説明

東ソー株式会社により出願された特許

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【課題】 波長分散性の制御された位相差フィルム、さらには逆波長分散性を有する位相差フィルムを提供する。
【解決手段】 フマル酸エステル系樹脂からなるフィルムであって、該フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx<ny≦nzであるフィルム(A)と、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、環状ポリオレフィン樹脂又はN−置換マレイミド系樹脂であるフィルムであって、該フィルムの3次元屈折率がフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合に、ny>nx≧nz、あるいはny>nz≧nxの関係にあるフィルム(B)からなることを特徴とする位相差フィルム。 (もっと読む)


【目的】 固体酸触媒として有効な結晶性多孔質アルミノシリケートを含む新規な構造体よなる芳香族化反応用触媒、および前記触媒を用いる芳香族炭化水素の製造方法を提供する。
【解決手段】 構造体表層部に結晶性多孔質アルミノシリケートが存在し、構造体表層部を除く内部の層に無機支持体が存在する構造体に亜鉛および/またはガリウムが担持した芳香族化反応用触媒。 (もっと読む)


【課題】 優れたレジスト剥離性を示すとともに、アルミ及び銅を腐食しない安価なレジスト剥離剤を提供する。
【解決手段】 エチレンアミンと芳香族有機酸を含むレジスト剥離剤を用いて銅配線用レジスト又はアルミ配線用レジストを剥離する。 (もっと読む)


【課題】透明導電膜用材料層の肉厚化を可能とした溶射円筒ターゲットを提供する。
【解決手段】バッキングチューブ1に透明導電膜用材料を溶射して透明導電膜用材料層3を形成した溶射円筒ターゲットにおいて、前記バッキングチューブと前記透明導電膜用材料層の間に厚みが0.3mm以上2mm以下の亜鉛、アルミニウム、亜鉛合金またはアルミニウム合金からなる下地層2があることを特徴とする溶射円筒ターゲット。 (もっと読む)


【課題】ターゲットに用いられる焼結体の板厚が従来より厚くなった場合においても、ノジュールの発生量が少なく、ライフエンドまで安定して成膜することが可能なITOスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】直径10μm以上の酸化スズの凝集粒子数が0.27mmあたり1個以下であり、かつ厚さが10mm以上である、実質的にインジウム、スズおよび酸素からなる焼結体を有するスパッタリングターゲットを用いる。 (もっと読む)


【課題】従来材料以上に高い効率を発現する有機EL用材料、特に燐光材料を用いた有機EL素子において非常に有用である材料を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるアミン化合物を用いる。


(式中、環A、環B及び環Cは各々芳香環を表す。R、R、R、R、R、R、R、R及びRは各々独立して水素原子、アルキル基等を表す。Ar、Ar、Ar及びArは各々独立して置換基を有してもよいアリール基等を表す。) (もっと読む)


【課題】新規なフマル酸エステル系ブロック共重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】フマル酸ジエステルよりなる重合体セグメント(A)及び(メタ)アクリル酸誘導体よりなる重合体セグメント(B)を含むことを特徴とするブロック共重合体、及び交換連鎖機構によるリビングラジカル重合法による製造方法。 (もっと読む)


【課題】加工後に熱処理等を行わなくとも形状精度のよいスパッタリングターゲットが得られ、DCスパッタリング法でも連続的に安定放電が可能で、適切な絶縁性を有する透明性膜が得られる酸化亜鉛焼結体を提供する。
【解決手段】亜鉛以外の金属含有量が0.1重量%未満、BET比表面積が2〜20m/g、粉末かさ密度0.5〜1.8g/cmの酸化亜鉛粉末を成形し、焼成する際に、焼結温度が900〜1250℃、酸素が10体積%以下の不活性雰囲気下でガス流量パラメータが8000以上で焼成することにより、亜鉛以外の金属含有量が0.1重量%未満、25℃での体積抵抗が1.0×10Ωcm以下の酸化亜鉛焼結体を製造し、それをスパッタリングターゲットとして用いて、DCスパッタリング法により透明性膜を製造する。 (もっと読む)


【課題】 優れたレジスト剥離性を示すとともに、アルミ及び銅を腐食しない安価なレジスト剥離剤を提供する。
【解決手段】 エチレンアミンとオクチル酸を含むレジスト剥離剤を用いて銅配線用レジスト又はアルミ配線用レジストを剥離する。 (もっと読む)


【課題】 有機塩基として有用な塩基性イミノホスファゼニウム塩を長期間安定に保存することが可能な塩基性イミノホスファゼニウム塩溶液からなるポリアルキレングリコール製造用触媒溶液及びそのポリアルキレングリコール製造用触媒溶液を用いてなるポリアルキレングリコールの製造方法を提供する。
【解決手段】 塩基性イミノホスファゼニウム塩及び溶解度パラメータ10(cal/cm1/2以上であるプロトン性有機溶媒を少なくとも1種類以上含有する溶媒からなるポリアルキレングリコール製造用触媒溶液及びそれを用いてなるポリアルキレングリコールの製造方法。 (もっと読む)


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