高周波薬剤導入装置及び高周波薬剤導入方法
【課題】高周波で薬剤を皮膚に効率良く導入できる。
【解決手段】周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成する高周波・高電位生成回路３０を備え、かつ該高周波・高電位生成回路３０は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成する高周波波形形成回路を備え、該高周波波形形成回路により出力される、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚２７に供給し、皮膚２７の角質層、表皮・真皮層に薬剤を選択的に導入する。
【解決手段】周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成する高周波・高電位生成回路３０を備え、かつ該高周波・高電位生成回路３０は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成する高周波波形形成回路を備え、該高周波波形形成回路により出力される、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚２７に供給し、皮膚２７の角質層、表皮・真皮層に薬剤を選択的に導入する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、顔等の皮膚にビタミン等の薬液を浸透させる高周波薬剤導入装置及び高周波薬剤導入方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から使用されている顔等の皮膚に薬剤を導入するための薬剤導入装置は、主に直流電流を用いていた。特許文献１には、電源電極と、被施術者の人体に接続される電極との間に、直流電圧を印加して、施術する部位に電極を押し付けて部位上の薬液のイオン化により皮膚に薬剤を浸透させていた。このような従来の直流電界による薬液浸透法では、薬剤が皮膚を通り抜けて人体の内部まで浸透し、皮膚に薬剤イオンが留まっていないため、薬剤の十分な効用が得られていない。
【先行技術文献】
【０００３】
【特許文献】
【特許文献】特開２０００−２１７８８１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、従来の直流による薬液浸透法では、薬剤が皮膚を通り抜けて人体の内部まで浸透していたため皮膚自身への薬剤の効用が十分に行われていない欠点を鑑みてなされたもので、ＡＣ（高周波）波形を用いて、この高周波の波形を選択的に形成し、選択された波形を各皮膚層に適用することにより、薬液を皮膚に選択的に留めておくことが可能にした高周波薬剤導入装置及びその方法を提供することにある。また、より手軽に効率良く顔等の表皮に薬剤を導入する高周波薬剤導入装置を提供する。また、使用する周囲の環境に影響されずに安定して局部位の表皮に薬剤を効率良く導入できる高周波薬剤導入装置を提供する。また、ハンディタイプであるため、より手軽に効率良く顔等の表皮に薬剤、イオン効果を導入できる高周波薬剤導入装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成し、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に薬剤を導入する高周波薬剤導入装置。
【０００６】
周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成する高周波・高電位生成回路を備え、かつ該高周波・高電位生成回路は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成する高周波波形形成回路を備え、該高周波波形形成回路により出力される、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に薬剤を選択的に導入する高周波薬剤導入装置。
【０００７】
高電位イオン導入装置は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択する少なくとも１つの周波数波形選択手段を備える。
【０００８】
前記皮膚に電流；０．３〜２．０ｍＡを供給する。
【０００９】
高周波薬剤導入装置は、前記高周波・高電位形成回路をハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブに組み込んでいる。
【００１０】
高周波薬剤導入装置は、高周波・高電位生成回路を皮膚等への設置型高周波・高電位生成回路内蔵デバイスに組み込んでいる。
【００１１】
高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成し、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に薬剤を導入する高周波薬剤導入方法。
【００１２】
周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成し、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成して、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、薬剤を皮膚の角質層、表皮・真皮層、あるいは角質層及び表皮・真皮層に選択的に導入する高周波薬剤導入方法。
【００１３】
皮膚への薬剤導入方法であって、薬剤導入方法は、顔、皮膚、頭皮、歯部、水虫、関節、肩こり、又は打撲の部位から選ばれた少なくとも１つの部位への薬剤の導入する。
【００１４】
高周波薬剤導入方法において使用される薬剤を入れた樹脂製外装体。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係る高周波薬剤導入装置を示す概略構成図である。
【図２】本発明に係る高周波薬剤導入装置を示す他の概略構成図である。
【図３】ヒト摘出皮膚におけるＡＰＭの皮膚透過量を示す図である。
【図４】ヒト摘出皮膚におけるＡＰＭの皮膚各層への浸透量及び経皮透過量を示す図である。
【図５】本発明に係る高周波薬剤導入装置を示す概略図である。
【図６】本発明に係る他の高周波薬剤導入装置を示す概略図である。
【図７】本発明に係る高周波薬剤導入装置の高電位導入プローブの高周波・高電圧生成回路を示す回路図である。
【図８】本発明に係る太陽電池を組込んだ高周波薬剤導入装置の高周波・高電圧生成回路を示す回路図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１は、本発明に係る高周波薬剤導入装置を示す基本構成図である。高周波薬剤導入装置は、電源本体１０とハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０とを備え、電源本体１０と高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０とは、一般に家庭用で使用されている低電圧用コード１７で接続されている。高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０は、高周波・高電位生成回路３０と電極２４を備える。高周波・高電位生成回路３０と電極２４とは高電圧用導線２８で接続されている。高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０は、電極２４と共に発熱体１５を備えてもよい（図２）。なお、高周波・高電位生成回路３０と電極２４を備えていれば、ハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブでなくてもよい。電源自体に高周波・高電位生成回路を備え、電源と配線で接続された電極を備えていればよい。
【００１７】
本発明に係る高周波薬剤導入装置を使用してヒト摘出皮膚における薬剤；ＡＰＭ（リン酸アスコルビルＭｇ）の時間経過における皮膚透過量を図３に示す。また、皮膚各層への皮膚各層への浸透量及び透過量を図４に示す。薬剤の浸透量は、高速液体クロマトログラフィーで測定した。測定において、周波数は、６５ｋＨｚを使用した。皮膚への印加電圧及び電流は、表１に示す。
【表１】
【００１８】
図３は、ゼロ時間から６時間後のヒト摘出皮膚におけるＡＰＭ（リン酸アスコルビルＭｇ）の皮膚透過量を示すクラフである。図４は、ヒト摘出皮膚におけるＡＰＭ（リン酸アスコルビルＭｇ）の皮膚各層への皮膚透過量及び経皮透過量を示すクラフである。ここで、皮膚各層は、ＳＣ；角質層、Ｅ；表皮・真皮層である。
【００１９】
図３及び図４において、ＤＣは、直流、ＡＣは、高周波（交流）、ＡＣ（＋）は、高周波（交流）の＋側波形、ＡＣ（−）は、高周波（交流）の−側波形、ＡＣ（−）（Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌ）は、高周波（交流）−側波形で、かつ電極を樹脂で覆ったものである。
【００２０】
図３において、時間経過に従い摘出したヒトの皮膚に薬剤であるＡＰＭが、ＤＣ、ＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂｔｅｒｍｉｎａｌで透過していることがわかる。ＤＣを除けば、ＡＣ（＋）での透過量が他のＡＣ、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂｔｅｒｍｉｎａｌに比べて大きいことがわかる。図４から、ＤＣ、ＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂｔｅｒｍｉｎａｌで皮膚をＡＰＭが透過していることが観察された。薬剤が、皮膚の角質層（ＳＣ）及び表皮・真皮層（Ｅ）に浸透していることが観察された。薬剤の各皮層への透過量を見てみると、薬剤は、ＤＣにおいて、角質層及び表皮・真皮層を透過していることがわかる。ＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌで、薬剤は、角質層及び表皮・真皮層を透過している量が少なく、角質層及び表皮・真皮層に留まっていることがわかる。特に、ＡＣ（−）で、薬剤は、角質層及び表皮・真皮層を透過している量がほとんどないことがわかる。ＡＣ（−）Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌでは、薬剤を表皮・真皮層に比べてより多く角質層に留めておくことが可能であり、またＡＣ（＋）では、薬剤を角質層に比べてより多く表皮・真皮層に留めておくことが可能であり、またＡＣでは、薬剤を角質層及び表皮・真皮層に留めておくことが可能である。従来のＤＣによる薬液浸透法では、薬剤が角質層及び表皮・真皮層を通り抜けて人体の内部まで浸透していたが、本発明による高電位を利用したＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌによれば、薬剤を角質層及表皮・真皮層に留めておくことが可能となった。
【００２１】
ここで、金属製（金属メッキ含む）電極が、樹脂で覆われていない場合、電極にＡＣ波形、ＡＣ（＋）波形、ＡＣ（−）波形を選択的に導入することにより、薬剤を皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に導入することは可能となる。一方、電極が、金属で樹脂で覆われている、ＡＣ（−）Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌの場合、薬剤を皮膚の角質層に導入するのに適している。
【実施例】
【００２２】
以下、本発明に係る高周波薬剤導入装置を図面を参照して詳述する。
図５は、本発明に係る高周波薬剤導入装置の概略図を示す。高周波薬剤導入装置２０は、電源本体１０と低電圧用コード１７で接続されたハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０とを備える。高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０は、使用者が手で握るための対極となる握持部２２と、握持部２２の先端側に設けられたヘッド部２１とを備える。ヘッド部２１は、電気的に接続されている通電導子１２を取り付けており、通電導子１２は、電極２４を備えている。握持部２２より先端側のヘッド部２１には高周波・高電位生成回路３０が組み込まれている。高周波・高電位生成回路内蔵プローブのヘッド部２１と握持部２２とは樹脂等で一体成形して作られている。高周波薬剤導入装置は、高周波・高電位生成回路３０と、発振回路３６を備える。よって、高周波薬剤導入装置は、発振回路３６で２０〜１００ｋＨｚの高周波を作り、高周波により高電位形成トランス３８を駆動して電圧を２００Ｖ〜８００Ｖに昇圧される。
【００２３】
ここで、高周波・高電位生成回路３０と電極２４との間が高電位側となり、一方高周波・高電位生成回路３０と電源入力端３４との間が低電圧側となる。握持部２２は、高電位の対電極を形成する。高電位側と低電位側との間、すなわち高周波・高電位生成回路３０と握持部２２の対極２３との間にフィンガー・ガイド（電位バリヤー）１９を設けてもよい。使用者が、対極２３を手で握持することで人体がアース電位となる。よって、高周波・高電位生成回路と対電極とが完全に分かれた形で高電位差が確立される。そのため安定した高周波・高電位の導入効果が得られる。なお、握持部２２に高電位の対極を形成するために握持部２２の内面に銅箔等のフィルムを取り付けてもよい。高周波・高電位生成回路３０は、握持部２２の対電極２３からできるだけ離れた位置に配設されることが好ましい。
【００２４】
通電導子１２は、円盤形状を有し、顔等の皮膚に高電位を導入するための電極２４が組み込まれている。通電導子１２は、高周波・高電位生成回路内蔵プローブのヘッド部２１と連結されている。通電導子１２の電極２４は、外装体２６としての絶縁性樹脂で囲ぎょうされている。このため、電極２４に２００Ｖ〜８００Ｖの電圧が印加された場合であっても、電極を介して皮膚表面に流れる電流は、０．３から２．０ｍＡとなる。電極と外装体表面とは、２ｍｍ〜５ｍｍの間隔をもって設けられていることが好ましい。かくして、皮膚表面に、周波数；２０〜１００ｋＨｚの高周波、電流；０．３から２．０ｍＡが供給される。なお、電流は、薬剤が皮膚に導入された際に、薬剤自身が、色の変色を起こさず、また電気分解を起こさないで、皮膚の安全性が得られるように設定されていればよい。
【００２５】
ここで、皮膚表面と電極２４を覆っている樹脂製外装体２６の表面との間にビタミンＣやヨウド等の薬液を滲み込ませた部材である布７０が置かれた場合、この布は、マイナスに帯電する作用を有しているので、電極２４がマイナスの極性に帯電していると、ビタミンＣやヨウド等の薬液を滲み込ませたマイナスに帯電した布からプラスに帯電した皮膚にビタミンＣやヨウド等の薬液は、浸透していく。
【００２６】
かくして、高周波薬剤導入装置を用いて皮膚等を施術する場合、施術する部位に薬剤を設けて、使用者が高周波・高電位生成回路内蔵プローブを握持り、一方通電導子を薬剤の設けられた施術する部位に押し付ける。これにより、施術する部位に高周波、微電流を供給して薬剤のイオン化等により皮膚に薬剤を浸透させることができる。
【００２７】
図６は、電極２４が、外装体２６としての樹脂等で囲ぎょうされていない高周波・高電位生成回路内蔵プローブの概略図を示す。図６では、電極２４が、皮膚に面して露出している以外の構成は、図６と同じである。この場合、電極２４に高電位がかかるのを防止するために、図７及び図８の回路で、高電位形成トランス３８と電極２４への出力端子との間に保護用インピーダンス素子として抵抗５０が設けられており、電極を介して皮膚表面に流れる電流は、０．３から２．０ｍＡとなる。
【００２８】
この場合、薬剤を入れた樹脂製容器を皮膚の表面に設けて、金属製の電極２４から薬剤を入れた樹脂製容器を介して薬剤を皮膚に浸透させてもよい。
【００２９】
電極２４が、マイナスの極性に帯電されると、電極２４と皮膚の表面との間にビタミンＣやヨウド等の薬液を滲み込ませた布を置くことにより、マイナスに帯電した布からプラスに帯電した皮膚にビタミンＣやヨウド等の薬液は、浸透していく。
【００３０】
上述したように、高周波薬剤導入装置は、高周波・高電位生成回路３０の発振回路３６で２０〜１００ｋＨｚの高周波を作り、かつ高周波により高電位形成トランス３８により２００Ｖ〜８００Ｖの電位をつくる。そして、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形が、皮膚に供給される。高周波の選択されたＡＣ波形、ＡＣ（＋）波形、ＡＣ（−）波形を作るために、図７及び図８において高周波波形形成回路５２が、高電位形成トランス３８と電極２４への出力端子との間に設けられている。高周波波形形成回路５２は、フォトトライマック又はリレーを備える。また、電極２４の極性は、高周波・高電位生成回路に極性切り替え回路を設けることにより、薬液を滲み込ませた部材の極性に合せて切り替えることが可能となる。
【００３１】
かくして、高周波波形形成回路５２により出力される、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、薬剤を皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に導入する。使用者が、皮膚に供給する高周波波形；ＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）を選択するために、高周波・高電位生成回路内蔵プローブは、▲１▼ＡＣ用、▲２▼ＡＣ（＋）用、▲３▼ＡＣ（−）用の選択ボタンを備える。ユーザは、これらボタンを選択して押すことで▲１▼ＡＣ用、▲２▼ＡＣ（＋）用、▲３▼ＡＣ（−）を選択できる。よって、ユーザの操作性が高められ、かつ皮膚への薬剤・イオンの導入を効率よく行うことができる。高周波；▲１▼ＡＣ、▲２▼ＡＣ（＋）、▲３▼ＡＣ（−）に切り替えるポタンは、高周波・高電位形成回路内蔵プローブではなく、電源本体や付設ボタン（プローブや電源本体と別個に設ける）に設けてもよい。
【００３２】
上記高周波・高電位生成回路は、手に持つハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブに組み込み込ませた実施例で説明したが、高周波・高電位生成回路は、薬剤の上に置かれる設置型の高周波・高電位生成デバイスに組込ませてもよい。また、高周波・高電位用電極は、薬剤の入った容器内に設けてもよい。
【００３３】
図７は、高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０の高周波・高電位形成回路を示す。高周波・高電位生成回路３０は、発振回路３６と、コンデンサ３７と、高電位生成トランス３８とを備える。電源本体から低電圧用コード１７を介してプローブ２０の電源入力端子３４に入った１２ボルトの電圧により、インバータトランジスタからなる発振回路３６を駆動して周波数；２０ｋＨｚから１００ｋＨｚ、好ましくは周波数；４５ｋＨｚから５８ｋＨｚを出力する。そしてその出力は、コンデンサ３７を介して高電位生成トランス３８を駆動して２００Ｖ〜８００Ｖに昇圧された高電位を出力する。さらにインバータトランジスタ３６が同時に駆動するのを防ぐためのチョークコイル４０と、高周波・高電位生成回路３０が動作時に点灯するＬＥＤ４２とを備える。高周波・高電位生成回路３０からの高電圧出力の出力端４４と電極２４の入力端４６とが高電圧用導線２８を介して接続され、高周波・高電位が電極２４に供給される。高電位生成トランス３８は、その入力端子を対電極側に、その出力端子を高出力側に配置する。対電極２３は、高周波・高電位生成回路３０の高電位生成トランス３８と電源入力端子３４との間の低電圧側の手で握持する領域に形成される。
【００３４】
さらに、高周波・高電位生成回路は、高周波；▲１▼ＡＣ、▲２▼ＡＣ（＋）、▲３▼ＡＣ（−）に切り替えるための高周波波形形成回路５２を備える。さらに、皮膚表面への電流を０．３から２．０ｍＡにして供給するためのインピーダンス素子（抵抗）５２が組み込まれている。
【００３５】
図８は、太陽電池を組み込んだ高周波・高電位生成回路内蔵プローブの高周波・高電位生成回路の駆動を行うための回路を示す。
太陽電池を組み込んだ回路は、太陽電池６０の電力を蓄電するための蓄電用コンデンサ６２と、定電圧用ダイオード６４と、逆流防止ダイオード６６と、出力用スイッチ６８とを備え、太陽電池の出力は、蓄電用コンデンサ６２を介してインバータで構成されるトランジスタからなる発振回路３６に接続されている。なお、高周波・高電位生成回路３０の駆動は、上記図７と説明と同じであるので省略する。
【００３６】
高周波薬剤導入装置は、上述した顔等の皮膚へのイオンや薬剤の導入の他に以下の用途にも適用できる。頭皮や体の皮膚をマッサージに使用することもできる。また、にきび、しみやそばかす等の治療にも適用できる。さらに水虫の治療に適用できる。このように、皮膚のケア、予防や治療に適用できる。また、歯磨きや歯を白くすることや、口臭の防止することや、歯垢を取り除くことも出来る。肩こり等の疲労、捻挫に適用できる。
なお、高周波・高電位生成回路内蔵プローブのヘッド部には、使用する目的に応じて種々の形状物を取り付けることが出来る。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
顔、皮膚、頭皮、歯部、水虫、関節、肩こり、打撲等への薬剤の導入
【符号の説明】
【００３８】
電源本体１０
通電導子１２
発熱体１５
低電圧用コード１７
フィンガー・ガード１９
高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０
ヘッド部２１
握持部２２
対電極２３
高周波・高電位用電極２４
外装体２６
皮膚２７
高圧用導線２８
高周波・高電位生成回路３０
電源入力端３４
発振回路３６
コンデンサ３７
高電位生成トランス３８
チョークコイル４０
ＬＥＤ４２
出力端４４
入力端４６
高周波波形形成回路５２
インピーダンス（抵抗）５０
太陽電池６０
蓄電用コンデンサ６２
定電圧用ダイオード６４
逆流防止ダイオード６６
出力用スイッチ６８
薬剤を滲込ませた部材７０
【技術分野】
【０００１】
本発明は、顔等の皮膚にビタミン等の薬液を浸透させる高周波薬剤導入装置及び高周波薬剤導入方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から使用されている顔等の皮膚に薬剤を導入するための薬剤導入装置は、主に直流電流を用いていた。特許文献１には、電源電極と、被施術者の人体に接続される電極との間に、直流電圧を印加して、施術する部位に電極を押し付けて部位上の薬液のイオン化により皮膚に薬剤を浸透させていた。このような従来の直流電界による薬液浸透法では、薬剤が皮膚を通り抜けて人体の内部まで浸透し、皮膚に薬剤イオンが留まっていないため、薬剤の十分な効用が得られていない。
【先行技術文献】
【０００３】
【特許文献】
【特許文献】特開２０００−２１７８８１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、従来の直流による薬液浸透法では、薬剤が皮膚を通り抜けて人体の内部まで浸透していたため皮膚自身への薬剤の効用が十分に行われていない欠点を鑑みてなされたもので、ＡＣ（高周波）波形を用いて、この高周波の波形を選択的に形成し、選択された波形を各皮膚層に適用することにより、薬液を皮膚に選択的に留めておくことが可能にした高周波薬剤導入装置及びその方法を提供することにある。また、より手軽に効率良く顔等の表皮に薬剤を導入する高周波薬剤導入装置を提供する。また、使用する周囲の環境に影響されずに安定して局部位の表皮に薬剤を効率良く導入できる高周波薬剤導入装置を提供する。また、ハンディタイプであるため、より手軽に効率良く顔等の表皮に薬剤、イオン効果を導入できる高周波薬剤導入装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成し、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に薬剤を導入する高周波薬剤導入装置。
【０００６】
周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成する高周波・高電位生成回路を備え、かつ該高周波・高電位生成回路は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成する高周波波形形成回路を備え、該高周波波形形成回路により出力される、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に薬剤を選択的に導入する高周波薬剤導入装置。
【０００７】
高電位イオン導入装置は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択する少なくとも１つの周波数波形選択手段を備える。
【０００８】
前記皮膚に電流；０．３〜２．０ｍＡを供給する。
【０００９】
高周波薬剤導入装置は、前記高周波・高電位形成回路をハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブに組み込んでいる。
【００１０】
高周波薬剤導入装置は、高周波・高電位生成回路を皮膚等への設置型高周波・高電位生成回路内蔵デバイスに組み込んでいる。
【００１１】
高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成し、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に薬剤を導入する高周波薬剤導入方法。
【００１２】
周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成し、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成して、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、薬剤を皮膚の角質層、表皮・真皮層、あるいは角質層及び表皮・真皮層に選択的に導入する高周波薬剤導入方法。
【００１３】
皮膚への薬剤導入方法であって、薬剤導入方法は、顔、皮膚、頭皮、歯部、水虫、関節、肩こり、又は打撲の部位から選ばれた少なくとも１つの部位への薬剤の導入する。
【００１４】
高周波薬剤導入方法において使用される薬剤を入れた樹脂製外装体。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係る高周波薬剤導入装置を示す概略構成図である。
【図２】本発明に係る高周波薬剤導入装置を示す他の概略構成図である。
【図３】ヒト摘出皮膚におけるＡＰＭの皮膚透過量を示す図である。
【図４】ヒト摘出皮膚におけるＡＰＭの皮膚各層への浸透量及び経皮透過量を示す図である。
【図５】本発明に係る高周波薬剤導入装置を示す概略図である。
【図６】本発明に係る他の高周波薬剤導入装置を示す概略図である。
【図７】本発明に係る高周波薬剤導入装置の高電位導入プローブの高周波・高電圧生成回路を示す回路図である。
【図８】本発明に係る太陽電池を組込んだ高周波薬剤導入装置の高周波・高電圧生成回路を示す回路図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１は、本発明に係る高周波薬剤導入装置を示す基本構成図である。高周波薬剤導入装置は、電源本体１０とハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０とを備え、電源本体１０と高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０とは、一般に家庭用で使用されている低電圧用コード１７で接続されている。高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０は、高周波・高電位生成回路３０と電極２４を備える。高周波・高電位生成回路３０と電極２４とは高電圧用導線２８で接続されている。高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０は、電極２４と共に発熱体１５を備えてもよい（図２）。なお、高周波・高電位生成回路３０と電極２４を備えていれば、ハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブでなくてもよい。電源自体に高周波・高電位生成回路を備え、電源と配線で接続された電極を備えていればよい。
【００１７】
本発明に係る高周波薬剤導入装置を使用してヒト摘出皮膚における薬剤；ＡＰＭ（リン酸アスコルビルＭｇ）の時間経過における皮膚透過量を図３に示す。また、皮膚各層への皮膚各層への浸透量及び透過量を図４に示す。薬剤の浸透量は、高速液体クロマトログラフィーで測定した。測定において、周波数は、６５ｋＨｚを使用した。皮膚への印加電圧及び電流は、表１に示す。
【表１】
【００１８】
図３は、ゼロ時間から６時間後のヒト摘出皮膚におけるＡＰＭ（リン酸アスコルビルＭｇ）の皮膚透過量を示すクラフである。図４は、ヒト摘出皮膚におけるＡＰＭ（リン酸アスコルビルＭｇ）の皮膚各層への皮膚透過量及び経皮透過量を示すクラフである。ここで、皮膚各層は、ＳＣ；角質層、Ｅ；表皮・真皮層である。
【００１９】
図３及び図４において、ＤＣは、直流、ＡＣは、高周波（交流）、ＡＣ（＋）は、高周波（交流）の＋側波形、ＡＣ（−）は、高周波（交流）の−側波形、ＡＣ（−）（Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌ）は、高周波（交流）−側波形で、かつ電極を樹脂で覆ったものである。
【００２０】
図３において、時間経過に従い摘出したヒトの皮膚に薬剤であるＡＰＭが、ＤＣ、ＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂｔｅｒｍｉｎａｌで透過していることがわかる。ＤＣを除けば、ＡＣ（＋）での透過量が他のＡＣ、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂｔｅｒｍｉｎａｌに比べて大きいことがわかる。図４から、ＤＣ、ＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂｔｅｒｍｉｎａｌで皮膚をＡＰＭが透過していることが観察された。薬剤が、皮膚の角質層（ＳＣ）及び表皮・真皮層（Ｅ）に浸透していることが観察された。薬剤の各皮層への透過量を見てみると、薬剤は、ＤＣにおいて、角質層及び表皮・真皮層を透過していることがわかる。ＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌで、薬剤は、角質層及び表皮・真皮層を透過している量が少なく、角質層及び表皮・真皮層に留まっていることがわかる。特に、ＡＣ（−）で、薬剤は、角質層及び表皮・真皮層を透過している量がほとんどないことがわかる。ＡＣ（−）Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌでは、薬剤を表皮・真皮層に比べてより多く角質層に留めておくことが可能であり、またＡＣ（＋）では、薬剤を角質層に比べてより多く表皮・真皮層に留めておくことが可能であり、またＡＣでは、薬剤を角質層及び表皮・真皮層に留めておくことが可能である。従来のＤＣによる薬液浸透法では、薬剤が角質層及び表皮・真皮層を通り抜けて人体の内部まで浸透していたが、本発明による高電位を利用したＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）、ＡＣ（−）Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌによれば、薬剤を角質層及表皮・真皮層に留めておくことが可能となった。
【００２１】
ここで、金属製（金属メッキ含む）電極が、樹脂で覆われていない場合、電極にＡＣ波形、ＡＣ（＋）波形、ＡＣ（−）波形を選択的に導入することにより、薬剤を皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に導入することは可能となる。一方、電極が、金属で樹脂で覆われている、ＡＣ（−）Ｂ ｔｅｒｍｉｎａｌの場合、薬剤を皮膚の角質層に導入するのに適している。
【実施例】
【００２２】
以下、本発明に係る高周波薬剤導入装置を図面を参照して詳述する。
図５は、本発明に係る高周波薬剤導入装置の概略図を示す。高周波薬剤導入装置２０は、電源本体１０と低電圧用コード１７で接続されたハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０とを備える。高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０は、使用者が手で握るための対極となる握持部２２と、握持部２２の先端側に設けられたヘッド部２１とを備える。ヘッド部２１は、電気的に接続されている通電導子１２を取り付けており、通電導子１２は、電極２４を備えている。握持部２２より先端側のヘッド部２１には高周波・高電位生成回路３０が組み込まれている。高周波・高電位生成回路内蔵プローブのヘッド部２１と握持部２２とは樹脂等で一体成形して作られている。高周波薬剤導入装置は、高周波・高電位生成回路３０と、発振回路３６を備える。よって、高周波薬剤導入装置は、発振回路３６で２０〜１００ｋＨｚの高周波を作り、高周波により高電位形成トランス３８を駆動して電圧を２００Ｖ〜８００Ｖに昇圧される。
【００２３】
ここで、高周波・高電位生成回路３０と電極２４との間が高電位側となり、一方高周波・高電位生成回路３０と電源入力端３４との間が低電圧側となる。握持部２２は、高電位の対電極を形成する。高電位側と低電位側との間、すなわち高周波・高電位生成回路３０と握持部２２の対極２３との間にフィンガー・ガイド（電位バリヤー）１９を設けてもよい。使用者が、対極２３を手で握持することで人体がアース電位となる。よって、高周波・高電位生成回路と対電極とが完全に分かれた形で高電位差が確立される。そのため安定した高周波・高電位の導入効果が得られる。なお、握持部２２に高電位の対極を形成するために握持部２２の内面に銅箔等のフィルムを取り付けてもよい。高周波・高電位生成回路３０は、握持部２２の対電極２３からできるだけ離れた位置に配設されることが好ましい。
【００２４】
通電導子１２は、円盤形状を有し、顔等の皮膚に高電位を導入するための電極２４が組み込まれている。通電導子１２は、高周波・高電位生成回路内蔵プローブのヘッド部２１と連結されている。通電導子１２の電極２４は、外装体２６としての絶縁性樹脂で囲ぎょうされている。このため、電極２４に２００Ｖ〜８００Ｖの電圧が印加された場合であっても、電極を介して皮膚表面に流れる電流は、０．３から２．０ｍＡとなる。電極と外装体表面とは、２ｍｍ〜５ｍｍの間隔をもって設けられていることが好ましい。かくして、皮膚表面に、周波数；２０〜１００ｋＨｚの高周波、電流；０．３から２．０ｍＡが供給される。なお、電流は、薬剤が皮膚に導入された際に、薬剤自身が、色の変色を起こさず、また電気分解を起こさないで、皮膚の安全性が得られるように設定されていればよい。
【００２５】
ここで、皮膚表面と電極２４を覆っている樹脂製外装体２６の表面との間にビタミンＣやヨウド等の薬液を滲み込ませた部材である布７０が置かれた場合、この布は、マイナスに帯電する作用を有しているので、電極２４がマイナスの極性に帯電していると、ビタミンＣやヨウド等の薬液を滲み込ませたマイナスに帯電した布からプラスに帯電した皮膚にビタミンＣやヨウド等の薬液は、浸透していく。
【００２６】
かくして、高周波薬剤導入装置を用いて皮膚等を施術する場合、施術する部位に薬剤を設けて、使用者が高周波・高電位生成回路内蔵プローブを握持り、一方通電導子を薬剤の設けられた施術する部位に押し付ける。これにより、施術する部位に高周波、微電流を供給して薬剤のイオン化等により皮膚に薬剤を浸透させることができる。
【００２７】
図６は、電極２４が、外装体２６としての樹脂等で囲ぎょうされていない高周波・高電位生成回路内蔵プローブの概略図を示す。図６では、電極２４が、皮膚に面して露出している以外の構成は、図６と同じである。この場合、電極２４に高電位がかかるのを防止するために、図７及び図８の回路で、高電位形成トランス３８と電極２４への出力端子との間に保護用インピーダンス素子として抵抗５０が設けられており、電極を介して皮膚表面に流れる電流は、０．３から２．０ｍＡとなる。
【００２８】
この場合、薬剤を入れた樹脂製容器を皮膚の表面に設けて、金属製の電極２４から薬剤を入れた樹脂製容器を介して薬剤を皮膚に浸透させてもよい。
【００２９】
電極２４が、マイナスの極性に帯電されると、電極２４と皮膚の表面との間にビタミンＣやヨウド等の薬液を滲み込ませた布を置くことにより、マイナスに帯電した布からプラスに帯電した皮膚にビタミンＣやヨウド等の薬液は、浸透していく。
【００３０】
上述したように、高周波薬剤導入装置は、高周波・高電位生成回路３０の発振回路３６で２０〜１００ｋＨｚの高周波を作り、かつ高周波により高電位形成トランス３８により２００Ｖ〜８００Ｖの電位をつくる。そして、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形が、皮膚に供給される。高周波の選択されたＡＣ波形、ＡＣ（＋）波形、ＡＣ（−）波形を作るために、図７及び図８において高周波波形形成回路５２が、高電位形成トランス３８と電極２４への出力端子との間に設けられている。高周波波形形成回路５２は、フォトトライマック又はリレーを備える。また、電極２４の極性は、高周波・高電位生成回路に極性切り替え回路を設けることにより、薬液を滲み込ませた部材の極性に合せて切り替えることが可能となる。
【００３１】
かくして、高周波波形形成回路５２により出力される、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、薬剤を皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に導入する。使用者が、皮膚に供給する高周波波形；ＡＣ、ＡＣ（＋）、ＡＣ（−）を選択するために、高周波・高電位生成回路内蔵プローブは、▲１▼ＡＣ用、▲２▼ＡＣ（＋）用、▲３▼ＡＣ（−）用の選択ボタンを備える。ユーザは、これらボタンを選択して押すことで▲１▼ＡＣ用、▲２▼ＡＣ（＋）用、▲３▼ＡＣ（−）を選択できる。よって、ユーザの操作性が高められ、かつ皮膚への薬剤・イオンの導入を効率よく行うことができる。高周波；▲１▼ＡＣ、▲２▼ＡＣ（＋）、▲３▼ＡＣ（−）に切り替えるポタンは、高周波・高電位形成回路内蔵プローブではなく、電源本体や付設ボタン（プローブや電源本体と別個に設ける）に設けてもよい。
【００３２】
上記高周波・高電位生成回路は、手に持つハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブに組み込み込ませた実施例で説明したが、高周波・高電位生成回路は、薬剤の上に置かれる設置型の高周波・高電位生成デバイスに組込ませてもよい。また、高周波・高電位用電極は、薬剤の入った容器内に設けてもよい。
【００３３】
図７は、高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０の高周波・高電位形成回路を示す。高周波・高電位生成回路３０は、発振回路３６と、コンデンサ３７と、高電位生成トランス３８とを備える。電源本体から低電圧用コード１７を介してプローブ２０の電源入力端子３４に入った１２ボルトの電圧により、インバータトランジスタからなる発振回路３６を駆動して周波数；２０ｋＨｚから１００ｋＨｚ、好ましくは周波数；４５ｋＨｚから５８ｋＨｚを出力する。そしてその出力は、コンデンサ３７を介して高電位生成トランス３８を駆動して２００Ｖ〜８００Ｖに昇圧された高電位を出力する。さらにインバータトランジスタ３６が同時に駆動するのを防ぐためのチョークコイル４０と、高周波・高電位生成回路３０が動作時に点灯するＬＥＤ４２とを備える。高周波・高電位生成回路３０からの高電圧出力の出力端４４と電極２４の入力端４６とが高電圧用導線２８を介して接続され、高周波・高電位が電極２４に供給される。高電位生成トランス３８は、その入力端子を対電極側に、その出力端子を高出力側に配置する。対電極２３は、高周波・高電位生成回路３０の高電位生成トランス３８と電源入力端子３４との間の低電圧側の手で握持する領域に形成される。
【００３４】
さらに、高周波・高電位生成回路は、高周波；▲１▼ＡＣ、▲２▼ＡＣ（＋）、▲３▼ＡＣ（−）に切り替えるための高周波波形形成回路５２を備える。さらに、皮膚表面への電流を０．３から２．０ｍＡにして供給するためのインピーダンス素子（抵抗）５２が組み込まれている。
【００３５】
図８は、太陽電池を組み込んだ高周波・高電位生成回路内蔵プローブの高周波・高電位生成回路の駆動を行うための回路を示す。
太陽電池を組み込んだ回路は、太陽電池６０の電力を蓄電するための蓄電用コンデンサ６２と、定電圧用ダイオード６４と、逆流防止ダイオード６６と、出力用スイッチ６８とを備え、太陽電池の出力は、蓄電用コンデンサ６２を介してインバータで構成されるトランジスタからなる発振回路３６に接続されている。なお、高周波・高電位生成回路３０の駆動は、上記図７と説明と同じであるので省略する。
【００３６】
高周波薬剤導入装置は、上述した顔等の皮膚へのイオンや薬剤の導入の他に以下の用途にも適用できる。頭皮や体の皮膚をマッサージに使用することもできる。また、にきび、しみやそばかす等の治療にも適用できる。さらに水虫の治療に適用できる。このように、皮膚のケア、予防や治療に適用できる。また、歯磨きや歯を白くすることや、口臭の防止することや、歯垢を取り除くことも出来る。肩こり等の疲労、捻挫に適用できる。
なお、高周波・高電位生成回路内蔵プローブのヘッド部には、使用する目的に応じて種々の形状物を取り付けることが出来る。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
顔、皮膚、頭皮、歯部、水虫、関節、肩こり、打撲等への薬剤の導入
【符号の説明】
【００３８】
電源本体１０
通電導子１２
発熱体１５
低電圧用コード１７
フィンガー・ガード１９
高周波・高電位生成回路内蔵プローブ２０
ヘッド部２１
握持部２２
対電極２３
高周波・高電位用電極２４
外装体２６
皮膚２７
高圧用導線２８
高周波・高電位生成回路３０
電源入力端３４
発振回路３６
コンデンサ３７
高電位生成トランス３８
チョークコイル４０
ＬＥＤ４２
出力端４４
入力端４６
高周波波形形成回路５２
インピーダンス（抵抗）５０
太陽電池６０
蓄電用コンデンサ６２
定電圧用ダイオード６４
逆流防止ダイオード６６
出力用スイッチ６８
薬剤を滲込ませた部材７０
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成し、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に薬剤を導入する高周波薬剤導入装置。
【請求項２】
周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成する高周波・高電位生成回路を備え、かつ該高周波・高電位生成回路は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成する高周波波形形成回路を備え、該高周波波形形成回路により出力される、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に薬剤を選択的に導入する高周波薬剤導入装置。
【請求項３】
高電位イオン導入装置は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択する少なくとも１つの周波数波形選択手段を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の高周波薬剤導入装置。
【請求項４】
前記皮膚に電流；０．３〜２．０ｍＡを供給することを特徴とする請求項１又は２記載の高周波薬剤導入装置。
【請求項５】
前記請求項１から４のいずれか１項の高周波薬剤導入装置は、前記高周波・高電位形成回路をハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブに組み込んでいることを特徴とする請求項１記載の高周波薬剤導入装置。
【請求項６】
前記請求項１から４のいずれか１項の高周波薬剤導入装置は、高周波・高電位生成回路を皮膚等への設置型高周波・高電位生成回路内蔵デバイスに組み込んでいることを特徴とする高周波薬剤導入装置。
【請求項７】
高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成し、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に薬剤を導入する高周波薬剤導入方法。
【請求項８】
周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成し、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成して、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、薬剤を皮膚の角質層、表皮・真皮層、あるいは角質層及び表皮・真皮層に選択的に導入する高周波薬剤導入方法。
【請求項９】
皮膚への薬剤導入方法であって、薬剤導入方法は、顔、皮膚、頭皮、歯部、水虫、関節、肩こり、又は打撲の部位から選ばれた少なくとも１つの部位への薬剤の導入することを特徴とする請求項７又は８記載の高周波薬剤導入方法。
【請求項１０】
前記皮膚に電流；０．３〜２．０ｍＡを供給することを特徴とする請求項８又は９記載の高周波薬剤導入方法。
【請求項１１】
請求項７又は８記載の高周波薬剤導入方法高周波薬剤導入方法において使用される薬剤を入れた樹脂製外装体。
【請求項１】
高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成し、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に薬剤を導入する高周波薬剤導入装置。
【請求項２】
周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成する高周波・高電位生成回路を備え、かつ該高周波・高電位生成回路は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成する高周波波形形成回路を備え、該高周波波形形成回路により出力される、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に薬剤を選択的に導入する高周波薬剤導入装置。
【請求項３】
高電位イオン導入装置は、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択する少なくとも１つの周波数波形選択手段を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の高周波薬剤導入装置。
【請求項４】
前記皮膚に電流；０．３〜２．０ｍＡを供給することを特徴とする請求項１又は２記載の高周波薬剤導入装置。
【請求項５】
前記請求項１から４のいずれか１項の高周波薬剤導入装置は、前記高周波・高電位形成回路をハンディタイプの高周波・高電位生成回路内蔵プローブに組み込んでいることを特徴とする請求項１記載の高周波薬剤導入装置。
【請求項６】
前記請求項１から４のいずれか１項の高周波薬剤導入装置は、高周波・高電位生成回路を皮膚等への設置型高周波・高電位生成回路内蔵デバイスに組み込んでいることを特徴とする高周波薬剤導入装置。
【請求項７】
高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成し、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、皮膚の角質層、表皮・真皮層に選択的に薬剤を導入する高周波薬剤導入方法。
【請求項８】
周波数；２０〜１００ｋＨｚ、電圧；２００Ｖ〜８００Ｖを生成し、高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形を選択的に形成して、該高周波（交流）波形、高周波（交流）の＋側波形、高周波（交流）の−側波形の少なくとも１つの選択された高周波波形を皮膚に供給し、薬剤を皮膚の角質層、表皮・真皮層、あるいは角質層及び表皮・真皮層に選択的に導入する高周波薬剤導入方法。
【請求項９】
皮膚への薬剤導入方法であって、薬剤導入方法は、顔、皮膚、頭皮、歯部、水虫、関節、肩こり、又は打撲の部位から選ばれた少なくとも１つの部位への薬剤の導入することを特徴とする請求項７又は８記載の高周波薬剤導入方法。
【請求項１０】
前記皮膚に電流；０．３〜２．０ｍＡを供給することを特徴とする請求項８又は９記載の高周波薬剤導入方法。
【請求項１１】
請求項７又は８記載の高周波薬剤導入方法高周波薬剤導入方法において使用される薬剤を入れた樹脂製外装体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１２−２２３５４０（Ｐ２０１２−２２３５４０Ａ）
【公開日】平成２４年１１月１５日（２０１２．１１．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１０５６８１（Ｐ２０１１−１０５６８１）
【出願日】平成２３年４月１８日（２０１１．４．１８）
【出願人】（３９１０５９１５９）株式会社ベステック (9)
【出願人】（５０５１２５９２３）
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月１５日（２０１２．１１．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月１８日（２０１１．４．１８）
【出願人】（３９１０５９１５９）株式会社ベステック (9)
【出願人】（５０５１２５９２３）
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]