磁気ディスク基板及びその製造方法並びに磁気ディスク及びその製造方法
【課題】磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で磁気記録層に不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いることを回避してコストの削減を図ること。
【解決手段】磁気ディスク基板の欠陥検査工程で得られたＮＧ面情報を磁気ディスク基板に描画して後の成膜工程で判別できるようにする。または、収納カセット容器４に記録面情報又は非記録面情報を記載して後の成膜工程で判別できるようにする。成膜工程では予め使用しないと判っている基板面（非記録面）に対して、高価な材料を使用する膜を成膜しないことで、コストを下げる。
【解決手段】磁気ディスク基板の欠陥検査工程で得られたＮＧ面情報を磁気ディスク基板に描画して後の成膜工程で判別できるようにする。または、収納カセット容器４に記録面情報又は非記録面情報を記載して後の成膜工程で判別できるようにする。成膜工程では予め使用しないと判っている基板面（非記録面）に対して、高価な材料を使用する膜を成膜しないことで、コストを下げる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクドライブ（以下、「ＨＤＤ」という）の磁気ディスクに用いられる磁気ディスク基板及びその製造方法並びにその磁気ディスク基板を用いた磁気ディスク及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にＨＤＤは、ディスク状のアルミニウム基板又はガラス基板の表面に磁性体薄膜からなる磁気記録層を有した磁気ディスクと、磁気ディスクを高速で回転させるスピンドルモータと、スイングアームの先端に取り付けられ磁気ディスクの磁気記録層に磁気データを読み書きする磁気ヘッドと、磁気ヘッドを磁気ディスク上の半径方向に移動する位置決め装置とを主な構成要素としている。磁気ディスクの両主表面に形成された磁気記録層に対してそれぞれ磁気ヘッドが対向配置されるので、１つの磁気ディスクにつき２つの磁気ヘッドを備えている。
【０００３】
磁気ディスクは、磁気ディスク基板の両主表面に下地層、磁性層、保護層、潤滑層を順次積層した構成を有している。磁気記録層となる磁性層は、六方細密充填構造（ｈｃｐ構造）の合金層からなる強磁性層であり、ＣｏＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金等の高価な材料が含まれる。
【０００４】
磁気ディスク基板の製造工程では、研磨、洗浄等の工程の後に、基板の両主表面について欠陥検査を行っている。欠陥検査で検出された欠陥の大きさ、個数等が所定スペック内に収まっているか否か判別する。一方の主表面だけでもスペックに収まらない欠陥が検出された磁気ディスク基板は最終製品の対象としないで製造工程から取り除かれる。
【０００５】
一方で、最近はディスク容量が拡大されてきたので、高価な磁気ヘッドは磁気ディスクの片側にだけ設置し、磁気ディスクの片側の磁気記録層に対してだけ磁気データを読み書きするＨＤＤが登場している。磁気ディスクの片側の磁気記録層だけを使用するのであれば、検査工程で一方の主表面だけにスペックに収まらない欠陥が検出された磁気ディスク基板であても最終製品として使用することができる。これにより、高価な磁気ヘッドの個数を減らすと共に、片側の主表面に欠陥が検出された磁気ディスク基板を有効活用することで、ＨＤＤの低コスト化を図ることができる。
【特許文献１】特開２００１−２４３７３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、片側の主表面に欠陥が検出された磁気ディスク基板を製品として使用する場合であっても、成膜工程では磁気ディスク基板の両主表面に磁気記録層を成膜している。磁気ディスクの磁気記録層となる磁性層は、ＣｏＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金等の高価な材料が用いられるので、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いて成膜することはコスト面からみて無駄である。
【０００７】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で記録面として不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、コストの削減を図ることのできる磁気ディスク基板及びその製造方法並びに磁気ディスク及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、予め使用しないと判っている基板面（非記録面）に対して、高価な材料を使用する膜を成膜しないことで、コストを下げることができることを見出し、このようなことで実現できるシステムを構築することで、本発明を完成するに至った。
【０００９】
本発明の磁気ディスク基板の製造方法は、磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程を備えた磁気ディスク基板の製造方法であって、一方の主表面が前記条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板に対して、前記他方の主表面に判別可能な情報を付すことを特徴とする。
【００１０】
この製造方法によれば、一方の主表面が記録層形成の条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板に対して、前記他方の主表面に判別可能な情報を付すことにより、後の成膜工程では磁気ディスク基板に付された情報から記録面と非記録面とを判別でき、非記録面に記録面と異なる安価な材料で成膜する制御が可能になる。
【００１１】
また本発明の磁気ディスク基板の製造方法は、磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程と、少なくとも一方の主表面が前記条件を満たす複数の磁気ディスク基板を前記条件の満たされた主表面が同一方向を向くように出荷容器に収納して梱包する梱包工程とを備え、どちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報が前記出荷容器に付された状態で後の成膜工程へ送られることを特徴とする。
【００１２】
この製造方法によれば、記録面情報又は非記録面情報が出荷容器に付された状態で後の成膜工程へ送られることとしたので、後の成膜工程では出荷容器に付された情報から記録面と非記録面とを判別でき、非記録面に記録面と異なる安価な材料で成膜する制御が可能になる。
【００１３】
また本発明の磁気ディスク基板の製造方法は、磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程と、少なくとも一方の主表面が前記条件を満たす複数の磁気ディスク基板を前記条件の満たされた主表面が同一方向を向くように出荷容器に収納して梱包する梱包工程とを備え、前記出荷容器と、どちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報とを予め対応付け、前記磁気ディスク又は前記出荷容器に情報を直接付すことなく、前記記録面情報又は前記非記録面情報を後の成膜工程へ送ることを特徴とする。
【００１４】
この製造方法によれば、出荷容器と記録面情報又は前記非記録面情報とを予め対応付け、後の成膜工程へ送ることとしたので、後の成膜工程では出荷容器に対応付けられた情報から記録面と非記録面とを判別でき、非記録面に記録面と異なる安価な材料で成膜する制御が可能になる。
【００１５】
また本発明の磁気ディスク基板は、一方の主表面に記録層が形成される磁気ディスク基板であって、記録層形成の条件を満たしていない主表面に、記録面でないことを示す情報が付されたことを特徴とする。
【００１６】
この磁気ディスク基板によれば、記録層形成の条件を満たしていない主表面に、記録面でないことを示す情報が付されているので、後の成膜工程では磁気ディスク基板に付された情報から記録面と非記録面とを判別でき、非記録面に記録面と異なる安価な材料で成膜する制御が可能になる。
【００１７】
また本発明の磁気ディスクの製造方法は、磁気ディスク基板の両主表面のうちどちらの主表面が記録面又は非記録面であるかを把握する把握工程と、前記把握工程で把握した記録面側に記録層を成膜し、非記録面側に両主表面の膜応力を均衡させるダミー層を成膜する成膜工程とを具備したことを特徴とする。
【００１８】
この製造方法によれば、磁気ディスク基板の両主表面のうちどちらの主表面が記録面であるかを把握するので、記録面側に記録層を成膜し、非記録面側に両主表面の膜応力を均衡させるダミー層を成膜する制御が可能になる。
【００１９】
上記磁気ディスクの製造方法において、把握工程では、前記磁気ディスク基板の主表面に付された情報から記録面とすべき主表面を判定するようにすることができる。又は、複数の磁気ディスク基板を収納した出荷容器に付された記録面情報又は前記非記録面情報から記録面とすべき主表面を判定するようにすることができる。或いは、複数の磁気ディスク基板を収納した出荷容器と対応付けられた情報であってどちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報を、当該磁気ディスク基板が収納されていた出荷容器との関係から求めるようにしても良い。
【００２０】
また上記磁気ディスクの製造方法において、成膜工程は、前記記録層よりも安価な材料を用いてダミー層を成膜することを特徴とする。これにより、初めから使用しないと判っている非記録面に記録面と同じ高価な材料の膜を成膜しないので、コスト削減を図ることができる。
【００２１】
また本発明の磁気ディスクは、一方の主表面が記録層形成の条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板と、前記磁気ディスク基板の前記条件を満たした一方の主表面に形成された記録層と、前記磁気ディスク基板の前記条件を満たさない他方の主表面に形成され両主表面の膜応力を均衡させるダミー層とを具備したことを特徴とする。
【００２２】
これにより、初めから使用しないと判っている非記録面に記録面と同じ高価な材料の膜を成膜しないで、両主表面の膜応力を均衡させるダミー層を設けたので、磁気ディスクの両主表面の膜応力の不均衡を防止できると共にコスト削減を図ることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で磁気記録層に不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いることを回避してコストの削減を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の一実施の形態として磁気ディスク基板の製造工程及びその磁気ディスク基板に成膜する成膜工程について説明する。以下の説明では、磁気ディスク基板としてガラス基板を用いた例について説明するが、本発明はガラス基板に限らず、アルミニウム基板をはじめとする他の磁気ディスク用ガラス基板にも適用可能である。
【００２５】
ガラス基板の製造工程は、素材を研削して板厚を揃える研削工程、ガラス基板の表面を研磨して基板表面のうねり及び表面粗さを解消する研磨工程、ガラス基板を化学強化する化学強化工程、ガラス基板に付着するごみ及びガラス基板の粗さを制御する洗浄工程、ガラス基板表面の欠陥を検査する欠陥検査工程、最終検査の終了したガラス基板を収納カセットに収納して梱包する梱包工程などで構成されている。
【００２６】
上記研削工程では、素材がディスク状をなすプレスガラスの場合は所定の板厚になるように両面を研削する。研削方法は、上定盤と下定盤とでガラス基板を挟み、上定盤と下定盤とを逆方向に回転させることでガラス基板の表面を研削する。素材がシートガラスの場合は板厚及び平坦度がプレスガラスよりも優れているので、プレスガラスの場合のような研削は不要な場合もあるが、所定寸法（ＩＤ，ＯＤ）のディスク状にガラス基板を切り出すカッティング作業が発生する。さらに、ガラス基板の中心部に穴を開けると共に、ディスク端面の面取り及び研磨を行う。
【００２７】
上記研磨工程では、上定盤と下定盤とにそれぞれ研磨パッドを取り付け、上定盤と下定盤とでガラス基板を挟み、研磨を行う。第１研磨では、比較的硬いパッド（例えば、ウレタン）を用いて、ガラス基板の端部形状、凹凸、及び大きなうねりを平坦にする。第２の研磨では、比較的軟らかいパッド（例えば、発泡ポリウレタン）を用いて、ガラス基板の表面粗さ、小さなうねりを平坦にする。第２の研磨では表面粗さＲａを０．２〜０．３ｎｍにすることを目標にする。
【００２８】
上記化学強化工程では、ガラス基板の表面に存在するイオン（例えば、アルミノシリケートガラス使用の場合、Ｌｉ＋及びＮａ＋）よりもイオン半径の大きなイオン（Ｎａ＋及びＫ＋）にイオン交換する。ガラス基板の表面において（例えば、ガラス基板表面から約５μｍまで）、イオン半径の大きい原子とイオン交換を行って、ガラス表面に圧縮応力を与えることでガラス基板の剛性を上げている。
【００２９】
上記洗浄工程では、ガラス基板の表面に研磨材や不純物が付着しているので、これらを除去するための洗浄を行う。洗浄方法には、物理的洗浄と薬液洗浄とがある。物理的洗浄としてスクラブ洗浄と超音波洗浄とがある。薬液洗浄としてガラス基板をエッチングすることによる洗浄、ガラス基板に付着している不純物および研磨材を溶かす薬液を使用した洗浄、界面活性剤を用いて電位を制御することによる洗浄がある。研削工程から第１研磨および第2研磨までの各工程間の洗浄工程では、薬液洗浄＋超音波洗浄が用いられる。
【００３０】
上記欠陥検査工程では、全数検査と抜き取り検査とがある。全数検査できるものは全数検査するが、全数検査できないものは抜き取り検査することになる。検査対象の欠陥種として、キズ、汚れ（パーティクル）、素材要因、形状変化がある。クリーンルーム内において、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて、ガラス基板の表面の状態検査、ＩＤ，ＯＤの面取り角の測定、真円度、同心度の測定等を実施する。第２研磨した後の洗浄後には、ガラス基板をクリーンルームに搬入してビジュアル検査を行う。このとき、ガラス基板に対して、クラックの有無、ゴミの付着、カケ、ワレの有無、研磨材の有無等が検査される。化学強化した後の洗浄後にも、同様のビジュアル検査を行う。このような欠陥検査工程により、ガラス基板の両主表面について、記録面を形成するためのスペックを満足しているか否について判定される。スペックを満足していれば「ＯＫ面」、スペックを満足しなければ「ＮＧ面」と判断される。両主表面が「ＮＧ面」と判断されたガラス基板は最終製品の対象から除外されるが、片側だけが「ＮＧ面」と判断されたガラス基板は最終製品の対象として後の成膜工程へ送られる。
【００３１】
図１は欠陥検査工程で「ＮＧ面」と判断されたガラス基板のＮＧ面に対して後の工程で判別可能な情報を付して収納カセットに収納する工程を示す概念図である。欠陥検査工程において一方の主表面がスペックを満足したが、他方の主表面がスペックを満足せずに「ＮＧ面」と判定されたガラス基板１については、当該ＮＧ面１ａに対してレーザマーカ２によってスペックを満たさないことを判別するための情報としてＮＧ面３の文字が描画される。これにより、後の成膜工程においてガラス基板１の記録面又は非記録面を判別することができる。なお、本発明はレーザマーカ２によりガラス基板１に対して物理的にIndex情報を付する方式に限定されるものではなく、ガラス基板１に対して磁気的/電気的/化学的な手法によりマーキングするようにしても良い。また、基板に対してマーキングしなくてもOK/NG面の識別が可能であれば、マーキングは必ずしも必要ない。
【００３２】
梱包工程では、欠陥検査工程で少なくとも片側が「ＯＫ面」であると判別されたガラス基板１が収納カセット容器４に収納される。収納カセット容器４にはカセット内に収納されているガラス基板を管理するためのバーコード情報５が付けられる。管理装置６は、欠陥検査工程で取得された各ガラス基板についての欠陥検査結果、シリアル番号等を含む管理情報を取り込む。管理装置６は、収納カセット容器４に収納されたガラス基板とその管理情報とを紐づけるバーコード情報を生成し、バーコードプリンタ７からシール用紙にバーコードを印刷する。このプリントアウトされたバーコード情報５のシールを収納カセット容器４に貼付する。また、管理装置６は、収納カセット容器４に収納されたガラス基板の管理情報を磁気ディスク情報管理サーバ８へ送信して、サーバにて一元管理する。
【００３３】
なお、以上の説明では、ガラス基板１のＮＧ面１ａに直接的にＮＧ面３と描画しているが、後の成膜工程で記録面又は非記録面の判別がつけば良いので、ガラス基板１に直接描画する以外の方法でガラス基板１とその記録面情報又は非記録面情報と対応付けて成膜工程へ伝えるようにしても良い。
【００３４】
図２に示すように、収納カセット容器４に欠陥検査工程において「ＯＫ面」であると判別された記録面側を一方向（図では左方向）に向けて収納する。収納カセット容器４の表面には記録面側と非記録面側とが判別できるように、「記録面側」１１ａ、「非記録面側」１１ｂの表記を行う。これにより、収納カセット容器４が搬入された成膜工程側では記録面又は非記録面を判別することができる。
【００３５】
また、収納カセット容器４の表面に「記録面側」１１ａ、「非記録面側」１１ｂの表記を行なわなくても、ガラス基板の第１面と第２面とが区別できる場合には、図３（ａ）に示すように第１面は記録面であることを示す用紙１２を収納カセット容器４に添付すればよい。又は図３（ｂ）に示すように第２面は非記録面であることを示す用紙１３を収納カセット容器４に添付すればよい。或いは、収納カセット容器４の一方をＡ側とし、他方をＢ側として特定できる場合は、図３（ｃ）に示すようにＡ側は記録面、Ｂ側は非記録面と表記した用紙１４を添付するようにしても良い。
【００３６】
さらに、磁気ディスク情報管理サーバ８においてガラス基板１の記録面及び又は非記録面情報を管理しており、バーコード情報５とガラス基板１とを対応付けておくことにより磁気ディスク情報管理サーバ８にアクセスしてバーコード情報５からガラス基板１の記録面及び又は非記録面情報を取得するようにしても良い。
【００３７】
次に、上記磁気ディスク基板１に成膜して磁気ディスクを作製する成膜工程について説明する。
【００３８】
図４は成膜工程で用いられる磁気記録媒体作成用スパッタリング装置の概略図である。同図に示すスパッタリング装置は、搬送装置にセットされたガラス基板が連続的に移動しながら基板両主表面に同時に連続的にスパッタ成膜されるインライン方式のスパッタリング装置である。図４に示すスパッタリング装置２０は、エントランスチャンバー２１、ヒーティングチャンバー２２、第１のスパッターチャンバー２３、ヒーティングチャンバー２４、第２のスパッターチャンバー２５、ヒーティングチャンバー２６、第３のスパッターチャンバー２７及びエグジットチャンバー２８で構成されている。
【００３９】
エントランスチャンバー２１及びエグジットチャンバー２８には、ロックバルブ３１、３２を備えており、ガラス基板１及び成膜された基板３０を挿脱できるように構成されている。エントランスチャンバー２１にはガラス基板１がローダ３３によって挿入される。
【００４０】
ヒーティングチャンバー２２、２４、２６は、各スパッターチャンバー２３、２５、２７の直前に設けられている。なお、ヒーティングチャンバー２２、２４、２６と一体として設けられるトランスファーチャンバー、バッファリングチャンバー、スリットヒータ等は図示していない。
【００４１】
第１のスパッターチャンバー２３では、少なくとも基板の記録面に金属膜で形成される下地層を成膜する。下地層はこの上に成膜される各層の結晶粒子を微細化及び均一化させる機能を持たせたり（シード層）、各層の結晶配向を制御する機能を持たせたりする（配向制御層）。本例では、第１のスパッターチャンバー２３内には基板移動経路の両側にターゲットＡを配置する。ターゲットＡは、ｈｃｐ構造であればＣｏＣｒを用いることができる。この場合、基板の記録面及び非記録面の双方に下地層が成膜される。
【００４２】
第２のスパッターチャンバー２５では、基板の記録面に対して磁気ヘッドによる磁化反転パターンを記録する機能を有する磁性層を成膜し、当該基板の非記録面（ＮＧ面）に対してダミー層を成膜する。第２のスパッターチャンバー２５内には基板移動経路の一方の側に磁性層を成膜するためのターゲットＢが配置され、反対側にはダミー層を成膜するためのターゲットＣが配置されている。磁性層を成膜するためのターゲットＢは、ｈｃｐ構造であればＣｏＣｒ系合金強磁性材料が用いられ、ＣｏＣｒＰｔまたはＣｏＣｒＰｔＴａといった高価な材料が含まれる。一方、ダミー層を成膜するためのターゲットＣは、最終的に非記録面側が記録面側と同じ膜応力を実現できればよく、磁性膜のような高価な材料に代えて安価な材料を用いることができる。たとえば、Crターゲットなどを用いることができる。
【００４３】
第３のスパッターチャンバー２７では、少なくとも基板の記録面に磁性膜や磁気ヘッドを保護するための保護層を成膜する。保護層としては一般的にカーボン膜が用いられる。本例では、第３のスパッターチャンバー２７内には基板移動経路の両側にターゲットＤを配置する。保護層を成膜するターゲットＤは、カーボンを用いることができる。この場合、基板の記録面及び非記録面の双方に保護層が成膜される。
【００４４】
以上の説明では、基板の非記録面に記録面と同じターゲットＡ，Ｄで成膜しているが、基板の非記録面と記録面との膜応力を均一化できるのであれば、基板の非記録面側を成膜するためのターゲットは記録面側のターゲットと異なるものを用いてさらに低コスト化を図ることもできる。
【００４５】
エントランスチャンバー２１の入口にはローダ３３が設置されている。ローダ３３は、記録面指示装置３４からの指示にしたがってガラス基板１の記録面が所定方向を向くように配向制御して搬送装置にセットする。
【００４６】
具体的には、第２のスパッターチャンバー２５において記録面が磁性層を成膜するターゲットＢが配置されている側を向くようにガラス基板１の向きが制御される。これにより、第２のスパッターチャンバー２５において成膜する際に記録面側にターゲットＢによる磁性層が成膜されると共に、非記録面側にターゲットＣによるダミー層が成膜されることになる。
【００４７】
記録面指示装置３４は、次のいずれかの方法によってガラス基板１の記録面又は非記録面を把握することができる。たとえば、図１に示すようにＮＧ面情報３が基板表面に直接描画されているガラス基板１が搬入されて来る場合、ＣＣＤカメラなど構成される撮像装置で基板表面を撮像して画像認識し、ＮＧ面情報３の有無に対応して記録面又は非記録面を把握する。
【００４８】
また、図２に示すように収納カセット容器４に記録面側情報１１ａ、非記録面側情報１１ｂが記載されている場合は、収納カセット容器４からガラス基板１の向きを変えずに取り出してローダ３３にセットする際に作業者が記録面指示装置３４に記録面又は非記録面の向きを入力するようにしても良い。また、図３（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように収納カセット容器４に添付された用紙１２，１３，１４に記載れている記録面及び又は非記録面情報に基づいて作業者が記録面指示装置３４に記録面又は非記録面の向きを入力するようにしても良い。
【００４９】
さらに、記録面指示装置３４は、収納カセット容器４に貼付されたシールのバーコード情報５をバーコードリーダで読み込んで、磁気ディスク情報管理サーバ８に問い合わせて、当該収納カセット容器４に収納されたガラス基板の記録面及び又は非記録面情報を取得して把握するようにしても良い。
【００５０】
一方、エグジットチャンバー２８にはアンローダ３５が設置されている。アンローダ３５は、磁気記録媒体作成用スパッタリング装置２０で下地層、磁性層、保護層が形成された基板３０を、搬送装置から取り外して、スパッタリング装置２０外へ搬出する。その後、ディップ法、スプレイ法又はスピンコート法により、基板３０の保護層上に潤滑層が形成される。潤滑層にはフッ素系のパーフルオロポリエーテル化合物からなる液体潤滑剤を用いることができる。
【００５１】
以上のようにして、非記録面側に高価な材料を用いることなく記録面側と膜応力が均一化されたダミー層を成膜することができる。
【００５２】
以上の説明では、磁気記録媒体作成用スパッタリング装置２０としてインライン方式のものを用いて説明したが、成膜時には基板がターゲットに対して静止した状態でスパッタされる静止対向方式のスパッタリング装置を用いることもできる。
【００５３】
また、第２のスパッターチャンバー２５において、基板の記録面に磁性層を成膜する際に、基板の非記録面にダミー層を同時に成膜しているが、異なるスパッターチャンバーにおいて別々に成膜するように構成することもできる。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明は、磁気ディスクの片側にだけ磁気ヘッドを設けたＨＤＤに用いられる磁気ディスク基板及びその製造方法並びにその磁気ディスク基板を用いた磁気ディスク及びその製造方法に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施の形態における磁気ディスク基板の製造工程での欠陥検査工程から梱包工程に至る過程の概念図
【図２】容器に記録面情報を記述した収納カセット容器の外観図
【図３】収納カセット容器に添付される記録面情報を記載した用紙の概略図
【図４】上記実施の形態における成膜工程で用いられるスパッタリング装置の概念図
【符号の説明】
【００５６】
１…ガラス基板、１ａ…ＮＧ面、２…レーザマーカ、３…ＮＧ面（表記文字）、４…収納カセット容器、５…バーコード情報、６…管理装置、７…バーコードプリンタ、８…磁気ディスク情報管理サーバ、１１ａ…記録面側（表記文字）、１１ｂ…非記録面側（表記文字）、１２，１３，１４…用紙、２０…磁気記録媒体作成用スパッタリング装置、２１…エントランスチャンバー、２２…ヒーティングチャンバー、２３…第１のスパッターチャンバー、２４…ヒーティングチャンバー、２５…第２のスパッターチャンバー、２６…ヒーティングチャンバー、２７…第３のスパッターチャンバー、２８…エグジットチャンバー、３０…基板、３１、３２…ロックバルブ、３３…ローダ、３４…記録面指示装置、３５…アンローダ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクドライブ（以下、「ＨＤＤ」という）の磁気ディスクに用いられる磁気ディスク基板及びその製造方法並びにその磁気ディスク基板を用いた磁気ディスク及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にＨＤＤは、ディスク状のアルミニウム基板又はガラス基板の表面に磁性体薄膜からなる磁気記録層を有した磁気ディスクと、磁気ディスクを高速で回転させるスピンドルモータと、スイングアームの先端に取り付けられ磁気ディスクの磁気記録層に磁気データを読み書きする磁気ヘッドと、磁気ヘッドを磁気ディスク上の半径方向に移動する位置決め装置とを主な構成要素としている。磁気ディスクの両主表面に形成された磁気記録層に対してそれぞれ磁気ヘッドが対向配置されるので、１つの磁気ディスクにつき２つの磁気ヘッドを備えている。
【０００３】
磁気ディスクは、磁気ディスク基板の両主表面に下地層、磁性層、保護層、潤滑層を順次積層した構成を有している。磁気記録層となる磁性層は、六方細密充填構造（ｈｃｐ構造）の合金層からなる強磁性層であり、ＣｏＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金等の高価な材料が含まれる。
【０００４】
磁気ディスク基板の製造工程では、研磨、洗浄等の工程の後に、基板の両主表面について欠陥検査を行っている。欠陥検査で検出された欠陥の大きさ、個数等が所定スペック内に収まっているか否か判別する。一方の主表面だけでもスペックに収まらない欠陥が検出された磁気ディスク基板は最終製品の対象としないで製造工程から取り除かれる。
【０００５】
一方で、最近はディスク容量が拡大されてきたので、高価な磁気ヘッドは磁気ディスクの片側にだけ設置し、磁気ディスクの片側の磁気記録層に対してだけ磁気データを読み書きするＨＤＤが登場している。磁気ディスクの片側の磁気記録層だけを使用するのであれば、検査工程で一方の主表面だけにスペックに収まらない欠陥が検出された磁気ディスク基板であても最終製品として使用することができる。これにより、高価な磁気ヘッドの個数を減らすと共に、片側の主表面に欠陥が検出された磁気ディスク基板を有効活用することで、ＨＤＤの低コスト化を図ることができる。
【特許文献１】特開２００１−２４３７３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、片側の主表面に欠陥が検出された磁気ディスク基板を製品として使用する場合であっても、成膜工程では磁気ディスク基板の両主表面に磁気記録層を成膜している。磁気ディスクの磁気記録層となる磁性層は、ＣｏＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金等の高価な材料が用いられるので、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いて成膜することはコスト面からみて無駄である。
【０００７】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で記録面として不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、コストの削減を図ることのできる磁気ディスク基板及びその製造方法並びに磁気ディスク及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、予め使用しないと判っている基板面（非記録面）に対して、高価な材料を使用する膜を成膜しないことで、コストを下げることができることを見出し、このようなことで実現できるシステムを構築することで、本発明を完成するに至った。
【０００９】
本発明の磁気ディスク基板の製造方法は、磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程を備えた磁気ディスク基板の製造方法であって、一方の主表面が前記条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板に対して、前記他方の主表面に判別可能な情報を付すことを特徴とする。
【００１０】
この製造方法によれば、一方の主表面が記録層形成の条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板に対して、前記他方の主表面に判別可能な情報を付すことにより、後の成膜工程では磁気ディスク基板に付された情報から記録面と非記録面とを判別でき、非記録面に記録面と異なる安価な材料で成膜する制御が可能になる。
【００１１】
また本発明の磁気ディスク基板の製造方法は、磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程と、少なくとも一方の主表面が前記条件を満たす複数の磁気ディスク基板を前記条件の満たされた主表面が同一方向を向くように出荷容器に収納して梱包する梱包工程とを備え、どちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報が前記出荷容器に付された状態で後の成膜工程へ送られることを特徴とする。
【００１２】
この製造方法によれば、記録面情報又は非記録面情報が出荷容器に付された状態で後の成膜工程へ送られることとしたので、後の成膜工程では出荷容器に付された情報から記録面と非記録面とを判別でき、非記録面に記録面と異なる安価な材料で成膜する制御が可能になる。
【００１３】
また本発明の磁気ディスク基板の製造方法は、磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程と、少なくとも一方の主表面が前記条件を満たす複数の磁気ディスク基板を前記条件の満たされた主表面が同一方向を向くように出荷容器に収納して梱包する梱包工程とを備え、前記出荷容器と、どちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報とを予め対応付け、前記磁気ディスク又は前記出荷容器に情報を直接付すことなく、前記記録面情報又は前記非記録面情報を後の成膜工程へ送ることを特徴とする。
【００１４】
この製造方法によれば、出荷容器と記録面情報又は前記非記録面情報とを予め対応付け、後の成膜工程へ送ることとしたので、後の成膜工程では出荷容器に対応付けられた情報から記録面と非記録面とを判別でき、非記録面に記録面と異なる安価な材料で成膜する制御が可能になる。
【００１５】
また本発明の磁気ディスク基板は、一方の主表面に記録層が形成される磁気ディスク基板であって、記録層形成の条件を満たしていない主表面に、記録面でないことを示す情報が付されたことを特徴とする。
【００１６】
この磁気ディスク基板によれば、記録層形成の条件を満たしていない主表面に、記録面でないことを示す情報が付されているので、後の成膜工程では磁気ディスク基板に付された情報から記録面と非記録面とを判別でき、非記録面に記録面と異なる安価な材料で成膜する制御が可能になる。
【００１７】
また本発明の磁気ディスクの製造方法は、磁気ディスク基板の両主表面のうちどちらの主表面が記録面又は非記録面であるかを把握する把握工程と、前記把握工程で把握した記録面側に記録層を成膜し、非記録面側に両主表面の膜応力を均衡させるダミー層を成膜する成膜工程とを具備したことを特徴とする。
【００１８】
この製造方法によれば、磁気ディスク基板の両主表面のうちどちらの主表面が記録面であるかを把握するので、記録面側に記録層を成膜し、非記録面側に両主表面の膜応力を均衡させるダミー層を成膜する制御が可能になる。
【００１９】
上記磁気ディスクの製造方法において、把握工程では、前記磁気ディスク基板の主表面に付された情報から記録面とすべき主表面を判定するようにすることができる。又は、複数の磁気ディスク基板を収納した出荷容器に付された記録面情報又は前記非記録面情報から記録面とすべき主表面を判定するようにすることができる。或いは、複数の磁気ディスク基板を収納した出荷容器と対応付けられた情報であってどちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報を、当該磁気ディスク基板が収納されていた出荷容器との関係から求めるようにしても良い。
【００２０】
また上記磁気ディスクの製造方法において、成膜工程は、前記記録層よりも安価な材料を用いてダミー層を成膜することを特徴とする。これにより、初めから使用しないと判っている非記録面に記録面と同じ高価な材料の膜を成膜しないので、コスト削減を図ることができる。
【００２１】
また本発明の磁気ディスクは、一方の主表面が記録層形成の条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板と、前記磁気ディスク基板の前記条件を満たした一方の主表面に形成された記録層と、前記磁気ディスク基板の前記条件を満たさない他方の主表面に形成され両主表面の膜応力を均衡させるダミー層とを具備したことを特徴とする。
【００２２】
これにより、初めから使用しないと判っている非記録面に記録面と同じ高価な材料の膜を成膜しないで、両主表面の膜応力を均衡させるダミー層を設けたので、磁気ディスクの両主表面の膜応力の不均衡を防止できると共にコスト削減を図ることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で磁気記録層に不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いることを回避してコストの削減を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の一実施の形態として磁気ディスク基板の製造工程及びその磁気ディスク基板に成膜する成膜工程について説明する。以下の説明では、磁気ディスク基板としてガラス基板を用いた例について説明するが、本発明はガラス基板に限らず、アルミニウム基板をはじめとする他の磁気ディスク用ガラス基板にも適用可能である。
【００２５】
ガラス基板の製造工程は、素材を研削して板厚を揃える研削工程、ガラス基板の表面を研磨して基板表面のうねり及び表面粗さを解消する研磨工程、ガラス基板を化学強化する化学強化工程、ガラス基板に付着するごみ及びガラス基板の粗さを制御する洗浄工程、ガラス基板表面の欠陥を検査する欠陥検査工程、最終検査の終了したガラス基板を収納カセットに収納して梱包する梱包工程などで構成されている。
【００２６】
上記研削工程では、素材がディスク状をなすプレスガラスの場合は所定の板厚になるように両面を研削する。研削方法は、上定盤と下定盤とでガラス基板を挟み、上定盤と下定盤とを逆方向に回転させることでガラス基板の表面を研削する。素材がシートガラスの場合は板厚及び平坦度がプレスガラスよりも優れているので、プレスガラスの場合のような研削は不要な場合もあるが、所定寸法（ＩＤ，ＯＤ）のディスク状にガラス基板を切り出すカッティング作業が発生する。さらに、ガラス基板の中心部に穴を開けると共に、ディスク端面の面取り及び研磨を行う。
【００２７】
上記研磨工程では、上定盤と下定盤とにそれぞれ研磨パッドを取り付け、上定盤と下定盤とでガラス基板を挟み、研磨を行う。第１研磨では、比較的硬いパッド（例えば、ウレタン）を用いて、ガラス基板の端部形状、凹凸、及び大きなうねりを平坦にする。第２の研磨では、比較的軟らかいパッド（例えば、発泡ポリウレタン）を用いて、ガラス基板の表面粗さ、小さなうねりを平坦にする。第２の研磨では表面粗さＲａを０．２〜０．３ｎｍにすることを目標にする。
【００２８】
上記化学強化工程では、ガラス基板の表面に存在するイオン（例えば、アルミノシリケートガラス使用の場合、Ｌｉ＋及びＮａ＋）よりもイオン半径の大きなイオン（Ｎａ＋及びＫ＋）にイオン交換する。ガラス基板の表面において（例えば、ガラス基板表面から約５μｍまで）、イオン半径の大きい原子とイオン交換を行って、ガラス表面に圧縮応力を与えることでガラス基板の剛性を上げている。
【００２９】
上記洗浄工程では、ガラス基板の表面に研磨材や不純物が付着しているので、これらを除去するための洗浄を行う。洗浄方法には、物理的洗浄と薬液洗浄とがある。物理的洗浄としてスクラブ洗浄と超音波洗浄とがある。薬液洗浄としてガラス基板をエッチングすることによる洗浄、ガラス基板に付着している不純物および研磨材を溶かす薬液を使用した洗浄、界面活性剤を用いて電位を制御することによる洗浄がある。研削工程から第１研磨および第2研磨までの各工程間の洗浄工程では、薬液洗浄＋超音波洗浄が用いられる。
【００３０】
上記欠陥検査工程では、全数検査と抜き取り検査とがある。全数検査できるものは全数検査するが、全数検査できないものは抜き取り検査することになる。検査対象の欠陥種として、キズ、汚れ（パーティクル）、素材要因、形状変化がある。クリーンルーム内において、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて、ガラス基板の表面の状態検査、ＩＤ，ＯＤの面取り角の測定、真円度、同心度の測定等を実施する。第２研磨した後の洗浄後には、ガラス基板をクリーンルームに搬入してビジュアル検査を行う。このとき、ガラス基板に対して、クラックの有無、ゴミの付着、カケ、ワレの有無、研磨材の有無等が検査される。化学強化した後の洗浄後にも、同様のビジュアル検査を行う。このような欠陥検査工程により、ガラス基板の両主表面について、記録面を形成するためのスペックを満足しているか否について判定される。スペックを満足していれば「ＯＫ面」、スペックを満足しなければ「ＮＧ面」と判断される。両主表面が「ＮＧ面」と判断されたガラス基板は最終製品の対象から除外されるが、片側だけが「ＮＧ面」と判断されたガラス基板は最終製品の対象として後の成膜工程へ送られる。
【００３１】
図１は欠陥検査工程で「ＮＧ面」と判断されたガラス基板のＮＧ面に対して後の工程で判別可能な情報を付して収納カセットに収納する工程を示す概念図である。欠陥検査工程において一方の主表面がスペックを満足したが、他方の主表面がスペックを満足せずに「ＮＧ面」と判定されたガラス基板１については、当該ＮＧ面１ａに対してレーザマーカ２によってスペックを満たさないことを判別するための情報としてＮＧ面３の文字が描画される。これにより、後の成膜工程においてガラス基板１の記録面又は非記録面を判別することができる。なお、本発明はレーザマーカ２によりガラス基板１に対して物理的にIndex情報を付する方式に限定されるものではなく、ガラス基板１に対して磁気的/電気的/化学的な手法によりマーキングするようにしても良い。また、基板に対してマーキングしなくてもOK/NG面の識別が可能であれば、マーキングは必ずしも必要ない。
【００３２】
梱包工程では、欠陥検査工程で少なくとも片側が「ＯＫ面」であると判別されたガラス基板１が収納カセット容器４に収納される。収納カセット容器４にはカセット内に収納されているガラス基板を管理するためのバーコード情報５が付けられる。管理装置６は、欠陥検査工程で取得された各ガラス基板についての欠陥検査結果、シリアル番号等を含む管理情報を取り込む。管理装置６は、収納カセット容器４に収納されたガラス基板とその管理情報とを紐づけるバーコード情報を生成し、バーコードプリンタ７からシール用紙にバーコードを印刷する。このプリントアウトされたバーコード情報５のシールを収納カセット容器４に貼付する。また、管理装置６は、収納カセット容器４に収納されたガラス基板の管理情報を磁気ディスク情報管理サーバ８へ送信して、サーバにて一元管理する。
【００３３】
なお、以上の説明では、ガラス基板１のＮＧ面１ａに直接的にＮＧ面３と描画しているが、後の成膜工程で記録面又は非記録面の判別がつけば良いので、ガラス基板１に直接描画する以外の方法でガラス基板１とその記録面情報又は非記録面情報と対応付けて成膜工程へ伝えるようにしても良い。
【００３４】
図２に示すように、収納カセット容器４に欠陥検査工程において「ＯＫ面」であると判別された記録面側を一方向（図では左方向）に向けて収納する。収納カセット容器４の表面には記録面側と非記録面側とが判別できるように、「記録面側」１１ａ、「非記録面側」１１ｂの表記を行う。これにより、収納カセット容器４が搬入された成膜工程側では記録面又は非記録面を判別することができる。
【００３５】
また、収納カセット容器４の表面に「記録面側」１１ａ、「非記録面側」１１ｂの表記を行なわなくても、ガラス基板の第１面と第２面とが区別できる場合には、図３（ａ）に示すように第１面は記録面であることを示す用紙１２を収納カセット容器４に添付すればよい。又は図３（ｂ）に示すように第２面は非記録面であることを示す用紙１３を収納カセット容器４に添付すればよい。或いは、収納カセット容器４の一方をＡ側とし、他方をＢ側として特定できる場合は、図３（ｃ）に示すようにＡ側は記録面、Ｂ側は非記録面と表記した用紙１４を添付するようにしても良い。
【００３６】
さらに、磁気ディスク情報管理サーバ８においてガラス基板１の記録面及び又は非記録面情報を管理しており、バーコード情報５とガラス基板１とを対応付けておくことにより磁気ディスク情報管理サーバ８にアクセスしてバーコード情報５からガラス基板１の記録面及び又は非記録面情報を取得するようにしても良い。
【００３７】
次に、上記磁気ディスク基板１に成膜して磁気ディスクを作製する成膜工程について説明する。
【００３８】
図４は成膜工程で用いられる磁気記録媒体作成用スパッタリング装置の概略図である。同図に示すスパッタリング装置は、搬送装置にセットされたガラス基板が連続的に移動しながら基板両主表面に同時に連続的にスパッタ成膜されるインライン方式のスパッタリング装置である。図４に示すスパッタリング装置２０は、エントランスチャンバー２１、ヒーティングチャンバー２２、第１のスパッターチャンバー２３、ヒーティングチャンバー２４、第２のスパッターチャンバー２５、ヒーティングチャンバー２６、第３のスパッターチャンバー２７及びエグジットチャンバー２８で構成されている。
【００３９】
エントランスチャンバー２１及びエグジットチャンバー２８には、ロックバルブ３１、３２を備えており、ガラス基板１及び成膜された基板３０を挿脱できるように構成されている。エントランスチャンバー２１にはガラス基板１がローダ３３によって挿入される。
【００４０】
ヒーティングチャンバー２２、２４、２６は、各スパッターチャンバー２３、２５、２７の直前に設けられている。なお、ヒーティングチャンバー２２、２４、２６と一体として設けられるトランスファーチャンバー、バッファリングチャンバー、スリットヒータ等は図示していない。
【００４１】
第１のスパッターチャンバー２３では、少なくとも基板の記録面に金属膜で形成される下地層を成膜する。下地層はこの上に成膜される各層の結晶粒子を微細化及び均一化させる機能を持たせたり（シード層）、各層の結晶配向を制御する機能を持たせたりする（配向制御層）。本例では、第１のスパッターチャンバー２３内には基板移動経路の両側にターゲットＡを配置する。ターゲットＡは、ｈｃｐ構造であればＣｏＣｒを用いることができる。この場合、基板の記録面及び非記録面の双方に下地層が成膜される。
【００４２】
第２のスパッターチャンバー２５では、基板の記録面に対して磁気ヘッドによる磁化反転パターンを記録する機能を有する磁性層を成膜し、当該基板の非記録面（ＮＧ面）に対してダミー層を成膜する。第２のスパッターチャンバー２５内には基板移動経路の一方の側に磁性層を成膜するためのターゲットＢが配置され、反対側にはダミー層を成膜するためのターゲットＣが配置されている。磁性層を成膜するためのターゲットＢは、ｈｃｐ構造であればＣｏＣｒ系合金強磁性材料が用いられ、ＣｏＣｒＰｔまたはＣｏＣｒＰｔＴａといった高価な材料が含まれる。一方、ダミー層を成膜するためのターゲットＣは、最終的に非記録面側が記録面側と同じ膜応力を実現できればよく、磁性膜のような高価な材料に代えて安価な材料を用いることができる。たとえば、Crターゲットなどを用いることができる。
【００４３】
第３のスパッターチャンバー２７では、少なくとも基板の記録面に磁性膜や磁気ヘッドを保護するための保護層を成膜する。保護層としては一般的にカーボン膜が用いられる。本例では、第３のスパッターチャンバー２７内には基板移動経路の両側にターゲットＤを配置する。保護層を成膜するターゲットＤは、カーボンを用いることができる。この場合、基板の記録面及び非記録面の双方に保護層が成膜される。
【００４４】
以上の説明では、基板の非記録面に記録面と同じターゲットＡ，Ｄで成膜しているが、基板の非記録面と記録面との膜応力を均一化できるのであれば、基板の非記録面側を成膜するためのターゲットは記録面側のターゲットと異なるものを用いてさらに低コスト化を図ることもできる。
【００４５】
エントランスチャンバー２１の入口にはローダ３３が設置されている。ローダ３３は、記録面指示装置３４からの指示にしたがってガラス基板１の記録面が所定方向を向くように配向制御して搬送装置にセットする。
【００４６】
具体的には、第２のスパッターチャンバー２５において記録面が磁性層を成膜するターゲットＢが配置されている側を向くようにガラス基板１の向きが制御される。これにより、第２のスパッターチャンバー２５において成膜する際に記録面側にターゲットＢによる磁性層が成膜されると共に、非記録面側にターゲットＣによるダミー層が成膜されることになる。
【００４７】
記録面指示装置３４は、次のいずれかの方法によってガラス基板１の記録面又は非記録面を把握することができる。たとえば、図１に示すようにＮＧ面情報３が基板表面に直接描画されているガラス基板１が搬入されて来る場合、ＣＣＤカメラなど構成される撮像装置で基板表面を撮像して画像認識し、ＮＧ面情報３の有無に対応して記録面又は非記録面を把握する。
【００４８】
また、図２に示すように収納カセット容器４に記録面側情報１１ａ、非記録面側情報１１ｂが記載されている場合は、収納カセット容器４からガラス基板１の向きを変えずに取り出してローダ３３にセットする際に作業者が記録面指示装置３４に記録面又は非記録面の向きを入力するようにしても良い。また、図３（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように収納カセット容器４に添付された用紙１２，１３，１４に記載れている記録面及び又は非記録面情報に基づいて作業者が記録面指示装置３４に記録面又は非記録面の向きを入力するようにしても良い。
【００４９】
さらに、記録面指示装置３４は、収納カセット容器４に貼付されたシールのバーコード情報５をバーコードリーダで読み込んで、磁気ディスク情報管理サーバ８に問い合わせて、当該収納カセット容器４に収納されたガラス基板の記録面及び又は非記録面情報を取得して把握するようにしても良い。
【００５０】
一方、エグジットチャンバー２８にはアンローダ３５が設置されている。アンローダ３５は、磁気記録媒体作成用スパッタリング装置２０で下地層、磁性層、保護層が形成された基板３０を、搬送装置から取り外して、スパッタリング装置２０外へ搬出する。その後、ディップ法、スプレイ法又はスピンコート法により、基板３０の保護層上に潤滑層が形成される。潤滑層にはフッ素系のパーフルオロポリエーテル化合物からなる液体潤滑剤を用いることができる。
【００５１】
以上のようにして、非記録面側に高価な材料を用いることなく記録面側と膜応力が均一化されたダミー層を成膜することができる。
【００５２】
以上の説明では、磁気記録媒体作成用スパッタリング装置２０としてインライン方式のものを用いて説明したが、成膜時には基板がターゲットに対して静止した状態でスパッタされる静止対向方式のスパッタリング装置を用いることもできる。
【００５３】
また、第２のスパッターチャンバー２５において、基板の記録面に磁性層を成膜する際に、基板の非記録面にダミー層を同時に成膜しているが、異なるスパッターチャンバーにおいて別々に成膜するように構成することもできる。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明は、磁気ディスクの片側にだけ磁気ヘッドを設けたＨＤＤに用いられる磁気ディスク基板及びその製造方法並びにその磁気ディスク基板を用いた磁気ディスク及びその製造方法に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施の形態における磁気ディスク基板の製造工程での欠陥検査工程から梱包工程に至る過程の概念図
【図２】容器に記録面情報を記述した収納カセット容器の外観図
【図３】収納カセット容器に添付される記録面情報を記載した用紙の概略図
【図４】上記実施の形態における成膜工程で用いられるスパッタリング装置の概念図
【符号の説明】
【００５６】
１…ガラス基板、１ａ…ＮＧ面、２…レーザマーカ、３…ＮＧ面（表記文字）、４…収納カセット容器、５…バーコード情報、６…管理装置、７…バーコードプリンタ、８…磁気ディスク情報管理サーバ、１１ａ…記録面側（表記文字）、１１ｂ…非記録面側（表記文字）、１２，１３，１４…用紙、２０…磁気記録媒体作成用スパッタリング装置、２１…エントランスチャンバー、２２…ヒーティングチャンバー、２３…第１のスパッターチャンバー、２４…ヒーティングチャンバー、２５…第２のスパッターチャンバー、２６…ヒーティングチャンバー、２７…第３のスパッターチャンバー、２８…エグジットチャンバー、３０…基板、３１、３２…ロックバルブ、３３…ローダ、３４…記録面指示装置、３５…アンローダ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程を備えた磁気ディスク基板の製造方法であって、
一方の主表面が前記条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板に対して、前記他方の主表面に判別可能な情報を付すことを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項２】
磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程と、少なくとも一方の主表面が前記条件を満たす複数の磁気ディスク基板を前記条件の満たされた主表面が同一方向を向くように出荷容器に収納して梱包する梱包工程とを備え、
どちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報及び又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報が前記出荷容器に付された状態で後の成膜工程へ送られることを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項３】
磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程と、少なくとも一方の主表面が前記条件を満たす複数の磁気ディスク基板を前記条件の満たされた主表面が同一方向を向くように出荷容器に収納して梱包する梱包工程とを備え、
前記出荷容器と、どちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報とを予め対応付け、前記磁気ディスク又は前記出荷容器に情報を直接付すことなく、前記記録面情報又は前記非記録面情報を後の成膜工程へ送ることを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項４】
一方の主表面に記録層が形成される磁気ディスク基板であって、記録層形成の条件を満たしていない主表面に、記録面でないことを示す情報が付されたことを特徴とする磁気ディスク基板。
【請求項５】
磁気ディスク基板の両主表面のうちどちらの主表面が記録面又は非記録面であるかを把握する把握工程と、前記把握工程で把握した記録面側に記録層を成膜し、非記録面側に両主表面の膜応力を均衡させるダミー層を成膜する成膜工程とを具備したことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項６】
前記把握工程では、前記磁気ディスク基板の主表面に付された情報から記録面とすべき主表面を判定することを特徴とする請求項５記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項７】
前記把握工程では、複数の磁気ディスク基板を収納した出荷容器に付された記録面情報又は前記非記録面情報から記録面とすべき主表面を判定することを特徴とする請求項５記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項８】
前記把握工程では、複数の磁気ディスク基板を収納した出荷容器と対応付けられた情報であってどちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報を、当該磁気ディスク基板が収納されていた出荷容器との関係から求めることを特徴とする請求項５記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項９】
前記成膜工程は、前記記録層よりも安価な材料を用いてダミー層を成膜することを特徴とする請求項５から請求項８のいずれかに記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項１０】
一方の主表面が記録層形成の条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板と、前記磁気ディスク基板の前記条件を満たした一方の主表面に形成された記録層と、前記磁気ディスク基板の前記条件を満たさない他方の主表面に形成され両主表面の膜応力を均衡させるダミー層とを具備したことを特徴とする磁気ディスク。
【請求項１】
磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程を備えた磁気ディスク基板の製造方法であって、
一方の主表面が前記条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板に対して、前記他方の主表面に判別可能な情報を付すことを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項２】
磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程と、少なくとも一方の主表面が前記条件を満たす複数の磁気ディスク基板を前記条件の満たされた主表面が同一方向を向くように出荷容器に収納して梱包する梱包工程とを備え、
どちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報及び又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報が前記出荷容器に付された状態で後の成膜工程へ送られることを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項３】
磁気ディスク基板の両主表面が記録層形成の条件を満たしているか否か判定するための表面検査を行う検査工程と、少なくとも一方の主表面が前記条件を満たす複数の磁気ディスク基板を前記条件の満たされた主表面が同一方向を向くように出荷容器に収納して梱包する梱包工程とを備え、
前記出荷容器と、どちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報とを予め対応付け、前記磁気ディスク又は前記出荷容器に情報を直接付すことなく、前記記録面情報又は前記非記録面情報を後の成膜工程へ送ることを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項４】
一方の主表面に記録層が形成される磁気ディスク基板であって、記録層形成の条件を満たしていない主表面に、記録面でないことを示す情報が付されたことを特徴とする磁気ディスク基板。
【請求項５】
磁気ディスク基板の両主表面のうちどちらの主表面が記録面又は非記録面であるかを把握する把握工程と、前記把握工程で把握した記録面側に記録層を成膜し、非記録面側に両主表面の膜応力を均衡させるダミー層を成膜する成膜工程とを具備したことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項６】
前記把握工程では、前記磁気ディスク基板の主表面に付された情報から記録面とすべき主表面を判定することを特徴とする請求項５記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項７】
前記把握工程では、複数の磁気ディスク基板を収納した出荷容器に付された記録面情報又は前記非記録面情報から記録面とすべき主表面を判定することを特徴とする請求項５記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項８】
前記把握工程では、複数の磁気ディスク基板を収納した出荷容器と対応付けられた情報であってどちらの主表面が前記条件を満たした記録面であるかを示す記録面情報又はどちらの主表面が前記条件を満たしていない非記録面であるかを示す非記録面情報を、当該磁気ディスク基板が収納されていた出荷容器との関係から求めることを特徴とする請求項５記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項９】
前記成膜工程は、前記記録層よりも安価な材料を用いてダミー層を成膜することを特徴とする請求項５から請求項８のいずれかに記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項１０】
一方の主表面が記録層形成の条件を満たし他方の主表面が前記条件を満たさない磁気ディスク基板と、前記磁気ディスク基板の前記条件を満たした一方の主表面に形成された記録層と、前記磁気ディスク基板の前記条件を満たさない他方の主表面に形成され両主表面の膜応力を均衡させるダミー層とを具備したことを特徴とする磁気ディスク。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００９−６４４８８（Ｐ２００９−６４４８８Ａ）
【公開日】平成２１年３月２６日（２００９．３．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２２９１６０（Ｐ２００７−２２９１６０）
【出願日】平成１９年９月４日（２００７．９．４）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【出願人】（５０３０６９１５９）ホーヤ ガラスディスク タイランド リミテッド (85)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年３月２６日（２００９．３．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年９月４日（２００７．９．４）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【出願人】（５０３０６９１５９）ホーヤ ガラスディスク タイランド リミテッド (85)
【Ｆターム（参考）】
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