表示装置
【課題】有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、リフロー工程によって良好なレンズ形状を有するレンズを形成し、発光光の利用効率を高める。
【解決手段】有機ＥＬ素子上に開口部を有する撥液性部材８を形成し、リソグラフィ技術によって該撥液性部材８の開口部にレンズ材料を付与した後、加熱してリフローによりレンズ９を形成する。
【解決手段】有機ＥＬ素子上に開口部を有する撥液性部材８を形成し、リソグラフィ技術によって該撥液性部材８の開口部にレンズ材料を付与した後、加熱してリフローによりレンズ９を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子を用いた表示装置に関し、特に、レンズを配置して発光光の利用効率を高めると共に輝度ムラが抑制可能な表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイとして自発光型デバイスである有機ＥＬ素子からなる表示装置が注目されている。特に、複数の微小な画素をマトリクス状に配置し、異なる発光色の画素を組み合わせてカラー画像を表示する方式が盛んに開発されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子を用いた表示装置の輝度を向上させる手段として、光取り出し側に凸レンズ（レンズ）を配置して集光することにより発光光の利用効率を高める技術が知られている。また、そのレンズを形成する方法の一つとして、フォトリソグラフィ技術によるパターニング後に熱処理によるリフローで形成する方法が知られている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３６３０４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載されているように、フォトリソグラフィ技術によるパターニング後に熱処理によるリフローでレンズを形成しようとすると、リフロー工程で部分的にレンズ同士が接触してレンズ形状がくずれてしまう恐れがある。そのため、輝度ムラが発生する場合があった。
【０００６】
本発明の課題は、上記問題を解決し、リフロー工程によって良好なレンズ形状を有するレンズを形成し、有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、発光光の利用効率を高めることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１は、有機ＥＬ素子を形成する工程と、
前記有機ＥＬ素子の上に開口部を有する撥液性部材を配置する工程と、
前記撥液性部材の開口部にリソグラフィ技術によりレンズ材料をパターニングして付与する工程と、
リフローによって前記レンズ材料をレンズ状に形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法である。
【０００８】
本発明の第２は、有機ＥＬ素子を形成する工程と、
前記有機ＥＬ素子の上に開口部を有する撥液性部材を配置する工程と、
前記撥液性部材の開口部に前記カラーフィルタを配置する工程と、
前記カラーフィルタの上にリソグラフィ技術によりレンズ材料をパターニングして付与する工程と、
リフローによって前記レンズ材料をレンズ状に形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、熱処理によるリフローでレンズを形成する際、レンズ材料間或いはレンズを形成するカラーフィルタ間に撥液性部材を設けることで、レンズ同士の接触が防止され、所望の形状のレンズを形成することができる。よって、本発明によれば、発光光の利用効率が高く輝度ムラが抑制された表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の表示装置の第１の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の表示装置の第２の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の表示装置の第３の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図４】比較例の表示装置の構成を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の製造方法による表示装置は、基板上に形成された複数の有機ＥＬ素子とレンズとを有し、レンズ間或いはレンズを形成するカラーフィルタ間には撥液性部材が配置されている。有機ＥＬ素子は、一対の電極間に、発光層を含む有機化合物層を挟持してなる。
【００１２】
本発明の特徴は、レンズを配置する位置にリソグラフィ技術によってレンズ材料を付与し、該レンズ材料を熱処理によるリフローによって所定の形状に成形してレンズを得ることにある。そして、リフロー工程におけるレンズ同士の接触を、レンズ間或いはレンズを形成するカラーフィルタ間に撥液性部材を配置することで防止することに特徴を有する。
【００１３】
以下、図面を参照しながら本発明について説明する。尚、以下の説明において特に図示又は記載されていない部分に関しては、当該技術分野における周知技術又は公知技術を適用することができる。また、以下に説明される事項は、本発明の実施形態の一例であり、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１４】
［第１の実施形態］
以下、図１を参照しながら、本発明の第１の実施形態について説明する。本実施形態は、有機ＥＬ素子上に開口部を有する撥液性部材を形成し、該開口部にレンズ材料を付与した後、該レンズ材料のリフローを行う形態である。先ず、有機ＥＬ素子について説明する。
【００１５】
本発明による表示装置は、基板１上に有機ＥＬ素子を有している。基板１としては、通常、基材上にＴＦＴ回路（不図示）が形成されたＴＦＴ基板が用いられる。ここで、表示装置に使用される基材としては、ガラス基板、合成樹脂等からなる絶縁性基板、表面に酸化シリコンや窒化シリコン等の絶縁層を形成した導電性基板若しくは半導体基板等が挙げられる。また、基材は透明であっても不透明であってもよい。
【００１６】
基材上にはアクリル樹脂、ポリイミド系樹脂、ノルボルネン系樹脂、フッ素系樹脂等からなる平坦化膜（不図示）がフォトリソグラフィ法等によって所望のパターンにて形成されている。ここで、平坦化膜は、ＴＦＴ回路を設けることで生じる凹凸を平坦化するための膜である。また、平坦化膜はＴＦＴ回路を設けることで生じる凹凸を平坦化できるものであれば、材料、製法は特に限定されるものではない。尚、平坦化膜とＴＦＴ回路との間に、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化シリコン等の無機材料からなる絶縁層を形成してもよい。
【００１７】
平坦化膜上に設けられＴＦＴ回路の一部と電気接続する第１電極２は、透明電極或いは反射電極である。第１電極２が透明電極である場合、その構成材料として、ＩＴＯ、Ｉｎ2Ｏ3等が挙げられる。第１電極２が反射電極である場合、その構成材料として、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｐｄ、Ｓｅ、Ｉｒ等の金属単体、これら金属単体を複数組み合わせた合金、ヨウ化銅等の金属化合物等が挙げられる。第１電極２の膜厚は、好ましくは、０．１μｍ乃至１μｍである。
【００１８】
第１電極２の周縁部には画素分離層３が設けられている。画素分離層３の構成材料としては、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化シリコン等からなる無機絶縁層やアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック系樹脂等が挙げられる。画素分離層３の膜厚は、好ましくは、１μｍ乃至３μｍである。通常、画素分離層３の開口部によって、有機ＥＬ素子の発光領域が規定される。
【００１９】
第１電極２上に設けられる有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、少なくとも発光層を有しており、一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよく、有機ＥＬ素子の発光機能を考慮して適宜選択できる。４Ｒは赤色発光の、４Ｇは緑色発光の、４Ｂは青色発光の発光層を含んでいる。また、有機化合物層４を構成する層として、具体的には、正孔注入層、正孔輸送層、発光層（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。また、これらの層の構成材料として、公知の化合物を使用することができる。尚、有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、発光する領域が特定の層内であってもよいし、隣接する層同士の界面であってもよい。有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、真空蒸着法、インクジェット法等により形成される。蒸着法等の場合は高精細マスク、インクジェット法等の場合は高精度吐出を用いて画素領域内に有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成する。
【００２０】
有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ上には、第２電極５が形成される。第２電極５は、透明電極或いは反射電極であり、少なくとも、第１電極２と第２電極５のうち、光出射側の電極については透明電極である。また、第２電極５の構成材料は、前記第１電極２と同様の材料を使用することができる。第２電極５を形成することによりＴＦＴ基板１上に有機ＥＬ素子が形成される。
【００２１】
次に、第２電極５上に、空気中の酸素や水分から有機ＥＬ素子を保護するための封止層６が形成される。封止層６は、水分透過率の低いＳｉＮやＳｉＯＮ等の無機材料で構成される。また、前記の無機材料とエポキシ樹脂等の有機樹脂との積層材料で構成することも可能である。いずれも一層や二層に限らず、より複数層を積層してもよい。
【００２２】
その上に、均一層７を形成する。均一層７は、レンズ９を形成する際に、一様な材質で覆うための部材であり、レンズ９の形成前の表面に複数の異なる材質の面が存在すると、レンズ９の樹脂を塗布する場合、濡れ性が一様でないため不均質なレンズ９が形成されてしまう可能性があるためである。レンズ９の形成表面が一様な材質で覆われているほうが形成時の安定性が増す。また、表面が平坦化されるとさらに安定性が増す。
【００２３】
撥液性部材８は、レンズ９を形成する際にレンズ同士が接触するのを防ぐために設ける。撥液性部材８はフォトリソグラフィ技術を用いてレジストのパターニングにより画素分離層３の開口部外（画素分離層３上）に設ける。尚、撥液性部材８にはフッ素樹脂もしくはケイ素樹脂を含有することが好ましい。さらに、撥液性部材８は透明であっても不透明であってもよい。
【００２４】
また、撥液性部材８を黒色で形成することにより、異なる発光の有機ＥＬ素子間を遮光するブラックマトリクスとすることができる。黒色の撥液性部材８を形成する方法としては、後述するように、一般的なカラーフィルタのブラックマトリクスの形成方法が好ましく用いられる。
【００２５】
均一層７の光取り出し側（図１の紙面上方向）には、複数のレンズ９が形成される。レンズ９は、レンズ材料をリソグラフィ技術によって、撥液性部材８の開口部に付与し、その後、熱処理によるリフローによってレンズ状に形成する。具体的には、感光性材料を所定のパターンに露光・現像した後、加熱することで形状が変化し（リフロー）、均一層７に面した状態で概略球レンズ状のレンズ９が形成できる。
【００２６】
レンズ９は画素毎（即ち、有機ＥＬ素子毎）に一つ形成されていることが好ましいが、一つの画素に複数のレンズ９を形成したり、複数の画素に一つのレンズ９を形成したりしてもよい。さらに、レンズ９の上に円偏光部材を配置してもよい。
【００２７】
［第２の実施形態］
次に、図２を参照しながら、本発明の第２の実施形態を説明する。尚、第１の実施形態と同様の部材については説明を省略する。
【００２８】
本実施形態は、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの上に撥液性部材８とレンズ９を形成するものであり、均一層７までは第１の実施形態と同様の方法で形成する。尚、１０Ｒは赤色の、１０Ｇは緑色の、１０Ｂは青色のカラーフィルタを示している。
【００２９】
カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを設ける場合は、白色発光する有機ＥＬ素子を形成することが好ましい。この時、各画素にＲＧＢ各色を塗り分け形成せず、全画素を一括に形成できる。そのため、画素分離層３は設けなくてもよい。この場合、発光領域は第１電極２によって規定される。また、有機化合物層４を構成する発光層は白色光を必要とするが、一般的にはシアン発光層とイエロー発光層とを組み合わせることで白色光が得られることが知られており、適用可能である。
【００３０】
次に、均一層７上にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを配置する。カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを形成する方法としては、フォトリソグラフィ技術、印刷、インクジェット等が知られている。特に、画素ピッチが小さい場合は、高精度で位置ずれの小さいフォトリソグラフィ技術で形成することが好ましい。また、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇは市販されているものを貼付して配置しても良い。
【００３１】
カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇ配置後に、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを保護するための保護層１１を設けることが好ましい。保護層１１は表面の濡れ性均一化、また、平坦化の役割も有しており、レンズ９を安定形成できる。
【００３２】
そして、保護層１１上に撥液性部材８とレンズ９を、第１の実施形態と同様にして形成する。尚、この場合、撥液性部材８を黒色とすることで、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇのブラックマトリクスとすることも可能である。
【００３３】
［第３の実施形態］
次に、図３を参照しながら、本発明の第３の実施形態を説明する。尚、第１、第２の実施形態と同様の部材については説明を省略する。
【００３４】
第３の実施形態は、撥液性部材８を形成し、該撥液性部材８の開口部にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを形成した後、該カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇ上にレンズ９を形成する形態である。尚、撥液性部材８を黒色で形成することにより、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇのブラックマトリクスとすることができる。
【００３５】
黒色の撥液性部材８を形成する方法としては、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇと同様に、フォトリソグラフィ技術、印刷、インクジェット等が知られている。特に、画素ピッチが小さい場合は、高精度で位置ずれの小さいフォトリソグラフィ技術で形成することが好ましい。
【００３６】
また、黒色の撥液性部材８を形成するための黒色顔料としては、カーボンブラック、アニリンブラック、ペリレンブラック等の有機黒顔料、銅・鉄・クロム・マンガン・コバルト等を含有した無機系ブラック、チタンブラック等が知られている。中でも、カラーフィルタのブラックマトリクス用としてはカーボンブラックが好ましい。尚、一般的には平均粒子径が４０ｎｍ未満のカーボンブラックが用いられており、適用可能である。
【００３７】
また、通常、カラーフィルタに用いられるブラックマトリクスにフッ素樹脂やケイ素樹脂の撥液性材料を含有させて撥液性部材８としてもよい。尚、この時、撥液性ブラックマトリクス８とカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇとの高さを図３に示すように同じにすることで、レンズ９を安定に形成することができる。尚、第３の実施形態と同様に、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇとしては市販のカラーフィルタを貼付して配置しても良い。
【００３８】
［第４の実施形態］
次に、本発明の第４の実施形態を説明する。尚、第１、第２、第３の実施形態と同様の部材については説明を省略する。
【００３９】
第４の実施形態は、第３の実施形態に用いられる撥液性部材８を黒色顔料を含むブラックマトリクスとし、該黒色顔料として平均粒子径が４０乃至３００ｎｍのものを用いる。このように大小の粒子径の黒色顔料を用いることで、撥液性部材８は表面が凹凸形状になる。一般に、材料表面に凹凸構造があると撥液性が高まることが知られているため、撥液性部材を用いなくてもブラックマトリクスは撥液性を有することになる。さらに、係るブラックマトリクスにフッ素樹脂やケイ素樹脂の撥液性部材も含有させることで、より撥水効果が強調される。
【００４０】
尚、平均粒子径として３００ｎｍよりも大粒子径のものを用いると、分散処理の操作性に問題が生じる可能性があり好ましくない。本発明の平均粒子径として、好ましくは４０乃至２００ｎｍ、より好ましくは４０乃至１００ｎｍの範囲である。
【実施例】
【００４１】
（実施例１）
実施例１として、第１の実施形態により図１の表示装置を作製した。
【００４２】
ガラス基板上に低温ポリシリコンＴＦＴで画素回路を形成し、その上にＳｉＮからなる半導体保護層とポリイミド樹脂からなる平坦化膜を形成し、ＴＦＴ基板１を作製した。この基板１上にＡｌＮｄ膜とＩＴＯ膜をスパッタリング法にて１００ｎｍと３８ｎｍの厚さで形成し、続いて、これらの膜を画素毎にパターニングして第１電極２を形成した。
【００４３】
この上に、ポリイミド樹脂をスピンコートし、フォトリソグラフィ技術により第１電極２が形成された部分に開口部（発光領域）が形成されるようにパターニングし、画素分離層３を形成した。この時、各画素のピッチを３０μｍ、開口による第１電極２の露出部の大きさを１０μｍとした。これをイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で超音波洗浄し、次いで、煮沸洗浄後乾燥した。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄してから有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを真空蒸着により成膜した。
【００４４】
有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂとしては、始めに、正孔輸送層として下記に示す構造のＨＴ−１（ＦＬ０３）を８７ｎｍの膜厚で成膜した。
【００４５】
【化１】
【００４６】
次に、シャドーマスクを用いて赤色発光層、緑色発光層、青色発光層をそれぞれ３０ｎｍ、４０ｎｍ、２５ｎｍの厚さで成膜した。赤色発光層にはカルバゾール化合物であるＣＢＰをホストとしてＩｒ（ｐｉｑ）3を９質量％添加し、緑色発光層にはアルミキレート錯体であるＡｌｑ3をホストとしてクマリン６を１質量％添加した。また、青色発光層にはアルミキレート錯体であるＢＡｌｑをホストとしてペリレンを３質量％添加した。続いて、発光層上に電子輸送層としてフェナントロリン化合物であるＢｐｈｅｎを１０ｎｍの膜厚で成膜した。その後、電子輸送層上に、Ｂｐｈｅｎと炭酸セシウム（Ｃｓ2ＣＯ3）とを共蒸着（重量比で９０：１０）して電子注入層を４０ｎｍの膜厚で形成した。次に、この電子注入層まで成膜した基板を、真空を破ることなくスパッタ装置に移動し、第２電極５として厚さ１０ｎｍの極薄Ａｇ及び厚さ５０ｎｍの透明電極ＩＺＯを成膜した。以上により、有機ＥＬ素子を作製した。
【００４７】
次に、ＳｉＮからなる封止層６をＳｉＨ4ガス、Ｎ2ガス、Ｈ2ガスを用いたプラズマＣＶＤ法で６μｍの厚みに成膜した。
【００４８】
次に、均一層７として紫外線硬化型樹脂をスピンコーターにて塗布した。その後、紫外線硬化型樹脂を露光し、加熱硬化させた。膜厚は５μｍとした。
【００４９】
次に、フッ素樹脂を含有させたレジストをスピンコーターにて塗布した。膜厚は１μｍとした。その後、画素ピッチ３０μｍでφ２５μｍのドットが並んだフォトマスクを用いてレジストを露光・現像して、画素分離層３の開口部に開口を有する撥液性部材８のパターンを形成した。
【００５０】
次に、レンズ９の材料として、ポジ型レジストであるＡＺエレクトロニックマテリアルズ製ＡＺ４６２０をスピンコーターにて塗布した。膜厚は１５μｍとした。その後、φ２０μｍ、ピッチ３０μｍのドットパターンを有するフォトマスクにて露光し、現像してパターニングし、引き続き加熱しリフローさせることによりレンズ９を形成した。レンズ９は高さ１０μｍ、曲率半径１２μｍの概略球形のレンズ形状が形成できた。
【００５１】
このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に撥液性部材８が配置されているため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに輝度ムラを抑制することができた。
【００５２】
（実施例２）
実施例２は撥液性部材８としてケイ素樹脂を含有させたレジストを用いた以外は実施例１と同様に作製した。このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に撥液性部材８が配置されているため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに、輝度ムラを抑制することができた。
【００５３】
（実施例３）
実施例３は第２の実施形態により図２の表示装置を作製した。
【００５４】
有機化合物層４の発光層として白色発光層を２５ｎｍの膜厚で成膜し、発光層と電子輸送層との間に正孔阻止層としてＢＡｌｑを１０ｎｍ成膜した以外は実施例１と同様に有機ＥＬ素子を作製した。尚、白色発光層はシアン発光層とイエロー発光層とをそれぞれ１０ｎｍ、１５ｎｍの膜厚で順次積層して形成した。シアン発光層としては亜鉛キレート錯体であるＺｎ（ＢＯＸ）2を成膜し、イエロー発光層にはＨＴ−１をホストとしてルブレンを０．５質量％添加した膜を形成した。その後、同様にして封止層６及び均一層７を形成した。
【００５５】
次に、画素分離層３の開口部上にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂをフォトリソグラフィ技術によりＲ，Ｇ，Ｂそれぞれ２．５μｍ、２μｍ、１μｍの膜厚で形成した。その上に、均一層７と同様の紫外線硬化樹脂を用いて３μｍの保護層１１を形成した。さらに、保護層１１上に、撥液性部材８とレンズ９を実施例１と同様の方法で形成し、レンズ９を高さ１０μｍ、曲率半径１２μｍの概略球形のレンズ形状で形成できた。
【００５６】
このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に撥液性部材８が配置されているため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに、輝度ムラを抑制することができた。
【００５７】
（実施例４）
実施例４は第３の実施形態により図３の表示装置を作製した。白色発光の有機ＥＬ素子、封止層６、そして均一層７までは実施例３と同様にして形成した。
【００５８】
次に、画素分離層３上にブラックレジストに撥液性を有する部材としてフッ素樹脂を含有させて黒色の撥液性部材８を形成し、該撥液性部材８の開口部にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを、フォトリソグラフィ技術により形成した。撥液性部材８及びカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ各１μｍの膜厚で形成した。その後、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ上にレンズ９を実施例１と同様の方法で形成し、レンズ９を高さ１０μｍ、曲率半径１２μｍの概略球形のレンズ形状で形成できた。
【００５９】
このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に配置された黒色の撥液性部材８の表面が撥液性を有するため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに、輝度ムラを抑制することができた。
【００６０】
（実施例５）
実施例５は第４の実施形態により図３の表示装置を作製した。白色発光の有機ＥＬ素子、封止層６、そして均一層７までは実施例３と同様にして形成した。
【００６１】
次に、画素分離層３上に撥液性部材８をフォトリソグラフィ技術により各１μｍの膜厚で形成し、撥液性部材８の開口部（画素分離層３の開口部上）にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂをフォトリソグラフィ技術により形成した。撥液性部材８は、平均粒子径４０乃至１００ｎｍの範囲である黒色顔料を有するブラックマトリクスで形成した。撥液性部材８の表面は光学顕微鏡観察で凹凸形状である（撥液性を有する）ことを確認した。
【００６２】
その後、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ上にレンズ９を実施例１と同様の方法で形成し、レンズ９を高さ１０μｍ、曲率半径１２μｍの概略球形のレンズ形状で形成できた。
【００６３】
このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に配置された撥液性部材８の表面が凹凸構造になっており撥液性を有するため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに、輝度ムラを抑制することができた。
【００６４】
（比較例１）
撥液性部材８を設けない以外は実施例１と同様にして、図４の構成を有する表示装置を作製した。このようにして作製した表示装置は、部分的にレンズ９同士がリフロー工程において接触してレンズ形状がくずれ、点灯検査において発光効率の低下と輝度ムラが確認された。
【符号の説明】
【００６５】
８：撥液性部材、９：レンズ、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ：カラーフィルタ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子を用いた表示装置に関し、特に、レンズを配置して発光光の利用効率を高めると共に輝度ムラが抑制可能な表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイとして自発光型デバイスである有機ＥＬ素子からなる表示装置が注目されている。特に、複数の微小な画素をマトリクス状に配置し、異なる発光色の画素を組み合わせてカラー画像を表示する方式が盛んに開発されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子を用いた表示装置の輝度を向上させる手段として、光取り出し側に凸レンズ（レンズ）を配置して集光することにより発光光の利用効率を高める技術が知られている。また、そのレンズを形成する方法の一つとして、フォトリソグラフィ技術によるパターニング後に熱処理によるリフローで形成する方法が知られている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３６３０４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載されているように、フォトリソグラフィ技術によるパターニング後に熱処理によるリフローでレンズを形成しようとすると、リフロー工程で部分的にレンズ同士が接触してレンズ形状がくずれてしまう恐れがある。そのため、輝度ムラが発生する場合があった。
【０００６】
本発明の課題は、上記問題を解決し、リフロー工程によって良好なレンズ形状を有するレンズを形成し、有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、発光光の利用効率を高めることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１は、有機ＥＬ素子を形成する工程と、
前記有機ＥＬ素子の上に開口部を有する撥液性部材を配置する工程と、
前記撥液性部材の開口部にリソグラフィ技術によりレンズ材料をパターニングして付与する工程と、
リフローによって前記レンズ材料をレンズ状に形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法である。
【０００８】
本発明の第２は、有機ＥＬ素子を形成する工程と、
前記有機ＥＬ素子の上に開口部を有する撥液性部材を配置する工程と、
前記撥液性部材の開口部に前記カラーフィルタを配置する工程と、
前記カラーフィルタの上にリソグラフィ技術によりレンズ材料をパターニングして付与する工程と、
リフローによって前記レンズ材料をレンズ状に形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、熱処理によるリフローでレンズを形成する際、レンズ材料間或いはレンズを形成するカラーフィルタ間に撥液性部材を設けることで、レンズ同士の接触が防止され、所望の形状のレンズを形成することができる。よって、本発明によれば、発光光の利用効率が高く輝度ムラが抑制された表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の表示装置の第１の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の表示装置の第２の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の表示装置の第３の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図４】比較例の表示装置の構成を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の製造方法による表示装置は、基板上に形成された複数の有機ＥＬ素子とレンズとを有し、レンズ間或いはレンズを形成するカラーフィルタ間には撥液性部材が配置されている。有機ＥＬ素子は、一対の電極間に、発光層を含む有機化合物層を挟持してなる。
【００１２】
本発明の特徴は、レンズを配置する位置にリソグラフィ技術によってレンズ材料を付与し、該レンズ材料を熱処理によるリフローによって所定の形状に成形してレンズを得ることにある。そして、リフロー工程におけるレンズ同士の接触を、レンズ間或いはレンズを形成するカラーフィルタ間に撥液性部材を配置することで防止することに特徴を有する。
【００１３】
以下、図面を参照しながら本発明について説明する。尚、以下の説明において特に図示又は記載されていない部分に関しては、当該技術分野における周知技術又は公知技術を適用することができる。また、以下に説明される事項は、本発明の実施形態の一例であり、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１４】
［第１の実施形態］
以下、図１を参照しながら、本発明の第１の実施形態について説明する。本実施形態は、有機ＥＬ素子上に開口部を有する撥液性部材を形成し、該開口部にレンズ材料を付与した後、該レンズ材料のリフローを行う形態である。先ず、有機ＥＬ素子について説明する。
【００１５】
本発明による表示装置は、基板１上に有機ＥＬ素子を有している。基板１としては、通常、基材上にＴＦＴ回路（不図示）が形成されたＴＦＴ基板が用いられる。ここで、表示装置に使用される基材としては、ガラス基板、合成樹脂等からなる絶縁性基板、表面に酸化シリコンや窒化シリコン等の絶縁層を形成した導電性基板若しくは半導体基板等が挙げられる。また、基材は透明であっても不透明であってもよい。
【００１６】
基材上にはアクリル樹脂、ポリイミド系樹脂、ノルボルネン系樹脂、フッ素系樹脂等からなる平坦化膜（不図示）がフォトリソグラフィ法等によって所望のパターンにて形成されている。ここで、平坦化膜は、ＴＦＴ回路を設けることで生じる凹凸を平坦化するための膜である。また、平坦化膜はＴＦＴ回路を設けることで生じる凹凸を平坦化できるものであれば、材料、製法は特に限定されるものではない。尚、平坦化膜とＴＦＴ回路との間に、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化シリコン等の無機材料からなる絶縁層を形成してもよい。
【００１７】
平坦化膜上に設けられＴＦＴ回路の一部と電気接続する第１電極２は、透明電極或いは反射電極である。第１電極２が透明電極である場合、その構成材料として、ＩＴＯ、Ｉｎ2Ｏ3等が挙げられる。第１電極２が反射電極である場合、その構成材料として、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｐｄ、Ｓｅ、Ｉｒ等の金属単体、これら金属単体を複数組み合わせた合金、ヨウ化銅等の金属化合物等が挙げられる。第１電極２の膜厚は、好ましくは、０．１μｍ乃至１μｍである。
【００１８】
第１電極２の周縁部には画素分離層３が設けられている。画素分離層３の構成材料としては、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化シリコン等からなる無機絶縁層やアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック系樹脂等が挙げられる。画素分離層３の膜厚は、好ましくは、１μｍ乃至３μｍである。通常、画素分離層３の開口部によって、有機ＥＬ素子の発光領域が規定される。
【００１９】
第１電極２上に設けられる有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、少なくとも発光層を有しており、一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよく、有機ＥＬ素子の発光機能を考慮して適宜選択できる。４Ｒは赤色発光の、４Ｇは緑色発光の、４Ｂは青色発光の発光層を含んでいる。また、有機化合物層４を構成する層として、具体的には、正孔注入層、正孔輸送層、発光層（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。また、これらの層の構成材料として、公知の化合物を使用することができる。尚、有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、発光する領域が特定の層内であってもよいし、隣接する層同士の界面であってもよい。有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、真空蒸着法、インクジェット法等により形成される。蒸着法等の場合は高精細マスク、インクジェット法等の場合は高精度吐出を用いて画素領域内に有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成する。
【００２０】
有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ上には、第２電極５が形成される。第２電極５は、透明電極或いは反射電極であり、少なくとも、第１電極２と第２電極５のうち、光出射側の電極については透明電極である。また、第２電極５の構成材料は、前記第１電極２と同様の材料を使用することができる。第２電極５を形成することによりＴＦＴ基板１上に有機ＥＬ素子が形成される。
【００２１】
次に、第２電極５上に、空気中の酸素や水分から有機ＥＬ素子を保護するための封止層６が形成される。封止層６は、水分透過率の低いＳｉＮやＳｉＯＮ等の無機材料で構成される。また、前記の無機材料とエポキシ樹脂等の有機樹脂との積層材料で構成することも可能である。いずれも一層や二層に限らず、より複数層を積層してもよい。
【００２２】
その上に、均一層７を形成する。均一層７は、レンズ９を形成する際に、一様な材質で覆うための部材であり、レンズ９の形成前の表面に複数の異なる材質の面が存在すると、レンズ９の樹脂を塗布する場合、濡れ性が一様でないため不均質なレンズ９が形成されてしまう可能性があるためである。レンズ９の形成表面が一様な材質で覆われているほうが形成時の安定性が増す。また、表面が平坦化されるとさらに安定性が増す。
【００２３】
撥液性部材８は、レンズ９を形成する際にレンズ同士が接触するのを防ぐために設ける。撥液性部材８はフォトリソグラフィ技術を用いてレジストのパターニングにより画素分離層３の開口部外（画素分離層３上）に設ける。尚、撥液性部材８にはフッ素樹脂もしくはケイ素樹脂を含有することが好ましい。さらに、撥液性部材８は透明であっても不透明であってもよい。
【００２４】
また、撥液性部材８を黒色で形成することにより、異なる発光の有機ＥＬ素子間を遮光するブラックマトリクスとすることができる。黒色の撥液性部材８を形成する方法としては、後述するように、一般的なカラーフィルタのブラックマトリクスの形成方法が好ましく用いられる。
【００２５】
均一層７の光取り出し側（図１の紙面上方向）には、複数のレンズ９が形成される。レンズ９は、レンズ材料をリソグラフィ技術によって、撥液性部材８の開口部に付与し、その後、熱処理によるリフローによってレンズ状に形成する。具体的には、感光性材料を所定のパターンに露光・現像した後、加熱することで形状が変化し（リフロー）、均一層７に面した状態で概略球レンズ状のレンズ９が形成できる。
【００２６】
レンズ９は画素毎（即ち、有機ＥＬ素子毎）に一つ形成されていることが好ましいが、一つの画素に複数のレンズ９を形成したり、複数の画素に一つのレンズ９を形成したりしてもよい。さらに、レンズ９の上に円偏光部材を配置してもよい。
【００２７】
［第２の実施形態］
次に、図２を参照しながら、本発明の第２の実施形態を説明する。尚、第１の実施形態と同様の部材については説明を省略する。
【００２８】
本実施形態は、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの上に撥液性部材８とレンズ９を形成するものであり、均一層７までは第１の実施形態と同様の方法で形成する。尚、１０Ｒは赤色の、１０Ｇは緑色の、１０Ｂは青色のカラーフィルタを示している。
【００２９】
カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを設ける場合は、白色発光する有機ＥＬ素子を形成することが好ましい。この時、各画素にＲＧＢ各色を塗り分け形成せず、全画素を一括に形成できる。そのため、画素分離層３は設けなくてもよい。この場合、発光領域は第１電極２によって規定される。また、有機化合物層４を構成する発光層は白色光を必要とするが、一般的にはシアン発光層とイエロー発光層とを組み合わせることで白色光が得られることが知られており、適用可能である。
【００３０】
次に、均一層７上にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを配置する。カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを形成する方法としては、フォトリソグラフィ技術、印刷、インクジェット等が知られている。特に、画素ピッチが小さい場合は、高精度で位置ずれの小さいフォトリソグラフィ技術で形成することが好ましい。また、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇは市販されているものを貼付して配置しても良い。
【００３１】
カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇ配置後に、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを保護するための保護層１１を設けることが好ましい。保護層１１は表面の濡れ性均一化、また、平坦化の役割も有しており、レンズ９を安定形成できる。
【００３２】
そして、保護層１１上に撥液性部材８とレンズ９を、第１の実施形態と同様にして形成する。尚、この場合、撥液性部材８を黒色とすることで、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇのブラックマトリクスとすることも可能である。
【００３３】
［第３の実施形態］
次に、図３を参照しながら、本発明の第３の実施形態を説明する。尚、第１、第２の実施形態と同様の部材については説明を省略する。
【００３４】
第３の実施形態は、撥液性部材８を形成し、該撥液性部材８の開口部にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇを形成した後、該カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇ上にレンズ９を形成する形態である。尚、撥液性部材８を黒色で形成することにより、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇのブラックマトリクスとすることができる。
【００３５】
黒色の撥液性部材８を形成する方法としては、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇと同様に、フォトリソグラフィ技術、印刷、インクジェット等が知られている。特に、画素ピッチが小さい場合は、高精度で位置ずれの小さいフォトリソグラフィ技術で形成することが好ましい。
【００３６】
また、黒色の撥液性部材８を形成するための黒色顔料としては、カーボンブラック、アニリンブラック、ペリレンブラック等の有機黒顔料、銅・鉄・クロム・マンガン・コバルト等を含有した無機系ブラック、チタンブラック等が知られている。中でも、カラーフィルタのブラックマトリクス用としてはカーボンブラックが好ましい。尚、一般的には平均粒子径が４０ｎｍ未満のカーボンブラックが用いられており、適用可能である。
【００３７】
また、通常、カラーフィルタに用いられるブラックマトリクスにフッ素樹脂やケイ素樹脂の撥液性材料を含有させて撥液性部材８としてもよい。尚、この時、撥液性ブラックマトリクス８とカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇとの高さを図３に示すように同じにすることで、レンズ９を安定に形成することができる。尚、第３の実施形態と同様に、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｂ，１０Ｇとしては市販のカラーフィルタを貼付して配置しても良い。
【００３８】
［第４の実施形態］
次に、本発明の第４の実施形態を説明する。尚、第１、第２、第３の実施形態と同様の部材については説明を省略する。
【００３９】
第４の実施形態は、第３の実施形態に用いられる撥液性部材８を黒色顔料を含むブラックマトリクスとし、該黒色顔料として平均粒子径が４０乃至３００ｎｍのものを用いる。このように大小の粒子径の黒色顔料を用いることで、撥液性部材８は表面が凹凸形状になる。一般に、材料表面に凹凸構造があると撥液性が高まることが知られているため、撥液性部材を用いなくてもブラックマトリクスは撥液性を有することになる。さらに、係るブラックマトリクスにフッ素樹脂やケイ素樹脂の撥液性部材も含有させることで、より撥水効果が強調される。
【００４０】
尚、平均粒子径として３００ｎｍよりも大粒子径のものを用いると、分散処理の操作性に問題が生じる可能性があり好ましくない。本発明の平均粒子径として、好ましくは４０乃至２００ｎｍ、より好ましくは４０乃至１００ｎｍの範囲である。
【実施例】
【００４１】
（実施例１）
実施例１として、第１の実施形態により図１の表示装置を作製した。
【００４２】
ガラス基板上に低温ポリシリコンＴＦＴで画素回路を形成し、その上にＳｉＮからなる半導体保護層とポリイミド樹脂からなる平坦化膜を形成し、ＴＦＴ基板１を作製した。この基板１上にＡｌＮｄ膜とＩＴＯ膜をスパッタリング法にて１００ｎｍと３８ｎｍの厚さで形成し、続いて、これらの膜を画素毎にパターニングして第１電極２を形成した。
【００４３】
この上に、ポリイミド樹脂をスピンコートし、フォトリソグラフィ技術により第１電極２が形成された部分に開口部（発光領域）が形成されるようにパターニングし、画素分離層３を形成した。この時、各画素のピッチを３０μｍ、開口による第１電極２の露出部の大きさを１０μｍとした。これをイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で超音波洗浄し、次いで、煮沸洗浄後乾燥した。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄してから有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを真空蒸着により成膜した。
【００４４】
有機化合物層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂとしては、始めに、正孔輸送層として下記に示す構造のＨＴ−１（ＦＬ０３）を８７ｎｍの膜厚で成膜した。
【００４５】
【化１】
【００４６】
次に、シャドーマスクを用いて赤色発光層、緑色発光層、青色発光層をそれぞれ３０ｎｍ、４０ｎｍ、２５ｎｍの厚さで成膜した。赤色発光層にはカルバゾール化合物であるＣＢＰをホストとしてＩｒ（ｐｉｑ）3を９質量％添加し、緑色発光層にはアルミキレート錯体であるＡｌｑ3をホストとしてクマリン６を１質量％添加した。また、青色発光層にはアルミキレート錯体であるＢＡｌｑをホストとしてペリレンを３質量％添加した。続いて、発光層上に電子輸送層としてフェナントロリン化合物であるＢｐｈｅｎを１０ｎｍの膜厚で成膜した。その後、電子輸送層上に、Ｂｐｈｅｎと炭酸セシウム（Ｃｓ2ＣＯ3）とを共蒸着（重量比で９０：１０）して電子注入層を４０ｎｍの膜厚で形成した。次に、この電子注入層まで成膜した基板を、真空を破ることなくスパッタ装置に移動し、第２電極５として厚さ１０ｎｍの極薄Ａｇ及び厚さ５０ｎｍの透明電極ＩＺＯを成膜した。以上により、有機ＥＬ素子を作製した。
【００４７】
次に、ＳｉＮからなる封止層６をＳｉＨ4ガス、Ｎ2ガス、Ｈ2ガスを用いたプラズマＣＶＤ法で６μｍの厚みに成膜した。
【００４８】
次に、均一層７として紫外線硬化型樹脂をスピンコーターにて塗布した。その後、紫外線硬化型樹脂を露光し、加熱硬化させた。膜厚は５μｍとした。
【００４９】
次に、フッ素樹脂を含有させたレジストをスピンコーターにて塗布した。膜厚は１μｍとした。その後、画素ピッチ３０μｍでφ２５μｍのドットが並んだフォトマスクを用いてレジストを露光・現像して、画素分離層３の開口部に開口を有する撥液性部材８のパターンを形成した。
【００５０】
次に、レンズ９の材料として、ポジ型レジストであるＡＺエレクトロニックマテリアルズ製ＡＺ４６２０をスピンコーターにて塗布した。膜厚は１５μｍとした。その後、φ２０μｍ、ピッチ３０μｍのドットパターンを有するフォトマスクにて露光し、現像してパターニングし、引き続き加熱しリフローさせることによりレンズ９を形成した。レンズ９は高さ１０μｍ、曲率半径１２μｍの概略球形のレンズ形状が形成できた。
【００５１】
このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に撥液性部材８が配置されているため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに輝度ムラを抑制することができた。
【００５２】
（実施例２）
実施例２は撥液性部材８としてケイ素樹脂を含有させたレジストを用いた以外は実施例１と同様に作製した。このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に撥液性部材８が配置されているため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに、輝度ムラを抑制することができた。
【００５３】
（実施例３）
実施例３は第２の実施形態により図２の表示装置を作製した。
【００５４】
有機化合物層４の発光層として白色発光層を２５ｎｍの膜厚で成膜し、発光層と電子輸送層との間に正孔阻止層としてＢＡｌｑを１０ｎｍ成膜した以外は実施例１と同様に有機ＥＬ素子を作製した。尚、白色発光層はシアン発光層とイエロー発光層とをそれぞれ１０ｎｍ、１５ｎｍの膜厚で順次積層して形成した。シアン発光層としては亜鉛キレート錯体であるＺｎ（ＢＯＸ）2を成膜し、イエロー発光層にはＨＴ−１をホストとしてルブレンを０．５質量％添加した膜を形成した。その後、同様にして封止層６及び均一層７を形成した。
【００５５】
次に、画素分離層３の開口部上にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂをフォトリソグラフィ技術によりＲ，Ｇ，Ｂそれぞれ２．５μｍ、２μｍ、１μｍの膜厚で形成した。その上に、均一層７と同様の紫外線硬化樹脂を用いて３μｍの保護層１１を形成した。さらに、保護層１１上に、撥液性部材８とレンズ９を実施例１と同様の方法で形成し、レンズ９を高さ１０μｍ、曲率半径１２μｍの概略球形のレンズ形状で形成できた。
【００５６】
このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に撥液性部材８が配置されているため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに、輝度ムラを抑制することができた。
【００５７】
（実施例４）
実施例４は第３の実施形態により図３の表示装置を作製した。白色発光の有機ＥＬ素子、封止層６、そして均一層７までは実施例３と同様にして形成した。
【００５８】
次に、画素分離層３上にブラックレジストに撥液性を有する部材としてフッ素樹脂を含有させて黒色の撥液性部材８を形成し、該撥液性部材８の開口部にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを、フォトリソグラフィ技術により形成した。撥液性部材８及びカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ各１μｍの膜厚で形成した。その後、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ上にレンズ９を実施例１と同様の方法で形成し、レンズ９を高さ１０μｍ、曲率半径１２μｍの概略球形のレンズ形状で形成できた。
【００５９】
このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に配置された黒色の撥液性部材８の表面が撥液性を有するため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに、輝度ムラを抑制することができた。
【００６０】
（実施例５）
実施例５は第４の実施形態により図３の表示装置を作製した。白色発光の有機ＥＬ素子、封止層６、そして均一層７までは実施例３と同様にして形成した。
【００６１】
次に、画素分離層３上に撥液性部材８をフォトリソグラフィ技術により各１μｍの膜厚で形成し、撥液性部材８の開口部（画素分離層３の開口部上）にカラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂをフォトリソグラフィ技術により形成した。撥液性部材８は、平均粒子径４０乃至１００ｎｍの範囲である黒色顔料を有するブラックマトリクスで形成した。撥液性部材８の表面は光学顕微鏡観察で凹凸形状である（撥液性を有する）ことを確認した。
【００６２】
その後、カラーフィルタ１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ上にレンズ９を実施例１と同様の方法で形成し、レンズ９を高さ１０μｍ、曲率半径１２μｍの概略球形のレンズ形状で形成できた。
【００６３】
このようにして作製した表示装置は、レンズ９間に配置された撥液性部材８の表面が凹凸構造になっており撥液性を有するため、レンズ９同士がリフロー工程で接触することがない。そのため、発光光の利用効率を高めるとともに、輝度ムラを抑制することができた。
【００６４】
（比較例１）
撥液性部材８を設けない以外は実施例１と同様にして、図４の構成を有する表示装置を作製した。このようにして作製した表示装置は、部分的にレンズ９同士がリフロー工程において接触してレンズ形状がくずれ、点灯検査において発光効率の低下と輝度ムラが確認された。
【符号の説明】
【００６５】
８：撥液性部材、９：レンズ、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ：カラーフィルタ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ素子を形成する工程と、
前記有機ＥＬ素子の上に開口部を有する撥液性部材を配置する工程と、
前記撥液性部材の開口部にリソグラフィ技術によりレンズ材料をパターニングして付与する工程と、
リフローによって前記レンズ材料をレンズ状に形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記撥液性部材を配置する工程の前に、前記有機ＥＬ素子の上に、カラーフィルタを配置する工程を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項３】
有機ＥＬ素子を形成する工程と、
前記有機ＥＬ素子の上に開口部を有する撥液性部材を配置する工程と、
前記撥液性部材の開口部に前記カラーフィルタを配置する工程と、
前記カラーフィルタの上にリソグラフィ技術によりレンズ材料をパターニングして付与する工程と、
リフローによって前記レンズ材料をレンズ状に形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記撥液性部材がフッ素樹脂もしくはケイ素樹脂であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記撥液性部材が黒色であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１】
有機ＥＬ素子を形成する工程と、
前記有機ＥＬ素子の上に開口部を有する撥液性部材を配置する工程と、
前記撥液性部材の開口部にリソグラフィ技術によりレンズ材料をパターニングして付与する工程と、
リフローによって前記レンズ材料をレンズ状に形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記撥液性部材を配置する工程の前に、前記有機ＥＬ素子の上に、カラーフィルタを配置する工程を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項３】
有機ＥＬ素子を形成する工程と、
前記有機ＥＬ素子の上に開口部を有する撥液性部材を配置する工程と、
前記撥液性部材の開口部に前記カラーフィルタを配置する工程と、
前記カラーフィルタの上にリソグラフィ技術によりレンズ材料をパターニングして付与する工程と、
リフローによって前記レンズ材料をレンズ状に形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記撥液性部材がフッ素樹脂もしくはケイ素樹脂であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記撥液性部材が黒色であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１３−２６０２１（Ｐ２０１３−２６０２１Ａ）
【公開日】平成２５年２月４日（２０１３．２．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１５９６３６（Ｐ２０１１−１５９６３６）
【出願日】平成２３年７月２１日（２０１１．７．２１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月４日（２０１３．２．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月２１日（２０１１．７．２１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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