集合処理装置

【目的】比較的長い共通搬送室を用いて多数の真空処理室を連結することができる集合処理装置を提供する。
【構成】真空引き可能になされた比較的長い共通搬送室４の一側に複数の真空処理室６Ａ〜６Ｅを連結し、この長手方向に沿って移動する移動体２８に搬送アーム３０を設ける。この移動体を移動させ且つ搬送アームを伸縮するために共通搬送室の底壁の下方側に磁気的な移動体駆動手段３２を設ける。これにより、モータ等のパーティクル発生源を室内に収容することなく被処理体の搬送を可能にする。

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造装置等の集合処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体デバイスの製造工程においては、半導体製造装置の真空処理室内に半導体ウエハ等の被処理体を搬入し、減圧雰囲気下で所定の処理を行うが、デバイスを完成するまでにはウエハ上への成膜、エッチング、加熱等の処理が多数回繰り返し行われるのが一般的である。
【０００３】この場合、個々の真空処理装置を別個独立に何ら関係なく設けて、処理内容に応じて個々の真空処理装置間にウエハを搬送し、受け渡すように構成すると、ウエハの搬送、受け渡しの都度、処理装置内或いはこれに連結されるロードロック室内の真空を破ることになり、真空引き操作に多くの時間を要してスループットが低下してしまう。
【０００４】そこで、処理の効率化を図るために例えば正多角形状に形成した真空の共通搬送室に複数の真空処理装置をゲートバルブを介して連通・密閉可能に連結してなる、いわゆるクラスタ装置が開発された。このクラスタ装置によれば、ウエハは処理態様に応じて真空処理装置間を移動すれば良く、処理装置内の真空を破ることなくプロセスを一貫的に行うことができ、効率的な処理が可能となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、今日のように半導体デバイスの高密度化、高集積化の要求が高まり、且つまた処理の更なる効率化及び成膜種類の増加等の要請により、従来必要とされていた処理装置の数、例えば３個よりももっと多くの数、例えば５個或いはそれ以上の数の処理装置を共通搬送室に連結する必要が生じている。
【０００６】この場合、従来装置にて用いていた多角形状の真空共通搬送室の直径を大きくしてその周辺部に必要数の真空処理装置を連結することも考えられるが、共通搬送室の直径を大きくすると内部が真空であることからその分、共通搬送室の天井部や底部の強度を大幅に向上しなければならず、容器天井部等の厚みがかなり大きくなって現実的ではない。
【０００７】そこで、横長の共通搬送室を形成してこの側壁全体にカセット室や多数の真空処理室を配置し、搬送室内部に旋回、伸縮可能な搬送アームを通常のリニア移動機構により直線的に移動可能に設けることも考えられるが、この場合には搬送室内部にリニア移動機構全体を設け、しかも搬送アームの軸数も多いことから摺動部が多くなってゴミやパーティクル、或いは発ガスの問題が顕著になる。
【０００８】しかも、動力源がエッチングガス等に晒されるので腐食されて信頼性の低下にもつながるのみならず、動力源への給電も比較的困難になる。更には、搬送室全体が大容量化して真空引きにも時間を要し、装置全体もコスト高になり、上記した構造の装置は現実的ではない。
【０００９】本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、比較的長い共通搬送室を用いて多数の真空処理室を連結することができる集合処理装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を解決するために、真空引き可能になされた比較的長い共通搬送室と、被処理体に所定の処理を施すべく前記共通搬送室の一側に連結された複数の真空処理室と、前記共通搬送室内に、その長手方向に沿って移動可能に設けられた移動体と、この移動体に設けられて、前記被処理体の搬出入を行うために前記真空処理室側に向けて伸縮可能になされた搬送アームと、前記共通搬送室の底壁に設けられて前記移動体を前記共通搬送室の長手方向へ磁気的手段により移動させる移動体駆動手段とを備えるようにしたものである。
【００１１】
【作用】本発明は、以上のように構成したので、比較的長い断面矩形の方形状共通搬送室の一つの側壁に多数の真空処理室を連結することができる。各真空処理室への被処理体の搬入・搬出は、この搬送室の長手方向に沿って移動可能に設けられた移動体に設けた搬送アームを伸縮することにより行うことができる。この場合、移動体を移動させるモータの主要部分である移動体駆動手段は、例えば搬送室の底壁の下方側、すなわち搬送室外に設けるようにしたので搬送室内に位置する可動部分は非常に少なくなり、パーティクル等に起因する不都合の発生を抑制することができる。
【００１２】特に、移動体は独立に制御可能な第１及び第２移動体部により形成し、これらを相対的に接近させたり離間させたりすることにより搬送アームが伸縮するように構成することにより、搬送アームを簡単な構成にでき、パーティクルの発生を一層抑制することができる。
【００１３】
【実施例】以下に、本発明にかかる集合処理装置の一実施例を添付図面に基いて詳述する。図１はこの本発明に係る集合処理装置を示す平面断面図、図２は図１に示す装置の部分破断斜視図、図３は図１に示す装置に用いる移動体と移動体駆動手段との関係を示す部分破断斜視図、図４は図３に示す部分の断面図、図５は搬送アームの内部を示す内部構造図、図６は搬送アームの動作を示す動作説明図である。
【００１４】図示するようにこの集合処理装置２は、アルミニウム等により形成された断面矩形の比較的長い箱状の共通搬送室４を有しており、この一側壁には、その長手方向に沿って複数、例えば５個の真空処理室６Ａ〜６Ｅが、それぞれ気密に開閉可能になされたゲートバルブ８Ａ〜８Ｅを介して所定の間隔で連結されている。本実施例においては共通搬送室４の長さ及び幅はそれぞれ５ｍ及び３０ｃｍ程度に設定されるが、この長さに限定されない。また、上述と同じ一側壁には、例えば２個のカセット室１０Ａ、１０Ｂがそれぞれ気密に開閉可能になされたゲートバルブ１１Ａ、１１Ｂを介して連結されている。
【００１５】各カセット室１０Ａ、１０Ｂの上記ゲートバルブ１１Ａ、１１Ｂとは反対側の側壁には、外部との間で被処理体、例えば半導体ウエハＷの搬入・搬出を行うためのゲートバルブ１２Ａ、１２Ｂが設けられており、各カセット室１０Ａ、１０Ｂ内には、ウエハＷを収容したカセットＣ１、Ｃ２が、上下動可能になされたカセット台（図示せず）上に載置されて、収容されている。例えば、一方のカセット室１０Ａは、未処理の待機状態のウエハを収容するために用いられ、他方のカセット室１０Ｂは処理済みのウエハを収容するために用いられる。
【００１６】一方、上記各真空処理室６Ａ〜６Ｅ内には、ウエハＷを載置するための載置台１４が設けられる。また、各処理室には各処理室内に処理ガスや不活性ガス等の必要なガスを供給するためのガス供給系１６Ａ〜１６Ｅと、図示しない真空ポンプに接続された真空排気系１８Ａ〜１８Ｅが接続されており、各処理室内にてそれぞれ所定の処理を実行し得るようになっている。処理態様としては、例えばウエハの加熱・冷却処理、プラズマエッチング処理、ＣＶＤ処理、ＰＶＤ処理等を必要に応じて適宜組み合わせることができる。また、各カセット室１０Ａ、１０Ｂ及び共通搬送室４にも、それぞれに例えば窒素ガス等の不活性ガスを供給する不活性ガス供給系２０、２２や真空排気系２４、２６が接続されている。
【００１７】このように形成された共通搬送室４内には、本発明の特長とする移動体２８とこれに設けた搬送アーム３０が、共通搬送室４の長手方向に移動可能に設けられている。ここでこの移動体２８を駆動する方法として、搬送室４の底壁４Ａの下面側には搬送室４の長手方向に沿って移動体駆動手段３２が設けられる。
【００１８】具体的には、搬送室底壁４Ａには磁力線を通し且つ金属汚染の少ない材料、例えばアルミニウム等によって断面凸状になされた幅広の案内レール３４が搬送室４の長手方向に沿って形成されており、これに跨がって移動体２８が設けられて、移動することになる。
【００１９】この移動体２８は、第１移動体部２８Ａと第２移動体部２８Ｂの２つの部材よりなり、各移動体部２８Ａ、２８Ｂは、磁気的手段、例えばリニア直流モータの駆動原理で別個独立に移動し得るようになている。そのために、共通搬送室４内から区画された上記凸状の案内レール３４の下面には、その長手方向に沿って多数の環状に巻回された、リニア直流モータ用の電機子コイル３６が配置されると共に各コイル３６内にはそれぞれ位置検出用のホール素子３８が設けられている。
【００２０】また、各移動体部２８Ａ、２８Ｂの下面の両側には、上記案内レール３４の上面と接して転動する走行ボール４０が回転自在に取り付けられると共にその下面の中央部には走行方向に沿って磁石のＮ極、Ｓ極を交互に例えば４個配置した駆動磁石４２が固定されている。各電機子コイル３６は、後述するように搬送アーム３０を伸長するために両移動体部２８Ａ、２８Ｂが最接近した時の両移動体部間の距離よりも短い間隔内における電機子コイル数、例えば３個程度隣接して配置される電機子コイル群を一単位として別個独立に駆動電流を制御し得るようになっており、このコイル群に所定の駆動電流を流すことにより、発生する磁界と移動体部に設けた駆動磁石４２からの磁界との相互作用により上記両移動体を同期させて或いは別個独立に移動し得るようになっている。一方、上記各移動体部２８Ａ、２８Ｂに取り付けられる搬送アーム３０は、図５及び図６に示すように構成される。
【００２１】すなわち、この搬送アーム３０は、一端を上記第２移動体部２８Ｂに回動可能に支持させた主アーム部４４と、この主アーム部４４の長さＬ１の半分の長さＬ２に設定された一端を上記第１移動体部２８Ａに回動可能に支持させると共に他端をこの主アーム部４４の中央部に回動ピン４６を介して回動可能に支持させた補助アーム部４８と、上記主アーム部４４の他端に回動可能に設けられて先端が２又に分岐されたウエハ保持アーム部５０とにより主に構成されており、リンク機構を形成している。すなわち、主アーム部４４の両端の支持点及び回動ピン４６は、一直線上にあり且つ主アーム部４４の両端の支持点と回動ピン４６までのそれぞれの距離と補助アーム部４８の両支持点間の距離は同一長さに設定されている。
【００２２】上記主アーム部４４の第２移動体部２８Ｂ側端部には、この第２移動体部２８Ｂより起立させて固定軸５２が固定的に設けられると共にこの固定軸５２には第１のプーリ５４が固設されている。また、この固定軸５２の上端には、主アーム部４４自体の外側を形成するケース５６の一端が軸受５８を介して回動可能に支持されると共に、上記ケース５６の他端には回転軸５８が軸受６０を介して回動可能に支持されている。
【００２３】この回転軸５８の上端には、上記ウエハ保持アーム部５０の基端部が固定的に取り付けられると共にこの回転軸５８の下端には第２のプーリ６２が固定的に取り付けられる。そして、この第２のプーリ６２と上記第１のプーリ５４との間には、例えばベルト６４が掛け渡されている。従って、図６（Ａ）に示すように第１移動体部２８Ａを停止した状態において、第２移動体部２８Ｂを矢印に示すように第１移動体部２８Ａ側へ接近させることにより、搬送アーム３０自体は真空処理室側へ伸長することになる（図６（Ｂ）参照）。また、上記と逆の操作を行えば搬送アーム３０自体は縮退する。この一連の伸縮操作の間において、ウエハ保持アーム５０の向きは、第１移動体部２８Ａにおいて移動体の走行する方向と直交する方向の延長線上に沿って向いていることになる。
【００２４】次に、以上のように構成された本実施例の動作について説明する。まず、未処理のウエハＷをカセットに収容した状態で、カセット室１０Ａの外側のゲートバルブ１２Ａを開いてこのカセット室１０Ａ内に収納し、このゲートバルブ１２Ａを閉じる。そして、このカセット室１０Ａ内を所定の減圧雰囲気まで真空引きした後に、このカセット室１０Ａ内を予め減圧雰囲気になされている共通搬送室４とを区画する内側のゲートバルブ１１Ａを開いてこれらを連通する。そして、このゲートバルブ１１Ａに対応する部分に移動体２８を移動させ、これに設けた搬送アーム３０を伸縮させることにより未処理のウエハを取り出す。
【００２５】次に、搬送アーム３０を縮退させた状態で電機子コイル３６に駆動電流を流すことにより移動体２８を所望する真空処理室の位置まで移動してウエハＷを搬送する。そして、その真空処理室のゲートバルブを開いて前述と同様に搬送アーム３０を伸縮することによりウエハＷを真空処理室内に載置してロードする。そして、このロードされたウエハＷに所定の処理を施した後に、前述したと同様な操作を繰り返すことによりウエハＷを順次、真空処理室間に渡って搬送し、必要とする処理を施して行く。そして、ウエハＷに対して最終処理が完了したならば、このウエハを処理済みのウエハＷを収容するカセット室１０Ｂ内に収容することになる。
【００２６】さて、ここで以上の動作を実行するために移動体２８の動作及びこれに伴う搬送アーム３０の動きを説明する。まず、搬送アーム３０を縮退させた状態で案内レール３４上を走行させる場合には、第１移動体部２８Ａと第２移動体部２８Ｂとが等間隔を維持した状態でこれらを同期させて所望する場所、すなわち所望の真空処理室或いはカセット室まで走行移動させて停止する。この場合、ウエハ保持アーム部５０が対応する室のゲートバルブに対向するように第１移動体部２８Ａを停止させる。
【００２７】次に、搬送アーム３０を伸長させる場合には、第１移動体部２８Ａを停止させた状態で第２移動体部２８Ｂを図６（Ａ）に示すように第１移動体部２８Ａ側に接近させる。すると第１移動体部２８Ａに設けた補助アーム部４８により主アーム部４４が外側へ回動して突き出され、この結果、第１のプーリ５４と主アーム部４４のケース５６が相対的に回転してベルト６４の掛けられた第２のプーリ６２はその分、逆方向に回転する。従って、この第２のプーリ６２と連結されているウエハ保持アーム部５０は真空処理室或いはカセット室を向いた状態で開かれたゲートバルブを介して室内に侵入させることができる（図６（Ｂ）参照）。また、搬送アーム３０を縮退させる場合には、上記したと逆の操作、すなわち図６（Ｂ）に示す状態から図６（Ａ）に示す状態まで第２移動体部２８Ｂのみを動かせばよい。
【００２８】このように、本実施例においては比較的長さの長い共通搬送室２内に２つの移動体部２８Ａ、２８Ｂを長さ方向に移動可能に設け、これらの移動体部を別個独立に操作することにより搬送アームを伸縮させることができるので、搬送アームや移動体の構造を非常に簡単化することができる。従って、搬送室４内の真空雰囲気に晒される可動部分を非常に少なくすることができ、パーティクルの発生原因を減少させることができる。
【００２９】また、上記移動体部２８Ａ、２８Ｂを駆動する駆動源としての電機子コイル３６を底壁４Ａに設けた案内レール３４の下方側、すなわち搬送室外に電機子コイル３６を設けて磁気的手段により上記移動体部２８Ａ、２８Ｂを移動させるようにしたので、多量のパーティクルを発生する移動体駆動手段３０を搬送室内に設けなくて済み、上記した理由と相俟ってパーティクルの発生を一層抑制することができる。このように、共通搬送室内に、パーティクルの発生源となる動力源や可動部を極力持ち込まないで済むので、従来のクラスタ構造の処理装置と比較して多数の真空処理室を連結したクラスタ結合型の集合処理装置を提供することができる。
【００３０】尚、上記実施例では５個の真空処理室を連結した場合について説明したが、この数量に限定されず、更に多くの真空処理室を連結する場合には、共通搬送室４の長さを単に延ばせば必要数の真空処理室を連結するこができる。また、上記実施例にあっては搬送アーム３０としてはプーリ５４、６２、ベルト６４等を組み合わせた構造の搬送アームを用いたが、これに限定されず、例えば図７及び図８に示す構造の搬送アームを用いるようにしてもよい。
【００３１】図７に示す搬送アーム３０は、ウエハ保持アーム部５０の基端部５０Ａと第２移動体部２８Ｂとの間に、平行になされて両端が回動可能に支持されて掛け渡された第１アーム６６Ａと第２アーム６６Ｂとよりなる平行リンク機構６８を設け、第１アーム６６Ａの中央と第１移動体部２８Ａとの間に図６に示すと同様な補助アーム部４８を回動可能に掛け渡す。この場合にも、図６R>６に示す構造と同様に第１及び第２アーム６６Ａ、６６Ｂの長さの１／２の長さに補助アーム部４８の長さを設定する。
【００３２】このように構成した場合にも、第２移動体部２８Ｂのみを第１移動体部２８Ａに向けて接近させたり（図７（Ｂ）参照）、或いは遠ざけることにより（図７R>７（Ａ）参照）、搬送アーム３０自体を伸縮させることができる。特に、本実施例の場合には、図５に示す構造と異なり、軸受やプーリ等を不要にして棒状のアームのみで構成することができるので構造を簡単化でき、その分、パーティクルの発生量も抑制することが可能となる。
【００３３】また、図８に示す搬送アーム３０は、ウエハ保持アーム部５０の基端部に箱状或いは板状のアーム基台７０を設け、このアーム基台７０と第１移動体部２８Ａとの間に第１アーム６６Ａを回動可能に掛け渡し、更に、上記アーム基台７０と第２移動体部２８Ｂとの間に上記第１アーム６６Ａと同じ長さの第２アーム６６Ｂを回動可能に掛け渡して構成される。
【００３４】そして、上記第１アーム６６Ａ及び第２アーム６６Ｂのアーム基台側端部にそれぞれ相互に噛合した一対のリバースギア７２を取り付けておく。これにより、２つの移動体部２８Ａ、２８Ｂを相互に接近させたり（図８（Ｂ）参照）、遠ざけたりし（図８（Ａ）参照）、これにより搬送アーム自体を伸縮させることができる。この場合、ウエハ保持アーム部５０を移動体の走行方向へ移動させることなくこれを伸縮させるには先に示した２つの実施例とは異なり、両移動体部２８Ａ、２８Ｂを同期させて相互に反対方向へ移動させることにより、接近させたり離間させたりする。この実施例によれば図７に示す構造の搬送アームよりも更にアーム数を減少させることができ、その構造を一層簡単化することが可能となる。
【００３５】更に、以上の各実施例においては、リニア直流モータの原理を用いた移動体駆動手段を用いて各移動体部２８Ａ、２８Ｂを移動制御するようにしたが、これに限定されず、図９、図１０及び図１１に示すような構造としてもよい。図９及び図１０はボールネジを用いた移動体駆動手段を示し、案内レール３４の下側に、これに沿って２本のボールスクリュウネジ７４Ａ、７４Ｂを並行に配設し、これらを別個の駆動モータ（図示せず）に連結する。そして、各ボールスクリュウネジ７４Ａ、７４Ｂにボールスクリュウネジの回転に伴って移動する補助移動体７６Ａ、７６Ｂを螺合させ、この各補助移動体７６Ａ、７６Ｂの上面にＮ極、Ｓ極を交互に配置した案内永久磁石７８Ａ、７８Ｂを設ける。
【００３６】各案内永久磁石７８Ａ、７６Ｂは、それぞれ第１移動体部２８Ａ及び第２移動体部２８Ｂを駆動するためのものであり、そのため第１移動体部２８Ａの下面には、上記２本のボールスクリュウネジの内の一方、例えばボールスクリュウネジ７４Ａ側に対応する部分にＳ極、Ｎ極を交互に配置してなる駆動磁石４２Ａを設け、この磁石４２Ａと案内永久磁石７８Ａの磁気吸引力によって補助移動体７６Ａと第１移動体部２８Ａを磁気的に結合する。これにより、補助移動体７６Ａの動きに第１移動体部２８Ａを追従させて移動させ得るようになっている。
【００３７】同様に、第２移動体部２８Ｂの下面には、他方のボールスクリュウネジ７４Ｂ側に対応する部分にＳ極、Ｎ極を交互に配置してなる駆動磁石４２Ｂを設け、この磁石４２Ｂと他方の案内永久磁石７８Ｂの磁気吸引力によって第２移動体部２８Ｂを補助移動体７６Ｂの動きに追従させて移動し得るようになっている。この行なう実施例によれば、第１移動体部２８Ａは一方の補助移動体７６Ａに磁気的に結合されてこれと一体的に動き、第２移動体部２８Ｂは他方補助移動体７６Ｂに磁気的に結合されてこれと一体的に動く。従って、２つのボールスクリュウネジ７４Ａ、７４Ｂを同期して同方向に回転することにより２つの移動体部２８Ａ、２８Ｂは同一間隔を保持した状態で同一方向に動く。また、各ボールスクリュウネジ７４Ａ、７４Ｂを別個独立に回転制御することにより、両移動体部２８Ａ、２８Ｂを相互に接近させたり、離間させたりすることができ、この移動体部に連結される搬送アームを伸縮させることができる。
【００３８】図１１は磁気浮上式の移動体駆動手段を示す断面図である。図４に示す実施例の場合には共通搬送室４の底壁４Ａに凸部状の案内レール３４を設けたが、これに替えて本実施例では底壁４Ａに凹部状の案内レール３４を設ける。この案内レール３４は、先の実施例と同様に磁界を良く通し且つ金属汚染の少ない材料、例えばアルミニウムにより形成される。
【００３９】第１及び第２移動体部２８Ａ、２８Ｂは断面略矩形状に成形されて上記凹部状の案内レール３４内に収容され、これに沿って走行移動することになる。この移動体部２８Ａ、２８Ｂの下面中央部には、図４に示す場合と同様にＮ極、Ｓ極を交互に配置してなる駆動磁石４２が設けられ、その下面両側と外側面の下部には例えば断面Ｌ字状のＮ極或いはＳ極（図示例にあってはＮ極）の反発用永久磁石８０が設けられる。
【００４０】また、上記案内レール３４の下方には、これより所定の間隔を隔てて断面幅広Ｕ字状の補助案内レール８０が上記案内レール３４の外周面を被うようにその長手方向に沿って形成されている。この補助案内レール８０の断面中央部には、図３及び図４に示す装置と同様に、ホール素子３８を備えた電機子コイル３６がレールの長手方向に沿って多数配列されており、これに駆動電流を流すことにより磁気的に結合される駆動磁石４２、すなわち移動体部２８Ａ、２８Ｂを移動させるようになっている。
【００４１】また、この補助案内レール８０の断面底部の両側及び側壁内側面の下部には、上記反発用永久磁石８０に対向させてこれと同極の極性、すなわちＮ極の断面Ｌ字状の浮上用永久磁石８４がレールに沿って設けられており、この浮上用永久磁石８４と反発用永久磁石８０との間に生ずる磁界の反発力により移動体部２８Ａ、２８Ｂを浮上させ且つ横方向に所定のギャップを形成し得るようになっている。尚、ここで示した磁気浮上方式は一例を示したに過ぎず、どのような磁気浮上方式を採用してもよいのは勿論である。
【００４２】図３及び図４に示す装置にあっては、案内レール３４上を走行ボール４０が転動して移動することから、若干の摩耗粉がパーティクルとなって発生する恐れがあるが、図１１に示す実施例の場合には移動体部全体が磁気的に浮上した状態で案内レール３４に沿って走行移動することから、摩耗部分が非常に少なくなり、従って、パーティクルの発生を略確実に阻止することが可能となる。
【００４３】また、本実施例では移動可能な搬送アーム３０を１基設けた場合について説明したが、これに限定されず、案内レール３４上に複数基設けるようにしてもよい。図１２は、搬送アーム３０を２基設けた状態を示しており、これらアームは独立に制御可能になされている。これによれば、各搬送アーム３０、３０は独立に制御でき、ウエハの搬出入をその分迅速に行うことができるので、スループットを向上させることができる。尚、以上の各実施例においては、被処理体として半導体ウエハを処理する場合について説明したがこれに限定されず、例えばＬＣＤ基板を処理する場合にも適用し得るのは勿論である。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように本発明の集合処理装置によれば、次のように優れた作用効果を発揮することができる。比較的長い共通搬送室の一側壁に複数の真空処理室を連結し、被処理体を搬送するために室外に設けた磁気的な移動体駆動手段により搬送アームを移動させ且つこれを伸縮可能としたので、モータ等のパーティクル発生源を室内に入れることなく搬送アームを移動させることができ、従来のクラスタ結合型の処理装置と比較してより多くの真空処理室を連結することができる。従って、歩留まりを低下させることなくより効率的に被処理体の処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る集合処理装置を示す平面断面図である。
【図２】図１に示す装置の部分破断斜視図である。
【図３】図１に示す装置に用いる移動体と移動体駆動手段との関係を示す部分破断斜視図である。
【図４】図３に示す部分の断面図である。
【図５】搬送アームの内部を示す内部構造図である。
【図６】搬送アームの動作を示す動作説明図である。
【図７】搬送アームの変形例を示す動作説明図である。
【図８】搬送アームの他の変形例を示す動作説明図である。
【図９】移動体駆動手段の変形例を示す概略斜視図である。
【図１０】図９に示す移動体駆動手段の断面図である。
【図１１】移動体駆動手段の他の変形例を示す断面図である。
【図１２】搬送アームを２基設けた状態を示す本発明装置の平面断面図である。
【符号の説明】
２集合処理装置
４共通搬送室
６Ａ〜６Ｅ真空処理室
１０Ａ、１０Ｂカセット室
２８移動体
２８Ａ第１移動体部
２８Ｂ第２移動体部
３０搬送アーム
３２移動体駆動手段
３４案内レール
３６電機子コイル
３８ホール素子
４２駆動磁石
４４主アーム部
４８補助アーム部
５０ウエハ保持アーム部
５４第１のプーリ
６２第２のプーリ
６６Ａ第１アーム
６６Ｂ第２アーム
６８平行リンク機構
７２リバースギア
７４Ａ、７４Ｂボールスクリュウネジ
７８Ａ、７８Ｂ案内永久磁石
８０反発用永久磁石
８４浮上用永久磁石
Ｗ半導体ウエハ（被処理体）

【特許請求の範囲】
【請求項１】真空引き可能になされた比較的長い共通搬送室と、被処理体に所定の処理を施すべく前記共通搬送室の一側に連結された複数の真空処理室と、前記共通搬送室内に、その長手方向に沿って移動可能に設けられた移動体と、この移動体に設けられて、前記被処理体の搬出入を行うために前記真空処理室側に向けて伸縮可能になされた搬送アームと、前記共通搬送室の底壁に設けられて前記移動体を前記共通搬送室の長手方向へ磁気的手段により移動させる移動体駆動手段とを備えたことを特徴とする集合処理装置。
【請求項２】前記移動体は、第１移動体部と第２移動体部よりなると共に前記搬送アームは前記第１及び第２移動体部に連結されたリンク機構よりなり、前記第１及び第２移動体を相対的に移動させることにより伸縮するようになされていることを特徴とする請求項１記載の集合処理装置。
【請求項３】前記移動体とこれに設けられる前記搬送アームは、２基以上独立的に制御可能に設けられることを特徴とする請求項１または２記載の集合処理装置。

【図１】