説明

信越化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】容器本体の所定位置に固定した状態のペリクルを蓋体で被覆して異物付着を防止しつつ、輸送中にも前記固定状態を確実に維持でき、且つ前記固定状態を簡単に解除してペリクルの取り出しを可能とするペリクル収容容器を提供する。
【解決手段】ペリクル16を載置した容器本体12と蓋体14とから構成され、ペリクルフレーム16aの凹部26に、先端部28aを挿入した状態で回動可能のピン28と、容器本体12に設けた、ペリクルフレーム16aの凹部26から先端部28aが抜き出し可能にピン28を装着するピン装着部32と、容器本体12に被着した蓋体14の外側からピン装着部32のピン28を回動できるように蓋体14に形成した開口部14aと、開口部14aの閉塞板40とを備えたペリクル固定部18を複数設置し、ピン装着部32に装着したピン28を所定角度回動して、ピン28を保持する突起部30と切欠部32bとを具備する。 (もっと読む)


【課題】有害性が大きいとされる鉛を実質的に含有せず、結晶特性に優れ、かつ、ファラデー回転子としたときの光透過性やファラデー回転能の劣化が見られないビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶を提供することを目的とする。
【解決手段】ビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶であって、該ビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶は、組成式
(BiR)3−aM1Fe5−b−c−dAlPtM212
(R:ランタノイド金属及びYのうちから選択される一種または二種以上の元素、
M1:Ca及びSrから選択される一種または二種の元素、
M2:Ge及びSiから選択される一種または二種の元素、
0.01<a<0.1,0.15≦b+d≦0.6,0.01≦c≦0.04,a=c+d)
で表されるものであることを特徴とするビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶。 (もっと読む)


【解決手段】シリコン基板にp型拡散層を形成するためのホウ素拡散用塗布剤であって、該塗布剤は少なくとも、ホウ素化合物と、有機バインダーと、ケイ素化合物と、アルミナ前駆体化合物と、水及び/又は有機溶剤とを含むものであるホウ素拡散用塗布剤。
【効果】本発明のホウ素拡散用塗布剤は、スピン塗布後の基板表面に十分な不純物量を有する膜を均一に形成することができる。面内で均一なp型拡散層を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】生体及び環境へのリスクが低く、各種基材に対して良好な撥水撥油性を示す、離型性、透明性、密着性、耐熱性に優れる硬化膜を形成する硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)(1)下記式
【化14】


(RはH又はメチル基、nは1〜6、aは1〜4、bは0〜3、cは1〜3の整数。)
で表されるポリフルオロアルキルビニル単量体:50〜99.5質量%、
(2)分子中に1個以上のケイ素原子に結合した加水分解可能な基を含有する有機ケイ素系ビニル単量体、ヒドロキシル基含有ビニル単量体及びカルボキシル基含有ビニル単量体から選ばれるビニル単量体:0.5〜50質量%、
(3)(1)、(2)成分と共重合可能で、かつ(1)、(2)成分を含まない非ケイ素系又は有機ケイ素系ビニル単量体:0〜49質量%
からなる単量体混合物の共重合体、及び
(B)アルミキレート
を有効成分としてなる硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】塗布欠陥及びパターン欠陥等の欠陥の発生を減少させることのできるリソグラフィー用レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法であって、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、前記フィルターが設置されている容器内を減圧下に保持した後、前記フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることを特徴とするリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】初期(増粘前)において低粘度(塗布し易い)であっても、形状維持性が高く、作業性に優れた室温湿気増粘型熱伝導性シリコーングリース組成物を提供する。
【解決手段】(A)25℃における粘度が0.1〜1,000Pa・sであり、両末端が水酸基で封鎖されたオルガノポリシロキサン、(B)下記一般式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、(C)ケイ素原子に結合した加水分解可能な基を1分子中に3個以上有するシラン化合物及び/又はその(部分)加水分解物もしくは(部分)加水分解縮合物、(D)増粘触媒、(E)10W/m・℃以上の熱伝導率を有する熱伝導性充填剤及び(F)25℃における粘度が0.01〜1,000Pa・sであり、両末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたオルガノポリシロキサンを必須成分とする室温湿気増粘型熱伝導性シリコーングリース組成物。 (もっと読む)


【課題】塗布欠陥及びパターン欠陥等の欠陥の発生を減少させることのできるリソグラフィー用レジスト組成物を提供する。
【解決手段】リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法であって、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、コロイダルゾルを前記フィルター3上流から通過させてフィルターにコロイド粒子を吸着させた後、該フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることにより、該リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子を除去するリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。符号1、6、7はタンク、2、4は送液ポンプ、3はフィルター容器、5は充填容器、8はドレイン、9は排出弁、10は二次側弁を表す。 (もっと読む)


【課題】光ファイバの長手方向の曲率変動を容易かつ高精度に測定する方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ1の一端を回転可能に把持し、該光ファイバ1の軸方向側面上の所定長離れた2点に対して、該軸方向にほぼ垂直かつ互いに平行な2本のビーム光線6を照射し、前記側面上で散乱した2つの散乱反射光7のそれぞれの代表位置を、該光ファイバ軸と平行な軸上の座標位置として計測し、得られた2つの座標位置の差分を求め、次いで、該光ファイバ1を所定角度回転させ、同様の操作を行って2つの座標位置の差分を求める操作を複数回繰返し、得られたそれぞれの角度での差分から正の値を取る振幅SAの代表値を求め、さらに振幅SAから曲率を求め、これを第1の光ファイバ長手位置の第1の曲率とし、さらに、光ファイバ1の長手方向にビーム光線を照射する位置を変え、同様の処理を複数回繰り返して前記第1から第mまでの曲率を求める。 (もっと読む)


【課題】耐熱性の良好な樹脂微粒子の提供。
【解決手段】式(1)の環状オレフィン官能性シロキサン、又はこれと重合可能な環状オレフィン化合物とを、下記化合物(A)、(B)及び(C)を含む多成分触媒系の存在下、付加重合することにより得られ、式(1)の構造単位の割合が、付加重合体中5〜100モル%である環状オレフィン付加重合体からなる樹脂微粒子。


(R1は脂肪族不飽和結合を有さない一価有機基、sは0〜2の整数、iは0又は1、jは0又は1〜4の整数。)化合物(A):0価のパラジウム化合物、(B):イオン性ホウ素化合物、(C):炭素数3〜6のアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基から選ばれる置換基を有するホスフィン化合物。 (もっと読む)


【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 (もっと読む)


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