静電容量型入力装置および入力機能付き表示装置
【課題】簡素な構成で、透光性基板上の透光性電極パターンを目立たなくすることのできる静電容量型入力装置、および入力機能付き表示装置を提供すること。
【解決手段】入力装置付き表示装置１００の入力装置１０は静電容量型のタッチパネルであり、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同時形成されたダミーパターン１３が形成されている。かかるダミーパターン１３は、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と絶縁されており、フロート状態にある。
【解決手段】入力装置付き表示装置１００の入力装置１０は静電容量型のタッチパネルであり、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同時形成されたダミーパターン１３が形成されている。かかるダミーパターン１３は、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と絶縁されており、フロート状態にある。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、指の接近位置を静電容量の変化として検出可能な静電容量型入力装置、および当該静電容量型入力装置を備えた入力機能付き表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指などを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。
【０００３】
このような入力装置（タッチパネル）には、抵抗膜型、静電容量型などがあるが、抵抗膜型の入力装置は、フィルムとガラスの２枚構造でフィルムを押下してショートさせる構造のため、動作温度範囲の狭さや、経時変化に弱いという欠点を有している。
【０００４】
これに対して、静電容量型の入力装置は、一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。かかる静電容量型の入力装置では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開平１１−１５４０５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
入力装置においては、液晶装置などに重ねて配置した場合に、液晶装置に表示された画像を入力装置の入力面側から透過して視認するため、基板および電極パターンには透光性に優れたものが用いられる。それでも、透光性電極パターンなどが形成されている領域と、透光性電極パターンなどが形成されていない領域との間で反射率が大きく異なると、透光性電極パターンの存在などの存在が目立ってしまい、好ましくない。
【０００６】
しかるに第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンを透光性基板の表面および裏面に各々形成すると、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間に透光性基板が介在するため、第１の透光性電極パターンが形成されている領域、第２の透光性電極パターンが形成されている領域、これらの透光性電極パターンが形成されていない領域で光学的な構成が大きく相違する結果、各領域間で反射率に大きな差が発生し、透光性電極パターンの存在が目立ってしまうという問題点がある。
【０００７】
また、透光性基板の同一面側に第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを形成した場合でも、透光性基板に通常用いられるガラス基板と、透光性電極パターンに通常用いられるＩＴＯ膜（Indium Tin Oxide）との間には屈折率に大きな差があるため、透光性電極パターンが形成されている領域と、透光性電極パターンが形成されていない領域との間で反射率に差が生じ、透光性電極パターンの存在が目立ってしまい、好ましくない。
【０００８】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、簡素な構成で、透光性基板上の透光性電極パターンを目立たなくすることのできる静電容量型入力装置、および入力機能付き表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明では、透光性基板の入力領域に、第１の方向に延在する複数の第１の透光性電極パターンと、前記第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数の第２の透光性電極パターンとが形成された静電容量型入力装置において、前記透光性基板を平面視したときに、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとに挟まれた領域には、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンと同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターンが形成されていることを特徴とする。
【００１０】
静電容量型入力装置では、透光性基板を平面視したときに、入力領域内には、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを構成する透光性導電膜が存在する領域と、かかる透光性導電膜が存在しない領域があって、これらの領域の間には反射率の差があって、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在が目立ってしまうが、本発明では、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを構成する透光性導電膜が存在しない領域には、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンと同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターンが形成されている。このため、本発明によれば、第１の透光性電極パターン、第２の透光性電極パターン、およびダミーパターンのいずれもが存在しない領域が極めて狭いため、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在が目立たない。それ故、静電容量型入力装置における入力面とは反対側に画像生成装置を重ねて配置したときでも、静電容量型入力装置を介して画像生成装置を見る者に対して品位の高い画像を提供することができる。
【００１１】
本発明において、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンは、単層膜により形成されていることが好ましい。第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在を目立たなくする構成として、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを多層膜で形成することが考えられるが、かかる構成を採用する場合、多層膜に絶縁膜を含ませざるを得ない場合が多く、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの電気的抵抗が増大するが、本発明によれば、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを単層膜により形成しても、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在が目立たない。それ故、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの電気的抵抗を低くすることができる。また、製造工程を簡素化することができるので、コストを低減することもできる。
【００１２】
本発明において、前記第１の透光性電極パターン、前記第２の透光性電極パターンおよび前記ダミーパターンは、前記透光性基板の同一面側に同一の透光性導電膜から構成され、前記ダミーパターンは、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンの双方から絶縁状態に形成されていることが好ましい。このように構成すると、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間に透光性基板が介在しないため、第１の透光性電極パターンが形成されている領域、第２の透光性電極パターンが形成されている領域、これらの透光性電極パターンが形成されていない領域で光学的な構成が大きく相違しないので、各領域間での反射率の差が小さい。それ故、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在が目立たない。
【００１３】
本発明において、前記第１の透光性電極パターン、前記第２の透光性電極パターン、および前記ダミーパターンは、前記透光性基板の同一面側において同一の絶縁層上に同一の透光性導電膜により形成されていることが好ましい。このように構成すると、第１の透光性電極パターン、第２の透光性電極パターン、およびダミーパターンを同時形成することができるので、製造工程を簡素化することができるので、コストを低減することができる。
【００１４】
本発明において、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンは各々、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの交差部分で挟まれた領域に大面積部分を備えている場合があり、このような場合、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの間には、互いの前記大面積部分に挟まれたスリット状の隙間が複数形成され、前記ダミーパターンは、前記隙間内に形成されている構成を採用することができる。
【００１５】
本発明において、前記ダミーパターンは、前記複数の隙間毎に独立して形成されていることが好ましい。このように構成すると、ダミーパターンが透光性導電膜であっても、ダミーパターンを介しての電気的な影響が周囲に及ばない。それ故、入力位置に対する検出感度を高くできるという利点がある。
【００１６】
本発明において、前記ダミーパターンは、前記隙間内において当該隙間の幅方向で並列した状態で当該隙間の長手方向に複数延在していることが好ましい。このように構成すると、ダミーパターンが透光性導電膜である場合において、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間に１本のダミーパターンが存在する場合に比較して、ダミーパターンを介して第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間に寄生する容量が小さい。
【００１７】
本発明において、前記ダミーパターンは、１つの前記スリット状の隙間内において当該隙間の長手方向において分割されて複数配置されている構成を採用してもよい。このように構成すると、ダミーパターンが透光性導電膜である場合において、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間でダミーパターンが延在している場合に比較して、ダミーパターンを介しての電気的な影響が小さいので、入力位置に対する検出感度を高くできるという利点がある。
【００１８】
本発明では、前記隙間の幅方向において、前記大面積領域と前記ダミーパターンとの間に形成されるスペースの幅寸法は３０μｍ以下であり、かつ、スペースの幅寸法の総和は５０μｍ以下であることが好ましい。このように構成すると、隙間内において、第１の透光性電極パターン、第２の透光性電極パターン、およびダミーパターンのいずれもが存在しない領域が目立たない。
【００１９】
本発明において、前記交差部分では、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンのうちの一方の電極パターンが繋がっている一方、他方の電極パターンは途切れており、少なくとも前記交差部分における前記一方の電極パターンの上層側あるいは下層側に透光性の層間絶縁膜が形成されているとともに、当該層間絶縁膜に対する上層側および下層側のうち、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンが形成されている側と反対側には、前記交差部分で途切れている前記他方の電極パターン同士を電気的に接続する透光性の中継電極が形成されていることが好ましい。第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを透光性基板の同一面側に形成すると、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとを交差させる必要があり、かかる交差部分の膜構成は、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンと相違してしまう。このため、液晶装置などで表示された画像を入力装置の入力面側からみた際、透光性電極パターンなどが形成されている領域と、透光性電極パターンなどが形成されていない領域との間での反射率の差が小さくなるように透光性電極パターンを形成して、透光性電極パターンを目立たなくしても交差部分が目立ってしまうことになる。しかるに本発明では、交差部分において電極パターンが途切れており、かかる途切れた電極パターン同士は、透光性の層間絶縁膜の上層に形成された透光性の中継電極によって電気的に接続されている。このため、交差部分が占める面積が狭い。それ故、入力面側からみた際、交差部分の存在が目立たない。
【００２０】
本発明を適用した静電容量型入力装置は、入力機能付き表示装置に用いられる場合があり、この場合、前記静電容量型入力装置における入力面とは反対側に画像生成装置が重ねて配置されることになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００２２】
［実施の形態１］
（全体構成）
図１（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力装置付き表示装置の構成を模式的に示す説明図、およびこの入力装置付き表示装置の平面的な構成を模式的に示す説明図である。なお、図１（ｂ）において、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンについて実線で簡略化して示してあり、それらの数も減らして示してある。
【００２３】
図１（ａ）において、本形態の入力装置付き表示装置１００は概ね、画像生成装置としての液晶装置５０と、この液晶装置５０において表示光を出射する側の面に重ねて配置されたパネル状の入力装置１０（タッチパネル）とを有している。液晶装置５０は、透過型、反射型あるいは半透過反射型のアクティブマトリクス型液晶パネル５０ａを備えており、透過型あるいは半透過反射型の液晶パネルの場合、表示光の出射側とは反対側にバックライト装置（図示せず）が配置される。また、液晶装置５０においては、液晶パネル５０ａに対して位相差板や偏光板（図示せず）が重ねて配置される。液晶パネル５０ａは、素子基板５１と、素子基板５１に対して対向配置された対向基板５２と、対向基板５２と素子基板５１との間に保持された液晶層とを備えており、素子基板５１において、対向基板５２の縁から張り出した領域にはフレキシブル基板５３が接続されている。素子基板５１には駆動用ＩＣがＣＯＧ実装されることもある。いずれの場合も、液晶装置５０は動画や静止画を表示可能であり、入力装置付き表示装置１００に対する入力を行う際、入力情報に対応する指示画像を表示する。従って、利用者は、入力装置付き表示装置１００で表示された指示画像を指で接触、あるいは指を近接させれば、情報の入力を行うことができる。
【００２４】
入力装置１０は静電容量型のタッチパネルであり、透光性基板１５と、この透光性基板１５に後述する粘着剤層（透光性樹脂層）を介して貼り合わされた透光性のカバー基板４０と、透光性基板１５の端部に接続されたフレキシブル基板１９とを備えている。フレキシブル基板１９には、入力装置１０において入力位置の検出を行うための駆動回路（図示せず）が接続されている。入力装置１０においては、カバー基板４０の上面によって入力面１０ｂが構成されており、透光性基板１５の略中央領域が指先による入力が行われる入力領域１０ａになっている。
【００２５】
図１（ｂ）に示すように、透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａには、矢印Ｘで示す第１の方向に延在する複数列の第１の透光性電極パターン１１と、矢印Ｙで示す第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数列の第２の透光性電極パターン１２とが形成されている。このような構成の入力装置１０では、複数の第１の透光性電極パターン１１および複数の第２の透光性電極パターン１２に順次、電圧印加し、電荷を与えた際、いずれかの箇所に導電体である指が触れると、あるいは指が近接すると、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と、指との間でも容量を持ち、その結果として静電容量が低下するので、いずれの箇所に指が触れたかを検出することができる。
【００２６】
（入力装置１０の詳細構成）
図２（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態１に係る入力装置に形成した透光性電極パターン（第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターン）の平面的な構成を示す説明図、および第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンの隙間を拡大した拡大平面図である。図３（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る入力装置の図２（ａ）におけるＡ１−Ａ１′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図なお、図２（ａ）においては、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの一部を抜粋して示してある。
【００２７】
図１（ｂ）、図２（ａ）、および図３（ａ）に示すように、本形態の入力装置１０において、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とは透光性基板１５の同一面側にＩＴＯ膜などの透光性導電膜により形成されている。また、本形態では、透光性基板１５の入力領域１０ａにおいて、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とは透光性基板１５の同一面側の同一の絶縁層上（透光性基板１５上）に同一の透光性導電膜により形成されているため、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８が複数、存在する。
【００２８】
そこで、本形態では、複数の交差部分１８のいずれにおいても、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のうちの一方の電極パターンは、交差部分１８でも繋がっている一方、他方の電極パターンは途切れている構成になっている。本形態では、複数の交差部分１８のいずれにおいても、第１の透光性電極パターン１１が繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れている構成になっている。
【００２９】
また、交差部分１８における第１の透光性電極パターン１１の上層側には、透光性の層間絶縁膜４ａが形成されているとともに、この層間絶縁膜４ａの上層には、交差部分１８で途切れている第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する透光性の中継電極５ａが形成されている。このため、第２の透光性電極パターン１２は第２の方向で電気的に接続されている。
【００３０】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は各々、交差部分１８で挟まれた領域に菱形形状の大面積のパッド部１１ａ、１２ａ（大面積部分）を備えており、第１の透光性電極パターン１１において交差部分１８に位置する接続部分１１ｃは、パッド部１１ａより幅の狭い細幅形状になっている。また、中継電極５ａも、パッド部１２ａより幅の狭い細幅形状で短冊状に形成されている。
【００３１】
このように構成した入力領域１０ａに対しては、粘着剤層３０を介して透光性のカバー基板４０が積層されている。
【００３２】
かかる構成の入力装置１０において、各要素の材質、厚さ（ｔ）、屈折率（ｎ）は、以下のリスト
透光性基板１０：ガラス（ｔ＝0.5ｍｍ、ｎ＝1.52）
第１の透光性電極パターン１１：ＩＴＯ膜（ｔ＝10〜100nm、ｎ＝1.8〜1.9）
第２の透光性電極パターン１２：ＩＴＯ膜（ｔ＝10〜100nm、ｎ＝1.8〜1.9）
層間絶縁膜４ａ：アクリル樹脂（ｔ＝1.5μｍ、ｎ＝1.52）
中継電極：ＩＴＯ膜（ｔ＝10〜50nm、ｎ＝1.8〜1.9）
粘着剤層３０：アクリル樹脂（ｔ＝200μｍ、ｎ＝1.48）
カバー基板４０：ガラス（ｔ＝0.5ｍｍ、ｎ＝1.52）
の通りである。
【００３３】
図１（ａ）、（ｂ）、および図３（ｂ）に示すように、透光性基板１５において入力領域１０ａの外側領域では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の各々からの配線用引き出し部分１ａが延在し、かかる配線用引き出し部分１ａの上層に金属配線９ａが形成されている。金属配線９ａの端部は、フレキシブル基板１９を接続するための端子１９ａを構成している。
【００３４】
（ダミーパターンの構成）
図２（ａ）、（ｂ）および図３（ａ）に示すように、本形態の入力装置１０において、透光性基板１５を平面視したときに、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とに挟まれた領域には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターン１３が形成されている。
【００３５】
より具体的には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は各々、交差部分１８で挟まれた領域が菱形形状の大面積のパッド部１１ａ、１２ａ（大面積部分）になっており、かかるパッド部１１ａ、１２ａの間には、スリット状の隙間１４が形成されている。このため、本形態において、ダミーパターン１３は、パッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４に形成されている。
【００３６】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は、透光性基板１５上にＩＴＯ膜（透光性導電膜）の単層膜により形成されており、ダミーパターン１３も、透光性基板１５上に第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同時形成されたＩＴＯ膜により形成されている。但し、ダミーパターン１３は、パッド部１１ａ、１２ａに対して同等の距離を隔てるように、隙間１４の幅方向の中央を通るように、隙間１４の長手方向に延在している。このため、ダミーパターン１３は、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のいずれとも接しておらず、電気的にフロート状態にある。ここで、複数の隙間１４が略同一直線上に並んでいるが、ダミーパターン１３は、複数の隙間１４毎に独立して形成されている。
【００３７】
また、図２（ｂ）に示すように、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を構成するＩＴＯ膜のスペースＳ１、Ｓ２の幅寸法ＷS1、ＷS2は各々、３０μｍ以下に設定され、かつ、ＩＴＯ膜のスペースＳ１、Ｓ２の幅寸法ＷS1、ＷS2の総和ＷSは５０μｍ以下に設定されている。
【００３８】
（入力装置１０の製造方法）
図４（ａ）〜（ｅ）は、本発明の実施の形態１に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。なお、図４（ａ）〜（ｅ）には、透光性電極パターン、交差部および金属配線を纏めて示してあり、左側には図３（ａ）に相当する部分を示し、右側には図３（ｂ）に相当する部分を示してある。
【００３９】
本形態の入力装置１０を製造するには、まず、図４（ａ）に示すように、透光性基板１５（ガラス基板）の一方の面全体に、膜厚が１０〜１００ｎｍの多結晶の第１のＩＴＯ膜１を形成した後、金属膜９を形成する。
【００４０】
次に、金属膜の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で金属膜をエッチングし、図４（ｂ）に示すように、金属配線９ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。
【００４１】
次に、金属配線９ａおよびＩＴＯ膜１の上層側に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で、ＩＴＯ膜１をエッチングし、図４（ｃ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３をパターニング形成するとともに、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２からの配線用引き出し部分１ａを形成した後、エッチングマスクを除去する。このようにして形成した第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、第１の透光性電極パターン１１は、パッド部１１ａが接続部分１１ｃを介して繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れている。
【００４２】
次に、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３の表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、図４（ｄ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１の接続部分１１ｃを覆うように層間絶縁膜４ａを形成する。
【００４３】
次に、層間絶縁膜４ａの上層側にアモルファスのＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でＩＴＯ膜をエッチングし、図４（ｅ）に示すように、層間絶縁膜４ａの上層に、第２の透光性電極パターン１２の途切れ部分を繋ぐように中継電極５ａを形成する。しかる後には、温度が２００℃以上の条件、例えば、温度が２２０℃、時間が２０〜３０分の条件で焼成を行い、中継電極５ａを構成するＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とする。アモルファスのＩＴＯ膜であればシュウ酸などでエッチングでき、シュウ酸であれば多結晶のＩＴＯ膜をエッチングしないので、中継電極５ａをパターニング形成する際、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が損傷することがない。また、焼成により、中継電極５ａを構成するＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、中継電極５ａの電気的抵抗を低減することもできる。
【００４４】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の入力装置１０では、透光性基板１５を平面視したときに、入力領域１０ａ内には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を構成する透光性導電膜が存在する領域と、かかる透光性導電膜が存在しない領域があって、これらの領域の間には反射率に差がある。従って、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立ってしまうが、本形態では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を構成する透光性導電膜が存在しない隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターン１３が形成されている。このため、本形態によれば、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３のいずれもが存在しない領域が極めて狭いため、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立たない。
【００４５】
しかも、本形態では、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が同一の絶縁層上（透光性基板１５上）に同一の透光性導電膜により形成されているため、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が形成されている各領域での層構造が同一で反射率に差がない。それ故、入力装置１０における入力面とは反対側に液晶装置５０を重ねて配置したときでも、入力装置１０を介して液晶装置５０の画面を見る者に対して品位の高い画像を提供することができる。
【００４６】
特に本形態では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２が大面積のパッド部１１ａ、１２ａを備えているため、目立ちやすい形状であるが、本発明を適用すれば、かかる形状の第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を形成した場合でも、目立つのを確実に防止することができる。
【００４７】
また、本形態では、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を構成するＩＴＯ膜のスペースＳ１、Ｓ２の幅寸法ＷS1、ＷS2は各々、３０μｍ以下に設定され、かつ、ＩＴＯ膜のスペースＳ１、Ｓ２の幅寸法ＷS1、ＷS2の総和ＷSは５０μｍ以下に設定されている。このため、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を構成するＩＴＯ膜が存在しない領域が目立たない。
【００４８】
また、本形態では、ダミーパターン１３は、電気的にフロート状態にあるとともに、ダミーパターン１３は、複数の隙間１４毎に独立して形成されている。このため、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との間にダミーパターン１３を設けても、ダミーパターン１３の電気的な影響が周囲に及ばない。それ故、入力装置１０では、入力位置に対する検出感度が高い。
【００４９】
さらに、本形態では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２がＩＴＯ膜の単層膜により形成されている。第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在を目立たなくする構成として、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を多層膜で形成することが考えられるが、かかる構成を採用する場合、多層膜に絶縁膜を含ませざるを得ない場合が多く、その分、導電膜が薄くなるので、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の電気的抵抗が増大するが、本形態によれば、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を単層膜により形成しても、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立たない。それ故、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の電気的抵抗を低くすることができる。また、製造工程を簡素化することができるので、コストを低減することもできる。
【００５０】
また、本形態では、透光性基板１５の同一面上に第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２が形成されているため、透光性基板１５の表面および裏面の各々に第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を形成した場合と比較して製造プロセスを簡素化できる。しかも、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が同一の絶縁層上（透光性基板１５上）に同一の透光性導電膜により形成されているため、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を異なる層により形成した場合と比較して製造プロセスを簡素化することができる。
【００５１】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を透光性基板１５の同一面側に同一層により形成すると、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とを交差させる必要があり、かかる交差部分１８の膜構成は、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と相違してしまう。このため、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在を目立たなくしても、交差部分１８の存在が目立ってしまう。しかるに本形態では、第２の透光性電極パターン１２の途切れ部分については、層間絶縁膜４ａの上層に形成された中継電極５ａによって、電気的に接続する構成を採用し、かつ、第１の透光性電極パターン１１において交差部分１８に位置する接続部分１１ｃ、および中継電極５ａを細幅にしたため、交差部分１８が占める面積が狭い。それ故、本発明によれば、入力装置１０の入力面１０ｂ側からみた際、交差部分１８の存在が目立たないので、液晶装置５０などで表示された画像を入力装置１０の入力面１０ｂ側からみた際、画像の品位が高い。
【００５２】
［実施の形態２］
図５は、本発明の実施の形態２に係る入力装置に形成した第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図である。図６（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２に係る入力装置の図５におけるＡ２−Ａ２′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにしてそれらの説明を省略する。
【００５３】
図５および図６（ａ）において、本形態の入力装置１０も、実施の形態１と同様、静電容量型のタッチパネルであり、透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａには、第１の方向に延在する複数列の第１の透光性電極パターン１１と、第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数列の第２の透光性電極パターン１２とが形成されている。
【００５４】
また、本形態でも、実施の形態１と同様、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は各々、交差部分１８で挟まれた領域が菱形形状の大面積のパッド部１１ａ、１２ａ（大面積部分）になっており、かかるパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同時形成されたＩＴＯ膜からなるダミーパターン１３が形成されている。
【００５５】
本形態において、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、第１の透光性電極パターン１１は繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れている。
【００５６】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の上層側には、透光性の層間絶縁膜４ｂが入力領域１０ａの略全体に形成され、かかる層間絶縁膜４ｂの上層には、層間絶縁膜４ｂのコンタクトホール４ｃを介して、交差部分１８で途切れている第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する透光性の中継電極５ａが形成されている。このため、第２の透光性電極パターン１２は第２の方向で電気的に接続されている。かかる中継電極５ａも、実施の形態１と同様、第２の透光性電極パターン１２のパッド部１２ａより幅の狭い細幅形状で短冊状に形成されている。
【００５７】
なお、図６（ｂ）に示すように、本形態でも、実施の形態１と同様、透光性基板１５において入力領域１０ａの外側領域では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の各々からの配線用引き出し部分１ａが延在し、かかる配線用引き出し部分１ａの上層に金属配線９ａが形成されている。金属配線９ａの端部は、フレキシブル基板１９を接続するための端子１９ａを構成している。
【００５８】
（入力装置１０の製造方法）
図７（ａ）〜（ｅ）は、本発明の実施の形態２に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。なお、図７（ａ）〜（ｅ）には、透光性電極パターン、交差部および金属配線を纏めて示してあり、左側には図６（ａ）に相当する部分を示し、右側には図６（ｂ）に相当する部分を示してある。
【００５９】
本形態の入力装置１０を製造するには、まず、図７（ａ）に示すように、透光性基板１５（ガラス基板）の一方の面全体に、膜厚が１０〜１００ｎｍの多結晶のＩＴＯ膜１を形成した後、金属膜９を形成する。
【００６０】
次に、金属膜９の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で金属膜をエッチングし、図７（ｂ）に示すように、金属配線９ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。
【００６１】
次に、金属配線９ａなどの上層側に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で、ＩＴＯ膜１をエッチングし、図７（ｃ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、ダミーパターン１３、および配線用引き出し部分１ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。
【００６２】
次に、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、図７（ｄ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、および交差部分１８に重なるように層間絶縁膜４ｂを形成する。その際、層間絶縁膜４ｂにはコンタクトホール４ｃが同時形成される。
【００６３】
次に、層間絶縁膜４ｂの上層側に多結晶のＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でＩＴＯ膜をエッチングし、図７（ｅ）に示すように、中継電極５ａを形成する。その際、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は、層間絶縁膜４ｂで覆われているので、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２が損傷することがない。また、多結晶のＩＴＯ膜の代わりに、アモルファスのＩＴＯ膜を形成し、感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でシュウ酸によりエッチングし、パターン形成後にアニールして多結晶のＩＴＯ膜にしても良い。
【００６４】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態でも、実施の形態１と同様、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を構成する透光性導電膜が存在しない隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターン１３が形成されている。このため、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３のいずれもが存在しない領域が極めて狭いので、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立たないなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００６５】
［実施の形態３］
図８は、本発明の実施の形態３に係る入力装置に形成した第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図である。図９（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態３に係る入力装置の図８におけるＡ３−Ａ３′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにしてそれらの説明を省略する。
【００６６】
図８および図９（ａ）において、本形態の入力装置１０も、実施の形態１と同様、静電容量型のタッチパネルであり、透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａには、第１の方向に延在する複数列の第１の透光性電極パターン１１と、第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数列の第２の透光性電極パターン１２とが形成されている。
【００６７】
また、本形態でも、実施の形態１と同様、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は各々、交差部分１８で挟まれた領域が菱形形状の大面積のパッド部１１ａ、１２ａ（大面積部分）になっており、かかるパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同時形成されたＩＴＯ膜からなるダミーパターン１３が形成されている。
【００６８】
本形態において、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、第１の透光性電極パターン１１は繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れている。
【００６９】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の下層側には、透光性の層間絶縁膜４ｂが入力領域１０ａの略全体に形成され、かかる層間絶縁膜４ｂの下層には、層間絶縁膜４ｂのコンタクトホール４ｃを介して、交差部分１８で途切れている第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する透光性の中継電極５ａが形成されている。このため、第２の透光性電極パターン１２は第２の方向で電気的に接続されている。かかる中継電極５ａも、実施の形態１と同様、第２の透光性電極パターン１２のパッド部１２ａより幅の狭い細幅形状で短冊状に形成されている。
【００７０】
なお、図９（ｂ）に示すように、本形態では、透光性基板１５において入力領域１０ａの外側領域では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の各々からの配線用引き出し部分１ａが延在し、かかる配線用引き出し部分１ａの下層に金属配線９ａが形成されている。また、金属配線９ａの下層には、中継電極５ａと同時形成されたＩＴＯ膜からなる配線５ｂが形成されている。
【００７１】
（入力装置１０の製造方法）
図１０（ａ）〜（ｅ）は、本発明の実施の形態３に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。なお、図１０（ａ）〜（ｅ）には、透光性電極パターン、交差部および金属配線を纏めて示してあり、左側には図９（ａ）に相当する部分を示し、右側には図９（ｂ）に相当する部分を示してある。
【００７２】
本形態の入力装置１０を製造するには、まず、図１０（ａ）に示すように、透光性基板１５（ガラス基板）の一方の面全体に、膜厚が１０〜１００ｎｍの多結晶のＩＴＯ膜５を形成した後、金属膜９を形成する。
【００７３】
次に、金属膜９の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で金属膜をエッチングし、図１０（ｂ）に示すように、金属配線９ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。
【００７４】
次に、金属配線９ａなどの上層側に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で、ＩＴＯ膜５をエッチングし、図１０（ｃ）に示すように、中継電極５ａを形成する。その際、配線５ｂもパターニング形成する。しかる後に、エッチングマスクを除去する。
【００７５】
次に、中継電極５ａの表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、図１０（ｄ）に示すように、層間絶縁膜４ｂを形成する。その際、層間絶縁膜４ｂにはコンタクトホール４ｃが同時形成される。なお、透光性基板１５において入力領域１０ａの外側領域では、層間絶縁膜４ｂを形成しない。
【００７６】
次に、層間絶縁膜４ｂの上層側に多結晶のＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でＩＴＯ膜をエッチングし、図１０（ｅ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、ダミーパターン１３、および配線用引き出し部分１ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。なお、多結晶のＩＴＯ膜の代わりに、アモルファスのＩＴＯ膜を形成し、感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でシュウ酸によりエッチングし、パターン形成後にアニールして多結晶のＩＴＯ膜にしても良い。
【００７７】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態でも、実施の形態１と同様、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を構成する透光性導電膜が存在しない隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターン１３が形成されている。このため、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３のいずれもが存在しない領域が極めて狭いので、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立たないなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００７８】
［ダミーパターン１３の他の構成例］
図１１（ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した入力装置１０に形成されるダミーパターン１３の他の構成例を示す平面図である。
【００７９】
実施の形態１〜３のいずれにおいても、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４にダミーパターン１３が１本の線状パターンとして形成されている例を説明したが、図１１（ａ）に示すように、隙間１４内において、２本のダミーパターン１３が隙間１４の幅方向で並列した状態で隙間１４の長手方向に延在している構成を採用してもよい。かかる構成を採用すれば、隙間１４の幅方向において、パッド部１１ａ、１２ａとダミーパターン１３との間に形成されるスペースの幅寸法を容易に３０μｍ以下にすることができ、かつ、スペースの幅寸法の総和を５０μｍ以下にするのも容易である。また、隙間１４内において、複数本のダミーパターン１３が並列している場合には、ダミーパターン１３が１本の場合と比較して、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との間に寄生する容量が小さい。それ故、入力装置１０において入力位置に対する検出感度を高くできる。なお、図１１（ａ）には、隙間１４内において、２本のダミーパターン１３が並列している構成を示したが、３本以上のダミーパターン１３が並列している構成を採用してもよい。
【００８０】
実施の形態１〜３のいずれにおいても、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４にダミーパターン１３が線状パターンとして形成されている例を説明したが、図１１（ｂ）に示すように、１つの隙間１４内においてダミーパターン１３が隙間１４の長手方向において分割されている構成を採用してもよい。このように構成すると、ダミーパターン１３が延在している場合に比較して、ダミーパターン１３を介しての電気的な影響が小さいので、入力位置に対する検出感度を高くできる。かかる場合も、隙間１４の幅方向において、パッド部１１ａ、１２ａとダミーパターン１３との間に形成されるスペースの幅寸法を３０μｍ以下とし、スペースの幅寸法の総和を５０μｍ以下にすることが好ましい。また、分割されたダミーパターン１３の間隔についても、３０μｍ以下とすることがこのましい。このように構成すると、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を構成するＩＴＯ膜が存在しない領域が目立たない。
【００８１】
［他の実施の形態］
上記実施の形態１、２では、金属配線９ａの端部をそのまま、端子１９ａとして利用したが、金属配線９ａの端部の上層にＩＴＯ層を中継電極５ａと同時形成し、端子１９ａとしてもよい。また、実施の形態２、３では、入力領域１０ａのみに層間絶縁膜４ｂを形成したが、端子１９ａの表面を除く略全面に層間絶縁膜４ｂを形成してもよい。
【００８２】
上記実施の形態１〜３では、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３がＩＴＯ膜により構成されていたが、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）などの透光性の導電性金属酸化膜により構成してもよい。
【００８３】
また、上記実施の形態１〜３では、ダミーパターン１３を第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同じくＩＴＯ膜により構成されていたが、ダミーパターン１３については、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を有する透光性材料であれば、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と材料の種類や膜厚が異なる透光性導電膜を用いてもよく、さらには、透光性の絶縁膜を用いてもよい。透光性の絶縁膜の場合においては、ダミーパターン１３が、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２と短絡する虞が無いため、平面視したときにダミーパターン１３で隙間１４を完全に埋めることも可能である。すなわちダミーパターン１３の端部と、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の端部とを一致させることができる。このように構成すると、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２のＩＴＯ膜が存在しない領域がほとんど目立たない。
【００８４】
上記実施の形態１〜３では、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が透光性基板１５の同一面側において同一の絶縁層上に同一の透光性導電膜により形成されている構成であったが、透光性基板１５の同一面側において、ダミーパターン１３が第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と異なる絶縁層上に形成されている場合や、透光性基板１５の同一面側において、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とが異なる絶縁層上に形成されている場合に本発明を適用してもよい。さらには、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とが透光性基板１５の異なる面側に形成されている場合に本発明を適用してもよい。ダミーパターン１３が、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と絶縁層を介して配置される場合においては、ダミーパターン１３が、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２と短絡する虞が無いため、平面視したときにダミーパターン１３で隙間１４を完全に埋めることも可能である。すなわちダミーパターン１３の端部と、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の端部とを一致させることができる。このように構成すると、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２のＩＴＯ膜が存在しない領域がほとんど目立たない。この場合、隙間１４内において、ダミーパターン１３と第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と平面視で近接するため、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との間に寄生する容量が大きくなることも考えられるが、絶縁層が介在するため距離が保たれ、寄生する容量を小さくすることができる。それ故、入力装置１０において入力位置に対する検出感度を高くできる。
【００８５】
上記実施の形態では、画像生成装置としての液晶装置５０を用いたが、有機エレクトロルミネッセンス装置やプラズマ表示装置を画像生成装置として用いてもよい。
【００８６】
［電子機器への搭載例］
次に、上述した実施形態に係る入力装置付き表示装置１００を適用した電子機器について説明する。図１２（ａ）に、入力装置付き表示装置１００を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ２０００は、表示ユニットとしての入力装置付き表示装置１００と本体部２０１０を備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１及びキーボード２００２が設けられている。図１２（ｂ）に、入力装置付き表示装置１００を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１及びスクロールボタン３００２、並びに表示ユニットとしての入力装置付き表示装置１００を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、入力装置付き表示装置１００に表示される画面がスクロールされる。図１２（ｃ）に、入力装置付き表示装置１００を適用した情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）の構成を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１及び電源スイッチ４００２、並びに表示ユニットとしての入力装置付き表示装置１００を備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が入力装置付き表示装置１００に表示される。
【００８７】
なお、入力装置付き表示装置１００が適用される電子機器としては、図１２に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した入力装置付き表示装置１００が適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力装置付き表示装置の構成を模式的に示す説明図、およびこの入力装置付き表示装置の平面的な構成を模式的に示す説明図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る入力装置に形成した透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図、および第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンの隙間を拡大した拡大平面図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る入力装置のＡ１−Ａ１′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図５】本発明の実施の形態２に係る入力装置に形成した第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２に係る入力装置のＡ２−Ａ２′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。
【図７】本発明の実施の形態２に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図８】本発明の実施の形態３に係る入力装置に形成した第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図である。
【図９】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態３に係る入力装置のＡ３−Ａ３′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態３に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図１１】（ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した入力装置に形成されるダミーパターンの他の構成例を示す平面図である。
【図１２】本発明に係る入力装置付き表示装置を用いた電子機器の説明図である。
【符号の説明】
【００８９】
１・・ＩＴＯ膜、４ａ、４ｂ・・層間絶縁膜、５ａ・・中継電極、１０・・入力装置、１１・・第１の透光性電極パターン、１２・・第２の透光性電極パターン、１３・・ダミーパターン、１４・・パッド部に挟まれた隙間、１５・・透光性基板、１８・・交差部分、１１ａ、１２ａ・・パッド部（大面積部分）、５０・・液晶装置（画像生成装置）、１００・・入力装置付き表示装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、指の接近位置を静電容量の変化として検出可能な静電容量型入力装置、および当該静電容量型入力装置を備えた入力機能付き表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指などを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。
【０００３】
このような入力装置（タッチパネル）には、抵抗膜型、静電容量型などがあるが、抵抗膜型の入力装置は、フィルムとガラスの２枚構造でフィルムを押下してショートさせる構造のため、動作温度範囲の狭さや、経時変化に弱いという欠点を有している。
【０００４】
これに対して、静電容量型の入力装置は、一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。かかる静電容量型の入力装置では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開平１１−１５４０５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
入力装置においては、液晶装置などに重ねて配置した場合に、液晶装置に表示された画像を入力装置の入力面側から透過して視認するため、基板および電極パターンには透光性に優れたものが用いられる。それでも、透光性電極パターンなどが形成されている領域と、透光性電極パターンなどが形成されていない領域との間で反射率が大きく異なると、透光性電極パターンの存在などの存在が目立ってしまい、好ましくない。
【０００６】
しかるに第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンを透光性基板の表面および裏面に各々形成すると、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間に透光性基板が介在するため、第１の透光性電極パターンが形成されている領域、第２の透光性電極パターンが形成されている領域、これらの透光性電極パターンが形成されていない領域で光学的な構成が大きく相違する結果、各領域間で反射率に大きな差が発生し、透光性電極パターンの存在が目立ってしまうという問題点がある。
【０００７】
また、透光性基板の同一面側に第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを形成した場合でも、透光性基板に通常用いられるガラス基板と、透光性電極パターンに通常用いられるＩＴＯ膜（Indium Tin Oxide）との間には屈折率に大きな差があるため、透光性電極パターンが形成されている領域と、透光性電極パターンが形成されていない領域との間で反射率に差が生じ、透光性電極パターンの存在が目立ってしまい、好ましくない。
【０００８】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、簡素な構成で、透光性基板上の透光性電極パターンを目立たなくすることのできる静電容量型入力装置、および入力機能付き表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明では、透光性基板の入力領域に、第１の方向に延在する複数の第１の透光性電極パターンと、前記第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数の第２の透光性電極パターンとが形成された静電容量型入力装置において、前記透光性基板を平面視したときに、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとに挟まれた領域には、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンと同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターンが形成されていることを特徴とする。
【００１０】
静電容量型入力装置では、透光性基板を平面視したときに、入力領域内には、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを構成する透光性導電膜が存在する領域と、かかる透光性導電膜が存在しない領域があって、これらの領域の間には反射率の差があって、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在が目立ってしまうが、本発明では、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを構成する透光性導電膜が存在しない領域には、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンと同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターンが形成されている。このため、本発明によれば、第１の透光性電極パターン、第２の透光性電極パターン、およびダミーパターンのいずれもが存在しない領域が極めて狭いため、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在が目立たない。それ故、静電容量型入力装置における入力面とは反対側に画像生成装置を重ねて配置したときでも、静電容量型入力装置を介して画像生成装置を見る者に対して品位の高い画像を提供することができる。
【００１１】
本発明において、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンは、単層膜により形成されていることが好ましい。第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在を目立たなくする構成として、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを多層膜で形成することが考えられるが、かかる構成を採用する場合、多層膜に絶縁膜を含ませざるを得ない場合が多く、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの電気的抵抗が増大するが、本発明によれば、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを単層膜により形成しても、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在が目立たない。それ故、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの電気的抵抗を低くすることができる。また、製造工程を簡素化することができるので、コストを低減することもできる。
【００１２】
本発明において、前記第１の透光性電極パターン、前記第２の透光性電極パターンおよび前記ダミーパターンは、前記透光性基板の同一面側に同一の透光性導電膜から構成され、前記ダミーパターンは、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンの双方から絶縁状態に形成されていることが好ましい。このように構成すると、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間に透光性基板が介在しないため、第１の透光性電極パターンが形成されている領域、第２の透光性電極パターンが形成されている領域、これらの透光性電極パターンが形成されていない領域で光学的な構成が大きく相違しないので、各領域間での反射率の差が小さい。それ故、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの存在が目立たない。
【００１３】
本発明において、前記第１の透光性電極パターン、前記第２の透光性電極パターン、および前記ダミーパターンは、前記透光性基板の同一面側において同一の絶縁層上に同一の透光性導電膜により形成されていることが好ましい。このように構成すると、第１の透光性電極パターン、第２の透光性電極パターン、およびダミーパターンを同時形成することができるので、製造工程を簡素化することができるので、コストを低減することができる。
【００１４】
本発明において、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンは各々、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの交差部分で挟まれた領域に大面積部分を備えている場合があり、このような場合、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの間には、互いの前記大面積部分に挟まれたスリット状の隙間が複数形成され、前記ダミーパターンは、前記隙間内に形成されている構成を採用することができる。
【００１５】
本発明において、前記ダミーパターンは、前記複数の隙間毎に独立して形成されていることが好ましい。このように構成すると、ダミーパターンが透光性導電膜であっても、ダミーパターンを介しての電気的な影響が周囲に及ばない。それ故、入力位置に対する検出感度を高くできるという利点がある。
【００１６】
本発明において、前記ダミーパターンは、前記隙間内において当該隙間の幅方向で並列した状態で当該隙間の長手方向に複数延在していることが好ましい。このように構成すると、ダミーパターンが透光性導電膜である場合において、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間に１本のダミーパターンが存在する場合に比較して、ダミーパターンを介して第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間に寄生する容量が小さい。
【００１７】
本発明において、前記ダミーパターンは、１つの前記スリット状の隙間内において当該隙間の長手方向において分割されて複数配置されている構成を採用してもよい。このように構成すると、ダミーパターンが透光性導電膜である場合において、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間でダミーパターンが延在している場合に比較して、ダミーパターンを介しての電気的な影響が小さいので、入力位置に対する検出感度を高くできるという利点がある。
【００１８】
本発明では、前記隙間の幅方向において、前記大面積領域と前記ダミーパターンとの間に形成されるスペースの幅寸法は３０μｍ以下であり、かつ、スペースの幅寸法の総和は５０μｍ以下であることが好ましい。このように構成すると、隙間内において、第１の透光性電極パターン、第２の透光性電極パターン、およびダミーパターンのいずれもが存在しない領域が目立たない。
【００１９】
本発明において、前記交差部分では、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンのうちの一方の電極パターンが繋がっている一方、他方の電極パターンは途切れており、少なくとも前記交差部分における前記一方の電極パターンの上層側あるいは下層側に透光性の層間絶縁膜が形成されているとともに、当該層間絶縁膜に対する上層側および下層側のうち、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンが形成されている側と反対側には、前記交差部分で途切れている前記他方の電極パターン同士を電気的に接続する透光性の中継電極が形成されていることが好ましい。第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンを透光性基板の同一面側に形成すると、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとを交差させる必要があり、かかる交差部分の膜構成は、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンと相違してしまう。このため、液晶装置などで表示された画像を入力装置の入力面側からみた際、透光性電極パターンなどが形成されている領域と、透光性電極パターンなどが形成されていない領域との間での反射率の差が小さくなるように透光性電極パターンを形成して、透光性電極パターンを目立たなくしても交差部分が目立ってしまうことになる。しかるに本発明では、交差部分において電極パターンが途切れており、かかる途切れた電極パターン同士は、透光性の層間絶縁膜の上層に形成された透光性の中継電極によって電気的に接続されている。このため、交差部分が占める面積が狭い。それ故、入力面側からみた際、交差部分の存在が目立たない。
【００２０】
本発明を適用した静電容量型入力装置は、入力機能付き表示装置に用いられる場合があり、この場合、前記静電容量型入力装置における入力面とは反対側に画像生成装置が重ねて配置されることになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００２２】
［実施の形態１］
（全体構成）
図１（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力装置付き表示装置の構成を模式的に示す説明図、およびこの入力装置付き表示装置の平面的な構成を模式的に示す説明図である。なお、図１（ｂ）において、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンについて実線で簡略化して示してあり、それらの数も減らして示してある。
【００２３】
図１（ａ）において、本形態の入力装置付き表示装置１００は概ね、画像生成装置としての液晶装置５０と、この液晶装置５０において表示光を出射する側の面に重ねて配置されたパネル状の入力装置１０（タッチパネル）とを有している。液晶装置５０は、透過型、反射型あるいは半透過反射型のアクティブマトリクス型液晶パネル５０ａを備えており、透過型あるいは半透過反射型の液晶パネルの場合、表示光の出射側とは反対側にバックライト装置（図示せず）が配置される。また、液晶装置５０においては、液晶パネル５０ａに対して位相差板や偏光板（図示せず）が重ねて配置される。液晶パネル５０ａは、素子基板５１と、素子基板５１に対して対向配置された対向基板５２と、対向基板５２と素子基板５１との間に保持された液晶層とを備えており、素子基板５１において、対向基板５２の縁から張り出した領域にはフレキシブル基板５３が接続されている。素子基板５１には駆動用ＩＣがＣＯＧ実装されることもある。いずれの場合も、液晶装置５０は動画や静止画を表示可能であり、入力装置付き表示装置１００に対する入力を行う際、入力情報に対応する指示画像を表示する。従って、利用者は、入力装置付き表示装置１００で表示された指示画像を指で接触、あるいは指を近接させれば、情報の入力を行うことができる。
【００２４】
入力装置１０は静電容量型のタッチパネルであり、透光性基板１５と、この透光性基板１５に後述する粘着剤層（透光性樹脂層）を介して貼り合わされた透光性のカバー基板４０と、透光性基板１５の端部に接続されたフレキシブル基板１９とを備えている。フレキシブル基板１９には、入力装置１０において入力位置の検出を行うための駆動回路（図示せず）が接続されている。入力装置１０においては、カバー基板４０の上面によって入力面１０ｂが構成されており、透光性基板１５の略中央領域が指先による入力が行われる入力領域１０ａになっている。
【００２５】
図１（ｂ）に示すように、透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａには、矢印Ｘで示す第１の方向に延在する複数列の第１の透光性電極パターン１１と、矢印Ｙで示す第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数列の第２の透光性電極パターン１２とが形成されている。このような構成の入力装置１０では、複数の第１の透光性電極パターン１１および複数の第２の透光性電極パターン１２に順次、電圧印加し、電荷を与えた際、いずれかの箇所に導電体である指が触れると、あるいは指が近接すると、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と、指との間でも容量を持ち、その結果として静電容量が低下するので、いずれの箇所に指が触れたかを検出することができる。
【００２６】
（入力装置１０の詳細構成）
図２（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態１に係る入力装置に形成した透光性電極パターン（第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターン）の平面的な構成を示す説明図、および第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンの隙間を拡大した拡大平面図である。図３（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る入力装置の図２（ａ）におけるＡ１−Ａ１′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図なお、図２（ａ）においては、第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの一部を抜粋して示してある。
【００２７】
図１（ｂ）、図２（ａ）、および図３（ａ）に示すように、本形態の入力装置１０において、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とは透光性基板１５の同一面側にＩＴＯ膜などの透光性導電膜により形成されている。また、本形態では、透光性基板１５の入力領域１０ａにおいて、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とは透光性基板１５の同一面側の同一の絶縁層上（透光性基板１５上）に同一の透光性導電膜により形成されているため、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８が複数、存在する。
【００２８】
そこで、本形態では、複数の交差部分１８のいずれにおいても、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のうちの一方の電極パターンは、交差部分１８でも繋がっている一方、他方の電極パターンは途切れている構成になっている。本形態では、複数の交差部分１８のいずれにおいても、第１の透光性電極パターン１１が繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れている構成になっている。
【００２９】
また、交差部分１８における第１の透光性電極パターン１１の上層側には、透光性の層間絶縁膜４ａが形成されているとともに、この層間絶縁膜４ａの上層には、交差部分１８で途切れている第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する透光性の中継電極５ａが形成されている。このため、第２の透光性電極パターン１２は第２の方向で電気的に接続されている。
【００３０】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は各々、交差部分１８で挟まれた領域に菱形形状の大面積のパッド部１１ａ、１２ａ（大面積部分）を備えており、第１の透光性電極パターン１１において交差部分１８に位置する接続部分１１ｃは、パッド部１１ａより幅の狭い細幅形状になっている。また、中継電極５ａも、パッド部１２ａより幅の狭い細幅形状で短冊状に形成されている。
【００３１】
このように構成した入力領域１０ａに対しては、粘着剤層３０を介して透光性のカバー基板４０が積層されている。
【００３２】
かかる構成の入力装置１０において、各要素の材質、厚さ（ｔ）、屈折率（ｎ）は、以下のリスト
透光性基板１０：ガラス（ｔ＝0.5ｍｍ、ｎ＝1.52）
第１の透光性電極パターン１１：ＩＴＯ膜（ｔ＝10〜100nm、ｎ＝1.8〜1.9）
第２の透光性電極パターン１２：ＩＴＯ膜（ｔ＝10〜100nm、ｎ＝1.8〜1.9）
層間絶縁膜４ａ：アクリル樹脂（ｔ＝1.5μｍ、ｎ＝1.52）
中継電極：ＩＴＯ膜（ｔ＝10〜50nm、ｎ＝1.8〜1.9）
粘着剤層３０：アクリル樹脂（ｔ＝200μｍ、ｎ＝1.48）
カバー基板４０：ガラス（ｔ＝0.5ｍｍ、ｎ＝1.52）
の通りである。
【００３３】
図１（ａ）、（ｂ）、および図３（ｂ）に示すように、透光性基板１５において入力領域１０ａの外側領域では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の各々からの配線用引き出し部分１ａが延在し、かかる配線用引き出し部分１ａの上層に金属配線９ａが形成されている。金属配線９ａの端部は、フレキシブル基板１９を接続するための端子１９ａを構成している。
【００３４】
（ダミーパターンの構成）
図２（ａ）、（ｂ）および図３（ａ）に示すように、本形態の入力装置１０において、透光性基板１５を平面視したときに、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とに挟まれた領域には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターン１３が形成されている。
【００３５】
より具体的には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は各々、交差部分１８で挟まれた領域が菱形形状の大面積のパッド部１１ａ、１２ａ（大面積部分）になっており、かかるパッド部１１ａ、１２ａの間には、スリット状の隙間１４が形成されている。このため、本形態において、ダミーパターン１３は、パッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４に形成されている。
【００３６】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は、透光性基板１５上にＩＴＯ膜（透光性導電膜）の単層膜により形成されており、ダミーパターン１３も、透光性基板１５上に第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同時形成されたＩＴＯ膜により形成されている。但し、ダミーパターン１３は、パッド部１１ａ、１２ａに対して同等の距離を隔てるように、隙間１４の幅方向の中央を通るように、隙間１４の長手方向に延在している。このため、ダミーパターン１３は、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のいずれとも接しておらず、電気的にフロート状態にある。ここで、複数の隙間１４が略同一直線上に並んでいるが、ダミーパターン１３は、複数の隙間１４毎に独立して形成されている。
【００３７】
また、図２（ｂ）に示すように、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を構成するＩＴＯ膜のスペースＳ１、Ｓ２の幅寸法ＷS1、ＷS2は各々、３０μｍ以下に設定され、かつ、ＩＴＯ膜のスペースＳ１、Ｓ２の幅寸法ＷS1、ＷS2の総和ＷSは５０μｍ以下に設定されている。
【００３８】
（入力装置１０の製造方法）
図４（ａ）〜（ｅ）は、本発明の実施の形態１に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。なお、図４（ａ）〜（ｅ）には、透光性電極パターン、交差部および金属配線を纏めて示してあり、左側には図３（ａ）に相当する部分を示し、右側には図３（ｂ）に相当する部分を示してある。
【００３９】
本形態の入力装置１０を製造するには、まず、図４（ａ）に示すように、透光性基板１５（ガラス基板）の一方の面全体に、膜厚が１０〜１００ｎｍの多結晶の第１のＩＴＯ膜１を形成した後、金属膜９を形成する。
【００４０】
次に、金属膜の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で金属膜をエッチングし、図４（ｂ）に示すように、金属配線９ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。
【００４１】
次に、金属配線９ａおよびＩＴＯ膜１の上層側に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で、ＩＴＯ膜１をエッチングし、図４（ｃ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３をパターニング形成するとともに、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２からの配線用引き出し部分１ａを形成した後、エッチングマスクを除去する。このようにして形成した第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、第１の透光性電極パターン１１は、パッド部１１ａが接続部分１１ｃを介して繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れている。
【００４２】
次に、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３の表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、図４（ｄ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１の接続部分１１ｃを覆うように層間絶縁膜４ａを形成する。
【００４３】
次に、層間絶縁膜４ａの上層側にアモルファスのＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でＩＴＯ膜をエッチングし、図４（ｅ）に示すように、層間絶縁膜４ａの上層に、第２の透光性電極パターン１２の途切れ部分を繋ぐように中継電極５ａを形成する。しかる後には、温度が２００℃以上の条件、例えば、温度が２２０℃、時間が２０〜３０分の条件で焼成を行い、中継電極５ａを構成するＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とする。アモルファスのＩＴＯ膜であればシュウ酸などでエッチングでき、シュウ酸であれば多結晶のＩＴＯ膜をエッチングしないので、中継電極５ａをパターニング形成する際、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が損傷することがない。また、焼成により、中継電極５ａを構成するＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、中継電極５ａの電気的抵抗を低減することもできる。
【００４４】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の入力装置１０では、透光性基板１５を平面視したときに、入力領域１０ａ内には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を構成する透光性導電膜が存在する領域と、かかる透光性導電膜が存在しない領域があって、これらの領域の間には反射率に差がある。従って、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立ってしまうが、本形態では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を構成する透光性導電膜が存在しない隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターン１３が形成されている。このため、本形態によれば、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３のいずれもが存在しない領域が極めて狭いため、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立たない。
【００４５】
しかも、本形態では、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が同一の絶縁層上（透光性基板１５上）に同一の透光性導電膜により形成されているため、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が形成されている各領域での層構造が同一で反射率に差がない。それ故、入力装置１０における入力面とは反対側に液晶装置５０を重ねて配置したときでも、入力装置１０を介して液晶装置５０の画面を見る者に対して品位の高い画像を提供することができる。
【００４６】
特に本形態では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２が大面積のパッド部１１ａ、１２ａを備えているため、目立ちやすい形状であるが、本発明を適用すれば、かかる形状の第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を形成した場合でも、目立つのを確実に防止することができる。
【００４７】
また、本形態では、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を構成するＩＴＯ膜のスペースＳ１、Ｓ２の幅寸法ＷS1、ＷS2は各々、３０μｍ以下に設定され、かつ、ＩＴＯ膜のスペースＳ１、Ｓ２の幅寸法ＷS1、ＷS2の総和ＷSは５０μｍ以下に設定されている。このため、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を構成するＩＴＯ膜が存在しない領域が目立たない。
【００４８】
また、本形態では、ダミーパターン１３は、電気的にフロート状態にあるとともに、ダミーパターン１３は、複数の隙間１４毎に独立して形成されている。このため、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との間にダミーパターン１３を設けても、ダミーパターン１３の電気的な影響が周囲に及ばない。それ故、入力装置１０では、入力位置に対する検出感度が高い。
【００４９】
さらに、本形態では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２がＩＴＯ膜の単層膜により形成されている。第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在を目立たなくする構成として、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を多層膜で形成することが考えられるが、かかる構成を採用する場合、多層膜に絶縁膜を含ませざるを得ない場合が多く、その分、導電膜が薄くなるので、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の電気的抵抗が増大するが、本形態によれば、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を単層膜により形成しても、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立たない。それ故、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の電気的抵抗を低くすることができる。また、製造工程を簡素化することができるので、コストを低減することもできる。
【００５０】
また、本形態では、透光性基板１５の同一面上に第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２が形成されているため、透光性基板１５の表面および裏面の各々に第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を形成した場合と比較して製造プロセスを簡素化できる。しかも、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が同一の絶縁層上（透光性基板１５上）に同一の透光性導電膜により形成されているため、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を異なる層により形成した場合と比較して製造プロセスを簡素化することができる。
【００５１】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を透光性基板１５の同一面側に同一層により形成すると、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とを交差させる必要があり、かかる交差部分１８の膜構成は、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と相違してしまう。このため、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在を目立たなくしても、交差部分１８の存在が目立ってしまう。しかるに本形態では、第２の透光性電極パターン１２の途切れ部分については、層間絶縁膜４ａの上層に形成された中継電極５ａによって、電気的に接続する構成を採用し、かつ、第１の透光性電極パターン１１において交差部分１８に位置する接続部分１１ｃ、および中継電極５ａを細幅にしたため、交差部分１８が占める面積が狭い。それ故、本発明によれば、入力装置１０の入力面１０ｂ側からみた際、交差部分１８の存在が目立たないので、液晶装置５０などで表示された画像を入力装置１０の入力面１０ｂ側からみた際、画像の品位が高い。
【００５２】
［実施の形態２］
図５は、本発明の実施の形態２に係る入力装置に形成した第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図である。図６（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２に係る入力装置の図５におけるＡ２−Ａ２′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにしてそれらの説明を省略する。
【００５３】
図５および図６（ａ）において、本形態の入力装置１０も、実施の形態１と同様、静電容量型のタッチパネルであり、透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａには、第１の方向に延在する複数列の第１の透光性電極パターン１１と、第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数列の第２の透光性電極パターン１２とが形成されている。
【００５４】
また、本形態でも、実施の形態１と同様、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は各々、交差部分１８で挟まれた領域が菱形形状の大面積のパッド部１１ａ、１２ａ（大面積部分）になっており、かかるパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同時形成されたＩＴＯ膜からなるダミーパターン１３が形成されている。
【００５５】
本形態において、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、第１の透光性電極パターン１１は繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れている。
【００５６】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の上層側には、透光性の層間絶縁膜４ｂが入力領域１０ａの略全体に形成され、かかる層間絶縁膜４ｂの上層には、層間絶縁膜４ｂのコンタクトホール４ｃを介して、交差部分１８で途切れている第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する透光性の中継電極５ａが形成されている。このため、第２の透光性電極パターン１２は第２の方向で電気的に接続されている。かかる中継電極５ａも、実施の形態１と同様、第２の透光性電極パターン１２のパッド部１２ａより幅の狭い細幅形状で短冊状に形成されている。
【００５７】
なお、図６（ｂ）に示すように、本形態でも、実施の形態１と同様、透光性基板１５において入力領域１０ａの外側領域では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の各々からの配線用引き出し部分１ａが延在し、かかる配線用引き出し部分１ａの上層に金属配線９ａが形成されている。金属配線９ａの端部は、フレキシブル基板１９を接続するための端子１９ａを構成している。
【００５８】
（入力装置１０の製造方法）
図７（ａ）〜（ｅ）は、本発明の実施の形態２に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。なお、図７（ａ）〜（ｅ）には、透光性電極パターン、交差部および金属配線を纏めて示してあり、左側には図６（ａ）に相当する部分を示し、右側には図６（ｂ）に相当する部分を示してある。
【００５９】
本形態の入力装置１０を製造するには、まず、図７（ａ）に示すように、透光性基板１５（ガラス基板）の一方の面全体に、膜厚が１０〜１００ｎｍの多結晶のＩＴＯ膜１を形成した後、金属膜９を形成する。
【００６０】
次に、金属膜９の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で金属膜をエッチングし、図７（ｂ）に示すように、金属配線９ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。
【００６１】
次に、金属配線９ａなどの上層側に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で、ＩＴＯ膜１をエッチングし、図７（ｃ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、ダミーパターン１３、および配線用引き出し部分１ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。
【００６２】
次に、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、図７（ｄ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、および交差部分１８に重なるように層間絶縁膜４ｂを形成する。その際、層間絶縁膜４ｂにはコンタクトホール４ｃが同時形成される。
【００６３】
次に、層間絶縁膜４ｂの上層側に多結晶のＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でＩＴＯ膜をエッチングし、図７（ｅ）に示すように、中継電極５ａを形成する。その際、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は、層間絶縁膜４ｂで覆われているので、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２が損傷することがない。また、多結晶のＩＴＯ膜の代わりに、アモルファスのＩＴＯ膜を形成し、感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でシュウ酸によりエッチングし、パターン形成後にアニールして多結晶のＩＴＯ膜にしても良い。
【００６４】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態でも、実施の形態１と同様、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を構成する透光性導電膜が存在しない隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターン１３が形成されている。このため、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３のいずれもが存在しない領域が極めて狭いので、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立たないなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００６５】
［実施の形態３］
図８は、本発明の実施の形態３に係る入力装置に形成した第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図である。図９（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態３に係る入力装置の図８におけるＡ３−Ａ３′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにしてそれらの説明を省略する。
【００６６】
図８および図９（ａ）において、本形態の入力装置１０も、実施の形態１と同様、静電容量型のタッチパネルであり、透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａには、第１の方向に延在する複数列の第１の透光性電極パターン１１と、第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数列の第２の透光性電極パターン１２とが形成されている。
【００６７】
また、本形態でも、実施の形態１と同様、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は各々、交差部分１８で挟まれた領域が菱形形状の大面積のパッド部１１ａ、１２ａ（大面積部分）になっており、かかるパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同時形成されたＩＴＯ膜からなるダミーパターン１３が形成されている。
【００６８】
本形態において、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、第１の透光性電極パターン１１は繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れている。
【００６９】
ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の下層側には、透光性の層間絶縁膜４ｂが入力領域１０ａの略全体に形成され、かかる層間絶縁膜４ｂの下層には、層間絶縁膜４ｂのコンタクトホール４ｃを介して、交差部分１８で途切れている第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する透光性の中継電極５ａが形成されている。このため、第２の透光性電極パターン１２は第２の方向で電気的に接続されている。かかる中継電極５ａも、実施の形態１と同様、第２の透光性電極パターン１２のパッド部１２ａより幅の狭い細幅形状で短冊状に形成されている。
【００７０】
なお、図９（ｂ）に示すように、本形態では、透光性基板１５において入力領域１０ａの外側領域では、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の各々からの配線用引き出し部分１ａが延在し、かかる配線用引き出し部分１ａの下層に金属配線９ａが形成されている。また、金属配線９ａの下層には、中継電極５ａと同時形成されたＩＴＯ膜からなる配線５ｂが形成されている。
【００７１】
（入力装置１０の製造方法）
図１０（ａ）〜（ｅ）は、本発明の実施の形態３に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。なお、図１０（ａ）〜（ｅ）には、透光性電極パターン、交差部および金属配線を纏めて示してあり、左側には図９（ａ）に相当する部分を示し、右側には図９（ｂ）に相当する部分を示してある。
【００７２】
本形態の入力装置１０を製造するには、まず、図１０（ａ）に示すように、透光性基板１５（ガラス基板）の一方の面全体に、膜厚が１０〜１００ｎｍの多結晶のＩＴＯ膜５を形成した後、金属膜９を形成する。
【００７３】
次に、金属膜９の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で金属膜をエッチングし、図１０（ｂ）に示すように、金属配線９ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。
【００７４】
次に、金属配線９ａなどの上層側に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態で、ＩＴＯ膜５をエッチングし、図１０（ｃ）に示すように、中継電極５ａを形成する。その際、配線５ｂもパターニング形成する。しかる後に、エッチングマスクを除去する。
【００７５】
次に、中継電極５ａの表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、図１０（ｄ）に示すように、層間絶縁膜４ｂを形成する。その際、層間絶縁膜４ｂにはコンタクトホール４ｃが同時形成される。なお、透光性基板１５において入力領域１０ａの外側領域では、層間絶縁膜４ｂを形成しない。
【００７６】
次に、層間絶縁膜４ｂの上層側に多結晶のＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜の表面に感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でＩＴＯ膜をエッチングし、図１０（ｅ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、ダミーパターン１３、および配線用引き出し部分１ａをパターニング形成した後、エッチングマスクを除去する。なお、多結晶のＩＴＯ膜の代わりに、アモルファスのＩＴＯ膜を形成し、感光性樹脂などからなるエッチングマスクを形成した状態でシュウ酸によりエッチングし、パターン形成後にアニールして多結晶のＩＴＯ膜にしても良い。
【００７７】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態でも、実施の形態１と同様、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２を構成する透光性導電膜が存在しない隙間１４には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターン１３が形成されている。このため、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３のいずれもが存在しない領域が極めて狭いので、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の存在が目立たないなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００７８】
［ダミーパターン１３の他の構成例］
図１１（ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した入力装置１０に形成されるダミーパターン１３の他の構成例を示す平面図である。
【００７９】
実施の形態１〜３のいずれにおいても、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４にダミーパターン１３が１本の線状パターンとして形成されている例を説明したが、図１１（ａ）に示すように、隙間１４内において、２本のダミーパターン１３が隙間１４の幅方向で並列した状態で隙間１４の長手方向に延在している構成を採用してもよい。かかる構成を採用すれば、隙間１４の幅方向において、パッド部１１ａ、１２ａとダミーパターン１３との間に形成されるスペースの幅寸法を容易に３０μｍ以下にすることができ、かつ、スペースの幅寸法の総和を５０μｍ以下にするのも容易である。また、隙間１４内において、複数本のダミーパターン１３が並列している場合には、ダミーパターン１３が１本の場合と比較して、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との間に寄生する容量が小さい。それ故、入力装置１０において入力位置に対する検出感度を高くできる。なお、図１１（ａ）には、隙間１４内において、２本のダミーパターン１３が並列している構成を示したが、３本以上のダミーパターン１３が並列している構成を採用してもよい。
【００８０】
実施の形態１〜３のいずれにおいても、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２のパッド部１１ａ、１２ａに挟まれた隙間１４にダミーパターン１３が線状パターンとして形成されている例を説明したが、図１１（ｂ）に示すように、１つの隙間１４内においてダミーパターン１３が隙間１４の長手方向において分割されている構成を採用してもよい。このように構成すると、ダミーパターン１３が延在している場合に比較して、ダミーパターン１３を介しての電気的な影響が小さいので、入力位置に対する検出感度を高くできる。かかる場合も、隙間１４の幅方向において、パッド部１１ａ、１２ａとダミーパターン１３との間に形成されるスペースの幅寸法を３０μｍ以下とし、スペースの幅寸法の総和を５０μｍ以下にすることが好ましい。また、分割されたダミーパターン１３の間隔についても、３０μｍ以下とすることがこのましい。このように構成すると、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３を構成するＩＴＯ膜が存在しない領域が目立たない。
【００８１】
［他の実施の形態］
上記実施の形態１、２では、金属配線９ａの端部をそのまま、端子１９ａとして利用したが、金属配線９ａの端部の上層にＩＴＯ層を中継電極５ａと同時形成し、端子１９ａとしてもよい。また、実施の形態２、３では、入力領域１０ａのみに層間絶縁膜４ｂを形成したが、端子１９ａの表面を除く略全面に層間絶縁膜４ｂを形成してもよい。
【００８２】
上記実施の形態１〜３では、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３がＩＴＯ膜により構成されていたが、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）などの透光性の導電性金属酸化膜により構成してもよい。
【００８３】
また、上記実施の形態１〜３では、ダミーパターン１３を第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同じくＩＴＯ膜により構成されていたが、ダミーパターン１３については、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と同等の屈折率を有する透光性材料であれば、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と材料の種類や膜厚が異なる透光性導電膜を用いてもよく、さらには、透光性の絶縁膜を用いてもよい。透光性の絶縁膜の場合においては、ダミーパターン１３が、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２と短絡する虞が無いため、平面視したときにダミーパターン１３で隙間１４を完全に埋めることも可能である。すなわちダミーパターン１３の端部と、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の端部とを一致させることができる。このように構成すると、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２のＩＴＯ膜が存在しない領域がほとんど目立たない。
【００８４】
上記実施の形態１〜３では、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２、およびダミーパターン１３が透光性基板１５の同一面側において同一の絶縁層上に同一の透光性導電膜により形成されている構成であったが、透光性基板１５の同一面側において、ダミーパターン１３が第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と異なる絶縁層上に形成されている場合や、透光性基板１５の同一面側において、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とが異なる絶縁層上に形成されている場合に本発明を適用してもよい。さらには、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２とが透光性基板１５の異なる面側に形成されている場合に本発明を適用してもよい。ダミーパターン１３が、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と絶縁層を介して配置される場合においては、ダミーパターン１３が、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２と短絡する虞が無いため、平面視したときにダミーパターン１３で隙間１４を完全に埋めることも可能である。すなわちダミーパターン１３の端部と、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の端部とを一致させることができる。このように構成すると、隙間１４において、第１の透光性電極パターン１１、第２の透光性電極パターン１２のＩＴＯ膜が存在しない領域がほとんど目立たない。この場合、隙間１４内において、ダミーパターン１３と第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２と平面視で近接するため、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との間に寄生する容量が大きくなることも考えられるが、絶縁層が介在するため距離が保たれ、寄生する容量を小さくすることができる。それ故、入力装置１０において入力位置に対する検出感度を高くできる。
【００８５】
上記実施の形態では、画像生成装置としての液晶装置５０を用いたが、有機エレクトロルミネッセンス装置やプラズマ表示装置を画像生成装置として用いてもよい。
【００８６】
［電子機器への搭載例］
次に、上述した実施形態に係る入力装置付き表示装置１００を適用した電子機器について説明する。図１２（ａ）に、入力装置付き表示装置１００を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ２０００は、表示ユニットとしての入力装置付き表示装置１００と本体部２０１０を備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１及びキーボード２００２が設けられている。図１２（ｂ）に、入力装置付き表示装置１００を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１及びスクロールボタン３００２、並びに表示ユニットとしての入力装置付き表示装置１００を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、入力装置付き表示装置１００に表示される画面がスクロールされる。図１２（ｃ）に、入力装置付き表示装置１００を適用した情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）の構成を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１及び電源スイッチ４００２、並びに表示ユニットとしての入力装置付き表示装置１００を備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が入力装置付き表示装置１００に表示される。
【００８７】
なお、入力装置付き表示装置１００が適用される電子機器としては、図１２に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した入力装置付き表示装置１００が適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力装置付き表示装置の構成を模式的に示す説明図、およびこの入力装置付き表示装置の平面的な構成を模式的に示す説明図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る入力装置に形成した透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図、および第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンの隙間を拡大した拡大平面図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る入力装置のＡ１−Ａ１′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図５】本発明の実施の形態２に係る入力装置に形成した第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２に係る入力装置のＡ２−Ａ２′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。
【図７】本発明の実施の形態２に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図８】本発明の実施の形態３に係る入力装置に形成した第１の透光性電極パターンおよび第２の透光性電極パターンの平面的な構成を示す説明図である。
【図９】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態３に係る入力装置のＡ３−Ａ３′断面図、および透光性電極パターンと金属配線との接続構造を示す断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態３に係る入力装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図１１】（ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した入力装置に形成されるダミーパターンの他の構成例を示す平面図である。
【図１２】本発明に係る入力装置付き表示装置を用いた電子機器の説明図である。
【符号の説明】
【００８９】
１・・ＩＴＯ膜、４ａ、４ｂ・・層間絶縁膜、５ａ・・中継電極、１０・・入力装置、１１・・第１の透光性電極パターン、１２・・第２の透光性電極パターン、１３・・ダミーパターン、１４・・パッド部に挟まれた隙間、１５・・透光性基板、１８・・交差部分、１１ａ、１２ａ・・パッド部（大面積部分）、５０・・液晶装置（画像生成装置）、１００・・入力装置付き表示装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板の入力領域に、第１の方向に延在する複数の第１の透光性電極パターンと、前記第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数の第２の透光性電極パターンとが形成された静電容量型入力装置において、
前記透光性基板を平面視したときに、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとに挟まれた領域には、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンと同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターンが形成されていることを特徴とする静電容量型入力装置。
【請求項２】
前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンは、単層膜により形成されていることを特徴とする請求項１に記載の静電容量型入力装置。
【請求項３】
前記第１の透光性電極パターン、前記第２の透光性電極パターンおよび前記ダミーパターンは、前記透光性基板の同一面側に同一の透光性導電膜から構成され、
前記ダミーパターンは、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンの双方から絶縁状態に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の静電容量型入力装置。
【請求項４】
前記第１の透光性電極パターン、前記第２の透光性電極パターン、および前記ダミーパターンは、前記透光性基板の同一面側において同一の絶縁層上に同一の透光性導電膜により形成されていることを特徴とする請求項３に記載の静電容量型入力装置。
【請求項５】
前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンは各々、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの交差部分で挟まれた領域に大面積部分を備え、
前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの間には、互いの前記大面積部分に挟まれたスリット状の隙間が複数形成されており、
前記ダミーパターンは、前記隙間内に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の静電容量型入力装置。
【請求項６】
前記ダミーパターンは、前記複数の隙間毎に独立して形成されていることを特徴とする請求項５に記載の静電容量型入力装置。
【請求項７】
前記ダミーパターンは、前記隙間内において当該隙間の幅方向で並列した状態で当該隙間の長手方向に複数延在していることを特徴とする請求項５に記載の静電容量型入力装置。
【請求項８】
前記ダミーパターンは、１つの前記スリット状の隙間内において当該隙間の長手方向において分割されて複数配置されていることを特徴とする請求項５に記載の静電容量型入力装置。
【請求項９】
前記隙間の幅方向において、前記大面積領域と前記ダミーパターンとの間に形成されるスペースの幅寸法は３０μｍ以下であり、かつ、スペースの幅寸法の総和は５０μｍ以下であることを特徴とする請求項５乃至９の何れか一項に記載の静電容量型入力装置。
【請求項１０】
前記交差部分では、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンのうちの一方の電極パターンが繋がっている一方、他方の電極パターンは途切れており、
少なくとも前記交差部分における前記一方の電極パターンの上層側あるいは下層側に透光性の層間絶縁膜が形成されているとともに、
当該層間絶縁膜に対する上層側および下層側のうち、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンが形成されている側とは反対側には、前記交差部分で途切れている前記他方の電極パターン同士を電気的に接続する透光性の中継電極が形成されていることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載の静電容量型入力装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか一項に記載の静電容量型入力装置を備えた入力機能付き表示装置であって、
前記静電容量型入力装置における入力面とは反対側に画像生成装置が重ねて配置されていることを特徴とする入力機能付き表示装置。
【請求項１】
透光性基板の入力領域に、第１の方向に延在する複数の第１の透光性電極パターンと、前記第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数の第２の透光性電極パターンとが形成された静電容量型入力装置において、
前記透光性基板を平面視したときに、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとに挟まれた領域には、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンと同等の屈折率を備えた透光膜からなるダミーパターンが形成されていることを特徴とする静電容量型入力装置。
【請求項２】
前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンは、単層膜により形成されていることを特徴とする請求項１に記載の静電容量型入力装置。
【請求項３】
前記第１の透光性電極パターン、前記第２の透光性電極パターンおよび前記ダミーパターンは、前記透光性基板の同一面側に同一の透光性導電膜から構成され、
前記ダミーパターンは、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンの双方から絶縁状態に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の静電容量型入力装置。
【請求項４】
前記第１の透光性電極パターン、前記第２の透光性電極パターン、および前記ダミーパターンは、前記透光性基板の同一面側において同一の絶縁層上に同一の透光性導電膜により形成されていることを特徴とする請求項３に記載の静電容量型入力装置。
【請求項５】
前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンは各々、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの交差部分で挟まれた領域に大面積部分を備え、
前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの間には、互いの前記大面積部分に挟まれたスリット状の隙間が複数形成されており、
前記ダミーパターンは、前記隙間内に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の静電容量型入力装置。
【請求項６】
前記ダミーパターンは、前記複数の隙間毎に独立して形成されていることを特徴とする請求項５に記載の静電容量型入力装置。
【請求項７】
前記ダミーパターンは、前記隙間内において当該隙間の幅方向で並列した状態で当該隙間の長手方向に複数延在していることを特徴とする請求項５に記載の静電容量型入力装置。
【請求項８】
前記ダミーパターンは、１つの前記スリット状の隙間内において当該隙間の長手方向において分割されて複数配置されていることを特徴とする請求項５に記載の静電容量型入力装置。
【請求項９】
前記隙間の幅方向において、前記大面積領域と前記ダミーパターンとの間に形成されるスペースの幅寸法は３０μｍ以下であり、かつ、スペースの幅寸法の総和は５０μｍ以下であることを特徴とする請求項５乃至９の何れか一項に記載の静電容量型入力装置。
【請求項１０】
前記交差部分では、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンのうちの一方の電極パターンが繋がっている一方、他方の電極パターンは途切れており、
少なくとも前記交差部分における前記一方の電極パターンの上層側あるいは下層側に透光性の層間絶縁膜が形成されているとともに、
当該層間絶縁膜に対する上層側および下層側のうち、前記第１の透光性電極パターンおよび前記第２の透光性電極パターンが形成されている側とは反対側には、前記交差部分で途切れている前記他方の電極パターン同士を電気的に接続する透光性の中継電極が形成されていることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載の静電容量型入力装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか一項に記載の静電容量型入力装置を備えた入力機能付き表示装置であって、
前記静電容量型入力装置における入力面とは反対側に画像生成装置が重ねて配置されていることを特徴とする入力機能付き表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１０−２９５８（Ｐ２０１０−２９５８Ａ）
【公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１５８８３４（Ｐ２００８−１５８８３４）
【出願日】平成２０年６月１８日（２００８．６．１８）
【出願人】（３０４０５３８５４）エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年６月１８日（２００８．６．１８）
【出願人】（３０４０５３８５４）エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]