磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法
【課題】輸送中の磁気ディスク用ガラス基板への塵埃や異物の付着、ならびにガラス基板表面の状態変化を、より確実に防止する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の二重梱包体２２２は、１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板を収容するケース２００と、ケース２００を、脱気した状態で密封するアルミニウムラミネートフィルム製の第１の梱包袋２１０と、第１の梱包袋２１０をさらに外側から、脱気した状態で密封するプラスチックフィルム製の第２の梱包袋２２０と、を含むことを特徴とする。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の二重梱包体２２２は、１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板を収容するケース２００と、ケース２００を、脱気した状態で密封するアルミニウムラミネートフィルム製の第１の梱包袋２１０と、第１の梱包袋２１０をさらに外側から、脱気した状態で密封するプラスチックフィルム製の第２の梱包袋２２０と、を含むことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等の磁気記録媒体用基板として、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、従来多く用いられてきたアルミニウム基板に代えて基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板が用いられるようになってきている。
【０００３】
また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、巨大磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移してきていて、磁気ヘッドの基板からの浮上量が２０ｎｍから５ｎｍ程度にまで狭くなってきている。このような磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドには固有の障害としてヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害を引き起こす場合がある。これらの障害は磁気ディスク面上の微小な凹凸によって発生するため、磁気ディスク表面は極めて高度な平滑度および平坦度が求められる。
【０００４】
上述のように平滑度・平坦度が重視される磁気ディスク用ガラス基板は、塵埃などによるパーティクルがガラス基板の表面に付着して汚染されることを嫌う。パーティクルで汚染されたガラス基板に磁性層を形成すると、コロージョンを生じ、ヘッドクラッシュ傷害やサーマルアスペリティ障害の原因となるからである。したがって、ガラス基板の表面に磁性層を形成する作業は、通常、クリーンルームにて行う。
【０００５】
ここで、製造されたガラス基板をクリーンルームまで輸送する間にガラス基板に付着するパーティクルの問題が生じる。
【０００６】
ガラス基板でなく、磁気ディスクを梱包対象とした従来技術として、磁気ディスクを収納容器に収納し、第一の梱包袋および第二の梱包袋で二重に梱包して輸送するものがある（例えば特許文献１）。かかる梱包体によれば、磁気ディスクは梱包袋中に密封されているため、パーティクルや異物の梱包袋内への侵入を防止することができる。
【０００７】
また、例えば特許文献２のような素材の包装袋を使用して、輸送中のガラス基板の汚染を防ぐ技術が提案されている。特許文献２では、ガラス基板を水蒸気透過率が５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である包装部材によって保持体と共に密封包装することにより、輸送時や保管時などにガラス基板の主表面の劣化を防いでいる。
【特許文献１】特開平１１−１５７５９１号公報
【特許文献２】特開２００１−２４０１７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
磁気ディスクの汚染を防ぐ梱包技術は特許文献１等によって提案されているが、ガラス基板へのパーティクルの付着を完全に防止する手段は発見されていない。梱包されるものがガラス基板の場合、磁気ディスクとは異なる特有の問題がある。すなわち、梱包をしていても水蒸気や外気がガラス基板に接触することによって、ガラス基板表面のイオンが溶け出し、イオンバランスが崩れたり、或いは酸化作用により、表面が荒れるおそれもある。
【０００９】
本発明はこのような課題に鑑み、輸送中のガラス基板への塵埃や異物の付着、ならびにガラス基板表面の状態変化を、より確実に防止する磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本願発明者らは、上記の課題について鋭意検討した結果、ガラス基板にパーティクルが付着したり、表面状態が変化したりする可能性の高い、ガラス基板輸送中の梱包手段を強化することが現段階ではガラス基板の良品率を向上させる最も有効な方法であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
上述の課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の梱包体の代表的な構成は、１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板を収容するケースと、ケースを、脱気した状態で密封する金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋と、第１の梱包袋をさらに外側から、脱気した状態で密封するプラスチックフィルム製の第２の梱包袋と、を含むことを特徴とする。
【００１２】
上記の構成によれば、クリーンルームにガラス基板を搬入する前に、まず、塵埃が付着している外側の第２の梱包袋を開梱する。次に内側の第１の梱包袋を開梱して、ケースに入ったガラス基板をクリーンルームに搬入する。梱包体が二重梱包されているため、このように、第２の梱包袋を開梱する際に、輸送中に付着する塵埃をほぼ完全に除去することが可能である。
【００１３】
また、両方の梱包袋とも脱気したうえで密封しているため、水蒸気やガスの透過が効果的に防止されている。なおプラスチックフィルムよりも金属ラミネートフィルムの方が水蒸気やガスの遮蔽性が高いため、内側の第１の梱包袋を金属ラミネートフィルムとすることにより、より効果的に上記遮蔽性の効果を得ることができる。金属ラミネートの金属としては、アルミニウムの他、ステンレス材、クロム、またはクロム酸処理、リン酸処理、クロメート処理や、ニッケル、スズ、亜鉛などでめっき処理した鋼板などを好適に用いることができる。
【００１４】
なお、第１の梱包袋と第２の梱包袋の両方に金属ラミネートフィルムを用いることも考えられる。しかし金属ラミネートフィルムはポリエチレンなどのプラスチックフィルムよりも複雑な構造をしていて、材料費が高騰するおそれがある。このため、水蒸気やガスの遮断については金属ラミネートフィルム性の第１の梱包袋で実現し、塵埃や大方の水蒸気の進入はプラスチックフィルム性の第２の梱包袋で防止することにより、梱包としての性能を確保しつつ材料費を低廉に抑えることができる。
【００１５】
第２の梱包袋は、第１の梱包袋を直接に梱包していて、第１の梱包袋の四方は丸められている、あるいは鈍角化されているとよい。これにより、内側の強靭な第１の梱包袋の四方（角）の鋭利な形状によって、外側の第２の梱包袋が破れてしまうことを防止している。
【００１６】
すなわち、金属ラミネートフィルムは硬度が高いが、また縁部はヒートシール（熱圧着）されて柔軟性を失っているためさらに硬度が高くなっている。これに対し外袋である第２の梱包袋を構成するプラスチックフィルムは柔軟性が高く、さほどの強度は得にくい。くわえて第２の梱包袋も脱気していると第２の梱包袋に密着することになるため、搬送する際の振動や外圧によって、第１の梱包袋の角部が第２の梱包袋の同じ箇所に繰り返し接触することになり、やがてこれを破いてしまうおそれがある。
【００１７】
特許文献１では、第１および第２の梱包袋で二重に梱包がされているものの、かかる袋の破れを防止するため、第１および第２の梱包袋の間には、箱形状のケースが介在している。このようなケースを介在させることは開梱に手間がかかる上、運搬する際の重量の増加の原因ともなるため、好ましくない。
【００１８】
しかし、第１の梱包袋の四方を面取りする（アールを取る）ことにより、本発明では、第２の梱包袋が第１の梱包袋を直接に梱包し、両者が密着しても、破れを効果的に防止することができる。第１の梱包袋の角の面取りは、第２の梱包袋の強度にもよるが、実験的に、曲率半径が、ヒートシールを行う部分の幅の１／１０程度であればよい。
【００１９】
第１の梱包袋は、ポリエチレンフィルム、アルミニウムフィルム、延伸ナイロンフィルムおよびポリエチレンテレフタレートフィルムから成るとよい。
【００２０】
これらの素材をラミネートすることによって水蒸気透過率、酸素透過率を下記のように低減することが可能である。
【００２１】
第１の梱包袋の水蒸気透過率は、０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるとよい。水蒸気透過率をこのような値にすることにより、ガラス基板が湿気に曝され汚染されたり、表面の状態変化を回避するためである。
【００２２】
第１の梱包袋の酸素透過率は、０．１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下であるとよい。水蒸気透過率が低い梱包袋を用いた場合と同様、酸素透過率が低い梱包袋を用いれば、ガラス基板の表面の状態変化を防止することができるからである。
【００２３】
上述の課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法は、１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板をケースに収容し、ケースを、金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋を、脱気した状態で密封し、第１の梱包袋を、プラスチックフィルム製の第２の梱包袋を、さらに外側から、脱気した状態で密封することを特徴とする。
【００２４】
また、上述の課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク製造方法は、上記の梱包体を用いて梱包された磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする。
【００２５】
上述した磁気ディスク用ガラス基板の梱包体の技術的思想に基づく構成要素やその説明は、当該磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法にも適用可能である。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、輸送中のガラス基板への塵埃や異物の付着をより確実に防止した状態で、磁性層の成膜を行うクリーンルームまで搬入することができる。また、輸送中に水分や外気にガラス基板が接触することによる表面の状態変化を生じることもない。その結果、最終製品である磁気ディスクの良品率が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
まず、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板について説明する。図１は、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板を説明する図であり、図１（a）は磁気ディスク用ガラス基板の斜視図である。磁気ディスク用ガラス基板１００は、円板形状をしていて、その中心には内孔が形成されている。主表面１１０は、情報を記録再生するための領域であるため、記録ヘッドが浮上走行するために実質的に平滑になっている。
【００２８】
図１（ｂ）は、図１（a）のＸ−Ｘ断面図である。磁気ディスク用ガラス基板１００は、情報の記録再生領域となる主表面１１０と、当該主表面１１０に対して直交している端面１２０と、当該主表面１１０と端面１２０との間に介在している面取面１３０とを備えている。なお、後述する端面研磨工程により端面１２０と面取面１３０との境界が不明瞭となる場合もあるため、本実施形態は端面１２０とその両側の面取面１３０があわせて１つの曲面を構成する場合も含むものとする。
【００２９】
磁気ディスクの成膜工程前に磁気ディスク用ガラス基板１００、特にその主表面１１０にパーティクルや異物が付着すると、成膜工程においてガラス基板に平滑な磁性層を形成することができず、最終製品である磁気ディスクの良品率が低下する。
【００３０】
図２は、ガラス基板のケースへの収納状態を説明する図である。図２（ａ）は、ガラス基板を保管するための容器であるプラスチック製の略直方体のガラス基板ケースの拡大図である。ケース２００は２５枚のガラス基板を収納可能とし、ガラス基板１００はケース２００に保存される。ガラス基板１００が収納されたケース２００は、図２（ｂ）のように複数個（本実施形態では４個）を積み重ねることができる。なおケース２００に収納する磁気ディスク用ガラス基板の数は１つ以上であればよく、その数は特に限定されない。
【００３１】
図３は、ガラス基板が収納されたケースの梱包状態を説明する図である。ガラス基板１００が収納されたケース２００は、図２（ｂ）に示すような複数個積み重ねられた状態から、まず、図３（ａ）に示すように、ケース２００を、脱気した状態で密封する脱気された金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋２１０で梱包され、梱包体２１２となる。次に、図３（ｂ）に示すように、第１の梱包袋２１０をさらに外側から直接に、脱気した状態で密封するプラスチックフィルム製の第２の梱包袋２２０で梱包され、二重梱包体２２２となる。このプラスチックフィルムは、例えばポリエチレンとしてよい。なお、本実施形態においては、ケース２００を複数個積み重ねた状態で梱包しているが、ケース２００一つごとに梱包してもよい。
【００３２】
上記の構成によれば、クリーンルームにガラス基板１００を搬入する前に、まず、塵埃が付着している外側の第２の梱包袋２２０を開梱する。次に内側の第１の梱包袋２１０を開梱して、ケース２００に入ったガラス基板をクリーンルームに搬入する。梱包体が二重梱包されているため、このように、第２の梱包袋２２０を開梱する際に、輸送中に付着する塵埃をほぼ完全に除去することが可能である。
【００３３】
また、両方の梱包袋２１０、２２０とも脱気したうえで密封しているため、水蒸気やガスの透過が効果的に防止されている。また脱気は、窒素などの不活性ガスを充填してから行ってもよい。
【００３４】
図４は図３の第１の梱包袋の大きさの一例を示す図である。第１の梱包袋の縦横のサイズは５００ｍｍ×４００ｍｍとし、ヒートシールを行う部分１７０の幅を１０ｍｍとしているが、これらの数値は例示にすぎない。同図に示すように、第１の梱包袋２１０の四方は、曲率半径１ｍｍの曲線形状に丸められている。あるいは、鈍角化してもよい。これにより、第２の梱包袋２２０が第１の梱包袋２１０を直接に梱包し、両者が密着しても、内側の強靭な第１の梱包袋２１０の四方（角）の鋭利な形状によって、外側の第２の梱包袋２２０が破れてしまうことを防止している。なお曲率半径を１ｍｍとしたのは、ヒートシール部分１７０の幅の１／１０程度の曲率半径で丸めれば、破れ防止機能を確保するには十分だからである。
【００３５】
梱包袋２１０のうち３方は斜線に示す部分１７０にてヒートシールされている。内容物を封入した後、脱気し、開口部１８０をヒートシールして内容物を密封する。
【００３６】
図５は図３の第１の梱包袋のラミネート構造を示す概略図である。本実施形態では、上述のように、第１の梱包袋２１０を金属ラミネートフィルム製としている。本願では、積層される複数のフィルムから成り、そのうち１つでも金属製のフィルムを含むものであれば、金属ラミネートフィルム製と呼ぶ。具体的には、図５に示す通り、第１の梱包袋２１０は、内側から、ポリエチレンフィルム４１０、アルミニウムフィルム（金属製フィルム）４２０、延伸ナイロンフィルム４３０およびポリエチレンテレフタレートフィルム４４０が積層されている。
【００３７】
これらの素材を上述の順番でラミネートすることによって、水蒸気透過率、酸素透過率を下記のように低減することが可能である。
【００３８】
図６は、図５のアルミニウムラミネートフィルムの特性を示す一覧表である。とりわけ、第１の梱包袋２１０の水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であること、酸素透過率が０．１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下であることに注目されたい。水蒸気透過率および酸素透過率をこのような値にすることにより、ガラス基板１００が湿気に曝されて化学変化することによる表面の状態変化が確実に回避される。
【００３９】
その他、ヒートシール強度が２４．５Ｎ／１５ｍｍとなっている。かかるヒートシール強度は、二重のヒートシールをすることによって得られている。二重のヒートシールとは、脱気しながら図４に示した部分１７０について、あるラインに沿って１回目のヒートシールを行い、さらにそのラインの外側のラインに沿って、２回目のヒートシールを行う方法である。
【００４０】
上記のように梱包されたガラス基板１００は、ガラス基板製造施設から出荷され、磁気ディスク製造施設へ運搬される。磁気ディスク製造施設到着後、開梱工程が行われる。
【００４１】
二重梱包体２２２の二重の梱包袋のうち、外側の梱包袋である第２の梱包袋２１０を所定の室（図示は省略）で開梱し、梱包体２１２とする。この所定の室は、別室（図示は省略）と隣接していて、当該別室から気流が流れこんでいるとよい。
【００４２】
梱包体２１２の第１の梱包袋２１０は、この別室において開梱する。かかる別室は、所定の室と、生産ラインが設置されているクリーンルームとに隣接する中間の室であり、所定の室に向かって気流が発生している。
【００４３】
（実施例）
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクについて実施例を説明する。梱包対象となる磁気ディスク用ガラス基板１００は、２．５インチ型ディスクとして製造されるものを意図している。その他、０．８インチ型ディスク（内径６ｍｍ、外径２１．７ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．０インチ型ディスク（内径７ｍｍ、外径２７．４ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．８インチ型磁気ディスク（内径１２ｍｍ、外径４８ｍｍ、板厚０．５０８ｍｍ）などの所定の形状を有する磁気ディスクとしてもよい。３．５インチ型ディスクに適用してもよいが、アルミニウム製の基板など、基板自体がガラスでないものは梱包対象として意図していない。
【００４４】
（１）形状加工工程および第１ラッピング工程
本実施形態においてガラス基板１００の材質としてはソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。アルミノシリケートガラスは、平滑かつ高剛性が得られるので、磁気的スペーシング、特に、磁気ヘッドの浮上量をより安定して低減できる。また、アルミノシリケートガラスは化学強化により、高い剛性強度を得ることができる。
【００４５】
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円板状の磁気ディスク用ガラス基板１００を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５〜２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４〜１３重量％を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。
【００４６】
次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。
【００４７】
（２）切り出し工程（コアリング、フォーミング）
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円板状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板１００とした（コアリング）。そして内周端面および外周端面１２０をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（フォーミング）。
【００４８】
（３）第２ラッピング工程
次に、得られたガラス基板１００の両主表面１１０について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行なうことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面１１０に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００４９】
（４）端面研磨工程
次に、ガラス基板１００の外周の端面研磨を行なう。まず端面１２０については、面取面１３０に先立ち、単独で研磨を行なう。研磨の方法は、例えば複数枚のガラス基板１００を同時にブラシにて研磨する方法でもよいが、取代が多くなってしまう。そこで、例えば枚葉式の研磨方法を用いてよい。
【００５０】
続いて面取面１３０については、鏡面研磨を行った。これにより、１枚のガラス基板１００の面取面１３０の、外周の全周における表面粗さの差は、０．００１μｍ以下の範囲になった。そして、端面研磨工程を終えたガラス基板１００を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板１００の端面１２０は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。
【００５１】
なお、本実施例では端部の研磨を行った後に面取面１３０の研磨を行なうよう説明した。しかしこの順序については任意であって、面取面１３０の研磨を先に行ってから端面１２０の研磨を行ってもよい。
【００５２】
次に、内周端面については、多数枚積層したガラス基板ブロックを形成し、面取りした内周端部をブラシロールにて同時に研磨してよい。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。
【００５３】
（５）主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面１１０に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面１１０の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
【００５４】
この第１研磨工程を終えたガラス基板１００を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
【００５５】
次に、主表面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面１１０を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面１１０の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。
【００５６】
この第２研磨工程を終えたガラス基板１００を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。
【００５７】
（６）化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板１００に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板１００を３００℃に予熱し、化学強化溶液中に約３時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板１００の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板１００が端面１２０で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
【００５８】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板１００の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板１００が強化される。ガラス基板１００の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００μｍ乃至２００μｍであった。
【００５９】
化学強化処理を終えたガラス基板１００を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板１００を、約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板１００を純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
【００６０】
上記の如く、第１ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１および第２研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦で平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板１００を得た。
【００６１】
（７）検査工程
得られた磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面１１０について平滑性の検査を行った。検査工程は、表面欠陥検出装置（ＡＯＩ：Automatic Optical Inspection）やＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）等の機器を用いて、磁気ディスク用ガラス基板１００に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板１００から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定し、付着物、凹部および凸部が存在するか否か等を測定し、基板状態を評価する。
【００６２】
（８）梱包工程
２５枚の磁気ディスク用ガラス基板１００をケース２００に収容し、ケース２００を４個重ね、アルミニウムラミネートフィルム製の第１の梱包袋２１０を、脱気した状態で密封して梱包体２１２とした。次に、梱包体２１２を、プラスチックフィルム製の第２の梱包袋２２０をさらに外側から、脱気した状態で密封して二重梱包体２２２とした。
【００６３】
上記のように、ガラス基板１００がケース２００に収納され、第１の梱包袋２１０および第２の梱包袋２２０で二重に梱包された二重梱包体２２２を、ガラス基板製造施設から出荷され、船や飛行機、列車等によって磁気ディスク製造施設へ運搬される。
【００６４】
（９）開梱工程
二重梱包体２２２のうち、外側の梱包袋である第２の梱包袋２２０を所定の室において開梱し、梱包体２１２とした。かかる所定の室は、別室と隣接していて、別室から気流が流れこんでいる（所定の室および別室は図示を省略する）。
【００６５】
梱包体２１２の第１の梱包袋２１０を別室において開梱した。別室は、所定の室と、生産ラインが設置されているクリーンルームとに隣接していて、所定の室に向かって気流が発生させた。
【００６６】
（１１）搬入工程
ガラス基板１００上に磁性層を形成する成膜工程を行うため、ケース２００に収納されたガラス基板１００を、生産ラインが設置されているクリーンルーム（図示は省略）へ搬送した。
【００６７】
［評価］
以上の工程によって開梱されたガラス基板における本実施形態の有効性について説明する。図７は、本実施形態である二重梱包体２２２と、比較例である一重の梱包体２１２とを、高温多湿(５０℃/６０％RH)の環境下で５日間放置した後に、ガラス表面に付着したパーティクルの数を、再び表面欠陥検出装置（ＯＳＡ６１００）を用いてカウントした。（各々１００枚ずつを測定）その結果、本実施形態（二重梱包）および比較例（一重梱包）との間に明らかなパーティクルカウント数の差異が見られ、前者が梱包品質として高い優位を示す結果が得られている。
【００６８】
（１２）磁気ディスク製造工程（成膜工程）
上記の梱包体を用いて梱包された磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする。
【００６９】
上述した梱包方法および製造工程を経て得られたガラス基板１００の両面に、ガラス基板１００の表面にＣｒ合金からなる付着層、ＣｏＴａＺｒ基合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる下地層、ＣｏＣｒＰｔ基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
【００７０】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板を説明する図である。
【図２】ガラス基板のケースへの収納状態を説明する図である。
【図３】ガラス基板が収納されたケースの梱包状態を説明する図である。
【図４】図３の第１の梱包袋の大きさの一例を示す図である。
【図５】図３の第１の梱包袋のラミネート構造を示す概略図である。
【図６】図５のアルミニウムラミネートフィルムの特性を示す一覧表である。
【図７】本実施形態である二重梱包体と、比較例である一重の梱包体とを、高温多湿の環境下で耐久試験した結果を示す表である。
【符号の説明】
【００７３】
１００…ガラス基板
１１０…主表面
１２０…端面
１３０…面取面
２００…ケース
２１０…第一の梱包袋
２１２…梱包体
２２０…第二の梱包袋
２２２…二重梱包体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等の磁気記録媒体用基板として、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、従来多く用いられてきたアルミニウム基板に代えて基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板が用いられるようになってきている。
【０００３】
また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、巨大磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移してきていて、磁気ヘッドの基板からの浮上量が２０ｎｍから５ｎｍ程度にまで狭くなってきている。このような磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドには固有の障害としてヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害を引き起こす場合がある。これらの障害は磁気ディスク面上の微小な凹凸によって発生するため、磁気ディスク表面は極めて高度な平滑度および平坦度が求められる。
【０００４】
上述のように平滑度・平坦度が重視される磁気ディスク用ガラス基板は、塵埃などによるパーティクルがガラス基板の表面に付着して汚染されることを嫌う。パーティクルで汚染されたガラス基板に磁性層を形成すると、コロージョンを生じ、ヘッドクラッシュ傷害やサーマルアスペリティ障害の原因となるからである。したがって、ガラス基板の表面に磁性層を形成する作業は、通常、クリーンルームにて行う。
【０００５】
ここで、製造されたガラス基板をクリーンルームまで輸送する間にガラス基板に付着するパーティクルの問題が生じる。
【０００６】
ガラス基板でなく、磁気ディスクを梱包対象とした従来技術として、磁気ディスクを収納容器に収納し、第一の梱包袋および第二の梱包袋で二重に梱包して輸送するものがある（例えば特許文献１）。かかる梱包体によれば、磁気ディスクは梱包袋中に密封されているため、パーティクルや異物の梱包袋内への侵入を防止することができる。
【０００７】
また、例えば特許文献２のような素材の包装袋を使用して、輸送中のガラス基板の汚染を防ぐ技術が提案されている。特許文献２では、ガラス基板を水蒸気透過率が５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である包装部材によって保持体と共に密封包装することにより、輸送時や保管時などにガラス基板の主表面の劣化を防いでいる。
【特許文献１】特開平１１−１５７５９１号公報
【特許文献２】特開２００１−２４０１７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
磁気ディスクの汚染を防ぐ梱包技術は特許文献１等によって提案されているが、ガラス基板へのパーティクルの付着を完全に防止する手段は発見されていない。梱包されるものがガラス基板の場合、磁気ディスクとは異なる特有の問題がある。すなわち、梱包をしていても水蒸気や外気がガラス基板に接触することによって、ガラス基板表面のイオンが溶け出し、イオンバランスが崩れたり、或いは酸化作用により、表面が荒れるおそれもある。
【０００９】
本発明はこのような課題に鑑み、輸送中のガラス基板への塵埃や異物の付着、ならびにガラス基板表面の状態変化を、より確実に防止する磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本願発明者らは、上記の課題について鋭意検討した結果、ガラス基板にパーティクルが付着したり、表面状態が変化したりする可能性の高い、ガラス基板輸送中の梱包手段を強化することが現段階ではガラス基板の良品率を向上させる最も有効な方法であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
上述の課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の梱包体の代表的な構成は、１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板を収容するケースと、ケースを、脱気した状態で密封する金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋と、第１の梱包袋をさらに外側から、脱気した状態で密封するプラスチックフィルム製の第２の梱包袋と、を含むことを特徴とする。
【００１２】
上記の構成によれば、クリーンルームにガラス基板を搬入する前に、まず、塵埃が付着している外側の第２の梱包袋を開梱する。次に内側の第１の梱包袋を開梱して、ケースに入ったガラス基板をクリーンルームに搬入する。梱包体が二重梱包されているため、このように、第２の梱包袋を開梱する際に、輸送中に付着する塵埃をほぼ完全に除去することが可能である。
【００１３】
また、両方の梱包袋とも脱気したうえで密封しているため、水蒸気やガスの透過が効果的に防止されている。なおプラスチックフィルムよりも金属ラミネートフィルムの方が水蒸気やガスの遮蔽性が高いため、内側の第１の梱包袋を金属ラミネートフィルムとすることにより、より効果的に上記遮蔽性の効果を得ることができる。金属ラミネートの金属としては、アルミニウムの他、ステンレス材、クロム、またはクロム酸処理、リン酸処理、クロメート処理や、ニッケル、スズ、亜鉛などでめっき処理した鋼板などを好適に用いることができる。
【００１４】
なお、第１の梱包袋と第２の梱包袋の両方に金属ラミネートフィルムを用いることも考えられる。しかし金属ラミネートフィルムはポリエチレンなどのプラスチックフィルムよりも複雑な構造をしていて、材料費が高騰するおそれがある。このため、水蒸気やガスの遮断については金属ラミネートフィルム性の第１の梱包袋で実現し、塵埃や大方の水蒸気の進入はプラスチックフィルム性の第２の梱包袋で防止することにより、梱包としての性能を確保しつつ材料費を低廉に抑えることができる。
【００１５】
第２の梱包袋は、第１の梱包袋を直接に梱包していて、第１の梱包袋の四方は丸められている、あるいは鈍角化されているとよい。これにより、内側の強靭な第１の梱包袋の四方（角）の鋭利な形状によって、外側の第２の梱包袋が破れてしまうことを防止している。
【００１６】
すなわち、金属ラミネートフィルムは硬度が高いが、また縁部はヒートシール（熱圧着）されて柔軟性を失っているためさらに硬度が高くなっている。これに対し外袋である第２の梱包袋を構成するプラスチックフィルムは柔軟性が高く、さほどの強度は得にくい。くわえて第２の梱包袋も脱気していると第２の梱包袋に密着することになるため、搬送する際の振動や外圧によって、第１の梱包袋の角部が第２の梱包袋の同じ箇所に繰り返し接触することになり、やがてこれを破いてしまうおそれがある。
【００１７】
特許文献１では、第１および第２の梱包袋で二重に梱包がされているものの、かかる袋の破れを防止するため、第１および第２の梱包袋の間には、箱形状のケースが介在している。このようなケースを介在させることは開梱に手間がかかる上、運搬する際の重量の増加の原因ともなるため、好ましくない。
【００１８】
しかし、第１の梱包袋の四方を面取りする（アールを取る）ことにより、本発明では、第２の梱包袋が第１の梱包袋を直接に梱包し、両者が密着しても、破れを効果的に防止することができる。第１の梱包袋の角の面取りは、第２の梱包袋の強度にもよるが、実験的に、曲率半径が、ヒートシールを行う部分の幅の１／１０程度であればよい。
【００１９】
第１の梱包袋は、ポリエチレンフィルム、アルミニウムフィルム、延伸ナイロンフィルムおよびポリエチレンテレフタレートフィルムから成るとよい。
【００２０】
これらの素材をラミネートすることによって水蒸気透過率、酸素透過率を下記のように低減することが可能である。
【００２１】
第１の梱包袋の水蒸気透過率は、０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるとよい。水蒸気透過率をこのような値にすることにより、ガラス基板が湿気に曝され汚染されたり、表面の状態変化を回避するためである。
【００２２】
第１の梱包袋の酸素透過率は、０．１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下であるとよい。水蒸気透過率が低い梱包袋を用いた場合と同様、酸素透過率が低い梱包袋を用いれば、ガラス基板の表面の状態変化を防止することができるからである。
【００２３】
上述の課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法は、１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板をケースに収容し、ケースを、金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋を、脱気した状態で密封し、第１の梱包袋を、プラスチックフィルム製の第２の梱包袋を、さらに外側から、脱気した状態で密封することを特徴とする。
【００２４】
また、上述の課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク製造方法は、上記の梱包体を用いて梱包された磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする。
【００２５】
上述した磁気ディスク用ガラス基板の梱包体の技術的思想に基づく構成要素やその説明は、当該磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法にも適用可能である。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、輸送中のガラス基板への塵埃や異物の付着をより確実に防止した状態で、磁性層の成膜を行うクリーンルームまで搬入することができる。また、輸送中に水分や外気にガラス基板が接触することによる表面の状態変化を生じることもない。その結果、最終製品である磁気ディスクの良品率が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
まず、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板について説明する。図１は、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板を説明する図であり、図１（a）は磁気ディスク用ガラス基板の斜視図である。磁気ディスク用ガラス基板１００は、円板形状をしていて、その中心には内孔が形成されている。主表面１１０は、情報を記録再生するための領域であるため、記録ヘッドが浮上走行するために実質的に平滑になっている。
【００２８】
図１（ｂ）は、図１（a）のＸ−Ｘ断面図である。磁気ディスク用ガラス基板１００は、情報の記録再生領域となる主表面１１０と、当該主表面１１０に対して直交している端面１２０と、当該主表面１１０と端面１２０との間に介在している面取面１３０とを備えている。なお、後述する端面研磨工程により端面１２０と面取面１３０との境界が不明瞭となる場合もあるため、本実施形態は端面１２０とその両側の面取面１３０があわせて１つの曲面を構成する場合も含むものとする。
【００２９】
磁気ディスクの成膜工程前に磁気ディスク用ガラス基板１００、特にその主表面１１０にパーティクルや異物が付着すると、成膜工程においてガラス基板に平滑な磁性層を形成することができず、最終製品である磁気ディスクの良品率が低下する。
【００３０】
図２は、ガラス基板のケースへの収納状態を説明する図である。図２（ａ）は、ガラス基板を保管するための容器であるプラスチック製の略直方体のガラス基板ケースの拡大図である。ケース２００は２５枚のガラス基板を収納可能とし、ガラス基板１００はケース２００に保存される。ガラス基板１００が収納されたケース２００は、図２（ｂ）のように複数個（本実施形態では４個）を積み重ねることができる。なおケース２００に収納する磁気ディスク用ガラス基板の数は１つ以上であればよく、その数は特に限定されない。
【００３１】
図３は、ガラス基板が収納されたケースの梱包状態を説明する図である。ガラス基板１００が収納されたケース２００は、図２（ｂ）に示すような複数個積み重ねられた状態から、まず、図３（ａ）に示すように、ケース２００を、脱気した状態で密封する脱気された金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋２１０で梱包され、梱包体２１２となる。次に、図３（ｂ）に示すように、第１の梱包袋２１０をさらに外側から直接に、脱気した状態で密封するプラスチックフィルム製の第２の梱包袋２２０で梱包され、二重梱包体２２２となる。このプラスチックフィルムは、例えばポリエチレンとしてよい。なお、本実施形態においては、ケース２００を複数個積み重ねた状態で梱包しているが、ケース２００一つごとに梱包してもよい。
【００３２】
上記の構成によれば、クリーンルームにガラス基板１００を搬入する前に、まず、塵埃が付着している外側の第２の梱包袋２２０を開梱する。次に内側の第１の梱包袋２１０を開梱して、ケース２００に入ったガラス基板をクリーンルームに搬入する。梱包体が二重梱包されているため、このように、第２の梱包袋２２０を開梱する際に、輸送中に付着する塵埃をほぼ完全に除去することが可能である。
【００３３】
また、両方の梱包袋２１０、２２０とも脱気したうえで密封しているため、水蒸気やガスの透過が効果的に防止されている。また脱気は、窒素などの不活性ガスを充填してから行ってもよい。
【００３４】
図４は図３の第１の梱包袋の大きさの一例を示す図である。第１の梱包袋の縦横のサイズは５００ｍｍ×４００ｍｍとし、ヒートシールを行う部分１７０の幅を１０ｍｍとしているが、これらの数値は例示にすぎない。同図に示すように、第１の梱包袋２１０の四方は、曲率半径１ｍｍの曲線形状に丸められている。あるいは、鈍角化してもよい。これにより、第２の梱包袋２２０が第１の梱包袋２１０を直接に梱包し、両者が密着しても、内側の強靭な第１の梱包袋２１０の四方（角）の鋭利な形状によって、外側の第２の梱包袋２２０が破れてしまうことを防止している。なお曲率半径を１ｍｍとしたのは、ヒートシール部分１７０の幅の１／１０程度の曲率半径で丸めれば、破れ防止機能を確保するには十分だからである。
【００３５】
梱包袋２１０のうち３方は斜線に示す部分１７０にてヒートシールされている。内容物を封入した後、脱気し、開口部１８０をヒートシールして内容物を密封する。
【００３６】
図５は図３の第１の梱包袋のラミネート構造を示す概略図である。本実施形態では、上述のように、第１の梱包袋２１０を金属ラミネートフィルム製としている。本願では、積層される複数のフィルムから成り、そのうち１つでも金属製のフィルムを含むものであれば、金属ラミネートフィルム製と呼ぶ。具体的には、図５に示す通り、第１の梱包袋２１０は、内側から、ポリエチレンフィルム４１０、アルミニウムフィルム（金属製フィルム）４２０、延伸ナイロンフィルム４３０およびポリエチレンテレフタレートフィルム４４０が積層されている。
【００３７】
これらの素材を上述の順番でラミネートすることによって、水蒸気透過率、酸素透過率を下記のように低減することが可能である。
【００３８】
図６は、図５のアルミニウムラミネートフィルムの特性を示す一覧表である。とりわけ、第１の梱包袋２１０の水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であること、酸素透過率が０．１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下であることに注目されたい。水蒸気透過率および酸素透過率をこのような値にすることにより、ガラス基板１００が湿気に曝されて化学変化することによる表面の状態変化が確実に回避される。
【００３９】
その他、ヒートシール強度が２４．５Ｎ／１５ｍｍとなっている。かかるヒートシール強度は、二重のヒートシールをすることによって得られている。二重のヒートシールとは、脱気しながら図４に示した部分１７０について、あるラインに沿って１回目のヒートシールを行い、さらにそのラインの外側のラインに沿って、２回目のヒートシールを行う方法である。
【００４０】
上記のように梱包されたガラス基板１００は、ガラス基板製造施設から出荷され、磁気ディスク製造施設へ運搬される。磁気ディスク製造施設到着後、開梱工程が行われる。
【００４１】
二重梱包体２２２の二重の梱包袋のうち、外側の梱包袋である第２の梱包袋２１０を所定の室（図示は省略）で開梱し、梱包体２１２とする。この所定の室は、別室（図示は省略）と隣接していて、当該別室から気流が流れこんでいるとよい。
【００４２】
梱包体２１２の第１の梱包袋２１０は、この別室において開梱する。かかる別室は、所定の室と、生産ラインが設置されているクリーンルームとに隣接する中間の室であり、所定の室に向かって気流が発生している。
【００４３】
（実施例）
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクについて実施例を説明する。梱包対象となる磁気ディスク用ガラス基板１００は、２．５インチ型ディスクとして製造されるものを意図している。その他、０．８インチ型ディスク（内径６ｍｍ、外径２１．７ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．０インチ型ディスク（内径７ｍｍ、外径２７．４ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．８インチ型磁気ディスク（内径１２ｍｍ、外径４８ｍｍ、板厚０．５０８ｍｍ）などの所定の形状を有する磁気ディスクとしてもよい。３．５インチ型ディスクに適用してもよいが、アルミニウム製の基板など、基板自体がガラスでないものは梱包対象として意図していない。
【００４４】
（１）形状加工工程および第１ラッピング工程
本実施形態においてガラス基板１００の材質としてはソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。アルミノシリケートガラスは、平滑かつ高剛性が得られるので、磁気的スペーシング、特に、磁気ヘッドの浮上量をより安定して低減できる。また、アルミノシリケートガラスは化学強化により、高い剛性強度を得ることができる。
【００４５】
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円板状の磁気ディスク用ガラス基板１００を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５〜２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４〜１３重量％を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。
【００４６】
次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。
【００４７】
（２）切り出し工程（コアリング、フォーミング）
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円板状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板１００とした（コアリング）。そして内周端面および外周端面１２０をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（フォーミング）。
【００４８】
（３）第２ラッピング工程
次に、得られたガラス基板１００の両主表面１１０について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行なうことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面１１０に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００４９】
（４）端面研磨工程
次に、ガラス基板１００の外周の端面研磨を行なう。まず端面１２０については、面取面１３０に先立ち、単独で研磨を行なう。研磨の方法は、例えば複数枚のガラス基板１００を同時にブラシにて研磨する方法でもよいが、取代が多くなってしまう。そこで、例えば枚葉式の研磨方法を用いてよい。
【００５０】
続いて面取面１３０については、鏡面研磨を行った。これにより、１枚のガラス基板１００の面取面１３０の、外周の全周における表面粗さの差は、０．００１μｍ以下の範囲になった。そして、端面研磨工程を終えたガラス基板１００を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板１００の端面１２０は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。
【００５１】
なお、本実施例では端部の研磨を行った後に面取面１３０の研磨を行なうよう説明した。しかしこの順序については任意であって、面取面１３０の研磨を先に行ってから端面１２０の研磨を行ってもよい。
【００５２】
次に、内周端面については、多数枚積層したガラス基板ブロックを形成し、面取りした内周端部をブラシロールにて同時に研磨してよい。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。
【００５３】
（５）主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面１１０に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面１１０の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
【００５４】
この第１研磨工程を終えたガラス基板１００を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
【００５５】
次に、主表面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面１１０を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面１１０の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。
【００５６】
この第２研磨工程を終えたガラス基板１００を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。
【００５７】
（６）化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板１００に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板１００を３００℃に予熱し、化学強化溶液中に約３時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板１００の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板１００が端面１２０で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
【００５８】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板１００の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板１００が強化される。ガラス基板１００の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００μｍ乃至２００μｍであった。
【００５９】
化学強化処理を終えたガラス基板１００を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板１００を、約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板１００を純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
【００６０】
上記の如く、第１ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１および第２研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦で平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板１００を得た。
【００６１】
（７）検査工程
得られた磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面１１０について平滑性の検査を行った。検査工程は、表面欠陥検出装置（ＡＯＩ：Automatic Optical Inspection）やＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）等の機器を用いて、磁気ディスク用ガラス基板１００に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板１００から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定し、付着物、凹部および凸部が存在するか否か等を測定し、基板状態を評価する。
【００６２】
（８）梱包工程
２５枚の磁気ディスク用ガラス基板１００をケース２００に収容し、ケース２００を４個重ね、アルミニウムラミネートフィルム製の第１の梱包袋２１０を、脱気した状態で密封して梱包体２１２とした。次に、梱包体２１２を、プラスチックフィルム製の第２の梱包袋２２０をさらに外側から、脱気した状態で密封して二重梱包体２２２とした。
【００６３】
上記のように、ガラス基板１００がケース２００に収納され、第１の梱包袋２１０および第２の梱包袋２２０で二重に梱包された二重梱包体２２２を、ガラス基板製造施設から出荷され、船や飛行機、列車等によって磁気ディスク製造施設へ運搬される。
【００６４】
（９）開梱工程
二重梱包体２２２のうち、外側の梱包袋である第２の梱包袋２２０を所定の室において開梱し、梱包体２１２とした。かかる所定の室は、別室と隣接していて、別室から気流が流れこんでいる（所定の室および別室は図示を省略する）。
【００６５】
梱包体２１２の第１の梱包袋２１０を別室において開梱した。別室は、所定の室と、生産ラインが設置されているクリーンルームとに隣接していて、所定の室に向かって気流が発生させた。
【００６６】
（１１）搬入工程
ガラス基板１００上に磁性層を形成する成膜工程を行うため、ケース２００に収納されたガラス基板１００を、生産ラインが設置されているクリーンルーム（図示は省略）へ搬送した。
【００６７】
［評価］
以上の工程によって開梱されたガラス基板における本実施形態の有効性について説明する。図７は、本実施形態である二重梱包体２２２と、比較例である一重の梱包体２１２とを、高温多湿(５０℃/６０％RH)の環境下で５日間放置した後に、ガラス表面に付着したパーティクルの数を、再び表面欠陥検出装置（ＯＳＡ６１００）を用いてカウントした。（各々１００枚ずつを測定）その結果、本実施形態（二重梱包）および比較例（一重梱包）との間に明らかなパーティクルカウント数の差異が見られ、前者が梱包品質として高い優位を示す結果が得られている。
【００６８】
（１２）磁気ディスク製造工程（成膜工程）
上記の梱包体を用いて梱包された磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする。
【００６９】
上述した梱包方法および製造工程を経て得られたガラス基板１００の両面に、ガラス基板１００の表面にＣｒ合金からなる付着層、ＣｏＴａＺｒ基合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる下地層、ＣｏＣｒＰｔ基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
【００７０】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板を説明する図である。
【図２】ガラス基板のケースへの収納状態を説明する図である。
【図３】ガラス基板が収納されたケースの梱包状態を説明する図である。
【図４】図３の第１の梱包袋の大きさの一例を示す図である。
【図５】図３の第１の梱包袋のラミネート構造を示す概略図である。
【図６】図５のアルミニウムラミネートフィルムの特性を示す一覧表である。
【図７】本実施形態である二重梱包体と、比較例である一重の梱包体とを、高温多湿の環境下で耐久試験した結果を示す表である。
【符号の説明】
【００７３】
１００…ガラス基板
１１０…主表面
１２０…端面
１３０…面取面
２００…ケース
２１０…第一の梱包袋
２１２…梱包体
２２０…第二の梱包袋
２２２…二重梱包体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板を収容するケースと、
前記ケースを、脱気した状態で密封する金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋と、
前記第１の梱包袋をさらに外側から、脱気した状態で密封するプラスチックフィルム製の第２の梱包袋と、
を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項２】
前記第２の梱包袋は、前記第１の梱包袋を直接に梱包していて、第１の梱包袋の四方は丸められている、あるいは鈍角化されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項３】
前記第１の梱包袋は、ポリエチレンフィルム、アルミニウムフィルム、延伸ナイロンフィルムおよびポリエチレンテレフタレートフィルムから成ることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項４】
前記第１の梱包袋の水蒸気透過率は、０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項５】
前記第１の梱包袋の酸素透過率は、０．１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項６】
前記第１の梱包袋は、遮光性を有することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項７】
１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板をケースに収容し、
前記ケースを、金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋を脱気して密封し、
前記第１の梱包袋を、プラスチックフィルム製の第２の梱包袋を脱気してさらに外側から密封することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法。
【請求項８】
請求項１から６までのいずれか１項に記載の梱包体を用いて梱包された磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする磁気ディスク製造方法。
【請求項１】
１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板を収容するケースと、
前記ケースを、脱気した状態で密封する金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋と、
前記第１の梱包袋をさらに外側から、脱気した状態で密封するプラスチックフィルム製の第２の梱包袋と、
を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項２】
前記第２の梱包袋は、前記第１の梱包袋を直接に梱包していて、第１の梱包袋の四方は丸められている、あるいは鈍角化されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項３】
前記第１の梱包袋は、ポリエチレンフィルム、アルミニウムフィルム、延伸ナイロンフィルムおよびポリエチレンテレフタレートフィルムから成ることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項４】
前記第１の梱包袋の水蒸気透過率は、０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項５】
前記第１の梱包袋の酸素透過率は、０．１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項６】
前記第１の梱包袋は、遮光性を有することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
【請求項７】
１つ以上の磁気ディスク用ガラス基板をケースに収容し、
前記ケースを、金属ラミネートフィルム製の第１の梱包袋を脱気して密封し、
前記第１の梱包袋を、プラスチックフィルム製の第２の梱包袋を脱気してさらに外側から密封することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法。
【請求項８】
請求項１から６までのいずれか１項に記載の梱包体を用いて梱包された磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする磁気ディスク製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００９−１６３８０３（Ｐ２００９−１６３８０３Ａ）
【公開日】平成２１年７月２３日（２００９．７．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３４０８３０（Ｐ２００７−３４０８３０）
【出願日】平成１９年１２月２８日（２００７．１２．２８）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【出願人】（５０３０６９１５９）ホーヤ ガラスディスク タイランド リミテッド (85)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月２３日（２００９．７．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月２８日（２００７．１２．２８）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【出願人】（５０３０６９１５９）ホーヤ ガラスディスク タイランド リミテッド (85)
【Ｆターム（参考）】
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