【課題】高い成膜速度を確保した上で、透明性及び高バリア性を付与し、蒸着材料から発生する突沸やスプラッシュなどによりフィルムがダメージを受けることを最小限に抑えることを可能とする真空成膜装置およびガスバリア性積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】真空成膜装置３０は、基材の一方の面に蒸着法によって薄膜を形成する真空成膜装置であって、蒸着材料を蒸発させる蒸発手段である電子ビーム銃２０と、蒸発した蒸着材料を活性化させるためのプラズマを発生させるプラズマ発生手段であるホローカソード放電を用いたホローカソードガン１８と、蒸着材料と基材との間に設置された異物捕捉手段である異物ガード２４とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置の静電チャック吸着時に平坦度の低下を抑制することのできる反射型マスクブランクを提供することにある。
【解決手段】ＥＵＶ光を反射するＥＵＶ反射層１３と、ＥＵＶ反射層１３の上に形成されたＥＵＶ吸収層１４と、ＥＵＶ反射層１３を介してＥＵＶ吸収層１４を支持する基板１２とを備えた反射型マスクブランクは、ＥＵＶ反射層１３と反対側の基板１２の裏面に第１導電膜１０を有しているとともに、第１導電膜１０と電気的に導通しない第２導電膜１１を基板１２の各側面に有している。そして、第１導電膜１０は静電チャックの裏面側静電吸着と静電吸着し、第２導電膜１１は静電チャックの側面側静電吸着と静電吸着する。 （もっと読む）

【課題】成形アパーチャの開口パターンを走査電子顕微鏡にて観察する際に、ＳＥＭ像のコントラストが充分に得られないといった課題を解消する。
【解決手段】治具９の表面上であって、成形アパーチャ８を搭載した際に開口パターン１の真下にくる位置に、二次電子１４の放出を抑制する吸収層１５を備える。この吸収層１５には、二次電子１４の放出効率の小さい材料を適宜選定する。これにより、開口パターン１のエッジ領域１１から二次電子１４が検出され難くなり、本来のＳＥＭ像のコントラストを得ることができる。従来の治具は、成形アパーチャ８の開口パターン１の真下は治具９の表面が露出していたため、開口パターン１を通過した一次電子１３が、治具９の表面に照射され、少なからず二次電子１４を放出していた。そのため、本来は何も検出されないはずの開口パターン１のエッジ領域１１上に二次電子１４が検出され、ＳＥＭ像のコントラストが悪化していた。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材やプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ連続的に高精細パターンを形成し、異なるインキパターン同士の位置精度が確保できる印刷方法を提供する。
【解決手段】インキ剥離性フィルム基材２０１のインキ剥離層２０３上にインキ液膜２０５を塗工して予備乾燥する。画像パターンのネガパターンの凸パターンが形成された除去版２１１をインキ液膜２０５に押し当て、凸パターンに対応するインキ液膜２０５の部分を除去することでインキ剥離性フィルム基材２０１に画像パターンを形成する。インキ剥離性フィルム基材２０１と被印刷基材２０２との位置合わせを行い、インキ剥離性フィルム基材２０１上の画像パターンを被印刷基材２０２に転写する。被印刷基材２０２には予め画像パターンの土台となる基礎パターン２０４が設けられている。インキ液膜２０５の被印刷基材２０２への転写は選択された基礎パターン２０４になされる。 （もっと読む）

【課題】高い非吸着性、熱接着性を有しつつも製造コスト的に優れた積層体を提供する。
【解決手段】積層体は、基材フィルム１と、基材フィルム１上に形成された非吸着性を有する層２と、非吸着性を有する層２上に形成された熱接着性層３とから構成される。熱接着性を有する層３はパターンコートにより非吸着性を有する層２の上に形成される。非吸着性を有する層２は、ポリビニルアルコール、金属アルコキシド及びその加水分解物、並びに、水／アルコール混合溶液を主剤として含有する溶液を基材フィルム１に塗布し、加熱乾燥して形成する。 （もっと読む）

【課題】異なる組成のスパッタリングターゲットを使用して、インラインで積層し、短時間の加熱処理で結晶性を有することができ、低抵抗の透明導電膜を有した透明導電性積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜はＩｎ、Ｓｎ、Ｏを主成分とし、Ｓｎの含有量が１重量％以上４重量％以下であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第一透明導電膜３ａと、同じくＩｎ、Ｓｎ、Ｏを主成分とし、Ｓｎの含有量が４重量％超え、１０重量％以下であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第二透明導電膜３ｂで形成され、前記第一及び第二透明導電膜の膜厚がそれぞれ１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、両者の透明導電膜の合計厚みが２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、真空中で加熱温度が１２０℃以上２００℃以下であり、加熱時間が１分以上、３０分以下の条件で加熱処理することで前記第一及び第二透明導電膜のいずれも結晶化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明体、半透明体、多孔性材料の様な、両面からレーザー光を厚み測定のために発射した場合に、一部のレーザー光が反対側のレーザー変位計に達する可能性のある測定対象や、測定対象端部等で一部のレーザー光が反対側のレーザー変位計に達する可能性のある場合であっても、正確に、しかも高速に測定対象の厚みを測定することができる厚さ測定方法及び測定装置が求められていた。
【解決手段】測定対象の両面から挟み込む方向に配置されたレーザー変位計により厚み測定等を行う場合であって、両レーザー変位計の発射レーザー光が互いに干渉しないレーザー光であり、レーザー受光部が各々のレーザーのみを選択的に受光することを特徴とする厚さ測定方法及び測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】印刷方式によりカラーフィルタを形成可能なフレキシブルカラーフィルタ基板、並びに画素パターン形状及び寸法安定性に優れたカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】無機膜からなるバリア層が両面に設けられたフィルム基板のいずれか一方の面に、印刷方式でカラーフィルタを製造するためのアンカー層が形成され、前記アンカー層が、光硬化型ポリマー、（メタ）アクリルモノマー、シランカップリング剤及び光開始剤を含む塗布剤からなることを特徴とするフレキシブルカラーフィルタ基板、並びに該フレキシブルカラーフィルタ基板を備えたカラーフィルタ及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】より高解像度、高品質な画像形成体を提供する。
【解決手段】第１基材の一方の面に剥離層と構造形成層と透明被膜層と接着層をこの順序で積層してなる転写箔から第２基材の一方の面に画像構成要素の画素を微小面積のドットとして複数転写して画像を形成した画像形成体であって、
前記ドットは、前記第２基材の一方の面に隣接するドットと部分的に重なるように転写され、
前記剥離層は、ポリエチレンワックスを含有するアクリル系樹脂からなり、かつ
前記接着層は、無機または有機の微粒子を含有するエステル系樹脂とエポキシ系樹脂の混合材料からなることを特徴とする画像形成体。 （もっと読む）

【課題】発光不良や発光ムラのない有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、当該基板上に形成された対向する一対の電極と、該電極間に設けられ少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、発光媒体層の１層以上が印刷法を用いて形成されており、前記印刷法が、被印刷基板を搬送する移動定盤が印刷版の面方向に進行し、印刷版と被印刷基板との接触面でインキを転移することで印刷を行う印刷方式であり、前記接触面よりも移動定盤の進行方向側に位置し、基板上の印刷された領域が搬送される空間である印刷後基板空間と、前記接触面より移動定盤の進行方向逆側に位置し、基板上の印刷前の領域が搬送される空間である印刷前基板空間の少なくともどちらか一方の雰囲気を、印刷機設置空間とは独立に雰囲気制御して、印刷を行うことを特徴とする。 （もっと読む）