説明

静電容量型入力装置

【課題】透明性を向上させ、抵抗値を抑制して大型の製品にも搭載可能な静電容量型入力装置を提供する。
【解決手段】基板1に形成される第一の電極パターン10と、第一の電極パターン10と直交する第二の電極パターン10Aを備え、第一、第二の電極パターン10・10Aと指の接触に伴う静電容量の変化を検出する装置で、第一の電極パターン10を、間隔をおいて並ぶ複数の電極11と、隣接する電極11間を導通接続する導電ライン12とから構成し、第二の電極パターン10Aを、間隔をおいて並ぶ複数の電極11Aと、隣接する電極11A間に位置して導電ライン12を跨ぐ絶縁被覆膜13と、絶縁被覆膜13に積層されて複数の電極11A間を導通接続する導電ライン12Aとから構成する。少なくとも導電ライン12・12Aを、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、あるいはカーボンナノチューブを含有する透明の導電材料でそれぞれ形成する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、家電製品、カメラ機器、携帯機器、情報機器、自動車機器等に設置される静電容量型入力装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
ディスプレイやカーナビゲーション装置等には、光透過性の静電容量型入力装置が設置されるが、この種の静電容量型入力装置は、図示しない光透過性の基板上に複数形成される第一の電極パターンと、基板上に複数形成されて第一の電極パターンと直交する第二の電極パターンとを備え、ディスプレイやカーナビゲーション装置等に設置されており、第一、第二の電極パターンと指との接触に伴う静電容量の変化を検出し、所定の機能を実現する。
【0003】
第一、第二の電極パターンは、ディスプレイやカーナビゲーション装置等の視覚的な把握に支障を来たさないよう、上下一対のITO膜の間にシリコン酸化膜が介在した積層膜によりそれぞれ形成され、光透過性が付与されている(特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2008‐310550号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
従来における静電容量型入力装置は、以上のように構成され、第一、第二の電極パターンが一対のITO膜の間にシリコン酸化膜が介在した積層膜によりそれぞれ形成されているので、既存の入力装置よりも透明性が高いものの、未だ十分ではなく、ディスプレイやカーナビゲーション装置等の視覚的な把握に支障を来たすおそれが考えられる。また、抵抗値が高いので、大型ディスプレイ等の家電製品に搭載することが困難であるという問題がある。
【0006】
本発明は上記に鑑みなされたもので、透明性を向上させ、抵抗値を抑制して大型の製品にも搭載可能な静電容量型入力装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明においては上記課題を解決するため、基板に形成される第一の電極パターンと、基板に形成されて第一の電極パターンと交差する第二の電極パターンとを備え、第一、第二の電極パターンと導電体との接触に伴う静電容量の変化を検出する装置であって、
第一の電極パターンは、間隔をおいて並ぶ複数の電極と、隣接する複数の電極間を電気的に接続する導電ラインとを含み、
第二の電極パターンは、間隔をおいて並ぶ複数の電極と、隣接する複数の電極間に位置して第一の電極パターンの導電ラインを覆う絶縁被覆膜と、この絶縁被覆膜を被覆して複数の電極間を電気的に接続する導電ラインとを含み、
第一、第二の電極パターンの少なくとも導電ラインを、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、あるいはカーボンナノチューブを含有する透明の導電材料によりそれぞれ形成したことを特徴としている。
【0008】
なお、第一の電極パターンを、銀ナノワイヤを含有する透明の導電材料により形成し、第二の電極パターンの複数の電極と導電ラインとを、銀ナノワイヤを含有する透明の導電材料によりそれぞれ形成するとともに、第二の電極パターンの絶縁被覆膜を、透明の絶縁材料により形成することができる。
また、第一、第二の電極パターンの電極をそれぞれ平面略菱形に形成し、第一の電極パターンの電極と第二の電極パターンの電極とを隙間をおいて隣接させることができる。
【0009】
ここで、特許請求の範囲における第一の電極パターンは、X方向あるいはY方向に向けられる。第二の電極パターンは、第一の電極パターンの向きに応じ、Y方向あるいはX方向に向けられる。この第一、第二の電極パターンの電極は、平面円形、矩形、多角形、菱形等に適宜形成することができる。また、金属ナノワイヤとしては、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ロジウム、パラジウム、カドミウム、イリジウム、金、白金、銀製等のナノワイヤがあげられる。
【0010】
本発明に係る静電容量型入力装置を製造する場合には、基板に第一の電極パターン用の導電材料を形成して乾燥硬化させ、この導電材料をエッチングして透明の第一の電極パターンを形成するとともに、導電材料の不要部分を除去する工程と、
基板に第二の電極パターン用の導電材料を形成して乾燥硬化させ、この導電材料をエッチングして第二の電極パターンの透明の電極を複数形成するとともに、導電材料の不要部分を除去し、第二の電極パターンの複数の電極間に絶縁被覆膜用の絶縁材料を塗布することにより、第一の電極パターンの導電ラインを覆う透明の絶縁被覆膜を形成する工程と、
第二の電極パターンの電極から絶縁被覆膜にかけて第二の電極パターン用の導電材料を積層して乾燥硬化させた後、導電材料をエッチングして第二の電極パターンの導電ラインを形成する工程とを具備すると良い。
【0011】
また、本発明に係る静電容量型入力装置の製造に際しては、基板上に第一、第二の電極パターン用の導電材料をそれぞれ形成して乾燥硬化させ、エッチングにより透明の第一の電極パターンを形成して導電材料の不要部分を除去するとともに、第二の電極パターンの透明の電極を複数形成して導電材料の不要部分を除去し、
第二の電極パターンの複数の電極間に絶縁被覆膜用の絶縁材料を塗布することにより、第一の電極パターンの導電ラインを跨ぐ透明の絶縁被覆膜を形成し、
絶縁被覆膜上に第二の電極パターン用の導電材料を積層して乾燥硬化させた後、導電材料をエッチングして第二の電極パターンの導電ラインを形成するようにしても良い。
【0012】
本発明によれば、第一の電極パターンと第二の電極パターンの大部分とを、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、あるいはカーボンナノチューブを含有する透明の導電材料により形成するので、優れた透光性を得ることができる。特に、銀ナノワイヤ含有の透明の材料を選択して形成すれば、ディスプレイやカーナビゲーション装置等の視覚的な把握に支障を来たすおそれを払拭することができる。また、第一、第二の電極パターンの抵抗値を抑制することができるので、小型製品の他、大型製品にも容易に搭載することが可能となる。
【発明の効果】
【0013】
本発明によれば、第一、第二の電極パターンの少なくとも導電ラインを、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、あるいはカーボンナノチューブを含有する透明の導電材料によりそれぞれ形成するので、透明性を向上させ、抵抗値を抑制して大型の製品にも搭載可能な静電容量型入力装置を提供することができるという効果がある。
【0014】
また、第一の電極パターンを、銀ナノワイヤを含有する透明の導電材料により形成し、第二の電極パターンの複数の電極と導電ラインとを、銀ナノワイヤを含有する透明の導電材料によりそれぞれ形成すれば、優れた透明性と低抵抗値、高い屈曲性等を得ることができる。
さらに、第一、第二の電極パターンの電極をそれぞれ平面略菱形に形成し、第一の電極パターンの電極と第二の電極パターンの電極とを隙間をおいて隣接させれば、各電極の面積を拡大して接触する導電体の検出精度を高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】本発明に係る静電容量型入力装置の実施形態における第一、第二の電極パターンの一部を模式的に示す平面説明図である。
【図2】本発明に係る静電容量型入力装置の実施形態を模式的に示す断面説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明すると、本実施形態における静電容量型入力装置は、図1や図2に示すように、光透過性を有する基板1上の入力領域に複数形成される第一の電極パターン10と、基板1上の入力領域に複数形成されて第一の電極パターン10と交差する第二の電極パターン10Aとを備え、第一、第二の電極パターン10・10Aと導電体である指先との接触に伴う静電容量の変化を検出する入力装置で、第一、第二の電極パターン10・10Aの複数の交差部をそれぞれジャンパー構造に構成し、各第一、第二の電極パターン10・10Aの少なくとも複数の導電ライン12・12Aを透明の導電材料によりそれぞれ形成するようにしている。
【0017】
基板1は、周縁部に図示しないフレキシブル回路基板が接続され、このフレキシブル回路基板には、入力位置を検出する図示しない駆動回路が接続されており、この駆動回路と共に入力装置を構成して画像生成装置である液晶装置に搭載される。
【0018】
複数の第一、第二の電極パターン10・10Aは、基板1の同一面上に直交して配列され、複数の第一の電極パターン10がX方向に配列して伸長形成されるとともに、複数の第二の電極パターン10AがY方向に配列して伸長形成されており、所定の電圧が印加されることで均一な電界を形成するよう機能する。複数の第一の電極パターン10は、隣接する第一の電極パターン10と第一の電極パターン10とが僅かな間隔をおいて配置される。複数の第二の電極パターン10Aも、隣接する第二の電極パターン10Aと第二の電極パターン10Aとが僅かな間隔をおいて配置される。
【0019】
各第一の電極パターン10は、僅かな間隔をおいて一列に並ぶ複数の電極11と、X方向に隣接する複数の電極11間を導通接続する導電ライン12とを備えた厚さ10〜150nm程度の薄いダイヤモンドパターンに形成され、端部にフレキシブル回路基板に接続するための金属配線が接続される。各電極11は、大面積を確保する観点から平面菱形に形成され、左右方向の隅部に短い導電ライン12が細長い線条に一体形成される。
【0020】
各第二の電極パターン10Aは、僅かな間隔をおいて一列に並ぶ複数の電極11Aと、Y方向に隣接する複数の電極11A間、すなわち交差部に位置する絶縁被覆膜13と、導電ライン12に接触することなく、隣接する複数の電極11A間を導通接続する導電ライン12Aとを備えた厚さ10〜150nm程度の薄いダイヤモンドパターンに形成され、端部にフレキシブル回路基板に接続するための金属配線が接続される。各電極11Aは、大面積を確保する観点から平面菱形に形成され、第一の電極パターン10の電極11の斜辺に僅かな隙間を介して隣接する。
【0021】
各絶縁被覆膜13は、例えば透明のアクリル樹脂等からなる絶縁材料を用いて断面略U字形の細長い線条に形成され、第一の電極パターン10の導電ライン12の表面を被覆して跨ぐよう形成されており、導電ライン12・12Aの接触を規制するよう機能する。また、各導電ライン12Aは、断面略U字形の細長い線条に形成され、絶縁被覆膜13の表面に積層されて電極11Aの前後方向の隅部に一体形成される。
【0022】
導電材料は、透明の導電ポリマー、金属ナノワイヤ、あるいはカーボンナノチューブを含有する透明の材料により調製される。金属ナノワイヤの形状や大きさは、走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡で把握される。この金属ナノワイヤの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法、前駆体表面にプローブの先端部から印加電圧、又は電流を作用させ、プローブ先端部で金属ナノワイヤをひき出し、金属ナノワイヤを連続的に形成する方法等があげられる。
【0023】
溶液中で硝酸銀を還元する方法としては、金属複合化ペプチド脂質からなるナノファイバーを還元する方法、エチレングリコール中で加熱しながら還元する方法、クエン酸ナトリウム中で還元する方法等があげられる。これらの中でも、入手が最も容易なエチレングリコール中で加熱しながら還元する方法が好ましい。また、カーボンナノチューブとしては、特に限定されるものではなく、いわゆる多層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、単層カーボンナノチューブ等が好適である。但し、最も導電性の高い単層カーボンナノチューブの使用が最適である。
【0024】
導電材料は、好ましくは優れた透明性と低抵抗を確保する観点から、銀ナノワイヤを含有する透明の材料により調製され、第一の電極パターン10を形成するとともに、第二の電極パターン10Aの複数の電極11Aと導電ライン12Aとを形成する。銀ナノワイヤは、銀単体のみで好ましくは直線状に形成され、優れた透明性の他、高い屈曲性と電子導電性とを有する。
【0025】
銀ナノワイヤの短軸方向の長さは、1nm〜1μmが好ましく、より好ましくは10nm〜500nmが良い。これは、短軸方向の長さが大きすぎると透過率が低下し、逆に小さすぎると合成が困難になるからである。また、銀ナノワイヤの長軸方向の長さは、1μm〜1mmが好ましく、より好ましくは10〜100μm以下が良い。これは、長軸方向の長さが短すぎると導電性が低下し、逆に長すぎると取り扱いが困難になるからである。
【0026】
上記構成において、静電容量型入力装置を製造する場合には、先ず、基板1上に第一の電極パターン10用の導電材料をスクリーン印刷や塗布することにより薄く積層形成し、この導電材料が乾燥硬化したら、エッチングマスクでエッチングして複数の第一の電極パターン10を透明に配列形成するとともに、導電材料の不要部分を除去する。
【0027】
次いで、基板1上に第二の電極パターン10A用の導電材料をスクリーン印刷や塗布することにより薄く積層形成し、この導電材料の乾燥硬化後、エッチングマスクでエッチングして複数の第二の電極パターン10Aの電極11Aを透明に配列形成するとともに、導電材料の不要部分を除去する。こうして導電材料の不要部分を除去したら、各第二の電極パターン10Aの分断されている複数の電極11A間に絶縁被覆膜13用の絶縁材料を薄く塗布して露光現像することで、第一の電極パターン10の導電ライン12を跨ぐ透明の絶縁被覆膜13を形成する。
【0028】
これらの作業の際、第一の電極パターン10の形成後に第二の電極パターン10Aを形成しても良いが、量産化の観点から、基板1上に第一の電極パターン10と交差部を除く第二の電極パターン10Aの一部とを同時に形成しても良い。
【0029】
この場合には、基板1上に第一、第二の電極パターン10・10A用の導電材料をそれぞれ薄く積層形成して乾燥硬化させ、エッチングして複数の第一の電極パターン10を透明に配列形成して導電材料の不要部分を除去するとともに、複数の第二の電極パターン10Aにおける複数の電極11Aを透明に配列形成して導電材料の不要部分を除去し、各第二の電極パターン10Aの分断されている複数の電極11A間に絶縁被覆膜13用の絶縁材料を薄く塗布して露光現像することで、第一の電極パターン10の導電ライン12を跨ぐ透明の絶縁被覆膜13を形成する。
【0030】
そして、第二の電極パターン10Aの各電極11Aの隅部から絶縁被覆膜13上にかけて第二の電極パターン10A用の導電材料をスクリーン印刷や塗布することで薄く積層形成し、この導電材料を乾燥硬化させ、その後、エッチングマスクでエッチングして複数の第二の電極パターン10Aの導電ライン12Aを完全に形成すれば、静電容量型入力装置を製造することができる。
【0031】
上記において、第一の電極パターン10と第二の電極パターン10Aの少なくとも一部に指先を接触させると、第一、第二の電極パターン10・10Aと指先との間で静電容量が生じ、静電容量が低下するので、第一、第二の電極パターン10・10Aのいずれに指先が触れたかを適切に検出することができる。
【0032】
上記構成によれば、第一の電極パターン10と第二の電極パターン10Aの大部分とをITO膜やシリコン酸化膜で形成するのではなく、透明の導電材料により形成するので、優れた高透過性を得ることができる。特に、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、及びカーボンナノチューブ中、最も透光性に優れる銀ナノワイヤからなる材料により形成すれば、ディスプレイやカーナビゲーション装置等の視覚的な把握に支障を来たすおそれを有効に払拭することができ、しかも、第一、第二の電極パターン10・10Aの著しい薄化を図ることができる。
【0033】
また、第一、第二の電極パターン10・10Aの抵抗値が低くなるので、小型製品の他、大型ディスプレイ等の大型製品にも容易に搭載することができる。さらに、第一、第二の電極パターン10・10Aの電極11・11Aがそれぞれ平面円形等ではなく、占有スペース的に有利な菱形なので、隣接する電極11・11Aと電極11・11Aとの隙間を狭めて検出範囲を大幅に拡大することが可能になる。
【符号の説明】
【0034】
1 基板
10 第一の電極パターン
10A 第二の電極パターン
11 電極
11A 電極
12 導電ライン
12A 導電ライン
13 絶縁被覆膜

【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板に形成される第一の電極パターンと、基板に形成されて第一の電極パターンと交差する第二の電極パターンとを備え、第一、第二の電極パターンと導電体との接触に伴う静電容量の変化を検出する静電容量型入力装置であって、
第一の電極パターンは、間隔をおいて並ぶ複数の電極と、隣接する複数の電極間を電気的に接続する導電ラインとを含み、
第二の電極パターンは、間隔をおいて並ぶ複数の電極と、隣接する複数の電極間に位置して第一の電極パターンの導電ラインを覆う絶縁被覆膜と、この絶縁被覆膜を被覆して複数の電極間を電気的に接続する導電ラインとを含み、
第一、第二の電極パターンの少なくとも導電ラインを、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、あるいはカーボンナノチューブを含有する透明の導電材料によりそれぞれ形成したことを特徴とする静電容量型入力装置。
【請求項2】
第一の電極パターンを、銀ナノワイヤを含有する透明の導電材料により形成し、第二の電極パターンの複数の電極と導電ラインとを、銀ナノワイヤを含有する透明の導電材料によりそれぞれ形成するとともに、第二の電極パターンの絶縁被覆膜を、透明の絶縁材料により形成した請求項1記載の静電容量型入力装置。
【請求項3】
第一、第二の電極パターンの電極をそれぞれ平面略菱形に形成し、第一の電極パターンの電極と第二の電極パターンの電極とを隙間をおいて隣接させた請求項1又は2記載の静電容量型入力装置。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2011−22659(P2011−22659A)
【公開日】平成23年2月3日(2011.2.3)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−164879(P2009−164879)
【出願日】平成21年7月13日(2009.7.13)
【出願人】(000190116)信越ポリマー株式会社 (1,394)
【Fターム(参考)】