説明

高分子電解質膜とその製造方法および燃料電池

【課題】プロトン伝導度が改善されるとともに、膜の均質性が維持された高分子電解質膜とその製造方法および燃料電池を提供する。
【解決手段】本発明によれば、イオン伝導性高分子と、光酸発生剤の光照射生成物とを含む高分子電解質膜とその製造方法および燃料電池が提供される。光酸発生剤を利用して、UVのような光を照射することで酸を発生する酸基を導入することにより、プロトン伝導度が改善されるだけでなく、均一な膜状態を有する高分子電解質膜を得ることができる。この高分子電解質膜は、メタノールクロスオーバー抑制能力が優秀であり、燃料電池の電解質膜、特に、直接メタノール燃料電池用電解質膜としても有用である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、高分子電解質膜とその製造方法および燃料電池に係り、さらに詳細には、イオン伝導性の改善された高分子電解質膜とその製造方法および燃料電池に関する。
【背景技術】
【0002】
現在、知られている燃料電池は、用いられる電解質の種類によって、高分子電解質膜燃料電池(Polymer Electrolyte Membrane Fuel Cell:PEMFC)、リン酸方式、溶融炭酸塩方式、固体酸化物方式などに大別される。そして、用いられる電解質によって、燃料電池の作動温度及び構成部品の材質が変わる。
【0003】
燃料電池は、アノードに対する燃料供給方式によって、燃料改質器を通じて燃料を水素リッチガスに切り換えた後にアノードに供給する外部改質型と、気体または液体状態の燃料を直接アノードに供給する燃料直接供給型または内部改質型に区分される。
【0004】
燃料直接供給型の代表的な例は、直接メタノール燃料電池(Direct Methanol Fuel Cell:DMFC)である。DMFCは、一般的に、燃料としてメタノール水溶液を、電解質として水素イオン伝導性高分子電解質膜を使用する。したがって、DMFCもPEMFCに属する。
【0005】
PEMFCは、軽薄短小であっても高出力密度を具現できる。さらに、PEMFCを使用すれば、発電システムの構成が簡単になる。
【0006】
PEMFCの基本構造は、通常、アノード(燃料電極)と、カソード(酸化剤電極)と、アノードとカソードとの間に配置された高分子電解質膜と、を備える。PEMFCのアノードには、燃料の酸化を促進させるための触媒層が備えられており、PEMFCのカソードには、酸化剤の還元を促進させるための触媒層が備えられている。
【0007】
PEMFCにおいて、高分子電解質膜は、アノードからカソードへの水素イオンの移動のためのイオン伝導体の役割を果たすだけでなく、アノードとカソードとの機械的な接触を遮断する隔離膜の役割も果たす。したがって、ポリマー電解質膜に対して要求される特性は、優れたプロトン伝導度、電気化学的安全性、高い機械的強度、作動温度での熱安定性、薄膜化の容易性などである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
しかし、これまで知られた高分子電解質膜は、プロトン伝導度などの特性が満足すべきレベルに至っておらず、改善の余地が多いという問題があった。
【0009】
そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、プロトン伝導度が改善されるとともに、膜の均質性が維持された、新規かつ改良された高分子電解質膜とその製造方法を提供することにある。
【0010】
また、本発明が解決しようとする他の技術的課題は、上記の高分子電解質膜を採用することでメタノールクロスオーバーの程度が低下し、効率の向上した燃料電池を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0011】
上記課題を解決するために、本発明の第1の観点によれば、イオン伝導性高分子と、光酸発生剤(PhotoAcid Generator:PAG)の光照射生成物と、を含む高分子電解質膜が提供される。
【0012】
上記のイオン伝導性高分子は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、フッ素化されたポリマー、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレンのコポリマー、ポリフッ化ビニリデン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルエーテルケトンからなる群から選択された一つ以上であってもよい。
【0013】
上記の光酸発生剤(PAG)は、スルホニウム塩及びスルホニル基から選択された一つ以上の作用基を含有する化合物であってもよい。
【0014】
上記の光酸発生剤(PAG)は、下記化学式1のジフェニルヨードニウム−5−ヒドロキシナフタレン−1−スルホネート、下記化学式2のジメチル(4,7−ジヒドロキシナフタレン)スルホニウム−p−トルエンスルホネート、下記化学式3のジフェニルヨードニウム 9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホネート、下記化学式4のp−ニトロベンジル9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホネート、下記化学式5〜7の化合物、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、トリフェニルスルホニウム−p−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムシクロヘキサンスルファミン酸(triphenylsulfonium cyclohexanesulfamate)またはその混合物であってもよい。
【0015】
【化1】

【0016】
【化2】

【0017】
【化3】

【0018】
【化4】

【0019】
【化5】

【0020】
【化6】

【0021】
【化7】

【0022】
上記光酸発生剤の光照射生成物の含量は、イオン伝導性高分子100質量部を基準として、0.5〜90質量部であってもよい。
【0023】
上記課題を解決するために、本発明の第2の観点によれば、(a)イオン伝導性高分子、光酸発生剤および溶媒を混合して、電解質形成用組成物を得る工程と、(b)上記の電解質形成用組成物を塗布する工程と、(c)上記(b)工程の結果物に光を照射する工程と、(d)光照射された上記(c)工程の結果物を熱処理する工程と、を含む高分子電解質膜の製造方法が提供される。
【0024】
上記(c)工程の前に、60〜110℃で予熱処理する工程をさらに行ってもよい。
【0025】
上記(c)工程では、350〜450nm波長の光を使用し、この光の光照射量は、200〜50000mJ/cmであってもよい。
【0026】
上記の光酸発生剤の含量は、イオン伝導性高分子100質量部に対して、0.5〜90質量部であってもよい。
【0027】
上記の溶媒は、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N’−ジメチルアセトアミドからなる群から選択された一つ以上であり、上記溶媒の含量は、イオン伝導性高分子100質量部に対して、30〜95質量部であってもよい。
【0028】
上記の熱処理工程での熱処理温度は、120〜200℃であってもよい。
【0029】
上記課題を解決するために、本発明の第3の観点によれば、カソードと、アノードと、カソードとアノードとの間に介在された上記の高分子電解質膜と、を備える燃料電池が提供される。
【0030】
上記のカソードは、白金担持カーボン触媒を含む触媒層を備え、上記のアノードは、白金−ルテニウム担持カーボン触媒を含んでもよい。
【0031】
以上のように、本発明に係る高分子電解質膜は、燃料電池の電解質膜、特に、DMFC用電解質膜として、有用である。
【発明の効果】
【0032】
本発明の高分子電解質膜は、PAGを利用して、紫外線(Ultra Violet:UV)のような光を照射して酸を発生させる酸基を導入することによって、プロトン伝導度が改善されるだけでなく、均一な膜状態を有する。そして、このような高分子電解質膜は、メタノールクロスオーバーの抑制能力が優秀である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0033】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【0034】
本発明の第1の実施形態に係る高分子電解質膜は、イオン伝導性高分子及びPAGの光照射生成物からなる。ここで、PAGは、光照射によって酸を発生させる物質であって、本実施形態では、例えば、スルホニウム塩及びスルホニル基から選択された一つ以上の作用基を含有する化合物であって、光照射時にスルホン酸基を有する。
【0035】
本実施形態においてPAGの光照射生成物は、PAGに光を照射して得た生成物に、プロトンが結合する。
【0036】
上記のPAGの光照射生成物は、イオン伝導性高分子100質量部を基準として、例えば0.5〜90質量部であることが望ましい。もし、PAGの光照射生成物が0.5質量部未満であれば、伝導度の向上効果がほとんどなく、90質量部を超えれば、膜の均一性が低下して望ましくない。
【0037】
本実施形態において使用可能なPAGは、特別に制限されないが、具体的な例として、例えば、下記化学式1のジフェニルヨードニウム−5−ヒドロキシナフタレン−1−スルホネート(DINS)、下記化学式2のジメチル(4,7−ジヒドロキシナフタレン)スルホニウム−p−トルエンスルホネート(UR1115)、下記化学式3のジフェニルヨードニウム9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホネート(DIANs)、下記化学式4のp−ニトロベンジル9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホネート、下記化学式5〜7の化合物、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、トリフェニルスルホニウム−p−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムシクロヘキサンスルファミン酸またはその混合物を挙げることができる。
【0038】
【化8】

【0039】
【化9】

【0040】
【化10】

【0041】
【化11】

【0042】
【化12】

【0043】
【化13】

【0044】
【化14】

【0045】
本実施形態で使用するイオン伝導性高分子としては、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、フッ素化されたポリマー、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレンのコポリマー、ポリフッ化ビニリデンからなる群から選択された一つ以上を挙げることができる。
【0046】
上記のポリイミドの非制限的な例として、下記化学式8のポリイミドが挙げられる。
【0047】
【化15】

【0048】
上記の化学式8において、m及びnは、モル分率であって、mは、例えば、0.1〜0.9であり、特に、0.3〜0.7である。また、nは、例えば、0.1〜0.9であり、特に、0.3〜0.7である。
【0049】
また、上記のポリイミドの重合度は、例えば、5〜1000である。
【0050】
本実施形態に係る高分子電解質膜は、イオン伝導性高分子が疎水性である場合には、疏水性PAGを使用し、イオン伝導性高分子が親水性である場合には、親水性PAGを使用する。これにより、互いに混和性に優れ、最適化されたプロトン伝導度の特性を有しつつ、均一な膜状態の高分子電解質膜を得ることができる。
【0051】
本実施形態に係る高分子電解質膜の厚さは、例えば5〜150μmであることが望ましい。もし、高分子電解質膜の厚さが5μm未満であれば、薄すぎて破れる危険性があり、150μmを超えれば、膜に亀裂が生じうるので望ましくない。
【0052】
以下では、前述の高分子電解質膜の製造方法を説明する。
まず、イオン伝導性高分子、PAG及び溶媒を混合して、高分子電解質膜形成用の組成物を得る。ここで、PAGの含量は、イオン伝導性高分子100質量部を基準として、例えば0.5〜90質量部である。もし、PAGの含量が0.5質量部未満であれば、伝導度が向上する効果がほとんどなく、90質量部を超えれば、膜の均一性が低下して望ましくない。
【0053】
上記の溶媒としては、例えば、N−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどを使用することができる。上記溶媒の含量は、イオン伝導性高分子100質量部を基準として、例えば30〜95質量部である。もし、溶媒の含量が30質量部未満であれば、均一な溶液の組成をなすことが難しく、95質量部を超えれば、固形分の含量が少なすぎて望ましくない。
【0054】
上記の高分子電解質膜形成用の組成物を、基板上に塗布する。このとき、塗布方法として、例えば、スピンコーティング、バーコーティングなどの方法を使用する。次いで、上記の結果物に光を照射した後、熱処理過程を実施する。
【0055】
上記の光を照射する過程では、例えば350〜450nmの波長の光を使用し、その光照射量は、例えば200〜50000mJ/cmであることが望ましい。もし、光照射量が200mJ/cm未満であれば、光照射生成物の生成量が減少し、50000mJ/cmを超えれば、フィルムの機械的な物性が低下して望ましくない。そして、光照射時間は、例えば10〜990秒の範囲である。
【0056】
上記の熱処理工程は、例えば120〜200℃で行われるハードベーキング過程であり、もし、熱処理工程の温度が120℃未満であれば、高分子膜の硬化が良好でないことがあり、200℃を超えれば、PAGの光照射生成物及び高分子電解質膜自体に含まれているスルホン酸基が分解して、PAGの付加効果が微小となってしまい、望ましくない。熱処理時間は、熱処理温度によって可変的であり、例えば0.5〜24時間実施することが望ましい。
【0057】
本実施形態では、前述の光照射過程以前に、予熱処理工程をさらに行っても良い。ここで、予熱処理工程は、高分子電解質膜形成用の組成物が塗布された結果物から、溶媒を一部除去する過程であって、例えば60〜110℃で行われるソフトベーキング過程である。もし、予熱処理工程の温度が60℃未満であれば、溶媒乾燥に非常に長い時間がかかり、110℃を超えれば、溶媒除去が非常に急速に行われて、フィルムの不均一性を誘発してしまい、望ましくない。
【0058】
熱処理時間は、熱処理温度によって可変的であり、例えば0.5〜4時間実施することが望ましい。
【0059】
前述の製造工程において光を照射する場合について、PAGの変化を、図1を参照して説明する。図1は、PAGとしてp−ニトロベンジル9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホネート(Nidians)を使用した場合を示す図面である。
【0060】
図1を参照して、Nidiansに光を照射すれば、SOイオンを有する化合物(A)及び化合物(B)が得られる。上記の化合物(A)が空気中の水分(RH)と反応して、PAGの光照射反応生成物にプロトンが結合した、最終生成物(C)が得られる。そして、副生成物である化合物(D)は、最終結果物で熱処理条件などによって残留または除去されてもよい。
【0061】
上記の過程によって得た高分子電解質膜は、例えば燃料電池の電解質膜として使用可能である。
【0062】
本実施形態に係る燃料電池は、カソード、アノード及びこれらの間に介在された高分子電解質膜を備える。
【0063】
上記のカソード及びアノードは、例えばガス拡散層と触媒層とから構成される。上記の触媒層は、関連反応(水素の酸化及び酸素の還元)を触媒的に助ける、いわゆる、金属触媒を含むものであって、例えば、白金、ルテニウム、オスミウム、白金−オスミウム合金、白金−パラジウム合金または白金−M合金(Mは、Ga、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu及びZnから選択された1種以上の遷移金属である)から選択された1種以上の触媒を含むことが望ましい。
【0064】
そのうち、例えば、白金、ルテニウム、オスミウム、白金−ルテニウム合金、白金−オスミウム合金、白金−パラジウム合金、白金−コバルト合金及び白金−ニッケルから選択された1種以上の触媒を含むことがさらに望ましい。
【0065】
また、一般的に、金属触媒としては、担体に支持されたものが使用される。上記の担体としては、例えば、アセチレンブラック、黒鉛のような炭素を使用してもよく、アルミナ、シリカなどの無機物微粒子を使用してもよい。担体に担持された貴金属を触媒として使用する場合には、商用化された市販されているものを使用してもよく、また担体に貴金属を担持させて製造し、使用してもよい。
【0066】
上記のガス拡散層としては、炭素ペーパーや炭素布を使用することが可能であるが、これらに限定されるものではない。上記ガス拡散層は、燃料電池用電極を支持する役割を行いつつ、触媒層へ反応ガスを拡散させて、触媒層に反応気体が容易に接近できるようにする役割を行う。また、このガス拡散層としては、例えば炭素ペーパーや炭素布をポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素系の樹脂で撥水処理したものを使用することが、燃料電池の駆動時に発生する水によって、ガス拡散効率が低下することを防止できるので、望ましい。
【0067】
また、上記の電極は、ガス拡散層と触媒層との間において、ガス拡散層のガス拡散効果をさらに増進させるために、微細多孔層をさらに備えてもよい。この微細多孔層は、例えば、炭素粉末、カーボンブラック、活性炭素、アセチレンブラックなどの導電性物質、ポリテトラフルオロエチレンのようなバインダ、及び必要に応じてアイオノマーを含む組成物を塗布して形成される。
【0068】
本実施形態に係る燃料電池は、例えば、リン燐酸型、高分子電解質型またはアルカリ型燃料電池であってもよく、特に、DMFCであることが望ましい。
【0069】
以下、図2を参照して、前述の高分子電解質膜を利用した本実施形態に係る燃料電池のうち、DMFCについて説明すれば、次の通りである。
【0070】
本実施形態に係るDMFCは、図2のような構造を有する。
図2に示すように、DMFCは、燃料が供給されるアノード32、酸化剤が供給されるカソード30、及びアノード32とカソード30との間に位置する電解質膜41を備える。一般的に、アノード32は、アノード拡散層22及びアノード触媒層33からなり、カソード30は、カソード拡散層34及びカソード触媒層31からなる。
【0071】
アノードの拡散層22を通してアノードの触媒層33に伝達されたメタノール水溶液は、電子、水素イオン、二酸化炭素などに分解される。水素イオンは、電解質膜41を通してカソード触媒層31に伝達され、電子は、外部回路に伝達され、二酸化炭素は、外部に排出される。カソード触媒層31では、電解質膜41を通して伝達された水素イオン、外部回路から供給された電子、そして、カソード拡散層34を通して伝達された空気中の酸素が反応して水を生成する。なお、参照番号40、50は、バイポーラプレートである。
【実施例】
【0072】
以下、本発明について、下記製造例及び実施例を挙げながら説明するが、本発明が下記製造例及び実施例に限定されるわけではない。
【0073】
(実施例1)
ポリイミド23.1質量部、DINS4.6質量部、及び溶媒としてN−メチルピロリドン72.3質量部を混合して、高分子電解質膜形成用の組成物を製造した。
【0074】
上記の高分子電解質膜形成用の組成物をスピンコーティングして、それを80℃で10分間予熱処理した。
【0075】
次いで、上記の結果物に365nmの光を900秒間照射した後、200℃で1.5時間熱処理を実施して、高分子電解質膜(膜厚:約20μm)を製造した。
【0076】
(実施例2)
ポリイミドとDINSとの混合質量比が28.3:8.3であることを除いては、実施例1と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約53μm)を製造した。
【0077】
(実施例3)
ポリイミドの代わりにフッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレンのコポリマー[P(VdF−HFP)]を使用し、P(VdF−HFP)とDINSとの混合質量比が15.4:4.6であることを除いては、実施例1と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約25μm)を製造した。
【0078】
(実施例4)
P(VdF−HFP)とDINSとの混合質量比が22.9:7.1であることを除いては、実施例3と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約168μm)を製造した。
【0079】
(実施例5)
ポリイミドの代わりにナフィオンを使用し、ナフィオンとDINSとの混合質量比が15:5であり、予熱処理後に100℃で1.5時間熱処理を実施したことを除いては、実施例1と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約24μm)を製造した。次いで、80℃で1Mの塩酸水溶液に2時間浸してプロトン化させ、蒸溜水で複数回膜を洗浄した後、乾燥して高分子電解質膜を得た。
【0080】
(実施例6)
ナフィオンとDINSとの混合質量比が15:12.5質量部であることを除いては、実施例5と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約21μm)を製造した。
【0081】
(実施例7)
DINSの代わりにUR1115を使用し、ポリイミドとUR1115との混合質量比が23.1:4.6であることを除いては、実施例1と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約46μm)を製造した。
【0082】
(実施例8)
ポリイミドとUR1115との混合質量比が25:5であることを除いては、実施例7と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約28μm)を製造した。
【0083】
(実施例9)
DINSの代わりにDiaNsを使用し、ポリイミドとDiaNsとの混合質量比が25:5であることを除いては、実施例1と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約28μm)を製造した。
【0084】
(実施例10)
ポリイミドとDiaNsとの混合質量比が28.3:8.3であることを除いては、実施例9と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約55μm)を製造した。
【0085】
(実施例11)
DINSの代わりにNidiansを使用し、ポリイミドとNidiansとの混合質量比が23.1:4.6であることを除いては、実施例1と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約48μm)を製造した。
【0086】
(実施例12)
ポリイミドとNidiansとの混合質量比が25:5であることを除いては、実施例11と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約30μm)を製造した。
【0087】
(比較例1)
ポリイミド30質量部と、溶媒としてN−メチルピロリドン70質量部とを混合して、高分子電解質膜形成用の組成物を得た。
【0088】
上記の高分子電解質膜形成用の組成物をコーティングし、80℃で10分間予熱処理した後、窒素雰囲気下において200℃で1.5時間ハードベーキングを実施して、高分子電解質膜(膜厚:約23μm)を製造した。
【0089】
(比較例2)
ポリイミド30質量部の代わりにフッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレンのコポリマー10質量部を使用したことを除いては、比較例1と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約17μm)を製造した。
【0090】
(比較例3)
ポリイミド30質量部の代わりにナフィオン溶液(デュポン社)20質量部を使用して予熱処理した後、100℃で1.5時間熱処理を実施したことを除いては、比較例1と同様の方法を用いて、高分子電解質膜(膜厚:約92μm)を製造した。その後、実施例5と同じ方法で膜をプロトン化させた。
【0091】
(実施例13:燃料電池の製作)
上記の実施例1の高分子電解質膜を採用した燃料電池を次の通りに製造した。
カソードとしては、白金担持カーボン触媒層を使用し、アノードとしては白金−ルテニウム担持カーボン触媒層を使用した。
【0092】
上記のカソードとアノードとの間に、実施例1の高分子電解質膜を介在させ、それを120℃で5MPaの圧力で接合させて、膜電極接合体(Membrane and Electrode Assembly:MEA)を製造した。
【0093】
上記のアノード及びカソードに、それぞれ燃料供給用バイポーラプレート及び酸化剤供給用バイポーラプレートを付着させた後、単位電池の性能を測定した。作動条件は、次の通りである。燃料として、1Mメタノール水溶液3ml/min、酸化剤として空気50ml/min、作動温度は50℃である。
【0094】
(比較例4)
実施例1の高分子電解質膜の代わりに比較例1の高分子電解質膜を使用したことを除いては、実施例13と同様の方法を用いて、燃料電池を製作した。
【0095】
上記の実施例1及び比較例1によって得られた高分子電解質膜について、イオン伝導度の特性を調べた。その結果は図3に示す通りである。イオン伝導度は、製造した高分子膜を蒸溜水に十分な時間浸して処理した後、二つの電極の間に膜を入れて、2−ポイントプローブ法及びインピーダンス分析器で1Hz〜4MHzのACを加えて(振幅10mV)、各周波数で複素インピーダンスを測定し、測定された膜の抵抗値で下記式1を利用してイオン伝導度を計算した。測定は、湿度90%に維持されたチャンバ内で行われた。
【0096】
σ=l/(R・S) ・・・(式1)
【0097】
上記の式1において、σはイオン伝導度、lはサンプル厚さ、Rは膜抵抗、Sは電極断面積を表す。
【0098】
図3に示すように、実施例1の高分子電解質膜は、比較例1の場合に比べて、イオン伝導度が非常に向上していることが分かった。
【0099】
図4は、ポリイミド膜を水に24時間浸漬した後、インピーダンステスト結果を表したグラフである。
【0100】
これを参照すれば、測定されたインピーダンスZは、Z=Re+iIm(Z)で表現されるということが分かる。
【0101】
上記の実施例1〜実施例12、および、比較例1〜比較例3によって製造された高分子電解質膜において、プロトン伝導度を調べ、その結果を下記表1に表した。
【0102】
また、上記の実施例1〜12、および、比較例1〜3の燃料電池において、メタノール透過度を測定し、その結果は、下記表1に示す通りである。ここで、メタノール透過度は、拡散セルを利用して室温で測定した。二つのセルの中間に膜を挟み、膜を透過する一定の濃度のメタノール及び水の量を一定時間の間隔でガスクロマトグラフィ分析によって評価した。
【0103】
【表1】

【0104】
上記の表1より、PAGを高分子電解質膜とブレンドして膜を製造したとき、酸基の発生によってプロトン伝導度が向上し、その添加によってメタノール透過抑制性能が既存の高分子電解質膜に比べてほぼ一定に維持されるか、またはさらに向上するということが分かった。
【0105】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【0106】
本発明は、燃料電池に関連した技術分野に好適に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【0107】
【図1】PAGとしてp−ニトロベンジル9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホネート(Nidians)を使用した場合における、PAGの光照射後の変化状態を説明するための図面である。
【図2】本発明の好適な実施形態に係るDMFCの構成を示す図面である。
【図3】本発明の実施例1及び比較例1によって得た高分子電解質膜のプロトン伝導度の特性を示すグラフ図である。
【図4】ポリイミド膜を水に24時間浸漬した後、ポリイミド膜のインピーダンステストの結果を示すグラフ図である。
【符号の説明】
【0108】
22 アノード拡散層
30 カソード
31 カソード触媒層
32 アノード
33 アノード触媒層
34 カソード拡散層
40 電解質膜
41 電解質膜
50 バイポーラプレート

【特許請求の範囲】
【請求項1】
イオン伝導性高分子と、
光酸発生剤の光照射生成物と、
を含むことを特徴とする、高分子電解質膜。
【請求項2】
前記イオン伝導性高分子は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、フッ素化されたポリマー、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレンのコポリマー、ポリフッ化ビニリデン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルエーテルケトンからなる群から選択された一つ以上であることを特徴とする、請求項1に記載の高分子電解質膜。
【請求項3】
前記光酸発生剤は、スルホニウム塩及びスルホニル基から選択された一つ以上の作用基を含有する化合物であることを特徴とする、請求項1または2に記載の高分子電解質膜。
【請求項4】
前記光酸発生剤は、
下記化学式1のジフェニルヨードニウム−5−ヒドロキシナフタレン−1−スルホネート、下記化学式2のジメチル(4,7−ジヒドロキシナフタレン)スルホニウム−p−トルエンスルホネート、下記化学式3のジフェニルヨードニウム9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホネート、下記化学式4のp−ニトロベンジル9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホネート、下記化学式5〜7の化合物、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、トリフェニルスルホニウム−p−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムシクロヘキサンスルファミン酸またはその混合物であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の高分子電解質膜。

【化1】

【化2】

【化3】

【化4】

【化5】

【化6】

【化7】

【請求項5】
前記光酸発生剤の光照射生成物の含量は、イオン伝導性高分子100質量部を基準として、0.5〜90質量部であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の高分子電解質膜。
【請求項6】
(a)イオン伝導性高分子、光酸発生剤および溶媒を混合して、電解質形成用組成物を得る工程と、
(b)前記電解質形成用組成物を塗布する工程と、
(c)前記結果物に光を照射する工程と、
(d)光照射された前記結果物を熱処理する工程と、
を含むことを特徴とする、高分子電解質膜の製造方法。
【請求項7】
前記(c)工程の前に、60〜110℃で予熱処理する工程をさらに行うことを特徴とする、請求項6に記載の高分子電解質膜の製造方法。
【請求項8】
前記(c)工程では、350〜450nmの波長の光を使用し、
前記光の光照射量は、200〜50000mJ/cmであることを特徴とする、請求項6または7に記載の高分子電解質膜の製造方法。
【請求項9】
前記光酸発生剤の含量は、前記イオン伝導性高分子100質量部に対して、0.5〜90質量部であることを特徴とする、請求項6〜8のいずれかに記載の高分子電解質膜の製造方法。
【請求項10】
前記溶媒は、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N’−ジメチルアセトアミドからなる群から選択された一つ以上であり、
前記溶媒の含量は、前記イオン伝導性高分子100質量部に対して、30〜95質量部であることを特徴とする、請求項6〜9のいずれかに記載の高分子電解質膜の製造方法。
【請求項11】
前記熱処理工程での熱処理温度は、120〜200℃であることを特徴とする、請求項6〜10のいずれかに記載の高分子電解質膜の製造方法。
【請求項12】
カソードと、
アノードと、
前記カソードとアノードとの間に介在された請求項1〜請求項5のいずれかに記載の高分子電解質膜と、
を備えることを特徴とする、燃料電池。
【請求項13】
前記カソードは、白金担持カーボン触媒を含む触媒層を備え、
前記アノードは、白金−ルテニウム担持カーボン触媒を含むことを特徴とする、請求項12に記載の燃料電池。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2007−103372(P2007−103372A)
【公開日】平成19年4月19日(2007.4.19)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−272080(P2006−272080)
【出願日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【出願人】(590002817)三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Fターム(参考)】