ＥＬ素子及びその製造方法
【課題】ＥＬ素子を湾曲させた際にＥＬ素子を形成するそれぞれの層が破壊されるのを防止することができるＥＬ素子を提供すること。
【解決手段】ＥＬ素子１００を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部７１が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体７０を設ける。一対の斜辺が互いに接するところまでＥＬ素子１００を湾曲させることにより曲面形状を規定することができ、それ以上湾曲させることができないことによりＥＬ素子１００の曲面形状の限界形状以下に規定することができる。この場合、ＥＬ素子１００を形成するそれぞれの層の中で最も柔軟性に乏しい層を基準として、その層の破壊曲げ限界を超えないように一対の斜辺間の角度を調節することによってＥＬ素子１００を形成するそれぞれの層が破壊されるのを防止することができる。
【解決手段】ＥＬ素子１００を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部７１が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体７０を設ける。一対の斜辺が互いに接するところまでＥＬ素子１００を湾曲させることにより曲面形状を規定することができ、それ以上湾曲させることができないことによりＥＬ素子１００の曲面形状の限界形状以下に規定することができる。この場合、ＥＬ素子１００を形成するそれぞれの層の中で最も柔軟性に乏しい層を基準として、その層の破壊曲げ限界を超えないように一対の斜辺間の角度を調節することによってＥＬ素子１００を形成するそれぞれの層が破壊されるのを防止することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光素子として表示装置等に利用されるＥＬ素子及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイとして液晶ディスプレイに代わり、ＥＬ素子を用いたＥＬディスプレイが注目されてきている。
【０００３】
ＥＬディスプレイは、バックライトが不要な自発光型のフラットパネルディスプレイであり、視認性が高い、視野角依存症がない、液晶ディスプレイと比較して薄い、軽い等のさまざまな利点がある。更に近年、ＥＬ素子が本来有する可撓性を利用してディスプレイを湾曲させる試みがなされている。
【０００４】
しかし、基板を湾曲させた際にＥＬ素子を構成する膜にクラックが生じてしまう等の問題があった。この問題に対処するために、例えば特許文献１に記載されたものが知られている。
【０００５】
特許文献１において、ＥＬ素子は、第１の基板上に、第１の電極と、有機ＥＬ層と、第２の電極とを有する。このように構成されるＥＬ素子上に、更にＥＬ層を封止する第１の無機絶縁膜と、第２の基板とを積層する。このとき第１の無機絶縁膜上に第２の基板を形成することにより、表示装置を曲げる際に生じる引張応力（膜が縮む方向へ加わる応力）と圧縮応力（膜が伸びる方向へ加わる応力）が釣り合って無応力状態となる中立軸を第１の無機絶縁膜の近傍に位置させる。このようにして、ＥＬディスプレイを湾曲させた場合に、可撓性に乏しい無機絶縁膜にクラックが入るのを防止する。
【特許文献１】再表２００５−０２７５８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、特許文献１においては曲げた際に最も応力が集中する基板表面に、無機絶縁膜ではなく第２の基板を設け、無機絶縁膜にクラックが入るのを防止している。しかし、柔軟性に乏しいＥＬ層及び電極によりＥＬ素子を構成している場合には、ＥＬ素子表面に限らず、柔軟性に乏しいＥＬ層及び電極にも応力がかかり、それらを破壊してしまうという可能性がある。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑み、ＥＬ素子を湾曲させた際にＥＬ素子を形成するそれぞれの層が破壊されるのを防止することができるＥＬ素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、請求項１記載のＥＬ素子は、基板上に、水分の侵入を防止する第１のバリア膜、第１の電極、ＥＬ発光層、第２の電極、第２のバリア膜が順次積層されたＥＬ素子において、前記ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、前記ＥＬ素子が所望の曲面形状となるように規定する形状規定部材を設けることを特徴とする。
【０００９】
請求項１記載のＥＬ素子は、上述の構成を採用したことにより、ＥＬ素子を湾曲させる際に、ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に形状規定部材を設けることによりＥＬ素子の曲面形状を規定しているので、ＥＬ素子が過度に湾曲してしまうのを防止することができる。この場合、ＥＬ素子を形成するそれぞれの層の中で最も柔軟性に乏しい層を基準として、その層の破壊曲げ限界を超えないようにＥＬ素子の曲面形状を規定することによって、ＥＬ素子を形成するそれぞれの層が破壊されるのを防止することができる。
【００１０】
請求項２に記載のように、前記形状規定部材は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体であり、前記切り欠き部を形成する前記一対の斜辺が互いに接するところまで前記ＥＬ素子を曲げることにより所望の曲面形状とすることができ、それ以上前記ＥＬ素子を曲げることができないことにより曲面形状を規定しても良い。この場合、切り欠き部を形成する一対の斜辺間の角度を調節することにより、ＥＬ素子の曲面形状を調節することができる。またストライプ状の切り欠き部を複数本設けることにより、ＥＬ素子を湾曲させた際に、その曲面形状を複数箇所で調節することができる。
【００１１】
請求項３に記載のように、前記形状規定部材は、ｘ方向とｙ方向に辺を有する前記ＥＬ素子をｘ方向、ｙ方向のどちらの方向から曲げた場合にも曲面形状を規定することができるように、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなる切り欠き部が前記ｘ方向及びｙ方向に沿って設けられた形状支持体であっても良い。
【００１２】
請求項１〜３いずれかに記載のＥＬ素子は、請求項４に記載のように、前記ＥＬ素子の基板面に対して垂直な方向軸に沿って上下どちらの方向に凸となるように曲げた場合にも曲面形状を規定することができるように、前記形状規定部材は前記ＥＬ素子の両面に設けられていても良い。
【００１３】
請求項５に記載のように、前記形状規定部材は、前記ＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜であり、応力により曲面形状を規定しても良い。この場合、応力を有する形状保持膜の厚さ等によって、形状保持膜の応力を調節することにより、ＥＬ素子の曲面形状を調節することができる。また、ＥＬ素子のどちらの面に形状保持膜を設けた場合にもＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形させることが可能となる。
【００１４】
請求項６記載のＥＬ素子の製造方法は、基板上に、第１のバリア膜、第１の電極、ＥＬ発光層、第２の電極、第２のバリア膜を順に形成する工程と、前記ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、前記ＥＬ素子が所望の曲面形状となるように規定する形状規定部材を形成する工程と、からなることを特徴とする。これにより、上述した請求項１に記載のＥＬ素子を製造することができる。
【００１５】
請求項７に記載のように、前記形状規定部材を形成する工程は、前記ＥＬ素子上に樹脂膜を堆積させた後、この樹脂膜の表面に前記切り欠き部を形成するためのエッチング処理を施す工程を有していても良い。これにより、ＥＬ素子の一面に所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体である形状規定部材を形成することができる。
【００１６】
請求項８に記載のように、前記形状規定部材を形成する工程は、始めに前記切り欠き部を有する樹脂板を成形した後、接着剤で前記ＥＬ素子と接着する工程を有していても良い。これにより、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体である形状規定部材を形成することができる。
【００１７】
請求項９に記載のように、前記形状規定部材を形成する工程は、前記ＥＬ素子上に応力を有する膜を成膜する工程を有し、この成膜時に発生する応力により前記ＥＬ素子を曲面形状に変形させても良い。これにより、ＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜である形状規定部材を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の複数の実施形態を図に基づいて説明する。尚、各実施形態において対応する構成要素には同一の符号を付すことにより、重複する説明を省略する。
【００１９】
（第１実施形態）
図１（ａ）及び（ｂ）は本実施形態におけるＥＬ素子１００を説明するための断面図であり、（ａ）はその平面形状を示す図であり、（ｂ）は曲面形状としたときの図である。
【００２０】
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、ＥＬ素子１００は、基板１０上に、水分の侵入を防止する第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０が順次積層されて、構成される。
【００２１】
本実施形態において、上述したような積層構造が形成された基板１０の反対側の面にはＥＬ素子１００が所望の曲面形状となるように規定する形状支持体７０が形成されている。尚、本実施形態においては、図１（ｂ）に示すように、ＥＬ素子１００を第２のバリア膜６０側が凸となるような曲面形状としているため、積層構造が形成された基板１０の反対側の面に形状支持体７０を設けているが、ＥＬ素子１００を基板１０側が凸となるような曲面形状とする場合には、第２のバリア膜６０上に形状支持体７０を設ければ良い。
【００２２】
このように、ＥＬ素子１００を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に形状支持体７０を設けることにより、ＥＬ素子１００を湾曲させる際にＥＬ素子１００の曲面形状の限界形状以下に制限できるので、ＥＬ素子１００が過度に湾曲してしまうのを防止することができる。この場合、ＥＬ素子１００を形成するそれぞれの層の中で最も柔軟性に乏しい層を基準として、その層の破壊曲げ限界を超えないようにＥＬ素子１００の曲面形状の限界形状を規定することによって、ＥＬ素子１００を形成するそれぞれの層が破壊されるのを防止することができる。
【００２３】
ここで破壊曲げ限界とは、第１のバリア膜２０または第２のバリア膜６０に発生したクラックが、第１の電極３０または第２の電極５０まで達する直前の状態である。そして、ＥＬ素子１００において、この破壊曲げ限界の状態が限界形状である。尚、第１のバリア膜２０または第２のバリア膜６０に発生したクラックが、第１の電極３０または第２の電極５０まで到達した場合、両電極３０、５０やＥＬ発光層４０が水分や酸素に曝されてしまい、ＥＬ素子１００の表示品位が著しく低下してしまう。
【００２４】
形状支持体７０は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部７１が表面に複数本並んで設けられる板状部材である。
【００２５】
このような切り欠き部７１を形成することにより、一対の斜辺が互いに接するところまでＥＬ素子１００を曲げることにより所望の曲面形状とすることができ、それ以上ＥＬ素子１００を曲げることができないことにより曲面形状を限界形状以下に規定することができる。この場合、切り欠き部７１を形成する一対の斜辺間の角度を調節することにより、ＥＬ素子１００の曲面形状の限界形状を調節することができる。またストライプ状の切り欠き部７１を複数本設けることにより、ＥＬ素子１００を湾曲させた際に、その曲面形状を複数箇所で調節することができる。
【００２６】
ここで形状支持体７０は、ｘ方向とｙ方向に辺を有するＥＬ素子１００において、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなる切り欠き部７１がｘ方向及びｙ方向に沿って設けられていても良い。このように構成することにより、ＥＬ素子１００をｘ方向、ｙ方向のどちらの方向から曲げた場合にも曲面形状を限界形状以下に規定することができる。
【００２７】
また形状支持体７０は、ＥＬ素子１００の両面に設けられていても良い。このように構成することにより、ＥＬ素子１００を基板面に対して垂直な方向軸に沿って上下どちらの方向に凸となるように曲げた場合にも曲面形状を限界形状以下に規定することができる。
【００２８】
尚、本実施形態において、形状支持体７０は硬度が高い樹脂、例えば、アクリル樹脂を用いて形成される。その他、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等を用いても良い。
【００２９】
次に、本実施形態におけるＥＬ素子１００の製造方法について説明する。
【００３０】
まず、例えばスパッタリング法によって、基板１０上にアルミナもしくはＡｌＴｉＯ等からなる第１のバリア膜２０を形成する。本実施形態において、基板１０は、フレキシブル性を有するプラスチック基板が用いられ、例えば、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）もしくはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等からなる。
【００３１】
次に、例えばスパッタリング法を用いて、第１のバリア膜２０上に、導電性及び光透過性を有する材料、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等からなる第１の電極３０を形成する。
【００３２】
次いで、真空蒸着法によって、第１の電極３０上にＥＬ発光層４０を形成する。本実施形態において、ＥＬ発光層４０は、発光層のみからなる単層型であるが、発光層以外のホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層等の機能層をも含む多層型であっても良い。ＥＬ発光層４０は、アルミニウムキノリノール錯体（Ａｌｑ３）等からなる。
【００３３】
次いで、真空蒸着法によって、ＥＬ発光層４０上に、光を反射する導電性材料、例えば、アルミニウム等からなる第２の電極５０を形成する。
【００３４】
最後に、スパッタリング法によって、第２の電極５０上にアルミナもしくはＡｌＴｉＯ等からなる第２のバリア膜６０を形成する。
【００３５】
このようにして基板１０上に、第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０を順に形成する工程を行う。
【００３６】
次に、積層構造が形成された基板１０の反対側の面に樹脂膜を堆積させ、切り欠き部７１の形成領域に開口を有するマスクを形成した後、この樹脂膜の表面を等方性エッチングする。これにより、マスクの開口から等方的に樹脂膜がエッチング除去されるので、一対の斜辺からなる切り欠き部７１を樹脂膜に形成することができる。この結果、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部７１が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体７０を形成することができる。
【００３７】
尚、限定されるものではないが、図３に示すように、第１の電極３０と第２の電極５０とが直交に交わり、ＥＬ発光層４０のうち第１の電極３０と第２の電極５０の交点に位置する部分が発光領域となる所謂マトリックス形状のＥＬ素子の場合は、切り欠き部７１の底部、すなわち一対の斜辺（面）の交点（交線）が、ＥＬ発光層４０の発光領域を通過しないことが望ましい。さらには、第１の電極３０または第２の電極５０の延設方向と、ストライプの交点（交線）の延設方向とが一致していることが望ましい。
【００３８】
以下、上記配置が望ましい理由を説明する。マトリックス形状のＥＬ素子の場合、複数の第１の電極３０同士が互いに溝３１を介して離間して配置されている。そして、この溝３１を含め、各第１の電極３０の短手方向の端部が絶縁膜３２で覆れている。この絶縁膜３２は、溝３１の中央部に位置する箇所が窪んでおり、その箇所の厚みは第１の電極３０の厚みよりも厚い（絶縁膜が１μｍ程度、電極は０．１〜０．２μｍ）。また、図示しないが複数の第２の電極５０同士も互いに溝を介して離間して配置されている。この複数の第１の電極３０と、複数の第２の電極５０とは互いに直交して配置されている。そして、ＥＬ発光層４０と第２の電極５０とは、第１の電極３０と絶縁膜３２の上にも配置される。
【００３９】
ここで、発光領域に切り欠き部７１の底部が一致すると発光領域内に凸部が発生する。この凸部では光学距離が短くなり、凸部でない部分は表面から見ると斜めとなり光学距離が長くなる。光学距離の違うものを一緒にみると、モアレや干渉縞などの表示不具合となる。このため光学距離による表示不具合を防ぐ為に発光領域外に切り欠き部を形成することが望ましい。また、マトリックス形状のＥＬ素子１００を曲げた際の応力を鑑みると、応力の低い無機材料からなる電極部に切り欠き部が来ると電極がクラックして断線し、表示不良に繋がる。
【００４０】
また、切り欠き部７１を設けて、マトリックス形状のＥＬ素子１００を曲げた場合、切り欠き部７１の底部（ストライプの交点（交線））には、底部以外よりも大きい応力が発生する可能性がある。ＥＬ発光層４０の発光領域が存在する箇所は、第１の電極３０と第２の電極５０とがＥＬ発光層４０を挟んで近接しているため、ＥＬ素子１００を曲げる際に応力が集中すると第１の電極３０と第２の電極５０とがショートしてしまう可能性もある。
【００４１】
このため、切り欠き部７１の底部、すなわち一対の斜辺（面）の交点（交線）が、ＥＬ発光層４０の発光領域を通過しないように配置することが望ましい。すなわち、切り欠き部７１の底部を、第１の電極３０間の溝３１、もしくは、第２の電極５０間の溝に配置すれば、上記のような光学距離の差に起因する表示不具合、クラックによる表示不良、第１の電極と第２の電極との間のショートの発生を抑制することができる。
なお、図４に示すような第２の電極５０間の溝６１に隔壁６２を設ける構造の場合は、最も厚みが厚くなる箇所が隔壁６２の部分である為、図３とは異なり切り欠き部７１の底部がＥＬ発光層４０の発光領域を通過するようにすることが望ましい。
【００４２】
（第２実施形態）
次に、第２実施形態について説明する。本実施形態によるＥＬ素子１００の製造方法でも、第１実施形態によるＥＬ素子１００の製造方法と同様に、基板１０上に、第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０を順に形成する工程を行う。
【００４３】
ただし、本実施形態におけるＥＬ素子１００の製造方法では、形状支持体７０を形成する工程は、所定の切り欠き部７１を有するように形成された金型に樹脂を流し込み、切り欠き部７１が形成された樹脂板を成形した後、樹脂板を接着剤によりＥＬ素子１００と接着することにより形状支持体７０を形成する。このような方法によっても、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部７１が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体７０を形成することができる。
【００４４】
（第３実施形態）
次に第３実施形態について説明する。図２（ａ）は本実施形態におけるＥＬ素子２００を説明するための断面図である。
【００４５】
本実施形態によるＥＬ素子２００でも、第１実施形態によるＥＬ素子１００と同様に、基板１０上に、水分の侵入を防止する第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０が順次積層されている。
【００４６】
ただし、本実施形態におけるＥＬ素子２００では、積層構造が形成された基板１０の反対側の面に、基板１０が平面形状に戻ろうとする応力とは逆の応力、すなわち基板１０をより曲面形状に曲げようとする引張応力を有する形状保持膜８０が形成される。
【００４７】
形状保持膜８０を設けることにより、その形状保持膜の応力により曲面形状を規定することができる。この場合、形状保持膜８０の材質を変化させて応力を調整する、または形状保持膜８０の厚さを調節することにより、形状保持膜８０の全応力が変化するため、ＥＬ素子２００の曲面形状、例えば曲率を調節することができる。また、このような引張応力を有する膜を形状保持膜８０として使用した場合、ＥＬ素子２００のどちらの面に形状保持膜８０を設けた場合にもＥＬ素子２００に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形させることが可能となる。
【００４８】
一方、図２（ｂ）に示すように形状保持膜が圧縮応力を有する膜９０であった場合も、ＥＬ素子２００のどちらの面に形状保持膜９０を設けても、ＥＬ素子２００を曲面形状にすることができる。なお、この場合は、形状保持膜９０がＥＬ素子２００に接する面と反対側の面が凸な曲面形状に変形する。
【００４９】
次に、図２（ａ）に示した本実施形態におけるＥＬ素子２００の製造方法について説明する。本実施形態によるＥＬ素子２００の製造方法でも、第１実施形態によるＥＬ素子１００の製造方法と同様に、基板１０上に、第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０を順に形成する工程を行う。
【００５０】
ただし、本実施形態におけるＥＬ素子２００の製造方法では、ＥＬ素子２００上に、例えばスパッタリング法によって、クロム等からなる引張応力を有した膜８０を形成する。この成膜時に発生する応力によりＥＬ素子２００を曲面形状に変形させる。これにより、ＥＬ素子２００に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜８０を形成することができる。尚、形状保持膜８０を形成する工程として、スパッタ、ＣＶＤ、蒸着、ＡＬＥ等の成膜方法を用いても良い。またＥＬ素子２００に樹脂膜をコーティングした後、その硬化収縮で所望の応力を得ても良い。
【００５１】
（変形例）
上記実施形態において、有機ＥＬを対象としたＥＬ素子について説明したが、その際ＥＬ素子を構成するそれぞれの層の構成材料は上述したものに限定されるものではない。また、変形例として有機ＥＬの代わりに無機ＥＬを用いることもでき、その際ＥＬ素子を構成するＥＬ発光層、電極等のそれぞれの層は公知の材料を用いて構成されていれば良い。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の第１実施形態によるＥＬ素子１００を示す断面図であり、（ａ）はその平面形状を示す図であり、（ｂ）は曲面形状としたときの図である。
【図２】本発明の第３実施形態によるＥＬ素子２００を示す断面図であり、（ａ）は引張応力を有した形状保持膜８０を用いた場合を示す図であり、（ｂ）圧縮応力を有した形状保持膜９０を用いた場合を示す図である。
【図３】本発明の第１実施形態におけるマトリクス形状のＥＬ素子１００を示す断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態における別のマトリクス形状のＥＬ素子１００を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１０・・・基板
２０・・・第１のバリア膜
３０・・・第１の電極
３１，６１・・・溝
３２・・・絶縁膜
４０・・・ＥＬ発光層
５０・・・第２の電極
６０・・・第２のバリア膜
６２・・・隔壁
７０・・・形状支持体
７１・・・切り欠き部
８０・・・引張応力を有した形状保持膜
９０・・・圧縮応力を有した形状保持膜
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光素子として表示装置等に利用されるＥＬ素子及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイとして液晶ディスプレイに代わり、ＥＬ素子を用いたＥＬディスプレイが注目されてきている。
【０００３】
ＥＬディスプレイは、バックライトが不要な自発光型のフラットパネルディスプレイであり、視認性が高い、視野角依存症がない、液晶ディスプレイと比較して薄い、軽い等のさまざまな利点がある。更に近年、ＥＬ素子が本来有する可撓性を利用してディスプレイを湾曲させる試みがなされている。
【０００４】
しかし、基板を湾曲させた際にＥＬ素子を構成する膜にクラックが生じてしまう等の問題があった。この問題に対処するために、例えば特許文献１に記載されたものが知られている。
【０００５】
特許文献１において、ＥＬ素子は、第１の基板上に、第１の電極と、有機ＥＬ層と、第２の電極とを有する。このように構成されるＥＬ素子上に、更にＥＬ層を封止する第１の無機絶縁膜と、第２の基板とを積層する。このとき第１の無機絶縁膜上に第２の基板を形成することにより、表示装置を曲げる際に生じる引張応力（膜が縮む方向へ加わる応力）と圧縮応力（膜が伸びる方向へ加わる応力）が釣り合って無応力状態となる中立軸を第１の無機絶縁膜の近傍に位置させる。このようにして、ＥＬディスプレイを湾曲させた場合に、可撓性に乏しい無機絶縁膜にクラックが入るのを防止する。
【特許文献１】再表２００５−０２７５８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、特許文献１においては曲げた際に最も応力が集中する基板表面に、無機絶縁膜ではなく第２の基板を設け、無機絶縁膜にクラックが入るのを防止している。しかし、柔軟性に乏しいＥＬ層及び電極によりＥＬ素子を構成している場合には、ＥＬ素子表面に限らず、柔軟性に乏しいＥＬ層及び電極にも応力がかかり、それらを破壊してしまうという可能性がある。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑み、ＥＬ素子を湾曲させた際にＥＬ素子を形成するそれぞれの層が破壊されるのを防止することができるＥＬ素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、請求項１記載のＥＬ素子は、基板上に、水分の侵入を防止する第１のバリア膜、第１の電極、ＥＬ発光層、第２の電極、第２のバリア膜が順次積層されたＥＬ素子において、前記ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、前記ＥＬ素子が所望の曲面形状となるように規定する形状規定部材を設けることを特徴とする。
【０００９】
請求項１記載のＥＬ素子は、上述の構成を採用したことにより、ＥＬ素子を湾曲させる際に、ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に形状規定部材を設けることによりＥＬ素子の曲面形状を規定しているので、ＥＬ素子が過度に湾曲してしまうのを防止することができる。この場合、ＥＬ素子を形成するそれぞれの層の中で最も柔軟性に乏しい層を基準として、その層の破壊曲げ限界を超えないようにＥＬ素子の曲面形状を規定することによって、ＥＬ素子を形成するそれぞれの層が破壊されるのを防止することができる。
【００１０】
請求項２に記載のように、前記形状規定部材は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体であり、前記切り欠き部を形成する前記一対の斜辺が互いに接するところまで前記ＥＬ素子を曲げることにより所望の曲面形状とすることができ、それ以上前記ＥＬ素子を曲げることができないことにより曲面形状を規定しても良い。この場合、切り欠き部を形成する一対の斜辺間の角度を調節することにより、ＥＬ素子の曲面形状を調節することができる。またストライプ状の切り欠き部を複数本設けることにより、ＥＬ素子を湾曲させた際に、その曲面形状を複数箇所で調節することができる。
【００１１】
請求項３に記載のように、前記形状規定部材は、ｘ方向とｙ方向に辺を有する前記ＥＬ素子をｘ方向、ｙ方向のどちらの方向から曲げた場合にも曲面形状を規定することができるように、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなる切り欠き部が前記ｘ方向及びｙ方向に沿って設けられた形状支持体であっても良い。
【００１２】
請求項１〜３いずれかに記載のＥＬ素子は、請求項４に記載のように、前記ＥＬ素子の基板面に対して垂直な方向軸に沿って上下どちらの方向に凸となるように曲げた場合にも曲面形状を規定することができるように、前記形状規定部材は前記ＥＬ素子の両面に設けられていても良い。
【００１３】
請求項５に記載のように、前記形状規定部材は、前記ＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜であり、応力により曲面形状を規定しても良い。この場合、応力を有する形状保持膜の厚さ等によって、形状保持膜の応力を調節することにより、ＥＬ素子の曲面形状を調節することができる。また、ＥＬ素子のどちらの面に形状保持膜を設けた場合にもＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形させることが可能となる。
【００１４】
請求項６記載のＥＬ素子の製造方法は、基板上に、第１のバリア膜、第１の電極、ＥＬ発光層、第２の電極、第２のバリア膜を順に形成する工程と、前記ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、前記ＥＬ素子が所望の曲面形状となるように規定する形状規定部材を形成する工程と、からなることを特徴とする。これにより、上述した請求項１に記載のＥＬ素子を製造することができる。
【００１５】
請求項７に記載のように、前記形状規定部材を形成する工程は、前記ＥＬ素子上に樹脂膜を堆積させた後、この樹脂膜の表面に前記切り欠き部を形成するためのエッチング処理を施す工程を有していても良い。これにより、ＥＬ素子の一面に所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体である形状規定部材を形成することができる。
【００１６】
請求項８に記載のように、前記形状規定部材を形成する工程は、始めに前記切り欠き部を有する樹脂板を成形した後、接着剤で前記ＥＬ素子と接着する工程を有していても良い。これにより、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体である形状規定部材を形成することができる。
【００１７】
請求項９に記載のように、前記形状規定部材を形成する工程は、前記ＥＬ素子上に応力を有する膜を成膜する工程を有し、この成膜時に発生する応力により前記ＥＬ素子を曲面形状に変形させても良い。これにより、ＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜である形状規定部材を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の複数の実施形態を図に基づいて説明する。尚、各実施形態において対応する構成要素には同一の符号を付すことにより、重複する説明を省略する。
【００１９】
（第１実施形態）
図１（ａ）及び（ｂ）は本実施形態におけるＥＬ素子１００を説明するための断面図であり、（ａ）はその平面形状を示す図であり、（ｂ）は曲面形状としたときの図である。
【００２０】
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、ＥＬ素子１００は、基板１０上に、水分の侵入を防止する第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０が順次積層されて、構成される。
【００２１】
本実施形態において、上述したような積層構造が形成された基板１０の反対側の面にはＥＬ素子１００が所望の曲面形状となるように規定する形状支持体７０が形成されている。尚、本実施形態においては、図１（ｂ）に示すように、ＥＬ素子１００を第２のバリア膜６０側が凸となるような曲面形状としているため、積層構造が形成された基板１０の反対側の面に形状支持体７０を設けているが、ＥＬ素子１００を基板１０側が凸となるような曲面形状とする場合には、第２のバリア膜６０上に形状支持体７０を設ければ良い。
【００２２】
このように、ＥＬ素子１００を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に形状支持体７０を設けることにより、ＥＬ素子１００を湾曲させる際にＥＬ素子１００の曲面形状の限界形状以下に制限できるので、ＥＬ素子１００が過度に湾曲してしまうのを防止することができる。この場合、ＥＬ素子１００を形成するそれぞれの層の中で最も柔軟性に乏しい層を基準として、その層の破壊曲げ限界を超えないようにＥＬ素子１００の曲面形状の限界形状を規定することによって、ＥＬ素子１００を形成するそれぞれの層が破壊されるのを防止することができる。
【００２３】
ここで破壊曲げ限界とは、第１のバリア膜２０または第２のバリア膜６０に発生したクラックが、第１の電極３０または第２の電極５０まで達する直前の状態である。そして、ＥＬ素子１００において、この破壊曲げ限界の状態が限界形状である。尚、第１のバリア膜２０または第２のバリア膜６０に発生したクラックが、第１の電極３０または第２の電極５０まで到達した場合、両電極３０、５０やＥＬ発光層４０が水分や酸素に曝されてしまい、ＥＬ素子１００の表示品位が著しく低下してしまう。
【００２４】
形状支持体７０は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部７１が表面に複数本並んで設けられる板状部材である。
【００２５】
このような切り欠き部７１を形成することにより、一対の斜辺が互いに接するところまでＥＬ素子１００を曲げることにより所望の曲面形状とすることができ、それ以上ＥＬ素子１００を曲げることができないことにより曲面形状を限界形状以下に規定することができる。この場合、切り欠き部７１を形成する一対の斜辺間の角度を調節することにより、ＥＬ素子１００の曲面形状の限界形状を調節することができる。またストライプ状の切り欠き部７１を複数本設けることにより、ＥＬ素子１００を湾曲させた際に、その曲面形状を複数箇所で調節することができる。
【００２６】
ここで形状支持体７０は、ｘ方向とｙ方向に辺を有するＥＬ素子１００において、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなる切り欠き部７１がｘ方向及びｙ方向に沿って設けられていても良い。このように構成することにより、ＥＬ素子１００をｘ方向、ｙ方向のどちらの方向から曲げた場合にも曲面形状を限界形状以下に規定することができる。
【００２７】
また形状支持体７０は、ＥＬ素子１００の両面に設けられていても良い。このように構成することにより、ＥＬ素子１００を基板面に対して垂直な方向軸に沿って上下どちらの方向に凸となるように曲げた場合にも曲面形状を限界形状以下に規定することができる。
【００２８】
尚、本実施形態において、形状支持体７０は硬度が高い樹脂、例えば、アクリル樹脂を用いて形成される。その他、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等を用いても良い。
【００２９】
次に、本実施形態におけるＥＬ素子１００の製造方法について説明する。
【００３０】
まず、例えばスパッタリング法によって、基板１０上にアルミナもしくはＡｌＴｉＯ等からなる第１のバリア膜２０を形成する。本実施形態において、基板１０は、フレキシブル性を有するプラスチック基板が用いられ、例えば、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）もしくはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等からなる。
【００３１】
次に、例えばスパッタリング法を用いて、第１のバリア膜２０上に、導電性及び光透過性を有する材料、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等からなる第１の電極３０を形成する。
【００３２】
次いで、真空蒸着法によって、第１の電極３０上にＥＬ発光層４０を形成する。本実施形態において、ＥＬ発光層４０は、発光層のみからなる単層型であるが、発光層以外のホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層等の機能層をも含む多層型であっても良い。ＥＬ発光層４０は、アルミニウムキノリノール錯体（Ａｌｑ３）等からなる。
【００３３】
次いで、真空蒸着法によって、ＥＬ発光層４０上に、光を反射する導電性材料、例えば、アルミニウム等からなる第２の電極５０を形成する。
【００３４】
最後に、スパッタリング法によって、第２の電極５０上にアルミナもしくはＡｌＴｉＯ等からなる第２のバリア膜６０を形成する。
【００３５】
このようにして基板１０上に、第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０を順に形成する工程を行う。
【００３６】
次に、積層構造が形成された基板１０の反対側の面に樹脂膜を堆積させ、切り欠き部７１の形成領域に開口を有するマスクを形成した後、この樹脂膜の表面を等方性エッチングする。これにより、マスクの開口から等方的に樹脂膜がエッチング除去されるので、一対の斜辺からなる切り欠き部７１を樹脂膜に形成することができる。この結果、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部７１が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体７０を形成することができる。
【００３７】
尚、限定されるものではないが、図３に示すように、第１の電極３０と第２の電極５０とが直交に交わり、ＥＬ発光層４０のうち第１の電極３０と第２の電極５０の交点に位置する部分が発光領域となる所謂マトリックス形状のＥＬ素子の場合は、切り欠き部７１の底部、すなわち一対の斜辺（面）の交点（交線）が、ＥＬ発光層４０の発光領域を通過しないことが望ましい。さらには、第１の電極３０または第２の電極５０の延設方向と、ストライプの交点（交線）の延設方向とが一致していることが望ましい。
【００３８】
以下、上記配置が望ましい理由を説明する。マトリックス形状のＥＬ素子の場合、複数の第１の電極３０同士が互いに溝３１を介して離間して配置されている。そして、この溝３１を含め、各第１の電極３０の短手方向の端部が絶縁膜３２で覆れている。この絶縁膜３２は、溝３１の中央部に位置する箇所が窪んでおり、その箇所の厚みは第１の電極３０の厚みよりも厚い（絶縁膜が１μｍ程度、電極は０．１〜０．２μｍ）。また、図示しないが複数の第２の電極５０同士も互いに溝を介して離間して配置されている。この複数の第１の電極３０と、複数の第２の電極５０とは互いに直交して配置されている。そして、ＥＬ発光層４０と第２の電極５０とは、第１の電極３０と絶縁膜３２の上にも配置される。
【００３９】
ここで、発光領域に切り欠き部７１の底部が一致すると発光領域内に凸部が発生する。この凸部では光学距離が短くなり、凸部でない部分は表面から見ると斜めとなり光学距離が長くなる。光学距離の違うものを一緒にみると、モアレや干渉縞などの表示不具合となる。このため光学距離による表示不具合を防ぐ為に発光領域外に切り欠き部を形成することが望ましい。また、マトリックス形状のＥＬ素子１００を曲げた際の応力を鑑みると、応力の低い無機材料からなる電極部に切り欠き部が来ると電極がクラックして断線し、表示不良に繋がる。
【００４０】
また、切り欠き部７１を設けて、マトリックス形状のＥＬ素子１００を曲げた場合、切り欠き部７１の底部（ストライプの交点（交線））には、底部以外よりも大きい応力が発生する可能性がある。ＥＬ発光層４０の発光領域が存在する箇所は、第１の電極３０と第２の電極５０とがＥＬ発光層４０を挟んで近接しているため、ＥＬ素子１００を曲げる際に応力が集中すると第１の電極３０と第２の電極５０とがショートしてしまう可能性もある。
【００４１】
このため、切り欠き部７１の底部、すなわち一対の斜辺（面）の交点（交線）が、ＥＬ発光層４０の発光領域を通過しないように配置することが望ましい。すなわち、切り欠き部７１の底部を、第１の電極３０間の溝３１、もしくは、第２の電極５０間の溝に配置すれば、上記のような光学距離の差に起因する表示不具合、クラックによる表示不良、第１の電極と第２の電極との間のショートの発生を抑制することができる。
なお、図４に示すような第２の電極５０間の溝６１に隔壁６２を設ける構造の場合は、最も厚みが厚くなる箇所が隔壁６２の部分である為、図３とは異なり切り欠き部７１の底部がＥＬ発光層４０の発光領域を通過するようにすることが望ましい。
【００４２】
（第２実施形態）
次に、第２実施形態について説明する。本実施形態によるＥＬ素子１００の製造方法でも、第１実施形態によるＥＬ素子１００の製造方法と同様に、基板１０上に、第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０を順に形成する工程を行う。
【００４３】
ただし、本実施形態におけるＥＬ素子１００の製造方法では、形状支持体７０を形成する工程は、所定の切り欠き部７１を有するように形成された金型に樹脂を流し込み、切り欠き部７１が形成された樹脂板を成形した後、樹脂板を接着剤によりＥＬ素子１００と接着することにより形状支持体７０を形成する。このような方法によっても、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部７１が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体７０を形成することができる。
【００４４】
（第３実施形態）
次に第３実施形態について説明する。図２（ａ）は本実施形態におけるＥＬ素子２００を説明するための断面図である。
【００４５】
本実施形態によるＥＬ素子２００でも、第１実施形態によるＥＬ素子１００と同様に、基板１０上に、水分の侵入を防止する第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０が順次積層されている。
【００４６】
ただし、本実施形態におけるＥＬ素子２００では、積層構造が形成された基板１０の反対側の面に、基板１０が平面形状に戻ろうとする応力とは逆の応力、すなわち基板１０をより曲面形状に曲げようとする引張応力を有する形状保持膜８０が形成される。
【００４７】
形状保持膜８０を設けることにより、その形状保持膜の応力により曲面形状を規定することができる。この場合、形状保持膜８０の材質を変化させて応力を調整する、または形状保持膜８０の厚さを調節することにより、形状保持膜８０の全応力が変化するため、ＥＬ素子２００の曲面形状、例えば曲率を調節することができる。また、このような引張応力を有する膜を形状保持膜８０として使用した場合、ＥＬ素子２００のどちらの面に形状保持膜８０を設けた場合にもＥＬ素子２００に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形させることが可能となる。
【００４８】
一方、図２（ｂ）に示すように形状保持膜が圧縮応力を有する膜９０であった場合も、ＥＬ素子２００のどちらの面に形状保持膜９０を設けても、ＥＬ素子２００を曲面形状にすることができる。なお、この場合は、形状保持膜９０がＥＬ素子２００に接する面と反対側の面が凸な曲面形状に変形する。
【００４９】
次に、図２（ａ）に示した本実施形態におけるＥＬ素子２００の製造方法について説明する。本実施形態によるＥＬ素子２００の製造方法でも、第１実施形態によるＥＬ素子１００の製造方法と同様に、基板１０上に、第１のバリア膜２０、第１の電極３０、ＥＬ発光層４０、第２の電極５０、第２のバリア膜６０を順に形成する工程を行う。
【００５０】
ただし、本実施形態におけるＥＬ素子２００の製造方法では、ＥＬ素子２００上に、例えばスパッタリング法によって、クロム等からなる引張応力を有した膜８０を形成する。この成膜時に発生する応力によりＥＬ素子２００を曲面形状に変形させる。これにより、ＥＬ素子２００に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜８０を形成することができる。尚、形状保持膜８０を形成する工程として、スパッタ、ＣＶＤ、蒸着、ＡＬＥ等の成膜方法を用いても良い。またＥＬ素子２００に樹脂膜をコーティングした後、その硬化収縮で所望の応力を得ても良い。
【００５１】
（変形例）
上記実施形態において、有機ＥＬを対象としたＥＬ素子について説明したが、その際ＥＬ素子を構成するそれぞれの層の構成材料は上述したものに限定されるものではない。また、変形例として有機ＥＬの代わりに無機ＥＬを用いることもでき、その際ＥＬ素子を構成するＥＬ発光層、電極等のそれぞれの層は公知の材料を用いて構成されていれば良い。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の第１実施形態によるＥＬ素子１００を示す断面図であり、（ａ）はその平面形状を示す図であり、（ｂ）は曲面形状としたときの図である。
【図２】本発明の第３実施形態によるＥＬ素子２００を示す断面図であり、（ａ）は引張応力を有した形状保持膜８０を用いた場合を示す図であり、（ｂ）圧縮応力を有した形状保持膜９０を用いた場合を示す図である。
【図３】本発明の第１実施形態におけるマトリクス形状のＥＬ素子１００を示す断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態における別のマトリクス形状のＥＬ素子１００を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１０・・・基板
２０・・・第１のバリア膜
３０・・・第１の電極
３１，６１・・・溝
３２・・・絶縁膜
４０・・・ＥＬ発光層
５０・・・第２の電極
６０・・・第２のバリア膜
６２・・・隔壁
７０・・・形状支持体
７１・・・切り欠き部
８０・・・引張応力を有した形状保持膜
９０・・・圧縮応力を有した形状保持膜
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、水分の侵入を防止する第１のバリア膜、第１の電極、ＥＬ発光層、第２の電極、第２のバリア膜が順次積層されたＥＬ素子において、
前記ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、前記ＥＬ素子が所望の曲面形状となるように規定する形状規定部材を設けることを特徴とするＥＬ素子。
【請求項２】
前記形状規定部材は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体であり、前記切り欠き部を形成する前記一対の斜辺が互いに接するところまで前記ＥＬ素子を曲げることにより所望の曲面形状とすることができ、それ以上前記ＥＬ素子を曲げることができないことにより曲面形状を規定することを特徴とする請求項１記載のＥＬ素子。
【請求項３】
前記形状規定部材は、ｘ方向とｙ方向に辺を有する前記ＥＬ素子をｘ方向、ｙ方向のどちらの方向から曲げた場合にも曲面形状を規定することができるように、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなる切り欠き部が前記ｘ方向及びｙ方向に沿って設けられた形状支持体であることを特徴とする請求項１記載のＥＬ素子。
【請求項４】
前記形状規定部材は、前記ＥＬ素子の基板面に対して垂直な方向軸に沿って上下どちらの方向に凸となるように曲げた場合にも曲面形状を規定することができるように、前記ＥＬ素子の両面に設けられることを特徴とする請求項１乃至３いずれか記載のＥＬ素子。
【請求項５】
前記形状規定部材は、前記ＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜であり、応力により曲面形状を規定することを特徴とする請求項１記載のＥＬ素子。
【請求項６】
基板上に、第１のバリア膜、第１の電極、ＥＬ発光層、第２の電極、第２のバリア膜を順に形成する工程と、
前記ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、前記ＥＬ素子が所望の曲面形状となるように規定する形状規定部材を形成する工程と、からなることを特徴とするＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記形状規定部材は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体であり、
前記形状規定部材を形成する工程は、前記ＥＬ素子上に樹脂膜を堆積させた後、この樹脂膜の表面に前記切り欠き部を形成するためのエッチング処理を施すことにより前記形状支持体を形成する工程を有することを特徴とする請求項６記載のＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
前記形状規定部材は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体であり、
前記形状規定部材を形成する工程は、始めに前記切り欠き部を有する樹脂板を成形した後、接着剤で前記ＥＬ素子と接着することにより前記形状支持体を形成する工程を有することを特徴とする請求項６記載のＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
前記形状規定部材は、前記ＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜であり、
前記形状規定部材を形成する工程は、前記ＥＬ素子上に応力を有する膜を成膜する工程を有し、この成膜時に発生する応力により前記ＥＬ素子を曲面形状に変形させることを特徴とする請求項６記載のＥＬ素子の製造方法。
【請求項１】
基板上に、水分の侵入を防止する第１のバリア膜、第１の電極、ＥＬ発光層、第２の電極、第２のバリア膜が順次積層されたＥＬ素子において、
前記ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、前記ＥＬ素子が所望の曲面形状となるように規定する形状規定部材を設けることを特徴とするＥＬ素子。
【請求項２】
前記形状規定部材は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体であり、前記切り欠き部を形成する前記一対の斜辺が互いに接するところまで前記ＥＬ素子を曲げることにより所望の曲面形状とすることができ、それ以上前記ＥＬ素子を曲げることができないことにより曲面形状を規定することを特徴とする請求項１記載のＥＬ素子。
【請求項３】
前記形状規定部材は、ｘ方向とｙ方向に辺を有する前記ＥＬ素子をｘ方向、ｙ方向のどちらの方向から曲げた場合にも曲面形状を規定することができるように、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなる切り欠き部が前記ｘ方向及びｙ方向に沿って設けられた形状支持体であることを特徴とする請求項１記載のＥＬ素子。
【請求項４】
前記形状規定部材は、前記ＥＬ素子の基板面に対して垂直な方向軸に沿って上下どちらの方向に凸となるように曲げた場合にも曲面形状を規定することができるように、前記ＥＬ素子の両面に設けられることを特徴とする請求項１乃至３いずれか記載のＥＬ素子。
【請求項５】
前記形状規定部材は、前記ＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜であり、応力により曲面形状を規定することを特徴とする請求項１記載のＥＬ素子。
【請求項６】
基板上に、第１のバリア膜、第１の電極、ＥＬ発光層、第２の電極、第２のバリア膜を順に形成する工程と、
前記ＥＬ素子を曲面形状としたときに凸となる面の反対側の面に、前記ＥＬ素子が所望の曲面形状となるように規定する形状規定部材を形成する工程と、からなることを特徴とするＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記形状規定部材は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体であり、
前記形状規定部材を形成する工程は、前記ＥＬ素子上に樹脂膜を堆積させた後、この樹脂膜の表面に前記切り欠き部を形成するためのエッチング処理を施すことにより前記形状支持体を形成する工程を有することを特徴とする請求項６記載のＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
前記形状規定部材は、所定の角度を有して隣接する一対の斜辺からなるストライプ状の切り欠き部が表面に複数本並んで設けられる板状の形状支持体であり、
前記形状規定部材を形成する工程は、始めに前記切り欠き部を有する樹脂板を成形した後、接着剤で前記ＥＬ素子と接着することにより前記形状支持体を形成する工程を有することを特徴とする請求項６記載のＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
前記形状規定部材は、前記ＥＬ素子に接する面と反対側の面が凹んだ曲面形状に変形しようとする応力を有する形状保持膜であり、
前記形状規定部材を形成する工程は、前記ＥＬ素子上に応力を有する膜を成膜する工程を有し、この成膜時に発生する応力により前記ＥＬ素子を曲面形状に変形させることを特徴とする請求項６記載のＥＬ素子の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００９−１７０１７３（Ｐ２００９−１７０１７３Ａ）
【公開日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−４８５４（Ｐ２００８−４８５４）
【出願日】平成２０年１月１１日（２００８．１．１１）
【出願人】（０００００４２６０）株式会社デンソー (27,639)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月１１日（２００８．１．１１）
【出願人】（０００００４２６０）株式会社デンソー (27,639)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]