【課題】本発明は、発光特性に優れたＧａＮ系化合物半導体を確実に製造することができるＧａＮ系化合物半導体の製造方法の提供、及びＧａＮ系化合物半導体製造用アンモニア製品及びＧａＮ系化合物半導体製造用アンモニアの製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】充填容器１８と、充填容器１８内に少なくとも一部が液体となるように充填されたアンモニアを具備し、該液相のアンモニア中の水分濃度が、０．５ｖｏｌｐｐｍ以下であることを特徴とするＧａＮ系化合物半導体製造用アンモニアであって、充填容器１８の材料が、マンガン鋼またはアルミニウム合金であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造コストが安くなるとともに、冷媒入出用ヘッダタンクに反りが発生することを確実に防止しうる熱交換器を提供する。
【解決手段】熱交換器は、入口ヘッダ部本体および出口ヘッダ部本体の一端開口を閉鎖する２つのキャップを連結部42cを介して一体化してなる右端部材42と、右端部材42に接合されたジョイントプレート43とを備えている。右端部材42の連結部42cの上端に上方に突出した第１係合雄部１を、同下端に下方に突出した第２係合雄部２をそれぞれ形成する。ジョイントプレート43の上部に第１係合雄部１が挿通させられる第１係合雌部７を、同下部に第２係合雄部２が挿通させられる第２係合雌部８をそれぞれ形成する。ジョイントプレート43を、左右方向、上下方向および前後方向の移動が阻止されるように右端部材42に係合させ、右端部材42に接合する。 （もっと読む）

【課題】耐環境性の高い磁気記録媒体の検査方法、その検査方法を有する磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地層、磁性層、保護層および液体潤滑剤層を有する磁気記録媒体を表面特性評価を用いて検査する磁気記録媒体の検査方法である。この検査方法は磁気記録媒体に液体潤滑層を形成させた後、該磁気記録媒体を、大気中、５０℃〜１５０℃の温度範囲で、４時間〜２８０時間加熱し、その後、該磁気記録媒体を、表面特性評価を用いて検査する方法である。 磁気記録媒体の製造方法は製造工程中に上記の検査の工程を含むものである。 （もっと読む）

【課題】製品質量の管理を精度良く行いつつ、歩留まりの向上およびコストの削減を図り得る押出品の切断方法を提供する。
【解決手段】本発明は、押出加工された押出品を、目標とする質量で切断するようにした押出品の切断方法を対象とする。押出加工された先行の押出品（先行品）を既定の切断長さで切断し、その切断された先行品の実際質量を測定する。次いで先行品の実際質量に対する目標質量の質量比に基づいて、既定の切断長さを、目標質量に対応する切断長さに補正して、質量補正済の切断長さを算出する。その後、質量補正済の切断長さを新規の切断長さとして、後続の押出品を切断する。 （もっと読む）

【課題】発光層の結晶性を良好に維持しつつ、ｐ型層の結晶性を良好にし、発光出力を低下させることなく、順方向電圧（駆動電圧）が低く、且つ、順方向電圧の時間的な変化量が少ない信頼性の良好なＩＩＩ族窒化物半導体発光素子の製造に有用なＩＩＩ族窒化物半導体積層構造体の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上にＩＩＩ族窒化物半導体からなる、ｎ型下地層、活性層、ｐ型クラッド層およびｐ型コンタクト層をこの順序で有するＩＩＩ族窒化物半導体積層構造体の製造方法において、ｐ型コンタクト層成長時の基板温度を２つ以上の温度域で成膜し、後の温度域が最初の温度域より高いことを特徴とするＩＩＩ族窒化物半導体積層構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】より安全性が高く、高極性反応原料等にも適用できるエステル化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】アルコール化合物とカルボン酸化合物をテトラヒドロピラン中で反応させるエステル化合物の製造方法。毒性が低いテトラヒドロピランを反応溶媒として使用することにより、より安全性の高いエステル化合物の製造が可能となり、高極性反応原料に対しても広く適用できる。 （もっと読む）

【課題】井戸層を傷めることなく、発光波長４９０ｎｍ以上の緑色発光を呈し、且つ高出力の発光素子が得られる窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の製造方法、及び窒化ガリウム系化合物半導体発光素子、並びにランプを提供する。
【解決手段】井戸層を成長温度Ｔ１で成長させ、障壁層を少なくとも成長温度Ｔ２で成長させることによって発光層を形成し、該発光層を形成した後、ｐ型半導体層を成長温度Ｔ３で成長させ、成長温度Ｔ１、Ｔ２、及びＴ３を、それぞれ６００℃＜Ｔ１＜８００℃、７５０℃＜Ｔ２＜１０００℃、９００℃＜Ｔ３＜１０５０℃の範囲とするとともに、Ｔ１≦Ｔ２≦Ｔ３（但し、Ｔ１≠Ｔ３）で表される関係としている。 （もっと読む）

【課題】従来のアルカリ可溶型あるいは溶剤可溶型レジストインキのもつマスキング性能、即ち素材に対する密着性、処理液に対する化学的抵抗性、レジスト剥離性等を損なうことなく、塗膜の厚みの均一性が良好で、パターンの精度の高いレジスト組成物を提供する。生体に有害な有機溶剤や廃水処理の問題を有するアルカリ水溶液を使用しないで除去することの可能なレジストインキ組成物を提供する。
【解決手段】水中において相転移温度を有するポリマー、有機溶剤及び無機化合物を必須成分として含有することを特徴とするレジストインキ組成物を用いることにより、素材に対する密着性、処理液に対する化学的抵抗性、レジスト剥離性等を損なうことなく、塗膜の厚みの均一性が良好で、パターンの精度の高いレジスト塗膜を形成できる。さらにこの塗膜は、水中において相転移温度を有するポリマーの相転移温度より低い温度の水で洗浄することにより容易に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】より安全性が高く、簡便な、高極性反応原料等にも適用できる１級アミド化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】１級アミン化合物とカルボン酸化合物、カルボン酸塩化物またはカルボン酸無水物をテトラヒドロピラン中で反応させる１級アミド化合物の製造方法。毒性が低いテトラヒドロピランを反応溶媒として使用することにより、反応操作の簡素化、溶媒の再使用及び使用量の低減などに可能にあり、さらに高極性反応原料に対しても広く適用できる。 （もっと読む）

【課題】より安全性が高く、高極性反応原料等にも適用できるアセタール化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】カルボニル化合物とアルコール化合物、チオール化合物またはアミン化合物をテトラヒドロピラン中で反応させるアセタール化合物の製造方法。毒性が低いテトラヒドロピランを反応溶媒として使用することにより、より安全性の高いアセタール化合物の製造が可能となり、高極性反応原料に対しても広く適用できる。 （もっと読む）