムコード自体が前述した実施の形態の機能を実現することになり、そのプログラムコードを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。
【０１４７】
プログラムコードを供給するための記憶媒体としては、例えば、フロッピディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、磁気テープ、不揮発性のメモリカード（ＩＣメモリカード）、ＲＯＭ（マスクＲＯＭ、フラッシュＥＥＰＲＯＭなど）などを用いることができる。
【０１４８】
また、コンピュータが読出したプログラムコードを実行することにより、前述した実施の形態の機能が実現されるだけでなく、そのプログラムコードの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳ（オペレーティングシステム）などが実際の処理の一部または全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現される場合も含まれることは言うまでもない。
【０１４９】
さらに、記憶媒体から読み出されたプログラムコードが、コンピュータに挿入された機能拡張ボードやコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに書き込まれた後、そのプログラムコードの指示に基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わるＣＰＵなどが実際の処理の一部または全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現される場合も含まれることは言うまでもない。
【０１５０】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【０１５１】
本発明は、電界が印加されることにより発光することができる有機物層を有する発光装置、その発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置、およびその発光装置の再生産方法に特に有利に適用され得る。
【図面の簡単な説明】
【０１５２】
【図１】本発明の実施の形態１における発光装置の構成を概略的に示す外観図である。
【図２】本発明の実施の形態１における発光装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第１工程を示す概略的な断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第２工程を示す概略的な断面図である。
【図５】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第３工程を示す概略的な断面図である。
【図６】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第４工程を示す概略的な断面図である。
【図７】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第５工程を示す概略的な断面図である。
【図８】本発明の実施の形態２における発光装置の再生産方法の第１工程を示す概略的な断面図である。
【図９】本発明の実施の形態２における発光装置の再生産方法の第２工程を示す概略的な断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態３における発光装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態３における発光装置の再生産方法の第１工程を示す概略的な断面図である。
【図１２】本発明の実施の形態３における発光装置の再生産方法の第２工程を示す概略的な断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態４における発光装置の再生産方法の第１工程を示す概略的な断面図である。
【図１４】本発明の実施の形態４における発光装置の再生産方法の第２工程を示す概略的な断面図である。
【図１５】実施の形態５に係る貸し出し管理システムの全体構成を示す概略図である。
【図１６】実施の形態５に係るサーバ装置（端末装置、中継装置）のハードウェア構成を示す制御ブロック図である。
【図１７】実施の形態５に係る貸し出し管理システムの機能構成を示す機能ブロック図である。
【図１８】貸し出しデータベースに格納される貸し出し管理ファイルのデータ構造を示すイメージ図である。
【図１９】在庫データベースに格納される在庫管理ファイルのデータ構造を示すイメージ図である。
【図２０】耐久データベースに格納される耐久管理ファイルのデータ構造を示すイメージ図である。
【図２１】在庫数および不足数の推移を示すグラフである。
【図２２】製造方法別の貸し出し合計期間の分布を示すグラフである。
【図２３】貸し出し管理システムにおける貸し出し処理を示すシーケンス図である。
【図２４】サーバ装置における貸し出し受付処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図２５】サーバ装置における在庫データベース更新処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図２６】サーバ装置における在庫管理処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図２７】サーバ装置における寿命表示処理の処理手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【０１５３】
ＯＬ，ＯＬＰ 有機物層、ＩＧ 不活性ガス、１ 円筒管（基材）、１Ｐ 基板、２ 固定冶具、３ 回転導入器、４ａ 回転モータ、５ 真空容器、８ｂ 固体原料、９ｖ 坩堝、１０ ヒータ、１１ 直線駆動機構、１２，１２Ｐ 有機ＥＬ素子、１２ａ，１２Ｐａ 保護層、１２ｂ，１２Ｐｂ 透明陽極層、１２ｃ〜１２ｆ，１２Ｐｃ〜１２Ｐｆ 第１〜第４の層、１２ｇ，１２Ｐｇ 陰極層、３１ 酸溶液、３５ 炭化水素系洗浄溶剤、４０ 貸し出し管理システム、５０ サーバ装置、５２−１ サーバ表示部、５３−１ サーバ操作部、５５，８５ ＣＰＵ、５５−１ サーバ制御部、５６，８６ メモリ、５７，８７ 固定ディスク、５７−１ 貸し出しデータベース、５７−１ａ，５７−１ｂ 貸し出し管理ファイル、５７−２ 在庫データベース、５７−２ａ，５７−２ｂ 在庫管理ファイル、５７−３ 耐久データベース、５７−３ａ，５７−３ｂ 耐久管理ファイル、５８ 内部バス、５９，８９ 通信インターフェイス、５９−１ サーバ送受信部、６５，９５ バーコードリーダ、６５−１ サーバ読取部、６７，９７ プリンタ、６７−１ サーバ印刷部、７０ａ，７０ｂ，７０ｃ ネットワーク、７１ａ，７１ｂ 中継サーバ、８０，８０ａ，８０ｂ 端末装置、８２−１ 端末表示部、８３−１ 端末操作部、８５−１ 端末制御部、８９−１ 端末送受信部、９５−１ 端末読取部、１００Ｖ 成膜装置、１０３ バーコード、１１０，１１０Ｐ 封止部、１２４ Ｏリング、５０１ 接着剤部。
【技術分野】
【０００１】
本発明は発光装置、発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置、および発光装置の再生産方法に関し、特に、電界が印加されることにより発光することができる有機物層を有する発光装置、その発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置、およびその発光装置の再生産方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
照明器などの発光装置として、現在、電球および蛍光管が広く用いられている。これらの発光装置は、フィラメントの劣化やスパッタ現象に起因して、有限の寿命を有している。寿命に達した発光装置は全体が廃棄される。なお廃棄物の一部は、破砕された後に、ガラスカレットおよび金属材料として利用されることがある。すなわち廃棄物の一部は、原形をとどめない材料として再利用されることがある。
【０００３】
また複数のＬＥＤ(Light Emitting Diode)素子を有するＬＥＤ発光装置は、使用時間の経過とともに個々の素子の輝度が低下することに起因して、有限の寿命を有している。寿命に達したこのＬＥＤ発光装置も全体が廃棄される。ＬＥＤは資源として再利用することが困難であるため、通常、材料としての再利用も行なわれていない。
【０００４】
また近年、有機ＥＬ(Electro Luminescence)型の発光装置が提案されている。たとえば特開２００７−７３４０３号公報によれば、面発光デバイス（発光装置）は、有機ＥＬ層が形成された透明基材と、口金とを有している。主に有機ＥＬ層が徐々に劣化することで、有機ＥＬ型の発光装置の劣化が生じる。劣化した有機ＥＬ型発光装置は、複数の部分に分解された後、廃棄される。
【特許文献１】特開２００７−７３４０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の発光装置では、装置全体が廃棄されるため、廃棄物の量が多くなるという問題があった。このため、廃棄物が最終処分される場合、廃棄物の処理費用と環境負荷とが大きかった。特に蛍光管が廃棄される場合、水銀による環境汚染が生じることがあった。また廃棄物が材料として再利用される場合、分別、破砕および純化などを行なう必要があるため、大きなコストを要した。
【０００６】
また劣化した発光装置と交換されることになる別の発光装置は、装置全体が新たに形成される必要があった。このため、発光装置が形成される際のコストが高くなるという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の発光装置は、基材と、第１電極層と、有機物層と、第２電極層と、封止部とを有している。基材は、透光性を有している。第１電極層は、基材上に設けられ、透光性を有している。有機物層は、第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができるものである。第２電極層は、有機物層上に設けられている。封止部は、有機物層と第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、基材に着脱可能に固定されている。
【０００８】
本発明の発光装置によれば、封止部が基材に着脱可能に固定されているので、封止部は、取り外された後に再度取り付けられることができる。よって、有機物層が劣化した発光装置の封止部が取り外され、有機物層および第２電極層が新たにされ、そして封止部が再度取り付けられることで、発光装置を再生産することができる。これにより装置の一部が廃棄されずに部品として再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
【０００９】
上記の発光装置において好ましくは、第１電極層は導電性の酸化物層を含んでいるので、有機物用のエッチャントによりエッチングされにくい。このため有機物用のエッチャントによって有機物層がエッチングされる際に、第１電極層をエッチングストッパーとして用いることができる。
【００１０】
上記の発光装置において好ましくは、基材は管形状を有している。これにより、封止部が管形状の端部に取り付けられるだけで、有機物層と第２電極層とを含む領域を気密に封止することができる。よって、封止部が基材の広範囲に取り付けられる必要がないので、封止部の着脱を容易に行なうことができる。
【００１１】
上記の発光装置において好ましくは、基材は平板形状を有している。これにより、封止部が取り外されると、第２電極層および有機物層が平面状に広く露出される。よって、第２電極層および有機物層の各々の除去作業および再形成作業を容易に行なうことができる。
【００１２】
この発明の別の局面に従う複数種類の上記発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置は、少なくとも１つの端末装置とネットワークを介して接続可能な送受信部と、貸し出し単価を発光装置の種類に対応付けて格納する第１のデータベースと、端末装置からの発光装置の種類と貸し出し期間とを含む貸し出し要求を受け付けて、第１のデータベースを参照して貸し出し料金を算出し、貸し出し料金を端末装置へ返信する制御部とを備える。
【００１３】
好ましくは、サーバ装置は、発光装置の種類毎に、貸し出し可能総数と、貸し出し数と、貸し出し可能総数から貸し出し数を減じた在庫数と、所定の適正在庫数と、適正在庫数から在庫数を減じた不足数とを格納する第２のデータベースをさらに備える。制御部は、製造個数と貸し出し数と在庫数の少なくともいずれかの変更命令を受け付けて、当該変更命令に基づいて第２のデータベースを更新する。
【００１４】
好ましくは、第１のデータベースは、発光装置毎に貸し出し期間と発光装置の種類とを格納する。制御部は、第１のデータベースを参照して、発光装置毎の貸し出し合計期間を計算し、発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を計算する。サーバ装置は、発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を格納する第３のデータベースをさらに備える。
【００１５】
本発明の発光装置の再生産方法は、透光性を有する基材と、基材上に設けられ、透光性を有する第１電極層と、第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、有機物層上に設けられた第２電極層と、有機物層と第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた発光装置の再生産方法であって、以下の工程を有している。
【００１６】
封止部が取り外される。封止部が取り外された後に、第２電極層が除去される。第２電極層が除去された後に、有機物層が除去される。
【００１７】
本発明の発光装置の再生産方法によれば、有機物層および第２電極層が除去された基材と、基材に着脱可能であり、かつ基材から取り外された封止部とが得られるので、この基材上に有機物層および第２電極層を新たに形成した後に封止部が再度取り付けられることで、発光装置を再生産することができる。これにより、有機物層が劣化した発光装置の一部が廃棄されずに部品として再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
【００１８】
上記の発光装置の再生産方法において好ましくは、第２電極層は金属層を含み、第２電極層を除去する工程は、酸溶液で第２電極層をエッチングする工程と、有機ガス系プラズマおよびハロゲン系プラズマの少なくともいずれかで第２電極層をエッチングする工程との少なくともいずれかを含んでいる。これにより、第２電極層がエッチングされる際に有機物層をエッチングストッパーとして用いることができる。
【００１９】
上記の発光装置の再生産方法において好ましくは、第１電極層は酸化物層を含み、有機物層を除去する工程は、炭化水素系溶剤および高温純水の少なくともいずれかで有機物層をエッチングする工程と、酸素プラズマで有機物層をアッシングする工程との少なくともいずれかを含んでいる。これにより、有機物層がエッチングされる際に第１電極層をエッチングストッパーとして用いることができる。
【００２０】
上記の発光装置の再生産方法において好ましくは、有機物層を除去する工程の後に、第１電極層の表面が研磨される。これにより、有機物層が除去される際に生じた第１電極層の表面荒れが取り除かれる。よって発光装置の再生産において有機物層が新たに形成される面である第１電極層の表面を平滑にすることができる。
【発明の効果】
【００２１】
以上説明したように本発明によれば、発光装置の一部が廃棄されずに再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
（実施の形態１）
はじめに本実施の形態の発光装置の構成について説明する。図１および図２のそれぞれは、本発明の実施の形態１における発光装置の構成を概略的に示す外観図および断面図である。
【００２３】
図１および図２を参照して、本実施の形態の発光装置は、円筒管１（基材）と、有機ＥＬ素子１２と、封止部１１０と、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７、１２７と、バーコード１０３とを有している。
【００２４】
円筒管１は、長さ方向（図中ＬＤ方向）に延びる空洞部を有する管である。すなわち円筒管１は管形状を有している。また円筒管１は透光性を有している。具体的には円筒管１は、たとえばソーダ石灰ガラスにより形成された、直径５０ｍｍ、長さ５４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの管である。
【００２５】
有機ＥＬ素子１２は、円筒管１の内面上に順に、保護層１２ａと、透明陽極層１２ｂ（第１電極層）と、有機物層ＯＬと、陰極層１２ｇ（第２電極層）とを有している。保護層１２ａは、アルカリ金属イオンの移動を防止する機能を有している。よって円筒管１の材質にソーダ石灰ガラスなどのアルカリ金属イオンを含む材質が用いられても、円筒管１から透明陽極層１２ｂへアルカリ金属イオンが移動することが防止される。保護層１２ａは、たとえば酸化シリコン（ＳｉＯ2）により形成された厚さ１０ｎｍの層である。
【００２６】
透明陽極層１２ｂは、透光性を有しており、かつ有機ＥＬ素子１２の陽極としての機能を有している。透明陽極層１２ｂは、導電性の酸化物層であり、たとえば酸化インジウム錫（ＩＴＯ(Tin doped Indium Oxide)）により形成された厚さ１μｍの層である。
【００２７】
陰極層１２ｇは、有機ＥＬ素子１２の陰極としての機能を有している。陰極層１２ｇは、金属層であり、たとえばアルミニウムにより形成された厚さ０．５μｍの層である。なお有機物層ＯＬ上の領域のうち円筒管１の長さ方向の両端側の領域は、陰極層１２ｇが形成されていない領域であるショート防止用スペースＳＰとなっている。ショート防止用スペースＳＰが設けられていることにより、陰極層１２ｇと透明陽極層１２ｂとが有機ＥＬ素子１２の端部において短絡することが防止されている。
【００２８】
封止部１１０は、封止部品１１０ａ、１１０ｂ、およびＯリング１２４、１２４を有している。封止部品１１０ａおよび１１０ｂのそれぞれは、発光装置の外部に向かって突出した電極１１２ａおよび１１２ｂを有している。封止部品１１０ａおよび１１０ｂの各々は、円筒管１の両端に、Ｏリング１２４により着脱可能に固定されている。封止部１１０の材質は、たとえばガラスまたはアルミニウムである。各Ｏリング１２４は、エラストマーからなり、エラストマーの復元力により封止部品１１０ａおよび１１０ｂのいずれかと、円筒管１とに密着されている。これにより封止部１１０は、不活性ガスＩＧが充填された円筒管１内部を封止している。よって、有機ＥＬ素子１２が形成された領域、すなわち有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとを含む領域が、発光装置の外部から気密に封止されている。なおＯリング１２４による封止をより確実にするため、封止部１１０にＯリング１２４を締め付けるためのネジが取り付けられてもよい。
【００２９】
バーコード１０３は、封止部１１０の外面上に取り付けられており、個々の発光装置を識別するための識別情報を有している。この識別情報は、たとえば個々の発光装置に固有の数字情報である。なお個々の発光装置を識別するための識別情報を保持することができるものをバーコード１０３の代わりに用いることができる。たとえばＩＣタグが用いられてもよい。
【００３０】
有機物層ＯＬは第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆを有している。第１の層１２ｃは、たとえば下記の式（１）に示す有機材料（ＮＰＤ）から形成された厚さ４０ｎｍの層である。
【００３１】
【化１】
【００３２】
第２の層１２ｄは、たとえば、下記の式（２）に示す有機材料（Ｚｎｂｏｘ２）を主成分とし、かつ下記の式（３）に示すペリレン（Ｃ20Ｈ12）により１．５重量％のドーピングがなされた、厚さ７ｎｍの層である。
【００３３】
【化２】
【００３４】
【化３】
【００３５】
第３の層１２ｅは、たとえば、上記の式（２）に示す有機材料（Ｚｎｂｏｘ２）を主成分とし、かつ下記の式（４）に示す有機材料（ＤＣＭ１）により０．２５重量％のドーピングがなされた、厚さ２３ｎｍの層である。
【００３６】
【化４】
【００３７】
第４の層１２ｆは、たとえば、上記の式（２）に示す有機材料（Ｚｎｂｏｘ２）から形成された、厚さ３０ｎｍの層である。
【００３８】
なお上記の第１の層１２ｃはホール輸送層としての機能を有し、第４の層１２ｆは電子輸送層としての機能を有している。また第２の層１２ｄおよび第３の層１２ｅのそれぞれは、ドーパント色素としてペリレンおよびＤＣＭ１を含有することにより、発光層としての機能を有している。第２の層１２ｄおよび第３の層１２ｅのそれぞれにおいて青色およびオレンジ色の発光が生じ、これら２色の光が混合することで白色の光が得られる。
【００３９】
配線１１３ａの一端は透明陽極層１２ｂに電気的に接続されており、配線１１３ａの他端は電極１１２ａに電気的に接続されている。配線１１３ｂの一端は陰極層１２ｇに電気的に接続されており、配線１１３ｂの他端は電極１１２ｂに電気的に接続されている。また電極１１２ａ、１１２ｂの各々は封止部１１０を貫通して形成されている。この構成により、円筒管１の封止領域の外に露出した電極１１２ａと電極１１２ｂとの間に電圧を印加することで、透明陽極層１２ｂと陰極層１２ｇとの間の有機物層ＯＬに電界が印加される。この電界により有機物層ＯＬの発光層における発光が生じる。
【００４０】
次に、本実施の形態の発光装置の使用方法について説明する。
上述したように、発光装置の電極１１２ａと電極１１２ｂとの間に電圧が印加されることで、発光装置から発光が生じる。有機物層ＯＬは、発光時間の経過により徐々に劣化していく。この劣化にともない、発光装置の輝度が低下していく。輝度が初期値の７０％まで低下した時点を寿命時間と定義すると、この寿命時間は、たとえば４０００時間である。寿命に到達した発光装置は、回収された後、以下に説明する発光装置の再生産に供される。
【００４１】
続いて、本実施の形態の発光装置の再生産方法について説明する。図３〜図７は、本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第１〜第５工程を順に示す概略的な断面図である。
【００４２】
図３を参照して、まず、図中矢印で示すように、円筒管１から封止部品１１０ａ、１１０ｂおよびＯリング１２４、１２４が取り外される。封止部１１０、すなわち封止部品１１０ａ、１１０ｂおよびＯリング１２４、１２４は、Ｏリング１２４の部分で円筒管１に固定されている。よって、封止部１１０および円筒管１を破壊することなしに、円筒管１から封止部１１０を容易に取り外すことができる。Ｏリング１２４がネジで締め付けられている場合は、このネジを緩めてから封止部１１０が取り外される。また封止部品１１０ａ、１１０ｂとともに、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７とが取り外される。乾燥剤１２７は脱水処理される。取り外された封止部１１０と、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７とは、部品として再利用されるために、一時的に保管される。
【００４３】
図４を参照して、円筒管１の長さ方向ＬＤが重力方向に沿った方向とされる。円筒管１の上端および下端のそれぞれに、液体導入フランジ２２９および液体排出フランジ２３０が取り付けられる。液体導入フランジ２２９は、酸溶液導入口２３１と、純水導入口２３４と、攪拌器２３２とを有している。液体排出フランジ２３０は、排出口２３３を有している。
【００４４】
攪拌器２３２が回転される。排出口２３３が閉ざされる。酸溶液導入口２３１から円筒管１内へ酸溶液３１の導入が開始される。酸溶液３１は液面ＦＬが陰極層１２ｇを超えるまで供給される。この酸溶液は金属に対するウェットエッチング液であり、たとえばリン酸と硝酸と酢酸との混合液である。この酸溶液３１により、アルミニウムなどの金属からなる陰極層１２ｇが溶かされる。すなわち陰極層１２ｇがウェットエッチングにより除去される。陰極層１２ｇが除去されると有機物層ＯＬの陰極層１２ｇに被覆されていた部分が露出する。有機物層ＯＬは有機物であるため酸溶液には溶けない。すなわち有機物層ＯＬはこのウェットエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００４５】
なお、透明陽極層１２ｂの露出部は、必要に応じてマスキングテープで覆われることで、エッチングされないようにすることができる。
【００４６】
陰極層１２ｇの除去後、排出口２３３から酸溶液３１が排出される。純水導入口２３４から円筒管１内に純水が導入されることで、円筒管１内に付着している酸溶液が洗い流される。
【００４７】
図５を参照して、液体導入フランジ２２９の代わりに、液体導入フランジ３２９が取り付けられる。液体導入フランジ３２９は、炭化水素系洗浄溶剤導入口３３５と、非塩素系有機溶剤導入口３３６と、純水導入口３３４と、攪拌器２３２とを有している。炭化水素系洗浄溶剤導入口３３５から円筒管１内へ炭化水素系洗浄溶剤３５の導入が開始される。炭化水素系洗浄溶剤３５は液面ＦＬが有機物層ＯＬを超えるまで供給される。この炭化水素系洗浄溶剤３５は、有機物に対する非塩素系ウェットエッチング液であり、たとえば関東化学株式会社製の有機ＥＬ材料洗浄液「ＯＥＬ Ｃｌｅａｎシリーズ」（商標）である。この炭化水素系洗浄溶剤３５により、有機物層ＯＬが溶かされる。すなわち有機物層ＯＬがウェットエッチングにより除去される。有機物層ＯＬが除去されると透明陽極層１２ｂの有機物層ＯＬに被覆されていた部分が露出する。透明陽極層１２ｂは酸化物であるため、炭化水素系洗浄溶剤３５には溶けない。すなわち透明陽極層１２ｂはこのウェットエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００４８】
なお炭化水素系洗浄溶剤３５の代わりに、高温純水が用いられてもよい。
有機物層ＯＬの除去後、排出口２３３から炭化水素系洗浄溶剤３５が排出される。非塩素系有機溶剤導入口３３６から円筒管１内に非塩素系洗浄溶剤が導入されることで、円筒管１内に付着している炭化水素系洗浄溶剤３５が洗い流される。この非塩素系洗浄溶剤は、たとえば住友スリーエム株式会社製「ノベック」（商標）ＨＦＥ−７１００、または旭硝子株式会社製「アサヒクリン」（商標）ＡＥ−３０００である。次に純水導入口３３４から円筒管１内に純水が導入されることで、さらに洗浄が行なわれる。次に円筒管１内に加熱された窒素が導入されることで、円筒管１内が乾燥される。
【００４９】
図６を参照して、上記のウェットエッチングにより、保護層１２ａおよび透明陽極層１２ｂが内面に形成された円筒管１が得られる。次に透明陽極層１２ｂの表面が研磨される。
【００５０】
主に図７を参照して、成膜装置１００Ｖが用いられた真空蒸着法により、表面が研磨された透明陽極層１２ｂ（図６）上に、有機物層ＯＬおよび陰極層１２ｇ（図３）が成膜される。以下にこの工程について詳しく説明する。
【００５１】
まず成膜装置１００Ｖについて説明する。成膜装置１００Ｖは、主に、真空容器５と、固定冶具２と、坩堝９ｖと、冷却器７と、駆動部３、１１とを有している。真空容器５は、真空ポンプ６により真空蒸着に適した圧力まで減圧されることができる。固定冶具２は、真空容器５内に円筒管１を支持するための冶具である。固定冶具２は、図中の破線部Ｆで示すように、円筒管１の長さ方向ＬＤの一方端部（図中上側の端部）における縁部分を保持することで、円筒管１を支持することができる。坩堝９ｖは、ヒータ１０により加熱されることができる。これにより坩堝９ｖに入れられた固体原料８ｂを加熱することができる。また坩堝９ｖは、本体部分に加えてさらに上蓋９ｖＬを有している。上蓋９ｖＬは、本体部分との間に隙間ＧＰが設けられるように坩堝９ｖの本体部分に固定されている。坩堝９ｖの材質は、たとえば窒化ホウ素である。冷却器７は、円筒管１の外面部分から熱を奪うことにより円筒管１を冷却することができるように構成されている。駆動部は、回転導入器３と、直線駆動機構１１とを有している。回転導入器３は、固定冶具２が円筒管１の長さ方向ＬＤを中心に回転することができるように固定冶具２を支持している。また回転導入器３は回転モータ４ａの回転力を固定冶具２に伝達することができるように構成されている。これにより円筒管１を円筒管１の長さ方向ＬＤを中心として自転させることができる。円筒管１が自転する運動により、坩堝９ｖが原料を放出している際に、坩堝９ｖから見て円筒管１は円筒管１の長さ方向ＬＤを中心として自転する運動を行なうことができる。すなわち坩堝９ｖと円筒管１とが相対運動を行なうことができる。直線駆動機構１１は、円筒管１の中で坩堝９ｖを円筒管１の長さ方向ＬＤに沿って直線的に変位させることができるように構成されている。この変位により、円筒管１と円筒管１の中に配置された坩堝９ｖとを円筒管１の長さ方向ＬＤに相対的に変位させることができる。すなわち坩堝９ｖと円筒管１とが相対運動を行なうことができる。
【００５２】
次に成膜装置１００Ｖが用いられた、有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとの成膜方法について説明する。
【００５３】
まず有機物層ＯＬの成膜方法について説明する。第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆの真空蒸着に用いられる固体原料８ｂとして、粉体の原料が準備される。また各原料ごとに坩堝９ｖが準備される。そして第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆのそれぞれ対応する固体原料８ｂが収められた複数の坩堝９ｖのひとつが真空容器５内に取り付けられる。また円筒管１（図６）が固定冶具２により成膜装置１００Ｖに取り付けられる。真空ポンプ６により真空容器５内部が減圧される。冷却器７の内部に冷媒が流されることにより、円筒管１の温度が５０℃以下に保たれる。回転モータ４ａが駆動されることにより、円筒管１が長さ方向ＬＤを中心として自転する。この円筒管１が自転する運動により、坩堝９ｖから見て円筒管１は円筒管１の長さ方向ＬＤを中心として自転する運動を行なう。自転速度は、たとえば３０ｒｐｍである。また直線駆動機構１１が駆動されることにより、坩堝９ｖが円筒管１の長さ方向ＬＤに沿って円筒管１の中で往復するように変位する。変位速度は、たとえば２０ｍｍ／秒である。この変位により、円筒管１と円筒管１の中に配置された坩堝９ｖとが円筒管１の長さ方向ＬＤに相対的に変位する。すなわち坩堝９ｖと円筒管１とが相対運動を行なう。ヒータ１０に直流電流が流されることにより固体原料８ｂが加熱されることで、固体原料８ｂが坩堝９ｖから隙間ＧＰを介して蒸発する。すなわち円筒管１の内部に配置された固体原料８ｂが、坩堝９ｖからその周囲に飛散する。飛散された固体原料８ｂの少なくとも一部が透明陽極層１２ｂ（図６）上へ付着することで、円筒管１の内面に真空蒸着による層の形成が行なわれる。異なる材質の固体原料８ｂが収められた複数の坩堝９ｖが順次用いられて真空蒸着が行なわれることで、第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆからなる積層構造、すなわち有機物層ＯＬが得られる。
【００５４】
次に陰極層１２ｇの形成工程について説明する。固体原料８ｂとしてアルミニウム材が収められた坩堝９ｖが真空容器５内に取り付けられる。また有機物層ＯＬが形成された円筒管１が固定冶具２により成膜装置１００Ｖに取り付けられる。またショート防止用スペースＳＰ（図２）を覆うように、円筒状のマスクが円筒管１内に挿入される。次に第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆの形成工程と同様の真空蒸着が行なわれる。これにより陰極層１２ｇが形成される。
【００５５】
これにより有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとが成膜される。
再び図２を参照して、不活性ガス雰囲気中で、一時的に保管されていた封止部１１０と、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７とが、再び円筒管１に取り付けられる。封止部１１０は、Ｏリング１２４を有しているので、容易に円筒管１に取り付けることができる。
【００５６】
以上により発光装置が再生産される。
本実施の形態によれば、封止部１１０が円筒管１に着脱可能に固定されているので、封止部１１０は、取り外された後に再度取り付けられることができる。よって、有機物層ＯＬが劣化した発光装置の封止部１１０が取り外され、有機物層ＯＬおよび陰極層１２ｇが新たにされ、そして封止部１１０が再度取り付けられることで、発光装置を再生産することができる。これにより、装置の一部が廃棄されずに部品として再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
【００５７】
また陰極層１２ｇは金属層である。これにより、金属用のエッチャントを用いて陰極層１２ｇをエッチングすることができる。また金属用のエッチャントは有機物をエッチングしにくいので、陰極層１２ｇのエッチングの際に有機物層ＯＬをエッチングストッパーとして用いることができる。
【００５８】
また透明陽極層１２ｂは、酸化物層であるため、有機物用のエッチャントによりエッチングされにくい。このため有機物用のエッチャントによって有機物層ＯＬがエッチングされる際に、透明陽極層１２ｂをエッチングストッパーとして用いることができる。
【００５９】
また円筒管１は管形状を有する基材である。これにより、封止部１１０が基材の管形状の端部に取り付けられるだけで、有機物層ＯＬと陰極層１２ｇとを含む領域を気密に封止することができる。よって、封止部１１０が基材の広範囲に取り付けられる必要がないので、封止部１１０の着脱を容易に行なうことができる。
【００６０】
また有機物層ＯＬが除去された後に、透明陽極層１２ｂの表面が研磨される。これにより、有機物層ＯＬが除去される際に生じた透明陽極層１２ｂの表面荒れが取り除かれる。よって発光装置の再生産において有機物層ＯＬが新たに形成される面である透明陽極層１２ｂの表面を平滑にすることができる。
【００６１】
また円筒管１、保護層１２ａ、および透明陽極層１２ｂは酸化物などの劣化の少ない材料からなり、封止部１１０はガラスまたはアルミニウムなどの劣化の少ない材料からなる。また発光装置は発光素子として有機ＥＬ素子１２、すなわち電流注入により発光する素子を用いているので、熱または放電により発光する素子に比して、発光素子以外の部分を劣化させる程度が少ない。よって発光装置の一部を長期にわたって再使用することができる。再使用できる期間は、たとえば発光時間として８００００時間程度（１日１２時間の使用で２０年程度）である。
【００６２】
また有機物層ＯＬが不活性ガスＩＧ中に封止されるので、有機物層ＯＬの劣化を抑制することができる。よって１回の再生産当たりの発光装置の寿命を長くすることができる。
【００６３】
なお本実施の形態においては封止部品１１０ａおよび１１０ｂの各々と円筒管１との間を封止するためにＯリング１２４が用いられたが、本発明はこれに限定されるものではない。たとえば封止部品１１０ａおよび１１０ｂの復元力により封止部品１１０ａおよび１１０ｂの各々と円筒管１とが密着されることで円筒管１内部が封止されてもよい。
【００６４】
（実施の形態２）
本実施の形態の発光装置の再生産方法では、実施の形態１における陰極層１２ｇのウェットエッチング工程（図４）および有機物層ＯＬのウェットエッチング工程（図５）のそれぞれに代わり、陰極層１２ｇのプラズマエッチング工程および有機物層ＯＬのプラズマアッシング工程が行なわれる。以下にこの工程について説明する。図８および図９は、本発明の実施の形態２における発光装置の再生産方法の第１および第２工程を順に示す概略的な断面図である。
【００６５】
図８を参照して、円筒管１の長さ方向ＬＤに沿って円筒管１を囲うように、高周波コイル３９が設置される。高周波コイル３９には１３．５６ＭＨｚの高周波を発生する電源が接続される。円筒管１の両端のそれぞれに、ガス導入フランジ４３７および真空排気フランジ４３８が取り付けられる。ガス導入フランジ４３７は、アルゴンガス導入口４４０と、反応性ガス導入口４４１とを有している。真空排気フランジ４３８は、排気口４３３を有している。排気口４３３を通じた排気により円筒管１内が減圧状態とされつつ、アルゴンガス導入口４４０および反応性ガス導入口４４１のそれぞれからアルゴンガスおよび塩素系ガスが円筒管１内に導入される。
【００６６】
高周波コイル３９に高周波が印加されることで、円筒管１内にプラズマ４２Ｃが発生する。これにより陰極層１２ｇが塩素系プラズマでエッチングされることにより除去される。陰極層１２ｇが除去されると有機物層ＯＬの陰極層１２ｇに被覆されていた部分が露出する。有機物からなる有機物層ＯＬは、このプラズマエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００６７】
なお、塩素系プラズマの代わりに、塩素系以外のハロゲン系プラズマ、またはＣＨ4やＣＨ3ＯＨなどの有機ガスによる有機ガス系プラズマが用いられてもよい。
【００６８】
また透明陽極層１２ｂの露出部は、必要に応じてマスキングテープで覆われることで、エッチングされないようにすることができる。
【００６９】
図９を参照して、アルゴンガス導入口４４０および反応性ガス導入口４４１のそれぞれからアルゴンガスおよび酸素ガスが円筒管１内に導入される。高周波コイル３９に高周波が印加されることで、円筒管１内にプラズマ４２Ｏが発生する。これにより有機物層ＯＬが酸素プラズマアッシングにより除去される。有機物層ＯＬが除去されると透明陽極層１２ｂの有機物層ＯＬに被覆されていた部分が露出する。酸化物からなる透明陽極層１２ｂは、このプラズマエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００７０】
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
【００７１】
本実施の形態によれば、実施の形態１と同様の効果を得ることができる。また実施の形態１と異なりウェットエッチングに伴う廃液が発生しないので、実施の形態１に比して環境負荷を低減することができる。
【００７２】
なお上記実施の形態１および２においては管として円筒管１、すなわち管の長さ方向に垂直な断面形状が円形となるような管が用いられたが、本発明はこれに限定されるものではない。管の長さ方向に垂直な断面形状は、たとえば楕円形または多角形であってもよい。
【００７３】
（実施の形態３）
はじめに本実施の形態の発光装置の構成について説明する。本実施の形態の発光装置の形状は、実施の形態１および２における管形状に代わり、平板形状を有している。図１０は、本発明の実施の形態３における発光装置の構成を概略的に示す断面図である。
【００７４】
図１０を参照して、本実施の形態の発光装置は、基板１Ｐ（基材）と、有機ＥＬ素子１２Ｐと、封止部１１０Ｐと、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７Ｐと、バーコード（図１０において図示せず）とを有している。
【００７５】
基板１Ｐは、平板形状を有している。また基板１Ｐは透光性を有している。基板１Ｐの材質は、たとえばソーダ石灰ガラスである。有機ＥＬ素子１２Ｐは、基板１Ｐの主面上に順に、保護層１２Ｐａと、透明陽極層１２Ｐｂ（第１電極層）と、有機物層ＯＬＰと、陰極層１２Ｐｇ（第２電極層）とを有している。有機物層ＯＬＰは第１〜第４の層１２Ｐｃ〜１２Ｐｆを有している。保護層１２Ｐａ、透明陽極層１２Ｐｂ、第１〜第４の層１２Ｐｃ〜１２Ｐｆ、および陰極層１２Ｐｇのそれぞれの機能は、実施の形態１における保護層１２ａ、透明陽極層１２ｂ、第１〜第４の層１２ｃ〜１２ｆ、および陰極層１２ｇの機能と同様である。
【００７６】
封止部１１０Ｐは、基板１Ｐの主面側の空間を被うように、基板１Ｐの主面の外周部に、接着剤部５０１で固定されている。封止部１１０Ｐの材質は、たとえばガラスまたはアルミニウムである。接着剤部５０１は、封止部１１０Ｐと、基板１Ｐとの間を封止するように設けられている。これにより封止部１１０Ｐは、不活性ガスＩＧが充填された基板１Ｐの主面上の空間を気密に封止している。よって、有機ＥＬ素子１２Ｐが形成された領域、すなわち有機物層ＯＬＰと陰極層１２Ｐｇとを含む領域が、発光装置の外部から気密に封止されている。
【００７７】
接着剤部５０１は、剥離溶剤に溶解する接着剤により形成されている。このため、剥離溶剤を用いることにより、基板１Ｐから封止部１１０Ｐを取り外すことができる。また取り外された封止部１１０Ｐは、接着剤を用いることにより、基板１Ｐに再度取り付けることができる。すなわち封止部１１０Ｐは基板１Ｐに着脱可能に固定されている。接着剤の材質としては、紫外線硬化型の材質が好ましい。
【００７８】
続いて、本実施の形態の発光装置の再生産方法について説明する。図１１および図１２は、本発明の実施の形態３における発光装置の再生産方法の第１および第２工程を順に示す概略的な断面図である。
【００７９】
図１０および図１１を参照して、まず、剥離溶剤を用いて接着剤部５０１が溶かされる。そして基板１Ｐから封止部１１０Ｐが取り外される。封止部１１０Ｐが取り外される前に接着剤部５０１が溶かされるので、封止部１１０Ｐおよび基板１Ｐが破壊されることなしに、基板１Ｐから封止部１１０Ｐが容易に取り外される。また封止部１１０Ｐとともに、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７Ｐとが取り外される。乾燥剤１２７Ｐは脱水処理される。取り外された封止部１１０Ｐと、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７Ｐとは、部品として再利用されるために、一時的に保管される。
【００８０】
基板１Ｐの有機ＥＬ素子１２Ｐが形成された面が下を向くように、基板１Ｐが容器５２９に取り付けられる。容器５２９は、酸溶液導入口２３１と、純水導入口２３４と、攪拌器２３２と、排出口２３３とを有している。攪拌器２３２が回転される。排出口２３３が閉ざされる。酸溶液導入口２３１から基板１Ｐ内へ酸溶液３１の導入が開始される。酸溶液３１は液面ＦＬが陰極層１２Ｐｇを超えるまで供給される。この酸溶液３１により、陰極層１２Ｐｇが溶かされる。すなわち陰極層１２Ｐｇがウェットエッチングにより除去される。陰極層１２Ｐｇが除去されると有機物層ＯＬＰの陰極層１２Ｐｇに被覆されていた部分が露出する。有機物層ＯＬＰは有機物であるため酸溶液には溶けない。すなわち有機物層ＯＬＰはこのウェットエッチングのエッチングストッパーとして機能する。陰極層１２Ｐｇの除去後、排出口２３３から酸溶液３１が排出される。純水導入口２３４から容器５２９内に純水が導入されることで、基板１Ｐ上に付着している酸溶液が洗い流される。
【００８１】
なお、透明陽極層１２Ｐｂの露出部は、必要に応じてマスキングテープで覆われることで、エッチングされないようにすることができる。
【００８２】
図１２を参照して、容器５２９の代わりに、容器６２９が取り付けられる。容器６２９は、炭化水素系洗浄溶剤導入口３３５と、非塩素系有機溶剤導入口３３６と、純水導入口３３４と、攪拌器２３２とを有している。炭化水素系洗浄溶剤導入口３３５から容器６２９内へ炭化水素系洗浄溶剤３５の導入が開始される。炭化水素系洗浄溶剤３５は液面ＦＬが有機物層ＯＬＰを超えるまで供給される。この炭化水素系洗浄溶剤３５により、有機物層ＯＬＰが溶かされる。すなわち有機物層ＯＬＰがウェットエッチングにより除去される。有機物層ＯＬＰが除去されると透明陽極層１２Ｐｂの有機物層ＯＬＰに被覆されていた部分が露出する。透明陽極層１２Ｐｂは酸化物であるため、炭化水素系洗浄溶剤３５には溶けない。すなわち透明陽極層１２Ｐｂはこのウェットエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００８３】
なお炭化水素系洗浄溶剤３５の代わりに、高温純水が用いられてもよい。
有機物層ＯＬＰの除去後、排出口２３３から炭化水素系洗浄溶剤３５が排出される。非塩素系有機溶剤導入口３３６から容器６２９内に非塩素系洗浄溶剤が導入されることで、基板１Ｐ内に付着している炭化水素系洗浄溶剤３５が洗い流される。次に純水導入口３３４から容器６２９内に純水が導入されることで、さらに洗浄が行なわれる。次に容器６２９内に加熱された窒素が導入されることで、基板１Ｐが乾燥される。
【００８４】
上記の２段階のウェットエッチングにより、保護層１２Ｐａおよび透明陽極層１２Ｐｂが形成された基板１Ｐが得られる。次に透明陽極層１２Ｐｂの表面が研磨される。次に真空蒸着法により、表面が研磨された透明陽極層１２Ｐｂ上に、有機物層ＯＬＰおよび陰極層１２Ｐｇ（図１０）が成膜される。
【００８５】
再び図１０を参照して、不活性ガス雰囲気中で、一時的に保管されていた封止部１１０Ｐと、配線１１３ａ、１１３ｂと、乾燥剤１２７Ｐとが、再び基板１Ｐに取り付けられる。封止部１１０Ｐの基板１Ｐへの取り付けは、接着剤の塗布および硬化による接着剤部５０１の形成により行なわれる。以上により発光装置が再生産される。
【００８６】
本実施の形態によれば、基板１Ｐは平板形状を有している。これにより、封止部１１０Ｐが取り外されると、基板１Ｐの主面上に形成された陰極層１２Ｐｇおよび有機物層ＯＬＰが平面状に広く露出される。よって、陰極層１２Ｐｇおよび有機物層ＯＬＰの各々の除去作業および再形成作業を容易に行なうことができる。
【００８７】
また実施の形態１と同様の効果が得られる。すなわち、廃棄物の量の抑制と、発光装置を生産するためのコストの抑制との効果が得られる。また有機物層ＯＬＰおよび透明陽極層１２Ｐｂの各々をエッチングストッパーとして用いることができる。また有機物層ＯＬＰが新たに形成される面である透明陽極層１２Ｐｂの表面を平滑にすることができる。また有機物層ＯＬＰが不活性ガスＩＧ中に封止されるので、有機物層ＯＬＰの劣化を抑制することができる。
【００８８】
また基板１Ｐ、保護層１２Ｐａ、および透明陽極層１２Ｐｂは酸化物などの劣化の少ない材料からなり、封止部１１０Ｐはガラスまたはアルミニウムなどの劣化の少ない材料からなる。また発光装置は発光素子として有機ＥＬ素子１２Ｐ、すなわち電流注入により発光する素子を用いているので、熱または放電により発光する素子に比して、発光素子以外の部分を劣化させる程度が少ない。よって発光装置の一部を長期にわたって再使用することができる。
【００８９】
また封止部１１０Ｐを基板１Ｐに固定するために、剥離溶剤に溶解する接着剤が用いられている。剥離溶剤を用いることで、封止部１１０Ｐおよび基板１Ｐを劣化させることなく、基板１Ｐから封止部１１０Ｐを容易に取り外すことができる。また接着剤部５０１は剥離溶剤により完全に除去することができるので、残存した接着剤部５０１が再度の封止部１１０Ｐの取り付けを阻害することを防ぐことができる。
【００９０】
なお接着剤による固定の代わりにロウ付けが用いられると、封止部１１０Ｐの着脱時に高い温度が必要となるので、封止部１１０Ｐまたは基板１Ｐが劣化しやすい。また封止部１１０Ｐの取り外しの際にロウ付け部分を完全に除去することが困難であるため、残存したロウ付け部分が再度の封止部１１０Ｐの取り付けを阻害することがある。
【００９１】
（実施の形態４）
本実施の形態の発光装置の再生産方法では、実施の形態３における陰極層１２Ｐｇのウェットエッチング工程（図１１）および有機物層ＯＬＰのウェットエッチング工程（図１２）のそれぞれに代わり、陰極層１２Ｐｇのプラズマエッチング工程および有機物層ＯＬＰのプラズマアッシング工程が行なわれる。以下にこの工程について説明する。図１３および図１４は、本発明の実施の形態４における発光装置の再生産方法の第１および第２工程を順に示す概略的な断面図である。
【００９２】
図１３を参照して、真空容器７３７内において、平行平板型高周波電極７０１ａと平行平板型アース電極７０１ｂとの間に基板１Ｐが置かれる。排気口４３３を通じた排気により真空容器７３７内が減圧状態とされつつ、アルゴンガス導入口４４０および反応性ガス導入口４４１のそれぞれからアルゴンガスおよび塩素系ガスが真空容器７３７内に導入される。平行平板型高周波電極７０１ａと平行平板型アース電極７０１ｂとの間に１３．５６ＭＨｚの高周波が印加されることでプラズマ４２Ｃが発生する。これにより陰極層１２Ｐｇが塩素系プラズマでエッチングされることにより除去される。陰極層１２Ｐｇが除去されると有機物層ＯＬＰの陰極層１２Ｐｇに被覆されていた部分が露出する。有機物からなる有機物層ＯＬＰは、このプラズマエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００９３】
なお、塩素系プラズマの代わりに、塩素系以外のハロゲン系プラズマ、またはＣＨ4やＣＨ3ＯＨなどの有機ガスによる有機ガス系プラズマが用いられてもよい。
【００９４】
また透明陽極層１２Ｐｂの露出部は、必要に応じてマスキングテープで覆われることで、エッチングされないようにすることができる。
【００９５】
図１４を参照して、アルゴンガス導入口４４０および反応性ガス導入口４４１のそれぞれからアルゴンガスおよび酸素ガスが真空容器７３７内に導入される。平行平板型高周波電極７０１ａと平行平板型アース電極７０１ｂとの間に高周波が印加されることで、真空容器７３７内にプラズマ４２Ｏが発生する。これにより有機物層ＯＬＰが酸素プラズマアッシングにより除去される。有機物層ＯＬＰが除去されると透明陽極層１２Ｐｂの有機物層ＯＬＰに被覆されていた部分が露出する。酸化物からなる透明陽極層１２Ｐｂは、このプラズマエッチングのエッチングストッパーとして機能する。
【００９６】
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態３の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
【００９７】
本実施の形態によれば、実施の形態３と同様の効果を得ることができる。また実施の形態３と異なりウェットエッチングに伴う廃液が発生しないので、実施の形態３に比して環境負荷を低減することができる。
【００９８】
（実施の形態５）
＜全体構成＞
まず、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０の全体構成について説明する。図１５は、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０の全体構成を示す概略図である。本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０を利用すると、上記実施の形態１〜４に記載の発光装置の貸し出し状態を管理することができる。
【００９９】
具体的には、図１５に示すように、実施の形態１〜４に記載の発光装置を、貸し出し業者などがユーザに貸し出す。発光装置の一部が劣化すると、ユーザは発光装置を貸し出し業者に返却する。実施の形態１〜４に示したように、貸し出し業者は発光装置を再生産する。貸し出し業者は再生産された発光装置をそのユーザあるいは新たなユーザに再び貸し出す。貸し出し管理システム４０は、このようなサイクルに沿った発光装置の貸し出し状態を管理することができるものである。
【０１００】
図１５に示すように、貸し出し管理システム４０は、ワークステーションやパーソナルコンピュータなどのサーバ装置５０と、ネットワーク７０ａを介してサーバ装置５０と接続可能なワークステーションやパーソナルコンピュータなどの中継サーバ７１ａ，７１ｂと、ネットワーク７０ｂ，７０ｃを介して中継サーバ７１ａ，７１ｂに接続可能な複数のワークステーションやパーソナルコンピュータなどの端末装置８０ａ，８０ｂ・・・とを含む。ただし、貸し出し管理システム４０は、中継サーバ７１ａ，７１ｂやネットワーク７０ｂ，７０ｃを含まない構成であってもよい。以下では、端末装置８０ａ，８０ｂ・・・の各々の構成や機能を説明する際には、端末装置８０ａ，８０ｂ・・・の各々を端末装置８０と総称する。
【０１０１】
本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０においては、端末装置８０が、ユーザからの指令に基づいて、サーバ装置５０に対して発光装置の貸し出し要求を行なう。貸し出し要求は、ユーザが所望する発光装置の種類や貸し出し期間などを含む。サーバ装置５０は、発光装置毎の貸し出し料金や貸し出し状態を格納する貸し出しデータベース５７−１（図１７参照）を記憶する。
【０１０２】
サーバ装置５０は、端末装置８０からの貸し出し要求に応じて貸し出し料金を計算し、その端末装置８０に貸し出し料金を送信する。サーバ装置５０は、発光装置の貸し出しや返却に応じて、貸し出しデータベース５７−１を更新する。サーバ装置５０は、貸し出しデータベース５７−１を参照して、発光装置の種類（型式や製造方法）毎の在庫の多寡を示す在庫データベース５７−２（図１７参照）や、発光装置の種類（型式や製造方法）毎の寿命などを示す耐久データベース５７−３（図１７参照）を更新する。サーバ装置５０は、管理者からの指令に応じて、発光装置の種類毎の在庫の多寡や寿命などを示す情報を出力する。
【０１０３】
以下、このような機能を実現するための構成について詳述する。
＜サーバ装置５０＞
図１６は、本実施の形態に係るサーバ装置５０のハードウェア構成を示す制御ブロック図である。図１６に示すように、コンピュータ本体５１は、相互に内部バス５８で接続されたＣＰＵ（Central Processing Unit）５５と、メモリ５６と、固定ディスク５７と、通信インターフェイス５９と、ＦＤ（Flexible Disk）駆動装置６１と、ＣＤ−ＲＯＭ（Compact Disk-Read Only Memory）駆動装置６３とを含む。ＦＤ駆動装置６１にはＦＤ６２が装着される。ＣＤ−ＲＯＭ駆動装置６３にはＣＤ−ＲＯＭ６４が装着される。そして、コンピュータ本体５１には、モニタ５２、キーボード５３、マウス５４、バーコードリーダ６５などが接続されている。
【０１０４】
モニタ５２は、液晶パネルやＣＲＴから構成されるものであって、ＣＰＵ５５が出力した情報を表示する。キーボード５３は、キー入力により、ユーザから情報を受け付ける。マウス５４は、クリックされたりやスライドされることによって、ユーザから情報を受け付ける。メモリ５６は、各種の情報を記憶するものであって、たとえば、ＣＰＵ５５でのプログラムの実行に必要なデータを一時的に記憶する。固定ディスク５７は、ＣＰＵ５５が実行するプログラムやデータベースを記憶する。
【０１０５】
ＣＰＵ５５は、サーバ装置５０の各要素を制御するものであって、各種の演算を実施する装置である。また、ＣＰＵ５５は、後述するように、貸し出し受付処理や在庫管理処理や寿命表示処理等を行なうものであって、当該処理結果を内部バス５８を介してモニタ５２に出力する。
【０１０６】
通信インターフェイス５９は、ＣＰＵ５５が出力した情報をその他の装置が利用できる電気信号へと変換する。また、通信インターフェイス５９は、本実施の形態に係るコンピュータの外部から入力された電気信号を受信して、ＣＰＵ５５が利用できるデータに変換する。
【０１０７】
バーコードリーダ６５は、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラなどから構成されるものであって、上記実施の形態１〜４に記載の発光装置に付されたバーコード１０３を読み取って、その発光装置の型式や製造方法などを含む識別情報を取得する。また、サーバ装置５０には、必要に応じて、プリンタ６７などの他の出力装置が接続され得る。
【０１０８】
本実施の形態に係るサーバ装置５０の各機能やサーバ装置５０で実行される各処理は、コンピュータなどのハードウェアと制御プログラムなどのソフトウェアとによって実現される。一般的にこうしたソフトウェアは、ＦＤ６２やＣＤ−ＲＯＭ６４などの記録媒体に格納されて、もしくはネットワークなどを介して流通する。そして、ソフトウェアは、ＦＤ駆動装置６１やＣＤ−ＲＯＭ駆動装置６３などにより記録媒体から読み取られて、あるいは通信インターフェイス５９にて受信されて、固定ディスク５７に格納される。そして、ＣＰＵ５５が、ソフトウェアを固定ディスク５７からメモリ５６へと読み出して、実行する。
【０１０９】
端末装置８０のハードウェア構成は、サーバ装置５０のハードウェア構成と同様である。すなわち、端末装置８０は、コンピュータ本体８１と、コンピュータ本体８１に接続される、モニタ８２、キーボード８３、マウス８４、バーコードリーダ９５、プリンタ９７を含む。コンピュータ本体８１は、相互に内部バス８８で接続されたＣＰＵ８５と、メモリ８６と、固定ディスク８７と、通信インターフェイス８９と、ＦＤ駆動装置９１と、ＣＤ−ＲＯＭ駆動装置９３とを含む。ＦＤ駆動装置９１にはＦＤ９２が装着される。ＣＤ−ＲＯＭ駆動装置９３にはＣＤ−ＲＯＭ９４が装着される。各部の構成はサーバ装置５０のそれと同様であるので、ここは説明を繰り返さない。
【０１１０】
また、中継サーバ７１ａ，７１ｂの構成も、サーバ装置５０のそれと同様であるので、ここでは説明を繰り返さない。
【０１１１】
＜機能構成＞
次に、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０が有する各機能について説明する。図１７は、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０の機能構成を示す機能ブロック図である。
【０１１２】
本実施の形態においては、発光装置の貸し出し状態を管理するための機能がパーソナルコンピュータまたはワークステーションなどのコンピュータ上で実行されるソフトウェアによって実現される構成としているが、各ブロックの機能や各ステップの処理をソフトウェアによって実現する代わりに、その一部または全部を専用のハードウェア回路等によって実現してもよい。
【０１１３】
＜サーバ装置５０の機能構成＞
図１７に示すように、本実施の形態に係るサーバ装置５０は、貸し出しデータベース５７−１と、在庫データベース５７−２と、耐久データベース５７−３と、サーバ制御部５５−１と、サーバ送受信部５９−１と、サーバ表示部５２−１と、サーバ操作部５３−１と、サーバ読取部６５−１と、サーバ印刷部６７−１とを有する。
【０１１４】
貸し出しデータベース５７−１と、在庫データベース５７−２と、耐久データベース５７−３とは、たとえば固定ディスク５７やメモリ５６によって実現される。本実施の形態に係る貸し出しデータベース５７−１は、発光装置毎の詳細な貸し出し状態を格納する。本実施の形態に係る在庫データベース５７−２は、発光装置の種類（型式）毎の在庫情報を格納する。本実施の形態に係る耐久データベース５７−３は、発光装置の種類（製造方法）毎の貸し出し合計期間（使用可能期間）を格納する。
【０１１５】
図１８は、貸し出しデータベース５７−１に格納される貸し出し管理ファイル５７−１ａのデータ構造を示すイメージ図である。貸し出しデータベース５７−１は、発光装置毎に貸し出し管理ファイル５７−１ａ，５７−１ｂ・・・を格納する。図１８に示すように、貸し出し管理ファイル５７−１ａは、所定期間毎に、対象となる発光装置に関する使用者名、貸し出し日、返却日、貸し出し単価、貸し出し日数、貸し出し料金、型式、製造年月日、再生年月日、製造方法番号などを格納する。貸し出しデータベース５７−１に格納されている情報に基づいて、管理者は発光装置毎の詳細な貸し出し履歴や貸し出し状態を把握することができる。
【０１１６】
図１９は、在庫データベース５７−２に格納される在庫管理ファイル５７−２ａのデータ構造を示すイメージ図である。在庫データベース５７−２は、発光装置の型式毎に在庫管理ファイル５７−２ａ，５７−２ｂ・・・を格納する。図１９に示すように、在庫管理ファイル５７−２ａは、所定期間毎に、対象となる発光装置の型式毎の製造個数の累積、貸し出し数、在庫数、在庫率、適正在庫率、適正在庫数、不足数、不足数増減率などを格納する。在庫データベース５７−２に格納されている情報に基づいて、管理者は発光装置の種類（型式）毎の在庫状況を把握することができる。
【０１１７】
図２０は、耐久データベース５７−３に格納される耐久管理ファイル５７−３ａのデータ構造を示すイメージ図である。耐久データベース５７−３は、発光装置の型式毎に耐久管理ファイル５７−３ａ，５７−３ｂ・・・を格納する。図２０に示すように、耐久管理ファイル５７−３ａは、同一型式の発光装置の製造方法毎の貸し出し合計日数を格納する。より詳細には、耐久管理ファイル５７−３ａは、製造方法毎および貸し出し合計日数毎に、それらの製造方法と貸し出し合計日数に該当する発光装置の個数（度数）を格納する。
【０１１８】
ただし、耐久管理ファイル５７−３ａは、発光装置の型式毎の貸し出し合計日数を格納してもよい。より詳細には、耐久管理ファイル５７−３ａは、型式毎および貸し出し合計日数毎に、それらの型式と貸し出し合計日数に該当する発光装置の個数（度数）を格納してもよい。
【０１１９】
耐久データベース５７−３に格納されている情報に基づいて、管理者は発光装置の種類（製造方法あるいは型式）毎の予定使用可能期間（寿命）を把握することができる。
【０１２０】
図１７に戻って、サーバ送受信部５９−１は、たとえば、通信インターフェイス５９によって実現される。サーバ送受信部５９−１は、ネットワーク７０ａ，７０ｂ，７０ｃ・・・を介して端末装置８０との間でデータの送受信を行なう。サーバ表示部５２−１は、たとえば、モニタ５２などによって実現される。サーバ表示部５２−１は、サーバ制御部５５−１からのデータに基づいて、情報を表示する。サーバ操作部５３−１は、たとえば、キーボード５３やマウス５４などによって実現される。サーバ操作部５３−１は、ユーザからの情報の入力を受け付ける。
【０１２１】
サーバ読取部６５−１は、たとえば、バーコードリーダ６５などによって実現される。サーバ読取部６５−１は、発光装置に付された識別情報を読み取る。サーバ印刷部６７−１は、たとえば、サーバ装置５０に接続されたプリンタ６７などによって実現される。サーバ印刷部６７−１は、サーバ制御部５５−１が出力するデータに基づいて、画像やテキスト（たとえば請求書など）を印刷する。
【０１２２】
サーバ制御部５５−１は、ＣＰＵ５５などによって実現されるものであって、内部バス５８を介してサーバ装置５０の各部の動作を制御する。より詳細には、サーバ制御部５５−１は、たとえば、ＣＰＵ５５がメモリ５６や固定ディスク５７などに記憶されるプログラムを実行して図１６に示される各ハードウェアを制御することによって発揮される機能である。つまり、サーバ制御部５５−１が有する機能は、ＣＰＵ５５が、固定ディスク５７に記憶されたプログラムを一旦メモリ５６へと読み出して、メモリ５６からそのプログラムを読み出しながら順次実行することによって実現される。
【０１２３】
サーバ制御部５５−１は、端末装置８０からの発光装置の種類と貸し出し期間とを含む貸し出し要求を受け付けて、貸し出しデータベース５７−１を参照して貸し出し料金を算出する。サーバ制御部５５−１は、貸し出し料金をサーバ送受信部５９−１を介して送信する。サーバ制御部５５−１は、在庫数と適正在庫数と製造個数と貸し出し数の少なくともいずれかの変更命令を受け付けて、その変更命令に基づいて在庫データベース５７−２を更新する。より詳細には、サーバ制御部５５−１は、端末装置８０からの貸し出し要求もしくは貸し出し決定通知に応じて、またはサーバ操作部５３−１からの入力命令に応じて、貸し出しデータベース５７−１を更新し、在庫データベース５７−２を更新する。このとき、サーバ読取部６５−１が、貸し出される（あるいは返却された）発光装置に貼付されているバーコードなどから発光装置の識別番号を取得してもよい。
【０１２４】
サーバ制御部５５−１は、在庫データベース５７−２を参照して、在庫数および不足数の推移を示すグラフを生成し、そのグラフをサーバ表示部５２−１に表示させる。図２１は、在庫数および不足数の推移を示すグラフである。サーバ制御部５５−１は、図１９に示す在庫管理ファイル５７−１ａを参照して、図２１に示すような発光装置の型式毎の月末の在庫数や月末の不足数などの推移を示したグラフを生成して、当該グラフをサーバ表示部５２−１に表示する。これによって、サーバ装置５０の管理者などは、発光装置の型式毎の在庫の増減状態を容易に把握できる。
【０１２５】
サーバ制御部５５−１は、貸し出しデータベース５７−１を参照して発光装置毎の貸し出し合計期間を計算する。ここで、貸し出し合計期間とは、各発生装置における、製造されてから再生されるまでの期間の中で、ユーザに貸し出されていた期間を合計したものをいう。あるいは、貸し出し合計期間とは、各発生装置における、再生時から次の再生時までの期間の中で、ユーザに貸し出されていた期間を合計したものをいう。つまり、サーバ制御部５５−１は、貸し出しデータベース５７−１を参照して、発光装置毎に再生時までの貸し出し期間を合計することによって、発行装置毎の貸し出し合計期間を計算する。
【０１２６】
サーバ制御部５５−１は、発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、耐久データベース５７−３における発光装置の種類（製造方法あるいは型式）毎の貸し出し合計期間の度数分布を更新する。より詳細には、サーバ制御部５５−１は、発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、貸し出し合計期間毎の同一の型式および製造方法の発光装置の個数をカウントすることによって、貸し出し合計期間の度数分布を取得する。サーバ制御部５５−１は、貸し出し合計期間の度数分布情報の要求に応じて、発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布情報を、サーバ送受信部５９−１を介して端末装置８０へと送信する。これによって、端末装置８０において、ユーザが発光装置の種類毎の予定使用可能期間を確認することができる。
【０１２７】
サーバ制御部５５−１は、発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を示すグラフを生成し、そのグラフをサーバ表示部５２−１に表示させる。図２２は、製造方法別の貸し出し合計期間の分布を示すグラフである。サーバ制御部５５−１は、図２０に示す耐久管理ファイルを参照して、たとえば、図２２に示すような、発光装置の型式毎の、それぞれの製造方法の貸し出し合計期間の分布を示すグラフを生成して、当該グラフをサーバ表示部５２−１に表示する。これによって、サーバ装置５０の管理者などは、どのような製造方法（あるいは型式）の発光装置の寿命が長いのかを容易に把握できる。
【０１２８】
＜端末装置８０の機能構成＞
図１７に戻って、本実施の形態に係る端末装置８０は、端末送受信部８９−１と、端末制御部８５−１と、端末操作部８３−１と、端末表示部８２−１と、端末読取部９５−１と、端末印刷部９７−１とを含む。
【０１２９】
端末送受信部８９−１は、たとえば、通信インターフェイス８９によって実現される。端末送受信部８９−１は、ネットワーク７０ａ，７０ｂ，７０ｃ・・・を介してサーバ装置５０との間でデータの送受信を行なう。端末表示部８２−１は、たとえば、モニタ５２などによって実現される。端末表示部８２−１は、端末制御部８５−１からの情報を表示する。端末操作部８３−１は、たとえば、キーボード８３やマウス８４なによって実現される。端末操作部８３−１は、ユーザから情報の入力を受け付ける。端末操作部８３−１は、ユーザが所望する発光装置の種類や貸し出し期間を受け付ける。
【０１３０】
端末読取部９５−１は、たとえば、バーコードリーダ９５などによって実現される。端末読取部９５−１は、発光装置に付された識別情報を読み取る。端末印刷部９７−１は、たとえば、プリンタ９７などによって実現される。端末印刷部９７−１は、端末制御部８５−１が出力するデータに基づいて、画像やテキスト（たとえば請求書など）を印刷する。
【０１３１】
端末制御部８５−１は、ＣＰＵ８５などによって実現されるものであって、内部バス５８を介して端末装置８０の各部の動作を制御する。より詳細には、端末制御部８５−１は、たとえば、ＣＰＵ８５がメモリ８６や固定ディスク８７などに記憶されるプログラムを実行して図１６に示される各ハードウェアを制御することによって発揮される機能である。つまり、端末制御部８５−１が有する機能は、ＣＰＵ８５が、固定ディスク８７に記憶されたプログラムを一旦メモリ８６へと読み出して、メモリ８６からそのプログラムを読み出しながら順次実行することによって実現される。
【０１３２】
端末制御部８５−１は、端末操作部８３−１を介して入力される発光装置の種類や貸し出し期間に基づいて、それらを含む貸し出し命令を生成する。端末制御部８５−１は、その貸し出し命令を端末送受信部８９−１を介してサーバ装置５０へと送信する。端末制御部８５−１は、端末送受信部８９−１にて受信したサーバ装置５０からの貸出料金を端末表示部８２−１を介して表示する。端末制御部８５−１は、端末操作部８３−１を介して入力される発光装置の返却命令を端末送受信部８９−１を介してサーバ装置５０へと送信する。このとき、端末読取部９５−１が、貸し出されていた発光装置に貼付されているバーコードなどから発光装置の識別番号を取得してもよい。端末制御部８５は、返却命令に識別番号を格納した上で、当該返却命令を端末送受信部８９−１を介してサーバ装置５０へと送信する。
【０１３３】
＜貸し出し処理＞
次に、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０における貸し出し処理について説明する。図２３は、本実施の形態に係る貸し出し管理システム４０における貸し出し処理を示すシーケンス図である。
【０１３４】
図２３に示すように、ユーザが、発光装置の種類と貸し出し日数とを端末装置８０に入力する（ステップＳ１０２）。端末装置８０は、貸し出し要求をサーバ装置５０へと送信する（ステップＳ１０４）。サーバ装置５０は、貸し出し要求を受信して（ステップＳ１０６）、貸し出し料金を算出する（ステップＳ１０８）。サーバ装置５０は、貸し出し料金を端末装置８０へと送信する（ステップＳ１１０）。端末装置８０は、貸し出し料金を受信して（ステップＳ１１２）、貸し出し料金を表示する（ステップＳ１１４）。ユーザが、貸し出しを決定する旨を端末装置８０に入力する（ステップＳ１１６）。端末装置８０は、貸し出し決定通知をサーバ装置５０へ送信する（ステップＳ１１８）。サーバ装置５０は、貸し出し決定通知を受信して（ステップＳ１２０）、貸し出し料金に基づいた請求書を印刷する（ステップＳ１２２）。サーバ装置５０は、貸し出し決定通知を受信した際、あるいは管理者などが発光装置の貸し出しを実行した旨をサーバ装置５０に入力した際に、貸し出しデータベース５７−１や、在庫データベース５７−２などを更新する（ステップＳ１２４）。
【０１３５】
＜サーバ装置５０における貸し出し受付処理＞
次に、本実施の形態に係るサーバ装置５０における貸し出し受付処理について説明する。図２４は、本実施の形態に係るサーバ装置５０における貸し出し受付処理の処理手順を示すフローチャートである。
【０１３６】
図２４に示すように、端末装置８０からフォームデータの要求を受け取ると（ステップＳ２０２にてＹＥＳの場合）、ＣＰＵ５５はサーバ送受信部５９を介してフォームデータを端末装置８０へと送信する（ステップＳ２０４）。ＣＰＵ５５は、サーバ送受信部５９を介して端末装置８０から貸し出し要求を受け付けて（ステップＳ２０６）、貸し出し要求から発光装置の種類や貸し出し期間を取得する。ＣＰＵ５５は、発光装置の種類に基づいて貸し出しデータベース５７−１から貸し出し単価を読み出す（ステップＳ２０８）。このとき、たとえば、ＣＰＵ５５は、前回の支払日から今回の支払日までの日数を、貸し出し期間として計算する。そして、ＣＰＵ５５は、貸し出し単価と貸し出し期間とから貸し出し料金を算出し（ステップＳ２１０）、サーバ送受信部５９を介して貸し出し料金を端末装置８０へと送信する（ステップＳ２１２）。
【０１３７】
その後、ＣＰＵ５５は、サーバ送受信部５９を介して端末装置８０から貸し出し決定通知を受け付けて（ステップＳ２１４）、あるいは管理者などがサーバ操作部５３−１やサーバ読取部６５−１を介して貸し出しを実行した旨をサーバ装置５０に入力した際に、貸し出しデータベース５７−１や在庫データベース５７−２を更新する（ステップＳ２１６、以下このステップを在庫管理処理という。）。
【０１３８】
＜サーバ装置５０における在庫データベース更新処理＞
次に、本実施の形態に係るサーバ装置５０における在庫データベース更新処理について説明する。図２５は、本実施の形態に係るサーバ装置５０における在庫データベース更新処理の処理手順を示すフローチャートである。
【０１３９】
図２５に示すように、たとえば、新たな発光装置が製造されたり、古い発光装置が廃棄されたりした場合などのように、管理者などがサーバ操作部５３−１やサーバ読取部６５−１を介して在庫データベース５７−２の製造個数の累積数を更新する（増減させる）と（ステップＳ３０２にてＹＥＳの場合）、ＣＰＵ５５は、予め設定されている適正在庫率に基づいて在庫データベース５７−２の適正在庫数を更新する（ステップＳ３０４）。より詳細には、ＣＰＵ５５は、下記の式に基づいて適正在庫数を計算する。
適正在庫数＝製造個数の累積数×適正在庫率・・・（数１）
また、ＣＰＵ５５は、製造個数の累積数と在庫率に基づいて在庫データベース５７−２の在庫率を更新する（ステップＳ３０６）。より詳細には、ＣＰＵ５５は、下記の式に基づいて在庫率を更新する。
在庫率＝在庫数／製造個数の累積数・・・（数２）
また、ＣＰＵ５５は、適正在庫数と在庫数に基づいて在庫データベース５７−２の不足数を更新する（ステップＳ３０８）。より詳細には、ＣＰＵ５５は、下記の式に基づいて在庫率を更新する。
不足数＝適正在庫数−在庫数・・・（数３）
このように、本実施のサーバ装置５０は製造個数の累積数が変更された際に即座に不足数を計算するので、サーバ装置５０の管理者は製造個数の累積数が変更された際に即座に不足数を把握できる。なお、製造個数の累積数が変更された場合について説明を行ったが、サーバ装置５０のＣＰＵ５５は、貸し出し数や在庫数や適正在庫率などが変更された場合についても上記同様の処理を行なうため、ここでは説明を繰り返さない。
【０１４０】
＜サーバ装置５０における在庫管理処理＞
次に、本実施の形態に係るサーバ装置５０における在庫管理処理（ステップＳ２０６）について説明する。図２６は、本実施の形態に係るサーバ装置５０における在庫管理処理（ステップＳ２０６）の処理手順を示すフローチャートである。
【０１４１】
図２６に示すように、サーバ装置５０に、発光装置の識別情報を含む発光装置の貸し出し／返却に関する情報が入力されると（ステップＳ４０２）、貸し出しデータベース５７−１が更新される（ステップＳ４０４）。より詳細には、ＣＰＵ５５が、識別情報と貸出日／返却日とを受け付けて、貸し出しデータベース５７−１におけるその識別情報を有する発光装置に関する貸出日／返却日を更新する。
【０１４２】
ＣＰＵ５５は、在庫データベース５７−２の在庫数を更新する（増減させる）（ステップＳ４０６）。ＣＰＵ５５は、適正在庫率に基づいて在庫データベース５７−２の適正在庫数を更新する（ステップＳ４０８）。また、ＣＰＵ５５は、製造個数の累積数と在庫数とに基づいて在庫データベース５７−２の不足数を更新する（ステップＳ４１０）。そして、図２１に示すように、ＣＰＵ５５は、在庫データベースの在庫数や不足数の推移を示す在庫グラフを生成し（ステップＳ４１２）、サーバ表示部５２−１を介して在庫グラフを表示する（ステップＳ４１４）。
【０１４３】
＜サーバ装置５０における寿命表示処理＞
次に、本実施の形態に係るサーバ装置５０における寿命表示処理について説明する。図２７は、本実施の形態に係るサーバ装置５０における寿命表示処理の処理手順を示すフローチャートである。
【０１４４】
図２７に示すように、ＣＰＵ５５が、サーバ操作部５３−１を介して出力命令を受け付けると（ステップＳ５０２）、耐久データベース５７−３からユーザが所望している発光装置の型式に関する、発光装置の製造方法別の貸出合計期間の分布が読み出される（ステップＳ５０４）。ＣＰＵ５５は、発光装置の製造方法別の貸出合計期間の分布に基づいて、製造方法毎に貸出合計期間と発光装置の個数との関係を示すグラフを生成し（ステップＳ５０６）、図２２に示すように、サーバ表示部５２−１を介してそのグラフを表示する（ステップＳ５０８）。
【０１４５】
＜その他の実施の形態＞
本発明は、システム或いは装置にプログラムを供給することによって達成される場合にも適用できることはいうまでもない。そして、本発明を達成するためのソフトウェアによって表されるプログラムを格納した記憶媒体を、システム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ）が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読出し実行することによっても、本発明の効果を享受することが可能となる。
【０１４６】
この場合、記憶媒体から読出されたプログラムコード自体が前述した実施の形態の機能を実現することになり、そのプログラムコードを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。
【０１４７】
プログラムコードを供給するための記憶媒体としては、例えば、フロッピディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、磁気テープ、不揮発性のメモリカード（ＩＣメモリカード）、ＲＯＭ（マスクＲＯＭ、フラッシュＥＥＰＲＯＭなど）などを用いることができる。
【０１４８】
また、コンピュータが読出したプログラムコードを実行することにより、前述した実施の形態の機能が実現されるだけでなく、そのプログラムコードの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳ（オペレーティングシステム）などが実際の処理の一部または全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現される場合も含まれることは言うまでもない。
【０１４９】
さらに、記憶媒体から読み出されたプログラムコードが、コンピュータに挿入された機能拡張ボードやコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに書き込まれた後、そのプログラムコードの指示に基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わるＣＰＵなどが実際の処理の一部または全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現される場合も含まれることは言うまでもない。
【０１５０】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【０１５１】
本発明は、電界が印加されることにより発光することができる有機物層を有する発光装置、その発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置、およびその発光装置の再生産方法に特に有利に適用され得る。
【図面の簡単な説明】
【０１５２】
【図１】本発明の実施の形態１における発光装置の構成を概略的に示す外観図である。
【図２】本発明の実施の形態１における発光装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第１工程を示す概略的な断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第２工程を示す概略的な断面図である。
【図５】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第３工程を示す概略的な断面図である。
【図６】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第４工程を示す概略的な断面図である。
【図７】本発明の実施の形態１における発光装置の再生産方法の第５工程を示す概略的な断面図である。
【図８】本発明の実施の形態２における発光装置の再生産方法の第１工程を示す概略的な断面図である。
【図９】本発明の実施の形態２における発光装置の再生産方法の第２工程を示す概略的な断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態３における発光装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態３における発光装置の再生産方法の第１工程を示す概略的な断面図である。
【図１２】本発明の実施の形態３における発光装置の再生産方法の第２工程を示す概略的な断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態４における発光装置の再生産方法の第１工程を示す概略的な断面図である。
【図１４】本発明の実施の形態４における発光装置の再生産方法の第２工程を示す概略的な断面図である。
【図１５】実施の形態５に係る貸し出し管理システムの全体構成を示す概略図である。
【図１６】実施の形態５に係るサーバ装置（端末装置、中継装置）のハードウェア構成を示す制御ブロック図である。
【図１７】実施の形態５に係る貸し出し管理システムの機能構成を示す機能ブロック図である。
【図１８】貸し出しデータベースに格納される貸し出し管理ファイルのデータ構造を示すイメージ図である。
【図１９】在庫データベースに格納される在庫管理ファイルのデータ構造を示すイメージ図である。
【図２０】耐久データベースに格納される耐久管理ファイルのデータ構造を示すイメージ図である。
【図２１】在庫数および不足数の推移を示すグラフである。
【図２２】製造方法別の貸し出し合計期間の分布を示すグラフである。
【図２３】貸し出し管理システムにおける貸し出し処理を示すシーケンス図である。
【図２４】サーバ装置における貸し出し受付処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図２５】サーバ装置における在庫データベース更新処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図２６】サーバ装置における在庫管理処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図２７】サーバ装置における寿命表示処理の処理手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【０１５３】
ＯＬ，ＯＬＰ 有機物層、ＩＧ 不活性ガス、１ 円筒管（基材）、１Ｐ 基板、２ 固定冶具、３ 回転導入器、４ａ 回転モータ、５ 真空容器、８ｂ 固体原料、９ｖ 坩堝、１０ ヒータ、１１ 直線駆動機構、１２，１２Ｐ 有機ＥＬ素子、１２ａ，１２Ｐａ 保護層、１２ｂ，１２Ｐｂ 透明陽極層、１２ｃ〜１２ｆ，１２Ｐｃ〜１２Ｐｆ 第１〜第４の層、１２ｇ，１２Ｐｇ 陰極層、３１ 酸溶液、３５ 炭化水素系洗浄溶剤、４０ 貸し出し管理システム、５０ サーバ装置、５２−１ サーバ表示部、５３−１ サーバ操作部、５５，８５ ＣＰＵ、５５−１ サーバ制御部、５６，８６ メモリ、５７，８７ 固定ディスク、５７−１ 貸し出しデータベース、５７−１ａ，５７−１ｂ 貸し出し管理ファイル、５７−２ 在庫データベース、５７−２ａ，５７−２ｂ 在庫管理ファイル、５７−３ 耐久データベース、５７−３ａ，５７−３ｂ 耐久管理ファイル、５８ 内部バス、５９，８９ 通信インターフェイス、５９−１ サーバ送受信部、６５，９５ バーコードリーダ、６５−１ サーバ読取部、６７，９７ プリンタ、６７−１ サーバ印刷部、７０ａ，７０ｂ，７０ｃ ネットワーク、７１ａ，７１ｂ 中継サーバ、８０，８０ａ，８０ｂ 端末装置、８２−１ 端末表示部、８３−１ 端末操作部、８５−１ 端末制御部、８９−１ 端末送受信部、９５−１ 端末読取部、１００Ｖ 成膜装置、１０３ バーコード、１１０，１１０Ｐ 封止部、１２４ Ｏリング、５０１ 接着剤部。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性を有する基材と、
前記基材上に設けられ、透光性を有する第１電極層と、
前記第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、
前記有機物層上に設けられた第２電極層と、
前記有機物層と前記第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、前記基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた、発光装置。
【請求項２】
前記第１電極層は導電性の酸化物層を含む、請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記基材は管形状を有する、請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記基材は平板形状を有する、請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の複数種類の発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置であって、
少なくとも１つの端末装置とネットワークを介して接続可能な送受信部と、
貸し出し単価を発光装置の種類に対応付けて格納する第１のデータベースと、
前記端末装置からの発光装置の種類と貸し出し期間とを含む貸し出し要求を受け付けて、前記第１のデータベースを参照して貸し出し料金を算出し、前記貸し出し料金を前記端末装置へ返信する制御部とを備える、サーバ装置。
【請求項６】
前記発光装置の種類毎に、貸し出し可能総数と、貸し出し数と、前記貸し出し可能総数から前記貸し出し数を減じた在庫数と、所定の適正在庫数と、前記適正在庫数から前記在庫数を減じた不足数とを格納する第２のデータベースをさらに備え、
前記制御部は、前記製造個数と前記貸し出し数と前記在庫数の少なくともいずれかの変更命令を受け付けて、当該変更命令に基づいて前記第２のデータベースを更新する、請求項５に記載のサーバ装置。
【請求項７】
前記第１のデータベースは、前記発光装置毎に貸し出し期間と発光装置の種類とを格納し、
前記制御部は、
前記第１のデータベースを参照して、前記発光装置毎の貸し出し合計期間を計算し、
前記発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、前記発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を計算し、
前記発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を格納する第３のデータベースをさらに備える、請求項５または６に記載のサーバ装置。
【請求項８】
透光性を有する基材と、前記基材上に設けられ、透光性を有する第１電極層と、前記第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、前記有機物層上に設けられた第２電極層と、前記有機物層と前記第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、前記基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた発光装置の再生産方法であって、
前記封止部を取り外す工程と、
前記封止部を取り外す工程の後に、前記第２電極層を除去する工程と、
前記第２電極層を除去する工程の後に、前記有機物層を除去する工程とを備えた、発光装置の再生産方法。
【請求項９】
前記第２電極層は金属層を含み、
前記第２電極層を除去する工程は、酸溶液で前記第２電極層をエッチングする工程と、有機ガス系プラズマおよびハロゲン系プラズマの少なくともいずれかで前記第２電極層をエッチングする工程との少なくともいずれかを含む、請求項８に記載の発光装置の再生産方法。
【請求項１０】
前記第１電極層は酸化物層を含み、
前記有機物層を除去する工程は、炭化水素系溶剤および高温純水の少なくともいずれかで前記有機物層をエッチングする工程と、酸素プラズマで前記有機物層をアッシングする工程との少なくともいずれかを含む、請求項８または９に記載の発光装置の再生産方法。
【請求項１１】
前記有機物層を除去する工程の後に、前記第１電極層の表面を研磨する工程をさらに備えた、請求項８〜１０のいずれかに記載の発光装置の再生産方法。
【請求項１】
透光性を有する基材と、
前記基材上に設けられ、透光性を有する第１電極層と、
前記第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、
前記有機物層上に設けられた第２電極層と、
前記有機物層と前記第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、前記基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた、発光装置。
【請求項２】
前記第１電極層は導電性の酸化物層を含む、請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記基材は管形状を有する、請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記基材は平板形状を有する、請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の複数種類の発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置であって、
少なくとも１つの端末装置とネットワークを介して接続可能な送受信部と、
貸し出し単価を発光装置の種類に対応付けて格納する第１のデータベースと、
前記端末装置からの発光装置の種類と貸し出し期間とを含む貸し出し要求を受け付けて、前記第１のデータベースを参照して貸し出し料金を算出し、前記貸し出し料金を前記端末装置へ返信する制御部とを備える、サーバ装置。
【請求項６】
前記発光装置の種類毎に、貸し出し可能総数と、貸し出し数と、前記貸し出し可能総数から前記貸し出し数を減じた在庫数と、所定の適正在庫数と、前記適正在庫数から前記在庫数を減じた不足数とを格納する第２のデータベースをさらに備え、
前記制御部は、前記製造個数と前記貸し出し数と前記在庫数の少なくともいずれかの変更命令を受け付けて、当該変更命令に基づいて前記第２のデータベースを更新する、請求項５に記載のサーバ装置。
【請求項７】
前記第１のデータベースは、前記発光装置毎に貸し出し期間と発光装置の種類とを格納し、
前記制御部は、
前記第１のデータベースを参照して、前記発光装置毎の貸し出し合計期間を計算し、
前記発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、前記発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を計算し、
前記発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を格納する第３のデータベースをさらに備える、請求項５または６に記載のサーバ装置。
【請求項８】
透光性を有する基材と、前記基材上に設けられ、透光性を有する第１電極層と、前記第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、前記有機物層上に設けられた第２電極層と、前記有機物層と前記第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、前記基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた発光装置の再生産方法であって、
前記封止部を取り外す工程と、
前記封止部を取り外す工程の後に、前記第２電極層を除去する工程と、
前記第２電極層を除去する工程の後に、前記有機物層を除去する工程とを備えた、発光装置の再生産方法。
【請求項９】
前記第２電極層は金属層を含み、
前記第２電極層を除去する工程は、酸溶液で前記第２電極層をエッチングする工程と、有機ガス系プラズマおよびハロゲン系プラズマの少なくともいずれかで前記第２電極層をエッチングする工程との少なくともいずれかを含む、請求項８に記載の発光装置の再生産方法。
【請求項１０】
前記第１電極層は酸化物層を含み、
前記有機物層を除去する工程は、炭化水素系溶剤および高温純水の少なくともいずれかで前記有機物層をエッチングする工程と、酸素プラズマで前記有機物層をアッシングする工程との少なくともいずれかを含む、請求項８または９に記載の発光装置の再生産方法。
【請求項１１】
前記有機物層を除去する工程の後に、前記第１電極層の表面を研磨する工程をさらに備えた、請求項８〜１０のいずれかに記載の発光装置の再生産方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【公開番号】特開２００９−２０６００９（Ｐ２００９−２０６００９Ａ）
【公開日】平成２１年９月１０日（２００９．９．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−４９１０４（Ｐ２００８−４９１０４）
【出願日】平成２０年２月２９日（２００８．２．２９）
【出願人】（５０８０１６６６４）フジテック・インターナショナル株式会社 (7)
【出願人】（５９９０４８６６１）有限会社マイクロシステム (9)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年９月１０日（２００９．９．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年２月２９日（２００８．２．２９）
【出願人】（５０８０１６６６４）フジテック・インターナショナル株式会社 (7)
【出願人】（５９９０４８６６１）有限会社マイクロシステム (9)
【Ｆターム（参考）】
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