【課題】放射線の照射範囲を高精度に設定することが可能なマルチリーフコリメータ及び放射線治療装置を提供する。
【解決手段】マルチリーフコリメータ１は、患者の体内における病巣部の形状に合わせて放射線の照射範囲を設定するものである。マルチリーフコリメータ１は、一対のリーフ板群１０と、一対の駆動ユニット１２とを備える。リーフ板群１０は、放射線の照射軸Ａと直交する方向に沿って並ぶリーフ板１４Ａ，１４Ｂを複数有する。駆動ユニット１２は、リーフ板１４Ａ，１４Ｂと一対一に接続されると共にリーフ板群１０が並ぶ方向にリーフ板１４Ａ，１４Ｂを駆動させる駆動機構２４が照射軸Ａに沿って並ぶように複数配置された駆動手段列を有する。駆動ユニット１２は、リーフ板１４Ａ，１４Ｂよりも放射線を照射する放射線源側に位置している （もっと読む）

【課題】 ２本のレーザビームを斜め入射させる場合でも、高品質の多結晶膜を製造することが可能な多結晶膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 表面にシリコン膜が形成された加工対象物(30)の該表面をｘｙ面とするｘｙｚ直交座標系を定義したとき、該加工対象物の表面上のｙ方向に長い被照射領域に、該加工対象物の表面におけるパワー密度が相対的に大きく、かつｙ方向に関する光強度分布が均一化された第１のレーザビーム(L1)を、ｘ軸の正の向きに傾けた方向に沿って入射させると同時に、該加工対象物の表面におけるパワー密度が相対的に小さく、かつｙ方向に関する光強度分布が均一化された第２のレーザビーム(L2)を、ｘ軸の負の向きに傾けた方向に沿って入射させながら、前記加工対象物をｘ軸の正の向きに移動させることにより、前記シリコン膜を多結晶化させる。 （もっと読む）

【課題】安定した液量管理を可能にした液化ガス貯蔵装置を提供する。
【解決手段】 液化ガス貯蔵装置１５は、液化ガスを貯蔵する貯蔵容器２と、貯蔵容器２の気相部３に連通する低圧側導圧管８と、液相部４に連通する高圧側導圧管１６と、低圧側導圧管８と高圧側導圧管１６との差圧を測定する差圧計１０と、高圧側導圧管１６に流れ込む液化オゾンの液相の流れを阻害するオリフィス１８とを備える。オリフィス１８は、高圧側導圧管１６と貯蔵容器２とを連通する連通口２ｆの近傍に設置されている。そして、貯蔵容器２内の液化酸素の液相が高圧側導圧管１６内に流れ込み、外部の熱を吸収し気化し、気液界面Ｓが形成される。 （もっと読む）

【課題】使用する金型毎に「型当り」の微調整を可能とし、更に、当該微調整を下型側にて行うことを可能とする。
【解決手段】上下金型１１２、１１４内で基板１１６を樹脂にて封止する樹脂封止装置であって、下金型１１４表面の少なくとも一部が、独立した下チェイス１１４Ａで構成され、下金型１１４側に付設され、下チェイス１１４Ａ全体の型締め方向の位置を補正可能な金型位置補正機構Ａと、該機構Ａが型締め開始時に取るべき型締め方向の最適位置の指標を検出可能な最適位置検出機構Ｂと、該最適位置検出機構Ｂによって検出された最適位置の指標に基づいて、金型位置補正機構Ａを最適位置に対応する位置にまで駆動する駆動機構Ｃと、を備え、更に、金型位置補正機構に対する下チェイス１１４Ａの型締め方向の位置を部分的に微調整可能な複数のピラー１３６とシム１３８を備える。 （もっと読む）

【課題】型開き時における樹脂の変形等を防止する。
【解決手段】上金型１と、上金型１に対向して配置される下金型２と、該下金型２側に配置され樹脂１１を収容可能な樹脂ポット１０と、樹脂ポット１０内の樹脂１１を押圧可能なプランジャ１４と、を備え、可動部３がバネ６に支持されることにより型締め時に上金型１側から基板４を介して付与される押圧力に応じて沈み込むことが可能な樹脂封止金型の型開き方法であって、プランジャ１４によって樹脂ポット１０内の樹脂１１を所定の圧力で押圧したままで、上金型１と下金型２とを型開きする。 （もっと読む）

【課題】移動ステージ装置におけるステージの整定性を向上すると共に、移動ステージ装置の大型化を抑制する。
【解決手段】反力処理装置１は、床２５に除振バネ１６，１６を介して設置された定盤１１上でステージ１２が移動する移動ステージ装置１０に設けられ、ステージ１２の移動で定盤１１に生じる反力ｆ_ｒを処理する。この反力処理装置１は、反力ｆｒを低減する力であるカウンタ推力を定盤１１に印加するための反力処理アクチュエータ２を備えている。そして、この反力処理アクチュエータ２は、定盤１１が被さるように当該定盤１１の上面１１ｃよりも下方に配置されている。 （もっと読む）

【課題】安定かつ適切に物性値又は物理量を求める。
【解決手段】予め設定された形状の物性値又は物理量をシミュレーションから求める分子シミュレーション方法において、前記形状に原子を配置する原子配置ステップと、前記原子配置ステップにより配置された原子の位置に基づいて原子間ポテンシャルを取得する原子間ポテンシャル取得ステップと、前記原子間ポテンシャル取得ステップにより得られる原子間ポテンシャルに基づいて分子動力学計算を行い、物性値又は物理量を取得する分子動力学計算ステップとを有することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】摺動面を極力変性させることなく、潤滑油を捕油可能とする適切な微小凹凸を有する摺動面を安定して効率よく形成する方法を提供する。
【解決手段】特定の金属が不働態を示す電解液１１０中で、前記金属（作用極）１０６の電位を、浸漬電位Ｖｃｏｒｒ（金属１０６に電流を流さずに電解液１１０に浸着させているときの電位）以上で、且つ、孔食電位Ｖｃｐｉｔ（不働態化した金属１０６に孔食が発生成長する臨界の電位）以下に制御して、該金属（作用極）１０６の表面を局部的に溶解させて微小凹凸を形成させる。 （もっと読む）

【課題】 高品質の加工を行う。
【解決手段】 外部からの制御で異なる波長のレーザパルスを出射する第１及び第２光源と、加工対象物を保持するステージと、第１及び第２光源から出射したレーザパルスを、入射領域が少なくとも一部において重なるように加工対象物に入射させる光学系と、第１光源から出射したレーザパルスのパルス幅が、第２光源から出射したレーザパルスのパルス幅よりも長く、第１光源から出射したレーザパルスが加工対象物への入射を終了する前に、第２光源から出射したレーザパルスが加工対象物に入射するように第１及び第２光源を制御するとともに、遅延時間を規定する情報を記憶する記憶手段を備える制御装置と有し、制御装置は、第２光源からのレーザパルスの出射開始時点から、記憶手段に記憶された情報で規定された遅延時間だけ経過した時点に、第１光源から出射したレーザパルスが立ち下がるように、第１及び第２光源を制御するビーム照射装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、両面転写用の一対のスタンパを高精度に位置決めすることのできるスタンパ及びスタンパ取り付け方法を提供することを課題とする。
【解決手段】一対のスタンパ１１，２１により転写部材の両面に凹凸パターン１１Ａ，２１Ａを転写する。凹凸パターン１１Ａ，２１Ａはスタンパ１１，２１の各々の対向する面に設けられる。スタンパ１１，２１の一方は位置決め穴１７を有し、スタンパ１１，２１の他方は位置決め穴１７に嵌合する位置決め突起２７を有する。 （もっと読む）