【課題】受信した各信号系統間に位相差がある場合に系統切替を行うと、切り替えたＴＳデータに不連続区間が生じ、画像、音声にフリーズ等が生じるという問題点を解決したデジタルデータ受信装置の実現。
【解決手段】受信した同一の信号を２系統以上に分配し、各々復調して得られた複数のデータストリームの１系統を選択出力するデジタルデータ受信装置において、入力されるデータストリームを各々の系統のクロックで記憶する記憶部と、記憶されたデータストリームを同時に読出すデータ読出し制御部と、読出されたデータストリームの１系統を選択出力する選択部と、選択されたデータストリームと対で出力されるクロックを生成するクロック制御部から構成され、データ読出し制御部は、切替を行う系統間のデータストリームの位相差を検出し、該位相差状態に応じ、選択部の切替モードを制御し、当該切替モードを表す信号を出力するデジタルデータ受信装置。 （もっと読む）

【課題】 商品に対する顧客の関心度情報を得るシステムの提供。
【解決手段】 ＲＦＩＤタグＲが付けられた商品Ａ〜Ｃを搭載する商品陳列棚１１０〜１３０を含むインテリジェント棚１００と、該商品のＲＦＩＤタグＲからタグシリアル番号を検知する複数のアンテナ１１２ａ〜１１２ｃと、商品陳列棚１２０の両端に配置された人体センサＳと、タグシリアル番号並びに商品種毎に付与された商品ＩＤとを対応して格納したタグ−商品ＩＤ登録テーブル２０１を含み、管理用コンピュータ２００が、入力したタグシリアル番号と該タグシリアル番号を検知したアンテナとの組み合わせによって、特定の商品陳列棚から特定の商品が取られたこと及び又は戻されたことを検知すると共に、前記一対の人体センサの検知時刻差によって人体の移動方向を検知するもの。 （もっと読む）

【課題】排気管系の詰まりを防止する。
【解決手段】ウエハ１を処理する処理室１４に上流側端が接続され下流側端が排気装置に接続される排気管系４０の排気口２０に第一排気管４１を接続し、第一排気管４１の内側に被覆管４７をバッファ４６を介して挿入し、第一排気管４１にバッファ４６に付着防止ガス４４を導入する付着ガス導入管４５を接続する。被覆管４７は上流側口径が大きく下流側口径が小さい円筒形状に形成されたセグメントリング５１で構成する。複数個のセグメントリング５１を中心線を揃えて直列に配列しセグメントリング５１同士の上流側と下流側とを一部重ねて隙間を形成させて、この隙間によってバッファ４６の付着防止ガスを被覆管４７の内側空間に流出させる流出口５２を構成する。流出口から流出した付着防止ガスにより副生成物等の排気管や被覆管の内周面への付着堆積を防止できる。
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【課題】 移載時及び処理室内で発生した基板の位置ズレを検出し、適時これを補正することにより、装置稼働率の低下を抑制し、基板品質の安定化を図り得る基板処理装置を提供する。
【解決手段】 移載装置で基板を前記気密室に対して搬入または搬出する際、搬送室内に設けられる基板待機位置にて基板の周縁部の検出を行い、正規の基板位置からの位置ずれ量を検出する少なくとも２つのラインセンサを設け、前記ラインセンサは、一方のラインセンサが前記基板待機位置における基板中心を原点とする極座標系において、基板中心から一方のラインセンサによる基板周縁部の検出点に向かう角度が前記気密室内への基板の搬入出方向と直交する方向に対して約２０°〜５０°の範囲で設けられ、他方のラインセンサが前記一方のラインセンサと前記搬入出方向に対して線対称に設けられている。 （もっと読む）

【課題】プラズマダメージを防止しウエハの自然酸化膜を確実に除去する。
【解決手段】自然酸化膜除去装置１０のプロセスチューブ１１にガス導入口部２２を形成し、ガス導入口部２２にガス導入管２３の一端を接続する。ガス導入管２３の他端には外部にプラズマ発生装置２６が設置されたプラズマ室２５を形成し、Ｈ₂ ガス供給源２７とＮ₂ ガス供給源２８を接続する。ガス導入管２３の途中には供給管２９を挿入し、供給管２９の他端にＮＦ₃ ガス供給源３０を接続する。ガス導入管２３に供給されたＮＦ₃ ガス３３はＨ₂ とＮ₂ の混合ガス３１がプラズマ２４で活性化された活性ガス３２で活性化されて自然酸化膜除去ガス３４として処理室１２に供給される。ガス導入管においてＮＦ₃ ガスの分解の度合いを適正に制御することで、プラズマダメージを防止しつつ自然酸化膜を確実に除去できる。 （もっと読む）

【課題】
ヒータ交換作業が安全で而も簡単であると共に交換コストの低い熱処理装置、及び該熱処理装置に於ける熱処理炉及び断熱材及び排気ダクトを提供する。
【解決手段】
ヒータユニット２１の上部に排気ダクト２２が設けられ、該排気ダクトに排気導出部２５，２６が接続された熱処理炉を有する熱処理装置に於いて、前記排気ダクトは断熱材で構成され、該排気ダクト内部はエルボウ状の排気路２３を形成する。
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【課題】
反応炉の抵抗発熱体の温度斑を解消し、基板の処理品質の向上を図る。
【解決手段】
基板保持具７に載置された基板６を内部で処理する反応管２と、該反応管を囲繞する様に設けられた筒状断熱材３と、該筒状断熱材の内面に設けられた抵抗発熱体４とを具備し、該抵抗発熱体は前記反応管の軸心に沿って所要数の部分発熱体４ａ，４ｂ，４ｃに分割され、該各部分発熱体にはそれぞれ電源供給線５ａ，５ｂ，５ｃが前記筒状断熱材を貫通して接続され、該筒状断熱材の外側に延出する延出部をそれぞれ電源供給線用断熱材１１ａ，１１ｂ，１１ｃで覆った。
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【課題】
半導体製造装置に於いて、降温速度を大きくし、冷却時間の短縮、ひいてはスループットの向上を図る。
【解決手段】
反応管２と、ヒータ１と、前記反応管が貫通する為の貫通孔を有するベース５と、前記ヒータと前記ベースとの間に設置されるヒータ台座１４とを備えた半導体製造装置であって、前記ヒータ台座は、該ヒータ台座の外壁面に開口している吹込み孔１５を備え、該吹込み孔の内端側は前記開口から吹込まれた気体の流れが上方に向く様に上向きに傾斜している。
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【課題】液体原料供給配管を洗浄する洗浄溶媒の使用量を減らし、液体原料供給配管の洗浄能力を高めることが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板を処理する処理容器４と、液体原料を気化する気化器３と、液体原料を気化器３に供給する液体原料供給配管１３と、液体原料を気化したガスを処理容器４内に供給する原料ガス供給配管１７と、液体原料供給配管１３に設けられ液体原料供給配管１３内の流体を排出する少なくとも１つの排出配管と、排出配管に設けられ排出配管のコンダクタンスを調整するコンダクタンス調整機構と、液体原料供給配管１３内に洗浄用溶媒を供給する溶媒供給機構２９とを有する。 （もっと読む）

【課題】等方性酸化を複数枚の基板が積層して配置された装置にて実施する場合に、基板配置場所により水素濃度が異なり酸化膜厚が大きく変動するのを抑制し、高品質な半導体装置を製造する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、複数枚の基板１を処理室４内に搬入する工程と、処理室４内の圧力を大気圧よりも低くした状態で処理室４内に酸素含有ガスと水素含有ガスとを供給して複数枚の基板１を処理する工程と、処理後の複数枚の基板１を処理室４より搬出する工程と、を有し、基板１を処理する工程では、処理室４内壁および処理室４内を加熱した状態で、複数枚の基板１よりも上流側から前記酸素含有ガスを供給すると共に、複数枚の基板１が存在する領域に対応する処理室４内壁近傍の複数箇所から前記水素含有ガスを供給する。 （もっと読む）