耐燃性改良製品
本発明は、ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．０１ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を含む組成物に関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．０１ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を含む組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
防炎加工合成成形材料は、多数の用途に用いられている。そのような合成材料の典型的な応用分野は、電気工学および電子工学であって、特に、電圧通過部品のキャリアを製造する目的で用いられるかまたはテレビのハウジングおよびモニターのハウジングの形態で用いられる。それだけでなく、防炎加工合成材料は、更に、それ自体、鉄道車両および航空機の内装品の分野でも定着されてきた。良好な防炎性に加えて、この分野において使用される合成材料は、更に別のポジティブな特性も高レベルで示さなければならない。これらとしては、特に、機械的特性、例えば高い衝撃強さおよび更に熱応力または光の作用による起こりうるダメージに関する十分な長期安定性が挙げられる。そのような特性の組み合わせは、達成が容易ではない。合成材料における所望の耐燃性は、一般的に、防炎加工剤を用いて容易に調節されるが、この目的に関してしばしば比較的多量の防炎加工剤が必要とされ、このことが速やかに別の特性、例えば機械的特性、の劇的な悪化をもたらす。
【０００３】
この関連で、ＵＳ ２００３／００６９３３８は、防炎加工成形材料であって、シアノアクリレートと防炎加工剤との相乗組み合わせ物を含む防炎加工成形材料を開示している。このようにして完成された成形材料は、改良された耐燃性および改良された耐候性が認められている。
【０００４】
ＥＰ １３０８０８４は、紫外線吸収剤の特別な組み合わせに加えて防炎加工剤を更に含みうるポリマー組成物を開示しており、この防炎加工剤は詳細に記述されていない。
【０００５】
ＥＰ １７６２５９１は、ポリカーボネートおよび２，４−ビス−（４−フェニルフェニル）−６−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンタイプの紫外線吸収剤および任意に別の安定剤を含む組成物を開示している。防炎加工剤はこの出願の対象ではない。
【０００６】
光安定構造体であって、特にトリアジン含有紫外線吸収剤と共に提供されるポリマーフィルムを含む光安定構造体がＵＳ ２００４／０２０９０２０において請求項に記載されている。
【０００７】
ＵＳ ２００６／０２３４０６１は、ポリアルキレン（メタ）アクリレートおよび２，４−ビス−（４−フェニルフェニル）−６−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンタイプの化合物を含む紫外線保護層並びにポリカーボネートを含む第２層を備えるマルチレイヤーシステムを記述している。
【０００８】
ビフェニル置換トリアジン化合物がＵＳ ６，２５５，４８３および更にＧＢ ２３１７１７４に記述されている。別の添加剤との混合物が一般形態で言及されている。しかしながら、改良された防炎特性を有する組成物の製造に関連する詳細な教示は、この書類からは得られない。
【０００９】
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１９）は、紫外線吸収剤として、例えばＥＰ １３０８０８４に記述されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、改良された防炎特性を示すポリカーボネートを含む組成物の提供である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の範囲内で、防炎加工剤と少量の２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）との相乗組み合わせ物を用いるポリカーボネートを含む組成物の仕上げが組成物の防炎性を驚くほど明らかに改良することがわかった。
【００１２】
従って、本発明は、ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１９）０．０００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．００５ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を含む組成物に関する。
【００１３】
本明細書中の表現「防炎添加剤０．００５ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％」は、１種類の防炎添加剤に限定せず、防炎添加剤の混合物も更に包含する。
【００１４】
そのような組成物は、さまざまな用途に有利に用いられうる。これらとしては、例えば、電気／電子の分野における利用、例えばランプハウジング、電路遮断器、マルチポイントコネクタ（ｍｕｌｔｉｐｏｉｎｔ ｃｏｎｎｅｃｔｏｒｓ）またはテレビおよびモニターのハウジングが挙げられる。本発明による組成物は、更に、建築または工業用のグレージングのためのシートの形態で、鉄道車両および航空機の内装用の装飾として（これらは、それぞれ、耐燃性に関して厳しい要求が課される。）、用いられうる。
【００１５】
本発明は、更に、本発明による組成物の製造方法であって、ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．０１ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を、要すれば溶媒中で、一緒にし、混合し、それによって要すれば均質化を行い、溶媒を除去することを特徴とする製造方法にも関する。
【００１６】
本発明による組成物用のポリカーボネートは、ホモポリカーボネート、コポリカーボネートおよび熱可塑性ポリエステルカーボネートである。
【００１７】
本発明によるポリカーボネートおよびコポリカーボネートの平均分子量（重量平均）は、一般的に、２０００〜２００，０００、好ましくは３０００〜１５０，０００、特に５０００〜１００，０００、より特に好ましくは８０００〜８０，０００、特に１２，０００〜７０，０００である（ポリカーボネート較正を伴うＧＣによって決定される。）。
【００１８】
更に、この範囲内で、好ましくは、平均分子量Ｍｗは１６，０００〜４０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【００１９】
本発明による組成物に関するポリカーボネートの製造に関して、例えば、Ｓｃｈｎｅｌｌ，“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ，第９巻，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク，ロンドン、シドニー １９６４年、Ｄ．Ｃ．ＰＲＥＶＯＲＳＥＫ，Ｂ．Ｔ．ＤＥＢＯＮＡ ａｎｄ Ｙ．ＫＥＳＴＥＮ，Ｃｏｒｐｏｒａｔｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｃｅｎｔｅｒ，Ａｌｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，モリスタウン，ニュージャージー，０７９６０，“Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ Ｐｏｌｙ（ｅｓｔｅｒ）ｃａｒｂｏｎａｔｅ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ”ｉｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｅｄｉｔｉｏｎ，第１９巻，７５〜９０（１９８０年）、Ｄ．Ｆｒｅｉｔａｇ，Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｒ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，Ｎ．Ｎｏｕｖｅｒｔｎｅ，Ｂａｙｅｒ ＡＧ，“Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”ｉｎ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，第１１巻，第２版，１９８８年，６４８〜７１８頁、およびＤｒｓ．Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｋ．Ｋｉｒｃｈｅｒ ａｎｄ Ｐ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ“Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ”ｉｎ Ｂｅｃｋｅｒ／Ｂｒａｕｎ，Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ，第３／１巻，Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ，Ｐｏｌｙａｃｅｔａｌｅ，Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ，Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｅｓｔｅｒ，Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ Ｍｕｎｉｃｈ，ウィーン １９９２年，１１７〜２９９頁を参照しうる。製造は、好ましくは界面法または溶融エステル交換法によって行われ、最初に界面法に基づいて例示的に説明する。
【００２０】
出発化合物として好ましく用いられる化合物は、一般式ＨＯ−Ｚ−ＯＨ（式中、Ｚは、炭素原子を６〜３０個有し、一以上の芳香族基を含む二価の有機残基である。）のビスフェノールである。そのような化合物の例は、ジヒドロキシジフェニル、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、インダンビスフェノール、ビス（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ヒドロキシフェニル）ケトンおよびα，α’−ビス（ヒドロキシフェニル）ジイソプロピルベンゼンを包含する群に属するビスフェノールである。
【００２１】
上記化合物の群に属する特に好ましいビスフェノールは、ビスフェノールＡ、テトラアルキルビスフェノールＡ、４，４−（メタ−フェニルジイソプロピル）ジフェノール（ビスフェノールＭ）、４，４−（パラ−フェニレンジイソプロピル）ジフェノール、Ｎ−フェニルイサチンビスフェノール、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（ＢＰ−ＴＭＣ）、２−ヒドロキシカルビル−３，３−ビス（４−ヒドロキシアリール）フタルイミジンによって示されるタイプのビスフェノール、特に２−フェニル−３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フタルイミジン、および更に要すればそれらの混合物である。ビスフェノールＡベースのホモポリカーボネートおよびモノマービスフェノールＡと１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとベースのコポリカーボネートが特に好ましい。本発明によって用いられるビスフェノール化合物は、炭酸化合物、特にホスゲン、または、溶融エステル交換法の場合、ジフェニルカーボネートもしくはジメチルカーボネート、と共に転化される。
【００２２】
ポリエステルカーボネートは、上記ビスフェノールと少なくとも一種類の芳香族ジカルボン酸と要すれば炭酸同等物との転化によって得られる。好適な芳香族ジカルボン酸は、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、３，３’−または４，４’−ジフェニルジカルボン酸およびベンゾフェノンジカルボン酸である。ポリカーボネート中のカーボネート基の一部、８０ｍｏｌ％以下、好ましくは２０ｍｏｌ％〜５０ｍｏｌ％が芳香族ジカルボン酸エステル基によって置換されていてもよい。
【００２３】
界面法の場合に使用される不活性有機溶媒は、例えば、ジクロロメタン、種々のジクロロエタンおよびクロロプロパン化合物、テトラクロロメタン、トリクロロメタン、クロロベンゼンおよびクロロトルエンである。クロロベンゼンまたはジクロロメタンまたはジクロロメタンとクロロベンゼンとの混合物が好ましく用いられる。
【００２４】
界面反応は、触媒、例えば第三級アミン、特にＮ−アルキルピペリジンまたはオニウム塩によって促進されうる。トリブチルアミン、トリエチルアミンおよびＮ−エチルピペリジンが好ましく使用される。溶融エステル交換法の場合、ＤＥ−Ａ ４２３８１２３に挙げられる触媒が使用される。
【００２５】
ポリカーボネートは、少量の分枝剤の使用によって、意図的にかつ制御された方法で分枝されうる。好適な分枝剤には、イサチンビスクレゾール、フロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−２、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリ（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス［４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノール、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ヘキサ（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェニル）オルトテレフタル酸エステル、テトラ（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラ（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ）メタン、α，α’，α’’−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル、３，３−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール、１，４−ビス（４’，４’’−ジヒドロキシトリフェニル）メチルベンゼン、特に、１，１，１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）エタンおよびビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールがある。
【００２６】
要すれば付随して使用される分枝剤または分枝剤の混合物、用いられるジフェノールに対して０．０５〜２ｍｏｌ％、はジフェノールと共に用いられうるが、合成の後の段階で添加してもよい。
【００２７】
連鎖停止剤が用いられうる。連鎖停止剤として、フェノール類、例えばフェノール、アルキルフェノール、例えばクレゾールおよび４−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、クミルフェノールまたはそれらの混合物、ビスフェノール１モルあたり１〜２０ｍｏｌ％、好ましくは２〜１０ｍｏｌ％、が好ましく使用される。フェノール、４−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノールまたはクミルフェノールが好ましい。
【００２８】
連鎖停止剤および分枝剤は、合成に単独で、またはビスフェノールと共に添加されうる。
【００２９】
本発明による好ましいポリカーボネートは、ビスフェノールＡホモポリカーボネートである。
【００３０】
代わりに、本発明によるポリカーボネートは、溶融エステル交換法によって製造されてもよい。溶融エステル交換法は、例えば、Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，第１０巻（１９６９年），Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ，Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，第９巻，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．（１９６４年）および更にＤＥ−Ｃ １０３１５１２に記述されている。
【００３１】
溶融エステル交換法の場合、界面法との関連で既に記述した芳香族ジヒドロキシ化合物を、好適な触媒および、要すれば、別の添加剤を用いて、溶融状態で炭酸ジエステルとエステル交換する。
【００３２】
本発明における炭酸ジエステルは、式（１）および（２）
【化１】
（式中、Ｒ、Ｒ’およびＲ’’は、互いに独立して、Ｈ、任意に分枝していてもよいＣ１〜Ｃ３４アルキル／シクロアルキル、Ｃ７〜Ｃ３４アルカリールまたはＣ６〜Ｃ３４アリールである。）
の炭酸ジエステル、
例えば、
ジフェニルカーボネート、ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジブチルフェニルカーボネート、イソブチルフェニルフェニルカーボネート、ジイソブチルフェニルカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカーボネート、ｎ−ペンチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ペンチルフェニル）カーボネート、ｎ−ヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ヘキシルフェニル）カーボネート、シクロヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジシクロヘキシルフェニルカーボネート、フェニルフェノールフェニルカーボネート、ジフェニルフェノールカーボネート、イソオクチルフェニルフェニルカーボネート、ジイソオクチルフェニルカーボネート、ｎ−ノニルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ノニルフェニル）カーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネート、ジクミルフェニルカーボネート、ナフチルフェニルフェニルカーボネート、ジナフチルフェニルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）カーボネート、ジクミルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ジクミルフェニル）カーボネート、４−フェノキシフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−フェノキシフェニル）カーボネート、３−ペンタデシルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（３−ペンタデシルフェニル）カーボネート、トリチルフェニルフェニルカーボネート、ジトリチルフェニルカーボネート、
好ましくは、
ジフェニルカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカーボネート、フェニルフェノールフェニルカーボネート、ジフェニルフェノールカーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネート、ジクミルフェニルカーボネート、
特に好ましくはジフェニルカーボネート
である。
【００３３】
上記炭酸ジエステルの混合物を用いてもよい。
【００３４】
炭酸エステルの割合は、ジヒドロキシ化合物に対して、１００〜１３０ｍｏｌ％、好ましくは１０３〜１２０ｍｏｌ％、特に好ましくは１０３〜１０９ｍｏｌ％である。
【００３５】
本発明における触媒として、列挙した文献に記述されている塩基性触媒、例えばアルカリおよびアルカリ土類金属水酸化物および酸化物、並びにアンモニウムおよびホスホニウム塩（以下、オニウム塩という。）、が溶融エステル交換法において用いられる。この方法において、好ましくはオニウム塩、特に好ましくはホスホニウム塩が用いられる。本発明におけるホスホニウム塩は、式（３）
【化２】
（式中、
Ｒ１〜４は、同一であっても異なっていてもよく、Ｃ１〜Ｃ１０アルカン、Ｃ６〜Ｃ１０アリール、Ｃ７〜Ｃ１０アラルキルまたはＣ５〜Ｃ６シクロアルキル、好ましくはメチルまたはＣ６〜Ｃ１４アリール、特に好ましくはメチルまたはフェニルであり、
Ｘ−は、アニオン、例えばヒドロキシド、スルフェート、ハイドロゲンスルフェート、ハイドロゲンカーボネート、カーボネート、ハライド、好ましくはクロリド、または式ＯＲ（式中、ＲはＣ６〜Ｃ１４アリールまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキル、好ましくはフェニルである。）のアルコレートである。）
のホスホニウム塩である。好ましい触媒は、
テトラフェニルホスホニウムクロリド、
テトラフェニルホスホニウムヒドロキシド、
テトラフェニルホスホニウムフェノレート、
特に好ましくはテトラフェニルホスホニウムフェノレート
である。
【００３６】
触媒は、好ましくは、ビスフェノール１モルに対して１０−８ｍｏｌ〜１０−３ｍｏｌ、特に好ましくは１０−７ｍｏｌ〜１０−４ｍｏｌの量で用いられる。
【００３７】
重合の速度を増加させるために、別の触媒を単独で使用しても、要すればオニウム塩に加えて使用してもよい。前記触媒としては、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の塩、例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウムの水酸化物、アルコキシドおよびアリールオキシド、が挙げられ、好ましくはナトリウムの水酸化物塩、アルコキシド塩またはアリールオキシド塩である。水酸化ナトリウムおよびナトリウムフェノレートが最も好ましい。共触媒の量は、それぞれナトリウムとして計算して、１〜２００ｐｐｂ、好ましくは５〜１５０ｐｐｂ、最も好ましくは１０〜１２５ｐｐｂの範囲内である。
【００３８】
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの溶融状態におけるエステル交換反応は、好ましくは、二段階で行われる。第一段階において、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの融解を温度８０℃〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２３０℃、特に好ましくは１２０℃〜１９０℃において、常圧のもとで、０時間〜５時間、好ましくは０．２５時間〜３時間行う。触媒の添加後、真空（２ｍｍＨｇ）を適用し、温度を（２６０℃まで）上昇させることによってモノフェノールを留去することによって芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとからオリゴカーボネートを製造する。この留去の間、このプロセスで生じる蒸気の主な量が発生する。このようにして製造されるオリゴカーボネートの平均分子量Ｍｗ（光散乱によって較正される、ジクロロメタン中またはフェノール／ｏ−ジクロロベンゼンの等重量混合物中の相対溶液粘度の測定によって確認される。）は、２０００ｇ／ｍｏｌ〜１８，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは４０００ｇ／ｍｏｌ〜１５，０００ｇ／ｍｏｌである。
【００３９】
重縮合における第二段階において、圧力２ｍｍＨｇ未満において温度を更に２５０℃〜３２０℃、好ましくは２７０℃〜２９５℃まで上昇させることによってポリカーボネートを製造する。この段階の間、蒸気の残留物をこのプロセスから除去する。
【００４０】
触媒を互いの組み合わせ（２種類以上）で用いてもよい。
【００４１】
アルカリ金属／アルカリ土類金属触媒の使用の場合、アルカリ金属／アルカリ土類金属触媒を後で（例えば、重縮合の場合、オリゴカーボネートの合成後の第２段階において）添加することが有利である。
【００４２】
ポリカーボネートを形成する芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応は、本発明による方法において、例えば撹拌容器、薄膜式蒸発装置、流下液膜式蒸発器、撹拌容器のカスケード、押出機、ニーダー、シンプルディスクタイプリアクター（ｓｉｍｐｌｅ ｄｉｓｃ−ｔｙｐｅ ｒｅｃｔｏｒｓ）および高粘度ディスクタイプリアクター（ｈｉｇｈ−ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ ｄｉｓｃ−ｔｙｐｅ ｒｅａｃｔｏｒｓ）、において、不連続的に行われても好ましくは連続的に行われてもよい。
【００４３】
界面法と類似した方法で、分枝ポリカーボネートまたはコポリカーボネートは、多官能性化合物を使用して製造されうる。
【００４４】
別の芳香族ポリカーボネートおよび／または別の合成材料−例えば芳香族ポリエステルカーボネート、芳香族ポリエステル、例えばポリブチレンテレフタレートもしくはポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステルアミド、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、例えばポリアルキル（メタ）アクリレート、ここで、特に、ポリメチルメタクリレート、ポリアセタール、ポリウレタン、ポリオレフィン、ハロゲン含有ポリマー、ポリスルホン、ポリエステルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリシロキサン、ポリベンズイミダゾール、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、エポキシド樹脂、ポリスチレン、スチレンもしくはα−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル酸誘導体とのコポリマー、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンベースのグラフトポリマーまたはアクリレートゴム（例えばＥＰ−Ａ ６４０６５５に記載のグラフトポリマー参照。）もしくはシリコーンゴムベースのグラフトコポリマー−を本発明によるポリカーボネートおよびコポリカーボネートに既知の方法で、例えば配合によって、混合してもよい。
【００４５】
これらの熱可塑性樹脂に常套の添加剤−例えば充填剤、紫外線安定剤、熱安定剤、帯電防止剤および顔料−を更に常套の量で本発明によるポリカーボネートおよび、適切である場合、含まれる別の合成材料に添加してもよい。離型性、流動性、および／または耐燃性を、要すれば、表面用離型剤、フリーフロー剤（ｆｒｅｅ−ｆｌｏｗ ａｇｅｎｔ）および／または防炎加工剤（例えばアルキルおよびアリールホスファイト、ホスフェート、ホスファン、低分子カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、塩、チョーク、石英粉末、グラスファイバー、カーボンファイバー、顔料並びにそれらの組み合わせ）の添加によって改良してもよい。そのような化合物は、例えば、ＷＯ ９９／５５７７２，１５〜２５頁、ＥＰ １３０８０８４および“Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，Ｈａｎｓ Ｚｗｅｉｆｅｌ編，第５版 ２０００年，Ｈｎａｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ミュンヘンの対応する章に記述されている。
【００４６】
本発明における好適な防炎加工剤は、特に、スルホン酸、スルホンアミドおよびスルホンイミドの脂肪族および芳香族誘導体のアルカリまたはアルカリ土類金属塩、例えばカリウムペルフルオロブタンスルホネート、カリウムジフェニルスルホンスルホネート、Ｎ−ｐ−（トルイルスルホニル）−ｐ−トルエンスルフィミドカリウム塩、Ｎ−（Ｎ’−ベンジルアミノカルボニル）スルファニルイミドカリウム塩である。
【００４７】
本発明による成形材料において要すれば使用してもよい塩は、例えば、ナトリウムまたはカリウムペルフルオロブタンスルホネート、ナトリウムまたはカリウムペルフルオロメタンスルホネート、ナトリウムまたはカリウムペルフルオロオクタンスルフェート、ナトリウム−またはカリウム−２，５−ジクロロベンゼンスルフェート、ナトリウム−またはカリウム−２，４，５−トリクロロベンゼンスルフェート、ナトリウムまたはカリウムメチルホスホネート、ナトリウム−またはカリウム−（２−フェニルエチレン）ホスホネート、ナトリウムまたはカリウムペンタクロロベンゾエート、ナトリウム−またはカリウム−２，４，６−トリクロロベンゾエート、ナトリウム−またはカリウム−２，４−ジクロロベンゾエート、リチウムフェニルホスホネート、ナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホンスルホネート、ナトリウム−またはカリウム−２−ホルミルベンゼンスルホネート、ナトリウム−またはカリウム−（Ｎ−ベンゼンスルホニル）ベンゼンスルホンアミド、三ナトリウムまたは三カリウムヘキサフルオロアルミネート、二ナトリウムまたは二カリウムヘキサフルオロチタネート、二ナトリウムまたは二カリウムヘキサフルオロシリケート、二ナトリウムまたは二カリウムヘキサフルオロジルコネート、ナトリウムまたはカリウムピロホスフェート、ナトリウムまたはカリウムメタホスフェート、ナトリウムまたはカリウムテトラフルオロボレート、ナトリウムまたはカリウムヘキサフルオロホスフェート、ナトリウムまたはカリウムまたはリチウムホスフェート、Ｎ−（ｐ−トルイルスルホニル）−ｐ−トルエンスルフィミドカリウム塩、Ｎ−（Ｎ’−ベンジルアミノカルボニル）スルファニルイミドカリウム塩である。
【００４８】
ナトリウムまたはカリウムペルフルオロブタンスルフェート、ナトリウムまたはカリウムペルフルオロオクタンスルフェート、ナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホンスルホネートおよびナトリウム−またはカリウム−２，４，６−トリクロロベンゾエートおよびＮ−（ｐ−トリルスルホニル）−ｐ−トルエンスルフィミドカリウム塩、Ｎ−（Ｎ’−ベンジルアミノカルボニル）スルファニルイミドカリウム塩が好ましい。カリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネートおよびナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホン酸スルホネートがより特に好ましい。カリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネートは、特に、Ｂａｙｏｗｅｔ（登録商標）Ｃ４（ドイツ国レーフェルクーゼンのＬａｎｘｅｓｓ、ＣＡＳ番号２９４２０−４９−３）、ＲＭ６４（イタリア国のＭｉｔｅｎｉ）または３ＭＴＭ Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔａｎｅｓｕｌｆｏｎｙｌ Ｆｌｕｏｒｉｄｅ ＦＣ−５１（米国、３Ｍ）として市販されている。列挙した塩の混合物が同様に好適である。
【００４９】
これらの防炎性有機酸塩（ｏｒｇａｎｉｃ ｆｌａｍｅｐｒｏｏｆｉｎｇ ｓａｌｔ）は、成形材料中に、それぞれ全組成物に対して、０．０１ｗｔ．％〜１．０ｗｔ．％、好ましくは０．０１ｗｔ．％〜０．８ｗｔ．％、特に好ましくは０．０１ｗｔ．％〜０．６ｗｔ．％の量で用いられる。
【００５０】
更なる防炎加工剤として、モノマーおよびオリゴマーリン酸エステル、ホスホン酸エステル、ホスホネートアミン、ホスホネート、ホスフィネート、ホスファイト、ハイポホスファイト、ホスフィンオキシドおよびホスファゼンを包含する群から選択されるリン含有防炎加工剤を考慮し、この関連で、例えば、これらの群の一以上から選択される数種類の成分の混合物が防炎加工剤として適用される。他の、ここでは特に言及されない、好ましくはハロゲンフリーの、リン化合物もまた、単独で、または他の、好ましくはハロゲンフリーのリン化合物との任意の組み合わせで、用いられうる。これらとしては、更に、完全に無機のリン化合物、例えばリン酸ホウ素水和物、も挙げられる。更に、ホスホネートアミンもリン含有防炎加工剤として考慮に入る。ホスホネートアミンの製造は、例えば、米国特許明細書第５，８４４，０２８号に記述されている。ホスファゼンおよびその製造は、例えば、ＥＰ−Ａ ７２８８１１、ＤＥ−Ａ １９６１６６８およびＷＯ ９７／４００９２に記述されている。シロキサン、リン酸化オルガノシロキサン、シリコーンまたはシロキシシランもまた、防炎加工剤として適用されうる。このことは、例えば、ＥＰ １３４２７５３、ＤＥ １０２５７０７９ＡおよびＥＰ １１８８７９２に更に詳細に記述されている。
【００５１】
フェニルトリス−トリメチルシロキシシラン（ＣＡＳ番号２１１６−８４−９）を本発明の範囲内で用いた。
【００５２】
本発明の範囲内で、一般式（４）
【化３】
（式中、
Ｒ１〜Ｒ２０ は、互いに独立して、水素、Ｃ原子６個以下の直鎖または分枝アルキル基であり、
ｎ は、０．５〜５０の平均値であり、
Ｂ は、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、好ましくはメチル、またはハロゲン、好ましくは塩素もしくは臭素であり、
ｑ は、それぞれ、互いに独立して、０、１または２であり、
Ｘ は、単結合、Ｃ＝Ｏ、Ｓ、Ｏ、ＳＯ２、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデン、Ｃ５〜Ｃ６シクロアルキリデン、Ｃ６〜Ｃ５２アリーレンであって、任意にヘテロ原子を含んでいてもよい別の芳香環が縮合していてもよいもの、または式（５）もしくは（６）
【化４】
の残基であり、
Ｙ は、炭素であり、
Ｒ２１およびＲ２２ は、それぞれのＹに個々に選択可能な方法で、互いに独立して、水素またはＣ１〜Ｃ６アルキル、好ましくは水素、メチルまたはエチルであり、
ｍ は、４〜７の整数、好ましくは４または５であり、
但し、少なくとも一つの原子ＹにおけるＲ２１とＲ２２とは同時にアルキルである。）
のリン化合物が好ましい。
【００５３】
Ｒ１〜Ｒ２０が互いに独立して水素またはメチル残基であり、ｑ＝０である式（４）のリン化合物が特に好ましい。ＸがＳＯ２、Ｏ、Ｓ、Ｃ＝Ｏ、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデン、Ｃ５〜Ｃ６シクロアルキリデンまたはＣ６〜Ｃ１２アリーレンである化合物が特に好ましい。Ｘ＝Ｃ（ＣＨ３）２の化合物がより特に好ましい。
【００５４】
オリゴマー化度ｎは、列挙されたリン含有化合物の製造方法から平均値として生じる。通常、この方法におけるオリゴマー化度ｎは、１０未満である。ｎが０．５〜５の化合物が好ましく、０．７〜２．５が特に好ましい。ｎ＝１の分子の割合が高く、６０％〜１００％、好ましくは７０％〜１００％、特に好ましくは７９％〜１００％の化合物がより特に好ましい。この製造方法によって、上記化合物は、更に、少量のトリフェニルホスフェートも含みうる。この物質の量は、ほとんど５ｗｔ．％未満であり、トリフェニルホスフェートの含量が式（４）の化合物に対して０％〜５％、好ましくは０％〜４％、特に好ましくは０％〜２．５％の化合物群が本発明との関連で好ましい。
【００５５】
本発明の範囲内で、式（４）のリン化合物は、いずれの場合も全組成物に対して、１ｗｔ．％〜３０ｗｔ．％、好ましくは２ｗｔ．％〜２０ｗｔ．％、特に好ましくは２ｗｔ．％〜１５ｗｔ．％の量で用いられる。
【００５６】
列挙されたリン化合物は既知（例えば、ＥＰ−Ａ ３６３６０８、ＥＰ−Ａ ６４０６５５参照。）であるか、または、既知の方法に類似の方法（例えば、Ｕｌｌｍａｎｎｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉｅ ｄｅｒ ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，第１８巻，３０１頁以降 １９７９年；Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，第１２／１巻，４３頁；Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ 第６巻，１７７頁。）で製造されうる。
【００５７】
ビスフェノールＡジホスフェートが本発明の範囲内で特に好ましい。ビスフェノールＡジホスフェートは、特に、Ｒｅｏｆｏｓ（登録商標）ＢＡＰＰ（米国インディアナポリスのＣｈｅｍｔｕｒａ）、ＮｃｅｎｄＸ（登録商標）Ｐ−３０（米国ルイジアナ州バトンルージュのＡｌｂｅｍａｒｌｅ）、Ｆｙｒｏｆｌｅｘ（登録商標）ＢＤＰ（オランダ国アルンハイムのＡｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ）またはＣＲ ７４１（登録商標）（大阪の大八化学工業）として市販されている。
【００５８】
加えて、本発明の範囲内で用いられうる別のリン酸エステルは、トリフェニルホスフェートであって、特に、Ｒｅｏｆｏｓ（登録商標）ＴＰＰ（Ｃｈｅｍｔｕｒａ）、Ｆｙｒｏｆｌｅｘ（登録商標）ＴＰＰ（Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ）またはＤｉｓｆｌａｍｏｌｌ（登録商標）ＴＰ（Ｌａｎｘｅｓｓ）として販売されているトリフェニルホスフェート、およびレソルシノールジホスフェートである。レソルシノールジホスフェートは、Ｒｅｏｆｏｓ ＲＤＰ（Ｃｈｅｍｔｕｒａ）またはＦｙｒｏｆｌｅｘ（登録商標）ＲＤＰ（Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ）として市販されている。
【００５９】
ドリップ防止剤として、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）も更に成形材料に添加されうる。ＰＴＦＥは、種々の製品グレードで市販されている。これらとしては、添加剤、例えばＨｏｓｔａｆｌｏｎ（登録商標）ＴＦ２０２１、またはＰＴＦＥブレンド、例えばＭｅｔａｂｌｅｎ（登録商標）Ａ−３８００（三菱レイヨン製の、ＣＡＳ ９００２−８４−０のＰＴＦＥ約４０％と、ＣＡＳ ２５８５２−３７−３のメチルメタクリレート／ブチルアクリレートコポリマー約６０％）もしくはＢｌｅｎｄｅｘ（登録商標）Ｂ４４９（Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のＰＴＦＥ約５０％とＳＡＮ約５０％（スチレン８０％とアクリロニトリル２０％とからなる。））、が挙げられる。
【００６０】
本発明の範囲内で、ＰＴＦＥは、いずれの場合も全組成物に対して、０．０５ｗｔ．％〜５ｗｔ．％、好ましくは０．１ｗｔ．％〜１．０ｗｔ．％、特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％の量で用いられる。
【００６１】
本発明における別の好適な防炎加工剤は、ハロゲン含有化合物である。これらとしては、臭素化化合物、例えば臭素化オリゴカーボネート（例えば、Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネートＢＣ−５２（登録商標）、ＢＣ−５８（登録商標）、ＢＣ−５２ＨＰ（登録商標））、ポリペンタブロモベンジルアクリレート（例えば、Ｄｅａｄ Ｓｅａ Ｂｒｏｍｉｎｅ（ＤＳＢ）製のＦＲ １０２５）、四臭素ビスフェノールＡとエポキシドとから生じるオリゴマー転化生成物（例えば、ＤＳＢ製のＦＲ ２３００および２４００）、または臭素化オリゴスチレンおよびポリスチレン（例えば、Ｆｅｒｒｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＰｙｒｏ−Ｃｈｅｋ（登録商標）６８ＰＢ、Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のＰＤＢＳ ８０およびＦｉｒｅｍａｓｔｅｒ（登録商標）ＰＢＳ−６４ＨＷ）が挙げられる。
【００６２】
ビスフェノールＡベースの臭素化オリゴカーボネート、特にテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネート、が本発明の範囲内で特に好ましい。
【００６３】
本発明の範囲内で、臭素含有化合物は、いずれの場合も全組成物に対して、０．１ｗｔ．％〜３０ｗｔ．％、好ましくは０．１ｗｔ．％〜２０ｗｔ．％、特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜１０ｗｔ．％、より特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜５．０ｗｔ．％の量で用いられる。
【００６４】
更に、塩素含有防炎加工剤、例えばテトラクロロフタルイミド、が用いられうる。
【００６５】
【化５】
【００６６】
式（７）による本発明における好適なテトラクロロフタルイミドとして、一例として、以下のものが挙げられうる。Ｎ−メチルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−エチルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−プロピルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−イソプロピルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−ブチルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−イソブチルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−フェニルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）テトラクロロフタルイミド、Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）テトラクロロフタルイミド、Ｎ−（２，４，６−トリクロロフェニル）テトラクロロフタルイミド、Ｎ−ナフチルテトラクロロフタルイミド。式（７）による本発明における好適なテトラクロロフタルイミドとして、一例として、以下のものが挙げられうる。Ｎ，Ｎ’−エチレンジテトラクロロフタルイミド、Ｎ，Ｎ’−プロピレンジテトラクロロフタルイミド、Ｎ，Ｎ’−ブチレンジテトラクロロフタルイミド、Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレンジテトラクロロフタルイミド、４，４’−ジテトラクロロフタルイミドジフェニル、Ｎ−（テトラクロロフタルイミド）テトラクロロフタルイミド。
【００６７】
Ｎ−メチルおよびＮ−フェニルテトラクロロフタルイミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンジテトラクロロフタルイミド並びにＮ−（テトラクロロフタルイミド）テトラクロロフタルイミドが本発明において特に好適である。
【００６８】
式（７）または（８）のさまざまなテトラクロロフタルイミドの混合物も同様に使用されうる。
【００６９】
本発明の範囲内で、列挙された塩素含有化合物は、いずれの場合も全組成物に対して、０．１ｗｔ．％〜３０ｗｔ．％、好ましくは０．１ｗｔ．％〜２０ｗｔ．％、特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜１０ｗｔ．％、より特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜５．０ｗｔ．％の量で用いられる。
【００７０】
臭素含有および塩素含有防炎加工剤もまた三酸化アンチモンと組み合わせて用いられうる。
【００７１】
列挙された防炎加工剤は、単独で使用されても混合物で使用されてもよいが、常に２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２４５８３−３９−１）と共同で使用される。この関連で、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）は、いずれの場合も全組成物に対して、本発明による量、０．０００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％、好ましくは０．０００１ｗｔ．％〜０．３ｗｔ．％、特に好ましくは０．００１ｗｔ．％〜０．２５ｗｔ．％で用いられる。
【００７２】
この関連で、本発明は、挙げられた防炎加工剤に限定されず、むしろ、別の火炎抑制添加剤−例えばＪ．Ｔｒｏｉｔｚｓｃｈ“Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ，ミュンヘン １９９０年に記述されている−も更に用いられうる。
【００７３】
組成物の製造：
ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．０１ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を含む組成物の製造は、標準の組み込みプロセスによって行われ、例えば、好適な溶媒、例えばジクロロメタン、ハロアルカン、ハロ芳香族、クロロベンゼンおよびキシロール、中の防炎添加剤の溶液および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジンの溶液とポリカーボネートの溶液との混合によって行われる。次に、物質混合物を、好ましくは既知の方法で押出によって均質化する。溶液混合物は、好ましくは、既知の方法で溶媒を蒸発させることによって、次の混合物の押出によって、再生される−例えば配合される。
【００７４】
加えて、組成物を、常套の混合装置、例えばスクリュー押出機（例えば、二軸押出機）、ニーダー、ブラベンダー（Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ）またはバンバリー（Ｂａｎｂｕｒｙ）ミル、において混合し、次に押し出してもよい。押出後、押出物を、冷却し、破砕しうる。個々の成分を、更に予備混合し、次に残る初期物質を個々に添加し、かつ／または、同様に混合状態にする。
【００７５】
本発明による組成物は既知の方法で再生され、例えば押出、射出成形または押出吹込成形によって、任意の成形物品に加工されうる。
【００７６】
共押出ポリカーボネートソリッドシートは、例えば、以下のマシーンおよび器具を用いて製造されうる。
−長さ３３Ｄかつ直径７０ｍｍのスクリューを有し、ガス抜きを有する主押出機
−長さ２５Ｄかつ直径３５ｍｍのスクリューを有する、トップ層を適用するための共押出機
−幅４５０ｍｍの専用共押出スリットダイ
−平滑カレンダー
−ローラーコンベア
−テイクオフ・デバイス（ｔａｋｅ−ｏｆｆ ｄｅｖｉｃｅ）
−フライングナイフ（ソー）
−段積みテーブル
【００７７】
共押出ポリカーボネートマルチウォールシートは、例えば、以下のマシーンおよび器具を用いて製造されうる。
−長さ３３Ｄかつ直径７０ｍｍのスクリューを有し、ガス抜きを有する主押出機
−共押出アダプタ（フィードブロックシステム）
−長さ２５Ｄかつ直径３０ｍｍのスクリューを有する、トップ層を適用するための共押出機
−幅３５０ｍｍの専用スリットダイ
−キャリブレータ
−ローラーコンベア
−テイクオフ・デバイス
−フライングナイフ（ソー）
−段積みテーブル
【００７８】
両方のタイプのシートで、ベース材料のポリカーボネート粒質物を主押出機のフィードホッパーに供給し、共押出材料を共押出機のフィードホッパーに供給する。それぞれの材料の融解および運搬を、それぞれの可塑化システムシリンダー／スクリューにおいて行う。二つの材料の溶融物を共押出アダプタにおいて一つにし、ノズルを離れ、冷却した後にコンポジットを形成する。更なる装置が、押出シートの輸送、所定の長さへの切断および段積みに役立つ。
【００７９】
共押出層を有さないシートを、対応する方法で、共押出機を操作しないかまたは共押出機に主押出機と同一のポリマー組成物を装填することによって、製造する。
【００８０】
ポリカーボネートの吹込成形は、特に、ＤＥ １０２２９５９４および本明細書中に列挙される文献に、より詳細に記述されている。
【００８１】
耐燃性試験
多くの耐燃性試験が知られている。合成材料の耐燃性は、例えば、ＵＬ９４Ｖ法（これについて、（ａ）Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ Ｉｎｃ．Ｓｔａｎｄａｒｄ ｏｆ Ｓａｆｅｔｙ，“Ｔｅｓｔ ｆｏｒ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ Ｐｌａｓｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｆｏｒ Ｐａｒｔｓ ｉｎ Ｄｅｖｉｃｅｓ ａｎｄ Ａｐｐｌｉａｎｃｅｓ”，１４頁以降，Ｎｏｒｔｈｂｒｏｏｋ １９９８年、（ｂ）Ｊ．Ｔｒｏｉｔｚｓｃｈ，“Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，３４６頁以降，Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ，ミュンヘン１９９０年参照。）によって決定されうる。この方法で、ＡＳＴＭ規格試験片の燃焼時間および滴下挙動を評価する。
【００８２】
燃焼性等級ＵＬ９４Ｖ−０の防炎性合成材料の分類に関して、詳細には以下の基準を満たさなければならない：５つのＡＳＴＭ規格試験片（寸法１２７×１２．７×Ｘ、Ｘは試験片の厚さ、例えば３．２、３．０、１．５、１．０または０．７５ｍｍ）１セットにおいて、全ての試験片が所定の高さの裸炎を用いる１０秒間の火炎処理２回の後に１０秒よりも長く燃焼してはならない。５つのサンプルの１０回の火炎処理の場合、燃焼時間の合計は５０秒を超えてはならない。加えて、燃焼ドリップ、完全燃焼またはそれぞれの試験片の残燼が３０秒よりも長く起こってはならない。分類ＵＬ９４Ｖ−１は、個々の燃焼時間が３０秒以下であることおよび５つのサンプルの１０回の火炎処理の燃焼時間の合計が２５０秒以下であることを要求する。全残燼時間は２５０秒を超えてはならない。残りの基準は上記基準と同じである。燃焼性等級の分類ＵＬ９４Ｖ−２は、燃焼ドリップが起こり、分類ＵＬ９４Ｖ−１の残りの基準が満たされる場合に当てはまる。
【００８３】
試験片の可燃性は、更に、酸素指数（ＡＳＴＭ Ｄ ２８６３−７７によるＬＯＩ）の決定によっても評価されうる。
【００８４】
耐燃性の別の試験は、ＤＩＮ ＩＥＣ ６９５−２−１に従うグローワイヤー試験（ｇｌｏｗ−ｗｉｒｅ ｔｅｓｔ）からなる。この試験において、温度５５０℃〜９６０℃のグローワイヤーを用いて、１０個の試験片に関して（例えば寸法６０×６０×２ｍｍまたは１ｍｍのシートに関して）燃焼時間が３０秒を超えず、かつ、燃焼中にサンプルがドリップしない最大温度を確かめる。この試験は、電気工学もしくは電子工学の分野において特に興味深い。なぜなら、電子製品における部品は、漏電の場合や過負荷の場合の高温がすぐ近くの部品を着火させることを想定しているからである。グローワイヤー試験において、そのような熱応力がシミュレートされる。
【００８５】
特別の形態のグローワイヤー試験、ＩＥＣ ６０６９５−１−１３に従うグローワイヤー着火試験、において、焦点は、試験片の着火挙動にある。この試験において、サンプルは、試験プロセス中に着火してはならない。これに関連して、着火は、５秒を超える炎の出現と定義される。サンプルの燃焼ドリップは許されない。
【００８６】
機械的特性：
組成物の機械的特性に関連する調査は、以下の規格に従って行われうる。
【００８７】
衝撃強さは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １８０、ＥＮ ＩＳＯ ２０１８０、ＡＳＴＭ Ｄ２５６、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １７９、ＤＩＮ ＥＮ ２０１７９、ＤＩＮ ５３４５３または対応する規格に従って決定されうる。
【００８８】
ノッチ付きアイゾッド衝撃強さの決定は、ここで、例えば、ＩＳＯ １８０／１Ａ、ＩＳＯ １８０／１ＡＲに従って、または寸法８０×１０×４ｍｍ３の試験サンプルに対してＩＳＯ １８０／１Ｂに従って、または寸法６３．５×１２．７×３．２ｍｍ３の試験サンプルに対してＩＳＯ １８０／４Ａに従って行われうる。
【００８９】
シャルピーによるノッチ付き衝撃強さの測定は、例えば、ＩＳＯ １７９／１ｅＡ、ＩＳＯ １７９／１ｅＢまたはＩＳＯ １７９／１ｅＣまたは代わりに寸法８０×１０×４ｍｍ３または６３．５×１２．７×３．２ｍｍ３の試験サンプルに関してＩＳＯ １７９／１ｆＡ、ＩＳＯ １７９／１ｆＢまたはＩＳＯ １７９／１ｆＣに従って行われる。
【００９０】
ノッチ付きおよび非ノッチ付き試験片の衝撃引張強さは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ８２５６、ＤＩＮ ＥＮ ２８２５６、ＤＩＮ ５３４４８または対応する規格に従って確かめられる。
【００９１】
別の機械的パラメータ−例えば引張弾性率、降伏強さ、伸び（ｓｔｒｅｔｃｈ ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ）、破壊応力、破断伸びまたは公称破断伸び（ｎｏｍｉｎａｌ ｂｒｅａｋｉｎｇ ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ）−は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ５２７、ＤＩＮ ＥＮ ２０５２７、ＤＩＮ ５３４５５／５３４５７、ＤＩＮ ＥＮ ６１、ＡＳＴＭ Ｄ６３８または対応する規格に従う引張試験で得られる。
【００９２】
応力パラメータおよび伸長パラメータ−例えば、曲げ弾性率、常套の曲げの場合の曲げ応力（３．５％曲げ応力）、曲げ強さ、曲げ強さにおける曲げ延性、破断時の曲げ強さまたは破壊時の曲げ延性−は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １７８、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ２０１７８、ＤＩＮ ５３４５２／５３４５７、ＤＩＮ ＥＮ ６３、ＡＳＴＭ Ｄ ７９０または対応する規格に従う曲げ試験に従って提供される。
【００９３】
ビカー軟化温度（ＶＳＴ）は、ＤＩＮ ＩＳＯ ３０６、ＡＳＴＭ Ｄ １５２５または対応する規格に従って定められうる。
【００９４】
力のパラメータおよび曲げパラメータは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ６６０３−２または対応する規格に従う針入度試験によって得られる。
【００９５】
耐候性：
サンプルの耐候性は、さまざまな方法によって提供されうる。これらとしては、特に、ＡＳＴＭ Ｇ６、ＡＳＴＭ Ｇ１５１、ＡＳＴＭ Ｇ１５５、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２−２、ＳＡＥ Ｊ １８８５またはＶＤＡ ７５２０２に従うＸｅｎｏｎ−ＷＯＭ法、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２−３に従うＬＳＬ−ＷＯＭ法、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２−２またはＤＩＮ ＥＮ ５００１４に従うＸｅｎｏｔｅｓｔ（登録商標）Ｈｉｇｈ Ｅｎｅｒｇｙ、ＡＳＴＭ Ｂ１１７、ＤＩＮ ５００２１、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ７２５３、ＤＩＮ ＥＮ ９２２７またはＩＳＯ １１５０３に従うスプレー−ミスト試験（ｓｐｒａｙ−ｍｉｓｔ ｔｅｓｔ）および更にＩＳＯ ４８９２−３またはＡＳＴＭ Ｇ１５４およびＡＳＴＭ Ｇ５３に従うＱＵＶ試験が挙げられる。
【００９６】
レオロジー特性：
メルトインデックス（ＭＦＲ、ＭＶＲ）の決定を、ＩＳＯ １１３３に従って、またはＡＳＴＭ Ｄ１２３８ ＭＶＲに従って行う。
【００９７】
溶融粘度は、ＩＳＯ １１４４３またはＤＩＮ ５４８１１に従って測定される。
【００９８】
溶液粘度は、例えば、規格ＩＳＯ １６２８−１／−４またはＤＩＮ ５１５６２−３に従って確かめられる。
【００９９】
光学測定：
光沢度の決定は、寸法６０×４０×２ｍｍ３のシートに関して反射率計を用いて行われる。ここで、厚さ２ｍｍに加えて、厚さ３ｍｍ、３．２ｍｍおよび４ｍｍもまた考慮に入る。ＤＩＮ ６７５３０、ＩＳＯ ２８１３、ＡＳＴＭ Ｄ５２３または対応する規格がこの測定に応用される。
【０１００】
曇り度および透過率の決定を、ＤＩＮ ５３０６、ＡＳＴＭ Ｄ１００３、ＡＳＴＭ Ｅ１７９またはＩＳＯ １３４６８に従って行う。
【０１０１】
黄色度指数ＹＩは、ＡＳＴＭ Ｅ３１３に従って計算される。
【０１０２】
反射率測定は、ＤＩＮ ５０３６またはＡＳＴＭ Ｅ１７９に従って行われうる。
【０１０３】
グレースケールの決定のために、ＩＳＯ １０５−Ａ０２を行ってもよい。
【実施例】
【０１０４】
実施例の製造：
配合デバイスは以下のものからなる。
成分の配合デバイス
＊スクリュー径５３ｍｍの同方向回転ツインシャフトニーダー（Ｗｅｒｎｅｒ ＆ Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ製のＺＳＫ ５３）
＊メルトストランドの成形用オリフィスノズル
＊ストランドの冷却および固化用ウォーターバス
＊グラニュレータ
【０１０５】
上記配合デバイスを用いて以下の実施例１〜１４の組成物を製造する。
【０１０６】
Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５は、Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧから市販されている。
【０１０７】
Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５は、ＥＵ／ＦＤＡ品質であり、紫外線吸収剤を含まない。ＩＳＯ １１３３によるフローのメルトボリュームレート（ＭＶＲ）は、３００℃において負荷１．２ｋｇで９．５ｃｍ３／（１０分）である。
【０１０８】
Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５は、Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧから市販されている。
【０１０９】
Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５は、ＥＵ／ＦＤＡ品質であり、紫外線吸収剤を含まない。ＩＳＯ １１３３によるフローのメルトボリュームレート（ＭＶＲ）は、３００℃において負荷１．２ｋｇで６．０ｃｍ３／（１０分）である。
【０１１０】
実施例１〜９のコンパウンドの製造過程で、手順は、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５粒質物９５ｗｔ．％に、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５パウダーを含み、実施例において列挙される物質を含むパウダー混合物５ｗｔ．％を計量された量で添加し、実施例で列挙する混合物（コンパウンド）を生じるものである。
【０１１１】
実施例１０のコンパウンドの製造過程で、手順は、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５粒質物７５ｗｔ．％に、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５粒質物２０ｗｔ．％およびＭａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５パウダーを含み、実施例において列挙される紫外線吸収剤を含むパウダー混合物５ｗｔ．％を計量された量で添加し、実施例において列挙する混合物（コンパウンド）を生じるものである。
【０１１２】
実施例１１〜１４のコンパウンドの製造過程で、手順は、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５粒質物７５ｗｔ．％に、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５パウダーを含み、実施例において列挙される物質を含むパウダー混合物５ｗｔ．％を計量された量で添加し、ビスフェノールＡジホスフェートを、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５ ８５ｗｔ．％およびビスフェノールＡジホスフェート１５ｗｔ．％（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ製のＮｃｅｎｄＸ（登録商標）Ｐ−３０）を含有する予め製造されたコンパウンド２０ｗｔ．％の添加によって、計量された量で添加するものである。
【０１１３】
全体として、実施例において列挙される混合物（コンパウンド）が生じる。
【０１１４】
ビスフェノールＡジホスフェートコンパウンドの配合デバイスは、以下のものからなる。
＊成分の計量添加デバイス
＊スクリュー径３２ｍｍの同方向回転ツインシャフトニーダー（Ｃｌｅｘｔｒａｌ製のＥｖｏｌｕｍ ３２ Ｈｉｇｈ Ｔｏｒｑｕｅ）
＊ビスフェノールＡジホスフェートをＬＥＷＡポンプを介して２０ｂａｒにおいて７５〜８０℃において押出機に注入した
＊溶融ストランドの成形用オリフィスノズル
＊ストランドの冷却および固化用ウォーターバス
＊グラニュレータ
【０１１５】
実施例１：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．９０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
【０１１６】
実施例２：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．８５ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊カリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネート（Ｌａｎｘｅｓｓ製のＢａｙｏｗｅｔ（登録商標）Ｃ４）、０．０５ｗｔ．％
【０１１７】
実施例３：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．９５ｗｔ．％
＊カリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネート（Ｌａｎｘｅｓｓ製のＢａｙｏｗｅｔ（登録商標）Ｃ４）、０．０５ｗｔ．％
【０１１８】
実施例４：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．３０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、０．６０ｗｔ．％
【０１１９】
実施例５：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．４０ｗｔ．％
＊カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、０．６０ｗｔ．％
【０１２０】
実施例６：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、３．９０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネート ＢＣ−５２ ＨＰ、１．００ｗｔ．％
【０１２１】
実施例７：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．００ｗｔ．％
＊Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネート ＢＣ−５２ ＨＰ、１．００ｗｔ．％
【０１２２】
実施例８：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．３０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ｍａｔｅｒｉａｌｓ製のＰＤ５（フェニルトリス（トリメチルシロキシ）シラン）、０．１０ｗｔ．％
＊カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、０．５０ｗｔ．％
【０１２３】
実施例９：（比較例）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．４０ｗｔ．％
＊Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ｍａｔｅｒｉａｌｓ製のＰＤ５（フェニルトリス（トリメチルシロキシ）シラン）、０．１０ｗｔ．％
＊カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、０．５０ｗｔ．％
【０１２４】
実施例１０：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、２４．９０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
【０１２５】
実施例１１：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．９０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊ビスフェノールＡジホスフェートコンパウンド、２０．００ｗｔ．％（ビスフェノールＡジホスフェート３．００ｗｔ．％に相当する。）
【０１２６】
実施例１２：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、５．００ｗｔ．％
＊ビスフェノールＡジホスフェートコンパウンド、２０．００ｗｔ．％（ビスフェノールＡジホスフェート３．００ｗｔ．％に相当する。）
【０１２７】
実施例１３：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．４０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のＢｌｅｎｄｅｘ（登録商標）Ｂ４４９、０．５０ｗｔ．％
＊ビスフェノールＡジホスフェートコンパウンド、２０．００ｗｔ．％（ビスフェノールＡジホスフェート３．００ｗｔ．％に相当する。）
【０１２８】
実施例１４：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．５０ｗｔ．％
＊Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のＢｌｅｎｄｅｘ（登録商標）Ｂ４４９（ＰＴＦＥ／ＳＡＮブレンド、重量比５０：５０）０．５０ｗｔ．％
＊ビスフェノールＡジホスフェートのマスターバッチ２０．００ｗｔ．％（ビスフェノールＡジホスフェート３．００ｗｔ．％に相当する。）
【０１２９】
次に、実施例１〜１２のコンパウンドを寸法６３．５×１２．７×３．２ｍｍ３の試験片に加工する。これは、スクリュー径１８ｍｍのＡｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ ２７０Ｓ−５００−６０を用いて行われる。
【０１３０】
次に、実施例１０、１３および１４のコンパウンドを寸法６３．５×１２．７×１．０ｍｍ３の試験片に加工する。これは、スクリュー径１８ｍｍのＡｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ ２７０Ｓ−５００−６０を用いて行われる。
【０１３１】
【０１３２】
次に４セット、それぞれ５つのＵＬ試験片（全部で２０個のＵＬ試験片を試験した。）を、ＵＬ９４Ｖに従って測定した。２セットを、相対大気湿度５０％かつ２３℃における４８時間の貯蔵後に測定した。２セットを、温風炉中の７０℃における７日間の貯蔵後に測定した。
【０１３３】
試験結果を表１に示す。
【０１３４】
【０１３５】
表１から、紫外線安定剤の添加が組成物の防炎性を改良することが明らかである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．０１ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を含む組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
防炎加工合成成形材料は、多数の用途に用いられている。そのような合成材料の典型的な応用分野は、電気工学および電子工学であって、特に、電圧通過部品のキャリアを製造する目的で用いられるかまたはテレビのハウジングおよびモニターのハウジングの形態で用いられる。それだけでなく、防炎加工合成材料は、更に、それ自体、鉄道車両および航空機の内装品の分野でも定着されてきた。良好な防炎性に加えて、この分野において使用される合成材料は、更に別のポジティブな特性も高レベルで示さなければならない。これらとしては、特に、機械的特性、例えば高い衝撃強さおよび更に熱応力または光の作用による起こりうるダメージに関する十分な長期安定性が挙げられる。そのような特性の組み合わせは、達成が容易ではない。合成材料における所望の耐燃性は、一般的に、防炎加工剤を用いて容易に調節されるが、この目的に関してしばしば比較的多量の防炎加工剤が必要とされ、このことが速やかに別の特性、例えば機械的特性、の劇的な悪化をもたらす。
【０００３】
この関連で、ＵＳ ２００３／００６９３３８は、防炎加工成形材料であって、シアノアクリレートと防炎加工剤との相乗組み合わせ物を含む防炎加工成形材料を開示している。このようにして完成された成形材料は、改良された耐燃性および改良された耐候性が認められている。
【０００４】
ＥＰ １３０８０８４は、紫外線吸収剤の特別な組み合わせに加えて防炎加工剤を更に含みうるポリマー組成物を開示しており、この防炎加工剤は詳細に記述されていない。
【０００５】
ＥＰ １７６２５９１は、ポリカーボネートおよび２，４−ビス−（４−フェニルフェニル）−６−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンタイプの紫外線吸収剤および任意に別の安定剤を含む組成物を開示している。防炎加工剤はこの出願の対象ではない。
【０００６】
光安定構造体であって、特にトリアジン含有紫外線吸収剤と共に提供されるポリマーフィルムを含む光安定構造体がＵＳ ２００４／０２０９０２０において請求項に記載されている。
【０００７】
ＵＳ ２００６／０２３４０６１は、ポリアルキレン（メタ）アクリレートおよび２，４−ビス−（４−フェニルフェニル）−６−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンタイプの化合物を含む紫外線保護層並びにポリカーボネートを含む第２層を備えるマルチレイヤーシステムを記述している。
【０００８】
ビフェニル置換トリアジン化合物がＵＳ ６，２５５，４８３および更にＧＢ ２３１７１７４に記述されている。別の添加剤との混合物が一般形態で言及されている。しかしながら、改良された防炎特性を有する組成物の製造に関連する詳細な教示は、この書類からは得られない。
【０００９】
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１９）は、紫外線吸収剤として、例えばＥＰ １３０８０８４に記述されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、改良された防炎特性を示すポリカーボネートを含む組成物の提供である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の範囲内で、防炎加工剤と少量の２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）との相乗組み合わせ物を用いるポリカーボネートを含む組成物の仕上げが組成物の防炎性を驚くほど明らかに改良することがわかった。
【００１２】
従って、本発明は、ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１９）０．０００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．００５ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を含む組成物に関する。
【００１３】
本明細書中の表現「防炎添加剤０．００５ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％」は、１種類の防炎添加剤に限定せず、防炎添加剤の混合物も更に包含する。
【００１４】
そのような組成物は、さまざまな用途に有利に用いられうる。これらとしては、例えば、電気／電子の分野における利用、例えばランプハウジング、電路遮断器、マルチポイントコネクタ（ｍｕｌｔｉｐｏｉｎｔ ｃｏｎｎｅｃｔｏｒｓ）またはテレビおよびモニターのハウジングが挙げられる。本発明による組成物は、更に、建築または工業用のグレージングのためのシートの形態で、鉄道車両および航空機の内装用の装飾として（これらは、それぞれ、耐燃性に関して厳しい要求が課される。）、用いられうる。
【００１５】
本発明は、更に、本発明による組成物の製造方法であって、ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．０１ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を、要すれば溶媒中で、一緒にし、混合し、それによって要すれば均質化を行い、溶媒を除去することを特徴とする製造方法にも関する。
【００１６】
本発明による組成物用のポリカーボネートは、ホモポリカーボネート、コポリカーボネートおよび熱可塑性ポリエステルカーボネートである。
【００１７】
本発明によるポリカーボネートおよびコポリカーボネートの平均分子量（重量平均）は、一般的に、２０００〜２００，０００、好ましくは３０００〜１５０，０００、特に５０００〜１００，０００、より特に好ましくは８０００〜８０，０００、特に１２，０００〜７０，０００である（ポリカーボネート較正を伴うＧＣによって決定される。）。
【００１８】
更に、この範囲内で、好ましくは、平均分子量Ｍｗは１６，０００〜４０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【００１９】
本発明による組成物に関するポリカーボネートの製造に関して、例えば、Ｓｃｈｎｅｌｌ，“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ，第９巻，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク，ロンドン、シドニー １９６４年、Ｄ．Ｃ．ＰＲＥＶＯＲＳＥＫ，Ｂ．Ｔ．ＤＥＢＯＮＡ ａｎｄ Ｙ．ＫＥＳＴＥＮ，Ｃｏｒｐｏｒａｔｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｃｅｎｔｅｒ，Ａｌｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，モリスタウン，ニュージャージー，０７９６０，“Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ Ｐｏｌｙ（ｅｓｔｅｒ）ｃａｒｂｏｎａｔｅ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ”ｉｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｅｄｉｔｉｏｎ，第１９巻，７５〜９０（１９８０年）、Ｄ．Ｆｒｅｉｔａｇ，Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｒ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，Ｎ．Ｎｏｕｖｅｒｔｎｅ，Ｂａｙｅｒ ＡＧ，“Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”ｉｎ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，第１１巻，第２版，１９８８年，６４８〜７１８頁、およびＤｒｓ．Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｋ．Ｋｉｒｃｈｅｒ ａｎｄ Ｐ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ“Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ”ｉｎ Ｂｅｃｋｅｒ／Ｂｒａｕｎ，Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ，第３／１巻，Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ，Ｐｏｌｙａｃｅｔａｌｅ，Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ，Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｅｓｔｅｒ，Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ Ｍｕｎｉｃｈ，ウィーン １９９２年，１１７〜２９９頁を参照しうる。製造は、好ましくは界面法または溶融エステル交換法によって行われ、最初に界面法に基づいて例示的に説明する。
【００２０】
出発化合物として好ましく用いられる化合物は、一般式ＨＯ−Ｚ−ＯＨ（式中、Ｚは、炭素原子を６〜３０個有し、一以上の芳香族基を含む二価の有機残基である。）のビスフェノールである。そのような化合物の例は、ジヒドロキシジフェニル、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、インダンビスフェノール、ビス（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ヒドロキシフェニル）ケトンおよびα，α’−ビス（ヒドロキシフェニル）ジイソプロピルベンゼンを包含する群に属するビスフェノールである。
【００２１】
上記化合物の群に属する特に好ましいビスフェノールは、ビスフェノールＡ、テトラアルキルビスフェノールＡ、４，４−（メタ−フェニルジイソプロピル）ジフェノール（ビスフェノールＭ）、４，４−（パラ−フェニレンジイソプロピル）ジフェノール、Ｎ−フェニルイサチンビスフェノール、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（ＢＰ−ＴＭＣ）、２−ヒドロキシカルビル−３，３−ビス（４−ヒドロキシアリール）フタルイミジンによって示されるタイプのビスフェノール、特に２−フェニル−３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フタルイミジン、および更に要すればそれらの混合物である。ビスフェノールＡベースのホモポリカーボネートおよびモノマービスフェノールＡと１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとベースのコポリカーボネートが特に好ましい。本発明によって用いられるビスフェノール化合物は、炭酸化合物、特にホスゲン、または、溶融エステル交換法の場合、ジフェニルカーボネートもしくはジメチルカーボネート、と共に転化される。
【００２２】
ポリエステルカーボネートは、上記ビスフェノールと少なくとも一種類の芳香族ジカルボン酸と要すれば炭酸同等物との転化によって得られる。好適な芳香族ジカルボン酸は、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、３，３’−または４，４’−ジフェニルジカルボン酸およびベンゾフェノンジカルボン酸である。ポリカーボネート中のカーボネート基の一部、８０ｍｏｌ％以下、好ましくは２０ｍｏｌ％〜５０ｍｏｌ％が芳香族ジカルボン酸エステル基によって置換されていてもよい。
【００２３】
界面法の場合に使用される不活性有機溶媒は、例えば、ジクロロメタン、種々のジクロロエタンおよびクロロプロパン化合物、テトラクロロメタン、トリクロロメタン、クロロベンゼンおよびクロロトルエンである。クロロベンゼンまたはジクロロメタンまたはジクロロメタンとクロロベンゼンとの混合物が好ましく用いられる。
【００２４】
界面反応は、触媒、例えば第三級アミン、特にＮ−アルキルピペリジンまたはオニウム塩によって促進されうる。トリブチルアミン、トリエチルアミンおよびＮ−エチルピペリジンが好ましく使用される。溶融エステル交換法の場合、ＤＥ−Ａ ４２３８１２３に挙げられる触媒が使用される。
【００２５】
ポリカーボネートは、少量の分枝剤の使用によって、意図的にかつ制御された方法で分枝されうる。好適な分枝剤には、イサチンビスクレゾール、フロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−２、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリ（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス［４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノール、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ヘキサ（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェニル）オルトテレフタル酸エステル、テトラ（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラ（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ）メタン、α，α’，α’’−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル、３，３−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール、１，４−ビス（４’，４’’−ジヒドロキシトリフェニル）メチルベンゼン、特に、１，１，１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）エタンおよびビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールがある。
【００２６】
要すれば付随して使用される分枝剤または分枝剤の混合物、用いられるジフェノールに対して０．０５〜２ｍｏｌ％、はジフェノールと共に用いられうるが、合成の後の段階で添加してもよい。
【００２７】
連鎖停止剤が用いられうる。連鎖停止剤として、フェノール類、例えばフェノール、アルキルフェノール、例えばクレゾールおよび４−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、クミルフェノールまたはそれらの混合物、ビスフェノール１モルあたり１〜２０ｍｏｌ％、好ましくは２〜１０ｍｏｌ％、が好ましく使用される。フェノール、４−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノールまたはクミルフェノールが好ましい。
【００２８】
連鎖停止剤および分枝剤は、合成に単独で、またはビスフェノールと共に添加されうる。
【００２９】
本発明による好ましいポリカーボネートは、ビスフェノールＡホモポリカーボネートである。
【００３０】
代わりに、本発明によるポリカーボネートは、溶融エステル交換法によって製造されてもよい。溶融エステル交換法は、例えば、Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，第１０巻（１９６９年），Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ，Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，第９巻，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．（１９６４年）および更にＤＥ−Ｃ １０３１５１２に記述されている。
【００３１】
溶融エステル交換法の場合、界面法との関連で既に記述した芳香族ジヒドロキシ化合物を、好適な触媒および、要すれば、別の添加剤を用いて、溶融状態で炭酸ジエステルとエステル交換する。
【００３２】
本発明における炭酸ジエステルは、式（１）および（２）
【化１】
（式中、Ｒ、Ｒ’およびＲ’’は、互いに独立して、Ｈ、任意に分枝していてもよいＣ１〜Ｃ３４アルキル／シクロアルキル、Ｃ７〜Ｃ３４アルカリールまたはＣ６〜Ｃ３４アリールである。）
の炭酸ジエステル、
例えば、
ジフェニルカーボネート、ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジブチルフェニルカーボネート、イソブチルフェニルフェニルカーボネート、ジイソブチルフェニルカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカーボネート、ｎ−ペンチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ペンチルフェニル）カーボネート、ｎ−ヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ヘキシルフェニル）カーボネート、シクロヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジシクロヘキシルフェニルカーボネート、フェニルフェノールフェニルカーボネート、ジフェニルフェノールカーボネート、イソオクチルフェニルフェニルカーボネート、ジイソオクチルフェニルカーボネート、ｎ−ノニルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ノニルフェニル）カーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネート、ジクミルフェニルカーボネート、ナフチルフェニルフェニルカーボネート、ジナフチルフェニルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）カーボネート、ジクミルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（ジクミルフェニル）カーボネート、４−フェノキシフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−フェノキシフェニル）カーボネート、３−ペンタデシルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（３−ペンタデシルフェニル）カーボネート、トリチルフェニルフェニルカーボネート、ジトリチルフェニルカーボネート、
好ましくは、
ジフェニルカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカーボネート、フェニルフェノールフェニルカーボネート、ジフェニルフェノールカーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネート、ジクミルフェニルカーボネート、
特に好ましくはジフェニルカーボネート
である。
【００３３】
上記炭酸ジエステルの混合物を用いてもよい。
【００３４】
炭酸エステルの割合は、ジヒドロキシ化合物に対して、１００〜１３０ｍｏｌ％、好ましくは１０３〜１２０ｍｏｌ％、特に好ましくは１０３〜１０９ｍｏｌ％である。
【００３５】
本発明における触媒として、列挙した文献に記述されている塩基性触媒、例えばアルカリおよびアルカリ土類金属水酸化物および酸化物、並びにアンモニウムおよびホスホニウム塩（以下、オニウム塩という。）、が溶融エステル交換法において用いられる。この方法において、好ましくはオニウム塩、特に好ましくはホスホニウム塩が用いられる。本発明におけるホスホニウム塩は、式（３）
【化２】
（式中、
Ｒ１〜４は、同一であっても異なっていてもよく、Ｃ１〜Ｃ１０アルカン、Ｃ６〜Ｃ１０アリール、Ｃ７〜Ｃ１０アラルキルまたはＣ５〜Ｃ６シクロアルキル、好ましくはメチルまたはＣ６〜Ｃ１４アリール、特に好ましくはメチルまたはフェニルであり、
Ｘ−は、アニオン、例えばヒドロキシド、スルフェート、ハイドロゲンスルフェート、ハイドロゲンカーボネート、カーボネート、ハライド、好ましくはクロリド、または式ＯＲ（式中、ＲはＣ６〜Ｃ１４アリールまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキル、好ましくはフェニルである。）のアルコレートである。）
のホスホニウム塩である。好ましい触媒は、
テトラフェニルホスホニウムクロリド、
テトラフェニルホスホニウムヒドロキシド、
テトラフェニルホスホニウムフェノレート、
特に好ましくはテトラフェニルホスホニウムフェノレート
である。
【００３６】
触媒は、好ましくは、ビスフェノール１モルに対して１０−８ｍｏｌ〜１０−３ｍｏｌ、特に好ましくは１０−７ｍｏｌ〜１０−４ｍｏｌの量で用いられる。
【００３７】
重合の速度を増加させるために、別の触媒を単独で使用しても、要すればオニウム塩に加えて使用してもよい。前記触媒としては、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の塩、例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウムの水酸化物、アルコキシドおよびアリールオキシド、が挙げられ、好ましくはナトリウムの水酸化物塩、アルコキシド塩またはアリールオキシド塩である。水酸化ナトリウムおよびナトリウムフェノレートが最も好ましい。共触媒の量は、それぞれナトリウムとして計算して、１〜２００ｐｐｂ、好ましくは５〜１５０ｐｐｂ、最も好ましくは１０〜１２５ｐｐｂの範囲内である。
【００３８】
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの溶融状態におけるエステル交換反応は、好ましくは、二段階で行われる。第一段階において、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの融解を温度８０℃〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２３０℃、特に好ましくは１２０℃〜１９０℃において、常圧のもとで、０時間〜５時間、好ましくは０．２５時間〜３時間行う。触媒の添加後、真空（２ｍｍＨｇ）を適用し、温度を（２６０℃まで）上昇させることによってモノフェノールを留去することによって芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとからオリゴカーボネートを製造する。この留去の間、このプロセスで生じる蒸気の主な量が発生する。このようにして製造されるオリゴカーボネートの平均分子量Ｍｗ（光散乱によって較正される、ジクロロメタン中またはフェノール／ｏ−ジクロロベンゼンの等重量混合物中の相対溶液粘度の測定によって確認される。）は、２０００ｇ／ｍｏｌ〜１８，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは４０００ｇ／ｍｏｌ〜１５，０００ｇ／ｍｏｌである。
【００３９】
重縮合における第二段階において、圧力２ｍｍＨｇ未満において温度を更に２５０℃〜３２０℃、好ましくは２７０℃〜２９５℃まで上昇させることによってポリカーボネートを製造する。この段階の間、蒸気の残留物をこのプロセスから除去する。
【００４０】
触媒を互いの組み合わせ（２種類以上）で用いてもよい。
【００４１】
アルカリ金属／アルカリ土類金属触媒の使用の場合、アルカリ金属／アルカリ土類金属触媒を後で（例えば、重縮合の場合、オリゴカーボネートの合成後の第２段階において）添加することが有利である。
【００４２】
ポリカーボネートを形成する芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応は、本発明による方法において、例えば撹拌容器、薄膜式蒸発装置、流下液膜式蒸発器、撹拌容器のカスケード、押出機、ニーダー、シンプルディスクタイプリアクター（ｓｉｍｐｌｅ ｄｉｓｃ−ｔｙｐｅ ｒｅｃｔｏｒｓ）および高粘度ディスクタイプリアクター（ｈｉｇｈ−ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ ｄｉｓｃ−ｔｙｐｅ ｒｅａｃｔｏｒｓ）、において、不連続的に行われても好ましくは連続的に行われてもよい。
【００４３】
界面法と類似した方法で、分枝ポリカーボネートまたはコポリカーボネートは、多官能性化合物を使用して製造されうる。
【００４４】
別の芳香族ポリカーボネートおよび／または別の合成材料−例えば芳香族ポリエステルカーボネート、芳香族ポリエステル、例えばポリブチレンテレフタレートもしくはポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステルアミド、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、例えばポリアルキル（メタ）アクリレート、ここで、特に、ポリメチルメタクリレート、ポリアセタール、ポリウレタン、ポリオレフィン、ハロゲン含有ポリマー、ポリスルホン、ポリエステルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリシロキサン、ポリベンズイミダゾール、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、エポキシド樹脂、ポリスチレン、スチレンもしくはα−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル酸誘導体とのコポリマー、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンベースのグラフトポリマーまたはアクリレートゴム（例えばＥＰ−Ａ ６４０６５５に記載のグラフトポリマー参照。）もしくはシリコーンゴムベースのグラフトコポリマー−を本発明によるポリカーボネートおよびコポリカーボネートに既知の方法で、例えば配合によって、混合してもよい。
【００４５】
これらの熱可塑性樹脂に常套の添加剤−例えば充填剤、紫外線安定剤、熱安定剤、帯電防止剤および顔料−を更に常套の量で本発明によるポリカーボネートおよび、適切である場合、含まれる別の合成材料に添加してもよい。離型性、流動性、および／または耐燃性を、要すれば、表面用離型剤、フリーフロー剤（ｆｒｅｅ−ｆｌｏｗ ａｇｅｎｔ）および／または防炎加工剤（例えばアルキルおよびアリールホスファイト、ホスフェート、ホスファン、低分子カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、塩、チョーク、石英粉末、グラスファイバー、カーボンファイバー、顔料並びにそれらの組み合わせ）の添加によって改良してもよい。そのような化合物は、例えば、ＷＯ ９９／５５７７２，１５〜２５頁、ＥＰ １３０８０８４および“Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，Ｈａｎｓ Ｚｗｅｉｆｅｌ編，第５版 ２０００年，Ｈｎａｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ミュンヘンの対応する章に記述されている。
【００４６】
本発明における好適な防炎加工剤は、特に、スルホン酸、スルホンアミドおよびスルホンイミドの脂肪族および芳香族誘導体のアルカリまたはアルカリ土類金属塩、例えばカリウムペルフルオロブタンスルホネート、カリウムジフェニルスルホンスルホネート、Ｎ−ｐ−（トルイルスルホニル）−ｐ−トルエンスルフィミドカリウム塩、Ｎ−（Ｎ’−ベンジルアミノカルボニル）スルファニルイミドカリウム塩である。
【００４７】
本発明による成形材料において要すれば使用してもよい塩は、例えば、ナトリウムまたはカリウムペルフルオロブタンスルホネート、ナトリウムまたはカリウムペルフルオロメタンスルホネート、ナトリウムまたはカリウムペルフルオロオクタンスルフェート、ナトリウム−またはカリウム−２，５−ジクロロベンゼンスルフェート、ナトリウム−またはカリウム−２，４，５−トリクロロベンゼンスルフェート、ナトリウムまたはカリウムメチルホスホネート、ナトリウム−またはカリウム−（２−フェニルエチレン）ホスホネート、ナトリウムまたはカリウムペンタクロロベンゾエート、ナトリウム−またはカリウム−２，４，６−トリクロロベンゾエート、ナトリウム−またはカリウム−２，４−ジクロロベンゾエート、リチウムフェニルホスホネート、ナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホンスルホネート、ナトリウム−またはカリウム−２−ホルミルベンゼンスルホネート、ナトリウム−またはカリウム−（Ｎ−ベンゼンスルホニル）ベンゼンスルホンアミド、三ナトリウムまたは三カリウムヘキサフルオロアルミネート、二ナトリウムまたは二カリウムヘキサフルオロチタネート、二ナトリウムまたは二カリウムヘキサフルオロシリケート、二ナトリウムまたは二カリウムヘキサフルオロジルコネート、ナトリウムまたはカリウムピロホスフェート、ナトリウムまたはカリウムメタホスフェート、ナトリウムまたはカリウムテトラフルオロボレート、ナトリウムまたはカリウムヘキサフルオロホスフェート、ナトリウムまたはカリウムまたはリチウムホスフェート、Ｎ−（ｐ−トルイルスルホニル）−ｐ−トルエンスルフィミドカリウム塩、Ｎ−（Ｎ’−ベンジルアミノカルボニル）スルファニルイミドカリウム塩である。
【００４８】
ナトリウムまたはカリウムペルフルオロブタンスルフェート、ナトリウムまたはカリウムペルフルオロオクタンスルフェート、ナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホンスルホネートおよびナトリウム−またはカリウム−２，４，６−トリクロロベンゾエートおよびＮ−（ｐ−トリルスルホニル）−ｐ−トルエンスルフィミドカリウム塩、Ｎ−（Ｎ’−ベンジルアミノカルボニル）スルファニルイミドカリウム塩が好ましい。カリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネートおよびナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホン酸スルホネートがより特に好ましい。カリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネートは、特に、Ｂａｙｏｗｅｔ（登録商標）Ｃ４（ドイツ国レーフェルクーゼンのＬａｎｘｅｓｓ、ＣＡＳ番号２９４２０−４９−３）、ＲＭ６４（イタリア国のＭｉｔｅｎｉ）または３ＭＴＭ Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔａｎｅｓｕｌｆｏｎｙｌ Ｆｌｕｏｒｉｄｅ ＦＣ−５１（米国、３Ｍ）として市販されている。列挙した塩の混合物が同様に好適である。
【００４９】
これらの防炎性有機酸塩（ｏｒｇａｎｉｃ ｆｌａｍｅｐｒｏｏｆｉｎｇ ｓａｌｔ）は、成形材料中に、それぞれ全組成物に対して、０．０１ｗｔ．％〜１．０ｗｔ．％、好ましくは０．０１ｗｔ．％〜０．８ｗｔ．％、特に好ましくは０．０１ｗｔ．％〜０．６ｗｔ．％の量で用いられる。
【００５０】
更なる防炎加工剤として、モノマーおよびオリゴマーリン酸エステル、ホスホン酸エステル、ホスホネートアミン、ホスホネート、ホスフィネート、ホスファイト、ハイポホスファイト、ホスフィンオキシドおよびホスファゼンを包含する群から選択されるリン含有防炎加工剤を考慮し、この関連で、例えば、これらの群の一以上から選択される数種類の成分の混合物が防炎加工剤として適用される。他の、ここでは特に言及されない、好ましくはハロゲンフリーの、リン化合物もまた、単独で、または他の、好ましくはハロゲンフリーのリン化合物との任意の組み合わせで、用いられうる。これらとしては、更に、完全に無機のリン化合物、例えばリン酸ホウ素水和物、も挙げられる。更に、ホスホネートアミンもリン含有防炎加工剤として考慮に入る。ホスホネートアミンの製造は、例えば、米国特許明細書第５，８４４，０２８号に記述されている。ホスファゼンおよびその製造は、例えば、ＥＰ−Ａ ７２８８１１、ＤＥ−Ａ １９６１６６８およびＷＯ ９７／４００９２に記述されている。シロキサン、リン酸化オルガノシロキサン、シリコーンまたはシロキシシランもまた、防炎加工剤として適用されうる。このことは、例えば、ＥＰ １３４２７５３、ＤＥ １０２５７０７９ＡおよびＥＰ １１８８７９２に更に詳細に記述されている。
【００５１】
フェニルトリス−トリメチルシロキシシラン（ＣＡＳ番号２１１６−８４−９）を本発明の範囲内で用いた。
【００５２】
本発明の範囲内で、一般式（４）
【化３】
（式中、
Ｒ１〜Ｒ２０ は、互いに独立して、水素、Ｃ原子６個以下の直鎖または分枝アルキル基であり、
ｎ は、０．５〜５０の平均値であり、
Ｂ は、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、好ましくはメチル、またはハロゲン、好ましくは塩素もしくは臭素であり、
ｑ は、それぞれ、互いに独立して、０、１または２であり、
Ｘ は、単結合、Ｃ＝Ｏ、Ｓ、Ｏ、ＳＯ２、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデン、Ｃ５〜Ｃ６シクロアルキリデン、Ｃ６〜Ｃ５２アリーレンであって、任意にヘテロ原子を含んでいてもよい別の芳香環が縮合していてもよいもの、または式（５）もしくは（６）
【化４】
の残基であり、
Ｙ は、炭素であり、
Ｒ２１およびＲ２２ は、それぞれのＹに個々に選択可能な方法で、互いに独立して、水素またはＣ１〜Ｃ６アルキル、好ましくは水素、メチルまたはエチルであり、
ｍ は、４〜７の整数、好ましくは４または５であり、
但し、少なくとも一つの原子ＹにおけるＲ２１とＲ２２とは同時にアルキルである。）
のリン化合物が好ましい。
【００５３】
Ｒ１〜Ｒ２０が互いに独立して水素またはメチル残基であり、ｑ＝０である式（４）のリン化合物が特に好ましい。ＸがＳＯ２、Ｏ、Ｓ、Ｃ＝Ｏ、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデン、Ｃ５〜Ｃ６シクロアルキリデンまたはＣ６〜Ｃ１２アリーレンである化合物が特に好ましい。Ｘ＝Ｃ（ＣＨ３）２の化合物がより特に好ましい。
【００５４】
オリゴマー化度ｎは、列挙されたリン含有化合物の製造方法から平均値として生じる。通常、この方法におけるオリゴマー化度ｎは、１０未満である。ｎが０．５〜５の化合物が好ましく、０．７〜２．５が特に好ましい。ｎ＝１の分子の割合が高く、６０％〜１００％、好ましくは７０％〜１００％、特に好ましくは７９％〜１００％の化合物がより特に好ましい。この製造方法によって、上記化合物は、更に、少量のトリフェニルホスフェートも含みうる。この物質の量は、ほとんど５ｗｔ．％未満であり、トリフェニルホスフェートの含量が式（４）の化合物に対して０％〜５％、好ましくは０％〜４％、特に好ましくは０％〜２．５％の化合物群が本発明との関連で好ましい。
【００５５】
本発明の範囲内で、式（４）のリン化合物は、いずれの場合も全組成物に対して、１ｗｔ．％〜３０ｗｔ．％、好ましくは２ｗｔ．％〜２０ｗｔ．％、特に好ましくは２ｗｔ．％〜１５ｗｔ．％の量で用いられる。
【００５６】
列挙されたリン化合物は既知（例えば、ＥＰ−Ａ ３６３６０８、ＥＰ−Ａ ６４０６５５参照。）であるか、または、既知の方法に類似の方法（例えば、Ｕｌｌｍａｎｎｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉｅ ｄｅｒ ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，第１８巻，３０１頁以降 １９７９年；Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，第１２／１巻，４３頁；Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ 第６巻，１７７頁。）で製造されうる。
【００５７】
ビスフェノールＡジホスフェートが本発明の範囲内で特に好ましい。ビスフェノールＡジホスフェートは、特に、Ｒｅｏｆｏｓ（登録商標）ＢＡＰＰ（米国インディアナポリスのＣｈｅｍｔｕｒａ）、ＮｃｅｎｄＸ（登録商標）Ｐ−３０（米国ルイジアナ州バトンルージュのＡｌｂｅｍａｒｌｅ）、Ｆｙｒｏｆｌｅｘ（登録商標）ＢＤＰ（オランダ国アルンハイムのＡｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ）またはＣＲ ７４１（登録商標）（大阪の大八化学工業）として市販されている。
【００５８】
加えて、本発明の範囲内で用いられうる別のリン酸エステルは、トリフェニルホスフェートであって、特に、Ｒｅｏｆｏｓ（登録商標）ＴＰＰ（Ｃｈｅｍｔｕｒａ）、Ｆｙｒｏｆｌｅｘ（登録商標）ＴＰＰ（Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ）またはＤｉｓｆｌａｍｏｌｌ（登録商標）ＴＰ（Ｌａｎｘｅｓｓ）として販売されているトリフェニルホスフェート、およびレソルシノールジホスフェートである。レソルシノールジホスフェートは、Ｒｅｏｆｏｓ ＲＤＰ（Ｃｈｅｍｔｕｒａ）またはＦｙｒｏｆｌｅｘ（登録商標）ＲＤＰ（Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ）として市販されている。
【００５９】
ドリップ防止剤として、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）も更に成形材料に添加されうる。ＰＴＦＥは、種々の製品グレードで市販されている。これらとしては、添加剤、例えばＨｏｓｔａｆｌｏｎ（登録商標）ＴＦ２０２１、またはＰＴＦＥブレンド、例えばＭｅｔａｂｌｅｎ（登録商標）Ａ−３８００（三菱レイヨン製の、ＣＡＳ ９００２−８４−０のＰＴＦＥ約４０％と、ＣＡＳ ２５８５２−３７−３のメチルメタクリレート／ブチルアクリレートコポリマー約６０％）もしくはＢｌｅｎｄｅｘ（登録商標）Ｂ４４９（Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のＰＴＦＥ約５０％とＳＡＮ約５０％（スチレン８０％とアクリロニトリル２０％とからなる。））、が挙げられる。
【００６０】
本発明の範囲内で、ＰＴＦＥは、いずれの場合も全組成物に対して、０．０５ｗｔ．％〜５ｗｔ．％、好ましくは０．１ｗｔ．％〜１．０ｗｔ．％、特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％の量で用いられる。
【００６１】
本発明における別の好適な防炎加工剤は、ハロゲン含有化合物である。これらとしては、臭素化化合物、例えば臭素化オリゴカーボネート（例えば、Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネートＢＣ−５２（登録商標）、ＢＣ−５８（登録商標）、ＢＣ−５２ＨＰ（登録商標））、ポリペンタブロモベンジルアクリレート（例えば、Ｄｅａｄ Ｓｅａ Ｂｒｏｍｉｎｅ（ＤＳＢ）製のＦＲ １０２５）、四臭素ビスフェノールＡとエポキシドとから生じるオリゴマー転化生成物（例えば、ＤＳＢ製のＦＲ ２３００および２４００）、または臭素化オリゴスチレンおよびポリスチレン（例えば、Ｆｅｒｒｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＰｙｒｏ−Ｃｈｅｋ（登録商標）６８ＰＢ、Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のＰＤＢＳ ８０およびＦｉｒｅｍａｓｔｅｒ（登録商標）ＰＢＳ−６４ＨＷ）が挙げられる。
【００６２】
ビスフェノールＡベースの臭素化オリゴカーボネート、特にテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネート、が本発明の範囲内で特に好ましい。
【００６３】
本発明の範囲内で、臭素含有化合物は、いずれの場合も全組成物に対して、０．１ｗｔ．％〜３０ｗｔ．％、好ましくは０．１ｗｔ．％〜２０ｗｔ．％、特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜１０ｗｔ．％、より特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜５．０ｗｔ．％の量で用いられる。
【００６４】
更に、塩素含有防炎加工剤、例えばテトラクロロフタルイミド、が用いられうる。
【００６５】
【化５】
【００６６】
式（７）による本発明における好適なテトラクロロフタルイミドとして、一例として、以下のものが挙げられうる。Ｎ−メチルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−エチルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−プロピルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−イソプロピルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−ブチルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−イソブチルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−フェニルテトラクロロフタルイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）テトラクロロフタルイミド、Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）テトラクロロフタルイミド、Ｎ−（２，４，６−トリクロロフェニル）テトラクロロフタルイミド、Ｎ−ナフチルテトラクロロフタルイミド。式（７）による本発明における好適なテトラクロロフタルイミドとして、一例として、以下のものが挙げられうる。Ｎ，Ｎ’−エチレンジテトラクロロフタルイミド、Ｎ，Ｎ’−プロピレンジテトラクロロフタルイミド、Ｎ，Ｎ’−ブチレンジテトラクロロフタルイミド、Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレンジテトラクロロフタルイミド、４，４’−ジテトラクロロフタルイミドジフェニル、Ｎ−（テトラクロロフタルイミド）テトラクロロフタルイミド。
【００６７】
Ｎ−メチルおよびＮ−フェニルテトラクロロフタルイミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンジテトラクロロフタルイミド並びにＮ−（テトラクロロフタルイミド）テトラクロロフタルイミドが本発明において特に好適である。
【００６８】
式（７）または（８）のさまざまなテトラクロロフタルイミドの混合物も同様に使用されうる。
【００６９】
本発明の範囲内で、列挙された塩素含有化合物は、いずれの場合も全組成物に対して、０．１ｗｔ．％〜３０ｗｔ．％、好ましくは０．１ｗｔ．％〜２０ｗｔ．％、特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜１０ｗｔ．％、より特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜５．０ｗｔ．％の量で用いられる。
【００７０】
臭素含有および塩素含有防炎加工剤もまた三酸化アンチモンと組み合わせて用いられうる。
【００７１】
列挙された防炎加工剤は、単独で使用されても混合物で使用されてもよいが、常に２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２４５８３−３９−１）と共同で使用される。この関連で、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）は、いずれの場合も全組成物に対して、本発明による量、０．０００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％、好ましくは０．０００１ｗｔ．％〜０．３ｗｔ．％、特に好ましくは０．００１ｗｔ．％〜０．２５ｗｔ．％で用いられる。
【００７２】
この関連で、本発明は、挙げられた防炎加工剤に限定されず、むしろ、別の火炎抑制添加剤−例えばＪ．Ｔｒｏｉｔｚｓｃｈ“Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ，ミュンヘン １９９０年に記述されている−も更に用いられうる。
【００７３】
組成物の製造：
ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．００１ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．０１ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を含む組成物の製造は、標準の組み込みプロセスによって行われ、例えば、好適な溶媒、例えばジクロロメタン、ハロアルカン、ハロ芳香族、クロロベンゼンおよびキシロール、中の防炎添加剤の溶液および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジンの溶液とポリカーボネートの溶液との混合によって行われる。次に、物質混合物を、好ましくは既知の方法で押出によって均質化する。溶液混合物は、好ましくは、既知の方法で溶媒を蒸発させることによって、次の混合物の押出によって、再生される−例えば配合される。
【００７４】
加えて、組成物を、常套の混合装置、例えばスクリュー押出機（例えば、二軸押出機）、ニーダー、ブラベンダー（Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ）またはバンバリー（Ｂａｎｂｕｒｙ）ミル、において混合し、次に押し出してもよい。押出後、押出物を、冷却し、破砕しうる。個々の成分を、更に予備混合し、次に残る初期物質を個々に添加し、かつ／または、同様に混合状態にする。
【００７５】
本発明による組成物は既知の方法で再生され、例えば押出、射出成形または押出吹込成形によって、任意の成形物品に加工されうる。
【００７６】
共押出ポリカーボネートソリッドシートは、例えば、以下のマシーンおよび器具を用いて製造されうる。
−長さ３３Ｄかつ直径７０ｍｍのスクリューを有し、ガス抜きを有する主押出機
−長さ２５Ｄかつ直径３５ｍｍのスクリューを有する、トップ層を適用するための共押出機
−幅４５０ｍｍの専用共押出スリットダイ
−平滑カレンダー
−ローラーコンベア
−テイクオフ・デバイス（ｔａｋｅ−ｏｆｆ ｄｅｖｉｃｅ）
−フライングナイフ（ソー）
−段積みテーブル
【００７７】
共押出ポリカーボネートマルチウォールシートは、例えば、以下のマシーンおよび器具を用いて製造されうる。
−長さ３３Ｄかつ直径７０ｍｍのスクリューを有し、ガス抜きを有する主押出機
−共押出アダプタ（フィードブロックシステム）
−長さ２５Ｄかつ直径３０ｍｍのスクリューを有する、トップ層を適用するための共押出機
−幅３５０ｍｍの専用スリットダイ
−キャリブレータ
−ローラーコンベア
−テイクオフ・デバイス
−フライングナイフ（ソー）
−段積みテーブル
【００７８】
両方のタイプのシートで、ベース材料のポリカーボネート粒質物を主押出機のフィードホッパーに供給し、共押出材料を共押出機のフィードホッパーに供給する。それぞれの材料の融解および運搬を、それぞれの可塑化システムシリンダー／スクリューにおいて行う。二つの材料の溶融物を共押出アダプタにおいて一つにし、ノズルを離れ、冷却した後にコンポジットを形成する。更なる装置が、押出シートの輸送、所定の長さへの切断および段積みに役立つ。
【００７９】
共押出層を有さないシートを、対応する方法で、共押出機を操作しないかまたは共押出機に主押出機と同一のポリマー組成物を装填することによって、製造する。
【００８０】
ポリカーボネートの吹込成形は、特に、ＤＥ １０２２９５９４および本明細書中に列挙される文献に、より詳細に記述されている。
【００８１】
耐燃性試験
多くの耐燃性試験が知られている。合成材料の耐燃性は、例えば、ＵＬ９４Ｖ法（これについて、（ａ）Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ Ｉｎｃ．Ｓｔａｎｄａｒｄ ｏｆ Ｓａｆｅｔｙ，“Ｔｅｓｔ ｆｏｒ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ Ｐｌａｓｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｆｏｒ Ｐａｒｔｓ ｉｎ Ｄｅｖｉｃｅｓ ａｎｄ Ａｐｐｌｉａｎｃｅｓ”，１４頁以降，Ｎｏｒｔｈｂｒｏｏｋ １９９８年、（ｂ）Ｊ．Ｔｒｏｉｔｚｓｃｈ，“Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，３４６頁以降，Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ，ミュンヘン１９９０年参照。）によって決定されうる。この方法で、ＡＳＴＭ規格試験片の燃焼時間および滴下挙動を評価する。
【００８２】
燃焼性等級ＵＬ９４Ｖ−０の防炎性合成材料の分類に関して、詳細には以下の基準を満たさなければならない：５つのＡＳＴＭ規格試験片（寸法１２７×１２．７×Ｘ、Ｘは試験片の厚さ、例えば３．２、３．０、１．５、１．０または０．７５ｍｍ）１セットにおいて、全ての試験片が所定の高さの裸炎を用いる１０秒間の火炎処理２回の後に１０秒よりも長く燃焼してはならない。５つのサンプルの１０回の火炎処理の場合、燃焼時間の合計は５０秒を超えてはならない。加えて、燃焼ドリップ、完全燃焼またはそれぞれの試験片の残燼が３０秒よりも長く起こってはならない。分類ＵＬ９４Ｖ−１は、個々の燃焼時間が３０秒以下であることおよび５つのサンプルの１０回の火炎処理の燃焼時間の合計が２５０秒以下であることを要求する。全残燼時間は２５０秒を超えてはならない。残りの基準は上記基準と同じである。燃焼性等級の分類ＵＬ９４Ｖ−２は、燃焼ドリップが起こり、分類ＵＬ９４Ｖ−１の残りの基準が満たされる場合に当てはまる。
【００８３】
試験片の可燃性は、更に、酸素指数（ＡＳＴＭ Ｄ ２８６３−７７によるＬＯＩ）の決定によっても評価されうる。
【００８４】
耐燃性の別の試験は、ＤＩＮ ＩＥＣ ６９５−２−１に従うグローワイヤー試験（ｇｌｏｗ−ｗｉｒｅ ｔｅｓｔ）からなる。この試験において、温度５５０℃〜９６０℃のグローワイヤーを用いて、１０個の試験片に関して（例えば寸法６０×６０×２ｍｍまたは１ｍｍのシートに関して）燃焼時間が３０秒を超えず、かつ、燃焼中にサンプルがドリップしない最大温度を確かめる。この試験は、電気工学もしくは電子工学の分野において特に興味深い。なぜなら、電子製品における部品は、漏電の場合や過負荷の場合の高温がすぐ近くの部品を着火させることを想定しているからである。グローワイヤー試験において、そのような熱応力がシミュレートされる。
【００８５】
特別の形態のグローワイヤー試験、ＩＥＣ ６０６９５−１−１３に従うグローワイヤー着火試験、において、焦点は、試験片の着火挙動にある。この試験において、サンプルは、試験プロセス中に着火してはならない。これに関連して、着火は、５秒を超える炎の出現と定義される。サンプルの燃焼ドリップは許されない。
【００８６】
機械的特性：
組成物の機械的特性に関連する調査は、以下の規格に従って行われうる。
【００８７】
衝撃強さは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １８０、ＥＮ ＩＳＯ ２０１８０、ＡＳＴＭ Ｄ２５６、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １７９、ＤＩＮ ＥＮ ２０１７９、ＤＩＮ ５３４５３または対応する規格に従って決定されうる。
【００８８】
ノッチ付きアイゾッド衝撃強さの決定は、ここで、例えば、ＩＳＯ １８０／１Ａ、ＩＳＯ １８０／１ＡＲに従って、または寸法８０×１０×４ｍｍ３の試験サンプルに対してＩＳＯ １８０／１Ｂに従って、または寸法６３．５×１２．７×３．２ｍｍ３の試験サンプルに対してＩＳＯ １８０／４Ａに従って行われうる。
【００８９】
シャルピーによるノッチ付き衝撃強さの測定は、例えば、ＩＳＯ １７９／１ｅＡ、ＩＳＯ １７９／１ｅＢまたはＩＳＯ １７９／１ｅＣまたは代わりに寸法８０×１０×４ｍｍ３または６３．５×１２．７×３．２ｍｍ３の試験サンプルに関してＩＳＯ １７９／１ｆＡ、ＩＳＯ １７９／１ｆＢまたはＩＳＯ １７９／１ｆＣに従って行われる。
【００９０】
ノッチ付きおよび非ノッチ付き試験片の衝撃引張強さは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ８２５６、ＤＩＮ ＥＮ ２８２５６、ＤＩＮ ５３４４８または対応する規格に従って確かめられる。
【００９１】
別の機械的パラメータ−例えば引張弾性率、降伏強さ、伸び（ｓｔｒｅｔｃｈ ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ）、破壊応力、破断伸びまたは公称破断伸び（ｎｏｍｉｎａｌ ｂｒｅａｋｉｎｇ ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ）−は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ５２７、ＤＩＮ ＥＮ ２０５２７、ＤＩＮ ５３４５５／５３４５７、ＤＩＮ ＥＮ ６１、ＡＳＴＭ Ｄ６３８または対応する規格に従う引張試験で得られる。
【００９２】
応力パラメータおよび伸長パラメータ−例えば、曲げ弾性率、常套の曲げの場合の曲げ応力（３．５％曲げ応力）、曲げ強さ、曲げ強さにおける曲げ延性、破断時の曲げ強さまたは破壊時の曲げ延性−は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １７８、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ２０１７８、ＤＩＮ ５３４５２／５３４５７、ＤＩＮ ＥＮ ６３、ＡＳＴＭ Ｄ ７９０または対応する規格に従う曲げ試験に従って提供される。
【００９３】
ビカー軟化温度（ＶＳＴ）は、ＤＩＮ ＩＳＯ ３０６、ＡＳＴＭ Ｄ １５２５または対応する規格に従って定められうる。
【００９４】
力のパラメータおよび曲げパラメータは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ６６０３−２または対応する規格に従う針入度試験によって得られる。
【００９５】
耐候性：
サンプルの耐候性は、さまざまな方法によって提供されうる。これらとしては、特に、ＡＳＴＭ Ｇ６、ＡＳＴＭ Ｇ１５１、ＡＳＴＭ Ｇ１５５、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２−２、ＳＡＥ Ｊ １８８５またはＶＤＡ ７５２０２に従うＸｅｎｏｎ−ＷＯＭ法、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２−３に従うＬＳＬ−ＷＯＭ法、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２−２またはＤＩＮ ＥＮ ５００１４に従うＸｅｎｏｔｅｓｔ（登録商標）Ｈｉｇｈ Ｅｎｅｒｇｙ、ＡＳＴＭ Ｂ１１７、ＤＩＮ ５００２１、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ７２５３、ＤＩＮ ＥＮ ９２２７またはＩＳＯ １１５０３に従うスプレー−ミスト試験（ｓｐｒａｙ−ｍｉｓｔ ｔｅｓｔ）および更にＩＳＯ ４８９２−３またはＡＳＴＭ Ｇ１５４およびＡＳＴＭ Ｇ５３に従うＱＵＶ試験が挙げられる。
【００９６】
レオロジー特性：
メルトインデックス（ＭＦＲ、ＭＶＲ）の決定を、ＩＳＯ １１３３に従って、またはＡＳＴＭ Ｄ１２３８ ＭＶＲに従って行う。
【００９７】
溶融粘度は、ＩＳＯ １１４４３またはＤＩＮ ５４８１１に従って測定される。
【００９８】
溶液粘度は、例えば、規格ＩＳＯ １６２８−１／−４またはＤＩＮ ５１５６２−３に従って確かめられる。
【００９９】
光学測定：
光沢度の決定は、寸法６０×４０×２ｍｍ３のシートに関して反射率計を用いて行われる。ここで、厚さ２ｍｍに加えて、厚さ３ｍｍ、３．２ｍｍおよび４ｍｍもまた考慮に入る。ＤＩＮ ６７５３０、ＩＳＯ ２８１３、ＡＳＴＭ Ｄ５２３または対応する規格がこの測定に応用される。
【０１００】
曇り度および透過率の決定を、ＤＩＮ ５３０６、ＡＳＴＭ Ｄ１００３、ＡＳＴＭ Ｅ１７９またはＩＳＯ １３４６８に従って行う。
【０１０１】
黄色度指数ＹＩは、ＡＳＴＭ Ｅ３１３に従って計算される。
【０１０２】
反射率測定は、ＤＩＮ ５０３６またはＡＳＴＭ Ｅ１７９に従って行われうる。
【０１０３】
グレースケールの決定のために、ＩＳＯ １０５−Ａ０２を行ってもよい。
【実施例】
【０１０４】
実施例の製造：
配合デバイスは以下のものからなる。
成分の配合デバイス
＊スクリュー径５３ｍｍの同方向回転ツインシャフトニーダー（Ｗｅｒｎｅｒ ＆ Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ製のＺＳＫ ５３）
＊メルトストランドの成形用オリフィスノズル
＊ストランドの冷却および固化用ウォーターバス
＊グラニュレータ
【０１０５】
上記配合デバイスを用いて以下の実施例１〜１４の組成物を製造する。
【０１０６】
Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５は、Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧから市販されている。
【０１０７】
Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５は、ＥＵ／ＦＤＡ品質であり、紫外線吸収剤を含まない。ＩＳＯ １１３３によるフローのメルトボリュームレート（ＭＶＲ）は、３００℃において負荷１．２ｋｇで９．５ｃｍ３／（１０分）である。
【０１０８】
Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５は、Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧから市販されている。
【０１０９】
Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５は、ＥＵ／ＦＤＡ品質であり、紫外線吸収剤を含まない。ＩＳＯ １１３３によるフローのメルトボリュームレート（ＭＶＲ）は、３００℃において負荷１．２ｋｇで６．０ｃｍ３／（１０分）である。
【０１１０】
実施例１〜９のコンパウンドの製造過程で、手順は、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５粒質物９５ｗｔ．％に、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５パウダーを含み、実施例において列挙される物質を含むパウダー混合物５ｗｔ．％を計量された量で添加し、実施例で列挙する混合物（コンパウンド）を生じるものである。
【０１１１】
実施例１０のコンパウンドの製造過程で、手順は、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５粒質物７５ｗｔ．％に、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５粒質物２０ｗｔ．％およびＭａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５パウダーを含み、実施例において列挙される紫外線吸収剤を含むパウダー混合物５ｗｔ．％を計量された量で添加し、実施例において列挙する混合物（コンパウンド）を生じるものである。
【０１１２】
実施例１１〜１４のコンパウンドの製造過程で、手順は、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５粒質物７５ｗｔ．％に、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５パウダーを含み、実施例において列挙される物質を含むパウダー混合物５ｗｔ．％を計量された量で添加し、ビスフェノールＡジホスフェートを、Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５ ８５ｗｔ．％およびビスフェノールＡジホスフェート１５ｗｔ．％（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ製のＮｃｅｎｄＸ（登録商標）Ｐ−３０）を含有する予め製造されたコンパウンド２０ｗｔ．％の添加によって、計量された量で添加するものである。
【０１１３】
全体として、実施例において列挙される混合物（コンパウンド）が生じる。
【０１１４】
ビスフェノールＡジホスフェートコンパウンドの配合デバイスは、以下のものからなる。
＊成分の計量添加デバイス
＊スクリュー径３２ｍｍの同方向回転ツインシャフトニーダー（Ｃｌｅｘｔｒａｌ製のＥｖｏｌｕｍ ３２ Ｈｉｇｈ Ｔｏｒｑｕｅ）
＊ビスフェノールＡジホスフェートをＬＥＷＡポンプを介して２０ｂａｒにおいて７５〜８０℃において押出機に注入した
＊溶融ストランドの成形用オリフィスノズル
＊ストランドの冷却および固化用ウォーターバス
＊グラニュレータ
【０１１５】
実施例１：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．９０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
【０１１６】
実施例２：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．８５ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊カリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネート（Ｌａｎｘｅｓｓ製のＢａｙｏｗｅｔ（登録商標）Ｃ４）、０．０５ｗｔ．％
【０１１７】
実施例３：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．９５ｗｔ．％
＊カリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネート（Ｌａｎｘｅｓｓ製のＢａｙｏｗｅｔ（登録商標）Ｃ４）、０．０５ｗｔ．％
【０１１８】
実施例４：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．３０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、０．６０ｗｔ．％
【０１１９】
実施例５：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．４０ｗｔ．％
＊カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、０．６０ｗｔ．％
【０１２０】
実施例６：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、３．９０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネート ＢＣ−５２ ＨＰ、１．００ｗｔ．％
【０１２１】
実施例７：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．００ｗｔ．％
＊Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネート ＢＣ−５２ ＨＰ、１．００ｗｔ．％
【０１２２】
実施例８：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．３０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ｍａｔｅｒｉａｌｓ製のＰＤ５（フェニルトリス（トリメチルシロキシ）シラン）、０．１０ｗｔ．％
＊カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、０．５０ｗｔ．％
【０１２３】
実施例９：（比較例）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、９５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．４０ｗｔ．％
＊Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ｍａｔｅｒｉａｌｓ製のＰＤ５（フェニルトリス（トリメチルシロキシ）シラン）、０．１０ｗｔ．％
＊カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、０．５０ｗｔ．％
【０１２４】
実施例１０：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、２４．９０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
【０１２５】
実施例１１：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．９０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊ビスフェノールＡジホスフェートコンパウンド、２０．００ｗｔ．％（ビスフェノールＡジホスフェート３．００ｗｔ．％に相当する。）
【０１２６】
実施例１２：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、５．００ｗｔ．％
＊ビスフェノールＡジホスフェートコンパウンド、２０．００ｗｔ．％（ビスフェノールＡジホスフェート３．００ｗｔ．％に相当する。）
【０１２７】
実施例１３：
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．４０ｗｔ．％
＊２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン、０．１０ｗｔ．％
＊Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のＢｌｅｎｄｅｘ（登録商標）Ｂ４４９、０．５０ｗｔ．％
＊ビスフェノールＡジホスフェートコンパウンド、２０．００ｗｔ．％（ビスフェノールＡジホスフェート３．００ｗｔ．％に相当する。）
【０１２８】
実施例１４：（比較）
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８ ５５０１１５、７５．００ｗｔ．％
＊Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８ ５５０１１５、４．５０ｗｔ．％
＊Ｃｈｅｍｔｕｒａ製のＢｌｅｎｄｅｘ（登録商標）Ｂ４４９（ＰＴＦＥ／ＳＡＮブレンド、重量比５０：５０）０．５０ｗｔ．％
＊ビスフェノールＡジホスフェートのマスターバッチ２０．００ｗｔ．％（ビスフェノールＡジホスフェート３．００ｗｔ．％に相当する。）
【０１２９】
次に、実施例１〜１２のコンパウンドを寸法６３．５×１２．７×３．２ｍｍ３の試験片に加工する。これは、スクリュー径１８ｍｍのＡｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ ２７０Ｓ−５００−６０を用いて行われる。
【０１３０】
次に、実施例１０、１３および１４のコンパウンドを寸法６３．５×１２．７×１．０ｍｍ３の試験片に加工する。これは、スクリュー径１８ｍｍのＡｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ ２７０Ｓ−５００−６０を用いて行われる。
【０１３１】
【０１３２】
次に４セット、それぞれ５つのＵＬ試験片（全部で２０個のＵＬ試験片を試験した。）を、ＵＬ９４Ｖに従って測定した。２セットを、相対大気湿度５０％かつ２３℃における４８時間の貯蔵後に測定した。２セットを、温風炉中の７０℃における７日間の貯蔵後に測定した。
【０１３３】
試験結果を表１に示す。
【０１３４】
【０１３５】
表１から、紫外線安定剤の添加が組成物の防炎性を改良することが明らかである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン０．０００１〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．０１ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を含む組成物。
【請求項２】
該防炎添加剤が防炎性有機酸塩であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
該防炎添加剤がスルホン酸、スルホンアミドまたはスルホンイミドの脂肪族または芳香族誘導体のアルカリまたはアルカリ土類金属塩であることを特徴とする、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
該防炎性有機酸塩がナトリウムまたはカリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネートであることを特徴とする、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
該防炎性有機酸塩がナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホン酸スルホネートであることを特徴とする、請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
防炎添加剤として、ナトリウムまたはカリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネートおよびナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホン酸スルホネートからなる混合物を使用することを特徴とする、請求項３に記載の組成物。
【請求項７】
該防炎添加剤がハロゲン含有防炎添加剤であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
該ハロゲン含有防炎添加剤がテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネート（ＴＢＢＯＣ）であることを特徴とする、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
該防炎添加剤がシロキサンであることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
該防炎添加剤がリン含有防炎添加剤であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
該リン含有防炎添加剤がトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）またはビスフェノールＡジホスフェート（ＤＢＰ）またはレソルシノールジホスフェート（ＲＤＰ）であることを特徴とする、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
該リン含有防炎添加剤の混合物が含まれることを特徴とする、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
該防炎添加剤の混合物が含まれることを特徴とする、請求項３〜１２に記載の組成物。
【請求項１４】
ポリテトラフルオロエチレンまたはポリテトラフルオロエチレンブレンドが更に含まれることを特徴とする、請求項１〜１３に記載の組成物。
【請求項１５】
該組成物が更に熱安定剤を、組成物の総量に対して、１０ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍ含むことを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１６】
該熱安定剤が、トリス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）ホスフェートおよびトリフェニルホスフィンからなる群から選択される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
請求項１に記載の組成物を含む製品。
【請求項１８】
該製品がシングルレイヤーまたはマルチレイヤーのソリッド、マルチウォールまたは波形シートを構成し、該シートの一以上の層が請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物を含むことを特徴とする、請求項１７に記載の製品。
【請求項１９】
該製品が射出成形法で製造されることを特徴とする、請求項１７に記載の製品。
【請求項１】
ポリカーボネートおよび２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン０．０００１〜０．５ｗｔ．％および防炎添加剤０．０１ｗｔ．％〜３０．００ｗｔ．％を含む組成物。
【請求項２】
該防炎添加剤が防炎性有機酸塩であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
該防炎添加剤がスルホン酸、スルホンアミドまたはスルホンイミドの脂肪族または芳香族誘導体のアルカリまたはアルカリ土類金属塩であることを特徴とする、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
該防炎性有機酸塩がナトリウムまたはカリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネートであることを特徴とする、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
該防炎性有機酸塩がナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホン酸スルホネートであることを特徴とする、請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
防炎添加剤として、ナトリウムまたはカリウムノナ−フルオロ−１−ブタンスルホネートおよびナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホン酸スルホネートからなる混合物を使用することを特徴とする、請求項３に記載の組成物。
【請求項７】
該防炎添加剤がハロゲン含有防炎添加剤であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
該ハロゲン含有防炎添加剤がテトラブロモビスフェノールＡオリゴカーボネート（ＴＢＢＯＣ）であることを特徴とする、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
該防炎添加剤がシロキサンであることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
該防炎添加剤がリン含有防炎添加剤であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
該リン含有防炎添加剤がトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）またはビスフェノールＡジホスフェート（ＤＢＰ）またはレソルシノールジホスフェート（ＲＤＰ）であることを特徴とする、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
該リン含有防炎添加剤の混合物が含まれることを特徴とする、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
該防炎添加剤の混合物が含まれることを特徴とする、請求項３〜１２に記載の組成物。
【請求項１４】
ポリテトラフルオロエチレンまたはポリテトラフルオロエチレンブレンドが更に含まれることを特徴とする、請求項１〜１３に記載の組成物。
【請求項１５】
該組成物が更に熱安定剤を、組成物の総量に対して、１０ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍ含むことを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１６】
該熱安定剤が、トリス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）ホスフェートおよびトリフェニルホスフィンからなる群から選択される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
請求項１に記載の組成物を含む製品。
【請求項１８】
該製品がシングルレイヤーまたはマルチレイヤーのソリッド、マルチウォールまたは波形シートを構成し、該シートの一以上の層が請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物を含むことを特徴とする、請求項１７に記載の製品。
【請求項１９】
該製品が射出成形法で製造されることを特徴とする、請求項１７に記載の製品。
【公表番号】特表２０１０−５２３７７７（Ｐ２０１０−５２３７７７Ａ）
【公表日】平成２２年７月１５日（２０１０．７．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５０２４４０（Ｐ２０１０−５０２４４０）
【出願日】平成２０年３月２８日（２００８．３．２８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００８／００２４６８
【国際公開番号】ＷＯ２００８／１２５２０３
【国際公開日】平成２０年１０月２３日（２００８．１０．２３）
【出願人】（５０４０３７３４６）バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト (728)
【氏名又は名称原語表記】Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２２年７月１５日（２０１０．７．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年３月２８日（２００８．３．２８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００８／００２４６８
【国際公開番号】ＷＯ２００８／１２５２０３
【国際公開日】平成２０年１０月２３日（２００８．１０．２３）
【出願人】（５０４０３７３４６）バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト (728)
【氏名又は名称原語表記】Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧ
【Ｆターム（参考）】
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